JP4775550B2 - Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus - Google Patents

Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP4775550B2
JP4775550B2 JP2005288907A JP2005288907A JP4775550B2 JP 4775550 B2 JP4775550 B2 JP 4775550B2 JP 2005288907 A JP2005288907 A JP 2005288907A JP 2005288907 A JP2005288907 A JP 2005288907A JP 4775550 B2 JP4775550 B2 JP 4775550B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
solution
layer
transfer material
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005288907A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007100139A (en
Inventor
章 北野
弥 高原
要 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2005288907A priority Critical patent/JP4775550B2/en
Publication of JP2007100139A publication Critical patent/JP2007100139A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4775550B2 publication Critical patent/JP4775550B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、無電解めっき膜形成方法、及び、そのための触媒パターン形成装置に関し、更に詳しくは、積層セラミックコンデンサ等の積層電子部品の内部電極膜を、無電解めっきにて形成する方法、及び、その方法の実施に適用される触媒パターン形成装置に関する。   The present invention relates to an electroless plating film forming method and a catalyst pattern forming apparatus therefor, and more specifically, a method of forming an internal electrode film of a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor by electroless plating, and The present invention relates to a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of the method.

従来、積層セラミックコンデンサ等の積層電子部品は、次のような工程によって製造される。まず、セラミックグリーンシート上に、導体ペーストでなる電極パターンをスクリーン印刷法により形成する。次に、セラミックグリーンシートを複数枚積層し、シート積層体を作る。そして、シート積層体を圧着した後、複数のチップ(個品)に切断して積層グリーンチップを得る。更に、その積層グリーンチップに対して、脱バインダ、焼成、及び、端子電極形成などの周知の処理を施し、複数の内部電極膜を有する積層電子部品を得る。   Conventionally, a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor is manufactured by the following process. First, an electrode pattern made of a conductive paste is formed on a ceramic green sheet by a screen printing method. Next, a plurality of ceramic green sheets are laminated to form a sheet laminate. And after crimping | bonding a sheet | seat laminated body, it cut | disconnects into a some chip | tip (individual item) and obtains a lamination | stacking green chip. Further, the laminated green chip is subjected to known treatments such as binder removal, firing, and terminal electrode formation to obtain a laminated electronic component having a plurality of internal electrode films.

ところで、近年、電子機器の小型化、高機能化の進展に追従すべく、積層電子部品の小型化、及び、高容量化に対する市場の要請はきわめて大きい。この要請に対応するため、例えば、内部電極膜について、予め製造工程において、電極パターンを薄く形成しておくことが望まれる。   By the way, in recent years, in order to follow the progress of miniaturization and high functionality of electronic devices, the market demand for miniaturization and high capacity of laminated electronic components is extremely large. In order to meet this demand, for example, it is desired to form an electrode pattern thin in advance in the manufacturing process for the internal electrode film.

また、電極パターンは、その厚みが増すにしたがって、厚み段差による積層ズレや、ノンラミネーション等の危険性が高まるから、電極パターンの薄膜化は、最終製品である積層電子部品の品質保証の観点からも望まれている。   Also, as the thickness of the electrode pattern increases, the risk of stacking misalignment due to thickness differences and non-lamination increases, so the thinning of the electrode pattern is from the viewpoint of quality assurance of the final laminated electronic component. Is also desired.

ところが、従来のスクリーン印刷法では、電極パターンを、導体ペーストに含まれるNi粒子の粒径より薄く形成することはできないから、電極パターンの薄膜化には限界がある。   However, in the conventional screen printing method, the electrode pattern cannot be formed thinner than the particle size of the Ni particles contained in the conductor paste, so that there is a limit to thinning the electrode pattern.

そこで、電極パターンを薄膜化する方法として、無電解めっきが検討されている。無電解めっきでは、予め、シート上に触媒を付与しておくことにより、Niを原子の状態で、触媒付与部分の表面に付着させることができるから、内部電極膜となる電極パターンを薄く形成することができる。   Thus, electroless plating has been studied as a method for thinning the electrode pattern. In electroless plating, by applying a catalyst on a sheet in advance, Ni can be attached to the surface of the catalyst application portion in an atomic state, so that an electrode pattern to be an internal electrode film is thinly formed. be able to.

このような無電解めっきを実行するにあたり、シート上に触媒を付与する従来技術としては、特許文献1乃至3がある。特許文献1、及び、2は、転写用シートを触媒溶液に浸漬して触媒を付与した後、スクリーン印刷にてレジストを塗布し、触媒パターンを設定する。さらに、この触媒パターン上に無電解めっきにて電極パターンとして用いられるめっき膜を形成する。その後、転写用シート上に形成されためっき膜を、セラミックグリーンシートに熱転写する。   In performing such electroless plating, Patent Documents 1 to 3 are known as conventional techniques for providing a catalyst on a sheet. In Patent Documents 1 and 2, after a transfer sheet is immersed in a catalyst solution to apply a catalyst, a resist is applied by screen printing to set a catalyst pattern. Further, a plating film used as an electrode pattern is formed on the catalyst pattern by electroless plating. Thereafter, the plating film formed on the transfer sheet is thermally transferred to the ceramic green sheet.

しかし、特許文献1、及び、2の開示内容によると、触媒パターンの形成までの工程数が多い分、生産性が悪いという問題がある。また、転写用フィルム上に形成された電極パターンを、セラミックグリーンシートへ熱転写する工程を含むから、セラミックグリーンシートと、電極パターンとの密着性が損なわれやすく、剥がれ事故が発生しやすい。   However, according to the disclosure contents of Patent Documents 1 and 2, there is a problem that productivity is poor due to the large number of steps until formation of the catalyst pattern. In addition, since it includes a step of thermally transferring the electrode pattern formed on the transfer film to the ceramic green sheet, the adhesion between the ceramic green sheet and the electrode pattern is likely to be impaired, and a peeling accident is likely to occur.

特許文献3は、マスキング処理したセラミックグリーンシートを触媒溶液に浸漬し、セラミックグリーンシート上に直接、触媒パターンを形成し、そのあと触媒パターン上に無電解めっきにて電極パターンとして用いられるめっき膜を形成する。   In Patent Document 3, a ceramic green sheet subjected to masking treatment is immersed in a catalyst solution to form a catalyst pattern directly on the ceramic green sheet, and then a plating film used as an electrode pattern by electroless plating is formed on the catalyst pattern. Form.

特許文献3によっても、触媒パターンの形成までの工程数が多い分、生産性が悪いという問題がある。さらに、触媒溶液は、通常、塩化スズ、塩化パラジウム等でなる酸性溶液であるから、この酸性溶液にセラミックグリーンシートを浸漬すると、同シートにダメージが生じ、ひいては最終製品である積層電子部品の信頼性が損なわれる問題がある。
特開平10−125556号公報 特開平10−208980号公報 特開2002−231574号公報
According to Patent Document 3, there is a problem that productivity is poor because the number of steps until formation of the catalyst pattern is large. Furthermore, since the catalyst solution is usually an acidic solution made of tin chloride, palladium chloride, etc., immersing the ceramic green sheet in this acidic solution causes damage to the sheet, and as a result, the reliability of the laminated electronic component that is the final product. There is a problem that the performance is impaired.
JP-A-10-125556 JP-A-10-208980 JP 2002-231574 A

本発明の課題は、セラミックグリーンシート上に電極パターンを薄く形成することができる無電解めっき膜形成方法、及び、この方法の実施に適用される触媒パターン形成装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide an electroless plating film forming method capable of forming an electrode pattern thinly on a ceramic green sheet, and a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of this method.

本発明のもう1つの課題は、生産性の高い無電解めっき膜形成方法、及び、この方法の実施に適用される触媒パターン形成装置を提供することである。   Another object of the present invention is to provide an electroless plating film forming method with high productivity and a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of this method.

本発明の更にもう一つの課題は、高品質の積層電子部品を得ることができる無電解めっき膜形成方法、及び、この方法の実施に適用される触媒パターン形成装置を提供することである。   Still another object of the present invention is to provide an electroless plating film forming method capable of obtaining a high-quality multilayer electronic component, and a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of this method.

上述した課題を解決するため、本発明に係る無電解めっき膜形成方法は、触媒溶液を含浸させた転写材をセラミックグリーンシートに接触させて、セラミックグリーンシート上に、この触媒溶液による触媒パターンを形成し、そのあと、触媒パターンに無電解めっきを施す。   In order to solve the above-described problems, the electroless plating film forming method according to the present invention is such that a transfer material impregnated with a catalyst solution is brought into contact with a ceramic green sheet, and a catalyst pattern by the catalyst solution is formed on the ceramic green sheet. Then, electroless plating is applied to the catalyst pattern.

上述したように、本発明に係る無電解めっき膜形成方法は、触媒溶液を含浸させた転写材をセラミックグリーンシートに接触させて、セラミックグリーンシート上に、触媒溶液による触媒パターンを直接形成するから、作業効率が向上する。例えば、シートを触媒溶液に浸漬する工程や、触媒パターンを設定するためのレジスト塗布工程、又は、マスキング処理工程などは不要である。従って、工程数を大幅に削減し、生産性の高い無電解めっき膜形成方法を提供することができる。   As described above, in the electroless plating film forming method according to the present invention, the transfer material impregnated with the catalyst solution is brought into contact with the ceramic green sheet, and the catalyst pattern by the catalyst solution is directly formed on the ceramic green sheet. , Work efficiency is improved. For example, a step of immersing the sheet in the catalyst solution, a resist coating step for setting a catalyst pattern, or a masking treatment step is not necessary. Therefore, the number of processes can be greatly reduced, and an electroless plating film forming method with high productivity can be provided.

また、触媒溶液を含浸させた転写材をセラミックグリーンシートに接触させて、セラミックグリーンシート上に、触媒溶液による触媒パターンを形成するから、転写材の転写面構造(転写パターン)により多様な触媒パターンを効率的に形成することができる。   In addition, the transfer material impregnated with the catalyst solution is brought into contact with the ceramic green sheet to form a catalyst pattern with the catalyst solution on the ceramic green sheet. Various catalyst patterns can be obtained depending on the transfer surface structure (transfer pattern) of the transfer material. Can be formed efficiently.

さらに、触媒パターンは、転写材がセラミックグリーンシートに接触する部分にのみ形成されるから、触媒溶液によりセラミックグリーンシートが受けるダメージを最小限に低減することができる。従って、本発明に係る無電解めっき膜形成方法によると、高品質の積層電子部品を得ることができる。   Furthermore, since the catalyst pattern is formed only in the portion where the transfer material contacts the ceramic green sheet, damage to the ceramic green sheet due to the catalyst solution can be reduced to a minimum. Therefore, according to the electroless plating film forming method of the present invention, a high-quality multilayer electronic component can be obtained.

本発明に係る無電解めっき膜形成方法は、触媒パターンに無電解めっきを施すから、電極パターンとして用いられるめっき膜を、薄く形成することができる。   Since the electroless plating film forming method according to the present invention performs electroless plating on a catalyst pattern, a plating film used as an electrode pattern can be formed thin.

また、触媒パターンは、セラミックグリーンシート上に形成されており、めっき膜がセラミックグリーンシート上に直接形成されるから、作業効率が向上する。例えば、転写用シートからセラミックグリーンシートにめっき膜を転写する工程を削減することができる。従って、工程数を大幅に削減し、生産性の高い無電解めっき膜形成方法を提供することができる。   Moreover, since the catalyst pattern is formed on the ceramic green sheet and the plating film is directly formed on the ceramic green sheet, the working efficiency is improved. For example, the process of transferring the plating film from the transfer sheet to the ceramic green sheet can be reduced. Therefore, the number of processes can be greatly reduced, and an electroless plating film forming method with high productivity can be provided.

さらに、セラミックグリーンシートと、電極パターンとの密着性を確保し、高品質の積層電子部品を得ることができる。加えて、めっき膜は、セラミックグリーンシート上における触媒パターンの付与領域にのみ形成されるから、精度よく電極パターンを形成することができる。   Furthermore, the adhesion between the ceramic green sheet and the electrode pattern can be ensured, and a high-quality multilayer electronic component can be obtained. In addition, since the plating film is formed only in the catalyst pattern application region on the ceramic green sheet, the electrode pattern can be formed with high accuracy.

本発明に係る無電解めっき膜形成方法の好ましい態様において、上述した触媒パターンの形成は、回転ローラを用いて行われる。この構成によると、迅速、且、安価で、セラミックグリーンシート上に、触媒パターンを形成することができる。   In a preferred embodiment of the electroless plated film forming method according to the present invention, the above-described catalyst pattern is formed using a rotating roller. According to this configuration, the catalyst pattern can be formed on the ceramic green sheet quickly and inexpensively.

本発明に係る無電解めっきのための触媒パターン形成装置は、転写装置を含む。転写装置は、支持体と、転写材とを含む。支持体は、転写材を支持し、転写材は、触媒溶液に対する保液性を有する。この触媒パターン形成装置によれば、上述した無電解めっき膜形成方法を、効率よく、確実に実行することができる。   The catalyst pattern forming apparatus for electroless plating according to the present invention includes a transfer device. The transfer device includes a support and a transfer material. The support supports the transfer material, and the transfer material has liquid retention with respect to the catalyst solution. According to this catalyst pattern forming apparatus, the above-described electroless plating film forming method can be efficiently and reliably executed.

本発明の他の目的、構成、及び、利点については、添付図面を参照し、更に詳しく説明する。添付図面は、単に、例示に過ぎない。   Other objects, configurations, and advantages of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The accompanying drawings are merely examples.

