JP4939032B2 - 硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 - Google Patents
硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4939032B2 JP4939032B2 JP2005310339A JP2005310339A JP4939032B2 JP 4939032 B2 JP4939032 B2 JP 4939032B2 JP 2005310339 A JP2005310339 A JP 2005310339A JP 2005310339 A JP2005310339 A JP 2005310339A JP 4939032 B2 JP4939032 B2 JP 4939032B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- hard
- hard coating
- target
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 155
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 131
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 46
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 25
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 14
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 10
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 9
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 4
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 16
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 14
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 144
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 99
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 20
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical group [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 10
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001315 Tool steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 4
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 TiCN Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004349 Ti-Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010169 TiCr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004692 Ti—Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001192 hot extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D3/00—Book covers
- B42D3/12—Book covers combined with other articles
- B42D3/123—Book covers combined with other articles incorporating sound producing or light emitting means or carrying sound records
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D1/00—Books or other bound products
- B42D1/08—Albums
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0664—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42P—INDEXING SCHEME RELATING TO BOOKS, FILING APPLIANCES OR THE LIKE
- B42P2241/00—Parts, details or accessories for books or filing appliances
- B42P2241/16—Books or filing appliances combined with other articles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Educational Administration (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Educational Technology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Drilling Tools (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
(1)
(Al1-aVa)(C1-XNX)からなる硬質皮膜であって、
0.27≦a≦0.75、
0.3≦X≦1
(式中、aおよびXは互いに独立して、原子比を示す)であるか、または
(2)
(Al1-a-b-cVaSibBc)(C1-XNX)からなる硬質皮膜であって、
0.1≦a≦0.75
0<b+c≦0.20
0.3≦X≦1
(式中、a、b、cおよびXは互いに独立して、原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)
であることを特徴とする。
繰り返し周期が80nm以下であり、
各層ごとの組成と膜厚の積を合計し、全層の厚さで除することによって求まる平均組成が、上記(1)または(2)の組成を満足するものである。第2の多層型硬質皮膜は、
(a)TiAlの窒化物または炭窒化物からなる薄層、および/またはCrAlの窒化物または炭窒化物からなる薄層と、
(b)上記硬質皮膜の組成を満足する薄層を繰り返して積層したものであり、
繰り返し周期が80nm以下である。
本発明の硬質皮膜は、硬度と潤滑性の両方に優れている。
(1)他の硬質皮膜としては、金属窒化物系、金属炭化物系または金属炭窒化物系のNaCl型の結晶構造を示す硬質皮膜、
(2)金属層または合金層としては、周期律表第4A属元素、5A属元素、6A属元素、AlまたはSiから選択される少なくとも1種の金属層または合金層などが好ましい。
(3)
(Al1-a-d-eVaModWe)(C1-XNX)からなる硬質皮膜であって、
0.2≦a≦0.75、
0<d+e≦0.3
0.3≦X≦1
(式中、a、d、eおよびXは互いに独立して原子比を示す:なおdおよびeは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)であるか、
(4)
(Al1-a-b-c-d-eVaSibBcModWe)(C1-XNX)からなる硬質皮膜であって、
0.2≦a≦0.75、
0<b+c≦0.20、
0<d+e≦0.3、
0.3≦X≦1
(式中、a、b、c、d、eおよびXは互いに独立して、原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはなく、dおよびeは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)
であることを特徴とする。
上記Moおよび/またはWを含有させた硬質皮膜では、600℃以上の高温条件下において、潤滑性や切削工具での耐久性の点で特に優れている。
(5)
(Al1-a-f-gVaHffZrg)(C1-XNX)からなる硬質皮膜であって、
0.01≦a≦0.75、
0<f+g≦0.5
0.3≦X≦1
(式中、a、f、gおよびXは互いに独立して原子比を示す:なおdおよびeは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)であるか、
(6)
(Al1-a-b-c-f-gVaSibBcHffZrg)(C1-XNX)からなる硬質皮膜であって、
0.01≦a≦0.75、
0<b+c≦0.20、
0<f+g≦0.5、
0.3≦X≦1
(式中、a、b、c、f、gおよびXは互いに独立して、原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはなく、fおよびgは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)
であることを特徴としている。
上記Zrおよび/またはHfを含有させた硬質皮膜では、600℃以上の高温条件下において、硬度の点で特に優れている。
Mo、Wの1種以上と、C、Nの1種以上とを選択して得られる化合物からなる層(以下、B層と称する)
とを積層してなる積層型硬質皮膜とすることも好ましい。その際、上記A層とB層の厚みは、
B層の厚み≦A層の厚み≦200nm
であることが好ましい。
Zr、Hfの1種以上と、C、Nの1種以上とを選択して得られる化合物からなる層(以下、C層と称する)
とを積層してなる積層型硬質皮膜とすることも好ましい。その際、上記A層とC層の厚みが、
C層の厚み≦A層の厚み≦200nm
であることが好ましい。
(Al1-a-b-cVaSibBc)からなり、0.1≦a≦0.75および0<b+c≦0.20であるターゲット(式中、a、bおよびcは互いに独立して原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)を用い、
Nを、NとCの合計に対して、30〜100原子%含むガス中、アークイオンプレーティング法で成膜することによって得られる硬質皮膜も含まれる。
(i)AlおよびV
(ii)Al、VおよびSi
(iii)Al、VおよびB
(iv)Al、V、SiおよびB、
さらに本発明には、
(Al1-aVa)からなり、
0.27≦a≦0.75、
(式中、aは原子比を示す)であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲットや、
(Al1-a-b-cVaSibBc)からなり、
0.1≦a≦0.75、
0<b+c≦0.20
(式中、a、bおよびcは互いに独立して原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲットなども含まれる。
(i)AlおよびV
(ii)Al、VおよびSi
(iii)Al、VおよびB
(iv)Al、V、SiおよびB
具体的には、
(Al1-aVa)(C1-XNX)からなる硬質皮膜を得るときには
(Al1-aVa)からなり、0.27≦a≦0.75であるターゲット(式中、aは原子比を示す)を用い、
(Al1-a-b-cVaSibBc)(C1-XNX)からなる硬質皮膜を得るときには
(Al1-a-b-cVaSibBc)からなり、0.1≦a≦0.75および0<b+c≦0.2であるターゲット(式中、a、bおよびcは互いに独立して原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)を用いればよい。
