JP4895320B2 - 光導波路デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路に関し、特に、保護層と上部クラッドが樹脂製の光導波路に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年のパソコンやインターネットの普及に伴い、情報伝送需要が急激に増大している。このため、伝送速度の速い光伝送を、パソコン等の末端の情報処理装置まで普及させることが望まれている。これを実現するには、光インターコネクション用に、高性能な光導波路を、安価かつ大量に製造する必要がある。
【0003】
光導波路の材料としては、ガラスや半導体材料等の無機材料と、樹脂が知られている。無機材料により光導波路を製造する場合には、真空蒸着装置やスパッタ装置等の成膜装置により無機材料膜を成膜し、これを所望の導波路形状にエッチングすることにより製造する方法が用いられる。しかしながら、真空蒸着装置やスパッタ装置は、真空排気設備が必要であるため、装置が大型で高価である。また、真空排気工程が必要であるため工程が複雑になる。これに対し、樹脂によって光導波路を製造する場合には、成膜工程を、塗布と加熱により大気圧中で行うことができるため、装置および工程が簡単であるという利点がある。
【0004】
また、光導波路ならびにクラッド層を構成する樹脂としては、種々のものが知られているが、ガラス転移温度(Tg)が高く、耐熱性に優れるポリイミドが特に期待されている。ポリイミドにより光導波路およびクラッド層を形成した場合、長期信頼性が期待でき、半田付けにも耐えることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
樹脂製の光導波路は、一般的には、基板上に、下部クラッド層、光導波路層、上部クラッド層を積層することにより構成される。これらの各層は、屈折率の関係から材料の樹脂が選択されることが多く、必ずしも耐食性の高い樹脂で構成されるとは限らない。そこで、耐食性の高い樹脂により、上部クラッド層を保護する保護層を形成することが考えられる。しかしながら、保護層を構成する樹脂の材料溶液に対して上部クラッド層のぬれ性が悪いと、材料溶液を塗布する際にはじかれてしまうため、一様に保護層を形成することが難しく、保護層に穴があいてしまうことがあった。これでは、保護層としての役割を十分に果たすことができない。ぬれ性を改善するためには、上部クラッド層と保護層との間に、さらに別の樹脂を接着層として配置することが考えられるが、上部クラッド層と保護層の双方の材質と接着性のよい材質を選択する必要があり、しかも、層構成が複雑になるため製造工程も複雑になってしまう。
【0006】
本発明は、樹脂製の光導波路デバイスの製造方法であって、簡単な工程で耐食性の優れた保護層を形成することのできる光導波路デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によれば、以下のような光導波路デバイスの製造方法が提供される。すなわち、下部クラッド層が形成された基板上に、光導波路(コア)と、上部クラッド層とを樹脂により形成する第1の工程と、
前記上部クラッド層の表面部を削り取る第2の工程と、
前記第2の工程が施された上部クラッド層の上に、樹脂の材料溶液を2回重ねて塗布し、これを加熱して硬化させることにより、前記樹脂からなる保護層を形成する第3の工程とを有することを特徴とする光導波路デバイスの製造方法が提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態の光導波路デバイスの製造方法について説明する。
【0009】
本実施の形態では、保護層の材料溶液を塗布する工程の前に、上部クラッド層の上面をアッシングするとともに、保護層の材料溶液を塗布する際に、溶媒雰囲気中で塗布を行うことにより、ぬれ性の良くない上部クラッド層であっても穴のない保護層を形成することを可能にするものである。
【0010】
まず、製造方法により製造される光導波路デバイスの構成を図1、図2を用いて説明する。光導波路デバイスは、Si基板1の上に、光導波路積層体10を備えている。
【0011】
光導波路積層体10は、基板1の上に配置された下部クラッド層3と、その上に搭載された光導波路4と、光導波路4を埋め込む上部クラッド層5と、保護層9とを含んでいる。
【0012】
下部クラッド層3および上部クラッド層5は、いずれも、日立化成工業株式会社製OPI−N1005(商品名)を用いて形成したポリイミド膜からなる。下部クラッド層3の膜厚は、約6μm、上部クラッド層5の膜厚は、下部クラッド層表面から約12μmである。光導波路4は、日立化成工業株式会社製OPI−N3205(商品名)を用いて形成したポリイミド膜からなり、その膜厚は約6μmであり、光導波路4の幅は約6μmである。保護層9は、日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社製PIX−6400(商品名)を用いて形成したポリイミド膜であり、その膜厚は、光導波路4から離れた端部の部分で約5μmである。
【0013】
つぎに、本実施の形態の光導波路デバイスの製造方法について、図1(a)〜(c)、図2(d)、(e)を用いて説明する。
【0014】
まず、Si基板1の全体に前述のOPI−N1005をスピン塗布して材料溶液膜を形成する。その後、乾燥器で100℃で30分、次いで、200℃で30分加熱することにより溶媒を蒸発させ、続けて370℃で60分加熱することにより硬化させ、下部クラッド層3を形成する(図1(b))。
【0015】
この下部クラッド層3の上に、前述のOPI−N3205をスピン塗布して材料溶液膜を形成する。その後、乾燥器で100℃で30分、次いで、200℃で30分加熱することにより溶媒を蒸発させ、続けて350℃で60分加熱することにより硬化を行い、光導波路4となるポリイミド膜を形成する。このポリイミド層の上にレジストをスピン塗布し、乾燥後、水銀ランプで露光、現像することにより、レジストパターン層を形成する。このレジストパターン層は、前述のポリイミド膜を光導波路4の形状に加工するためのマスクとして用いられる。よって、このレジストパターン層をマスクとして、前述のポリイミド層を酸素でリアクティブイオンエッチング(O2−R1E)することにより、光導波路4を得ることができる(図1(c))。その後、レジストパターン層を剥離する。
【0016】
つぎに、光導波路4および下部クラッド層3を覆うように、OPI−N1005をスピン塗布する。得られた材料溶液膜を、乾燥器で100℃で30分、次いで、200℃で30分加熱して材料溶液膜中の溶媒を蒸発させ、350℃で60分加熱することによりポリイミド膜の上部クラッド層5を形成する(図2(d))。
【0017】
つぎに、材料溶液としてPIX−6400により保護層9を形成する。PIX−6400を硬化させることにより得られるポリイミドは、耐食性に優れているが、OPI−N1005から形成した上部クラッド層5は、PIX−6400に対するぬれ性が良くない。このため、上部クラッド層5の上にPIX−6400を通常の方法でスピン塗布すると、部分的にPIX−6400が上部クラッド層5にはじかれる。PIX−6400が上部クラッド層5にはじかれた部分では、PIX−6400の材料溶液膜が形成されないため、材料溶液膜に穴があいた状態となり、穴から上部クラッド層5が露出される。この穴は、PIX−6400を硬化しても残るため、部分的に穴のあいた保護層9となってしまう。そこで、本実施の形態では、上部クラッド層5の保護層9の材料溶液に対するぬれ性を高めるため、上部クラッド層5の上面を酸素プラズマによりアッシングするアッシャ処理を施し、上部クラッド層5の上面を荒らして薄く削りとる。酸素プラズマは、本実施の形態では400W、40Paの条件で発生させる。また、プラズマ発生条件および処理時間を調節することにより、アッシャ処理により上部クラッド層5が削られる厚さを制御する。このようにアッシャ処理を行うことにより、PIX−6400に対する上部クラッド層5のぬれ性を高めることができる。
【0018】
また、本実施の形態では、このアッシャ処理が施された上部クラッド層5の上に、2回にわけてPIX−6400を塗布することにより、材料溶液膜を形成する。その際、1回目の塗布は、PIX−6400に含まれる溶媒であるN,N−ジメチルアセトアミドの蒸気が充満した雰囲気中で行う。溶媒雰囲気中で塗布を行うことにより、PIX−6400に対する上部クラッド層5のぬれ性をさらに高めることができ、PIX−6400は上部クラッド層5にほとんどはじかれない。よって、1回目の塗布により形成される材料溶液膜は、全く穴がないか、穴が生じていてもその径がごく小さくなっている。このようにして形成した1層目の材料溶液膜を200℃まで昇温させ、200℃で10分間加熱することにより溶媒を蒸発させる。なお、スピン塗布を溶媒雰囲気中で行うのは、スピン塗布装置の内壁に前記溶媒を塗布しておくことにより、容易に実現できる。
このように乾燥させた1層目の材料溶液膜の上に、もう一度PIX−6400をコーターで塗布し、2層目の材料溶液膜を塗布する。この2回目の塗布は、1層目が同じPIX−6400の膜であるため、ぬれ性が非常に良く、一様に材料溶液膜を形成できる。この2回目の材料溶液の塗布は、ぬれ性が良いため、溶媒雰囲気中ではなく大気中で行うことができる。2層目の材料溶液膜の塗布により、1層目のPIX−6400膜に小さな穴があった場合にも、その穴の部分を完全に覆うことができる。このようにして2層のPIX−6400の膜を形成することにより、上部クラッド層5の上面は、少なくとも2層目の材料溶液膜で完全に覆われている。
【0019】
このように形成した2層のPIX−6400の膜を、200℃まで昇温させ、200℃で30分加熱して溶媒を蒸発させ、続けて350℃で30分加熱して硬化させる。これにより、厚さ5μmのポリイミド膜の保護層9を得ることができる。
【0020】
このような製造方法で製造した本実施の形態の光導波路デバイス100は、上部クラッド層5の上面が、耐食性の良い保護層9で完全に覆われているため、保護層9形成後の製造工程においてエッチング工程等があっても、光導波路4や上部クラッド5が保護層9によって保護される。よって、光学特性に優れた光導波路デバイスを製造することができる。また、保護層9の耐食性が優れているため、本実施の形態の光導波路デバイスは、製造後の経時劣化を生じにくく、長期間に渡って安定な光学特性を提供できる。
【0021】
なお、保護層9の形成の工程において、アッシャ処理により削りとる上部クラッド層5の厚さは、0.05μm以上0.4μm以下が望ましい。というのは、削りとる厚さが0.05μmよりも薄いと、ぬれ性の改善の効果が十分ではないため、PIX−6400を1回目に塗布する際に必ず溶媒雰囲気中で塗布する必要がある。溶媒雰囲気中で塗布しない場合、図3のように1回目のPIX−6400の塗布により形成される材料溶液膜9aに生じる穴を、2回目の塗布で形成される材料溶液膜9bがふさぎ切れず、材料溶液膜9bの穴から上部クラッド層5が露出されることがある。一方、上部クラッド層5の削り量が0.1μm以上であれば、PIX−6400を1回目に塗布する際に、溶媒雰囲気中で塗布しなくても、少なくも2回目の塗布により形成される材料溶液膜により、上部クラッド層5の上面を覆うことができる。よって、削り量を0.1μm以上にした場合には、上述の2回の塗布工程をいずれも大気中で行うことができるため、さらに簡単な製造工程で上記光導波路デバイスを製造することができる。ただし、アッシャ処理により削られる上部クラッド層5の厚さが、0.4μmを超えると、上部クラッド層5の表面に細かいクラックが生じることがあるため、0.4μm以下に削り量を抑えることが望ましい。
【0022】
上述してきたように、本実施の形態では、樹脂製の上部クラッド層5の上に、保護層9を形成する際に、保護層9の材料溶液に対する上部クラッド層5のぬれ性が低い場合にも、アッシャ処理を行い、塗布時に溶媒雰囲気にするという簡単な処理を行うことにより、上部クラッド層5の上面を完全に覆う保護層9を形成することができる。したがって、保護層9の材料として、耐食性の高い樹脂を選択することができ、簡単な構成で耐食性の優れた光導波路デバイスを製造することができる。
【0023】
なお、上述の実施の形態では、保護層9の材料溶液膜を形成する際に、2回目の塗布を大気中で行っているが、1回目の塗布と同じく溶媒雰囲気中で行うことももちろん可能である。
【0024】
また、保護層9の材料溶液の1回目の塗布の際に、溶媒雰囲気中で塗布する代わりに、塗布の前に溶媒を上部クラッド層5の上面に前記溶媒を塗布した後、前記材料溶液を塗布する方法を用いることもできる。
【0025】
また、上述の実施の形態では、上部クラッド層5にアッシャ処理を施し、表面を荒らしながら薄く削りとることによりぬれ性を向上させているが、アッシャ処理に限らず表面を荒らしながら薄く削り取ることができる他の方法で処理を行うことができる。例えば、逆スパッタ法やドライエッチング法を用いることができる。
【0026】
また、本実施の形態で製造した光導波路デバイスは、下部クラッド層3から保護層9まで全ての層をポリイミドで形成しているため、Tgが高く、耐熱性にすぐれている。よって、本実施の形態の光導波路デバイスは、高温になっても伝搬特性を維持できる。また、ポリイミドは、半田付け等の高温工程にも耐えることができるため、光導波路デバイスの上にさらに別の光導波路デバイスや電気回路素子や受発光素子をはんだ付けすることも可能である。
【0027】
【発明の効果】
上述してきたように、本発明によれば、樹脂製の光導波路デバイスの製造方法であって、簡単な工程で耐食性の優れた保護層を形成することのできる光導波路デバイスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (a)〜(c)は、本発明の一実施の形態の光導波路デバイスを製造する工程を示す斜視図である。
【図2】 (d)、(e)は、本発明の一実施の形態の光導波路デバイスを製造する工程を示す斜視図である。
【図3】 比較例の条件で保護層を形成した場合に、保護層に生じる穴を示す上面図である。
【符号の説明】
1・・・シリコン基板
3・・・下部クラッド層
4・・・光導波路
5・・・上部クラッド層
9・・・保護層
10・・・光導波路積層体
Claims (5)
- 下部クラッド層が形成された基板上に、光導波路と、上部クラッド層とを樹脂により形成する第1の工程と、前記上部クラッド層の表面部を酸素プラズマによりアッシングすることにより0.05μm以上0.4μm以下の厚さで削り取る第2の工程と、前記第2の工程が施された上部クラッド層の上に、保護層を形成する樹脂の材料溶液を、前記材料溶液に含まれる溶媒の蒸気の雰囲気中で少なくとも1回塗布し、これを加熱して硬化させることにより、前記樹脂からなる保護層を形成する第3の工程とを有し、上部クラッド層を形成する樹脂がフッ素化ポリイミドであり、かつ保護層を形成する樹脂がフッ素を含まないポリイミドであることを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
- 請求項1に記載の光導波路デバイスの製造方法において、前記第3の工程では、前記材料溶液を2回重ねて塗布することを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
- 請求項2に記載の光導波路デバイスの製造方法において、前記第3の工程で前記材料溶液を2回重ねて塗布する際に、少なくとも1回目の塗布を、前記材料溶液に含まれる溶媒の蒸気の雰囲気中で行うことを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
- 請求項2または3に記載の光導波路の製造方法において、前記第3の工程で前記材料溶液を2回重ねて塗布する際に、1回目の塗布により形成された前記材料溶液の膜を一旦乾燥させてから2回目の塗布を行うことを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
- 基板上に、樹脂からなる、下部クラッド層、光導波路、上部クラッド層及び保護層を有し、前記上部クラッド層の上面が前記保護層により完全に覆われていることを特徴とする光導波路デバイスであって、前記保護層が、前記上部クラッド層上に溶液でスピン塗布すると部分的に前記上部クラッド層にはじかれる材料で形成されており、上部クラッド層を形成する樹脂がフッ素化ポリイミドであり、かつ保護層を形成する樹脂がフッ素を含まないポリイミドであることを特徴とする光導波路デバイス。
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