JP4959062B2 - 水系処理法 - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
本発明は冷却水系、温水系、集塵水系、紙パルプ工程水系、製鉄工程水系、金属加工工程水系等各種工業用水系においての微生物に起因する諸障害を抑制し、併せて水と接触する熱交換器、配管、各種機器類など金属材料の腐食を抑制する水系処理法に関する。
【0002】
【従来の技術】
冷却水系、温水系、集塵水系、紙パルプ工程水系、製鉄工程水系、金属加工工程水系等の各種工業用水系の水中に生育する微生物や水棲生物は、系内にスライムを形成し、熱交換器の伝熱効率低下、流路の閉塞、嫌気性菌による微生物腐食などの微生物障害を引き起こす原因となる。
【0003】
このような微生物障害の対策として各種の殺生物処理剤を使用して微生物や水棲生物の殺滅ないしスライムの剥離除去が行われている。特に次亜塩素酸、次亜臭素酸などの次亜ハロゲン酸は、殺菌効果が優れ、かつ環境中で速やかに分解して無害なハロゲン化物イオンになり、安全性が高いことから広く使用されている。
【0004】
しかし、次亜ハロゲン酸を使用するとき、特に過剰に添加されると、金属、特に銅や銅合金は次亜ハロゲン酸の濃度に比例して腐食が増加するため、水中の次亜ハロゲン酸濃度の測定は腐食対策上、重要となる。
【0005】
被処理水中の次亜ハロゲン酸濃度の測定方法には、ジエチル−p−フェニレンジアンモニウム(DPD)比色法、オルトトリジン比色法、DPD−硫酸アンモニウム鉄(II)滴定法等が知られている。次亜ハロゲン酸は被処理水中のpHの上昇により次亜ハロゲン酸イオンに解離するが、前述の方法で測定されるのは次亜ハロゲン酸と次亜ハロゲン酸イオンの合計濃度(遊離残留ハロゲン濃度)、ないし次亜ハロゲン酸と次亜ハロゲン酸イオンと結合ハロゲンの合計濃度(全残留ハロゲン濃度)である。ところが、次亜ハロゲン酸イオンや結合ハロゲンの殺菌効果は、未解離の次亜ハロゲン酸と比較して著しく劣るため、遊離残留ハロゲン濃度ないし全残留ハロゲン濃度と殺菌効果は必ずしも相関するとは言えない。そのため、前述の被処理水中の次亜ハロゲン酸濃度測定方法では、適切に殺菌効果を管理することはできない。
【0006】
一方、遊離残留ハロゲン濃度測定法や全残留ハロゲン濃度測定法に代わって次亜ハロゲン酸の添加量を制御する方法として、酸化還元電位の測定結果をもとに、次亜ハロゲン酸の添加量を制御する方法が、「Yong H.Kim、Robert Hensley著のWater Environment Research,Volume 69,Number5,Page 1008〜1014(1997年)」や特開2000−256993号公報に示されている。この方法を用いて酸化還元電位の測定を行い、被処理水の殺菌効果が維持できるような次亜ハロゲン酸濃度を設定し、維持するように次亜ハロゲン酸添加量を制御することができる。一方、殺菌効果が維持できるような次亜ハロゲン酸濃度では、金属の腐食が進むことになり、金属の腐食を防ぐためには次亜ハロゲン酸濃度が下がるようにしなければならなくなる。しかし、次亜ハロゲン酸濃度を低げると目的とする殺菌効果が得られなくなる。
【0007】
次亜ハロゲン酸による金属の腐食作用は、その酸化作用により金属のカソード反応を促進して腐食を増大させるだけでなく、次亜ハロゲン酸の分解により生じるハロゲン化物イオンも金属の不働態化皮膜を破壊する作用を有する。このような次亜ハロゲン酸による金属の腐食は、腐食抑制剤を用いて金属に保護皮膜を形成させることにより抑制できることが知られており、例えば、アゾール化合物が銅や銅合金の次亜ハロゲン酸による腐食防止に有効であることが、Cleveland O’Neal,JR.,Richard N.Borger著のMaterial Performance,Number 11,Page 12〜16(1977)に開示されている。このような腐食防止剤は、通常、予め添加量を設定して被処理水に添加されているため、該処理水の求められる殺菌効果の要求度に応じて、次亜ハロゲン酸の添加量を調整した場合、特に殺菌効果の低下で、次亜ハロゲン酸使用量を急増させる場合、腐食防止剤の効果が不十分となり、十分な防食効果を得ることができなかった。一旦、腐食が起こり、配管の漏れ、装置の欠損になると作業上の事故につながるため、被処理水中の次亜ハロゲン酸濃度に対応して、常時、腐食抑制剤量を制御する必要があるが、操業中のこのような管理は非常に多くの手間を要していたが、有効な方法がなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、微生物障害を引き起こす微生物や水棲生物を殺滅ないし剥離除去に十分な濃度の次亜塩素酸を被処理水中に維持でき、かつ被処理水と接触する金属の次亜塩素酸による腐食を防止できる水系処理法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決すべく、本発明者らは、鋭意、研究を重ねた結果、被処理水中の酸化還元電位を測定し、その測定結果をもとに次亜塩素酸量ならびに金属腐食抑制剤として1,2,3−ベンゾトリアゾールの量を制御することにより金属の腐食が抑制されることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0010】
すなわち、本発明は、水に溶解して次亜塩素酸を生成する化合物を用いて殺生物処理を実施している開放式循環水系において、被処理水中の酸化還元電位の測定結果のもとに、被処理水中の酸化還元電位を、銀/塩化銀電極基準で400〜700mVの範囲に維持するように、前記次亜塩素酸生成化合物を添加し、且つ金属の腐食抑制剤として1,2,3−ベンゾトリアゾールを次亜塩素酸生成化合物(有効塩素量に換算して)に対して0.1〜3重量比の範囲で被処理水系に添加することを特徴とする水系処理法である。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、次亜塩素酸とは次亜塩素酸およびその塩に加えて、水に溶解して次亜塩素酸を生成する化合物を含む(以下、これらを一括して「次亜塩素酸生成化合物」と記す)。適当な次亜塩素酸生成化合物を例示すると、次亜塩素酸あるいはそのナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩等の金属塩、アンモニウム塩、液化塩素、ジクロロジメチルヒダントイン等の塩素化ジメチルヒダントイン化合物類やトリクロロイソシアヌル酸、ジクロロイソシアヌル酸、クロロイソシアヌル酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩などがあり、これらを2種以上組み合わせて使用してもよい。
【0012】
次亜塩素酸は、一般に各種の好気性バクテリア、嫌気性バクテリア、黴、酵母、大腸菌などの微生物や貝類、原生動物、藻類などを殺滅できるだけでなく、既に系内に付着している微生物や水棲生物を剥離除去することもできる。また、レジオネラ菌(Legionella pneumophila)に対しても有効である。
【0013】
本発明において用いられる腐食抑制剤は、金属(特に銅及び銅の合金に対する)腐食抑制剤として公知の1,2,3−ベンゾトリアゾールである。
【0014】
被処理水中の酸化還元電位は、次亜塩素酸によって処理された後の処理水及び循環使用されている場合は被処理水の酸化還元電位である。酸化還元電位と殺菌力の強い次亜塩素酸濃度とは相関性が高く、逆に酸化還元電位と殺菌力が弱い次亜塩素酸イオン濃度や結合塩素濃度とは相関性が低いため、酸化還元電位で殺菌効果を管理するには好適である。
【0015】
本発明に係る酸化還元電位を測定する工程は、処理水及び被処理水に浸漬して酸化還元電位を測定する参照電極と白金電極およびこれらの支持体、参照電極と白金電極の間の電位差を計る電位差計から構成されている。酸化還元電位を測定する時の参照電極には、銀/塩化銀電極が使用される。また、参照電極と白金電極を一体化した複合電極を使用しても良い。これらの電極は特に限定されるものではなく、一般に市販されているものが使用できる。参照電極と白金電極の間の電位差を計る電位差計は、電位表示可能なpH計、エレクトロメーター、ポテンシオメーター、デジタルマルチメーター、電圧入力が可能な記録計等が利用できる。
【0016】
酸化還元電位の測定結果をもとに次亜塩素酸生成化合物及び腐食抑制剤の1,2,3−ベンゾトリアゾールを所定比率で添加する工程は、次亜塩素酸生成化合物ならびに該腐食抑制剤の供給装置と制御部から構成される。ここで制御部は、酸化還元電位の測定値と設定値を比較して次亜塩素酸生成化合物ならびに腐食抑制剤の供給装置に出力を与えるものである。本発明によれば、被処理水の殺菌効果が維持される次亜塩素酸濃度に対応して酸化還元電位の範囲を設定し、設定範囲値未満の酸化還元電位になったならば、次亜塩素酸生成化合物の添加装置を作動させ、同時に該次亜塩素酸生成化合物の添加量に対応する金属の腐食抑制剤(1,2,3−ベンゾトリアゾール)量になるように添加装置を作動させる。酸化還元電位が設定範囲内に達したならば、次亜塩素酸生成化合物ならびに腐食抑制剤の添加装置を停止させて、被処理水の酸化還元電位を殺菌効果が維持される次亜塩素酸濃度に対応する酸化還元電位の範囲内に保つ方法が採用される。
【0017】
本発明において次亜塩素酸生成化合物の被処理水中における添加濃度は、酸化還元電位の測定結果をもとに調整されるが、通常は有効塩素として0.1〜1000ppmの範囲である。同様に腐食抑制剤の被処理水中における添加濃度は、酸化還元電位の測定結果をもとに調整されるが、通常は0.1〜1000ppmの範囲である。
【0018】
本発明において、維持すべき酸化還元電位は、銀/塩化銀電極基準で400〜700mVの範囲である。400mV未満では、次亜塩素酸濃度が低く、十分な殺菌効果を得られないときがある。また、700mVを超えると次亜塩素酸濃度が非常に高くなり、これを維持するために必要な次亜塩素酸添加量では、添加量の増加に見合うだけの効果の向上が小さく、経済的なメリットが小さくなることがある。
【0019】
本発明の方法における腐食抑制剤(1,2,3−ベンゾトリアゾール)の使用量は、次亜塩素酸生成化合物(有効塩素量に換算して)に対して、0.1重量比〜3重量比であり、好ましくは0.25重量比〜2重量比である。
【0021】
次亜塩素酸生成化合物と腐食抑制剤は別々の供給装置を用いて別個にそれぞれ添加してもよく、次亜塩素酸生成化合物と腐食抑制剤を水溶性の一液タイプの混合物として添加することもできる。
【0029】
次亜塩素酸生成化合物と腐食抑制剤を混合物とする場合、水溶液、エマルジョン、固形物、ペースト状のいずれの形態あってもよい。また、次亜塩素酸生成化合物、腐食抑制剤以外に次亜塩素酸生成化合物以外の殺生物処理剤、スケール抑制剤、分散剤、消泡剤を添加してもよい。
【0030】
【実施例】
以下に本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0031】
(実施例1)
本発明の実施形態の例を図1に示す。開放式循環水系は冷水塔8、循環ポンプ9、熱交換器10、循環水ライン11、補給水ライン12、強制ブローライン13から構成される。循環水ライン11に酸化還元電位測定セル3を設置し、酸化還元電位測定セル3に白金電極1と参照電極(銀/塩化銀電極)2を挿入して、白金電極1と参照電極(銀/塩化銀電極)2の間に電位差計4を接続して酸化還元電位を測定した。電位差計4からの出力信号は制御部5に入力され、制御部5では酸化還元電位の測定値と設定値を比較して、測定値が設定値よりも低い場合に処理剤供給ポンプ6に出力信号を送り、処理剤タンク7に入った次亜塩素酸ナトリウムと腐食抑制剤の混合液を開放式循環水系に添加した。
【0032】
循環水の電気伝導率は1500±100μS/cmの範囲に維持されたが、pHは8.0〜9.0の間で変動した。循環水ライン11の水温は熱交換器10の入り口で30℃、出口で40℃であった。
【0033】
次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素12%)60重量部、1,2,3−ベンゾトリアゾール2重量部、水酸化ナトリウム3重量部、水35重量部を含む組成物を処理剤タンク7に入れ、酸化還元電位が400mV以下になったとき制御部5から処理剤供給ポンプ6に出力信号を送り処理剤供給ポンプ6を作動させて処理剤タンク7の組成物を供給し、酸化還元電位が420mV以上になったとき出力信号をオフにして処理剤供給ポンプ6を停止させ、以降この工程を繰り返した。
【0034】
1ヶ月の試験期間中、酸化還元電位は410±10mVの範囲に維持されたが、循環水中の全菌数は1×102個/mL以下であった。試験期間中の腐食抑制剤の添加濃度は平均200ppmであり、循環水ライン11に設定した銅合金試験片(JIS C 1201 りん脱酸銅1A種、1×13×50mm)の腐食速度は0.3mddであり、試験片表面に孔食の発生は認められなかった。
【0035】
(実施例2)
処理剤として次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素12%)60重量部、1,2,3−ベンゾトリアゾール2重量部、末端にスルホン酸基を有するアクリル酸重合体(重量平均分子量2200)7重量部、水酸化ナトリウム3重量部、水28重量部を含む組成物を使用した以外は実施例1と同様の方法により試験した。試験期間中、酸化還元電位は410±10mVの範囲に維持されたが、循環水中の全菌数は1×102個/mL以下であった。また、1ヶ月の試験期間中の腐食抑制剤の添加濃度は平均200ppmであり、循環水ライン11に設定した銅合金試験片の腐食速度は0.2mddであり、孔食の発生は認められなかった。試験終了後の銅合金製熱交換器チューブにスケールの発生は認められなかった。
【0036】
(実施例3)
酸化還元電位が200mV以下になったとき制御部5から処理剤供給ポンプ6に出力信号を送り処理剤供給ポンプ6を作動させて処理剤タンク7の組成物を供給し、酸化還元電位が500mV以上になったとき出力信号をオフにして処理剤供給ポンプ6を停止させた以外は、実施例1と同様の方法により試験した。
【0037】
1ヶ月の試験期間中、酸化還元電位は200〜500mVの範囲に維持された。循環水中の酸化還元電位と全菌数の関係を表−1に示した。また循環水ライン11に設定した銅合金試験片(JIS C 1201 りん脱酸銅1A種、1×13×50mm)の腐食速度は0.2mddであり、試験片表面に孔食の発生は認められなかった。
【0038】
組成物の添加濃度は0〜300ppmの間で変化したが、平均添加濃度は150ppmであった。
【0039】
【表1】
【0040】
(実施例4)
酸化還元電位が400mV以下になったとき制御部5から処理剤供給ポンプ6に出力信号を送り処理剤供給ポンプ6を作動させて処理剤タンク7の組成物を供給し、酸化還元電位が700mV以上になったとき出力信号をオフにして処理剤供給ポンプ6を停止させた以外は、実施例1と同様の方法により試験した。
【0041】
1ヶ月の試験期間中、酸化還元電位は400〜700mVの範囲に維持されたが、循環水中の全菌数は1×102個/mL以下であった。また循環水ライン11に設定した銅合金試験片(JIS C 1201 りん脱酸銅1A種、1×13×50mm)の腐食速度は0.4mddであり、試験片表面に孔食の発生は認められなかった。
【0042】
組成物の添加濃度は0〜400ppmの間で変化したが、平均添加濃度は200ppmであった。
【0043】
(比較例1)
酸化還元電位測定の替わりに、DPD比色法による残留塩素自動分析装置(ハック社製CL−17型)を設定して遊離残留塩素濃度により処理剤供給ポンプの制御を行った以外は実施例1と同様の方法により試験した。ここで遊離残留塩素濃度が0.1ppm以下になったとき制御部5から処理剤供給ポンプ6に出力信号を送り処理剤供給ポンプ6を作動させて処理剤タンク7の組成物を供給し、遊離残留塩素濃度が0.3ppm以上になったとき出力信号をオフにして処理剤供給ポンプ6を停止させた。1ヶ月の試験期間中、遊離残留塩素濃度は0.2±0.1ppmの範囲に維持されたが、循環水中の全菌数は1×102〜1×103個/mLの間で変動した。循環水ライン11に設定した銅合金試験片の腐食速度は1.0mddであったが、孔食の発生は認められなかった。
【0044】
この結果は、遊離残留塩素管理よりも酸化還元電位管理の方が、殺菌効果と銅合金の腐食抑制の両面で優れていることを示すものである。
【0045】
(比較例2)
処理剤タンクに次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素12%)を加えた以外は実施例1と同様の方法により試験した。
【0046】
1ヶ月の試験期間中、酸化還元電位は410±10mVの範囲に維持され、循環水中の全菌数は1×102個/mL以下であったが、銅合金試験片の腐食速度は5.4mddであり、試験片表面に孔食の発生が認められた。
【0047】
この結果は、酸化還元電位管理のみを実施して腐食抑制剤を添加しない場合、銅合金の腐食が著しいことを示している。
【0048】
(比較例3)
処理剤タンクに次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素12%)を加え、1,2,3−ベンゾトリアゾールを循環水中の濃度が4ppmとなるように別途に添加した以外は実施例4と同様の方法により試験した。1ヶ月の試験期間中、酸化還元電位は400〜700mVの範囲に維持され、循環水中の全菌数は1×102個/mL以下であったが、銅合金試験片の腐食速度は3.3mddであり、試験片表面に孔食の発生が認められた。
【0049】
この結果は、酸化還元電位管理のみを実施して腐食抑制剤を一定濃度で添加した場合、銅合金の腐食を十分抑制できないことを示している。
【0050】
【発明の効果】
本発明によれば、微生物障害を引き起こす微生物や水棲生物を殺滅ないし剥離除去するのに十分な濃度の次亜塩素酸を被処理水中に維持でき、かつ被処理水と接触する金属の次亜塩素酸による腐食を有効に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態の開放式循環水系を示す。
【符号の説明】
1:白金電極
2:参照電極
3:酸化還元電位測定セル
4:電位差計
5:制御部
6:処理剤供給ポンプ
7:処理剤タンク
8:冷水塔
9:循環ポンプ
10:熱交換器
11:循環水ライン
12:補給水ライン
13:強制ブローライン
Claims (1)
- 水に溶解して次亜塩素酸を生成する化合物を用いて殺生物処理を実施している開放式循環水系において、被処理水中の酸化還元電位の測定結果のもとに、被処理水中の酸化還元電位を、銀/塩化銀電極基準で400〜700mVの範囲に維持するように、前記次亜塩素酸生成化合物を添加し、且つ金属の腐食抑制剤として1,2,3−ベンゾトリアゾールを次亜塩素酸生成化合物(有効塩素量に換算して)に対して0.1〜3重量比の範囲で被処理水系に添加することを特徴とする水系処理法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001053258A JP4959062B2 (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 水系処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001053258A JP4959062B2 (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 水系処理法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002254083A JP2002254083A (ja) | 2002-09-10 |
JP4959062B2 true JP4959062B2 (ja) | 2012-06-20 |
Family
ID=18913748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001053258A Expired - Lifetime JP4959062B2 (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 水系処理法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4959062B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP4238842B2 (ja) * | 2005-06-20 | 2009-03-18 | 栗田工業株式会社 | スライムコントロール効果の判定方法及びスライムコントロール方法 |
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JP5776367B2 (ja) * | 2011-06-23 | 2015-09-09 | 栗田工業株式会社 | 船舶バラスト水の処理方法 |
JP5874245B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2016-03-02 | 栗田工業株式会社 | 船舶バラスト水の処理方法 |
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JP6369095B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-08-08 | 栗田工業株式会社 | 銅系部材の腐食抑制方法及び腐食抑制剤 |
JP6455201B2 (ja) * | 2015-02-09 | 2019-01-23 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
JP6524759B2 (ja) * | 2015-04-01 | 2019-06-05 | 栗田工業株式会社 | 開放型循環冷却水系の薬注方法及び薬注装置 |
JP6169654B2 (ja) * | 2015-07-27 | 2017-07-26 | 伯東株式会社 | 貯蔵安定性が改善された一液性の水処理剤組成物 |
JP6683008B2 (ja) * | 2016-05-13 | 2020-04-15 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
JP6249192B1 (ja) * | 2016-08-16 | 2017-12-20 | 株式会社片山化学工業研究所 | 開放循環冷却水系の金属防食剤およびそれを用いる開放循環冷却水系の防食方法 |
JP6759883B2 (ja) * | 2016-09-05 | 2020-09-23 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
JP2019098280A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | 株式会社エコプラントサービス | 閉塞型純水冷却循環方法及び閉塞型純水冷却循環システム並びにこれらに用いられる閉塞型純水冷却装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS57137376A (en) * | 1981-02-18 | 1982-08-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preventing agent of damage to service water system |
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-
2001
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002254083A (ja) | 2002-09-10 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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