[硬質皮膜の組成]
EPMAにより測定した。その際、硬質皮膜中の金属元素および窒素以外の不純物元素量が、酸素および炭素の各々が5at%以下のレベルであることを確認した。
結晶構造の評価は、硬質皮膜を、リガク電機社製のX線回折装置を用いて、θ−2θ法にてX線解析する。その際、立方晶ではCuKα線源を用いて行い、(111)面については2θ=37.78°付近の、(200)面については2θ=43.9°付近の、(220)面については2θ=63.8°付近のピーク強度を測定する。六方晶のX線回折は、CuのKα線を用い、(100)面については2θ=32°〜33°付近の、(102)面については2θ=48°〜50°付近の、(110)面については2θ=57°〜58°付近のピーク強度を測定する。それらの値を用いて下記式(1)
に導入して算出した値(表中、「式(1)の値」)が0.8以上のものをNaCl型(表中、Bと表示)であると認定し、0のものを六方晶構造のものからなる(表中、Hと表示)とし、0より大きく、0.8未満のものを混合型(表中、B+Hと表示)とした。
マイクロビッカース硬度測定器を用い、荷重0.25N、保持時間15秒で測定した。
摺動試験用ディスク(SKD61製:φ55mm×5mm厚み、片面鏡面研磨)の表面に、本発明の硬質皮膜を形成したものを用い、下記する試験条件にてボールオンディスク試験を行い、摩擦係数を測定した。
摺動試験条件
試験方法:ボールオンディスク
ボール:SUJ2(直径9.54mm)、硬度HRC60
垂直荷重:5N
摺動速度:1m/s
雰囲気温度:実験例1〜4については500℃、実験例5〜8については800℃
摺動距離:1000m
超硬合金製ボールエンドミル(直径10mm、2枚刃)の表面に、本発明の硬質皮膜を形成し、下記条件A(実験例1〜4)又は下記条件B(実験例5〜8)で所定の切削長まで切削した後、硬質皮膜が被覆されたエンドミルの刃先を光学顕微鏡で観察した。
−条件A−
被削材:SKD61焼き入れ鋼(HRC50)
切削速度:220m/分
刃送り速度:0.06mm/刃
軸切り込み:4.5mm
径方向切り込み:1mm
その他:ダウンカット、ドライカット、エアーブローのみ
切削長:20m
−条件B−
被削材:SKD11(HRC60)
切削速度:150m/分
刃送り速度:0.04mm/刃
軸切り込み:4.5mm
径方向切り込み:0.2mm
その他:ダウンカット、ドライカット、エアーブローのみ
切削長:50m
実験例1、2および4〜6については図1に示す概要からなるAIP装置を用いた。図中、1はチャンバーを示し、2はアーク式蒸発源を示し、3は支持台を示し、4はバイアス電源を示し、6はターゲットを示し、7はアーク電源を示し、8は磁界形成手段(磁石)を示し、11は排気口を示し、12はガス供給口を示し、Wは被処理体を示している。
各実験例では、[1]超硬合金製チップ(結晶構造および硬度測定用)、[2]超硬合金製エンドミル(直径10mm、二枚刃)(摩耗幅測定用)および[3]摺動試験用ディスク(SKD61製:φ55mm×5mm厚み、片面鏡面研磨)(摩擦係数測定用)の3種類の被処理体を使用した。
[硬質皮膜の形成]
ターゲット6には、表1の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用いた。
得られた硬質皮膜の結晶構造と式(1)の値、硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定結果を表1に記載した。
[硬質皮膜の形成]
ターゲット6に、表2の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用いた以外は、実験例1と同様にして実験を行なった。
得られた硬質皮膜の結晶構造と式(1)の値、硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定結果を表2に記載した。
[硬質皮膜の形成]
図5に概略を示した装置を用い、ターゲット2には、表3の「A層(上段)」の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用いた。ターゲット2Aには、表3の「B層(下段)」の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のもの作製して用いた。なお、実施例39および41についてはターゲット2を用いずに成膜した。
チャンバー1内を真空状態にした後、ヒーター(図示せず)にて被処理体Wを500℃に加熱した。そしてガス供給口12から表3の「成膜ガスの組成(原子比)」からなる単一または混合ガスをチャンバー1内の圧力が2.66Paとなるように供給した。アーク電源7にてアーク放電を開始してターゲット6を蒸気化、イオン化し、被処理体Wがアース電圧に対して負の電位となるように、バイアス電源4にて20〜100Vを被処理体Wに印加し、被処理体の表面に表3に記載されている厚みとなるようにA層を形成した。次にアーク電源7Aにてアーク放電を開始してターゲット6Aを蒸気化、イオン化し、被処理体Wがアース電圧に対して負の電位となるように、バイアス電源4Aにて20〜100Vを被処理体Wに印加し、A層が形成された被処理体Wの表面に、表3に記載されている厚みとなるようにB層硬質皮膜を形成した。上記操作を表3の「積層数」の数繰り返して積層体からなる硬質皮膜を形成した。
表面に、表3に記載の「A層」の硬質皮膜が形成された被処理体を用い、ヒーター(図示せず)にて被処理体Wを500℃に加熱した。そしてガス供給口12から表3の「成膜ガスの組成比(原子比)」からなる単一または混合ガスをチャンバー1内の圧力が2.66Paとなるように供給した。アーク電源7Aにてアーク放電を開始してターゲット6Aを蒸気化、イオン化し、被処理体Wがアース電圧に対して負の電位となるように、バイアス電源4Aにて20〜100Vを被処理体Wに印加し、被処理体Wの表面に表3に記載されている厚みとなるようにB層を形成した。
