JP5055384B2 - Optical imaging apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、露光プロセスで使用する光学素子装置、特にマイクロリソグラフィシステムで使用する光学素子装置に関する。 The present invention relates to an optical element unit used in the exposure process, an optical element unit used in particular in microlithography systems. 本発明は、さらにこのような光学素子装置の光学素子ユニットを支持する方法に関する。 The present invention relates to a method for further supporting the optical element units of such an optical element unit. 本発明は、パターン画像を基板上に転写するための光学結像法にも関する。 The present invention also relates to an optical imaging method for transferring a pattern image onto the substrate. 本発明は、微小電子デバイス、特に半導体デバイスを作製するためのフォトリソグラフィプロセスにおいて、またはこのようなフォトリソグラフィプロセスにおいて使用するマスクまたはレチクルなどのデバイスの作製に使用することもできる。 The present invention, microelectronic devices, it is also especially in photolithography process for fabricating a semiconductor device, or be used to make devices such as masks or reticles for use in such a photolithographic process.

概して、半導体デバイスのような微小電子デバイスを作製する場合に用いられる光学系は、光学系の光路にレンズ、ミラー、格子などの光学素子を有する複数の光学素子ユニットを備えている。 Generally, an optical system for use in case of manufacturing a microelectronic device such as a semiconductor device comprises a lens in the optical path of the optical system, a mirror, a plurality of optical element unit including an optical element such as a grating. これらの光学素子は、通常、マスク、レチクルなどに形成されるパターンの画像を照明し、このパターンをウェーハなどの基板上に転写するための露光プロセスにおいて協働する。 These optical elements, typically, the mask illuminates an image of the pattern formed like the reticle, cooperate in an exposure process for transferring this pattern on a substrate such as a wafer. これらの光学素子は、通常1つ以上の機能的に異なる光学素子群に組み込まれている。 These optical elements are incorporated in the standard one or more functionally distinct optical element groups. これらの異なる光学素子群は、異なる光学素子ユニットによって保持されてもよい。 These different optics group may be held by a different optical element unit. 特に主に屈折系では、このような光学素子ユニットは、1つ以上の光学素子を保持するスタック状光学素子モジュールから構成されることが多い。 Especially in primarily refracting system, such an optical element unit is often composed of a stack optical element module holding one or more optical elements. これらの光学素子モジュールは通常、一般にリング状の外部支持手段を備え、支持手段はそれぞれ1つ以上の光学素子ホルダを支持し、これらのホルダは1つ以上の光学素子を保持する。 These optical element modules usually generally comprises a ring-shaped external support means, the support means supports a respective one or more optical element holder, these holders holding one or more optical elements.

少なくとも主に屈折性の光学素子、例えばレンズを備える光学素子群の大部分は、通常光軸と呼ばれる、光学素子の共通の一直線状対称軸を有する。 At least mainly refractive optical elements, for example, most of the optical element group comprises a lens is usually called the optical axis, with a common straight axis of symmetry of the optical element. さらに、この種の光学素子群を保持する光学露光ユニットは、細長い実質的に管状の設計を有し、このため、典型的にはレンズバレルと呼ばれる。 Further, the optical exposure unit for holding the optical element group of this type has an elongated substantially tubular design, and therefore, is typically referred to as lens barrels.

半導体素子の小型化の進行に伴い、半導体デバイスの作製に使用される光学系の解像度を高める必要性が常にある。 With the progress of miniaturization of semiconductor devices, the need to increase the resolution of the optical system used in the fabrication of semiconductor devices there is always. このような解像度を高める必要性が、開口数を増大させ、光学系の画像精度を改善する必要性を高めていることは明らかである。 Such need to increase the resolution, to increase the numerical aperture, it is clear that increasing the need to improve image accuracy of the optical system.

このようなことにより、特に露光システムの光学平面および機能平面を規定し、露光プロセスに参与する構成要素間の相対位置に関して極めて厳しい要求が生じる。 By this reason, in particular to define the optical plane and functional plane of the exposure system, very stringent requirements arise with respect to the relative position between the components involved in the exposure process. さらに高品質の半導体デバイスを確実に得るためには、高い結像精度を示す光学系を設けるだけでなく、露光プロセス全体にわたって、またシステムの有効期間にわたって、そうした高精度を維持する必要がある。 Furthermore in order to ensure a high-quality semiconductor device, not only providing an optical system having the high imaging accuracy throughout the entire exposure process and over the lifetime of the system, it is necessary to maintain such a high precision. 結果として、光学系構成要素間に所定の空間的関係を設定し、これを維持するために、例えば、露光プロセスで協動する光学系構成要素、すなわち、照明系、マスク、投影系およびウェーハを所定の方法で支持する必要があり、これにより、質の高い露光プロセスが保障される。 As a result, in order to set the predetermined spatial relationship between component elements, maintaining them, for example, component elements which cooperates with the exposure process, i.e., the illumination system, a mask, a projection system and the wafer It must be supported in a predetermined manner, thereby, a high exposure process quality is guaranteed.

とりわけ、露光プロセスで協働する光学素子によって露光光の一部が吸収されるため、相当なエネルギー量が光学素子内に取り込まれ、これらの光学素子および光学素子を取り囲む構成要素を相当に加熱する。 Especially, since a part of the exposure light is absorbed by the optical element cooperating with the exposure process, considerable amount of energy is taken into the optical element, to heat the components surrounding these optical elements and the optical element corresponding . 光学系の構成要素間の厳しい位置許容公差を考慮すると、通常この加熱プロセスに起因するこれらの構成要素の熱膨張は、システムの許容公差「バジェット(許容値)」を上回る。 Considering the tight position tolerances between the components of the optical system, the normal thermal expansion of these components due to the heating process, exceed the tolerance of the system "budget (tolerance)". したがって、露光プロセス全体にわたって、光学系構成要素と、光学系の光学平面ならびに機能平面との間の所定の空間的関係を維持するための対策をとる必要がある。 Thus, throughout the exposure process, it is necessary to take the component elements, measures to maintain the predetermined spatial relationship between the optical flat and functional plane of the optical system.

このような対策がいくつか公知である。 Such measures are some known. 例えば、露光プロセスの間、構成要素の温度を安定させるために1つまたはいくつかの冷却回路を有していること一般的である。 For example, during the exposure process, it is common to have one or several cooling circuits in order to stabilize the temperature of the components. しかしながら、この方法では費用が高く、効果は緩慢である。 However, this method is cost, the effect is slow. これは、加熱プロセスの源となっている露光光の経路内の冷却媒体によっては、光学構成要素の温度に関して比較的遅い温度変化および比較的わずかな温度差しか生じさせることができないからである。 This, by the cooling medium in the path of the exposure light that is the source of heating process, it is not possible to only generate a relatively slow temperature changes, and a relatively small temperature difference with respect to the temperature of the optical components. さもなければ、露光光の経路内の乱気流および光学構成要素の内部の過剰な温度勾配が構成要素の歪みをまねき、光学系の光学性能を悪化させてしまう。 Otherwise, excessive temperature gradients within the turbulence and optical components in the path of the exposure light lead to distortion of the components, are deteriorated optical performance of the optical system.

さらにまた、温度に起因するこのような変化を、光学系の構成要素の位置を能動的に調整することによって補償することが公知である。 Furthermore, such changes due to temperature, it is known to compensate by actively adjusting the position of components of the optical system. しかしながら、このような能動的な位置決めは費用が高く、むしろ異なる周波数および振幅範囲において動力、振動に起因する位置変化を補償することを目的としている。 However, it is an object to compensate the power, a change of position caused by vibration in such active positioning is cost, rather different frequency and amplitude range. したがって、周波数および振幅範囲の両方において能動的な位置調整を行う装置はむしろ費用が高くなる。 Thus, apparatus for performing active alignment in both frequency and amplitude range rather cost becomes high.

さらにウェーバー等よる国際公開第2004/038481号パンフレット(その開示内容は参照により本明細書に組み入れられる)により、単一の光学素子(ここではビームスプリッタ)の熱膨張時に、光学素子により規定される光学平面(ここでは偏光面の平面)の位置を保つように、光学素子を支持する構成が公知である。 By further by Weber, etc. WO 2004/038481 pamphlet (the disclosure of which is incorporated herein by reference), at the time of thermal expansion of the single optical element (here the beam splitter) is defined by the optical element so as to keep the position of the optical planes (here the plane of polarization of plane), configured to support the optical element is known. これは単一構成要素(例えば開示されたビームスプリッタ)に適した方法であるが、大多数または全ての光学素子を支持するためには費用が著しく高くなる。 This is a method suitable for a single component (e.g. disclosed beam splitter), the cost is significantly higher in order to support the majority or all of the optical elements. これは、少なくとも相当な光学素子群に対してこのような支持を提供する必要のある支持素子は、他の動力および調整に関する要求をも満たさなければならないからである。 This is for at least a substantial group of optical elements that need to provide such support supporting element is because must also meet the requirements for other power and adjustment.

国際公開第2004/038481号パンフレット WO 2004/038481 pamphlet

本発明の課題は、少なくともある程度は上記欠点を克服し、露光プロセスで使用される光学系の長期にわたり確実な良好な結像特性を提供することである。 An object of the present invention is that at least to some extent overcome the above drawbacks, providing a reliable good imaging properties over a long period of optics used in the exposure process.

本発明のさらなる課題は、露光プロセスで使用される光学系の結像精度を少なくとも維持しつつ露光プロセスで使用される光学系のために必要な労力を減じることである。 A further object of the present invention is to reduce the effort required for the optical system used in an exposure process while at least maintaining the imaging accuracy of the optical system used in an exposure process.

本発明のさらなる課題は、露光プロセスで使用される光学系の結像精度を少なくとも維持しつつ、露光プロセスで使用される光学系における熱膨張作用を補償するために必要な労力を減じることである。 A further object of the present invention, while at least maintaining the imaging accuracy of the optical system used in the exposure process, is to reduce the effort required to compensate for thermal expansion effects in the optical system used in the exposure process .

これらの課題は、次のような教示に基づく本発明により達成される。 These object is achieved by the present invention based on the following such teaching. すなわち、光学素子ユニットおよび支持構造部のうちの少なくともいずれか一方が熱膨張した場合に、光学素子ユニット基準と、光学素子ユニット外部の外部基準との間の基準位置が、少なくとも光学素子群の光学素子によって規定される光軸に沿って実質的に不変のままであるように、光学素子群および光学素子群に関連した少なくとも1つの光学素子ユニット基準を備える光学素子ユニットが支持構造部で支持されることにより、光学系の結像精度を少なくとも維持しつつ熱膨張作用を補償するために必要な力を低減することができる。 That is, when at least either one of the optical element unit and the support structure are thermally expanded, the optical element unit reference, the reference position between the optical element unit outside of the external reference is, at least the optical element group optical to remain substantially unchanged along the optical axis defined by the element, the optical element unit is supported by the support structure comprising at least one optical element unit reference related to the optical element group and the optical element group the Rukoto, it is possible to reduce the force required to compensate for thermal expansion effects while at least maintaining the imaging accuracy of the optical system.

光学素子ユニット基準の空間的位置を制御することができ、したがって、光学素子ユニットの光学平面(例えば物体平面、結像平面)または機能平面(例えば開口面)のうちのいずれかとなるように選択することもできることがわかった。 It is possible to control the spatial position of the optical element unit basis, therefore, chosen to be one of the optical planes (e.g. object plane, image plane) of the optical element unit or functional plane (e.g. opening surface) that it has been found that can be. 光学素子ユニットおよびその支持構造部それぞれの熱膨張時にこのような光学平面または機能平面の基準位置を少なくとも光軸に沿って実質的に不変に保つことにより、光学素子ユニットの光学素子の支持状態を不変に保ちつつ、光学素子ユニットの熱膨張によって生じる不都合な作用の少なくとも相当部分を、光学素子ユニット自体を適切な方法で支持することによって補償することもできるという利点が生じる。 By keeping substantially unchanged along the optical element unit and at least the optical axis reference position of such an optical flat or functional plane to the support structure at each of the thermal expansion, the support state of the optical elements of the optical element unit while maintaining unchanged, at least a substantial portion of the adverse effects caused by the thermal expansion of the optical element unit, the advantage can also be compensated by supporting the optical element unit itself in a suitable manner occurs.

換言すれば、本発明では、光学素子ユニットの光学素子ユニット基準によって形成される熱膨張の中心を任意に定めることができる。 In other words, in the present invention, it is possible to determine the center of thermal expansion which is formed by the optical element unit reference of the optical element unit arbitrarily. 熱膨張の中心が、少なくとも光学素子ユニットの光軸に沿って、所定の外部基準に関して実質的にその位置を変えないように、光学素子ユニットに対する支持部が選択される。 The center of the thermal expansion, along the optical axis of at least the optical element unit, so as not to change substantially its position with respect to a predetermined external reference, the supporting portion with respect to the optical element unit is selected. この外部基準は、例えば光学系の他の構成要素によって定められる全般に固定された基準または可変の基準であってもよい。 The external reference may be, for example, another general fixed reference or variable criteria defined by the components of the optical system.

