JP4999256B2 - 改善された出力安定性を有するx線ソースアセンブリ、およびその流体ストリーム分析の適用 - Google Patents
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Description
「X-RAY TUBE AND METHOD AND APPARATUS FOR ANALYZING FLUID STREAMS USING X-RAYS」、Radleyら、米国特許仮出願第60/336,584号、20001年12月4日出願(整理番号0444.045P)
「A METHOD AND APPARATUS FOR DIRECTING X-RAYS」、Radley、米国特許仮出願第60/383,990号、2002年5月29日出願(整理番号0444.055P)
「X-RAY SOURCE ASSEMBLY HAVING ENHANCED OUTPUT STABILITY」、Radleyら、米国特許仮出願第60/398,965号、2002年6月26日出願(整理番号0444.056P)
「METHOD AND DEVICE FOR COOLING AND ELECTRICALLY INSULATING A HIGH-VOLTAGE、HEAT-GENERATING COMPONENT」、Radley、米国特許仮出願第60/398,968号、2002年6月26日出願(整理番号0444.057P)
「AN ELECTRICAL CONNECTOR、A CABLE SLEEVE、AND A METHOD FOR FABRICATING AN ELECTRICAL CONNECTION」、Radley、米国特許仮出願第10/206,531号、2002年6月26日出願(整理番号0444.058)
「DIAGNOSING SYSTEM FOR AN X-RAY SOURCE ASSEMBLY」、Radleyら、米国特許仮出願第60/398,966号、2002年6月26日出願(整理番号0444.065P)
本発明の他の熱散逸態様によれば、図10は、本発明の一態様による高誘電強度ならびに熱伝導冷却および電気絶縁装置を有するX線ビームアセンブリ1100の断面図を示す。X線ビームアセンブリ1100は、透過窓1110を有するガラスまたはセラミックで通常形成される真空気密X線管105を含むX線不透過性エンクロージャ1160を含む。図10では、エンクロージャ1160は、部分的にのみ示されているが、エンクロージャ1160は、通常、X線ビームアセンブリ1100全体を囲むことが可能であることを理解されたい。X線管1105は、高電圧(HV)アノード125に対向して配置される電子銃1115を収容する。電子銃1115は、当技術分野では周知であるように、電圧勾配のために、電子ストリームの形態の電子、すなわち電子ビーム(eビーム)1120を放出する装置である。HVアノード1125は、当技術分野においてやはり周知であるように、電子ストリームがその上に当たり、その結果、X線放射1130、すなわちX線を生成する対象として作用する。
上記で一般的に解説したように、本発明は、一態様において、たとえば集束X線ビームまたは視準X線ビームを提供し、かつある範囲の動作条件にわたって安定な出力を有するX線ソースアセンブリを提供する。この安定な出力は、一態様では、動作条件の1つまたは複数の変化にもかかわらず、アセンブリの出力構造に対するアノードソーススポットの位置決めを制御する制御システムを介して得られる。たとえば、アノードソーススポットの位置は、アノードの電力レベルの変化またはX線ソースアセンブリの周囲温度の変化にもかかわらず、出力構造に対して一定に維持することができる。
Claims (18)
- X線を生成する、電子が上に当たるソーススポットを備えたアノードを有するX線管と、
前記アノードによって生成されるX線を収集し、その方向を変えるX線光学機器であって、X線の焦点を有するX線光学機器と、
X線が前記X線光学機器によって放出される元である、前記X線管を囲むハウジングと、
前記アノードの電力レベルを取得する手段と、
前記アノードのソーススポットの位置と前記X線光学機器の焦点との双方の間での前記電子の放射方向における相対的な位置合せを、前記取得されたアノードの電力レベルについての基準温度を用いて制御することによって、前記X線光学機器のX線出力強度を制御する制御システムと、
を備え、
前記X線光学機器は前記ハウジングに固定され、
前記制御システムは、前記X線ソースアセンブリの少なくとも1つの動作条件の変化にもかかわらず、X線出力強度を維持することができる
ことを特徴とするX線ソースアセンブリ。 - 前記制御システムは、前記X線光学機器のX線出力強度を監視するセンサ、および監視X線出力強度を使用して前記アノードおよび前記X線光学機器の少なくとも一方の位置を制御する制御装置をさらに含む
ことを特徴とする請求項1に記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記制御システムは、少なくとも1つのアクチュエータを備え、前記少なくとも1つのアクチュエータは、前記X線光学機器に対する前記アノードの位置の調節および前記X線光学機器からのX線出力強度の制御を実施する少なくとも1つの温度アクチュエータまたはメカニカルアクチユエータを備えた
ことを特徴とする請求項2に記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記X線光学機器は、ポリキャピラリ光学機器、または集束結晶の形態の集束光学機器および視準光学機器の一方を備えた
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記少なくとも1つの動作条件は、アノードの電力レベル、前記X線ソースアセンブリの周囲温度、および/または前記線ソースアセンブリのハウジングの温度を備えた
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記制御システムは、前記X線光学機器のX線出力強度を制御する自動制御システムを備え、前記制御システムは、フィードバックまたは予測に基づく
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記制御システムは、
アノードの電力レベルを得る手段と、
アノードの温度、前記アノードを囲むハウジングの温度、および前記X線ソースアセンブリの周囲温度の少なくとも1つを得る手段と、
前記得られたアノードの電力レベルについて基準温度を決定する手段と、
前記アノードの温度、前記ハウジングの温度または前記周囲温度のうちの少なくとも一つと前記基準温度を使用して、前記X線光学機器に対するアノードのソーススポットの位置を制御する手段とをさらに含む
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記X線管を少なくとも部分的に閉鎖するハウジングと、
前記ハウジングにおいて前記X線管を取り付ける調節可能取付け手段とをさらに備え、
前記調節可能取付け手段により、前記X線管からのX線の透過を最適にするように、前記ハウジングにおいて前記X線管の位置を調整することが可能になる
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記調節可能取付け手段は、複数のねじ込み固定具を備えた
ことを特徴とする請求項8に記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記X線管を前記ハウジングに対して位置合わせする基準点をさらに備えた
ことを特徴とする請求項8に記載のX線ソースアセンブリ。 - X線を使用して試料を分析する装置と組み合わされた請求項1乃至10のいずれかに記載のX線ソースアセンブリであって、前記装置は、
流体の少なくとも1つの成分にX線蛍光を発生させるために、前記試料をX線に曝露させる手段と、
前記流体の少なくとも1つの特性を決定するために、前記試料からの前記X線蛍光を分析する手段とを備えた
ことを特徴とするX線ソースアセンブリ。 - 前記X線管によって生成される熱を除去するために、前記X線管に熱的に結合された熱伝導性誘電材料
をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記制御システムは、前記アノードの加熱および冷却の少なくとも一方を実施し、それにより、前記X線光学機器に対する前記アノードのソーススポットの位置の調節を実施する温度アクチュエータ、および前記アノードのソーススポットおよび前記X線光学機器の少なくとも一方の位置を調節するメカニカルアクチユエータを含む
ことを特徴とする請求項1に記載のX線ソースアセンブリ。 - 前記制御システムは、前記X線光学機器に対する前記アノードのソーススポットの位置に関するフィードバックを提供する少なくとも1つのセンサをさらに含み、前記少なくとも1つのセンサは、アノードの電力レベルを監視し、アノードの温度を直接または間接に監視し、前記X線ソースアセンブリの周囲温度を測定し、および/または前記ハウジングの温度を測定する少なくとも1つのセンサを備える
ことを特徴とする請求項1に記載のX線ソースアセンブリ。 - X線を提供する方法であって、
電子が上に当たるソーススポットを備えるアノードを含むX線管を有するX線ソースアセンブリを提供するステップと、
前記アノードの電力レベルを取得するステップと、
前記取得されたアノードの電力レベルについての基準温度を用いてX線光学機器に対する前記アノードのソーススポットの位置を制御するステップと、
を備え、
前記X線ソースアセンブリは前記X線管を囲むハウジングを含み、
前記ハウジングには、前記アノードによって生成されるX線を収集し、その方向を変えるX線光学機器であって、X線の焦点を有するX線光学機器が固定され、
前記制御するステップは、前記X線ソースアセンブリの少なくとも1つの動作条件の変化にもかかわらず、前記X線光学機器の焦点と前記アノードのソーススポットの位置との双方の間での前記電子の放射方向における相対的な位置合せを維持することによって前記X線光学機器のX線出力強度を維持することを含む
ことを特徴とする方法。 - 前記制御するステップは、前記X線ソースアセンブリの少なくとも1つの動作条件の変化にもかかわらず、前記X線光学機器に対する前記アノードのソーススポットの位置を維持するために、前記アノードのソーススポットおよび前記X線光学機器の少なくとも一方の位置を自動的に制御することを含む
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記X線光学機器は、ポリキャピラリX線光学機器、または集束結晶の形態の集束X線光学機器および視準X線光学機器の少なくとも1つを備えた
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの動作条件は、アノードの電力レベル、前記X線ソースアセンブリの周囲温度、または前記X線ソースアセンブリのハウジングの温度を含む
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。
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US9324535B2 (en) * | 2006-02-16 | 2016-04-26 | Stellarray, Incorporaated | Self contained irradiation system using flat panel X-ray sources |
US20100189223A1 (en) * | 2006-02-16 | 2010-07-29 | Steller Micro Devices | Digitally addressed flat panel x-ray sources |
US20070189459A1 (en) * | 2006-02-16 | 2007-08-16 | Stellar Micro Devices, Inc. | Compact radiation source |
US20100189222A1 (en) * | 2006-02-16 | 2010-07-29 | Steller Micro Devices | Panoramic irradiation system using flat panel x-ray sources |
JP4559377B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2010-10-06 | 株式会社ジョブ | X線発生装置 |
US7599469B2 (en) * | 2006-04-28 | 2009-10-06 | Cameron International Corporation | Non-intrusive pressure gage |
US7409037B2 (en) * | 2006-05-05 | 2008-08-05 | Oxford Instruments Analytical Oy | X-ray fluorescence analyzer having means for producing lowered pressure, and an X-ray fluorescence measurement method using lowered pressure |
JP5102549B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2012-12-19 | 独立行政法人科学技術振興機構 | X線分析装置及びx線分析方法 |
US20080037706A1 (en) * | 2006-08-08 | 2008-02-14 | Panalytical B.V. | Device and method for performing X-ray analysis |
DE102006062452B4 (de) * | 2006-12-28 | 2008-11-06 | Comet Gmbh | Röntgenröhre und Verfahren zur Prüfung eines Targets einer Röntgenröhre |
SE532723C2 (sv) * | 2007-05-03 | 2010-03-23 | Lars Lantto | Anordning för alstring av röntgenstrålning med stort reellt fokus och behovsanpassat virtuellt fokus |
JP5196872B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2013-05-15 | 株式会社東芝 | X線管用高電圧コネクタ |
US7629593B2 (en) * | 2007-06-28 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation system, device manufacturing method, and radiation generating method |
FR2918501B1 (fr) * | 2007-07-02 | 2009-11-06 | Xenocs Soc Par Actions Simplif | Dispositif de delivrance d'un faisceau de rayons x a haute energie |
US9305735B2 (en) | 2007-09-28 | 2016-04-05 | Brigham Young University | Reinforced polymer x-ray window |
JP5414167B2 (ja) * | 2007-11-02 | 2014-02-12 | 株式会社東芝 | X線管装置 |
US7742566B2 (en) * | 2007-12-07 | 2010-06-22 | General Electric Company | Multi-energy imaging system and method using optic devices |
FR2926924B1 (fr) * | 2008-01-25 | 2012-10-12 | Thales Sa | Source radiogene comprenant au moins une source d'electrons associee a un dispositif photoelectrique de commande |
EP2260294A4 (en) * | 2008-02-25 | 2012-02-08 | X Ray Optical Sys Inc | SAMPLE MODULE WITH SAMPLE FLOWS WINDOW SPLIT, FOR X-RAY ANALYSIS SYSTEM |
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JP5531009B2 (ja) * | 2008-04-11 | 2014-06-25 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | ポリキャピラリ光学系を有するx線発生装置 |
JP5678250B2 (ja) * | 2008-05-09 | 2015-02-25 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | アノードの焦点スポットを放射する少なくとも一つのx線放射線の並進及び/又は回転変位の動きを固定基準位置に対して実施するための集積アクチュエータ手段と、放射されたx線ビームの結果的な平行及び/又は角度シフトを補償するための手段とを具備するx線診断システム |
US8080791B2 (en) | 2008-12-12 | 2011-12-20 | Fei Company | X-ray detector for electron microscope |
FR2939896B1 (fr) | 2008-12-12 | 2011-05-06 | Geoservices Equipements | Dispositif d'emission d'un premier faisceau de photons gamma de haute energie et d'un deuxieme faisceau de photons gamma de plus basse energie, ensemble de mesure et procede associe |
WO2010092516A1 (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Medical viewing system for displaying an x-ray image |
US8130908B2 (en) * | 2009-02-23 | 2012-03-06 | X-Ray Optical Systems, Inc. | X-ray diffraction apparatus and technique for measuring grain orientation using x-ray focusing optic |
JP5740078B2 (ja) * | 2009-03-06 | 2015-06-24 | 株式会社東芝 | X線管装置 |
US8625737B2 (en) * | 2010-02-09 | 2014-01-07 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Sample module with sample stream supported and spaced from window, for X-ray analysis system |
US9244026B2 (en) | 2010-02-10 | 2016-01-26 | Schlumberger Norge As | X-ray fluorescence analyzer |
EA036971B1 (ru) * | 2010-02-10 | 2021-01-21 | Шлюмбергер Норге Ас | Автоматический анализатор бурового раствора |
US8223925B2 (en) | 2010-04-15 | 2012-07-17 | Bruker Axs Handheld, Inc. | Compact collimating device |
US8831175B2 (en) * | 2010-05-19 | 2014-09-09 | Eric H. Silver | Hybrid X-ray optic apparatus and methods |
