JP4917984B2 - 階段状のプログラミング特性を有する相変化メモリセル - Google Patents
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Description
本出願は、米国特許出願番号##/###、###、代理人明細書番号I331.302.101、「階段状のプログラミング特性を有する相変化メモリセル」、および米国特許出願番号##/###、###、代理人明細書番号I331.303.101、「階段状のプログラミング特性を有する相変化メモリセル」に関する。これら両出願とも、本出願と同日に出願されており、本明細書に参照として援用される。
不揮発性メモリの1つのタイプとして、抵抗メモリがある。抵抗メモリは、メモリ素子の抵抗値を用いて、1ビットまたはそれ以上のデータを記憶する。例えば、抵抗値が高くなるようにプログラムされたメモリ素子は論理値「1」データビット値を示し、抵抗値が低くなるようにプログラムされたメモリ素子は論理値「0」データビット値を示す。メモリ素子の抵抗値は、メモリ素子に電圧パルスまたは電流パルスを印加することによって、電気的に切り替えられる。抵抗メモリの1つのタイプとして、相変化メモリがある。相変化メモリは、抵抗メモリ素子として相変化材料を用いる。
本発明の一実施形態は、メモリセルを提供する。本発明に係るメモリセルは、第1の電極、第2の電極および第1の電極と第2の電極との間に備えられた相変化材料を含む。相変化材料は、階段状のプログラミング特性を有している。第1の電極、第2の電極および相変化材料は、ビアまたはトレンチメモリセル(a via or trench memory cell)を形成している。
本発明をさらに理解するために、図面が添付されている。これらの添付図面は本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する。これらの図面は、本発明の実施形態を例証し、また本明細書における記載と共に本発明の原理を説明するためのものである。本発明の別の実施形態、および本発明の意図する多くの利点については、以下の詳細な説明を参照することによって容易に理解できるであろう。これら図面中の各構成要素は、必ずしも互いに相対的な縮尺とはなっていない。同様の符号は、対応する同様の箇所を示している。
以下の詳細な説明では添付図面を参照する。これらの添付図面は、本明細書の一部を構成するものであり、また本発明を実施し得る具体的な実施形態を例証するために示されている。これに関して、「上」「下」「前」「後」「先端」「後端」等の方向を示す用語は、説明する図面の方向を参照して使用されている。本発明の実施形態の構成要素は、多くの様々な方向に配置することができる。従って、方向を表す上記の用語は、例証するために用いられているものであって、限定を目的とするものではない。なお、本発明の範囲を逸脱することなく、別の実施形態を用いること、および構造的または論理的な変化を加えることができることについて理解されたい。従って、以下の詳細な説明は、限定的な意味として捉えられるものではなく、本発明の範囲は特許請求の範囲によって規定される。
Claims (23)
- 第1の電極と、
第2の電極と、
上記第1の電極と上記第2の電極との間に備えられた、階段状のプログラミング特性を有する相変化材料と、を備えており、
上記第1の電極、上記第2の電極、および上記相変化材料は、ビアまたはトレンチメモリセルを形成し、
上記第1の電極と上記第2の電極との間において、ビアまたはトレンチの側壁部に、階段状のパターンを決める複数のスペーサがさらに備えられ、該複数のスペーサは、該側壁部から遠くなるにつれて順次低くなるように並んでおり、
上記相変化材料が、上記複数のスペーサにより位置決めされて、階段状のパターンを有することを特徴とするメモリセル。 - 上記相変化材料、上記複数のスペーサ、上記第1の電極、および上記第2の電極の側方を取り囲む絶縁材料をさらに備えており、
上記絶縁材料と上記複数のスペーサとは、異なる熱伝導率であることを特徴とする請求項1に記載のメモリセル。 - 上記スペーサは、いずれも、低誘電率材料を含むことを特徴とする請求項2に記載のメモリセル。
- 上記複数のスペーサと上記第1の電極との間には、拡散バリアがさらに備えられていることを特徴とする請求項1に記載のメモリセル。
- 上記拡散バリアは、相変化材料層を含むことを特徴とする請求項4に記載のメモリセル。
- 第1の電極と開口部を有する絶縁材料層とを備えたウェハを用意し、
上記ウェハ上に第1のスペーサ材料を堆積し、
上記第1のスペーサ材料をエッチングし、上記開口部の側壁部および底部を露出させることによって、第1のスペーサを形成し、
上記ウェハおよび上記第1のスペーサの露出させた部分の上に第2のスペーサ材料を堆積し、
上記第2のスペーサ材料を選択的にエッチングすることによって、上記第1のスペーサよりも低い第2のスペーサを形成し、
上記第1のスペーサおよび第2のスペーサの露出した部分の上に相変化材料層を堆積する、ことを含むことを特徴とするメモリを製造するための方法。 - 上記ウェハの用意は、
絶縁材料によって取り囲まれた電極材料を備えた前処理ウェハを用意し、
上記電極材料をエッチングすることによって、上記第1の電極および上記開口部を形成する、ことを含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記ウェハの用意は、
絶縁材料によって取り囲まれた電極材料を備えた前処理ウェハを用意し、
上記前処理ウェハの上にさらなる絶縁材料を堆積し、
上記さらなる絶縁材料をエッチングすることによって、上記第1の電極を露出させると共に、上記開口部を形成する、ことを含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記ウェハの用意は、
拡散バリアに接する上記第1の電極と、上記拡散バリアを露出させる開口部を有する絶縁材料とを備えたウェハを用意する、ことを含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記第1のスペーサ材料の堆積は、
上記絶縁材料よりも熱伝導率の低い上記第1のスペーサ材料を堆積する、ことを含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層を堆積し、
上記相変化材料層をエッチングすることによって、上記開口部の側壁の一部を露出させ、
エッチングした上記相変化材料層および露出した上記ウェハの上に電極材料を堆積し、
上記電極材料を平坦化することによって、第2の電極を形成する、ことをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層を堆積し、
上記相変化材料層を平坦化することによって、上記絶縁材料を露出させ、
平坦化した上記相変化材料層および露出させた上記絶縁材料の上に電極材料層を堆積し、
上記電極材料層をエッチングし、上記絶縁材料の一部分を露出させることによって、第2の電極を形成し、
エッチングした上記電極材料層および露出させた上記絶縁材料の上にさらなる絶縁材料層を堆積し、
上記さらなる絶縁材料層を平坦化することによって、上記第2の電極を露出させる、ことをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層を堆積し、
上記相変化材料層の上に電極材料層を堆積し、
上記相変化材料層および上記電極材料層をエッチングし、上記絶縁材料を露出させることによって、第2の電極を形成し、
上記絶縁材料、エッチングした上記相変化材料層、および上記第2の電極の露出した部分の上にさらなる絶縁材料層を堆積し、
上記さらなる絶縁材料層を平坦化することによって、上記第2の電極を露出させる、ことをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層としての第1の相変化材料層を堆積し、
上記第1の相変化材料層をエッチングし、上記第1のスペーサを露出させることによって、上記第2のスペーサによりその範囲の決められている第1の相変化部分を形成し、
上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第1の相変化部分の露出した部分の上に、上記第1の相変化材料層と異なる相変化材料を含む上記相変化材料層としての第2の相変化材料層を堆積し、
上記第2の相変化材料層をエッチングし、上記開口部の側壁部を露出させることによって、上記第1のスペーサによりその範囲の決められている第2の相変化部分を形成する、ことをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 第1の電極と開口部を有する絶縁材料層とを備えたウェハを用意し、
上記ウェハの上に第1のスペーサ材料層を堆積し、
上記第1のスペーサ材料層をエッチングし、上記開口部の側壁部および底部を露出させることによって、第1のスペーサを形成し、
上記ウェハおよび上記第1のスペーサの露出させた部分の上にエッチストップ材料層を堆積し、
上記エッチストップ材料層の上に第2のスペーサ材料層を堆積し、
上記第2のスペーサ材料層をエッチングし、上記エッチストップ材料層を露出させることによって、上記第1のスペーサよりも低い第2のスペーサを形成し、
上記エッチストップ材料層の露出させた部分を除去することによって、上記開口部の底部および上記第1のスペーサを露出させ、
上記第1のスペーサおよび第2のスペーサの露出した部分の上に相変化材料層を堆積する、ことを含むことを特徴とするメモリを製造するための方法。 - 上記ウェハの用意は、
絶縁材料によって取り囲まれた電極材料を備えた前処理ウェハを用意し、
上記電極材料をエッチングすることによって、上記第1の電極および上記開口部を形成する、ことを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記ウェハの用意は、
絶縁材料に取り囲まれた上記第1の電極を備えた前処理ウェハを用意し、
上記前処理ウェハの上にさらなる絶縁材料を堆積し、
上記さらなる絶縁材料をエッチングすることによって、上記第1の電極を露出させると共に、上記開口部を形成する、ことを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記ウェハの用意は、
拡散バリアに接する上記第1の電極と、当該拡散バリアの露出する上記開口部を有する絶縁材料層と、を備えたウェハを用意する、ことを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記第1のスペーサ材料層の堆積は、
上記絶縁材料よりも低い熱伝導率を有する上記第1のスペーサ材料を堆積する、ことを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層を堆積し、
上記相変化材料層をエッチングし、上記開口部の側壁の一部を露出させ、
上記ウェハの露出させた部分およびエッチングした上記相変化材料層の上に、電極材料層を堆積し、
上記電極材料層を平坦化することによって、第2の電極を形成する、ことをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層を堆積し、
上記相変化材料層を平坦化することによって、上記絶縁材料を露出させ、
平坦化した上記相変化材料層および露出させた上記絶縁材料の上に電極材料層を堆積し、
上記電極材料層をエッチングし、上記絶縁材料を露出させることによって、第2の電極を形成し、
上記第2の電極および露出させた上記絶縁材料の上にさらなる絶縁材料層を堆積し、
上記さらなる絶縁材料層を平坦化することによって、上記第2の電極を露出させる、ことをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層を堆積し、
上記相変化材料層の上に電極材料層を堆積し、
上記相変化材料層および上記電極材料層をエッチングし、上記絶縁材料を露出させることによって、第2の電極を形成し、
上記絶縁材料層の露出させた部分、エッチングした上記相変化材料層、および上記第2の電極の上にさらなる絶縁材料層を堆積し、
上記さらなる絶縁材料層を平坦化することによって、上記第2の電極を露出させる、ことをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第2のスペーサの露出した部分の上に上記相変化材料層としての第1の相変化材料層を堆積し、
上記第1の相変化材料層をエッチングし、上記絶縁材料および上記第1のスペーサの一部分を露出させることによって、上記第2のスペーサによりその範囲の決められた第1の相変化部分を形成し、
上記ウェハ、上記第1のスペーサ、および上記第1の相変化部分の露出した部分の上に、上記第1の相変化材料層と異なる相変化材料を含む上記相変化材料層としての第2の相変化材料層を堆積し、
上記第2の相変化材料層をエッチングし、上記絶縁材料の一部分を露出させることによって、上記第1のスペーサによりその範囲の決められた第2の相変化部分を形成する、ことをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
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