このように、本発明の第1の態様によれば、光学素子ユニットと、第1の支持構造部と、光学素子ユニットの外部に位置する外部基準とを備える光学素子装置が提供される。 Thus, according to the first aspect of the present invention, an optical element unit, a first support structure, the optical element unit and an external reference located outside of the optical element unit is provided. 光学素子ユニットは、光学素子群と、光学素子群に関連する少なくとも1つの光学素子ユニット基準と光学素子群を支持する第2の支持構造部とを備えている。 The optical element unit includes an optical element group, and a second support structure for supporting at least one optical element unit reference and the optical element group associated with the optical element group. 光学素子群は、光学素子群の光軸を規定する複数の光学素子を備えている。 The optical element group comprises a plurality of optical elements defining an optical axis of the optical element group. 光学素子ユニット基準は、外部基準に対して基準位置を有する。 The optical element unit reference includes a reference position relative to an external reference. 第1の支持構造部は、複数の支持素子により光学素子ユニットを支持し、複数の支持素子は、光学素子ユニットおよび第1の支持構造部のうちの少なくとも一方が熱膨張した場合に、基準位置が、少なくとも光軸に沿って実質的に不変のままであるように、光学素子装置を支持するように配置されている。 The first support structure is a plurality of supporting elements supporting the optical element unit, the plurality of support elements, if at least one of the optical element unit and the first support structure are thermally expanded, the reference position but to remain substantially unchanged along at least the optical axis, are arranged so as to support the optical element unit.

本発明の第2の態様によれば、パターンを収容するように構成されたマスクユニットと、基板を収容するように構成された基板ユニットと、パターンの画像を基板に転写するように構成された光学投影ユニットと、マスクユニットに収容されたパターンを照明するように構成された照明ユニットの一部を形成する本発明の第1の態様による光学素子装置とを備える光学結像装置が提供される。 According to a second aspect of the present invention, a mask unit configured to receive a pattern, a substrate unit adapted to receive the substrate, configured to transfer an image of a pattern on the substrate an optical projection unit, an optical imaging apparatus and an optical element according to the first aspect of the present invention forming part of the configured lighting unit is provided to illuminate the contained pattern as a mask unit .

本発明の第3の態様によれば、光学素子ユニットを支持する方法が提供され、この方法は、光学素子ユニットと、前記光学素子ユニットの外部の外部基準とを設けるステップを含み、前記光学素子ユニットは、光学素子群および前記光学素子群に関連する少なくとも1つの光学素子ユニット基準を備え、前記光学素子群は、光学素子群の光軸を規定する複数の光学素子を備え、前記光学素子ユニット基準が、前記外部基準に対する基準位置を有する。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of supporting an optical element unit, the method includes providing an optical element unit, and an external external reference of the optical element unit, said optical element unit comprises at least one optical element unit reference related to the optical element group and the optical element group, wherein the optical element group comprises a plurality of optical elements defining an optical axis of the optical element group, said optical element unit reference has a reference position relative to the external reference. この方法は、さらに光学素子ユニットおよび第1の支持構造部のうちの少なくともいずれか一方が熱膨張した場合に、光学素子ユニット基準と外部基準との間の基準位置が、少なくとも前記光軸に沿って実質的に不変のままであるように、前記光学素子ユニットを支持構造部で支持するステップを含む。 This method, if further at least one of the optical element unit and the first support structure are thermally expanded, the reference position between the optical element unit reference and the external reference is, at least along the optical axis to remain substantially unchanged Te, comprising the step of supporting the optical element units support structure.

本発明の第4の態様によれば、パターン、基板、パターンの画像を基板に転写するように構成された光学投影ユニットおよびパターンを照明するように構成された照明ユニットを設けるステップと、本発明の第3の態様に従った方法を用いて光学素子ユニットを支持し、パターンを照明するための照明ユニットを用いてパターンの画像を基板に転写するステップとを含む光学結像法が提供される。 According to a fourth aspect of the present invention, the steps of providing a pattern, a substrate, a structured illumination unit to illuminate the configured optical projection unit and the pattern so as to transfer the image pattern onto a substrate, the present invention optical imaging method comprising the step of transferring a pattern image of the substrate is provided with an illumination unit for supporting the optical element unit to illuminate a pattern using a method according to the third aspect of the .

本発明のさらなる態様および実施形態を、従属請求項および添付の図面を参照して以下の好ましい実施形態により説明する。 Further aspects and embodiments of the present invention is illustrated by the following preferred embodiments with reference to the dependent claims and the accompanying drawings. 開示された特徴の全ての組み合わせは、請求項に明示的に記載されているか否かにかかわらず本発明の範囲に含まれる。 All combinations of the features disclosed are within the scope of the present invention regardless of whether it is explicitly recited in the claims.

本発明による光学素子装置を備え、本発明による方法の好ましい実施形態を実施することのできる本発明による光学結像装置の好ましい実施形態の概略図である。 Comprising an optical element device according to the present invention, is a schematic view of a preferred embodiment of an optical imaging apparatus according to the present invention capable of implementing the preferred embodiment of the method according to the invention. 図1のII−II線に沿った光学結像装置の詳細な概略断面図である。 It is a detailed schematic sectional view of an optical imaging device taken along the line II-II of Figure 1. 図2のIII−III線に沿った光学結像装置のさらなる詳細な概略断面図である。 It is a more detailed schematic sectional view of an optical imaging device taken along the line III-III in FIG. 2. 図1の光学結像装置によって実施することのできる光学素子装置を支持する方法を含む、本発明による光学結像法の好ましい実施形態のブロック線図である。 Includes a method of supporting an optical element unit that can be carried by the optical imaging device of FIG. 1 is a block diagram of a preferred embodiment of the optical imaging method according to the present invention. 本発明による光学素子装置のさらなる好ましい実施形態の概略図である。 It is a schematic view of a further preferred embodiment of an optical element device according to the present invention. 本発明による光学素子装置のさらなる好ましい実施形態の概略図である。 It is a schematic view of a further preferred embodiment of an optical element device according to the present invention.

(第1実施形態) (First Embodiment)
次に本発明による光学結像装置101の第1の好ましい実施形態を図1、図2および図3を参照して説明する。 Then 1 a first preferred embodiment of an optical imaging apparatus 101 according to the present invention will be described with reference to FIGS. この実施形態は、本発明による照明系102の形の光学素子装置を含む。 This embodiment includes an optical element unit in the form of a lighting system 102 according to the present invention. この光学素子装置を用いて本発明による方法の好ましい実施形態を実施することもできる。 It is also possible to implement the preferred embodiment of the method according to the present invention using the optical element unit.

図1は、光学露光装置101の形の光学結像手段の概略的および正確な縮尺ではない図である。 Figure 1 is a diagram not schematically and scale of the optical imaging means in the form of an optical exposure apparatus 101. 光学露光装置101は、マスクユニット104のマスク104.1に形成したパターンの画像を基板ユニット105の基板105.1上へ転写するように構成された光学投影ユニット103を備えている。 Optical exposure apparatus 101 includes an optical projection unit 103 that is configured to transfer an image of a pattern formed on a mask 104.1 of the mask unit 104 onto the substrate 105.1 board unit 105. このために、照明系106はマスク104を照明する。 For this, the illumination system 106 illuminates the mask 104. 光学投影ユニット104は、マスク104.1から光を受信して、基板105.1、例えばウェーハ等の上にマスク104.1に形成されたパターンの画像を投影する。 Optical projection unit 104 receives the light from the mask 104.1, substrate 105.1, projecting an image of a pattern formed on the mask 104.1 onto e.g. a wafer or the like.

照明系102は、光源106と、光学素子ユニット107と、光学素子ユニット108と、光学素子109とを備えている。 The illumination system 102 includes a light source 106, an optical element unit 107, and an optical element unit 108, and an optical element 109. 光源106は、光学素子ユニット107に向けて光を放出する。 Light source 106 emits light toward the optical element unit 107. 光源106および光学素子ユニット107は、いずれも基礎構造部110で支持される。 Light source 106 and the optical element unit 107 are both supported by the substructure 110. 光学素子ユニット107は、いわゆる計測フレーム111の形の第1の支持構造体に支持される光学素子ユニット108に向けて光を案内する。 The optical element unit 107 guides the light toward the optical element unit 108 to be supported by the first support structure in the form of a so-called metrology frame 111. 計測フレーム111は、振動分離手段112により基礎構造部110で支持される。 Metrology frame 111 is supported by the substructure 110 by vibration isolation means 112. 光学素子ユニット108は、計測フレーム111によって支持された光学素子109に向けて光を案内する。 The optical element unit 108 guides the light toward the optical element 109 which is supported by the measurement frame 111. 光学素子109は、次に、マスク104.1に向けて光を導く。 The optical element 109 may then direct the light toward the mask 104.1.

光学素子ユニット108は、本発明においては第1の光学素子ユニットを形成しており、本発明においては第1の光学素子群108.2を形成する複数の第1の光学素子108.1を備えている。 The optical element unit 108, in the present invention forms a first optical element unit, in the present invention comprises a plurality of first optical elements 108.1 to form a first optical element group 108.2 ing. 第1の光学素子108.1は、第1の光学素子群108.2、ひいては第1の光学素子ユニット8の第1の光軸108.3および物体平面108.4を規定する。 First optical element 108.1, the first optical element group 108.2, defines the turn first optical axis 108.3 and the object plane 108.4 of the first optical element unit 8. 第1の光学素子群108.2の物体平面108.4は、これにより、第1の光学素子ユニット108の第1の光学素子ユニット基準を形成している。 Object plane 108.4 of the first optical element group 108.2 is thereby form a first optical element unit reference of the first optical element unit 108.

第1の光学素子108.1は、第1の光学素子ユニット108のハウジング108.5に収容されている。 First optical element 108.1 is accommodated in a housing 108.5 of the first optical element unit 108. ハウジング108.5は、第1の光学素子108.1を支持する第2の支持構造部を形成している。 The housing 108.5 forms a second support structure for supporting the first optical element 108.1. さらに詳細に後述するように、第1の光学素子ユニット108は、3つの支持素子、すなわち第1の支持素子108.6、第2の支持要素108.7および第3の支持要素108.8(図2参照)によって計測フレーム110で支持される。 As described in greater detail below, the first optical element unit 108 has three support elements, i.e. a first support element 108.6, the second support element 108.7 and the third support element 108.8 ( by reference to FIG. 2) it is supported by the measurement frame 110. 支持素子108.6、108.7、108.8は、図1および図2には簡略化して示されているだけであり、図3には、このような支持素子108.6の実際の実施形態の概略図を示している。 Support element 108.6,108.7,108.8 is only shown in a simplified in FIGS. 1 and 2, FIG. 3, the actual implementation of such a support element 108.6 It shows a schematic view of a form.

光学素子ユニット107は、本発明においては第2の光学素子ユニットを形成しており、本発明においては第2の光学素子群107.2を形成する複数の第2の光学素子107.1を備えている。 The optical element unit 107, in the present invention forms a second optical element unit, in the present invention comprises a plurality of second optical elements 107.1 forming the second optical element group 107.2 ing. 第2の光学素子107.1は、第2の光軸107.3と、第2の光学素子群107.2、ひいては第2の光学素子ユニット8の画像平面107.4とを規定している。 The second optical element 107.1 defines a second optical axis 107.3 and the second optical element group 107.2, hence the image plane 107.4 of the second optical element unit 8 . 第2の光学素子群107.2の画像平面107.4は、これにより、第2の光学素子ユニット8の第2の光学素子ユニット基準を形成している。 Image plane 107.4 of the second optical element group 107.2 is thereby form a second optical element unit reference of the second optical element unit 8.

第2の光学素子107.1は、第2の光学素子ユニット107のハウジング107.5に収容されている。 The second optical element 107.1 is accommodated in a housing 107.5 of the second optical element unit 107. ハウジング107.5は、第2の光学素子107.1を支持する第4の支持構造部を形成している。 The housing 107.5 forms a fourth supporting structure for supporting the second optical element 107.1. さらに詳細に後述するように、第2の光学素子ユニット107は、3つの支持素子107.6によって計測フレーム110で支持される。 As described in greater detail below, the second optical element unit 107 is supported by the measurement frame 110 by three support elements 107.6.

光学投影ユニット103は、光学素子群103.1を光学投影ユニット103のハウジング103.2の内部に保持し、投影光学ボックス(POB)と呼ばれることも多い。 Optical projection unit 103 holds an optical element group 103.1 within the housing 103.2 of the optical projection unit 103 is often referred to as the projection optical box (POB). 光学素子群103.1は、レンズ、ミラー格子等の形の多数の光学素子103.3を備える。 Optical element group 103.1 includes a lens, a number of optical elements 103.3 in the form of a mirror grating and the like. これらの光学素子103.3は、6自由度全てまで、光学投影ユニット103の軸103.4に沿って互いに対して位置決めされる。 These optical elements 103.3, until all six degrees of freedom, are positioned relative to one another along the axis 103.4 of the optical projection unit 103.

これらの光学素子103.3は、協働してマスク104.1に形成されたパターンの画像を基板105.1上に転写する。 These optical elements 103.3 is an image of a pattern formed on the mask 104.1 cooperate to transfer onto the substrate 105.1. マスク104.1は、マスクユニット104のマスクテーブル104.2に載置され、マスクテーブル104.2は、計測フレーム111によって支持される。 Mask 104.1 is placed on a mask table 104.2 mask unit 104, the mask table 104.2 is supported by the measurement frame 111. 同様に、基板105.1は基板ユニット105の基板テーブル105.2に載置され、基板テーブル105.2も同様に計測フレーム111によって支持される。 Similarly, the substrate 105.1 is placed on the substrate table 105.2 board unit 105, the substrate table 105.2 is also supported by the same measure frame 111.

マスク104.1に形成されたパターンの画像は、通常は大きさを縮小され、基板105.1のいくつかの目標範囲に転写される。 Image of the pattern formed on the mask 104.1, usually are reduced size and transferred to several target range of the substrate 105.1. マスク104.1に形成されたパターンの画像は、光学露光装置101の設計に応じて2つの異なる方法で基板105.1上のそれぞれの目標範囲に転写してもよい。 Image of the pattern formed on the mask 104.1, in two different ways depending on the design of the optical exposure apparatus 101 may be transferred to each of the target range on the substrate 105.1. 光学露光装置101がいわゆるウェーハ・ステッパ装置として設計されている場合、マスク104.1に形成された全てのパターンを照明することによって単一のステップで基板105.1上のそれぞれの目標範囲に全てのパターン画像が転写される。 When the optical exposure apparatus 101 is designed as a so-called wafer stepper device, all the respective target area on the substrate 105.1 in a single step by illuminating all of the patterns formed on the mask 104.1 pattern image is transferred. 光学露光装置101がいわゆる「ステップ・アンド・スキャン装置」として設計されている場合、投影ビームのもとでマスクテーブル104.2、ひいてはマスク104.1上に形成されたパターンを連続的に走査することによって、パターンの画像が基板105.1上のそれぞれの目標範囲に転写され、同時に基板テーブル105.2、ひいては基板105.1の対応した走査が行われる。 When the optical exposure apparatus 101 is designed as a so-called "step-and-scan apparatus", the mask table 104.2 under the projection beam continuously scans the pattern formed on the thus mask 104.1 it, the image of the pattern is transferred to the respective target area on the substrate 105.1, substrate table 105.2, scanning was thus corresponding substrate 105.1 is carried out at the same time.

いずれの場合にも、光学素子103.3、107.1、108.1および109相互の相対位置ならびにマスク104.1および基板105.1に対する光学装置の相対位置は、高品質画像結果を得るために、予め定められた限度内に保持される必要がある。 In either case, the relative position of the optical device relative to the optical element 103.3,107.1,108.1 and 109 mutual relative positions and the mask 104.1 and the substrate 105.1 is to obtain a high quality image results the need to be held within the limits determined in advance. この場合、光学的または機能的な基準、例えば画像平面107.4および物体平面を108.4または開口面を他の所定基準に対して所定基準位置に保つことが特に重要である。 In this case, optical or functional criteria, be maintained at a predetermined reference position, for example the image plane 107.4 and the object plane 108.4 or openings face against the another predetermined criterion is particularly important.

第1の光学素子ユニット基準108.4、すなわち物体平面108.4については、計測フレーム111によって規定される外部基準に対する基準位置が第1の光学素子ユニット108の熱膨張時に実質的に一定に保たれることが有利であるとがわかった。 The first optical element unit reference 108.4, namely the object plane 108.4, retention in the reference position relative to the external reference is substantially constant during thermal expansion of the first optical element unit 108 provided by the measurement frame 111 When the sag it is advantageous was found. ここで、外部基準は、第1の光学素子ユニット108の外部において計測フレーム111の任意の適当な位置に位置していてもよい。 Here, the external reference may be located at any suitable position of the measurement frame 111 outside of the first optical element unit 108.

このことを達成するために、第1の支持素子108.6、第2の支持素子108.7および第3の支持素子108.8は、所定の範囲内で、これらの支持素子それぞれが1つの並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供するように設計され、配置されている。 To achieve this, the first support element 108.6, the second support element 108.7 and the third support element 108.8 is within a predetermined range, each of these supporting elements is one is designed to provide a substantially free movement along the translational direction, it is arranged. このように、第1の支持素子108.6は、第1の並進方向108.9に沿った実質的に自由な動きを提供する。 Thus, the first support element 108.6 provides for substantially free movement along a first translational direction 108.9. 第2の支持素子108.7は、第2の並進方向108.10に沿った実質的に自由な動きを提供する。 The second support element 108.7 provides for substantially free movement along the second translational direction 108.10. 第3の支持素子108.8は、第3の並進方向108.1 1に沿った実質的に自由な動きを提供する。 Third support element 108.8 provides for substantially free movement along a third translational direction 108.1 1.

いかなる時点においても、それぞれの支持素子108.6、108.7、108.8は、他の2つの並進方向に沿った動きを制限し、制約を受けない並進方向108.9、108.10、108.11を有する直交システムを形成する。 At any time, each of the support elements 108.6,108.7,108.8 limits the movement along the other two translational direction, unconstrained translational direction 108.9,108.10, forming an orthogonal system having 108.11. 換言すれば、それぞれの支持素子108.6、108.7、108.8は1つの制約を受けない並進自由度および2つの制約付並進自由度を提供する。 In other words, each of the support elements 108.6,108.7,108.8 provides translational degrees of freedom and two constrained translational degrees of freedom is not subject to one constraint.

第1の光学素子ユニット108の実質的に動的な支持を可能にするために、それぞれの支持素子108.6、108.7、108.8が好ましくは一つ以上の制約を受けない回転自由度を提供することがわかるであろう。 To enable substantially dynamic support of the first optical element unit 108, preferably each of the support elements 108.6,108.7,108.8 free rotation does not receive one or more constraints it will be appreciated that to provide a degree.

支持素子108.6、108.7、108.8の一実施形態は、図3に示す第1の支持素子108.6の概略図に見ることができる。 An embodiment of a support element 108.6,108.7,108.8 can be seen in the schematic view of the first support element 108.6 shown in FIG. ここで、第1の支持素子108.6は、第1の並進方向108.9に弾性的であり、第1の並進方向108.9に対して垂直な面108.13においては実質的に堅固である、板ばね素子108.12を備えている。 Here, the first support element 108.6 is resiliently first translational direction 108.9, substantially rigid in a plane perpendicular 108.13 to the first translational direction 108.9 in it, a leaf spring element 108.12.

所望の変位に応じて、板ばね素子108.12は、第1の並進方向108.9に沿った変位に抗して増加する反作用力を行使する。 Depending on the desired displacement, the leaf spring element 108.12 may exercise reaction force increases against displacement along the first translational direction 108.9. しかしながら、本発明においては、この反作用力は、この第1の並進方向108.9に対して垂直な平面108.13の内部において作用する反作用力よりも著しく小さい場合には無視することができることがわかるであろう。 However, in the present invention, the reaction force that can be ignored in this case significantly smaller than the reaction force acting in the interior of a plane perpendicular 108.13 with respect to the first translational direction 108.9 it will be appreciated. 換言すれば、第1の並進方向108.9に沿った第1の支持素子108.6の剛性はこの第1の並進方向108.9に対して垂直な平面108.13の内部の剛性よりも著しく小さくても充分である。 In other words, the rigidity of the first support element 108.6 along a first translational direction 108.9 rather than inside the rigid planar 108.13 perpendicular to the first translational direction 108.9 even extremely small is sufficient.
さらに、本発明の他の実施形態では、(好ましくはV字形の)溝内を走行するボールまたはピン、嵌合孔または他の線形ガイド機構、例えばダブテール型ガイドなどの内部で前後に移動可能なピンのような、他のタイプの支持素子を選択してもよいことがわかるであろう。 Furthermore, in other embodiments of the present invention, which can be moved back and forth within such (preferably V-shaped) ball or pin running in a groove, a fitting hole or other linear guide mechanism, for example, dovetail-type guide pin like, it will be appreciated that may select other types of support elements.

図2からわかるように、第1の光軸108.3および第1の並進方向108.9は平行であり、軸平面108.14を規定する。 As it can be seen from Figure 2, the first optical axis 108.3 and the first translational direction 108.9 are parallel, defining an axial plane 108.14. 第1の並進方向108.9、第2の並進方向108.10および第3の並進方向108.11は同一平面上に位置し、全て交差位置108.15で交差する。 First translational direction 108.9, second translational direction 108.10 and the third translational direction 108.11 is located on the same plane, intersect at all intersections 108.15. この交差位置108.15は、第1の光学素子ユニット108の内部に収容されている第1の光学素子群108.2(いずれも図2に破線輪郭によって示す)の物体平面108.4に位置付けられている。 The intersection 108.15 is positioned in an object plane 108.4 of the first optics group housed in the interior of the first optical element unit 108 108.2 (both shown by dashed outline in FIG. 2) It is. 第2の並進方向108.10および第3の並進方向108.11は、軸平面108.14に対して角度γ =γ =γだけ傾斜している。 The second translational direction 108.10 and the third translational direction 108.11 is inclined by an angle γ 1 = γ 2 = γ relative to the axial plane 108.14.

第2の並進方向108.10および第3の並進方向108.11のこのような対称配置ならびに共通の交差位置108.15により、第1の光学素子ユニット108が熱により一様に膨張した場合、すなわち、第1の光学素子ユニット108の内部の温度および温度上昇が一様であり、第1の光軸108.3に沿って、かつ第1の光軸108.3に対して横方向に、実質的に等しい熱膨張率α =α =αが得られる場合、計測フレーム111によって規定される外部基準に対して交差位置108.15が実質的に変化しないという利点が得られる。 Such symmetrical arrangement and a common intersection 108.15 of the second translational direction 108.10 and the third translational direction 108.11, if the first optical element unit 108 is uniformly expanded by heat, that is, the internal temperature and the temperature rise of the first optical element unit 108 is uniform along the first optical axis 108.3 and transversely to the first optical axis 108.3, If substantially equal thermal expansion coefficient α x = α y = α is obtained the advantage that crossing position 108.15 is substantially unchanged with respect to the external reference provided by the measurement frame 111 is obtained. 結果として、第1の光軸108.3に沿った第1の光学素子群108.2の物体平面108.4も、外部基準、すなわち計測フレーム111に対して少なくともかなりの近似で実質的にその位置を保持する。 As a result, the object plane 108.4 of the first optical element group 108.2 along a first optical axis 108.3 also substantially its at least a substantial approximation to the external reference, i.e. the measurement frame 111 position to hold.

換言すれば、支持素子108.6、108.7、108.8は、それらの制約を受けない自由度の交差位置108.15によって、計測フレーム111に対してその位置を保持する第1の光学素子ユニット108の熱膨張の中心を規定する。 In other words, the support element 108.6,108.7,108.8, depending freedom intersection 108.15 free from those constraints, the first optical that retains its position relative to the measurement frame 111 It defines the center of the thermal expansion of the sensor unit 108.

図1および図2に示した支持素子108.6、108.7、108.8の配置によって、第1の光軸108.3は、光学素子ユニット108が熱により膨張した場合に、z方向(図1参照)に横方向の変位を被る。 The arrangement of the support elements 108.6,108.7,108.8 shown in FIGS. 1 and 2, the first optical axis 108.3, when the optical element unit 108 is expanded by heat, z-direction ( suffer lateral displacement in FIG. 1). しかしながら、本発明の別の実施形態によれば、この横方向の変位を少なくとも減じることができるように、第1、第2および第3の並進方向が第1の光軸の近傍に、場合によっては第1の光軸と同一平面上に位置付けられているように支持素子を位置決めしてもよいことは自明である。 However, according to another embodiment of the present invention, the displacement of the lateral to be able to at least reduce, in the vicinity of the first, second and third translation direction first optical axis, optionally is that may be positioned the support element as positioned on the first optical axis and coplanar is obvious. さらに、付加的または代替的に、支持素子は、第1の光軸のこの横方向の変位を補償するように設計されていてもよい。 Furthermore, additionally or alternatively, the support element may be designed to compensate for this lateral displacement of the first optical axis.

本発明の別の実施形態では、第1、第2および第3の並進方向は、これら全ての並進方向の共通の交差位置が保持される限りは、同一平面上に位置している必要はなく、空間的に任意に位置付けられていてもよいことがわかるであろう。 In another embodiment of the present invention, first, second and third translational direction, as long as does not need to be positioned on the same plane in which the common intersection of all these translation direction is maintained it will be appreciated that may be positioned to spatially arbitrarily. 特に、角度γ および角度γ は必ずしも同一でなくてもよい。 In particular, the angle gamma 1 and the angle gamma 2 may not be necessarily the same. さらに本発明の別の実施形態によれば、これら全ての支持素子の制約を受けない並進方向全ての共通の交差位置が保持される限りは、第1、第2および第3の並進方向を有する第1、第2および第3の支持素子よりも多数の支持素子が設けられていてもよいことは自明である。 According to yet another embodiment of the present invention, as long as the common intersection of the translation direction all not restricted by all these support elements are held, with the first, second and third translational direction first, it is obvious that may be provided a number of support elements than the second and third support element.

まず第一に、第1の光学素子ユニット108は、第1の光軸108.3に沿って、かつ第1の光軸108.3に対して横方向に、実質的に同一の熱膨張率α =α =αを有しているという仮定のもとで上記説明がなされていることは自明である。 First, the first optical element unit 108, along a first optical axis 108.3 and transversely to the first optical axis 108.3, substantially the same coefficient of thermal expansion it is obvious that the above description has been made under the assumption that a α x = α y = α. しかしながら、そうではない場合、すなわち、第1の光軸108.3に沿った熱膨張率α と第1の光軸108.3に対して横方向の熱膨張率α との間に差がある場合、支持素子108.6、108.7、108.8は、図2に破線輪郭線113、114によって示すように、熱によって誘起される変位に応じて角度γ =γ =γを修正することによって、これを簡単に相殺することもできる。 However, if not, i.e., the difference between the first coefficient of thermal expansion in the transverse direction to the coefficient of thermal expansion along the optical axis 108.3 alpha x a first optical axis 108.3 alpha y If there is, the support element 108.6,108.7,108.8, as indicated by the dashed outline 113 and 114 in FIG. 2, the angle in accordance with the displacement induced by thermal γ 1 = γ 2 = γ by modifying the can be easily offset by. 換言すれば、この場合、角度γ =γ =γは、それぞれの熱膨張率α 、α および所望の基準位置の関数である。 In other words, in this case, the angle γ 1 = γ 2 = γ, respective thermal expansion coefficients alpha x, is alpha y and the desired function of the reference position.

さらにまた、第1の光軸108.3に沿った熱膨張率α および第1の光軸108.3に対して横方向の熱膨張率α との間のこのような方向差を、第1の光学素子ユニット108の物体平面108.4(または第1の光学素子ユニット108の他の所望の光学または機能基準)と計測フレーム111との間の基準位置で所定の変位を行うために用いてもよいことは自明である。 Furthermore, such a direction difference between the first coefficient of thermal expansion in the transverse direction with respect to the thermal expansion coefficient alpha x and the first optical axis 108.3 along the optical axis 108.3 alpha y, in order to perform a predetermined displacement at the reference position between the (desired optical or functional criteria other or the first optical element unit 108) and the measuring frame 111 object plane 108.4 of the first optical element unit 108 it is obvious that may be used. これは、例えば、計測フレーム111自体が温度変化、ひいては熱による膨張を被った場合に利用することもできる。 This, for example, the measurement frame 111 itself is a temperature change, it can also be utilized when suffered expansion due thus heat.

第1の光学素子ユニット108の物体平面108.4(または第1の光学素子ユニット108の他の所望の光学または機能基準)と計測フレーム111との間の基準位置のこのような所定の変位は、計測フレーム111の熱によって誘起される膨張を実質的に補償するように選択してもよい。 Such predetermined displacement of the reference position between the object plane 108.4 (or other desired optical or functional criteria of the first optical element unit 108) and the measurement frame 111 of the first optical element unit 108 the expansion induced by the heat of the measurement frame 111 may be selected to substantially compensate. この場合、当然ながら計測フレーム111に関する変位はそれぞれの熱膨張率α 、α および角度γ =γ =γに依存する。 In this case, of course it displaced about the measurement frame 111 each coefficient of thermal expansion alpha x, depends on the alpha y and the angle γ 1 = γ 2 = γ. したがって、計測フレーム111に関して所望の変位が得られるように、角度γ およびγ を選択することもできる。 Thus, as desired displacement can be obtained with respect to the measurement frame 111 may also select the angle gamma 1 and gamma 2. ここでも計測フレーム111の熱膨張率の方向差を考慮し、補償することができる。 Again considering the direction difference of the thermal expansion coefficient of the measurement frame 111, it can be compensated.

このように、全体的な外部基準、例えば基礎構造部110に対する第1の光学素子ユニット108の物体平面108.4の基準位置(または第1の光学素子ユニット108の他の所望の光学または機能基準)は、第1の光学素子装置108および測定フレーム111が熱により膨張した場合にも不変に保つこともできる。 Thus, the overall external reference, for example, other desired optical or functional criteria of the reference position of the object plane 108.4 of the first optical element unit 108 with respect to the substructure 110 (or the first optical element unit 108 ) can also be first optical element unit 108 and the measurement frame 111 is kept unchanged even when expanded due to heat.

第2の光学素子ユニット107の支持素子107.6は、第1の光学素子ユニット108の支持素子108.6、108.7、108.8に類似した方法で設計される。 Support element 107.6 of the second optical element unit 107 is designed in a manner similar to the supporting element 108.6,108.7,108.8 of the first optical element unit 108. 特に支持素子107.6は、第2の光学素子群107.2の画像平面107.4もまた、屈折された第2の光軸107.3の出射部に沿って、基礎構造部110の形の外部基準に関して実質的にその位置をほぼ保持するように、設計される。 In particular the support element 107.6, the image plane 107.4 of the second optical element group 107.2 also along the exit portion of the second optical axis 107.3 that is refracted, form the substructure 110 substantially in its position with respect to the external reference so as to be substantially retained, it is designed.

換言すれば、ここでも支持素子107.6は、制約を受けない自由度の交差位置によって、基礎構造部110に関してその位置を保持する第2の光学素子ユニット107の熱膨張の中心を規定する。 In other words, again supporting element 107.6 is the intersection of freedom unconstrained, defines the center of the thermal expansion of the second optical element unit 107 to hold its position with respect to the substructure 110.

本実施形態によれば、測定フレーム111は基礎構造部110に対して一定の関係を有し、熱によって誘起される著しい膨張を防止する冷却系を備えているものとする。 According to this embodiment, the measurement frame 111 has a fixed relationship relative to the base structure 110, it is assumed that a cooling system to prevent significant expansion induced by heat. このように第1の光学素子ユニット108および第2の光学素子ユニット107の上記支持が得られた場合、第2の光学素子ユニット107の画像平面107.4の位置は、装置101の通常動作中に予想されるいかなる温度においても、実質的に第1の光学素子ユニット108の物体平面108.4と一致する。 Thus if the support of the first optical element unit 108 and the second optical element unit 107 has been obtained, the position of the image plane 107.4 of the second optical element unit 107, during normal operation of the device 101 also in the expected any temperature, consistent with the object plane 108.4 substantially the first optical element unit 108. このことは、マスク104.1の照明、ひいては露光プロセスの結果上に有益な効果をもたらす。 This illumination of the mask 104.1, beneficial effects on the results of the thus exposure process.

図1の光学露光装置101を用いた、本発明による光学素子ユニットを支持する方法を含む本発明による光学結像法の好ましい実施形態を図1〜図4を参照して後述する。 Using an optical exposure apparatus 101 of FIG. 1, a preferred embodiment of the optical imaging method according to the present invention include a method for supporting an optical element unit according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

ステップ114において、パターンを有するマスク104.1、基板105.1、マスク104.1のパターンの画像を基板105.1に転写するように構成された光学投影ユニット103、およびマスク104.1のパターンを照明するように構成された照明系106、107、108、109ならびに第1の光学素子ユニット108を含む光学露光装置101の構成部品が設けられる。 In step 114, the mask 104.1 having a pattern, the substrate 105.1, the optical projection unit 103 configured as an image of the pattern of the mask 104.1 are transferred to the substrate 105.1, and the mask 104.1 pattern components of the optical exposure apparatus 101 includes an illumination system 106, 107, 108, 109 and the first optical element unit 108 configured to illuminate are provided.

ステップ115において、光学露光装置101は、図1〜図3に関して記載されていた構成をもたらすように空間的に配置される。 In step 115, the optical exposure apparatus 101 is spatially arranged to provide a configuration which has been described with reference to FIGS. 特に、ステップ115で、上述のように、第1の光学素子ユニット108が熱により膨張した場合に、測定フレーム111に関して物体平面108.4の基準位置が基本的に不変のままであるように、第1の光学素子ユニット108が測定フレーム111に支持される。 In particular, at step 115, as described above, as in the case where the first optical element unit 108 is expanded by heat, with respect to the measurement frame 111 reference position of the object plane 108.4 is left essentially unchanged, the first optical element unit 108 is supported by the measurement frame 111.

ステップ116において、上述のように、光学投影ユニット103がマスク104.1のパターンの画像を基板105.1に転写するように、照明系106、107、108、109を用いてマスク104.1のパターンを照明する。 In step 116, as described above, so that the optical projection unit 103 transfers an image of the pattern of the mask 104.1 substrate 105.1, the mask 104.1 using an illumination system 106, 107, 108 to illuminate the pattern.

(第2実施形態) (Second Embodiment)
以下に、本発明による方法の好ましい実施形態を実施することもできる本発明による光学結像装置201の第2の好ましい実施形態を、図5を参照して説明する。 Hereinafter, a second preferred embodiment of the optical imaging apparatus 201 according to the well may the invention be implemented preferred embodiment of the method according to the present invention will be described with reference to FIG.

図5は、光学露光装置201の形態の光学結像装置の照明系の第1の光学素子ユニット208および第2の光学素子ユニット207の正確な縮尺ではない概略図である。 Figure 5 is a schematic diagram not to scale of the first optical element unit 208 and the second optical element unit 207 of the illumination system of the optical imaging device in the form of an optical exposure apparatus 201.

図5の実施形態は、その設計および機能性の大部分において図1の実施形態に対応する。 The embodiment of FIG. 5 corresponds to the embodiment of FIG. 1 in the majority of its design and functionality. 特に、図5では、類似または同一の部分には、同じ番号に100を加えた参照番号が付与されている。 In particular, in FIG. 5, the similar or identical parts, reference numbers increased by 100 in the same numbers are assigned. したがって、この点については主に上記説明を参照されたい。 Therefore, reference is mainly the explanation on this point. 以下には違いについてのみ述べる。 Describe only about the differences in the following.

第1実施形態に対する主な違いは、第1の光学素子ユニット208および第2の光学素子ユニット207がいずれも測定フレーム211により支持されることにある。 The main difference with respect to the first embodiment is that the first optical element unit 208 and the second optical element unit 207 is supported by the measurement frame 211 either.

ここでも、第1の光学素子ユニット208は、第1の光学素子群208.2を形成する複数の第1の光学素子208.1を備えている。 Again, the first optical element unit 208 includes a plurality of first optical elements 208.1 to form a first optical element group 208.2. 第1の光学素子208.1は、第1の光軸208.3と、第1の光学素子群208.2、ひいては第1の光学素子ユニット8の物体平面208.4を規定する。 First optical element 208.1 defines a first optical axis 208.3, first optical element group 208.2, hence the object plane 208.4 of the first optical element unit 8. 第1の光学素子群208.2の物体平面208.4は、これにより、第1の光学素子ユニット208の第1の光学素子ユニット基準を形成している。 Object plane 208.4 of the first optical element group 208.2 is thereby form a first optical element unit reference of the first optical element unit 208.

第1の光学素子208.1は、第1の光学素子ユニット208のハウジング208.5の内部に収容されている。 First optical element 208.1 is accommodated in the housing 208.5 of the first optical element unit 208. ハウジング208.5は、第1の光学素子208.1を支持する第2の支持構造部を形成している。 The housing 208.5 forms a second support structure for supporting the first optical element 208.1. 第1の光学素子ユニット208.1は、第1の支持素子208.6、第2の支持素子208.7および第3の支持素子208.8(全て図5に簡略化して示す)により測定フレーム210で支持される。 The first optical element unit 208.1 comprises a first support element 208.6, measured by the second support element 208.7 and the third support element 208.8 (shown in simplified form in all Figure 5) Frame It is supported by the 210.

第2の光学素子ユニット207は、第2の光学素子群207.2を形成する複数の第2の光学素子207.1を備えている。 The second optical element unit 207 includes a plurality of second optical elements 207.1 forming the second optical element group 207.2. 第2の光学素子207.1は、第2の光軸207.3と、第2の光学素子群207.2、ひいては第2の光学素子ユニット8の画像平面207.4とを規定している。 The second optical element 207.1 defines a second optical axis 207.3 and the second optical element group 207.2, hence the image plane 207.4 of the second optical element unit 8 . 第2の光学素子群207.2の画像平面207.4は、これにより、第2の光学素子ユニット8の第2の光学素子ユニット基準を形成している。 Image plane 207.4 of the second optical element group 207.2 is thereby form a second optical element unit reference of the second optical element unit 8.

第2の光学素子207.1は、第2の光学素子ユニット207のハウジング207.5の内部に収容されている。 The second optical element 207.1 is accommodated in the housing 207.5 of the second optical element unit 207. ハウジング207.5は、第2の光学素子207.1を支持する第2の支持構造部を形成している。 The housing 207.5 forms a second support structure for supporting the second optical element 207.1. 第2の光学素子ユニット207.1は、第4の支持素子207.6、第5の支持素子207.7および第6の支持素子207.8(全て図5に簡略化して示す)によって測定フレーム210で支持される。 The second optical element unit 207.1 is fourth support element 207.6, measured by a fifth support element 207.7 and the sixth support element 207.8 (shown in simplified form in all Figure 5) Frame It is supported by the 210.

第1の光学素子ユニット208が熱により膨張した場合に測定フレーム211に対する物体平面208.4の基準位置が実質的に不変のままとなるように、第1の支持素子208.6、第2の支持素子208.7および第3の支持素子208.8は、所定の限度内で、各々が1つの並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供するように設計され、位置付けられている。 As the first optical element unit 208 is the reference position of the object plane 208.4 for the measurement frame 211 when inflated by heat remains substantially unchanged, the first support element 208.6, the second support element 208.7 and the third support element 208.8 is within predetermined limits, each designed to provide a substantially free movement along one translational direction, are positioned. このように、第1の支持素子208.6は、第1の並進方向208.9に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Thus, the first support element 208.6 provides for substantially free movement along a first translational direction 208.9. 第2の支持素子208.7は、第2の並進方向208.10に沿って実質的に自由な動きを提供する。 The second support element 208.7 provides for substantially free movement along the second translational direction 208.10. 第3の支持素子208.8は、第3の並進方向208.11に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Third support element 208.8 provides for substantially free movement along a third translational direction 208.11.

第2の光学素子ユニット207が熱により膨張した場合に測定フレーム211に対する画像平面207.4の基準位置が実質的に不変のままとなるように、第4の支持素子207.6、第5の支持素子207.7および第6の支持素子207.8は、所定の限度内で、各々が1つの並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供するように設計され、位置付けられている。 As the second optical element unit 207 is the reference position of the image plane 207.4 for the measurement frame 211 when inflated by heat remains substantially unchanged, the fourth support element 207.6, the fifth support element 207.8 of the support element 207.7 and the sixth within certain limits, each designed to provide a substantially free movement along one translational direction, are positioned. このように、第4の支持素子207.6は、第4の並進方向207.9に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Thus, the fourth support element 207.6 provides for substantially free movement along the fourth translational direction 207.9. 第5の支持素子207.7は、第5の並進方向207.10に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Fifth support element 207.7 provides for substantially free movement along the fifth translational direction 207.10. 第6の支持素子207.8は、第6の並進方向207.11に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Support element 207.8 of the sixth provides a substantially free movement along the sixth translational direction 207.11 of.

いかなる時点においても、それぞれの支持素子207.6、207.7、207.8、208.6、208.7、208.8 は、他の2つの並進方向に沿って動きを制限し、制約を受けない並進方向207.9、207.10、207.11、208.9、208.10、208.11を有する直交システムを形成する。 At any time, each of the support elements 207.6,207.7,207.8,208.6,208.7,208.8 restricts the movement along the other two translational direction, constrain forming an orthogonal system having a translational direction 207.9,207.10,207.11,208.9,208.10,208.11 not receiving. 換言すれば、それぞれの支持素子207.6、207.7、207.8、208.6、208.7、208.8は1つの制約を受けない並進自由度および2つの制約付並進自由度を提供する。 In other words, the respective support element 207.6,207.7,207.8,208.6,208.7,208.8 translational degrees of freedom and two constrained translational degrees of freedom is not subject to one constraint provide.

第1の光学素子ユニット208および第2の光学素子ユニット207の実質的に静的に規定された支持をそれぞれ可能にするために、それぞれの支持素子207.6、207.7、207.8、208.6、208.7、208.8が、好ましくは一つ以上の制約を受けない回転自由度を提供することがわかるであろう。 To enable substantially statically defined support of the first optical element unit 208 and the second optical element unit 207 respectively, each of the support elements 207.6,207.7,207.8, 208.6,208.7,208.8 is, it will preferably found to provide a rotational degree of freedom not receiving one or more constraints.

支持素子207.6、207.7、207.8、208.6、208.7、208.8の実際の設計は、図3に示した第1の支持素子108.6の一つと類似したものであってよい。 The actual design of the support element 207.6,207.7,207.8,208.6,208.7,208.8 are those similar to the one of the first support element 108.6 shown in FIG. 3 it may be at. しかしながら、本発明の他の実施形態によれば、(好ましくはV字形の)溝内を走行するボールまたはピン、嵌合孔または他の線形ガイド機構、例えばダブテール型ガイドなどの内部で前後に移動可能なピンのような、他のタイプの支持素子を選択してもよい。 However, according to another embodiment of the present invention, the mobile (preferably V-shaped) ball or pin running in a groove, a fitting hole or other linear guide mechanism, for example, back and forth within such dovetail type guide pins as possible, may select other types of support elements.

図5に示した実施形態において、第1の光軸208.3および第1の並進方向208.9は一致する。 In the embodiment shown in FIG. 5, the first optical axis 208.3 and the first translational direction 208.9 coincide. 第1の並進方向208.9、第2の並進方向208.10および第3の並進方向208.11は同一平面上に位置し、全て交差位置208.15で交差する。 First translational direction 208.9, second translational direction 208.10 and the third translational direction 208.11 is located on the same plane, intersect at all intersections 208.15. この交差位置208.15は、第1の光学素子ユニット208の内部に収容されている第1の光学素子群208.2(いずれも図5の破線輪郭によって示す)の物体平面208.4に位置付けられている。 The intersection 208.15 is positioned in an object plane 208.4 of the first optics group housed in the interior of the first optical element unit 208 208.2 (both shown by dashed outline in FIG. 5) It is. 第2の並進方向208.10および第3の並進方向208.11は、いずれも第1の光軸208.3に対して角度γ =γ だけ傾斜している。 The second translational direction 208.10 and the third translational direction 208.11 are both inclined by an angle gamma 1 = gamma 2 with respect to the first optical axis 208.3.

第2の並進方向208.10および第3の並進方向208.11のこのような対称配置ならびに共通の交差位置208.15により、第1の光学素子ユニット208が熱により一様に膨張した場合、すなわち第1の光学素子ユニット208の内部の温度および温度上昇が一様であり、第1の光軸208.3に沿って、かつ第1の光軸208.3に対して横方向に、実質的に同じ熱膨張率α =α =αが得られる場合、計測フレーム211によって規定される外部基準に対して交差位置208.15が実質的に変化しないという利点が得られる。 Such symmetrical arrangement and a common intersection 208.15 of the second translational direction 208.10 and the third translational direction 208.11, if the first optical element unit 208 is uniformly expanded by heat, that internal temperature and the temperature rise of the first optical element unit 208 is uniform along the first optical axis 208.3 and transversely to the first optical axis 208.3, substantially If the same thermal expansion coefficient α x = α y = α is obtained the advantage that crossing position 208.15 is substantially unchanged with respect to the external reference provided by the measurement frame 211 is obtained. 結果として、第1の光学素子群208.2の物体平面208.4も、第1の光軸208.3に沿って、外部基準、すなわち測定フレーム211に対して少なくともかなりの近似で実質的にその位置を保持する。 As a result, the object plane 208.4 of the first optical element group 208.2 also along a first optical axis 208.3, external reference, i.e. at least substantially in a considerable approximation to the measurement frame 211 to retain its position.

換言すれば、支持素子208.6、208.7、208.8は、制約を受けない自由度の交差位置208.15によって、測定フレーム211に対してその位置を保持する第1の光学素子ユニット208の熱膨張の中心を規定する。 In other words, the support element 208.6,208.7,208.8, depending intersections of freedom unconstrained 208.15, first optical element unit that holds its position relative to the measurement frame 211 It defines the center of the thermal expansion of 208.

支持素子208.6、208.7、208.8と第1の光軸208.3とが同一平面上に配置されていることにより、光学素子ユニット208が熱により膨張した場合に、z方向、すなわち、図平面に対して垂直方向に第1の光軸208.3の横方向の変位は生じない。 By the support element 208.6,208.7,208.8 a first optical axis 208.3 is arranged on the same plane, when the optical element unit 208 is expanded by heat, z-direction, That is, no lateral displacement of the first optical axis 208.3 perpendicularly to the plane of the drawing.

さらに、第2の光軸207.3と第4の並進方向207.9とは一致する。 Further, a second optical axis 207.3 and the fourth translational direction 207.9 match. 第4の並進方向207.9、第5の並進方向207.10および第6の並進方向207.11は同一平面上に位置し、全て交差位置207.15で交差する。 Fourth translational direction 207.9, fifth translational direction 207.10 and sixth translational direction 207.11 of is located in the same plane and intersect at all intersections 207.15. この交差位置207.15は、第2の光学素子ユニット207の内部に収容されている第2の光学素子群207.2(いずれも図5の破線輪郭によって示す)の画像平面207.4に位置付けられている。 The intersection 207.15 is positioned in the image plane 207.4 of the second optics group housed in the interior of the second optical element unit 207 207.2 (both shown by dashed outline in FIG. 5) It is. 第5の並進方向207.10および第6の並進方向207.11は、第2の光軸に207.3に対して、角度γ =γ だけ傾斜している。 Translational direction 207.11 translational direction 207.10 and sixth fifth to the second 207.3 to the optical axis is inclined by an angle γ 3 = γ 4.

第5の並進方向207.10および第6の並進方向207.11のこのような対称配置ならびに共通の交差位置207.15により、第2の光学素子ユニット207が熱により一様に膨張した場合、すなわち、第2の光学素子ユニット207の内部の温度および温度上昇が一様であり、第2の光軸207.3に沿って、かつ第2の光軸207.3に対して横方向に、実質的に等しい熱膨張率α =α =αが得られる場合、計測フレーム211によって規定される外部基準に対して交差位置207.15が実質的に変化しないという利点が得られる。 By the fifth translational direction 207.10 and sixth Such symmetrical arrangement and a common intersection translational direction 207.11 of 207.15, when the second optical element unit 207 is uniformly expanded by heat, that is, the internal temperature and the temperature rise of the second optical element unit 207 is uniform along the second optical axis 207.3 and in the transverse direction with respect to the second optical axis 207.3, If substantially equal thermal expansion coefficient α x = α y = α is obtained the advantage that crossing position 207.15 is substantially unchanged with respect to the external reference provided by the measurement frame 211 is obtained. 結果として、第2の光軸207.3に沿った第2の光学素子群207.2の画像平面207.4も、外部基準、すなわち測定フレーム211に対して少なくともかなりの近似で実質的にその位置を保持する。 As a result, the image plane 207.4 of the second optical element group 207.2 along a second optical axis 207.3 also substantially its at least a substantial approximation to the external reference, i.e. measurement frame 211 position to hold.

換言すれば、支持素子207.6、207.7、207.8は、制約を受けない自由度の交差位置207.15によって、測定フレーム211に対してその位置を保持する第2の光学素子ユニット207の熱膨張の中心を規定する。 In other words, the support element 207.6,207.7,207.8, depending intersections of freedom unconstrained 207.15, the second optical element unit that holds its position relative to the measurement frame 211 207 defines the center of the thermal expansion of the.

支持素子207.6、207.7、207.8と第2の光軸207.3とが同一平面上に配置されていることにより、第2の光学素子ユニット207が熱により膨張した場合に、z方向、すなわち、図平面に対して垂直方向に第2の光軸207.3の横方向の変位は生じない。 By the support element 207.6,207.7,207.8 and second optical axis 207.3 is arranged on the same plane, when the second optical element unit 207 is expanded by heat, z-direction, i.e., there is no lateral displacement of the second optical axis 207.3 perpendicularly to the plane of the drawing.

図5からわかるように、第1の交差位置208.15と第2の交差位置207.15とは実質的に一致しており、これにより、第2の光学素子ユニット207の画像平面207.4および第1の光学素子ユニット207の物体平面208.4は光学露光装置201の通常動作中に予想されるいかなる温度分布においても実質的に一致する。 As can be seen from FIG. 5, a first intersection 208.15 and the second intersection 207.15 are substantially coincident, thereby, the image plane of the second optical element unit 207 207.4 and the object plane 208.4 of the first optical element unit 207 is substantially coincident at any temperature distribution to be expected during normal operation of the optical exposure apparatus 201. このことは、光学露光装置201の良好で安定した信頼性の高い照明結果をもたらす。 This results in a good and stable and reliable lighting result of the optical exposure apparatus 201.

この実施形態によっても図1〜図4に関して説明した本発明による方法を実施することができることがわかる。 It can be seen that can implement the method according to the invention has been described with respect to FIGS. 1-4 by the embodiment. したがって、この点については上記の説明を参照されたい。 Accordingly, on this point see above description.

(第3実施形態) (Third Embodiment)
以下に、本発明による方法の好ましい実施形態を実施することもできる本発明による光学結像装置201の第3の好ましい実施形態を、図4を参照して説明する。 Hereinafter, a third preferred embodiment of the optical imaging apparatus 201 according to the well may the invention be implemented preferred embodiment of the method according to the present invention will be described with reference to FIG.

図6は、光学露光装置301の形の光学結像装置の照明系の第1の光学素子ユニット308の正確な縮尺ではない概略図である。 Figure 6 is a schematic diagram not to scale of the first optical element unit 308 of the illumination system of the optical imaging device in the form of an optical exposure apparatus 301.

図6の実施形態は、その設計および機能性の大部分において図1の実施形態に対応する。 The embodiment of FIG. 6 corresponds to the embodiment of FIG. 1 in the majority of its design and functionality. 特に、図6では、類似または同一の部分には、同じ番号に200を加えた参照番号が付与されている。 In particular, in FIG. 6, the similar or identical parts, 200 a reference number added to the same numbers are assigned. したがって、この点については主に上記説明を参照されたい。 Therefore, reference is mainly the explanation on this point. 以下には違いについてのみ述べる。 Describe only about the differences in the following.

ここでも、第1の光学素子ユニット308は、第1の光学素子群308.2を形成する複数の第1の光学素子308.1を備えている。 Again, the first optical element unit 308 includes a plurality of first optical elements 308.1 to form a first optical element group 308.2. 第1の光学素子308.1は、第1の光学素子群308.2、ひいては第1の光学素子ユニット8の第1の光軸308.3を規定する。 First optical element 308.1, the first optical element group 308.2, defines the turn first optical axis 308.3 of the first optical element unit 8. 第1の光学素子ユニット8は、第1の光学素子群308.2の第1の光学素子308.1の間に位置付けられた開口面308.4の形の機能平面を備えている。 The first optical element unit 8 is provided with a first first form of functional plane of the opening surface 308.4 positioned between the optical element 308.1 of the optical element group 308.2. 第1の光学素子群308.2の開口面308.4は、これにより、第1の光学素子ユニット308の第1の光学素子ユニット基準を形成する。 Opening surface 308.4 of the first optical element group 308.2 is thereby to form a first optical element unit reference of the first optical element unit 308.

第1の光学素子308.1は、第1の光学素子ユニット308のハウジング308.5に収容されている。 First optical element 308.1 is accommodated in a housing 308.5 of the first optical element unit 308. ハウジング308.5は、第1の光学素子308.1を支持する第2の支持構造部を形成している。 The housing 308.5 forms a second support structure for supporting the first optical element 308.1. 第1の光学素子ユニット308.1は、第1の支持素子308.6、第2の支持素子308.7および第3の支持素子308.8(全て図6に簡略化して示す)によって測定フレーム311で支持される。 The first optical element unit 308.1, the first support element 308.6, measured by the second support element 308.7 and the third support element 308.8 (shown in simplified form in all 6) Frame It is supported by the 311.

第1の光学素子ユニット308が熱により膨張した場合に測定フレーム311に対する開口面308.4の基準位置が実質的に不変のままとなるように、第1の支持素子308.6、第2の支持素子308.7および第3の支持素子308.8は、所定の限度内で、各々が1つの並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供するように設計され、位置付けられている。 As the first optical element unit 308 is the reference position of the aperture plane 308.4 with respect to the measurement frame 311 when inflated by heat remains substantially unchanged, the first support element 308.6, the second support element 308.7 and the third support element 308.8 is within predetermined limits, each designed to provide a substantially free movement along one translational direction, are positioned. このように、第1の支持素子308.6は、第1の並進方向308.9に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Thus, the first support element 308.6 provides for substantially free movement along a first translational direction 308.9. 第2の支持素子308.7は、第2の並進方向308.10に沿って実質的に自由な動きを提供する。 The second support element 308.7 provides for substantially free movement along the second translational direction 308.10. 第3の支持素子308.8は、第3の並進方向308.11に沿って実質的に自由な動きを提供する。 Third support element 308.8 provides for substantially free movement along a third translational direction 308.11.

いかなる時点においても、それぞれの支持素子308.6、308.7、308.8は、他の2つの並進方向に沿って動きを制限し、制約を受けない並進方向308.9、308.10、308.11を有する直交システムを形成する。 At any time, each of the support elements 308.6,308.7,308.8 restricts the movement along the other two translational direction, unconstrained translational direction 308.9,308.10, forming an orthogonal system having 308.11. 換言すれば、それぞれの支持素子308.6、308.7、308.8は1つの制約を受けない並進自由度および2つの制約付並進自由度を提供する。 In other words, each of the support elements 308.6,308.7,308.8 provides translational degrees of freedom and two constrained translational degrees of freedom is not subject to one constraint.

第1の光学素子ユニット308の実質的に静的に規定された支持を可能にするために、それぞれの支持素子308.6、308.7、308.8が、好ましくは一つ以上の制約を受けない回転自由度を提供することがわかるであろう。 To enable substantially statically defined support of the first optical element unit 308, the respective support elements 308.6,308.7,308.8 is, preferably one or more constraints it will be appreciated that to provide a rotational degree of freedom that does not receive.

支持素子308.6、308.7、308.8の実際の設計は、ここでも、図3に示した第1の支持素子108.6の一つと類似したものであってよい。 The actual design of the support element 308.6,308.7,308.8 is again may be similar to one of the first support element 108.6 shown in FIG. しかしながら、本発明の他の実施形態によれば、(好ましくはV字形の)溝内を走行するボールまたはピン、嵌合孔または他の線形ガイド機構、例えばダブテール型ガイドなどの内部で前後に移動可能なピンのような、他のタイプの支持素子を選択してもよい。 However, according to another embodiment of the present invention, the mobile (preferably V-shaped) ball or pin running in a groove, a fitting hole or other linear guide mechanism, for example, back and forth within such dovetail type guide pins as possible, may select other types of support elements.

図6に示した実施形態において、第1の光軸308.3および第1の並進方向308.9は一致する。 In the embodiment shown in FIG. 6, the first optical axis 308.3 and the first translational direction 308.9 coincide. 第1の並進方向308.9、第2の並進方向308.10および第3の並進方向308.1 1は同一平面上に位置し、全て交差位置308.15で交差する。 First translational direction 308.9, second translational direction 308.10 and the third translational direction 308.1 1 is located on the same plane, intersect at all intersections 308.15. この交差位置308.15は、第1の光学素子ユニット308の内部に収容されている第1の光学素子群308.2(いずれも図6の破線輪郭によって示す)の開口面308.4に位置付けられている。 The intersection 308.15 is positioned on the opening surface 308.4 of the first optics group housed in the interior of the first optical element unit 308 308.2 (both shown by dashed outline in FIG. 6) It is. 第2の並進方向308.10および第3の並進方向308.11は、いずれも第1の光軸308.3に対して角度γ =γ だけ傾斜している。 The second translational direction 308.10 and the third translational direction 308.11 are both inclined by an angle gamma 1 = gamma 2 with respect to the first optical axis 308.3.

第2の並進方向308.10および第3の並進方向308.11のこのような対称配置ならびに共通の交差位置308.15により、第1の光学素子ユニット308が熱により一様に膨張した場合、すなわち、第1の光学素子ユニット308の内部の温度および温度上昇が一様であり、第1の光軸308.3に沿って、かつ第1の光軸308.3に対して横方向に、実質的に同じ熱膨張率α =α =αが得られる場合、計測フレーム311によって規定される外部基準に対して交差位置308.15が実質的に変化しないという利点が得られる。 Such symmetrical arrangement and a common intersection 308.15 of the second translational direction 308.10 and the third translational direction 308.11, if the first optical element unit 308 is uniformly expanded by heat, that is, the internal temperature and the temperature rise of the first optical element unit 308 is uniform along the first optical axis 308.3 and transversely to the first optical axis 308.3, If substantially the same thermal expansion coefficient α x = α y = α is obtained the advantage that crossing position 308.15 is substantially unchanged with respect to the external reference provided by the measurement frame 311 is obtained. 結果として、第1の光学素子群308.2の開口面308.4も、第1の光軸308.3に沿って、外部基準、すなわち測定フレーム311に対して少なくともかなりの近似で実質的にその位置を保持する。 As a result, the opening surface 308.4 of the first optical element group 308.2 also along a first optical axis 308.3, external reference, i.e. at least substantially in a considerable approximation to the measurement frame 311 to retain its position.

換言すれば、支持素子308.6、308.7、308.8は、制約を受けない自由度の交差位置308.15によって、測定フレーム311に対してその位置を保持する第1の光学素子ユニット308の熱膨張の中心を規定する。 In other words, the support element 308.6,308.7,308.8, depending intersections of freedom unconstrained 308.15, first optical element unit that holds its position relative to the measurement frame 311 308 defines the center of the thermal expansion of the.

支持素子307.6、307.7、307.8と第1の光軸307.3とが同一平面上に配置されていることにより、光学素子ユニット307が熱により膨張した場合に、z方向、すなわち、図平面に対して垂直方向に第1の光軸307.3の横方向の変位は生じない。 By the support element 307.6,307.7,307.8 a first optical axis 307.3 is arranged on the same plane, when the optical element unit 307 is expanded by heat, z-direction, That is, no lateral displacement of the first optical axis 307.3 perpendicularly to the plane of the drawing.

このような開口面308.4を一定の基準位置に保持することは、光学露光装置301の結像能力のためにも有利な場合がある。 Such an aperture plane 308.4 be held constant reference position may be advantageous for the imaging capabilities of optical exposure apparatus 301.

この実施形態によっても図1〜図4を参照して説明した本発明による方法を実施することができることがわかる。 This embodiment method it can be seen that implementing according even present invention described with reference to FIGS by. したがって、この点については上記の説明を参照されたい。 Accordingly, on this point see above description.

以上には、第2の並進方向および第3の並進方向がいずれも軸平面に対して角度γ =γ =γだけ傾斜している本発明の実施形態を説明した。 Above it explained the embodiments of the present invention in which the second translation direction and a third translational direction is inclined by an angle γ 1 = γ 2 = γ relative to both the axial plane. しかしながら、本発明の他の実施形態では、第1、第2および第3の並進方向は、これら全ての並進方向の共通の交差位置が保持される限りは、任意の特定の方向を向いている必要はなく、空間的に任意に位置付けられていてもよいことは自明であり、このことを強調しておく。 However, in other embodiments of the present invention, first, second and third translational direction is common intersection of all these translation directions as long as is maintained, facing any particular direction We need not, be self-evident that may be positioned to spatially optionally, it is emphasized this. 特に、角度γ と角度γ とは、必ずしも同一でなくてもよいことは自明である。 In particular, the angle gamma 1 and the angle gamma 2, it is obvious that it is not necessarily the same. さらに本発明の別の実施形態によれば、これら全ての支持素子の全ての制約を受けない並進方向の共通の交差位置が保持される限りは、第1、第2および第3の並進方向を有する第1、第2および第3の支持素子よりも多数の支持素子が設けられていてもよいことがわかる。 According to yet another embodiment of the present invention, as long as the common intersection of the translation direction is not subjected to any constraints of all these support elements it is held, the first, second and third translational direction first, it can be seen that may have a number of support elements is provided than the second and third support elements having.

以上には、光学素子がもっぱら屈折素子である本発明の実施形態を説明したが、本発明の他の実施形態では、反射素子、屈折素子または回析素子またこれらの任意の組み合わせを光学素子ユニットの光学素子のために用いてもよいことは自明である。 The above has described the embodiment of the invention where the optical element is exclusively refractive elements, in other embodiments of the present invention, reflective elements, refractive elements, or diffractive element also optical element unit any combination thereof it may be used for the optical element that is self-evident.

さらに、本発明の他の実施形態では、画像平面、物体平面または開口面以外のほかに任意の光学素子ユニット基準を選択し、各関連光学素子ユニットが熱により膨張した場合にこの光学素子ユニット基準を所定の基準位置に保持することができることは自明である。 Furthermore, in other embodiments of the present invention, the image plane, then select any of the optical element unit reference to other than the object plane or aperture plane, the optical element unit reference when the relevant optical element unit is swollen by heat it is obvious that can be held to a predetermined reference position.

以上には、光学素子ユニットがもっぱら照明系部材である本発明実施形態を説明したが、本発明を、他の光学素子ユニット、例えば投影システムなどの光学素子ユニットを支持する場合にも用いることができることは自明である。 The above has described the present invention embodiment the optical element unit is exclusively illumination system members, the present invention, another optical element unit, for example, also be used in case of supporting the optical element units such as the projection system it is obvious that you can. さらに、本発明をマイクロリソグラフィ以外の光学用途において用いてもよいことは自明である。 Furthermore, that the present invention may be used in optical applications other than microlithography it is obvious.

Claims (43)

  1. 光学素子ユニットと、 An optical element unit,
    第1の支持構造部と、 A first support structure,
    前記光学素子ユニットの外部に位置する外部基準とを備える光学素子装置において、 In the optical element unit and an external reference located outside of the optical element unit,
    前記光学素子ユニットが、光学素子群と、該光学素子ユニットの機能平面および光学平面のうちのいずれかである少なくとも1つの光学素子ユニット基準と、前記光学素子群を支持する第2の支持構造部とを備え、 The optical element unit, and an optical element group, and at least one optical element unit reference is one of a functional plane and the optical plane of the optical element unit, a second support structure for supporting the optical element group It equipped with a door,
    前記光学素子群が、前記光学素子群の光軸を規定する複数の光学素子を備え、 The optical element group comprises a plurality of optical elements defining an optical axis of the optical element group,
    前記光学素子ユニット基準が、前記外部基準に対して基準位置を有し、 The optical element unit reference has a reference position with respect to the external reference,
    前記第1の支持構造部が、 前記光軸に沿った面に配置された複数の支持素子によって前記光学素子ユニットを支持し、 It said first support structure is, the optical element unit is supported by a plurality of support elements arranged in a plane along the optical axis,
    前記複数の支持素子が、前記光学素子ユニットおよび前記第1の支持構造部の少なくともいずれか一方が熱膨張した場合に記基準位置がなくとも前記光軸に沿って実質的に不変のままであるように前記光学素子ユニットを並進方向に沿って実質的に自由に動くように支持し、前記並進方向が全て前記光学素子ユニット基準における1つの交差位置で交差するように配置された光学素子装置。 It said plurality of support elements, remains substantially unchanged along the optical axis even the at least one of the optical element unit and the first support structure is no less the previous SL reference position when thermal expansion as is, the optical element unit is supported so as to move substantially freely along the translational direction, are arranged such that the translation direction intersect at a single intersection of all the optical element unit reference optical element arrangement.
  2. 請求項1に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 1,
    前記複数の支持素子が、少なくとも3つの支持素子を備えている光学素子装置。 It said plurality of support elements, optical element arrangement comprising at least three support elements.
  3. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 2,
    前記少なくとも3つの支持素子のうちの少なくとも1つが、前記並進方向に沿って弾性的であり、かつ前記並進方向に対して直交方向に実質的に堅固である少なくとも1つの構成要素を備えている光学素子装置。 Wherein at least one of the at least three support elements, and a along said translational direction is resilient, and at least one component which is substantially rigid in a direction perpendicular to the translation direction optical element arrangement.
  4. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 3,
    前記少なくとも1つの構成要素が板ばね素子を備えている光学素子装置。 Wherein at least one component is an optical element device comprising a leaf spring element.
  5. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 2,
    前記少なくとも3つの支持素子のうちの少なくとも1つが、少なくとも1つの制約を受けない回転自由度を提供する光学素子装置。 At least one of the at least three support elements, but the optical element device to provide rotational degrees of freedom does not receive at least one constraint.
  6. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 2,
    前記少なくとも3つの支持素子のそれぞれが、前記並進方向に沿ってのみ実質的に自由な動きを提供する光学素子装置。 Each optical element device to provide a substantially free movement only along the translation direction of said at least three support elements.
  7. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 2,
    前記少なくとも3つの支持素子の前記並進方向が、実質的に同一平面上に位置するように配置されている光学素子装置。 The translation direction of said at least three support elements, essentially optical element device being arranged to be positioned on the same plane.
  8. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 2,
    前記少なくとも3つの支持素子が、第1の支持素子、第2の支持素子および第3の支持素子を備えており、 Wherein the at least three support elements, the first support element comprises a second supporting element and the third support element,
    前記第1の支持素子が、第1の並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供し、 Said first support element, to provide a substantially free movement along the first translation direction,
    前記第2の支持素子が、第2の並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供し、 The second supporting element, provides a substantially free movement along the second translational direction,
    前記第3の支持素子が、第3の並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供し、 Said third support element, to provide a substantially free movement along a third translational direction,
    前記第1の並進方向が、前記光軸と実質的に平行であり、 The first translation direction is substantially parallel to the optical axis,
    前記第1の並進方向と前記光軸とが、軸平面を規定しており、 And the first translational direction and the optical axis, and defining the axial plane,
    前記第2の並進方向および前記第3の並進方向の少なくともいずれか一方が、前記軸平面に対して傾斜している光学素子装置。 At least one of the second translational direction and the third translational direction, the optical element unit that is inclined with respect to the axial plane.
  9. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 2,
    前記第2の並進方向が、前記軸平面に対して所定の角度だけ傾斜しており、 The second translation direction, is inclined by a predetermined angle with respect to the axial plane,
    前記光学素子ユニットが、前記光軸に沿った第1の縦方向熱膨張率と、前記光軸に対して横方向の第1の横方向横熱膨張率とを有し、 The optical element unit includes a first longitudinal coefficient of thermal expansion along the optical axis, and a first lateral transverse thermal expansion coefficient in the transverse direction relative to the optical axis,
    前記第1の支持構造部が、前記光軸に沿った第2の縦方向熱膨張率と、前記光軸に対して横方向の第2の横方向横熱膨張率とを有し、 It said first support structure comprises a second longitudinal coefficient of thermal expansion along the optical axis, and a second lateral transverse thermal expansion coefficient in the transverse direction relative to the optical axis,
    前記第1の角度が、前記第1の縦方向熱膨張率、前記第1の横方向熱膨張率、前記第2の縦方向熱膨張率および前記第2の横熱膨張率のうちの少なくとも2つの間の差を補償するように構成されている光学素子装置。 Wherein the first angle, said first longitudinal thermal expansion coefficient, the first transverse thermal expansion coefficient, at least two of said second longitudinal thermal expansion and the second lateral thermal expansion One of the optical element unit that is configured to compensate the difference between.
  10. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 9,
    前記角度が、前記第1の縦方向熱膨張率、前記第1の横方向熱膨張率、前記第2の縦方向熱膨張率および前記第2の横方向熱膨張率のうちの少なくとも2つと間の前記差ならびに所望の基準位置の関数である光学素子装置。 It said angle, said first longitudinal thermal expansion coefficient, the first transverse thermal expansion coefficient, between at least two and of said second longitudinal thermal expansion and the second lateral thermal expansion optics device is the difference and the desired function of the reference position of the.
  11. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 9,
    前記外部基準が、前記第1の支持構造部に対して固定した関係を有し、 The external reference has a fixed relationship to said first support structure,
    前記角度が、前記第1の縦方向熱膨張率と前記第1の横方向熱膨張率と間の比の関数である光学素子装置。 It said angle, the optical element unit is a function of the ratio between the first longitudinal thermal expansion and said first transverse thermal expansion.
  12. 請求項に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 1,
    前記光学素子ユニット基準が、 記光学素子群の画像平面、前記光学素子群の焦点、および前記光学素子ユニットの開口面のうちのいずれかである光学素子装置。 The optical element unit reference is prior Symbol optical element group of the image plane, the focal point of the optical element group, and an optical element unit is any one of the opening surface of the optical element unit.
  13. 請求項1に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 1,
    前記光学素子ユニットが、光学露光装置の照明系の少なくとも一部を形成する光学素子装置。 The optical element unit, the optical element unit that forms at least part of the illumination system of the optical exposure apparatus.
  14. 請求項1に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 1,
    前記光学素子ユニットが第1の光学素子ユニットであり、前記光学素子群が第1の光学素子群であり、前記光学素子ユニット基準が第1の光学素子ユニット基準であり、 The optical element unit is a first optical element unit, wherein an optical element group is first optics group, wherein the optical element unit reference is a first optical element unit basis,
    第2の光学素子ユニットが前記第1の光学素子ユニットに関連付けられており、 The second optical element unit is associated with the first optical element unit,
    前記第2の光学素子ユニットが第2の光学素子群を備え、該第2の光学素子群が、前記外部基準を形成する第2の光学素子ユニット基準を有している光学素子装置。 The second optical element unit comprises a second optical element group, the optical element group of said second and has an optical element device having a second optical element unit reference for forming said external reference.
  15. 請求項14に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 14,
    前記第1の光学素子ユニット基準が、前記第1の光学素子ユニットの機能平面および光学平面のうちのいずれかであり、 It said first optical element unit criteria is either of the functional plane and the optical plane of the first optical element unit,
    前記第2の光学素子ユニット基準が、前記第2の光学素子ユニットの機能平面および光学平面のうちのいずれかである光学素子装置。 The second optical element unit criterion, the optical element unit is one of a functional plane and the optical plane of the second optical element unit.
  16. 請求項14に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 14,
    前記第2の光学素子ユニットが第3の支持構造部によって支持され、 The second optical element unit is supported by the third supporting structure,
    前記第3の支持構造部が前記第1の支持構造部を支持している光学素子装置。 Optical element device the third support structure is supporting the first support structure.
  17. 請求項14に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 14,
    前記第1の光学素子ユニット基準が前記第1の光学素子群の物体平面であり、前記第2の光学素子ユニット基準が前記第2の光学素子群の画像平面であるか、または、 It said first optical element unit reference is the object plane of the first optics group, or the second optical element unit reference is the image plane of the second optics group, or,
    前記第1の光学素子ユニット基準が前記第1の光学素子群の画像平面であり、前記第2の光学素子ユニット基準が、前記第2の光学素子群の物体平面である光学素子装置。 It said first optical element unit reference is the image plane of the first optics group, wherein the second optical element unit criterion, the optical element unit is an object plane of the second optics group.
  18. 請求項14に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 14,
    前記第2の光学素子ユニットが、光学露光装置の照明系の少なくとも一部を形成する光学素子装置。 The second optical element unit, the optical element unit that forms at least part of the illumination system of the optical exposure apparatus.
  19. 請求項1に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 1,
    前記光学素子ユニットが第1の光学素子ユニットであり、前記光学素子群が第1の光学素子群であり、前記光軸が第1の光軸であり、前記光学素子ユニット基準が第1の光学素子ユニット基準であり、前記基準位置が第1の基準位置であり、前記複数の支持素子が第1の複数の支持素子であり、 The optical element unit is a first optical element unit, said optical element group is a first optical element group, wherein an optical axis a first optical axis, said optical element unit reference is first optical an element unit basis, the reference position is a first reference position, said plurality of supporting elements is a first plurality of support elements,
    第2の光学素子ユニットおよび第3の支持構造部が設けられており、 Support structure of the second optical element unit and the third are provided,
    前記光学素子ユニットが、第2の光学素子群と、該第2の光学素子群に関連する少なくとも1つの第2の光学素子ユニット基準と、前記光学素子群を支持する第4の支持構造部とを備え、 The optical element unit, a second optics group, and at least one second optical element unit reference associated with the second optical element group, and the fourth supporting structure for supporting the optical element group equipped with a,
    前記第2の光学素子群が、前記光学素子群の光軸を規定する少なくとも1つの第2の光学素子を備え、 The second optical element group comprises at least one second optical element defining an optical axis of the optical element group,
    前記第2の光学素子ユニット基準が、前記外部基準に対して第2の光学基準位置を有し、 The second optical element unit basis has a second optical reference position with respect to the external reference,
    前記第3の支持構造部が、第2の複数の支持素子によって前記光学素子ユニットを支持し、 Said third support structure section, and supports the optical element unit by the second plurality of support elements,
    前記第2の複数の支持素子が、前記第2の光学素子ユニットおよび前記第3の支持構造部のうちの少なくともいずれか一方が熱膨張した場合に、前記第2の光学基準位置が、少なくとも前記第2の光軸に沿って実質的に不変のままであるように前記第2の光学素子ユニットを支持するように配置されている光学素子装置。 It said second plurality of support elements, if at least one of said second optical element unit and the third support structure are thermally expanded, the second optical reference position, at least the the second optical element device being arranged to support said second optical element unit to remain substantially unchanged along the optical axis.
  20. 請求項19に記載の光学素子装置において、 In the optical element according to claim 19,
    前記第2の光学素子ユニットが、光学露光装置の照明系の少なくとも一部を形成する光学素子装置。 The second optical element unit, the optical element unit that forms at least part of the illumination system of the optical exposure apparatus.
  21. パターンを収容するように構成されたマスクユニットと、 A mask unit configured to receive a pattern,
    基板を収容するように構成された基板ユニットと、 A substrate unit adapted to receive the substrate,
    前記パターンの画像を前記基板に転写するように構成された光学投影ユニットと、 An optical projection unit configured image of the pattern so as to transfer to said substrate,
    前記マスクユニット内に収容された前記パターンを照明するように構成された照明ユニットの一部を形成する請求項1に記載の光学素子装置とを備える光学結像装置。 Optical imaging apparatus and an optical element device according to claim 1 which forms part of the configured lighting unit so as to illuminate the pattern contained in the mask unit.
  22. 光学素子ユニットを支持する方法において、 A method for supporting an optical element unit,
    光学素子ユニットと、前記光学素子ユニットの外部に位置する外部基準とを設けるステップであって、 Comprising the steps of: providing an optical element unit, and an external reference located outside of the optical element unit,
    前記光学素子ユニットに、光学素子群および該光学素子ユニットの機能平面および光学平面のうちのいずれかである少なくとも1つの光学素子ユニット基準を設け、 The optical element unit, provided at least one optical element unit reference is one of a functional plane and optical plane of the optical element group and the optical element unit,
    前記光学素子群に、該光学素子群の光軸を規定する複数の光学素子を設け、 The optical element group, a plurality of optical elements defining an optical axis of the optical element group,
    前記光学素子ユニット基準に、前記外部基準に対する基準位置を設けるステップと、 The optical element unit basis, comprising the steps of providing a reference position relative to the external reference,
    前記光学素子ユニットおよび前記第1の支持構造部のうちの少なくともいずれか一方が熱膨張した場合に、前記基準位置が少なくとも前記光軸に沿って実質的に不変のままであるように、前記光学素子ユニットを、前記並進方向に沿って実質的に自由に動くように、前記光軸に沿った面に配置されるとともに並進方向が全て前記光学素子ユニット基準における1つの交差位置で交差するような支持構造部で支持するステップとを含む方法。 When said at least one of the optical element unit and the first support structure are thermally expanded, so that the reference position is left substantially unchanged along at least the optical axis, the optical the element unit, wherein to move substantially freely along the direction of translation, such as translation direction while being disposed along said optical axis plane intersect at one intersection of all the optical element unit reference method comprising the steps of supporting the support structure.
  23. 請求項22に記載の方法において、 The method of claim 22,
    前記光学素子ユニットを支持するステップが、少なくとも3つの支持位置で前記光学素子ユニットを支持するステップを含む方法。 Method steps for supporting said optical element unit, which includes the step of supporting the optical element unit in at least three support positions.
  24. 請求項23に記載の方法において、 The method of claim 23,
    前記光学素子ユニットを支持するステップが、それぞれの前記支持位置で並進方向に沿って実質的に制約を受けない動きを提供するステップを含む方法。 The method comprising the step of supporting the optical element unit, for providing a movement which does not undergo substantial constraints along the translational direction in each of the support position.
  25. 請求項24に記載の方法において、 The method according to claim 24,
    前記光学素子ユニットを支持するステップが、前記並進方向に沿って弾性的であり、かつ前記並進方向に対して横方向に実質的に堅固である少なくとも1つの構成要素を有する少なくとも1つの支持素子を設けるステップを含む方法。 The step of supporting the optical element unit is a resilient along said translational direction, and at least one support element having at least one component which is substantially rigid in a direction transverse to the translation direction method comprising the step of providing.
  26. 請求項25に記載の方法において、 The method of claim 25,
    前記構成要素のうちの少なくとも1つに板ばね素子を設ける方法。 A method of providing a leaf spring element in at least one of said components.
  27. 請求項24に記載の方法において、 The method according to claim 24,
    前記光学素子ユニットを支持するステップが、少なくとも1つの前記支持位置で、少なくとも1つの制約を受けない回転自由度を提供するステップを含む方法。 Wherein the step of supporting the optical element units, at least one of said support position, the method comprising the step of providing a rotational degree of freedom does not receive at least one constraint.
  28. 請求項24に記載の方法において、 The method according to claim 24,
    前記光学素子ユニットを支持するステップが、前記支持位置それぞれで前記並進方向に沿ってのみ実質的に自由な動きを提供するステップを含む方法。 Wherein the step of supporting the optical element units, the method comprising the steps of providing a substantially free movement only along said translational direction in each of the supporting position.
  29. 請求項24に記載の方法において、 The method according to claim 24,
    前記支持位置における前記並進方向を、実質的に同一平面上に位置するようにに配置する方法。 Method for assigning the translation direction in the support position, so as to be positioned substantially coplanar.
  30. 請求項24に記載の方法において、 The method according to claim 24,
    前記光学素子ユニットを支持するステップが、第1の並進方向、第2の並進方向および第3の並進方向に沿って実質的に自由な動きを提供するステップを含み、 The step of supporting the optical element unit, comprises providing a substantially free movement along the first translation direction and the second translation direction and a third translational direction,
    前記第1の並進方向を前記光軸に対して実質的に平行にし、 Substantially parallel to the first translational direction with respect to the optical axis,
    前記第1の並進方向および前記光軸により軸平面を規定し、 Defining an axis plane by said first translation direction and the optical axis,
    前記第2の並進方向および前記第3の並進方向のうちの少なくとも一方を、前記軸平面に対して傾斜させる方法。 At least one of the second translational direction and the third translational direction, the method of tilting with respect to the axial plane.
  31. 請求項30に記載の方法において、 The method of claim 30,
    前記第2の並進方向を前記軸平面に対して所定の角度だけ傾斜させ、 Is inclined by a predetermined angle with respect to the axial plane of the second translational direction,
    前記光学素子ユニットに、前記光軸に沿って第1の縦方向熱膨張率と、前記光軸に対して横方向の第1の横方向熱膨張率とを設け、 The optical element unit, a first longitudinal coefficient of thermal expansion along the optical axis, a first transverse thermal expansion coefficient in the transverse direction relative to the optical axis is provided,
    前記支持構造部に、前記光軸に沿った第2の縦方向熱膨張率と前記光軸に対して横方向の第2の横方向熱膨張率とを設け、 It said support structure is provided with a second lateral thermal expansion transverse to the second longitudinal thermal expansion coefficient and the optical axis along the optical axis,
    前記角度を、前記第1の縦方向熱膨張率、前記第1の横方向熱膨張率、前記第2の縦方向熱膨張率および前記第2の横熱膨張率のうちの少なくとも2つの間の差を補償するように構成する方法。 Said angle, said first longitudinal thermal expansion coefficient, the first transverse thermal expansion coefficient, between at least two of said second longitudinal thermal expansion and the second lateral thermal expansion how configured to compensate for the difference.
  32. 請求項31に記載の方法において、 The method of claim 31,
    前記角度を、前記第1の縦方向熱膨張率、前記第1の横方向熱膨張率、前記第2の縦方向熱膨張率および前記第2の横方向熱膨張率のうちの少なくとも2つと間の前記差の関数とする方法。 During the angle, the first longitudinal thermal expansion coefficient, the first transverse thermal expansion coefficient, at least two and of said second longitudinal thermal expansion and the second lateral thermal expansion how a function of the difference.
  33. 請求項31に記載の方法において、 The method of claim 31,
    前記外部基準を、前記支持構造部に対して固定した関係とし、 The external reference, a fixed relationship to said support structure,
    前記角度を、前記第1の縦方向熱膨張率と前記第1の横方向熱膨張率との比の関数とする方法。 The angle method as a function of the ratio of the first longitudinal thermal expansion coefficient between the first transverse thermal expansion.
  34. 請求項22に記載の方法において、 The method of claim 22,
    前記光学素子ユニット基準を、 記光学素子群の画像平面、前記光学素子群の焦点、および前記光学素子ユニットの開口面のうちのいずれかとする方法。 Wherein the optical element unit basis, before Symbol optical element group of the image plane, the focal point of the optical element group, and the method according to any of the open surface of the optical element unit.
  35. 請求項22に記載の方法において、 The method of claim 22,
    前記光学素子ユニットにより、光学露光装置の照明系の少なくとも一部を形成する方法。 By the optical element unit, a method of forming at least a part of the illumination system of the optical exposure apparatus.
  36. 請求項22に記載の方法において、 The method of claim 22,
    前記光学素子ユニットを第1の光学素子ユニットとし、前記光学素子群を第1の光学素子群とし、前記光学素子ユニット基準を第1の光学素子ユニット基準とし、 Wherein the optical element unit and the first optical element unit, said optical element group and the first optical element group, said optical element unit reference to the first optical element unit basis,
    第2の光学素子ユニットを前記第1の光学素子ユニットに関連付け、 Associating a second optical element unit in the first optical element unit,
    前記第2の光学素子ユニットに、第2の光学素子群を設け、該第2の光学素子群に、前記外部基準を形成する第2の光学素子ユニット基準を設ける方法。 How the second optical element unit, the second optical element group provided on the second optical element group, providing a second optical element unit reference for forming said external reference.
  37. 請求項36に記載の方法において、 The method according to claim 36,
    前記第1の光学素子ユニット基準を、前記第1の光学素子ユニットの機能平面および光学平面のうちの一方とし、 Said first optical element unit basis, one with and one of the functional plane and the optical plane of the first optical element unit,
    前記第2の光学素子ユニット基準を、前記第2の光学素子ユニットの機能平面および光学平面のうちのいずれか一方とする方法。 Wherein the second optical element unit basis, either a method of one of functional plane and the optical plane of the second optical element unit.
  38. 請求項36に記載の方法において、 The method according to claim 36,
    前記第2の光学素子ユニットを第3の支持構造部によって支持し、 The second optical element unit is supported by the third supporting structure,
    前記第3の支持構造部により前記第1の支持構造部を支持する方法。 How to support the first support structure by said third supporting structure.
  39. 請求項36に記載の方法において、 The method according to claim 36,
    前記第1の光学素子ユニット基準を前記第1の光学素子群の物体平面とし、前記第2の光学素子ユニット基準を前記第2の光学素子群の画像平面とするか、または、 Wherein the first optical element unit reference the object plane of the first optics group, or the second optical element unit reference the image plane of the second optics group, or,
    前記第1の光学素子ユニット基準を前記第1の光学素子群の画像平面とし、前記第2の光学素子ユニット基準を前記第2の光学素子群の物体平面とする方法。 Wherein the first optical element unit reference the image plane of the first optics group, a method of the second optical element unit reference the object plane of the second optics group.
  40. 請求項36に記載の方法において、 The method according to claim 36,
    前記第2の光学素子ユニットにより、光学露光装置の照明系の少なくとも一部を形成する方法。 Wherein the second optical element unit, a method of forming at least a part of the illumination system of the optical exposure apparatus.
  41. 請求項22に記載の方法において、 The method of claim 22,
    前記光学素子ユニットを第1の光学素子ユニットとし、前記光学素子群を第1の光学素子群とし、前記光軸を第1の光軸とし、前記光学素子ユニット基準を第1の光学素子ユニット基準とし、前記基準位置を第1の基準位置とし、 Wherein the optical element unit and the first optical element unit, said optical element group and the first optical element group, the optical axis as a first optical axis, said optical element unit reference first optical element unit reference and then, the reference position and the first reference position,
    第2の光学素子ユニットを設け、 A second optical element unit provided,
    前記光学素子ユニットに、第2の光学素子群と、該第2の光学素子群に関連する少なくとも1つの第2の光学素子ユニット基準とを設け、 The optical element unit, and a second optics group, and at least one second optical element unit reference associated with the second optical element group is provided,
    前記第2の光学素子群に、前記光学素子群の光軸を規定する少なくとも1つの第2の光学素子を設け、 The second optics group, provided at least one second optical element defining an optical axis of the optical element group,
    前記第2の光学素子ユニットおよび前記支持構造部のうちの少なくとも一方が熱膨張した場合に、前記第2の光学素子ユニット基準と前記外部基準との間の第2の光学基準位置が、少なくとも前記第2の光軸に沿って実質的に不変のままであるように、前記光学素子ユニットを支持構造部によって支持する方法。 Wherein when at least one of the second optical element unit and the support structure are thermally expanded, the second optical reference position between said external reference and the second optical element unit basis, at least the to remain substantially unchanged along the second optical axis, a method for supporting the optical element unit by the support structure.
  42. 請求項41に記載の方法において、 The method according to claim 41,
    前記第2の光学素子ユニットにより、光学露光装置の照明系の少なくとも一部を形成する方法。 Wherein the second optical element unit, a method of forming at least a part of the illumination system of the optical exposure apparatus.
  43. 光学結像方法において、 In the optical imaging method,
    パターン、基板、前記パターンの画像を前記基板に転写するように構成された光学投影ユニットおよび前記パターンを照明するように構成された照明ユニットを設け、該照明ユニットに光学素子ユニットを設けるステップと、 Pattern, a substrate, wherein the pattern image provided configured lighting unit to illuminate the configured optical projection unit and the pattern to be transferred onto the substrate, comprising the steps of providing an optical element unit in the lighting unit,
    請求項22による方法を用いて前記光学素子ユニットを支持するステップと、 A step of supporting the optical element unit by using the method according to claim 22,
    前記パターンを照明するための前記照明ユニットを用いて前記パターンを前記基板に転写するステップとを含む方法。 Method comprising the steps of transferring the pattern into the substrate using the illumination unit for illuminating the pattern.
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