以上述べたように、本発明によれば、次のような効果を得ることができる。
(1)セラミックグリーンシート上に電極パターンを薄く形成することができる無電解めっき膜形成方法、及び、この方法の実施に適用される触媒パターン形成装置を提供することができる。
(2)生産性の高い無電解めっき膜形成方法、及び、この方法の実施に適用される触媒パターン形成装置を提供することができる。
(3)高品質の積層電子部品を得ることができる無電解めっき膜形成方法、及び、この方法の実施に適用される触媒パターン形成装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.
(1) An electroless plating film forming method capable of forming an electrode pattern thinly on a ceramic green sheet, and a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of this method can be provided.
(2) An electroless plating film forming method with high productivity and a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of this method can be provided.
(3) It is possible to provide an electroless plating film forming method capable of obtaining a high-quality multilayer electronic component and a catalyst pattern forming apparatus applied to the implementation of this method.

図1は、本発明に係る無電解めっき膜形成方法に用いられる触媒パターン形成装置を示す図である。図2〜図5は、図1に示した触媒パターン形成装置を用いた触媒パターン形成方法を示す図、図6、図7は無電解めっき法を説明する図、図8は、図2乃至図7に示した工程を経て得られた積層電子部品の断面図である。   FIG. 1 is a view showing a catalyst pattern forming apparatus used in the electroless plating film forming method according to the present invention. 2 to 5 are diagrams illustrating a catalyst pattern forming method using the catalyst pattern forming apparatus illustrated in FIG. 1, FIGS. 6 and 7 are diagrams illustrating an electroless plating method, and FIG. 8 is a diagram illustrating FIGS. 7 is a cross-sectional view of a multilayer electronic component obtained through the process shown in FIG.

まず、図1を参照すると、触媒パターン形成装置は、第1の転写装置3と、第2の転写装置4とを含む。これらは、セラミックグリーンシート1が搬送されるシート搬送路2に沿って配置されている。   First, referring to FIG. 1, the catalyst pattern forming apparatus includes a first transfer device 3 and a second transfer device 4. These are arranged along the sheet conveyance path 2 along which the ceramic green sheet 1 is conveyed.

セラミックグリーンシート1は、セラミック粉末、溶剤、及び、バインダなどを混合したセラミックペーストを塗布し、乾燥させて得られたもので、一定の厚さとなっている。セラミックグリーンシート1は、可撓性プラスチックフィルムなどの支持体(図示しない)の表面に付着されている。セラミックグリーンシート1は、触媒付与面10を上にしてシート搬送路2に載置され、矢印m1で示す方向に搬送される。   The ceramic green sheet 1 is obtained by applying and drying a ceramic paste mixed with ceramic powder, a solvent, a binder, and the like, and has a constant thickness. The ceramic green sheet 1 is attached to the surface of a support (not shown) such as a flexible plastic film. The ceramic green sheet 1 is placed on the sheet conveyance path 2 with the catalyst application surface 10 facing up, and is conveyed in the direction indicated by the arrow m1.

第1の転写装置3は、センシタイザとして用いられる触媒パターンの転写装置であって、第1の支持体30と、第1の転写材31とを有する。図1に示す第1の支持体30は、所謂、回転ローラであって、ローラ外周面に第1の転写材31が複数備えられている。以下、説明の都合上、第1の支持体30は、回転ローラ30として説明する。   The first transfer device 3 is a catalyst pattern transfer device used as a sensitizer, and includes a first support 30 and a first transfer material 31. The first support 30 shown in FIG. 1 is a so-called rotating roller, and a plurality of first transfer materials 31 are provided on the outer peripheral surface of the roller. Hereinafter, for convenience of explanation, the first support 30 will be described as the rotating roller 30.

第1の転写材31のそれぞれは、触媒溶液に対する保液性、又は、吸液性を有し、回転ローラ30のローラ外周面に、突設されている。より詳細に説明すると、第1の転写材31は、好ましくは、耐酸性を有する合成樹脂材料を用いたスポンジ状の多孔質体であって、凸片状に成形されたものが、回転ローラ30の外周面に、所定のピッチ間隔で配置されている。第1の転写材31の設置数、ピッチ間隔は、生産性を考慮して設定される設計的事項である。また、第1の転写材31の具体的な表面形状は、所望の触媒パターンのパターン形状により設定される設計的事項である。   Each of the first transfer materials 31 has a liquid retaining property or a liquid absorbing property with respect to the catalyst solution, and protrudes from the outer peripheral surface of the rotating roller 30. More specifically, the first transfer material 31 is preferably a sponge-like porous body using a synthetic resin material having acid resistance, and the one formed into a convex piece is the rotating roller 30. Are arranged at a predetermined pitch interval on the outer peripheral surface of each of them. The number of installed first transfer materials 31 and the pitch interval are design matters set in consideration of productivity. The specific surface shape of the first transfer material 31 is a design matter set by the pattern shape of the desired catalyst pattern.

第1の転写装置3は、第1の転写材31の表面が、シート搬送路2上であって、セラミックグリーンシート1の触媒付与面10に相対向する位置に備えられている。   In the first transfer device 3, the surface of the first transfer material 31 is provided on the sheet conveyance path 2 at a position facing the catalyst application surface 10 of the ceramic green sheet 1.

第1の転写材31には、図示しない供給装置等により供給された第1の触媒溶液32が含浸されている。第1の触媒溶液32は、センシタイザとして用いられる触媒剤の溶液であって、好ましくは塩化スズ水溶液である。   The first transfer material 31 is impregnated with a first catalyst solution 32 supplied by a supply device (not shown). The first catalyst solution 32 is a solution of a catalyst agent used as a sensitizer, and is preferably an aqueous tin chloride solution.

第1の転写装置3について、図2及び図3を参照して、第1の触媒溶剤32の転写工程を説明する。まず、セラミックグリーンシート1は、予め、イオン交換水槽(図示しない)に通して触媒付与面10を水洗し、乾燥したあと、シート搬送路2を、矢印m1で示す方向に送られる。   With respect to the first transfer device 3, the transfer process of the first catalyst solvent 32 will be described with reference to FIGS. First, the ceramic green sheet 1 is previously passed through an ion exchange water tank (not shown), washed with water on the catalyst application surface 10, dried, and then sent in the direction indicated by the arrow m1 along the sheet conveyance path 2.

図2を参照すると、第1の転写装置3は、第1の触媒溶液32を含浸させた第1の転写材31が、回転ローラ30の回転R30にしたがって、m1方向に搬送されるセラミックグリーンシート1の触媒付与面10に接触し、触媒付与面10に、所定のピッチ間隔で、第1の触媒溶液32を転写する。   Referring to FIG. 2, the first transfer device 3 includes a ceramic green sheet in which the first transfer material 31 impregnated with the first catalyst solution 32 is conveyed in the m1 direction according to the rotation R30 of the rotation roller 30. The first catalyst solution 32 is transferred to the catalyst application surface 10 at a predetermined pitch interval.

図2の工程により得られたセラミックグリーンシート1は、触媒付与面10に、第1の触媒溶液32による膜状の第1の触媒パターン320が形成される(図3参照)。第1の触媒パターン320の膜厚d320は、0.02μm程度である。   In the ceramic green sheet 1 obtained by the process of FIG. 2, a film-like first catalyst pattern 320 is formed on the catalyst application surface 10 by the first catalyst solution 32 (see FIG. 3). The film thickness d320 of the first catalyst pattern 320 is about 0.02 μm.

再び、図1を参照して、第2の転写装置4の説明をする。第2の転写装置4は、アクチベータとして用いられる触媒パターンの転写装置であって、第2の支持体40と、第2の転写材41とを含む。第2の支持体40は、所謂、回転ローラであって、ローラ外周面に第2の転写材41を備えている。以下、説明の都合上、第2の支持体40は、回転ローラ40として説明する。   Again, the second transfer device 4 will be described with reference to FIG. The second transfer device 4 is a catalyst pattern transfer device used as an activator, and includes a second support 40 and a second transfer material 41. The second support 40 is a so-called rotating roller, and includes a second transfer material 41 on the roller outer peripheral surface. Hereinafter, for convenience of explanation, the second support 40 will be described as the rotating roller 40.

第2の転写材41は、触媒溶液に対する保液性、又は、吸液性を有し、回転ローラ40のローラ外周面に備えられている。より詳細に説明すると、第2の転写材41は、好ましくは、耐酸性を有する合成樹脂材料を用いたスポンジ状の多孔質成形体であって、ローラ外周面の全周に渡って巻装されている。第2の転写材41には、第1の転写材31と同じものを用いることもできる。   The second transfer material 41 has a liquid retaining property or a liquid absorbing property with respect to the catalyst solution, and is provided on the outer peripheral surface of the rotating roller 40. More specifically, the second transfer material 41 is preferably a sponge-like porous molded body using an acid-resistant synthetic resin material, and is wound around the entire circumference of the roller outer peripheral surface. ing. The same material as the first transfer material 31 can be used for the second transfer material 41.

第2の転写装置4は、第2の転写材41の表面が、シート搬送路2上であって、セラミックグリーンシート1の触媒付与面10に相対向する位置に備えられている。   In the second transfer device 4, the surface of the second transfer material 41 is provided on the sheet conveyance path 2 at a position facing the catalyst application surface 10 of the ceramic green sheet 1.

第2の転写材41には、図示しない供給装置等により第2の触媒溶液42が供給され、含浸されている。第2の触媒溶液42は、アクチベータ(活性化剤)として用いられる触媒活性剤の溶液であって、好ましくは塩化パラジウム水溶液である。   The second transfer material 41 is impregnated with the second catalyst solution 42 supplied by a supply device (not shown) or the like. The second catalyst solution 42 is a solution of a catalyst activator used as an activator (activator), and is preferably an aqueous palladium chloride solution.

図1において、第2の転写装置4は、セラミックグリーンシート1の搬送方向m1でみて、第1の転写装置3の後に備えられており、第1の転写装置3により形成された、第1の触媒パターン320に対して、第2の触媒溶液42を転写する。   In FIG. 1, the second transfer device 4 is provided after the first transfer device 3 as viewed in the conveyance direction m <b> 1 of the ceramic green sheet 1, and is formed by the first transfer device 3. The second catalyst solution 42 is transferred to the catalyst pattern 320.

第2の転写装置4における第2の触媒溶剤42の転写工程について、図4及び図5を参照してより具体的に説明する。まず、セラミックグリーンシート1は、予め、イオン交換水槽(図示しない)に通し触媒付与面10、及び、第1の触媒パターン320の表面を水洗し、乾燥したあと、シート搬送路2を、矢印m1で示す方向に送られる。   The transfer process of the second catalyst solvent 42 in the second transfer device 4 will be described more specifically with reference to FIGS. First, the ceramic green sheet 1 is previously passed through an ion exchange water tank (not shown), washed with water on the surface of the catalyst application surface 10 and the first catalyst pattern 320, dried, and then moved to the sheet conveyance path 2 with an arrow m1. Sent in the direction indicated by.

図4を参照すると、第2の転写装置4は、第2の触媒溶液42を付着させた第2の転写材41が、回転ローラ40の回転R40にしたがって、m1方向に搬送されるセラミックグリーンシート1の触媒付与面10に接触する。ここで、塩化パラジウムを含む第2の触媒溶液42は、性質上、塩化スズを含む第1の触媒パターン320の表面にしか定着せず、第1の触媒パターン320の形成されていない触媒付与面10上に転写された分は、はじかれることとなる。従って、第1の触媒パターン320の表面にのみ、第2の触媒溶液42が転写される。   Referring to FIG. 4, the second transfer device 4 includes a ceramic green sheet in which the second transfer material 41 to which the second catalyst solution 42 is adhered is conveyed in the m1 direction according to the rotation R40 of the rotation roller 40. 1 contacting surface 10 of the catalyst. Here, the second catalyst solution 42 containing palladium chloride is fixed only on the surface of the first catalyst pattern 320 containing tin chloride in nature, and the catalyst application surface on which the first catalyst pattern 320 is not formed. The portion transferred onto the surface 10 is repelled. Accordingly, the second catalyst solution 42 is transferred only to the surface of the first catalyst pattern 320.

図4の工程により得られたセラミックグリーンシート1は、好ましくは転写された第2の触媒溶液42の乾燥処理を経ることにより、第1の触媒パターン320の表面に、第2の触媒溶液42による膜状の第2の触媒パターン420が形成される(図5参照)。第2の触媒パターン420の膜厚d420は、0.02μm程度である。   The ceramic green sheet 1 obtained by the process of FIG. 4 is preferably subjected to a drying process of the transferred second catalyst solution 42, whereby the surface of the first catalyst pattern 320 is formed by the second catalyst solution 42. A film-like second catalyst pattern 420 is formed (see FIG. 5). The film thickness d420 of the second catalyst pattern 420 is about 0.02 μm.

図4に示す工程の後、第1及び第2の触媒パターン320、420が積層して形成されたセラミックグリーンシート1を、イオン交換水槽(図示しない)に通して水洗し、乾燥する。   After the step shown in FIG. 4, the ceramic green sheet 1 formed by laminating the first and second catalyst patterns 320 and 420 is passed through an ion exchange water tank (not shown), washed with water, and dried.

上述のようにして、触媒パターンを形成した後、次に、無電解めっき処理が実行される。図6を参照すると、図2乃至図5に示した工程の後、第1及び第2の触媒パターン320、420に無電解めっきを施す。具体的に、セラミックグリーンシート1を、矢印m2で示す方向に下降させ、第1及び第2の触媒パターン320、420をホウ素系無電解Niめっき浴5に浸漬する。例えば、膜厚(0.1μm)のNi膜50を形成する場合における、電解Niめっき浴5への浸漬時間は6秒程度である。めっき浴5への浸漬により、第2の触媒パターン420の表面にNi膜50が形成される。   After the catalyst pattern is formed as described above, an electroless plating process is then performed. Referring to FIG. 6, after the steps shown in FIGS. 2 to 5, the first and second catalyst patterns 320 and 420 are subjected to electroless plating. Specifically, the ceramic green sheet 1 is lowered in the direction indicated by the arrow m2, and the first and second catalyst patterns 320 and 420 are immersed in the boron-based electroless Ni plating bath 5. For example, when the Ni film 50 having a film thickness (0.1 μm) is formed, the immersion time in the electrolytic Ni plating bath 5 is about 6 seconds. By immersing in the plating bath 5, the Ni film 50 is formed on the surface of the second catalyst pattern 420.

めっき浴5の組成の一例は以下のとおりである。
1.めっき浴組成
硫酸ニッケル6水和物 26g/リットル
ジメチルアミンボラン 1.8g/リットル
酢酸アンモニウム 16g/リットル
pH 6
浴温 60℃
An example of the composition of the plating bath 5 is as follows.
1. Plating bath composition Nickel sulfate hexahydrate 26 g / liter Dimethylamine borane 1.8 g / liter Ammonium acetate 16 g / liter pH 6
Bath temperature 60 ° C

図6の無電解めっき工程を経ることにより、図7に示すように、第1及び第2の触媒パターン320、420の表面に、無電解めっきによるNi膜50を形成したセラミックグリーンシート1が得られる。Ni膜50の膜厚d50は、0.1μm程度である。従って、第1の触媒パターン320の膜厚d320と、第2の触媒パターン420の膜厚d420、及び、Ni膜50の膜厚d50の合計は0.1〜0.2μm程度である。   Through the electroless plating process of FIG. 6, as shown in FIG. 7, the ceramic green sheet 1 in which the Ni film 50 is formed on the surfaces of the first and second catalyst patterns 320 and 420 by electroless plating is obtained. It is done. The film thickness d50 of the Ni film 50 is about 0.1 μm. Therefore, the total of the film thickness d320 of the first catalyst pattern 320, the film thickness d420 of the second catalyst pattern 420, and the film thickness d50 of the Ni film 50 is about 0.1 to 0.2 μm.

図1乃至図6に示した工程の後、セラミックグリーンシート1を、矢印m3で示す方向に上昇させ、さらに、イオン交換水槽(図示しない)に通し、触媒付与面10、及び、めっき膜6を水洗し、乾燥する。さらに、Ni膜50が印刷されたセラミックグリーンシート1を積層してシート積層体を作製する工程、シート積層体を所定のサイズに切断して積層グリーンチップを作成する工程、及び、積層グリーンチップを、例えば、1200℃で2時間、N2、H2およびH20からなるガス中にて雰囲気焼成する工程、更に端子電極形成等の工程を行うと、図7に示した積層チップ部品が得られる。上述工程を経て得られる最終的な内部電極膜の膜厚は、0.1〜0.2μm程度となる。 After the steps shown in FIG. 1 to FIG. 6, the ceramic green sheet 1 is raised in the direction indicated by the arrow m3, and further passed through an ion exchange water tank (not shown) so that the catalyst application surface 10 and the plating film 6 are formed. Wash with water and dry. Furthermore, a step of laminating ceramic green sheets 1 printed with Ni film 50 to produce a sheet laminate, a step of cutting the sheet laminate to a predetermined size to create a laminate green chip, and a laminate green chip For example, if a step of firing in a gas composed of N 2 , H 2 and H 2 0 at 1200 ° C. for 2 hours, and further steps such as terminal electrode formation are performed, the multilayer chip component shown in FIG. 7 is obtained. It is done. The film thickness of the final internal electrode film obtained through the above steps is about 0.1 to 0.2 μm.

上述したように、図1を参照して説明した触媒パターン形成装置では、第1の触媒溶液32を含浸させた第1の転写材31を、セラミックグリーンシート1に接触させて、触媒付与面10に、第1の触媒溶液32による第1の触媒パターン320を形成し、第1の触媒パターン320の上に、第2の触媒溶液42を含浸させた第2の転写材41を用いて、活性化剤たる第2の触媒溶液42による第2の触媒パターン420を形成するから、第1の触媒パターン320を活性化することができる。   As described above, in the catalyst pattern forming apparatus described with reference to FIG. 1, the first transfer material 31 impregnated with the first catalyst solution 32 is brought into contact with the ceramic green sheet 1 to provide the catalyst application surface 10. In addition, the first catalyst pattern 320 is formed by the first catalyst solution 32, and the second transfer material 41 impregnated with the second catalyst solution 42 on the first catalyst pattern 320 is used to activate the first catalyst pattern 320. Since the second catalyst pattern 420 is formed by the second catalyst solution 42 as the agent, the first catalyst pattern 320 can be activated.

しかも、工程数が少ない分、処理時間が短時間ですみ、作業効率が向上する。例えば、セラミックグリーンシート1を第1及び第2の触媒溶液32、42にそれぞれ浸漬する工程や、第1及び第2の触媒パターン320、420を形成するためのレジスト塗布工程、又は、マスキング処理工程などの工程数を削減することができる。従って、安価で生産性の高い無電解めっき膜形成方法、及び、触媒パターン形成装置を提供することができる。   Moreover, since the number of processes is small, the processing time is short, and the work efficiency is improved. For example, a process of immersing the ceramic green sheet 1 in the first and second catalyst solutions 32 and 42, a resist coating process for forming the first and second catalyst patterns 320 and 420, or a masking process, respectively. The number of processes such as can be reduced. Therefore, it is possible to provide an electroless plating film forming method and a catalyst pattern forming apparatus that are inexpensive and highly productive.

また、第1及び第2の転写材31、41を用いて第1及び第2の触媒パターン320、420を形成するから、第1及び第2の転写材31、41の転写パターンにより、多様な第1及び第2の触媒パターン320、420を形成することができる。   In addition, since the first and second catalyst patterns 320 and 420 are formed using the first and second transfer materials 31 and 41, various transfer patterns of the first and second transfer materials 31 and 41 can be used. First and second catalyst patterns 320 and 420 may be formed.

さらに、第1及び第2の触媒パターン320、420は、第1及び第2の転写材31、41がセラミックグリーンシート1に接触する部分にのみ形成されるから、第1及び第2の触媒溶液32、42によりセラミックグリーンシート1が受けるダメージを最小限に抑えることができる。従って、高品質の積層電子部品を得ることができる。   Further, since the first and second catalyst patterns 320 and 420 are formed only in the portions where the first and second transfer materials 31 and 41 are in contact with the ceramic green sheet 1, the first and second catalyst solutions Damage to the ceramic green sheet 1 due to 32 and 42 can be minimized. Therefore, a high quality laminated electronic component can be obtained.

本発明では、更に、上述のようにして形成された第1及び第2の触媒パターン320、420に無電解めっきを施す。これにより、電極パターンとして用いられるNi膜50を薄く形成することができる。   In the present invention, electroless plating is further applied to the first and second catalyst patterns 320 and 420 formed as described above. Thereby, the Ni film 50 used as the electrode pattern can be formed thin.

また、第1及び第2の触媒パターン320、420は、セラミックグリーンシート1上に形成されており、Ni膜50がセラミックグリーンシート1上に直接形成されるから、作業効率が向上する。例えば、他の被めっきシートからセラミックグリーンシート1にNi膜50を転写する工程を削減することができる。従って、工程数を削減し、生産性の高い無電解めっき膜形成方法、及び、触媒パターン形成装置を提供することができる。   Further, since the first and second catalyst patterns 320 and 420 are formed on the ceramic green sheet 1 and the Ni film 50 is directly formed on the ceramic green sheet 1, the working efficiency is improved. For example, the step of transferring the Ni film 50 from another sheet to be plated to the ceramic green sheet 1 can be reduced. Therefore, the number of processes can be reduced, and a highly productive electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus can be provided.

さらに、Ni膜50がセラミックグリーンシート1上に直接形成されるから、Ni膜50と、セラミックグリーンシート1との密着性を確保し、高品質の積層電子部品を得ることができる。   Furthermore, since the Ni film 50 is directly formed on the ceramic green sheet 1, the adhesion between the Ni film 50 and the ceramic green sheet 1 can be secured, and a high-quality multilayer electronic component can be obtained.

図6を参照して説明した無電解めっき浴5の組成によると、めっき浴5は、還元剤となるDMAB(ジメチルアミンボラン)が添加されており、セラミックグリーンシート1上にNi−B系化合物が析出されるので、焼成によりホウ素がガラス化し、Ni膜50を焼成して得られる内部電極と、セラミックグリーンシート1の密着性が向上する。   According to the composition of the electroless plating bath 5 described with reference to FIG. 6, the plating bath 5 is added with DMAB (dimethylamine borane) as a reducing agent, and the Ni—B compound is formed on the ceramic green sheet 1. Therefore, boron is vitrified by firing, and the adhesion between the internal electrode obtained by firing the Ni film 50 and the ceramic green sheet 1 is improved.

加えて、Ni膜50は、セラミックグリーンシート1上における第1及び第2の触媒パターン320、420の付与領域にのみ形成されるから、Ni膜50を精度よく形成することができる。   In addition, since the Ni film 50 is formed only in the application region of the first and second catalyst patterns 320 and 420 on the ceramic green sheet 1, the Ni film 50 can be formed with high accuracy.

本発明に係る無電解めっき膜形成方法の好ましい態様において、第1及び第2の触媒パターン320、420は、回転ローラ30、40を用いて行われる。この構成によると、生産性の高い無電解めっき膜形成方法、及び、触媒パターン形成装置を実現することができる。   In a preferred embodiment of the electroless plating film forming method according to the present invention, the first and second catalyst patterns 320 and 420 are performed using the rotating rollers 30 and 40. According to this configuration, an electroless plating film forming method and a catalyst pattern forming apparatus with high productivity can be realized.

スクリーン印刷法では、ペースト自身に含まれるNi粒子の大きさがあるため内部電極の薄膜化に限界があった。これに対し、本発明の一実施形態に係る無電解めっきでは、シート上にNiを原子の状態から形成するため、従来技術より25〜90%も薄く形成することができた。無電解めっきにより形成される電極パターン(Ni膜50)は、ペースト印刷法よりも薄膜化に適しており、実験値で0.1μm程度の膜厚にも対応できる。   In the screen printing method, there is a limit to the thinning of the internal electrode due to the size of the Ni particles contained in the paste itself. On the other hand, in the electroless plating according to an embodiment of the present invention, since Ni is formed on the sheet from an atomic state, it can be formed to be 25 to 90% thinner than the conventional technique. The electrode pattern (Ni film 50) formed by electroless plating is more suitable for thinning than the paste printing method, and can correspond to a film thickness of about 0.1 μm as an experimental value.

また、図7に示した積層電子部品の電気特性、及び、構造欠陥を調べたところ、従来法に比較し、電極の被覆率が良く、容量が多くとれるため電気特性がよく、クラック、ノンラミネーション、デラミネーションなどの構造欠陥も少ないチップ部品を得ることができた。   In addition, when the electrical characteristics and structural defects of the multilayer electronic component shown in FIG. 7 were examined, the electrode coverage was better and the capacity could be increased compared to the conventional method, so that the electrical characteristics were good, and cracks and non-lamination were achieved. Chip components with few structural defects such as delamination could be obtained.

図9及び図10は、本発明に係る触媒パターン形成装置のもう一つの実施形態を示す図である。図9及び図10において、図1乃至図8に示した構成部分と同一の構成部分には、同一の参照符号を付す。   9 and 10 are views showing another embodiment of the catalyst pattern forming apparatus according to the present invention. 9 and 10, the same reference numerals are given to the same components as those shown in FIGS. 1 to 8.

図9及び図10に示す無電解めっきのための触媒パターン形成装置は、所謂、グラビア印刷法を想定した回転ローラ30、40を示している。   The catalyst pattern forming apparatus for electroless plating shown in FIGS. 9 and 10 shows rotating rollers 30 and 40 assuming a so-called gravure printing method.

図1乃至図8を参照して説明したように、本発明の特徴的部分の1つは、作業の効率化、生産性の向上、及び、最終製品の品質保持の観点から、セラミックグリーンシート1に対する第1及び第2の触媒パターン320、420の形成処理を、第1及び第2の転写材31、41を用いた転写により行う点にある。従って、セラミックグリーンシート1に、第1及び第2の触媒溶剤32、42を転写し、第1及び第2の触媒溶剤32、42による第1及び第2の触媒パターン320、420を形成できれば、第1及び第2の転写材31、41の具体的形状や、第1及び第2の転写材31、41が備えられる第1及び第2の支持体30、40の具体的構造などは、自由に設定することができる。例えば、第1及び第2の支持体30、40は、回転ローラ30、40を用いたローラ形式に限らず、上下動するスタンプ形式などであってよい。   As described with reference to FIGS. 1 to 8, one of the characteristic parts of the present invention is that the ceramic green sheet 1 is used from the viewpoints of work efficiency, productivity improvement, and quality maintenance of the final product. The first and second catalyst patterns 320 and 420 are formed by transfer using the first and second transfer materials 31 and 41. Therefore, if the 1st and 2nd catalyst solvents 32 and 42 are transcribe | transferred to the ceramic green sheet 1, and the 1st and 2nd catalyst patterns 320 and 420 by the 1st and 2nd catalyst solvents 32 and 42 can be formed, The specific shapes of the first and second transfer materials 31 and 41, the specific structures of the first and second supports 30 and 40 on which the first and second transfer materials 31 and 41 are provided, etc. are free. Can be set to For example, the first and second supports 30 and 40 are not limited to a roller type using the rotating rollers 30 and 40, and may be a stamp type that moves up and down.

以上、好ましい実施例を参照して本発明の内容を具体的に説明したが、本発明の基本的技術思想、及び、教示に基づいて、当業者であれば、種種の変形態様を採り得ることは自明である。   Although the contents of the present invention have been specifically described with reference to the preferred embodiments, various modifications can be made by those skilled in the art based on the basic technical idea and teachings of the present invention. Is self-explanatory.

本発明に係る触媒パターン形成装置の一実施形態を示す図である。It is a figure which shows one Embodiment of the catalyst pattern formation apparatus which concerns on this invention. 図1に示した触媒パターン形成装置を用いた触媒パターン形成方法を示す図である。It is a figure which shows the catalyst pattern formation method using the catalyst pattern formation apparatus shown in FIG. 図2の工程により得られたセラミックグリーンシートの一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of ceramic green sheet obtained by the process of FIG. 図2に示した工程の後の工程を示す図である。It is a figure which shows the process after the process shown in FIG. 図4の工程により得られたセラミックグリーンシートの一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of ceramic green sheet obtained by the process of FIG. 図5に示した工程の後の無電解めっき工程を示す図である。It is a figure which shows the electroless-plating process after the process shown in FIG. 図6の工程により得られたセラミックグリーンシートの一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of ceramic green sheet obtained by the process of FIG. 図2乃至図7に示した工程を経て得られた積層電子部品の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of a multilayer electronic component obtained through the steps shown in FIGS. 2 to 7. 本発明の係る触媒パターン形成装置のもう一つの実施の形態を示す図である。It is a figure which shows another embodiment of the catalyst pattern formation apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る触媒パターン形成装置のさらにもう一つの実施形態を示す図である。It is a figure which shows another embodiment of the catalyst pattern formation apparatus which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 セラミックグリーンシート
3 第1の転写装置
30 第1の支持体
31 第1の転写材
32 第1の触媒溶液
320 第1の触媒パターン
4 第2の転写装置
40 第2の支持体
41 第2の転写材
42 第2の触媒溶液
420 第2の触媒パターン

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic green sheet 3 1st transfer apparatus 30 1st support body 31 1st transfer material 32 1st catalyst solution 320 1st catalyst pattern 4 2nd transfer apparatus 40 2nd support body 41 2nd Transfer material 42 Second catalyst solution 420 Second catalyst pattern

Claims (7)

積層電子部品の製造方法であって、
第1の転写装置において、触媒溶液を含浸させた転写材をセラミックグリーンシートの触媒付与面に接触させ、前記触媒溶液を前記触媒付与面に転写して、触媒溶液層を形成する工程と、
第2の転写装置において、触媒活性剤の溶液が含浸された転写材を前記触媒溶液層の表面に接触させ、前記触媒活性剤の溶液を前記触媒溶液層の表面上に転写して、触媒活性剤層を形成する工程と、
前記触媒活性剤層の表面に無電解めっき処理を施すめっき膜形成工程と、
前記めっき膜が形成された前記セラミックグリーンシートを積層して積層体を得る工程と、
前記積層体を切断してグリーンチップを作成する工程とを含み、
さらに、前記触媒溶液層は、センシタイザとして用いられる触媒パターンであって、前記触媒付与面に所定のピッチ間隔で形成され、
前記触媒活性剤層は、アクチベータとして用いられる触媒パターンであって、前記触媒溶液層の表面にのみ形成され、前記触媒溶液層とともに触媒パターン層を構成する、
積層電子部品の製造方法。
A method for manufacturing a laminated electronic component, comprising:
In the first transfer device, a step of bringing a transfer material impregnated with a catalyst solution into contact with a catalyst application surface of a ceramic green sheet, transferring the catalyst solution to the catalyst application surface, and forming a catalyst solution layer;
In the second transfer device, the transfer material impregnated with the solution of the catalyst activator is brought into contact with the surface of the catalyst solution layer, and the solution of the catalyst activator is transferred onto the surface of the catalyst solution layer. Forming an agent layer;
A plating film forming step of performing electroless plating treatment on the surface of the catalyst activator layer;
Laminating the ceramic green sheets on which the plating film is formed to obtain a laminate;
Cutting the laminate to create a green chip,
Further, the catalyst solution layer is a catalyst pattern used as a sensitizer, and is formed on the catalyst application surface at a predetermined pitch interval,
The catalyst activator layer is a catalyst pattern used as an activator, formed only on the surface of the catalyst solution layer, and constitutes a catalyst pattern layer together with the catalyst solution layer,
A method for manufacturing a laminated electronic component.
請求項1に記載された積層電子部品の製造方法であって、
前記触媒溶液層を形成する工程と、前記触媒活性剤層を形成する工程とのそれぞれは、回転ローラを用いて行われる、
積層電子部品の製造方法。
A method for manufacturing a laminated electronic component according to claim 1,
Each of the step of forming the catalyst solution layer and the step of forming the catalyst activator layer is performed using a rotating roller.
A method for manufacturing a laminated electronic component.
請求項1又は2に記載された積層電子部品の製造方法であって、A method for manufacturing a laminated electronic component according to claim 1 or 2,
前記触媒溶液は、塩化スズ水溶液であり、The catalyst solution is a tin chloride aqueous solution,
前記触媒活性剤の溶液は、塩化パラジウム水溶液である、The catalyst activator solution is an aqueous palladium chloride solution,
積層電子部品の製造方法。A method for manufacturing a laminated electronic component.
無電解めっきのための触媒パターン層をセラミックグリーンシートの触媒付与面に形成する装置であって、第1の転写装置と、第2の転写装置とを含み、
前記第1の転写装置は、第1の支持体と、第1の転写材と、触媒溶液とを含み、
前記第1の支持体は、前記第1の転写材を支持し、
前記第1の転写材は、前記触媒溶液に対する保液性を有し、前記触媒パターン層のパターン形状に沿った表面形状を有しており、
前記触媒溶液は、前記第1の転写材に含浸されており、前記第1の転写材の表面が前記触媒付与面に接触したとき、前記接触部分を通じて前記触媒付与面に転写され、触媒溶液層を構成し、
前記第2の転写装置は、第2の支持体と、第2の転写材と、触媒活性剤の溶液とを含み、
前記第2の支持体は、前第2の記転写材を支持し、
前記第2の転写材は、前記触媒活性剤の溶液に対する保液性を有し、
前記触媒活性剤の溶液は、前記第2の転写材に含浸されており、前記第2の転写材の表面が前記触媒溶液層の表面に接触したとき、前記接触部分を通じて前記触媒溶液層の表面に転写され、前記触媒活性剤層を構成し、
さらに、前記触媒溶液層は、センシタイザとして用いられる触媒パターンであって、前記触媒付与面に所定のピッチ間隔で形成されており、
前記触媒活性剤層は、アクチベータとして用いられる触媒パターンであって、前記触媒溶液層の表面にのみ形成され、前記触媒溶液層とともに前記触媒パターン層を構成している、
触媒パターン形成装置。
An apparatus for forming a catalyst pattern layer for electroless plating on the catalyst application surface of a ceramic green sheet, comprising a first transfer device and a second transfer device,
The first transfer device includes a first support, a first transfer material, and a catalyst solution,
The first support supports the first transfer material,
The first transfer material has a liquid retaining property with respect to the catalyst solution, and has a surface shape along the pattern shape of the catalyst pattern layer,
The catalyst solution is impregnated in the first transfer material, and when the surface of the first transfer material comes into contact with the catalyst application surface, the catalyst solution layer is transferred to the catalyst application surface through the contact portion. Configure
The second transfer device includes a second support, a second transfer material, and a solution of a catalyst activator,
The second support supports the second transfer material, and
The second transfer material has liquid retention properties with respect to the solution of the catalyst activator,
The catalyst activator solution is impregnated in the second transfer material, and when the surface of the second transfer material contacts the surface of the catalyst solution layer, the surface of the catalyst solution layer through the contact portion. To constitute the catalyst activator layer,
Furthermore, the catalyst solution layer is a catalyst pattern used as a sensitizer, and is formed on the catalyst application surface at a predetermined pitch interval,
The catalyst activator layer is a catalyst pattern used as an activator, formed only on the surface of the catalyst solution layer, and constitutes the catalyst pattern layer together with the catalyst solution layer,
Catalyst pattern forming device.
請求項に記載された触媒パターン形成装置であって、
前記第1の支持体は、回転ローラであって、ローラ外周面に前記第1の転写材を備えており、
前記第2の支持体は、回転ローラであって、ローラ外周面に前記第2の転写材を備えている、
触媒パターン形成装置。
The catalyst pattern forming apparatus according to claim 4 ,
The first support is a rotating roller, and includes the first transfer material on an outer peripheral surface of the roller.
The second support is a rotating roller, and includes the second transfer material on an outer peripheral surface of the roller.
Catalyst pattern forming device.
請求項4又は5に記載された触媒パターン形成装置であって、The catalyst pattern forming apparatus according to claim 4 or 5,
前記第1の転写材は、凸片状である、The first transfer material has a convex piece shape,
触媒パターン形成装置。Catalyst pattern forming device.
請求項4乃至6のいずれかに記載された触媒パターン形成装置であって、The catalyst pattern forming apparatus according to any one of claims 4 to 6,
前記触媒溶液は、塩化スズ水溶液であり、The catalyst solution is a tin chloride aqueous solution,
前記触媒活性剤の溶液は、塩化パラジウム水溶液である、The catalyst activator solution is an aqueous palladium chloride solution,
触媒パターン形成装置。Catalyst pattern forming device.
JP2005288907A 2005-09-30 2005-09-30 Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus Expired - Fee Related JP4775550B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005288907A JP4775550B2 (en) 2005-09-30 2005-09-30 Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005288907A JP4775550B2 (en) 2005-09-30 2005-09-30 Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007100139A JP2007100139A (en) 2007-04-19
JP4775550B2 true JP4775550B2 (en) 2011-09-21

Family

ID=38027367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005288907A Expired - Fee Related JP4775550B2 (en) 2005-09-30 2005-09-30 Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4775550B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009028593A1 (en) 2007-08-30 2009-03-05 Sharp Kabushiki Kaisha Super-resolution optical recording medium, optical recording medium reproduction device, control method of optical recording medium reproduction device, control program for optical recording medium reproduction device, and computer readable medium for recording the program
JP4507126B2 (en) * 2007-10-29 2010-07-21 ソニー株式会社 Manufacturing method of polarizing plate
JP5287211B2 (en) * 2008-12-17 2013-09-11 株式会社村田製作所 Manufacturing method and manufacturing apparatus for ceramic electronic component

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060121A (en) * 1996-03-15 2000-05-09 President And Fellows Of Harvard College Microcontact printing of catalytic colloids
TW539763B (en) * 1999-06-18 2003-07-01 Ibm Method for printing a catalyst on substrates for electroless deposition
JP4408177B2 (en) * 2000-12-14 2010-02-03 大日本印刷株式会社 Method for producing pattern forming body
JP2004183048A (en) * 2002-12-03 2004-07-02 Murata Mfg Co Ltd Thin film forming method, and method for manufacturing laminated ceramic electronic component
JP4166686B2 (en) * 2003-12-26 2008-10-15 株式会社東芝 Metal particle-containing resin particles, metal particle-containing resin layer, and method for forming metal particle-containing resin layer
JP2005195690A (en) * 2003-12-26 2005-07-21 Toshiba Corp Metal-containing resin particle, resin particle, and method for manufacturing electronic circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007100139A (en) 2007-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101522408B (en) Manufacturing methods for metal clad laminates
US10596782B2 (en) Substrate for printed circuit board and printed circuit board
JP4775550B2 (en) Electroless plating film forming method and catalyst pattern forming apparatus
KR100749792B1 (en) Method for manufacturing multilayer unit for multilayer electronic component
US20130180773A1 (en) Circuit substrate structure and manufacturing method thereof
CN101657072B (en) Circuit board manufacturing method
JP2002231574A (en) Method for manufacturing multilayer ceramic electronic component and multilayer ceramic electronic component
JP4059063B2 (en) Ceramic multilayer substrate and manufacturing method thereof
KR101603967B1 (en) Continuous pattern plating transfer system and method for manufacturing continuous pattern plating transfer material
KR101520412B1 (en) Flexible printed circuit board by laser processing and printing process, and method for manufacturing the same
JP2005206935A (en) Plating film forming apparatus
JP5850574B2 (en) Continuous pattern plating transfer system and method of manufacturing continuous pattern plating transfer
KR101507913B1 (en) Manufacturing method of printed circuit board
JP6810908B2 (en) Conductive substrate and its manufacturing method
US6255037B1 (en) Method for producing monolithic electronic parts
JP2005206934A (en) Method for forming metal plating film, and method for producing electronic part
TW411748B (en) Production method for multi-layer wiring board
JP3355312B2 (en) Method for manufacturing multilayer ceramic electronic component, member for transferring metal film used therefor, and method for manufacturing the same
JP3222858B2 (en) Method for transferring metal film and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component
CN111816366A (en) Printed electronics, manufacturing method thereof, manufacturing equipment thereof and production line thereof
JP2005206933A (en) Process for producing electronic part
TW201414382A (en) Methods for fabricating metal-containing device and antenna device
JP3093505B2 (en) Manufacturing method of multilayer ceramic capacitor
JP3331900B2 (en) Manufacturing method of multilayer electronic component
CN114760777B (en) Selective composite electricity Jin Jiban and manufacturing process thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080418

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20090217

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101013

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110316

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110511

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110601

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110614

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees