JP4788083B2 - The manufacturing method of the sheet | seat for affixing which can peel a base material sheet. - Google Patents

The manufacturing method of the sheet | seat for affixing which can peel a base material sheet. Download PDF

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、仮の基材シートを伴なっており、最終的には転写される転写層を被着体上に接着した後、改めて、基材シートを剥離するようにして使用される、基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
金融機関が発行する預貯金用カードや、カード会社が発行するクレジットカード等のカード類には、それらの真正性を確保する意味で、回折格子パターンやホログラム等の光回折構造が適用してあることが多い。
また、有名ブランドの腕時計等、模造品が出回りやすい商品、もしくはケースにも、光回折構造が適用してあることが多い。
【0003】
なお、回折格子パターンおよびホログラムは、外観が似ているため、いずれもホログラム、あるいはシール機能を持つものであればホログラムシールと呼ばれていることが多いので、この明細書においても、「ホログラムと回折格子」のように併記する場合を除き、ホログラムとは、回折格子、特に回折格子パターンを含む意味で用いる。
【0004】
ホログラム等の光回折構造が上記の例以外にも、種々の分野で使用されるのは、光回折構造が製造の困難性を有しているからとされており、また、外観的には干渉色を有していて目をひきやすいために、意匠的にも優れており、また、場合によっては、剥がそうとすると破壊するものもある等のメリットを有しているからでもある。
【0005】
光回折構造を種々の被着体に適用するには、直接、被着体上で光回折構造を製造することも原理的には可能だが、適用する対象の被着体が、一個ずつの個別のものであるため、通常は、被着体とは別のシート状態で、多くの光回折構造を含む積層シートを製造しておき、個々の被着体上に、光回折構造を適用する方法が採られている。
【0006】
このような光回折構造を含む積層シートとしては、基材シート上に剥離層を介して、光回折構造を含む転写層が積層された貼付け用シートを用い、被着体の所定の位置に合わせて、転写層を貼付け、貼付けた後に、基材シートを剥がすことが行なわれている。転写層は薄い層どうしの積層構造からなるため、一旦貼付けた後は、剥がして、他の被着体に転用することが難しくなるため、不正な転用を防止し得る利点がある。
【0007】
ここでの基材シートは、剥離可能に積層するものであるが、あまり剥がれやすいと、不用意に扱ったのみで、剥離層ごと転写層が基材シートから剥離してしまう恐れがあり、剥がれにくいと剥離時に剥離層の一部やさらには転写層の一部も含めて基材シートに付着したまま剥がれてしまい、転写層の表面が損なわれる恐れがある。
【0008】
また、転写層として、ホログラムや回折格子等の光回折構造を含むものは、光回折構造を有する層の形成の際に、紫外線硬化性樹脂を用いる事が多いが、硬化の際の紫外線照射により、剥離層が劣化もしくは変質して、基材シートと剥離層との接着力が意図に反して上昇してしまうことがある。
あるいは、ホログラムや回折格子等の光回折構造は、通常、その視認性を増すために、光反射性層を伴なうが、この光反射性層の積層の際にもたらされる蒸発金属の熱により、剥離層が劣化もしくは変質して、基材シートと剥離層との接着力が意図に反して上昇してしまうことがある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明においては、上記の従来技術では、貼付け用シートの基材シートと剥離層との接着が不十分で不用意に剥離しやすかったり、剥離しにくいことによる支障があった点、および、転写層が光回折構造を含む場合、その形成時に、過度な紫外線照射を受けて、剥離層が劣化もしくは変質し、基材シートと剥離層との接着力が上昇し過ぎたり、あるいは、光回折構造が伴なう光反射性層の積層の際の熱で、基材シートと剥離層との接着力が上昇し過ぎることを解消しようとするものである。
【0010】
【課題を解決する手段】
本発明においては、貼付け用シートの基材シートと転写層との間の剥離層の厚みを規定しすることにより、上記の課題を解決することができた。
【0011】
第1の発明は、基材シート、剥離層、中間層、光回折構造層、光反射層、プライマー層、及び感熱接着剤層から構成される基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法であって、(1)前記基材シート面へ、厚みが1.5μm以上の前記剥離層を形成する剥離層形成工程、(2)前記剥離層面へ、紫外線吸収剤を含む前記中間層を形成する中間層形成工程、(3)前記中間層面へ、紫外線吸収剤を含み、電離放射線硬化性樹脂からなる未硬化状態の光回折構造形成層を形成する未硬化状態の光回折構造形成層形成工程、(4)前記光回折構造形成層面へ、レリーフホログラム又は回折格子の微細凹凸を賦形し、基材シートの反対側より紫外線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させて、微細凹凸を有する光回折構造層を形成する微細凹凸を有する光回折構造層形成工程、(5)前記光回折構造層の微細凹凸面へ、気相製膜法による透明な前記光反射層を形成する光反射層形成工程、(6)前記光反射層面へ、前記プライマー層を形成するプライマー層形成工程、(7)前記プライマー層面へ、離型剤を含有する前記感熱接着剤層を形成する感熱接着剤層形成工程、とからなることを特徴とする基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法である。
【0012】
【発明の実施の形態】
図1(a)に示すように、本発明の貼付け用シート1は、基材シート2の下面に、剥離層3および転写層4が順に積層されたものであって、転写層4は、例えば、剥離層3側より、下面側に光回折構造の微細な凹凸5aを有する光回折構造形成層5、光反射性層6、および感熱接着剤層7が順に積層された積層構造を有するものである。
【0013】
図1(b)に示すように、本発明の貼付け用シート1は、基材シート2の下面に、剥離層3および転写層4が順に積層されたものであって、転写層4が、剥離層3側より、中間層8、下面側に光回折構造の微細な凹凸5aを有する光回折構造形成層5、光反射性層6、プライマー層9、および感熱接着剤層7が順に積層された積層構造を有するものであってもよい。
【0014】
上記の二例は、本発明をホログラム等の光回折構造を転写し得る貼付け用シート1に適用した例であるが、本発明の貼付け用シート1は、転写層4がより簡素なものであってもよく、例えば、転写層4は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層、もしくは、蒸着等の気相製膜法により形成された金属もしくは金属酸化物等の薄膜層、のいずれかの単独、またはそれらが積層された積層構造を有するものであってもよい。
上記において、転写層4が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層である場合には、熱可塑性樹脂からなる層である場合にくらべて、被着体に適用した後の転写層の耐久性が優れている。
【0015】
転写層4が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層と、気相製膜法により形成された薄膜層との積層構造からなる場合の典型例として、転写層4の剥離層3側より、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなり、下面側に光回折構造の微細な凹凸5aを有する光回折構造形成層5と、薄膜層からなる光反射性層6との積層構造があり、この積層構造が視認性の高く、かつ耐久性の高い光回折構造を与えるものである。
【0016】
電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層は、紫外線硬化性樹脂の硬化物であってよく、従って、光回折構造形成層5は、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなっていてよく、その場合、紫外線吸収剤を含有していてよい。
なお、前記した中間層8も紫外線吸収剤を含有していてよい。
【0017】
図1(a)および図1(b)における最下層の感熱接着剤層7は、感熱接着剤層7以外の転写層4の最下面、もしくは貼付け用シート1を適用する被着体の表面が接着性を有している場合や、貼付けの際に、被着体の表面もしくは貼付け用シート1の下面に接着剤を適用する場合、省いてよい。
【0018】
本発明の貼付け用シートの基材シート2としては、例えば、透明なポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム等のポリエステル樹脂フィルム、もしくはポリオレフィン樹脂フィルム等の、通常、転写フィルムのベースとして使用するものを使用することができる。
【0019】
剥離層3は、貼付け用シート1を被着体に貼付け、基材シート2を剥がすまでの間に、基材シート2と転写層4とを、容易には剥離しない程度に接着させておき、基材シート2を剥がす際には、円滑な剥離が行なえるようにするためのものである。なお、ここで言う剥離層3は、基材シート2を剥離する際には、基材シート2とは離れて、転写層4側に接着したまま残るものである。
【0020】
剥離層3は、基材シート2と強固に接着する樹脂で構成することは好ましくなく、従って、基材シート2の素材とは材質的に似通ったものを避けて選択した樹脂を用いて構成することが好ましい。
また、剥離性を向上させる目的で、基材シート2とは接着性の乏しいニトロセルロース樹脂もしくは酢酸セルロース樹脂を添加することができ、同様の目的で、シリコーン樹脂、シリコーンオイル、ワックス等を添加することもできる。
【0021】
剥離層3は、通常は1〜5μm程度の厚みに形成するが、転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、もしくは転写層が気相製膜法により形成された薄膜層である場合、1.5μm以上であることが好ましく、より好ましくは2.0μm以上である。
剥離層3の厚みが1.5μm未満であると、転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、もしくは転写層が気相製膜法により形成された薄膜層である場合には、それらの層の形成時の電離放射線の照射、もしくは薄膜材料の蒸気が持つの熱の作用で、剥離層3が劣化しやすいので、好ましくない。剥離層3の厚みが1.5μm以上であれば、実質的な劣化の影響は少ないが、劣化の影響をほとんど無い状態にするには、剥離層の厚みが2.0μm以上であることが好ましい。
【0022】
基材シート2と剥離層3との間の接着力の調整は、剥離層3を構成する樹脂の選択によって行なうことができる。
基材シート2が、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム等である場合、線状ポリエステル系樹脂等のポリエステル樹脂を溶解した樹脂溶液を用い、基材シート2に塗付し、乾燥させると、強固な接着力を有するポリエステル樹脂被膜が形成され、剥離層3としては向かない。
ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムである基材シート2に、使用上、支障のない接着力を有する被膜を形成し得る樹脂としては、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、もしくはポリメタクリル酸メチル樹脂等のアクリル樹脂を挙げることができ、これらの樹脂を単独もしくは混合して用いて剥離層3を形成することが好ましい。
【0023】
剥離層3の厚みは先の述べた通りであるが、転写層の形成の際の電離放射線の照射、もしくは薄膜材料の蒸気が持つの熱の作用を回避するには、電離放射線の照射量を減らすか、気相成膜法によって形成する薄膜の厚みを減らすことが好ましい。例えば、薄膜層の厚みを、薄膜層を構成する素材の蒸気の温度にもよるが、80nm以下とすることが好ましい。
【0024】
電離放射線の照射線量を減らすのは、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる観点からは難しい面もあるが、転写層4が電離放射線硬化性樹脂の硬化物、特に紫外線硬化性樹脂の硬化物を含む場合、紫外線の照射を貼付け用シート1の基材シート1とは反対側から行ない、剥離層3よりも紫外線光源側に位置する層に紫外線吸収剤を含有させておき、紫外線照射の影響を抑えることも好ましい。紫外線吸収剤を含有させ得る層は、中間層8、光回折構造形成層5、もしくはプライマー層9である。
【0025】
また、基材シート2と剥離層3の間の剥離力の変化を防止する意味で、剥離層3を構成する樹脂には、安定剤を配合することが好ましく、安定剤は、剥離層3を構成する樹脂が複数種からなるときは、その各々の樹脂ごとに適した配合剤を配合することがより好ましい。剥離層3への安定剤の配合は、転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物のみからなる場合、もしくは転写層が気相製膜法により形成された薄膜層のみからなる場合にも、あるいはこれらの組み合わせのみからなる場合にも有効である。
安定剤としては、塩化ビニル系樹脂用の脱塩化水素を防止するもの、酸化防止剤、もしくは光安定剤がある。
【0026】
塩化ビニル系樹脂用の脱塩化水素を防止するものとしては、金属石鹸系安定剤、有機錫化合物系安定剤、鉛化合物系安定剤、アンチモン化合物系安定剤があり、安定化助剤であるエポキシ化合物、亜リン酸エステル系化合物、β−ジケトン系化合物等と組み合わせて用いられることがある。
酸化防止剤としては、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(旭電化工業(株)製、アデカスタブAO−50)等のフェノール系酸化防止剤、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート等の有機硫黄化合物系酸化防止剤、もしくはトリスノニルフェニルホスファイト等の有機リン化合物系酸化防止剤等がある。
光安定剤は、後記する紫外線吸収剤(ヒンダードアミン系化合物を含む。)である。
これらの安定剤は、安定剤の種類にもよるが、質量基準で、樹脂に対して1/100000〜1/100、好ましくは1/10000〜1/1000程度の割合で配合するとよい。
【0027】
光回折構造形成層5は、透明な合成樹脂、好ましくは電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層の片面に、光回折構造の微細凹凸(以降、単に凹凸と言うことがある。)5aが形成されたものである。
光回折構造の代表例であるホログラムとしては、平面ホログラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例としては、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フルネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム(イメージホログラムなど)、白色光再生ホログラム(レインボーホログラムなど)、カラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。
【0028】
光回折構造形成層5を構成する透明な合成樹脂としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(例、PMMA)、ポリスチレン、もしくはポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂以外に、熱硬化性樹脂、例えば、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、もしくはトリアジン系アクリレート等が挙げられる。
【0029】
上記の透明な合成樹脂は、それぞれ単独、或いは上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用することができ、更には、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質、或いは、これらにラジカル重合性不飽和単量体を加え電離放射線硬化性としたものなどを使用することができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料なども使用できる。
【0030】
上記の樹脂からなる光回折構造形成用の層への光回折構造の形成は、上記の材料を用いて、従来既知の方法によって形成することができる。例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型として用い、上記の樹脂からなる層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。また、フォトポリマーを用いる場合は、前記積層シートの保護層上に、フォトポリマーを同様にコーティングした後、前記原版を重ねて紫外線等の電離放射線を照射することにより複製することができる。
【0031】
このように、表面凹凸のレリーフとして回折格子やホログラムの干渉縞を光回折構造層の表面に記録する方法は、量産性があり、コストも低くできる点で特に好ましい。このような光回折構造形成層5の膜厚は、0.1〜6μmの範囲が好ましく、0.1〜4μmの範囲が更に好ましい。
【0032】
上記の光回折構造形成層5の表面に、凹凸のレリーフとして回折格子やホログラムの干渉縞を記録した場合には、その回折効率を高めるために、光反射性層6をレリーフ面に積層形成することが好ましく、そのような光反射性層6としては、回折構造形成層5とは屈折率の異なる透明反射層とがある。
【0034】
後者の、光回折構造形成層5とは屈折率の異なる透明反射層を構成する素材としては、光回折構造形成層5より屈折率が大きい、ZnS、TiO2、Al23、Sb23 、SiO、TiO、もしくはSiO2 等が挙げられる。
また、光回折構造形成層5より屈折率が小さい、LiF、MgF2 、もしくはAlF3 等が挙げられる。
【0035】
更に、光回折構造形成層5とは屈折率の異なる透明な合成樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレートの層を光反射性層6を構成する素材として用いることもできる。
【0036】
光回折構造形成層5とは屈折率の異なる透明反射層の膜厚は、薄膜を形成する材料の透明領域であればよいが、通常は100〜1000Åが好ましい。透明反射層をレリーフ面に積層形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの薄膜形成法が挙げられる。透明反射層は、その屈折率が光回折構造形成層より大きくても小さくてもよいが、屈折率の差が0.3以上あることが好ましく、差が0.5以上、更には1.0以上あることがより好ましい。
【0037】
感熱接着剤層7は、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合体樹脂、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル及びその共重合体樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体樹脂、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、又はフェノール樹脂が使用できる。あるいは、SBS(スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー)、SIS(スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー)、SEBS(スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー)等の熱可塑性エラストマー、又は反応ホットメルト性樹脂等を用いて構成する。感熱接着剤層7の厚みとしては、1μm〜10μmとするとよい。
【0038】
感熱接着剤層7に、昇華転写リボン等の転写リボンとサーマルヘッド等を用いた転写により、文字や画像を形成する場合があり、この場合、転写リボンと感熱接着剤層7とが熱融着しないよう、感熱接着剤層7にシリコーンオイルやシリコーン樹脂等の離型剤を配合しておくとよい。
なお、このように、感熱接着剤層7に文字や画像を形成すると、被着体に適用した後は、文字や画像を有する感熱接着剤層7上を他の層、好ましくは光回折構造が覆うため、文字や画像の改ざんが困難になる利点が生じる。
【0039】
中間層8は、剥離層3と転写層4との間に設ける層であって、剥離層3と転写層4とを強固に接着させるための層である。
剥離層3はその性格上、基材シート2との接着力を抑制したものであるため、剥離層3と転写層4の間の接着力が低下しがちであるので、中間層としては、剥離層3を構成する成分の樹脂、および転写層4を構成する成分の樹脂を混合したものを用いて構成するか、剥離層3と転写層4の各々を構成する樹脂と反応し得る官能基を有する樹脂を用いて構成するか、もしくはウレタン樹脂のような、表面に対する濡れのよい樹脂を用いて構成するとよく、いわゆるプライマー層形成用の素材も利用できるので、プライマー層とも言える。ウレタン樹脂の他には、エポキシ樹脂も利用できる。
【0040】
プライマー層9は、反射層の最下層の感熱接着剤層7と、光回折構造を構成する光反射性層6との間に設けるもので、光反射性層6が金属や金属の酸化物である場合、接着力が乏しくなる恐れがあることを補うものである。
プライマー層9は、感熱接着剤層7、および光反射性層6の材料を考慮して選択された樹脂を用いて構成することができるが、ウレタン樹脂のような、表面に対する濡れのよい樹脂を用いて構成するとよい。
【0041】
光回折構造形成層5もしくは中間層8に配合し得る紫外線吸収剤としては、(1)ベンゾフェノン系、(2)ベンゾトリアゾール系、(3)アクリレート系、(4)サリシレート系、もしくは(5)オキザニリド系のものに加え、(6)ヒンダードアミン系のものを使用することができる。
【0042】
本発明の貼付け用シート1を使用する際には、図2(a)に示すように、貼付け用シート1を、その転写層4側が被着体12側となるようにして、被着体12上に重ね、平板プレスまたはロールプレスにより、加熱および加圧して、被着体12上に貼付け用シート1を接着させる。
その後、貼付け用シート1の基材シート2を剥離することにより、図2(b)に示すように、被着体2上に転写層4および剥離層3が順に積層された記録媒体11を得ることができる。
【0043】
図3は、上記のようにして得ることができる記録媒体11の一例を示すものであって、カードの形態の被着体12の右側に転写層4が積層されており、上辺に沿ったやや内側に磁気記録層13を有し、このほか、カードの名称、番号、有効期限、保持者の氏名等が文字14として形成されたものである。
【0044】
被着体12を構成する基材としては、剛性があって折れ曲がりにくく、上記の光回折構造層3に加え、他の記録手段を備えることがあり得るので、例えば、磁気記録層や文字等を設ける際の加工性が優れたもので構成されていることが好ましい。
【0045】
具体的な被着体12の基材の素材としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン系、アクリル、ポリプロピレン、ポリエチレンなどの樹脂のほか、アルミニウム、銅などの金属、紙、そして、樹脂またはラテックス等の含浸紙等の単独、或いは複合体シート等を用いることができる。
耐熱性が要求される場合、基材の素材として、非晶質ポリエステル樹脂、非晶質ポリエステル樹脂とポリカーボネート樹脂のブレンド樹脂等のシートも用いることができる。
【0046】
被着体12の基材の厚さは、材質によっても異なるが、通常、10μm〜5mm程度の範囲である。被着体12が磁気カードである場合、基材をISO規格に準拠したものとする場合には、その厚さは0.76mmである。そして、基材をポリ塩化ビニル(以下、PVC)で形成する場合、通常、厚さ280μmの白色PVCシートをコアシートとして、これを2枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ100μmの透明PVCシートをオーバーシートとして重ねて、熱プレスなどにより積層する4層構成の基材シート(合計厚さ0.76mm)が用いられている。
【0047】
磁気記録層13は、通常、5〜10mm幅程度のストライプ状のものであって、基材2の表面に、(1)磁性剤粉末を含有する物質を添加し混練して調製した磁気塗料を用いて直接に塗布して設けたもの、(2)別の薄いプラスチックシート等の基材に塗布し、ストライプ状にカットして基材上に貼って設けたもの、もしくは(3)別の仮の基材に剥離可能に積層して準備された磁気記録層転写シートを用い、転写法により、基材上に転写して形成されたものである。
【0048】
磁気記録層13としては、基材に対して、磁性物質の蒸着やスパッタリング等により気相状態で磁性物質の薄膜として形成されたものや、薄膜の形成を、磁気記録媒体の基材とは別の基材上に行ない、その後、ストライプ状にカットして貼るか、転写により適用ものであってもよい。
【0049】
カードを含め、一般的な記録媒体においては、磁気記録層13を備えていることが普通である。磁気記録層13は、光学記録層やICモジュール等で置き換えてもよい。ただし、光学記録層やICモジュールが備わっていても、汎用性のある磁気記録層13を備えていることが好ましい。
【0050】
文字14は、カード発行会社の名称、カードの名称、カードの発行番号、有効期限、カードを保持する者の氏名、および注意書等を示すためのものである。これらのうち、カードの発行番号、有効期限、およびカードを保持する者の氏名をエンボス加工による凹凸により形成しておくことが多い。
なお、被着体12の基材2には、文字14以外に、カードを装飾するための着色や模様の付与が行なわれていてもよく、着色や模様の付与、およびエンボス加工によらない文字の形成は、通常、印刷により行なわれる。
【0051】
本発明は上記のような、カードに限定されるものではなく、本発明の記録媒体11は、種々の用途に合わせて使用するものであり得る。
記録媒体11は、ID(本人確認)用のカードであってよい。ID用のカードは、具体的には、銀行等の預貯金カード、クレジットカード、身分証明書等であり得る。必ずしもカードではない受験票、パスポート等でもよい。
また、記録媒体11は、紙幣、商品券、株券、証券、預金通帳、乗車券、航空券等で有り得る。交通機関や公衆電話用のプリペイドカードでも有り得る。これらの記録媒体には金額等の情報が記録されている。
【0052】
本発明は、高額な物品の真正性の証明用に用いる場合もある。代表例として、高級腕時計、貴金属、宝飾品等、いわゆるブランド品といわれる世界的に著名な高級商品やそれらの収納箱やケースであり、これらが被着体12に貼付け用シートを適用して得られたものが記録媒体となり得る。
音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、もしくはゲームソフト等が記録された磁気的記録媒体等の記憶媒体やそれらのケース等にも、これらを被着体12として、貼付け用シートを適用することができる。
【0053】
【実施例】
(実施例1)
貼付け用シートとして、厚みが25μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いて各層を順次形成した。
まず、片面に、剥離層を後記する剥離層形成用組成物を用いて形成し、厚みが2μmの紫外線硬化性樹脂の硬化物からなるホログラム形成層、TiO2薄膜からなる反射層、厚みが0.5μmのウレタン樹脂系プライマー層、および厚みが2μmで、シリコーンオイルを0.1%含む塩化ビニル/酢酸ビニル共重合樹脂系の感熱接着剤層の各層を、順次形成して、剥離層の厚みの違いおよびTiO2薄膜の厚みの違いをそれぞれ組み合わせた四通りの貼付け用シートを得た。
ここで、剥離層としては、厚みが1μmのもの、1.5μmのもの、および2.0μmのものを、TiO2薄膜としては、厚みが40nmのもの、および80nmのものをそれぞれ形成した。
【0054】
なお、ホログラム形成層にはホログラムの凹凸を金属型を押し付けて形成した後、500mJの紫外線を照射して層を硬化させた後、凹凸が形成された面に反射層を形成した。
各層の形成は、反射層の形成を蒸着で行なった以外は、いずれもグラビアコーティングによって行なった。なお、「部」および「%」は、いずれも質量基準である。
(剥離層形成用組成物)
・メタクリル酸メチル樹脂 8部
・フェノール系酸化防止剤 0.0007部
(旭電化工業(株)製、アデカスタブAO−50、メタクリル酸メチル樹脂用として)
・塩化ビニル/酢酸ビニル共重合樹脂 5部
・塩化ビニル樹脂用安定剤 0.005部
(旭電化工業(株)製、アデカスタブAC−212)
・ニトロセルロース樹脂 1部
・エポキシ系コンポーネント安定剤 0.0003部
(旭電化工業(株)製、アデカサイザーO−130P)
・ポリエステル樹脂 0.5部
・光安定剤 0.003部
(旭電化工業(株)製、アデカスタブLA−32、剥離層全体の安定剤として)
・溶剤(メチルエチルケトン/トルエン=1/1) 50部
【0055】
得られた四通りの貼付け用シートの各々の感熱接着剤層に、昇華転写リボンを用い、サーマルプリンタにより、画像を形成した後、貼付け用シートを塩化ビニル樹脂製のカード上に、感熱接着剤層側がカード側を向くようにして重ね、熱ラミネーターを用いて、貼付け用シートとカードを接着し、接着した後に、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを剥がした結果は次の通りである。
【0056】
(1)剥離層の厚み;1μm、TiO2薄膜の厚み;40nm
(2)剥離層の厚み;1μm、TiO2薄膜の厚み;80nm
上記の(1)および(2)の貼付け用シートを使用した場合には、いずれも、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを円滑に剥がすことが困難で、剥離力が0.5kgfを越えており、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間で剥離せず、他の層間で剥離したり、あるいは基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが破断した。
【0057】
(3)剥離層の厚み;1.5μm、TiO2薄膜の厚み;40nm
この(3)の貼付け用シートを使用した場合には、剥離力は0.015kgfで安定し、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間で円滑な剥離を行なうことができた。
(4)剥離層の厚み;1.5μm、TiO2薄膜の厚み;80nm
この(4)の貼付け用シートを使用した場合には、剥離力が0.022kgfで、未だかなり大きいものの、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムの剥離はほぼ円滑に行なうことができた。
(5)剥離層の厚み;2.0μm、TiO2薄膜の厚み;40nm
剥離力が0.058kgfであり、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間で円滑な剥離を行なうことができた。
(6)剥離層の厚み;2.0μm、TiO2薄膜の厚み;80nm
剥離層の厚みが2.0μm、TiO2薄膜の厚みが40nmの場合には剥離力が0.010kgfで若干大きいものの、上記の(4)にくらべて、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間での剥離がより円滑に行なえた。
【0058】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、離層の厚みを規定したので、被着体に適用した後の耐久性が高く、貼付け後の基材シートの剥離を円滑に行なうことが可能な、基材シートを剥離し得、また、光回折構造層および光反射性層からなる光回折構造を被着体表面に付与でき、貼付け後の基材シートの剥離を円滑に行なえ、さらに光回折構造層が、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなり、かつ紫外線吸収剤を含有しているので、硬化物であることによる耐久性を有し、かつ紫外線吸収剤を含有することにより、紫外線を受けて劣化する恐れを少なくした光回折構造を、被着体表面に付与することが可能な、基材シートを剥離し得る貼付け用シートを提供することができる。また、製造時に基材シートとは反対側から紫外線を照射すれば、剥離層への悪影響を排除することが可能である。さらにまた、光反射性層上に、離型剤を含有する感熱接着剤層が積層されたものであるために、感熱接着剤層に転写リボンとサーマルヘッド等を用いた転写を可能とし、反射性層と前記離型剤を含有する感熱接着剤層との間にプライマー層が積層されたものであるので、光反射性層と感熱接着剤層との間の接着力が強化され、離層との間に中間層を有しているので、転写層と剥離層との接着力が強化され、間層が紫外線吸収剤を含有しているので、製造時に基材シートとは反対側から紫外線を照射すれば、剥離層への悪影響を排除することが可能な、基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】貼付け用シートの断面図である。
【図2】貼付け用シートを被着体に適用する様子を示す断面図である。
【図3】貼付け用シートを用いて得られるカード状の記録媒体を示す図である。
【符号の説明】
1 貼付け用シート
2 基材シート
3 剥離層
4 転写層
5 光回折構造形成層(5a;凹凸)
6 光反射性層
7 感熱接着剤層
8 中間層
9 プライマー層
11 記録媒体
12 被着体
13 磁気記録層
14 文字
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is accompanied by a temporary base sheet, and finally, after the transfer layer to be transferred is adhered onto the adherend, the base sheet is used again to peel off the base sheet. Affixing sheet that can peel material sheet Manufacturing method It is about.
[0002]
[Prior art]
Cards such as deposit and saving cards issued by financial institutions and credit cards issued by credit card companies must have a light diffraction structure such as a diffraction grating pattern or hologram to ensure their authenticity. There are many.
In addition, light diffraction structures are often applied to products or cases in which counterfeit products are easily available, such as famous brand watches.
[0003]
Since the diffraction grating pattern and the hologram are similar in appearance, they are often called holograms or hologram seals if they have a sealing function. Except for the case of “diffraction grating”, the term “hologram” is used to mean including a diffraction grating, particularly a diffraction grating pattern.
[0004]
The reason why optical diffraction structures such as holograms are used in various fields other than the above examples is that the optical diffraction structures have difficulty in manufacturing, and are visually interfered. This is because it has a color and is easy to catch the eye, so that it is excellent in design and, in some cases, has a merit that some may break when it is peeled off.
[0005]
In order to apply the light diffraction structure to various adherends, it is possible in principle to manufacture the light diffraction structure directly on the adherend, but the target adherends to be applied are individually one by one. In general, a laminated sheet including many light diffractive structures is manufactured in a sheet state different from the adherend, and the light diffractive structure is applied to each adherend. Has been adopted.
[0006]
As a laminated sheet including such a light diffractive structure, an adhesive sheet in which a transfer layer including a light diffractive structure is laminated on a base sheet via a release layer is used, and is aligned with a predetermined position of an adherend. Then, after pasting and pasting the transfer layer, the substrate sheet is peeled off. Since the transfer layer has a laminated structure of thin layers, it is difficult to peel off and transfer to other adherends after pasting, so that there is an advantage that unauthorized transfer can be prevented.
[0007]
Here, the base sheet is laminated so that it can be peeled off. However, if it is easy to peel off, the transfer layer may peel off from the base sheet together with the release layer only by careless handling. If it is difficult, the part of the release layer or part of the transfer layer may be peeled off while adhering to the substrate sheet at the time of peeling, and the surface of the transfer layer may be damaged.
[0008]
In addition, a transfer layer including a light diffraction structure such as a hologram or a diffraction grating often uses an ultraviolet curable resin when forming a layer having a light diffraction structure. The release layer may be deteriorated or deteriorated, and the adhesive force between the base sheet and the release layer may increase unintentionally.
Alternatively, light diffractive structures such as holograms and diffraction gratings are usually accompanied by a light reflective layer to increase their visibility, but due to the heat of the evaporated metal provided during the lamination of the light reflective layer. The release layer may be deteriorated or deteriorated, and the adhesive force between the base sheet and the release layer may increase unintentionally.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
In the present invention, in the above-described conventional technology, the adhesion between the base sheet and the release layer of the application sheet was insufficient, and it was difficult to peel inadvertently or was difficult to peel, and the transfer When the layer contains a light diffractive structure, it is exposed to excessive UV irradiation at the time of formation, and the release layer deteriorates or deteriorates, and the adhesive force between the base sheet and the release layer increases excessively, or the light diffractive structure It is intended to eliminate the excessive increase in the adhesive force between the base sheet and the release layer due to the heat during the lamination of the light-reflective layer.
[0010]
[Means for solving the problems]
In this invention, said subject was able to be solved by prescribing | regulating the thickness of the peeling layer between the base material sheet of a sheet | seat for affixing, and a transfer layer.
[0011]
1st invention is a base material sheet , Release layer, intermediate layer, light diffraction structure layer, light reflection layer, primer layer, and heat sensitive adhesive layer Affixing sheet that can peel the base sheet (1) To the base sheet surface, Thickness is 1.5μm or more A release layer forming step for forming the release layer, (2) an intermediate layer forming step for forming the intermediate layer containing an ultraviolet absorber on the release layer surface, and (3) an ultraviolet absorber on the intermediate layer surface, From ionizing radiation curable resin An uncured optical diffraction structure forming layer forming step for forming an uncured optical diffraction structure forming layer, and (4) forming relief holograms or fine irregularities of a diffraction grating on the surface of the optical diffraction structure forming layer, A step of forming a light diffractive structure layer having fine irregularities by irradiating ultraviolet rays from the opposite side of the material sheet to cure the ionizing radiation curable resin to form a light diffractive structure layer having fine irregularities; (5) the light diffraction A light reflecting layer forming step of forming the transparent light reflecting layer by a vapor deposition method on the fine irregular surface of the structural layer; (6) a primer layer forming step of forming the primer layer on the light reflecting layer surface; 7) A heat-sensitive adhesive layer forming step of forming the heat-sensitive adhesive layer containing a release agent on the primer layer surface. A sticking sheet capable of peeling a substrate sheet characterized by that Manufacturing method It is.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
As shown in FIG. 1 (a), the sticking sheet 1 of the present invention is obtained by sequentially laminating a release layer 3 and a transfer layer 4 on the lower surface of a base sheet 2, and the transfer layer 4 is, for example, The light-diffusing structure forming layer 5, the light-reflective layer 6, and the heat-sensitive adhesive layer 7 having the fine irregularities 5a of the light-diffracting structure on the lower surface side from the peeling layer 3 side have a laminated structure in which they are laminated in order. is there.
[0013]
As shown in FIG. 1B, the sticking sheet 1 of the present invention is obtained by sequentially laminating a release layer 3 and a transfer layer 4 on the lower surface of a base sheet 2, and the transfer layer 4 is peeled off. From the layer 3 side, the intermediate layer 8, the light diffraction structure forming layer 5 having the fine irregularities 5 a of the light diffraction structure on the lower surface side, the light reflective layer 6, the primer layer 9, and the heat-sensitive adhesive layer 7 were laminated in order. It may have a laminated structure.
[0014]
The above two examples are examples in which the present invention is applied to an affixing sheet 1 capable of transferring a light diffraction structure such as a hologram. However, the affixing sheet 1 of the present invention has a simpler transfer layer 4. For example, the transfer layer 4 is either a layer made of a cured product of an ionizing radiation curable resin, or a thin film layer such as a metal or metal oxide formed by a vapor deposition method such as vapor deposition. These may be used alone or may have a laminated structure in which they are laminated.
In the above, in the case where the transfer layer 4 is a layer made of a cured product of an ionizing radiation curable resin, the durability of the transfer layer after being applied to an adherend is compared with a case where the transfer layer 4 is a layer made of a thermoplastic resin. The property is excellent.
[0015]
As a typical example in the case where the transfer layer 4 has a laminated structure of a layer made of a cured product of an ionizing radiation curable resin and a thin film layer formed by a gas-phase film forming method, the transfer layer 4 is from the side of the release layer 3. There is a laminated structure of a light diffractive structure forming layer 5 made of a cured product of an ionizing radiation curable resin and having fine irregularities 5a of a light diffractive structure on the lower surface side, and a light reflective layer 6 made of a thin film layer. The laminated structure provides an optical diffraction structure with high visibility and high durability.
[0016]
The layer made of the cured product of the ionizing radiation curable resin may be a cured product of the ultraviolet curable resin, and thus the light diffraction structure forming layer 5 may be made of the cured product of the ultraviolet curable resin. Further, it may contain an ultraviolet absorber.
The intermediate layer 8 described above may also contain an ultraviolet absorber.
[0017]
The lowermost heat-sensitive adhesive layer 7 in FIGS. 1A and 1B has the lowermost surface of the transfer layer 4 other than the heat-sensitive adhesive layer 7 or the surface of the adherend to which the application sheet 1 is applied. When the adhesive is applied or when the adhesive is applied to the surface of the adherend or the lower surface of the sticking sheet 1 at the time of sticking, it may be omitted.
[0018]
As the base material sheet 2 of the sticking sheet of the present invention, for example, a polyester resin film such as a transparent polyethylene terephthalate resin film, or a polyolefin resin film, which is usually used as a base for a transfer film may be used. it can.
[0019]
The release layer 3 is adhered to the substrate sheet 2 and the transfer layer 4 so as not to be easily peeled before the sheet 1 for application is attached to the adherend and the substrate sheet 2 is peeled off. When peeling the base material sheet 2, it is for enabling smooth peeling to be performed. In addition, when peeling the base material sheet 2, the peeling layer 3 said here leaves | separates from the base material sheet 2, and remains with adhering to the transfer layer 4 side.
[0020]
The release layer 3 is not preferably composed of a resin that adheres firmly to the base sheet 2, and therefore is composed of a resin that is selected while avoiding material similar to the material of the base sheet 2. It is preferable.
Further, for the purpose of improving the peelability, a nitrocellulose resin or a cellulose acetate resin having poor adhesion to the base sheet 2 can be added, and for the same purpose, a silicone resin, silicone oil, wax or the like is added. You can also.
[0021]
The release layer 3 is usually formed to a thickness of about 1 to 5 μm, but when the transfer layer is made of a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, or the transfer layer is a thin film layer formed by a vapor deposition method. Is preferably 1.5 μm or more, more preferably 2.0 μm or more.
When the thickness of the release layer 3 is less than 1.5 μm, the transfer layer is made of a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, or the transfer layer is a thin film layer formed by a vapor deposition method. Is not preferable because the release layer 3 is easily deteriorated by irradiation with ionizing radiation during the formation of these layers or by the heat of the vapor of the thin film material. If the thickness of the release layer 3 is 1.5 μm or more, the influence of the substantial deterioration is small, but in order to obtain almost no influence of the deterioration, the thickness of the release layer is preferably 2.0 μm or more. .
[0022]
Adjustment of the adhesive force between the base sheet 2 and the release layer 3 can be performed by selecting a resin constituting the release layer 3.
When the base sheet 2 is a polyethylene terephthalate resin film or the like, a strong solution is obtained by applying a resin solution in which a polyester resin such as a linear polyester resin is dissolved to the base sheet 2 and then drying it. The polyester resin film is formed and is not suitable as the release layer 3.
Examples of a resin that can form a coating film having an adhesive force that does not hinder the use on the base sheet 2 that is a polyethylene terephthalate resin film include acrylic resins such as vinyl chloride / vinyl acetate copolymer or polymethyl methacrylate resin. The release layer 3 is preferably formed using these resins alone or in combination.
[0023]
The thickness of the release layer 3 is as described above, but in order to avoid the effect of ionizing radiation during the formation of the transfer layer or the heat of the vapor of the thin film material, the dose of ionizing radiation should be reduced. It is preferable to reduce the thickness of the thin film formed by the vapor deposition method. For example, the thickness of the thin film layer is preferably 80 nm or less, although it depends on the vapor temperature of the material constituting the thin film layer.
[0024]
Although it is difficult to reduce the irradiation dose of ionizing radiation from the viewpoint of curing the ionizing radiation curable resin, the transfer layer 4 contains a cured product of an ionizing radiation curable resin, particularly a cured product of an ultraviolet curable resin. In this case, ultraviolet irradiation is performed from the side opposite to the base sheet 1 of the sticking sheet 1, and an ultraviolet absorber is contained in a layer located on the ultraviolet light source side with respect to the release layer 3 to suppress the influence of ultraviolet irradiation. It is also preferable. The layer that can contain the ultraviolet absorber is the intermediate layer 8, the light diffraction structure forming layer 5, or the primer layer 9.
[0025]
Moreover, it is preferable to mix | blend a stabilizer with the resin which comprises the peeling layer 3 in the meaning which prevents the change of the peeling force between the base material sheet 2 and the peeling layer 3, and a stabilizer removes the peeling layer 3. When the resin which comprises comprises multiple types, it is more preferable to mix | blend the compounding agent suitable for each of each resin. In the case where the transfer layer is composed only of a cured product of the ionizing radiation curable resin composition, or the transfer layer is composed only of a thin film layer formed by a vapor deposition method, the stabilizer is mixed into the release layer 3. It is also effective when it consists of only these combinations.
Stabilizers include those that prevent dehydrochlorination for vinyl chloride resins, antioxidants, or light stabilizers.
[0026]
There are metal soap type stabilizers, organotin compound type stabilizers, lead compound type stabilizers, antimony compound type stabilizers, and epoxy which is a stabilizing aid for preventing dehydrochlorination for vinyl chloride resins. It may be used in combination with a compound, a phosphite compound, a β-diketone compound, or the like.
Antioxidants include phenolic antioxidants such as stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., ADK STAB AO-50), dilauryl There are organic sulfur compound antioxidants such as −3,3′-thiodipropionate, or organic phosphorus compound antioxidants such as trisnonylphenyl phosphite.
The light stabilizer is an ultraviolet absorber (including a hindered amine compound) described later.
Although depending on the kind of stabilizer, these stabilizers may be blended at a ratio of 1/100000 to 1/100, preferably 1/10000 to 1/1000, based on mass.
[0027]
The light diffraction structure forming layer 5 has a fine unevenness (hereinafter, simply referred to as unevenness) 5a of the light diffraction structure on one side of a layer made of a transparent synthetic resin, preferably a cured product of an ionizing radiation curable resin. It is formed.
As a typical example of a light diffraction structure, a planar hologram and a volume hologram can be used. Specific examples include a relief hologram, a Lippmann hologram, a Furnell hologram, a Fraunhofer hologram, a lensless Fourier transform hologram, a laser reproduction hologram ( Image holograms), white light reproduction holograms (rainbow holograms, etc.), color holograms, computer holograms, hologram displays, multiplex holograms, holographic stereograms, holographic diffraction gratings and the like.
[0028]
The transparent synthetic resin constituting the light diffraction structure forming layer 5 may be a thermosetting resin such as an unsaturated polyester other than a thermoplastic resin such as polyvinyl chloride, acrylic resin (eg, PMMA), polystyrene, or polycarbonate. , Melamine, epoxy, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, or triazine acrylate. .
[0029]
Each of the above transparent synthetic resins can be used alone or in combination with the thermoplastic resin and the thermosetting resin, and further, a thermoformable substance having a radical polymerizable unsaturated group, or A radical polymerizable unsaturated monomer added to these to make them ionizing radiation curable can be used. In addition, photosensitive materials such as silver salt, dichromated gelatin, thermoplastic, diazo photosensitive material, photoresist, ferroelectric, photochromic material, thermochromic material, chalcogen glass, and the like can also be used.
[0030]
The light diffraction structure can be formed on the light diffraction structure forming layer made of the above-described resin by a conventionally known method using the above materials. For example, when recording the diffraction fringes or hologram interference fringes as a relief of the surface irregularities, the original plate on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in the irregular shape is used as a press mold, and the above-described resin layer is formed on the resin layer. The concavo-convex pattern of the original plate can be duplicated by stacking the original plate and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll. In the case of using a photopolymer, the photopolymer can be similarly coated on the protective layer of the laminated sheet, and then duplicated by irradiating ionizing radiation such as ultraviolet rays with the original being overlaid.
[0031]
As described above, a method of recording diffraction gratings or hologram interference fringes on the surface of the optical diffraction structure layer as a relief of the surface irregularities is particularly preferable because it is mass-productive and can reduce the cost. The film thickness of the light diffraction structure forming layer 5 is preferably in the range of 0.1 to 6 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 4 μm.
[0032]
When a diffraction grating or a hologram interference fringe is recorded as an uneven relief on the surface of the light diffraction structure forming layer 5, the light reflective layer 6 is laminated on the relief surface in order to increase the diffraction efficiency. Preferably, such a light reflective layer 6 is light The diffraction structure forming layer 5 includes a transparent reflection layer having a different refractive index.
[0034]
The latter material constituting the transparent reflection layer having a refractive index different from that of the light diffraction structure forming layer 5 is ZnS, TiO, which has a higher refractive index than the light diffraction structure forming layer 5. 2 , Al 2 O Three , Sb 2 S Three , SiO, TiO, or SiO 2 Etc.
Further, the refractive index is smaller than that of the light diffraction structure forming layer 5, LiF, MgF 2 Or AlF Three Etc.
[0035]
Further, a transparent synthetic resin having a refractive index different from that of the light diffraction structure forming layer 5, such as a layer of polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinyl acetate, polyethylene, polypropylene, or polymethyl methacrylate, is a light reflective layer. 6 can also be used as a material constituting 6.
[0036]
The film thickness of the transparent reflective layer having a refractive index different from that of the light diffraction structure forming layer 5 may be a transparent region of the material forming the thin film, but is usually preferably 100 to 1000 mm. Examples of the method for forming the transparent reflection layer on the relief surface include thin film formation methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating. The transparent reflective layer may have a refractive index larger or smaller than that of the light diffraction structure forming layer, but the refractive index difference is preferably 0.3 or more, and the difference is 0.5 or more, and further 1.0. More preferably.
[0037]
The heat-sensitive adhesive layer 7 is made of, for example, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyamide resin, polyester resin, polyethylene resin, ethylene-isobutyl acrylate copolymer resin, butyral resin, polyvinyl acetate and its copolymer resin, chloride Vinyl / vinyl acetate copolymer resins, cellulose derivatives, polymethyl methacrylate resins, polyvinyl ether resins, polyurethane resins, polycarbonate resins, polypropylene resins, epoxy resins, or phenol resins can be used. Alternatively, a thermoplastic elastomer such as SBS (styrene-butadiene-styrene block copolymer), SIS (styrene-isoprene-styrene block copolymer), SEBS (styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer), or a reactive hot melt resin is used. Use to configure. The thickness of the heat-sensitive adhesive layer 7 is preferably 1 μm to 10 μm.
[0038]
Characters and images may be formed on the heat-sensitive adhesive layer 7 by transfer using a transfer ribbon such as a sublimation transfer ribbon and a thermal head. In this case, the transfer ribbon and the heat-sensitive adhesive layer 7 are heat-sealed. In order to avoid this, a release agent such as silicone oil or silicone resin may be added to the heat-sensitive adhesive layer 7.
In addition, when characters and images are formed on the heat-sensitive adhesive layer 7 in this way, after application to the adherend, another layer, preferably a light diffractive structure, is formed on the heat-sensitive adhesive layer 7 having the characters and images. Since it covers, the advantage that it becomes difficult to tamper with characters and images occurs.
[0039]
The intermediate layer 8 is a layer provided between the release layer 3 and the transfer layer 4, and is a layer for firmly bonding the release layer 3 and the transfer layer 4.
Since the release layer 3 has a property that suppresses the adhesive force with the base sheet 2, the adhesive force between the release layer 3 and the transfer layer 4 tends to decrease. It is configured using a mixture of the component resin constituting the layer 3 and the component resin constituting the transfer layer 4, or a functional group capable of reacting with the resin constituting each of the release layer 3 and the transfer layer 4. It is preferable to use a resin having good wettability to the surface, such as a urethane resin, and a primer layer forming material can be used. In addition to the urethane resin, an epoxy resin can also be used.
[0040]
The primer layer 9 is provided between the lowermost heat-sensitive adhesive layer 7 of the reflective layer and the light reflective layer 6 constituting the light diffraction structure, and the light reflective layer 6 is made of metal or metal oxide. In some cases, this compensates for the possibility of poor adhesion.
The primer layer 9 can be configured using a resin selected in consideration of the materials of the heat-sensitive adhesive layer 7 and the light reflective layer 6, but a resin having good wettability to the surface, such as a urethane resin, is used. It is good to use.
[0041]
Examples of the ultraviolet absorber that can be blended in the light diffraction structure forming layer 5 or the intermediate layer 8 include (1) benzophenone series, (2) benzotriazole series, (3) acrylate series, (4) salicylate series, or (5) oxanilide. In addition to the system, (6) hindered amines can be used.
[0042]
When using the sticking sheet 1 of the present invention, as shown in FIG. 2A, the sticking sheet 1 is placed on the adherend 12 such that the transfer layer 4 side is on the adherend 12 side. The sheet 1 for adhesion is bonded on the adherend 12 by being heated and pressed by a flat plate press or a roll press.
Thereafter, the substrate sheet 2 of the sticking sheet 1 is peeled to obtain the recording medium 11 in which the transfer layer 4 and the peeling layer 3 are sequentially laminated on the adherend 2 as shown in FIG. be able to.
[0043]
FIG. 3 shows an example of the recording medium 11 that can be obtained as described above. The transfer layer 4 is laminated on the right side of the adherend 12 in the form of a card, and is slightly along the upper side. A magnetic recording layer 13 is provided on the inner side, and the card name, number, expiration date, name of the holder, and the like are formed as characters 14.
[0044]
The substrate constituting the adherend 12 is rigid and difficult to bend, and may include other recording means in addition to the light diffraction structure layer 3 described above. For example, a magnetic recording layer, characters, etc. It is preferable that it is comprised with what was excellent in the workability at the time of providing.
[0045]
Specific examples of the base material of the adherend 12 include polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polyamide, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene, acrylic, polypropylene, polyethylene, and other resins, aluminum, A metal such as copper, paper, and an impregnated paper such as resin or latex can be used alone, or a composite sheet or the like can be used.
When heat resistance is required, a sheet such as an amorphous polyester resin, a blend resin of an amorphous polyester resin and a polycarbonate resin, or the like can be used as a base material.
[0046]
Although the thickness of the base material of the adherend 12 varies depending on the material, it is usually in the range of about 10 μm to 5 mm. When the adherend 12 is a magnetic card, the thickness is 0.76 mm when the base material conforms to the ISO standard. When the substrate is formed of polyvinyl chloride (hereinafter referred to as PVC), usually, a white PVC sheet having a thickness of 280 μm is used as a core sheet, and two sheets are laminated, and transparent PVC sheets having a thickness of 100 μm are respectively formed on both sides thereof. A four-layer base material sheet (total thickness 0.76 mm) that is stacked as an oversheet and laminated by hot pressing or the like is used.
[0047]
The magnetic recording layer 13 is usually in the form of a stripe having a width of about 5 to 10 mm, and a magnetic paint prepared by adding (1) a substance containing magnetic agent powder to the surface of the substrate 2 and kneading. (2) applied to a substrate such as another thin plastic sheet, cut into a stripe shape and pasted on the substrate, or (3) another temporary The magnetic recording layer transfer sheet prepared by being detachably laminated on the base material was transferred onto the base material by a transfer method.
[0048]
The magnetic recording layer 13 is formed as a thin film of a magnetic material in a gas phase by vapor deposition or sputtering of the magnetic material, or the formation of the thin film is different from the base material of the magnetic recording medium. It may be applied to the base material after that, and then cut and pasted into a stripe shape or applied by transfer.
[0049]
In general recording media including cards, the magnetic recording layer 13 is usually provided. The magnetic recording layer 13 may be replaced with an optical recording layer, an IC module, or the like. However, even if an optical recording layer or an IC module is provided, it is preferable to provide a versatile magnetic recording layer 13.
[0050]
The characters 14 are used to indicate the name of the card issuing company, the name of the card, the card issue number, the expiration date, the name of the person holding the card, and a cautionary note. Of these, the card issue number, the expiration date, and the name of the person holding the card are often formed by unevenness by embossing.
In addition to the characters 14, the base material 2 of the adherend 12 may be colored or decorated to decorate the card. Characters that are not colored or embossed Is usually formed by printing.
[0051]
The present invention is not limited to the card as described above, and the recording medium 11 of the present invention can be used in accordance with various applications.
The recording medium 11 may be an ID (identity confirmation) card. Specifically, the ID card may be a bank saving deposit card, a credit card, an identification card, or the like. An admission ticket, passport, etc., which are not necessarily cards, may be used.
The recording medium 11 can be a bill, a gift certificate, a stock certificate, a securities, a bankbook, a boarding ticket, an air ticket, or the like. It can be a prepaid card for transportation or public telephones. Information such as the amount of money is recorded on these recording media.
[0052]
The present invention may be used to prove the authenticity of expensive items. Typical examples are high-class wristwatches, precious metals, jewelry, and other world-renowned high-class products called so-called brand goods, and their storage boxes and cases. These can be obtained by applying an adhesive sheet to the adherend 12. What has been obtained can be a recording medium.
An adhesive sheet can be applied to a storage medium such as a magnetic recording medium in which music software, video software, computer software, game software, or the like is recorded, or a case thereof. .
[0053]
【Example】
(Example 1)
Each layer was sequentially formed using a polyethylene terephthalate resin film having a thickness of 25 μm as a sheet for pasting.
First, a hologram forming layer made of a cured product of an ultraviolet curable resin having a thickness of 2 μm is formed on one side using a composition for forming a release layer, which will be described later. 2 Each layer of a reflective layer made of a thin film, a urethane resin primer layer having a thickness of 0.5 μm, and a thermosensitive adhesive layer of vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin system having a thickness of 2 μm and containing 0.1% silicone oil, Sequentially formed, peel layer thickness difference and TiO 2 Four types of affixing sheets obtained by combining the differences in the thickness of the thin film were obtained.
Here, the release layer has a thickness of 1 μm, a thickness of 1.5 μm, and a thickness of 2.0 μm. 2 Thin films having a thickness of 40 nm and 80 nm were formed, respectively.
[0054]
The hologram forming layer was formed by pressing the metal mold to form the projections and depressions on the hologram, and then curing the layer by irradiating with 500 mJ ultraviolet rays, and then forming the reflection layer on the surface on which the projections and depressions were formed.
Each layer was formed by gravure coating except that the reflective layer was formed by vapor deposition. “Part” and “%” are both based on mass.
(Composition for peeling layer formation)
・ Methyl methacrylate resin 8 parts
・ Phenol antioxidant 0.0007 parts
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., ADK STAB AO-50, for methyl methacrylate resin)
・ Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin 5 parts
-Stabilizer for vinyl chloride resin 0.005 parts
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., ADK STAB AC-212)
・ Nitrocellulose resin 1 part
・ Epoxy component stabilizer 0.0003 parts
(Adeka Sizer O-130P, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)
・ 0.5 parts of polyester resin
・ Light stabilizer 0.003 parts
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., ADK STAB LA-32, as a stabilizer for the entire release layer)
・ Solvent (methyl ethyl ketone / toluene = 1/1) 50 parts
[0055]
After forming an image with a thermal printer using a sublimation transfer ribbon on each of the four adhesive sheets obtained, the adhesive sheet was placed on a vinyl chloride resin card. The results were as follows. The layers were laminated so that the layer side faced the card side, the adhesive sheet and the card were bonded using a thermal laminator, and the polyethylene terephthalate resin film of the substrate was peeled off after bonding.
[0056]
(1) Release layer thickness: 1 μm, TiO 2 Thin film thickness: 40 nm
(2) Release layer thickness: 1 μm, TiO 2 Thin film thickness: 80 nm
When using the above-mentioned (1) and (2) sticking sheets, it is difficult to peel the polyethylene terephthalate resin film of the base material smoothly, and the peel strength exceeds 0.5 kgf. It did not peel between the polyethylene terephthalate resin film of the base material and the release layer, but peeled between other layers, or the polyethylene terephthalate resin film of the base material was broken.
[0057]
(3) Release layer thickness: 1.5 μm, TiO 2 Thin film thickness: 40 nm
When the sticking sheet of (3) was used, the peeling force was stable at 0.015 kgf, and smooth peeling could be performed between the polyethylene terephthalate resin film of the base material and the peeling layer.
(4) Release layer thickness: 1.5 μm, TiO 2 Thin film thickness: 80 nm
When the sheet for pasting of (4) was used, the peel strength was 0.022 kgf, which was still quite large, but the base polyethylene terephthalate resin film could be peeled off almost smoothly.
(5) Release layer thickness: 2.0 μm, TiO 2 Thin film thickness: 40 nm
The peeling force was 0.058 kgf, and smooth peeling could be performed between the polyethylene terephthalate resin film as the base material and the peeling layer.
(6) Release layer thickness: 2.0 μm, TiO 2 Thin film thickness: 80 nm
The thickness of the release layer is 2.0 μm, TiO 2 When the thickness of the thin film is 40 nm, the peel force is 0.010 kgf, which is a little larger, but compared to the above (4), the peel between the polyethylene terephthalate resin film of the base material and the peel layer can be performed more smoothly. It was.
[0058]
【The invention's effect】
According to the invention of claim 1, Peeling Since the thickness of the delamination is defined, the durability after application to the adherend is high, and the base sheet can be smoothly peeled off after pasting. Also, A light diffraction structure consisting of a light diffraction structure layer and a light reflective layer can be applied to the surface of the adherend, and the substrate sheet can be smoothly peeled off after application. Oh, and more Since the light diffraction structure layer is made of a cured product of an ultraviolet curable resin and contains an ultraviolet absorber, it has durability due to being a cured product, and contains an ultraviolet absorber, so that ultraviolet rays can be obtained. It is possible to provide a sticking sheet that can peel off a base material sheet that can be applied to the surface of the adherend with a light diffraction structure that is less likely to be deteriorated by receiving. Moreover, if an ultraviolet-ray is irradiated from the opposite side to a base material sheet | seat at the time of manufacture, it is possible to eliminate the bad influence on a peeling layer. Furthermore, Since the heat-sensitive adhesive layer containing a release agent is laminated on the light-reflective layer, transfer using a transfer ribbon and a thermal head or the like is enabled on the heat-sensitive adhesive layer, light Since the primer layer is laminated between the reflective layer and the heat-sensitive adhesive layer containing the release agent, the adhesive force between the light reflective layer and the heat-sensitive adhesive layer is enhanced, Peeling Since it has an intermediate layer between the release layer, the adhesion between the transfer layer and the release layer is enhanced, During ~ Since the interlayer contains a UV absorber, if the UV light is irradiated from the opposite side to the base sheet at the time of manufacture, it is possible to eliminate the adverse effect on the release layer, and the base sheet can be peeled off Sheet Manufacturing method Can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a sticking sheet.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a sticking sheet is applied to an adherend.
FIG. 3 is a diagram showing a card-like recording medium obtained by using a sticking sheet.
[Explanation of symbols]
1 Sheet for pasting
2 Base sheet
3 Release layer
4 Transfer layer
5 Light diffraction structure forming layer (5a; unevenness)
6 Light reflective layer
7 Heat-sensitive adhesive layer
8 Middle class
9 Primer layer
11 Recording media
12 Substrate
13 Magnetic recording layer
14 characters

Claims (1)

基材シート、剥離層、中間層、光回折構造層、光反射層、プライマー層、及び感熱接着剤層から構成される基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法であって、
(1)前記基材シート面へ、厚みが1.5μm以上の前記剥離層を形成する剥離層形成工程、
(2)前記剥離層面へ、紫外線吸収剤を含む前記中間層を形成する中間層形成工程、
(3)前記中間層面へ、紫外線吸収剤を含み、電離放射線硬化性樹脂からなる未硬化状態の光回折構造形成層を形成する未硬化状態の光回折構造形成層形成工程、
(4)前記光回折構造形成層面へ、レリーフホログラム又は回折格子の微細凹凸を賦形し、基材シートの反対側より紫外線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させて、微細凹凸を有する光回折構造層を形成する微細凹凸を有する光回折構造層形成工程、
(5)前記光回折構造層の微細凹凸面へ、気相製膜法による透明な前記光反射層を形成する光反射層形成工程、
(6)前記光反射層面へ、前記プライマー層を形成するプライマー層形成工程、
(7)前記プライマー層面へ、離型剤を含有する前記感熱接着剤層を形成する感熱接着剤層形成工程、とからなることを特徴とする基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法
Substrate sheet, a release layer, an intermediate layer, the light-diffractive structure layer, light-reflecting layer, a primer layer, and adhered method of manufacturing a marked sheet capable of peeling off the substrate sheet that consists of the heat-sensitive adhesive layer,
(1) A release layer forming step of forming the release layer having a thickness of 1.5 μm or more on the base sheet surface ,
(2) An intermediate layer forming step of forming the intermediate layer containing an ultraviolet absorber on the release layer surface,
(3) An uncured optical diffraction structure forming layer forming step of forming an uncured optical diffraction structure forming layer made of an ionizing radiation curable resin on the intermediate layer surface, including an ultraviolet absorber ;
(4) Forming the relief hologram or diffraction grating fine irregularities on the surface of the light diffraction structure forming layer, irradiating ultraviolet rays from the opposite side of the substrate sheet, curing the ionizing radiation curable resin, An optical diffraction structure layer forming step having fine irregularities to form an optical diffraction structure layer having,
(5) a light reflecting layer forming step of forming the transparent light reflecting layer by a vapor deposition method on the fine uneven surface of the light diffraction structure layer;
(6) A primer layer forming step for forming the primer layer on the light reflecting layer surface,
(7) A method for producing an adhesive sheet capable of peeling a base sheet, comprising: a heat-sensitive adhesive layer forming step for forming the heat-sensitive adhesive layer containing a release agent on the primer layer surface. .
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