CN103081024B (zh) * | 2010-09-06 | 2016-07-13 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 利用像素化探测器的x射线成像 |
US8526574B2 (en) * | 2010-09-24 | 2013-09-03 | Moxtek, Inc. | Capacitor AC power coupling across high DC voltage differential |
CN110006936A (zh) * | 2011-06-20 | 2019-07-12 | X射线光学系统公司 | 原油和重质燃料中污染物的在线监控及其精炼厂应用 |
JP2013020792A (ja) * | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Canon Inc | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP6175436B2 (ja) | 2011-08-06 | 2017-08-02 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | X線光子及び中性子を導くナノチューブ素材の装置 |
JP6084222B2 (ja) | 2011-08-15 | 2017-02-22 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | 重質試料用の試料粘度/流量制御およびそのx線分析応用 |
DE102011083729A1 (de) * | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung des Verschleißes einer Röntgenanode |
JP5850059B2 (ja) * | 2011-10-04 | 2016-02-03 | 株式会社ニコン | X線を用いた形状測定装置、形状計測方法、及び構造物の製造方法 |
WO2013052556A2 (en) | 2011-10-06 | 2013-04-11 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Mobile transport and shielding apparatus for removable x-ray analyzer |
EP3168606A1 (en) | 2011-10-26 | 2017-05-17 | X-Ray Optical Systems, Inc. | X-ray monochromator and support |
US20150117599A1 (en) | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
CN102595754B (zh) * | 2012-01-06 | 2015-05-13 | 同方威视技术股份有限公司 | 辐射器件安装箱、油冷循环系统以及x射线发生器 |
CN103414050A (zh) * | 2012-02-14 | 2013-11-27 | 通用电气传感与检测科技股份有限公司 | 用于高电压电缆的高电压连接器组件、高电压连接器、以及制造高电压连接器组件的方法 |
US9449780B2 (en) * | 2012-02-28 | 2016-09-20 | X-Ray Optical Systems, Inc. | X-ray analyzer having multiple excitation energy bands produced using multi-material x-ray tube anodes and monochromating optics |
EP2690645A1 (en) * | 2012-07-26 | 2014-01-29 | Agilent Technologies, Inc. | Tensioned flat electron emitter tape |
GB201213789D0 (en) | 2012-08-02 | 2012-09-12 | Commw Scient Ind Res Org | An X-ray fluorescence analyser |
CN103635002B (zh) * | 2012-08-21 | 2016-03-16 | 同方威视技术股份有限公司 | 一体式飞点x光机 |
US10133173B2 (en) * | 2012-09-27 | 2018-11-20 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Processing fluid supply device, substrate processing device, processing fluid supply method, substrate processing method, processing fluid processing device, and processing fluid processing method |
US9068927B2 (en) * | 2012-12-21 | 2015-06-30 | General Electric Company | Laboratory diffraction-based phase contrast imaging technique |
CN103175857B (zh) * | 2013-03-14 | 2015-06-03 | 中国科学院高能物理研究所 | 专用于掠入射xafs实验的装置及其调整方法 |
JP6082634B2 (ja) | 2013-03-27 | 2017-02-15 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光x線分析装置 |
JP6081260B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-02-15 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光x線分析装置 |
US9173623B2 (en) | 2013-04-19 | 2015-11-03 | Samuel Soonho Lee | X-ray tube and receiver inside mouth |
JP2014232579A (ja) * | 2013-05-28 | 2014-12-11 | 株式会社日立メディコ | X線管装置 |
WO2015027225A1 (en) | 2013-08-23 | 2015-02-26 | The Schepens Eye Research Institute, Inc. | Spatial modeling of visual fields |
US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
CN103731966B (zh) * | 2014-01-03 | 2015-12-30 | 中国原子能科学研究院 | 一体化荧光发生装置 |
USD750783S1 (en) * | 2014-02-19 | 2016-03-01 | Rigaku Corporation | X-ray residual stress measuring instrument |
JP6328451B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2018-05-23 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光x線分析装置及びその制御方法 |
US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
JP6397690B2 (ja) * | 2014-08-11 | 2018-09-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | X線透過検査装置及び異物検出方法 |
JP6320898B2 (ja) * | 2014-10-27 | 2018-05-09 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線発生源及び蛍光x線分析装置 |
JP6069609B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2017-02-01 | 株式会社リガク | 二重湾曲x線集光素子およびその構成体、二重湾曲x線分光素子およびその構成体の製造方法 |
US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
CN105126808A (zh) * | 2015-07-03 | 2015-12-09 | 河海大学 | 一种氧化铝担载型二氧化铈粉体材料的制备方法 |
JP2017037774A (ja) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | 東芝電子管デバイス株式会社 | X線管、x線管装置、及びx線管装置の製造方法 |
US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
CN105204059B (zh) * | 2015-09-11 | 2017-12-15 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种局部区域软x射线辐射流定量测量装置与测量方法 |
US10178748B1 (en) * | 2016-06-20 | 2019-01-08 | Moxtek, Inc. | X-ray spot stability |
US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
EP3416181A1 (en) * | 2017-06-15 | 2018-12-19 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray source and method for manufacturing an x-ray source |
CN107228871B (zh) * | 2017-07-21 | 2023-07-04 | 中国地质大学(武汉) | 一种便携式x射线分析装置 |
WO2019027761A1 (en) * | 2017-07-31 | 2019-02-07 | Sigray, Inc. | SPECTROMETER SYSTEM WITH X-RAY TRANSMISSION |
EP3462150A1 (en) * | 2017-09-27 | 2019-04-03 | Rolls-Royce Corporation | Temperature determination using radiation diffraction |
CN109725343A (zh) * | 2017-10-27 | 2019-05-07 | 曲阜师范大学 | 离轴抛线型x射线平行弯晶谱仪装置 |
CN108088862B (zh) * | 2018-02-09 | 2023-05-23 | 丹东市祯晟科技有限公司 | 一种无线集成化x射线探伤机控制系统 |
US10502701B2 (en) * | 2018-03-30 | 2019-12-10 | General Electric Company | Method and system using x-ray pinhole camera for in-situ monitoring of electron beam manufacturing process |
US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
JP7048396B2 (ja) | 2018-04-12 | 2022-04-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線管 |
FI20206178A1 (en) | 2018-04-20 | 2020-11-20 | Outotec Finland Oy | X-ray fluorescence analyzer and method for performing X-ray fluorescence analysis |
DE112019002822T5 (de) | 2018-06-04 | 2021-02-18 | Sigray, Inc. | Wellenlängendispersives röntgenspektrometer |
CN112470245A (zh) | 2018-07-26 | 2021-03-09 | 斯格瑞公司 | 高亮度x射线反射源 |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
CN109029310B (zh) * | 2018-08-10 | 2021-07-30 | 深圳市善时仪器有限公司 | 一种高性能微焦点x射线测厚仪 |
CN112638261A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-09 | 斯格瑞公司 | 利用滤波的x射线荧光的系统和方法 |
CN112823280A (zh) | 2018-09-07 | 2021-05-18 | 斯格瑞公司 | 用于深度可选x射线分析的系统和方法 |
JP7270637B2 (ja) | 2018-10-25 | 2023-05-10 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置及びx線発生ユニット |
US11143605B2 (en) | 2019-09-03 | 2021-10-12 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
US11217357B2 (en) | 2020-02-10 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal/hyperbolic surface profiles |
WO2021237237A1 (en) | 2020-05-18 | 2021-11-25 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and a plurality of detector elements |
WO2022061347A1 (en) | 2020-09-17 | 2022-03-24 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
KR20230109735A (ko) | 2020-12-07 | 2023-07-20 | 시그레이, 아이엔씨. | 투과 x-선 소스를 이용한 고처리량 3D x-선 이미징 시스템 |
US11701072B2 (en) * | 2021-04-02 | 2023-07-18 | AlxSCAN, Inc. | Modular X-ray source and method of X-ray source tube replacement for motion compensated tomosynthesis imaging system |
GB202106959D0 (en) | 2021-05-14 | 2021-06-30 | Malvern Panalytical Bv | Apparatus and method for x-ray fluorescence analysis |
US11892421B2 (en) | 2021-12-06 | 2024-02-06 | Schlumberger Technology Corporation | System and method for cleaning electrical stability probe |
US11992350B2 (en) | 2022-03-15 | 2024-05-28 | Sigray, Inc. | System and method for compact laminography utilizing microfocus transmission x-ray source and variable magnification x-ray detector |
DE102022202726B4 (de) * | 2022-03-21 | 2024-02-15 | Siemens Healthcare Gmbh | Röntgenhochspannungsgenerator mit einem Zwei-Phasen-Kühlsystem |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
US20240035990A1 (en) * | 2022-07-29 | 2024-02-01 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Polarized, energy dispersive x-ray fluorescence system and method |
Family Cites Families (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE692555C (de) * | 1933-10-20 | 1940-06-21 | Ernst Pohl | Wassergekuehlte hochspannungs- und strahlensichere Roentgenroehre mit an Hochspannung liegender Anode |
US2121630A (en) * | 1936-05-11 | 1938-06-21 | Gen Electric X Ray Corp | X-ray apparatus |
US2825816A (en) * | 1952-11-13 | 1958-03-04 | Machlett Lab Inc | System for maintaining constant quantity rate and constant quality of x-radiation from an x-ray generator |
US2831977A (en) * | 1954-03-11 | 1958-04-22 | California Inst Of Techn | Low angle x-ray diffraction |
US3246146A (en) * | 1963-07-11 | 1966-04-12 | Ass Elect Ind | Apparatus for the X-ray analysis of a liquid suspension of specimen material |
US4039811A (en) * | 1975-03-21 | 1977-08-02 | Sybron Corporation | Method of operating and power supply for x-ray tubes |
JPS5391A (en) * | 1976-06-23 | 1978-01-05 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Agc circuit for x-ray generator |
US4134012A (en) * | 1977-10-17 | 1979-01-09 | Bausch & Lomb, Inc. | X-ray analytical system |
US4355410A (en) * | 1980-10-27 | 1982-10-19 | X-Ray Manufacturing & Supply, Inc. | Industrial X-ray machine |
JPS5879900U (ja) * | 1981-11-18 | 1983-05-30 | 株式会社東芝 | 回転陽極形x線管装置 |
JPS58111000U (ja) * | 1982-01-25 | 1983-07-28 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | X線管放射軸調整装置 |
US4674109A (en) * | 1984-09-29 | 1987-06-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Rotating anode x-ray tube device |
US4694480A (en) * | 1985-07-30 | 1987-09-15 | Kevex Corporation | Hand held precision X-ray source |
US4810776A (en) * | 1986-07-14 | 1989-03-07 | Ciba-Geigy Corporation | Process for producing epoxy resin having a low-EHC-content from chlorine-substituted crude epoxy resin of high EHC-content and apparatus for automatically controlling such process |
ATE89097T1 (de) * | 1986-08-15 | 1993-05-15 | Commw Scient Ind Res Org | Instrumente zur konditionierung von roentgenoder neutronenstrahlen. |
US4891829A (en) * | 1986-11-19 | 1990-01-02 | Exxon Research And Engineering Company | Method and apparatus for utilizing an electro-optic detector in a microtomography system |
DE8704182U1 (de) * | 1987-03-20 | 1987-07-09 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Computertomograph |
US4916721A (en) * | 1987-08-05 | 1990-04-10 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Normal incidence X-ray mirror for chemical microanalysis |
US4964148A (en) * | 1987-11-30 | 1990-10-16 | Meicor, Inc. | Air cooled metal ceramic x-ray tube construction |
GB2214769A (en) * | 1988-03-04 | 1989-09-06 | Le N Proizv Ob Burevestnik | Multichannel x-ray spectrometer |
US4930145A (en) * | 1988-08-15 | 1990-05-29 | General Electric Company | X-ray exposure regulator |
JPH0291200U (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-19 | ||
US5012499A (en) * | 1989-10-19 | 1991-04-30 | Hughes Aircraft Company | γ-ray detecting device using dislocation-free crystal |
US4979199A (en) * | 1989-10-31 | 1990-12-18 | General Electric Company | Microfocus X-ray tube with optical spot size sensing means |
EP0426897B1 (de) * | 1989-11-09 | 1993-10-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Röngenstrahler |
US5281822A (en) * | 1990-07-11 | 1994-01-25 | Mcdonnell Douglas Corporation | Advanced neutron detector |
US5497008A (en) * | 1990-10-31 | 1996-03-05 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Use of a Kumakhov lens in analytic instruments |
US5177774A (en) * | 1991-08-23 | 1993-01-05 | Trustees Of Princeton University | Reflection soft X-ray microscope and method |
US5581591A (en) * | 1992-01-06 | 1996-12-03 | Picker International, Inc. | Focal spot motion control for rotating housing and anode/stationary cathode X-ray tubes |
US5461654A (en) * | 1992-04-07 | 1995-10-24 | Grodzins; Lee | X-ray fluorescence detector |
JPH05329143A (ja) * | 1992-06-01 | 1993-12-14 | Toshiba Corp | Ctスキャナ |
US5272618A (en) * | 1992-07-23 | 1993-12-21 | General Electric Company | Filament current regulator for an X-ray system |
JPH08136480A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Dkk Corp | 油中硫黄分測定装置 |
US5550889A (en) * | 1994-11-28 | 1996-08-27 | General Electric | Alignment of an x-ray tube focal spot using a deflection coil |
JP3628749B2 (ja) * | 1995-03-17 | 2005-03-16 | 株式会社東芝 | X線管制御装置 |
US5650635A (en) * | 1995-07-14 | 1997-07-22 | Northwestern University | Multiple stacked Sb-based heterostructures |
WO1997011494A1 (en) * | 1995-09-19 | 1997-03-27 | Astralux, Incorporated | X-ray detector |
DE19540195C2 (de) * | 1995-10-30 | 2000-01-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren der Röntgenfluoreszenzmikroskopie |
US5693948A (en) * | 1995-11-21 | 1997-12-02 | Loral Fairchild Corporation | Advanced CCD-based x-ray image sensor system |
US5778039A (en) * | 1996-02-21 | 1998-07-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for the detection of light elements on the surface of a semiconductor substrate using x-ray fluorescence (XRF) |
JPH1064695A (ja) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Rigaku Corp | X線発生装置及びそれを用いたx線装置 |
US5982847A (en) * | 1996-10-28 | 1999-11-09 | Utah State University | Compact X-ray fluorescence spectrometer for real-time wear metal analysis of lubrucating oils |
JP2885398B2 (ja) * | 1997-04-01 | 1999-04-19 | 株式会社東芝 | X線装置 |
EP0884736B1 (en) * | 1997-06-11 | 2004-01-28 | Istituto Nazionale Di Fisica Nucleare | Multi-stepped diffractor constructed with constant step width angle (multi-stepped monochromator) |
JP4043571B2 (ja) * | 1997-12-04 | 2008-02-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線管 |
DE19810346C1 (de) * | 1998-03-10 | 1999-10-07 | Siemens Ag | Röntgenröhre und deren Verwendung |
DE19820321B4 (de) * | 1998-05-07 | 2004-09-16 | Bruker Axs Gmbh | Kompaktes Röntgenspektrometer |
DE19820861B4 (de) * | 1998-05-09 | 2004-09-16 | Bruker Axs Gmbh | Simultanes Röntgenfluoreszenz-Spektrometer |
JP3062685B2 (ja) * | 1998-07-23 | 2000-07-12 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 蛍光x線分析計 |
US6206565B1 (en) * | 1998-08-19 | 2001-03-27 | General Electric Company | Continuous conditioning of dielectric fluid in an x-ray tube |
FR2784261B1 (fr) * | 1998-10-05 | 2001-07-27 | Ge Medical Syst Sa | Materiau d'isolation electrique et de refroidissement de conductivite thermique accrue et application a l'isolation d'un dispositif d'alimentation haute tension |
US6185276B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-02-06 | Thermal Corp. | Collimated beam x-ray tube |
US6498830B2 (en) * | 1999-02-12 | 2002-12-24 | David B. Wittry | Method and apparatus for fabricating curved crystal x-ray optics |
DE19932275B4 (de) * | 1999-07-06 | 2005-08-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur Röntgenfluoreszenzanalyse |
US6345086B1 (en) * | 1999-09-14 | 2002-02-05 | Veeco Instruments Inc. | X-ray fluorescence system and method |
US6361208B1 (en) * | 1999-11-26 | 2002-03-26 | Varian Medical Systems | Mammography x-ray tube having an integral housing assembly |
JP2001281345A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | エネルギー線検出装置およびその温度調整方法 |
IL140025A0 (en) * | 2000-11-30 | 2002-02-10 | Medirad I R T Ltd | X-ray tube with fluid cooling |
DE10143668C1 (de) * | 2001-09-06 | 2003-04-03 | Instrumentarium Imaging Ziehm | Halterung für eine Röntgenröhre einer Röntgendiagnostikeinrichtung |
CN100336422C (zh) * | 2001-12-04 | 2007-09-05 | X射线光学系统公司 | 输出稳定性增强的x射线源组件及优化x射线传输的方法 |
DE10159828B4 (de) * | 2001-12-06 | 2007-09-20 | Rigaku Industrial Corporation, Takatsuki | Röntgenfluoreszenzspektrometer |
US6668039B2 (en) * | 2002-01-07 | 2003-12-23 | Battelle Memorial Institute | Compact X-ray fluorescence spectrometer and method for fluid analysis |
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