得られた硬質皮膜の結晶構造と式(1)の値、硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定結果を表3に記載した。
V、Al、SiおよびBの粉末(各々の粒度は100メッシュ以下)をV型ミキサーにて混合し、表4に記載の組成となるように調製した。そして、得られたものを焼結(還元雰囲気中、焼成温度:550℃)、HIP(10000気圧、480℃)、熱間鋳造(余熱温度:450℃)の条件下で、各々ターゲットを製造した。それらを図1に記載のAIP装置に取り付け、被処理体Wの表面に硬質皮膜を形成し、放電の状況ならびに形成された皮膜の状態を観察し、その結果を表4に記した。なお成膜ガスは、実施例42および43については、窒素100%、44および45については窒素とメタンの混合ガス(窒素:メタン=80:20(原子比))のものを用いた。
[硬質皮膜の形成]
ターゲット6に、表5の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用いた以外は、実験例1と同様にして実験を行なった。
得られた硬質皮膜の結晶構造と式(1)の値、硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定結果を表5に記載した。
[硬質皮膜の形成]
ターゲット6に、表6の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用いた以外は、実験例1と同様にして実験を行なった。
得られた硬質皮膜の結晶構造と式(1)の値、硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定結果を表6に記載した。
[硬質皮膜の形成]
図5に概略を示した装置を用い、実施例77〜87については、ターゲット2に表7の「A層(上段)」の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用い、ターゲット2Aに表7の「B層(下段)」の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のもの作製して用い、実施例76についてはターゲット2を用いずに硬質皮膜を製造した。上記以外については、実験例3の製造方法に準じて行なった。
得られた硬質皮膜の硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定の結果を表7に記載した。
[硬質皮膜の形成]
図5に概略を示した装置を用い、実施例88〜98については、ターゲット2に表7の「A層(上段)」の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のものを作製して用い、ターゲット2Aに表7の「B層(下段)」の「ターゲットの組成比(原子比)」からなる組成のもの作製して用いて硬質皮膜を製造した。上記以外については、実験例7の製造方法に準じて行なった。
得られた硬質皮膜の硬度、摩擦係数および摩耗幅の測定の結果を表8に記載した。
さらに本発明の態様はSiを含有した硬質皮膜に対しても十分な効果が得られていた(実施例95〜98)。
2、2A.アーク式蒸発源
3.支持台
4、4A.バイアス電源
6、6A.ターゲット
7、7A.アーク電源
8、8A、9、109.磁界形成手段(磁石または永久磁石)
11.排気口
12.ガス供給口
W、106.被処理体
102.磁力線
Claims (7)
- Al、V、SiおよびBから選択される少なくとも1種の元素の窒化物または炭窒化物からなる薄層を複数繰り返して積層した多層型皮膜であって、
Alを含有する窒化物または炭窒化物からなる薄層と、Alを含有しない窒化物または炭窒化物からなる薄層との組み合わせが繰り返されており、その繰り返し周期が80nm以下であり、
平均組成が、(Al1-aVa)(C1-XNX)からなり、
0.27≦a≦0.75、0.3≦X≦1(式中、aおよびXは互いに独立して、原子比を示す)の組成、または、
(Al1-a-b-cVaSibBc)(C1-XNX)からなり、0.1≦a≦0.75、0<b+c≦0.20、0.3≦X≦1(式中、a、b、cおよびXは互いに独立して、原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)の組成を満足するものである多層型硬質皮膜。 - 請求項1に記載の硬質皮膜の片面または両面に、
(1)この硬質皮膜とは異なる皮膜であって、金属窒化物系、金属炭化物系または金属炭窒化物系のNaCl型の結晶構造を示す硬質皮膜、または
(2)周期律表第4A属元素、5A属元素、6A属元素、AlまたはSiから選択される少なくとも1種の金属層または合金層
が積層されている異種複合型硬質皮膜。 - Al、V、SiおよびBから選択される少なくとも1種の元素の窒化物または炭窒化物からなる薄層を複数繰り返して積層した多層型皮膜を製造するに当り、
Alを含有する窒化物または炭窒化物からなる薄層と、Alを含有しない窒化物または炭窒化物からなる薄層を交互に積層し、これらAlを含有する薄層と、Alを含有しない薄層の組み合わせの繰り返しを形成する周期が80nm以下となるように積層し、且つ
平均組成が、(Al 1-a V a )(C 1-X N X )からなり、
0.27≦a≦0.75、0.3≦X≦1(式中、aおよびXは互いに独立して、原子比を示す)の組成、または、
(Al 1-a-b-c V a Si b B c )(C 1-X N X )からなり、0.1≦a≦0.75、0<b+c≦0.20、0.3≦X≦1(式中、a、b、cおよびXは互いに独立して、原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)の組成を満足するようにすることを特徴とする多層型硬質皮膜の製造方法。 - 成膜ガス雰囲気中で金属を蒸発させイオン化して、前記金属とともに成膜ガスのプラズマ化を促進しつつ成膜する請求項3に記載の多層型硬質皮膜の製造方法。
- ターゲットを構成する金属の蒸発およびイオン化をアーク放電にて行なうアークイオンプレーティング法において、該ターゲットの蒸発面にほぼ直交して前方に発散ないし平行に進行する磁力線を形成し、この磁力線によって被処理体近傍における成膜ガスのプラズマ化を促進しつつ成膜する請求項4に記載の多層型硬質皮膜の製造方法。
- 前記被処理体の硬質皮膜を形成する面の中央部の磁束密度が、10ガウス以上である請求項3〜5のいずれかに記載の多層型硬質皮膜の製造方法。
- 前記磁力線と、前記ターゲットの蒸発面の法線とで形成される角度が±30°以下となるように、該ターゲットと前記被処理体との間に磁界を形成する請求項5または6に記載の多層型硬質皮膜の製造方法。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005310339A JP4939032B2 (ja) | 2005-02-08 | 2005-10-25 | 硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 |
US11/333,434 US7479331B2 (en) | 2005-02-08 | 2006-01-18 | Hard coating, target for forming hard coating, and method for forming hard coating |
DE602006005521T DE602006005521D1 (de) | 2005-02-08 | 2006-01-20 | Hartbeschichtung, Target zur Herstellung einer Hartbeschichtung, und Verfahren zur Herstellung einer Hartbeschichtung |
EP09007222.4A EP2138602B1 (en) | 2005-02-08 | 2006-01-20 | Hard coating laminate and method for forming hard coating laminate |
AT06001204T ATE425275T1 (de) | 2005-02-08 | 2006-01-20 | Hartbeschichtung, target zur herstellung einer hartbeschichtung, und verfahren zur herstellung einer hartbeschichtung |
EP08021469A EP2065484B1 (en) | 2005-02-08 | 2006-01-20 | Hard coating |
EP08021470.3A EP2060655B1 (en) | 2005-02-08 | 2006-01-20 | Hard multilayer coating and method for forming hard multilayer coating |
EP06001204A EP1688513B1 (en) | 2005-02-08 | 2006-01-20 | Hard coating, target for forming hard coating, and method for forming hard coating |
KR1020060011762A KR100753738B1 (ko) | 2005-02-08 | 2006-02-07 | 경질피막, 경질피막 형성용 타겟, 및 경질피막의 제조방법 |
US12/262,390 US7790301B2 (en) | 2005-02-08 | 2008-10-31 | Hard coating, target for forming hard coating, and method for forming hard coating |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005032199 | 2005-02-08 | ||
JP2005032199 | 2005-02-08 | ||
JP2005310339A JP4939032B2 (ja) | 2005-02-08 | 2005-10-25 | 硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010022573A Division JP5368335B2 (ja) | 2005-02-08 | 2010-02-03 | 硬質皮膜および硬質皮膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006249574A JP2006249574A (ja) | 2006-09-21 |
JP4939032B2 true JP4939032B2 (ja) | 2012-05-23 |
Family
ID=36096355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005310339A Expired - Fee Related JP4939032B2 (ja) | 2005-02-08 | 2005-10-25 | 硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7479331B2 (ja) |
EP (4) | EP2065484B1 (ja) |
JP (1) | JP4939032B2 (ja) |
KR (1) | KR100753738B1 (ja) |
AT (1) | ATE425275T1 (ja) |
DE (1) | DE602006005521D1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009068047A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Kobe Steel Ltd | 硬質皮膜、硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型 |
KR101508988B1 (ko) * | 2008-01-11 | 2015-04-14 | 삼성전자주식회사 | 멀티미디어 컨텐츠 리스트 제공방법 및 이를 적용한멀티미디어 기기 |
EP2835445A1 (en) * | 2010-04-23 | 2015-02-11 | Sulzer Metaplas GmbH | PVD coating for metal machining |
JP5344204B2 (ja) | 2012-03-05 | 2013-11-20 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
JP6211858B2 (ja) * | 2013-09-12 | 2017-10-11 | 株式会社神戸製鋼所 | 潤滑性と耐摩耗性に優れた硬質皮膜の製造方法 |
JP6349581B2 (ja) * | 2015-01-14 | 2018-07-04 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 硬質被膜、切削工具および硬質被膜の製造方法 |
CN104805404B (zh) * | 2015-04-30 | 2017-03-01 | 山东大学 | Mo‑W‑S‑C自润滑涂层刀具的制备工艺 |
JP6963932B2 (ja) * | 2017-08-14 | 2021-11-10 | Dowaサーモテック株式会社 | 珪炭窒化バナジウム膜、珪炭窒化バナジウム膜被覆部材およびその製造方法 |
WO2019171648A1 (ja) | 2018-03-07 | 2019-09-12 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具及びその製造方法 |
US11370033B2 (en) | 2018-03-07 | 2022-06-28 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Surface coated cutting tool and method for manufacturing the same |
WO2020084167A1 (en) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Vanadium aluminium nitride (vain) micro alloyed with ti and/or si |
SG11202109137XA (en) * | 2019-03-15 | 2021-09-29 | Nanofilm Tech International Limited | Improved coating processes |
CN112126900B (zh) * | 2019-06-24 | 2023-06-23 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 高温低摩擦硬质纳米多层VAlCN/VN-Ag涂层、其制备方法及应用 |
JP2022147771A (ja) * | 2021-03-23 | 2022-10-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
CN114351087B (zh) * | 2021-12-15 | 2023-03-17 | 核工业西南物理研究院 | 一种CrAlVSiN涂层的制备方法 |
WO2024062612A1 (ja) * | 2022-09-22 | 2024-03-28 | 住友電気工業株式会社 | 切削工具 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4714660A (en) * | 1985-12-23 | 1987-12-22 | Fansteel Inc. | Hard coatings with multiphase microstructures |
JP3027502B2 (ja) * | 1993-03-15 | 2000-04-04 | 健 増本 | 耐摩耗性非晶質硬質膜及びその製造方法 |
JPH0941127A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-10 | Kobe Steel Ltd | 硬質皮膜 |
JP4019457B2 (ja) | 1997-07-15 | 2007-12-12 | 日新電機株式会社 | アーク式蒸発源 |
JP2000144376A (ja) * | 1998-11-18 | 2000-05-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 摺動特性の良好な皮膜 |
JP4112834B2 (ja) | 2000-12-28 | 2008-07-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 切削工具用硬質皮膜を形成するためのターゲット |
ES2273772T3 (es) * | 2000-12-28 | 2007-05-16 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Una pelicula dura para herramientas de corte. |
DE10233222B4 (de) | 2001-07-23 | 2007-03-01 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.), Kobe | Harte verschleissfeste Schicht, Verfahren zum Bilden derselben und Verwendung |
JP4062582B2 (ja) * | 2001-07-23 | 2008-03-19 | 株式会社神戸製鋼所 | 切削工具用硬質皮膜およびその製造方法並びに硬質皮膜形成用ターゲット |
JP4038448B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2008-01-23 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜 |
JP2005271190A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-10-06 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
JP2005271106A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 被覆切削工具 |
-
2005
- 2005-10-25 JP JP2005310339A patent/JP4939032B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-01-18 US US11/333,434 patent/US7479331B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-20 AT AT06001204T patent/ATE425275T1/de not_active IP Right Cessation
- 2006-01-20 DE DE602006005521T patent/DE602006005521D1/de active Active
- 2006-01-20 EP EP08021469A patent/EP2065484B1/en not_active Ceased
- 2006-01-20 EP EP06001204A patent/EP1688513B1/en not_active Not-in-force
- 2006-01-20 EP EP09007222.4A patent/EP2138602B1/en not_active Not-in-force
- 2006-01-20 EP EP08021470.3A patent/EP2060655B1/en not_active Ceased
- 2006-02-07 KR KR1020060011762A patent/KR100753738B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-10-31 US US12/262,390 patent/US7790301B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2138602B1 (en) | 2013-07-03 |
EP2138602A1 (en) | 2009-12-30 |
ATE425275T1 (de) | 2009-03-15 |
EP2065484A1 (en) | 2009-06-03 |
EP1688513B1 (en) | 2009-03-11 |
US20060177698A1 (en) | 2006-08-10 |
KR20060090603A (ko) | 2006-08-14 |
EP2060655B1 (en) | 2013-07-17 |
US20100038232A1 (en) | 2010-02-18 |
EP1688513A1 (en) | 2006-08-09 |
US7479331B2 (en) | 2009-01-20 |
KR100753738B1 (ko) | 2007-08-31 |
EP2065484B1 (en) | 2011-11-30 |
JP2006249574A (ja) | 2006-09-21 |
DE602006005521D1 (de) | 2009-04-23 |
US7790301B2 (en) | 2010-09-07 |
EP2060655A1 (en) | 2009-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4939032B2 (ja) | 硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 | |
JP5909273B2 (ja) | 硬質皮膜および硬質皮膜の製造方法 | |
JP5060714B2 (ja) | 耐摩耗性および耐酸化性に優れた硬質皮膜、並びに該硬質皮膜形成用ターゲット | |
JP3934136B2 (ja) | 硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法 | |
KR100674773B1 (ko) | 경질 필름, 다층 경질 필름 및 그 제조 방법 | |
JP5695720B2 (ja) | 耐摩耗性と耐酸化性に優れた硬質皮膜 | |
JP2006152321A (ja) | 硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法 | |
WO2014142190A1 (ja) | 硬質皮膜、硬質皮膜被覆部材、及びそれらの製造方法 | |
JP4676780B2 (ja) | 硬質皮膜、積層型硬質皮膜およびその製造方法 | |
JP4951101B2 (ja) | 耐摩耗性に優れた硬質皮膜の製造方法 | |
JP5035979B2 (ja) | 高速ミーリング加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
JP2012206195A (ja) | 刃先交換型切削チップおよびそれを用いた切削加工方法、ならびに刃先交換型切削チップの製造方法 | |
JP5179526B2 (ja) | 硬質皮膜、積層型硬質皮膜およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070928 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120224 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4939032 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |