JP5036444B2 - 光導波路構造体とその製造方法および光モジュール - Google Patents
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Description
クラッド用ドライフィルム31a(クラッド用ドライフィルム32a):低屈折率材料
(a)メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/メタクリル酸=55/8/15/22の共重合割合(重量基準)で合成した共重合体60重量部
(b)ビスフェノールFEO変性ジアクリレート(東亜合成(株)製「アロニックスM−208」)15重量部
(c)エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート1001」)5重量部
(d)TPP(トリフェニルホスフェート)5重量部
(e)トリブロモフェニルアクリレート(第一工業製薬(株)製「BR−30」)15重量部
(f)ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア819」)1重量部
上記の成分(a)〜(f)を混合して光硬化型樹脂ワニスを調製し、このワニスを支持フィルムである厚み25μmのPETフィルム上に、乾燥後に所望の厚みとなるように塗布し、65℃で10分乾燥することにより、有機溶剤を除去すると共に、Bステージ状態の感光性ドライフィルムとする。その後、保護フィルムとして、積水化学工業(株)製プロテクト(♯6221F)フィルム(厚み50μm)をラミネートして、クラッド用ドライフィルム31a(クラッド用ドライフィルム32a)を挟んだ3層構造シートを作製する。
コア用ドライフィルム40a:高屈折率材料
(a)メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/メタクリル酸=55/8/15/22の共重合割合(重量基準)で合成した共重合体30重量部
(b)ビスフェノールFEO変性ジアクリレート(東亜合成(株)製「アロニックスM−208」)30重量部
(c)エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート1001」)20重量部
(d)TPP(トリフェニルホスフェート)5重量部
(e)トリブロモフェニルアクリレート(第一工業製薬(株)製「BR−30」)15重量部
(f)ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア819」)1重量部
上記の成分(a)〜(f)を混合して光硬化型樹脂ワニスを調製し、このワニスを支持フィルムである厚み25μmのPETフィルム上に、乾燥後に所望の厚みとなるように塗布し、65℃で10分乾燥することにより、有機溶剤を除去すると共に、Bステージ状態の感光性ドライフィルムとする。その後、保護フィルムとして、積水化学工業(株)製プロテクト(♯6221F)フィルム(厚み50μm)をラミネートして、コア用ドライフィルム40aを挟んだ3層構造シートを作製する。
2 光導波路構造体
10 基板
11 配線
20 光素子
30 クラッド部
31 下層クラッド部
31a クラッド用ドライフィルム
32 上層クラッド部
32a クラッド用ドライフィルム
40 コア部
40a コア用ドライフィルム
41 コア形成部分
42 端部
50 反射面
51 穴部
60 支持フィルム
61 保護フィルム
70 剥離用ロール
71 圧着ゴムロール
72 圧着ゴムロール
80 撮像装置
81 フォトマスク
Claims (1)
- 基板上に実装された光素子と光学的に結合する光導波路構造体の製造方法であって、光素子が実装された基板上に、光硬化型樹脂または熱硬化型樹脂からなるクラッド用ドライフィルムを、光素子を覆うようにラミネートし、その後、クラッド用ドライフィルムを硬化して下層クラッド部を形成する工程と、下層クラッド部の上に、光硬化型樹脂からなるコア用ドライフィルムをラミネートする工程と、コア形成部分の形状に対応する露光パターンを有するフォトマスクを介してコア用ドライフィルムに光を露光して現像し、コア部を形成する工程と、コア部が形成された下層クラッド部の上に、光硬化型樹脂または熱硬化型樹脂からなるクラッド用ドライフィルムをラミネートし、その後、クラッド用ドライフィルムを硬化して上層クラッド部を形成する工程と、光素子の上方に、光素子とコア部とを光学的に結合する反射面となる傾斜面を有する穴部を形成する工程とを含むことを特徴とする光導波路構造体の製造方法。
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JP2007201359A JP5036444B2 (ja) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | 光導波路構造体とその製造方法および光モジュール |
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