JP4748265B2 - Display device - Google Patents

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JP4748265B2 JP2009261181A JP2009261181A JP4748265B2 JP 4748265 B2 JP4748265 B2 JP 4748265B2 JP 2009261181 A JP2009261181 A JP 2009261181A JP 2009261181 A JP2009261181 A JP 2009261181A JP 4748265 B2 JP4748265 B2 JP 4748265B2
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勝秀 内野
淳一 山下
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ソニー株式会社
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本発明は、ディスプレイ装置に関し、例えば有機EL(Electro Luminescence)素子によるディスプレイ装置に適用することができる。 The present invention relates to a display device, can be applied to, for example, a display device according to an organic EL (Electro Luminescence) element. 本発明は、発光素子の一端の電極に接続されてなる配線パターンを中間配線層の配線パターンを介して引き出すようにして、この中間配線層の信号線、走査線の配線に対応する部位に、周囲より絶縁して下層の信号線、走査線の配線に測定用のプローブを接触可能なコンタクト部を形成することにより、自発光に係る画素によるディスプレイ装置について、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 The present invention, at a site with a wiring pattern formed by connecting one end of the electrode of the light-emitting element to draw through the wiring pattern of the intermediate wiring layers, corresponding to the intermediate wiring layer of the signal lines, the scanning lines, lower signal lines and insulated from the surroundings by forming a contact portion that can contact the probe for measuring the wiring of the scanning line, the display apparatus according to the pixel according to the self-emission, the scanning line, the capacitance of the signal line accurately it can be measured.

従来、有機EL素子においては、例えばUSP5,684,365、特開平8−234683号公報等にディスプレイ装置への応用が種々に提案されるようになされている。 Conventionally, in the organic EL element, for example USP5,684,365, application to a display device in Japanese Patent Laid-Open 8-234683 Patent Publication is adapted to be variously proposed.

このようなディスプレイ装置1においては、図6に示すように、例えばガラスによる基板2上に、マトリックス状に画素を配置してなる画素部3が形成されると共に、垂直スキャナー(SCAN)の集積回路4A、4B、セレクタ(SEL)の集積回路5がこの基板2上に実装されて形成される。 In such a display device 1, as shown in FIG. 6, for example, on the substrate 2 by the glass, the pixel unit 3 including pixels arranged in a matrix shape is formed, the integrated circuits of the vertical scanner (SCAN) 4A, 4B, the integrated circuit 5 of the selector (SEL) is formed is mounted on the substrate 2. ここで画素部3は、走査線SCN1、SCN2がライン単位で水平方向に延長するように設けられ、またこの走査線SCN1、SCN2と直交するように信号線SIGが各列毎に垂直方向に延長するように設けられる。 Here the pixel unit 3, the scanning lines SCN1, SCN2 is provided so as to extend in the horizontal direction on a line basis, also extending in the vertical direction signal line SIG for each column so as to be orthogonal to the scanning lines SCN1, SCN2 It is provided so as to be. このようにして形成されてなる画素部3に対して、ディスプレイ装置1は、垂直スキャナーにより走査線SCN1、SCN2を駆動して順次ライン単位で画素部3の画素を駆動すると共に、この画素の駆動に対応するようにセレクタにより信号線SIGを駆動して各画素の階調を設定するようになされている。 To the pixel unit 3 in this way was made is formed, the display device 1, sequentially line by line by driving the scanning lines SCN1, SCN2 by the vertical scanner drives the pixels of the pixel unit 3, the driving of the pixel It is adapted to drive the signal line SIG to set the gradation of each pixel by the selector so as to correspond to.

このようなディスプレイ装置においては、各画素を構成する有機EL素子が電流駆動による自発光素子であることにより、画素部に電源を供給する電源の配線パターン等に大きな電流が流れる。 In such a display apparatus, the organic EL element constituting each pixel is a self-luminous device according to the current drive, a large current flows through the wiring pattern or the like of the power supply for supplying power to the pixel unit. これによりこの種のディスプレイ装置1においては、このような駆動電流に係る配線パターンを極力、低抵抗化することが求められる。 Thus, in the display device 1 of this type, a wiring pattern according to this driving current as much as possible, it is required to lower the resistance.

図7は、この駆動電流に係る配線パターンを低抵抗化し得ると考えられるディスプレイ装置11の構成を示す分解斜視図である。 Figure 7 is an exploded perspective view showing a structure of a display device 11 which is considered to be low resistance of the wiring pattern according to the driving current. このディスプレイ装置11においては、ガラス基板12上の画素部となる領域ARにアモルファスシリコンのTFTにより各画素の画素回路、この画素回路に係る走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIG等が形成された後、垂直スキャナーの集積回路4A、4B、セレクタの集積回路5が実装される。 In the display device 11, the pixel circuit of each pixel in the area AR to be a pixel portion on the glass substrate 12 by an amorphous silicon TFT, scanning lines SCAN1 according to the pixel circuit, SCAN2, after the signal line SIG and the like are formed the integrated circuit 4A of the vertical scanner, 4B, the integrated circuit 5 of the selector are implemented. ディスプレイ装置11は、続いて絶縁層による平坦化膜14、アノードレイヤーの配線層15が形成される。 Display device 11, followed by planarization by the insulating layer film 14, the wiring layer 15 of the anode layer is formed. ディスプレイ装置11では、このアノードレイヤーの配線層15により有機EL素子を駆動する画素回路のトランジスタを有機EL素子のアノードに接続する電極16が形成される。 In the display device 11, the electrode 16 which connects the transistor of the pixel circuit for driving an organic EL element by the wiring layer 15 of the anode layer to the anode of the organic EL element is formed. ディスプレイ装置11は、続いて有機EL素子の材料層が蒸着により形成された後、有機EL素子のカソード電極の電極パターン17、ガラス基板18が積層される。 Display device 11, after the material layer of the organic EL element is formed by vapor deposition subsequently, the electrode pattern 17 of the cathode electrode of the organic EL device, a glass substrate 18 is laminated.

しかしてこのようにして形成されるディスプレイ装置11において、カソード電極の電極パターン17にあっては、有機EL素子の光を透過して出射することが必要なことにより、透明電極により形成され、これにより低抵抗化が困難な欠点がある。 Thus in the display device 11 formed in this manner, in the electrode pattern 17 of the cathode electrode, by be necessary to emitted through the light of the organic EL element, is formed by a transparent electrode, which low resistance can be difficult drawbacks by. これに対して平坦化膜14の下層側にあっては、アルミニウムによる配線材料を適用し得ることにより、カソード電極の電極パターン17に比して低抵抗化し得るものの限度がある。 Relative In the lower side of the planarization film 14 which, by may apply aluminum due to wiring materials, there is a limit of what can be low resistance as compared with the electrode pattern 17 of the cathode electrode. これに対してアノードレイヤーの配線層15は、平坦化膜14上に下層の配線パターンと絶縁されて設けられることにより、低抵抗化が比較的容易な特徴がある。 Wiring layer 15 of the anode layer with respect to which, by being provided to be insulated from the lower wiring pattern on the planarization film 14, a low resistance can be relatively easy features.

これによりディスプレイ装置11では、アノードレイヤーの配線層15を利用して、カソード電極17の電極パターンと電源の配線パターンとが外部に引き出される。 In this way the display device 11, by using the wiring layer 15 of the anode layer, the electrode pattern of the cathode electrode 17 and the power supply wiring pattern is drawn out. すなわちアノードレイヤーの配線層15は、画素部となる矩形の領域を囲むように、幅広の配線パターン19が形成され、破線により示すように、カソード電極の電極パターン17が画素部の周囲でこの幅広の配線パターン19に接続される。 That wiring layer 15 of the anode layer, so as to surround a rectangular region to be a pixel portion, the wide wiring patterns 19 are formed, as shown by the dashed line, the electrode pattern 17 of the cathode electrode is the wide around the pixel portion It is connected to the wiring pattern 19. またこの配線パターン19がこのディスプレイ装置11の短辺側、対向する2辺よりそれぞれ飛び出すように形成されたカソード用のパッド20A〜20Dに接続され、これらにより低抵抗であるアノードレイヤーの配線層15を介してカソード電極の電極パターン17が引き出される。 The wiring pattern 19 is connected to the display device 11 the short side, pad 20A~20D for formed to jump out respectively from two opposite sides cathode of the wiring layer of the anode layer is a low-resistance by these 15 electrode pattern 17 of the cathode electrode is drawn through.

またアノードレイヤーの配線層15は、このカソード電極の電極パターン17に係る配線パターン19の上下、このディスプレイ装置11の長辺に沿って、1組の幅広による配線パターン21A、21Bが形成され、この幅広の配線パターン21A、21Bがディスプレイ装置11の上下の長辺より飛び出すように形成された外部接続用の電極である電源用のパッド22A及び22B、22C及び22Dに接続される。 The wiring layer 15 of the anode layers, upper and lower wiring patterns 19 of the electrode pattern 17 of the cathode electrode, along the long side of the display device 11, a pair of wide due to the wiring patterns 21A, 21B are formed, the wide wire pattern 21A, 21B is connected to the upper and lower pads 22A and 22B of the power source is an electrode for external connection which is formed to pop out from the long sides, 22C and 22D of the display device 11. ディスプレイ装置11は、この幅広の配線パターン21A、21Bに、平坦化膜14の下層に形成された電源の配線パターンが接続され、これにより電源の配線パターンについても、中間層であるアノードレイヤーの配線層15を有効に利用して、外部に引き出されるようになされている。 Display device 11, the wide wiring pattern 21A, the 21B, is connected to the wiring pattern formed on the lower layer of the flattening film 14 power, thereby regard to the power of the wiring pattern, the anode layer is an intermediate layer wiring by effectively utilizing the layers 15, it is made so as to be drawn to the outside. なおガラス基板12には、垂直スキャナーの集積回路4A、4B、セレクタの集積回路5の駆動に係る信号入力用のパッド24A〜24Dが設けられる。 Note that the glass substrate 12, an integrated circuit 4A of the vertical scanner, 4B, pads 24A~24D for signal input according to the driving integrated circuit 5 of the selector is provided.

これらによりこのディスプレイ装置11において、各画素は、図8に示すように、ガラス基板12上に、画素回路が形成されてなる部位32、平坦化膜14、アノードレイヤーの配線層15の配線パターン16、有機EL素子材料層31、カソード電極の電極パターン17、ガラス基板18の積層構造により形成されるようになされている。 In the display device 11 by these, each pixel, as shown in FIG. 8, on a glass substrate 12, a portion 32 of the pixel circuit is formed, the planarization film 14, wiring patterns 16 of the wiring layer 15 of the anode layer the organic EL element material layer 31, the electrode pattern 17 of the cathode electrode, is adapted to be formed by the laminated structure of the glass substrate 18. これに対して画素部以外の信号線SIG、走査線SCN1、SCN2の部位においては、図9に示すように、ガラス基板12上に、信号線SIG、走査線SCN1、SCN2による配線パターン、平坦化膜14、アノードレイヤーの配線層15の配線パターン19、21A、21Bが積層される。 The signal line SIG other than the pixel portion contrast, in the region of the scanning lines SCN1, SCN2, as shown in FIG. 9, on a glass substrate 12, the signal line SIG, the wiring pattern by the scanning lines SCN1, SCN2, planarization film 14, the wiring pattern 19,21A of the wiring layer 15 of the anode layer, 21B are stacked. また有機EL素子材料層31、カソード電極の電極パターン17をガラス基板12の全面に形成する場合には、続いて有機EL素子材料層31、カソード電極の電極パターン17が積層された後、ガラス基板18が積層されて形成されるようになされている。 The organic EL device material layers 31, the electrode pattern 17 of the cathode electrode in the case of forming the entire surface of the glass substrate 12, followed by an organic EL element material layer 31, after the electrode pattern 17 of the cathode electrode are laminated, a glass substrate 18 is adapted to be formed by stacking.

USP5,684,365 USP5,684,365 特開平8−234683号 JP-A-8-234683

ところで同様のディスプレイ装置である液晶表示装置においては、ディスプレイ装置11と同様にアモルファスシリコンによるTFTにより作成され、ガラス基板上に画素部を形成した時点で、いわゆるプローバーによる針立て測定が実行される。 Meanwhile in a liquid crystal display device is the same as the display device is created by the TFT according Similarly amorphous silicon and the display device 11, at the time of forming the pixel portion on the glass substrate, Haritate measured by so-called a prober is executed. ここでプローバーによる針立て測定とは、測定対象に設けられた測定用のポイントにプローバーを押し付け、このプローバーを介して測定用のポイントの電圧等を測定する方法であり、TFTによるディスプレイ装置においては、動作特性、各配線パターンの容量等が測定されるようになされている。 Here, the Haritate measurement by prober is pressed against the prober to the point of measurement provided in the measurement object, a method of measuring the voltage or the like of the points for measurement via the prober, the display device according to the TFT , operating characteristics are adapted to the capacity of each wiring pattern is measured.

有機EL素子のディスプレイ装置においても、同様のプローバーによる針立て測定を実行することができれば、便利であると考えられる。 Also in the display device of the organic EL element, if it is possible to perform Haritate measurement by the same prober, it is considered to be convenient. すなわち製造工程においては、プローバーによる針立て測定を実行することにより、早期に不良品を発見することができ、これにより無駄な製品加工を防止することができる。 In other words, in the manufacturing process, by performing the Haritate measurement by a prober, it is possible to discover the defective early, thereby making it possible to prevent useless product processing. また設計工程においては、走査線、信号線の容量の測定により、画素回路、垂直スキャナー、セレクタの設計、改良等に有効に役立てることができる。 In the design process, the scanning line, by measuring the capacitance of the signal line, the pixel circuit, a vertical scanner, selector design can help enable an improvement like.

しかしながら図7について上述した構成によるディスプレイ装置11においては、走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGの配線の上層に、アノードレイヤーの配線層15に係る配線パターン19、21A、21Bが設けられていることにより、結局、アノードレイヤーの配線層15を設ける前でしか、走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGに対してはプローバーによる針立て測定を実行することができない。 However, in the display device 11 having the configuration described above with reference to FIG. 7, the scan lines SCAN1, SCAN2, the upper wiring of the signal line SIG, the wiring pattern 19,21A according to the wiring layer 15 of the anode layer, 21B is provided Accordingly, after all, only before providing the wiring layer 15 of the anode layer, the scan lines SCAN1, SCAN2, it is impossible to perform Haritate measurement by prober to the signal line SIG.

これに対してアノードレイヤーの配線層15にあっては、殆どの部位を覆ってしまうことにより、走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGの容量を大きく増大させる。 There contrast to the wiring layer 15 of the anode layer, by may cover most of the region, the scan lines SCAN1, SCAN2, greatly increases the capacitance of the signal line SIG. これにより図7のディスプレイ装置11において、アノードレイヤーの配線層15を設ける前に、走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGに対してプローバーによる針立て測定を実行したのでは、正確に容量を測定できない問題がある。 In the display device 11 in this manner FIG. 7, prior to providing the wiring layer 15 of the anode layer, the scan lines SCAN1, SCAN2, than was performed Haritate measured by prober to the signal line SIG can not accurately measure the capacitance There's a problem.

この問題を解決する1つの方法として、例えば設計工程においては、レーザービームの照射によりレイアウトの一部を切り取った後、プローバーによる針立て測定を実行する方法も考えられるが、図7に係るディスプレイ装置11においては、このようにしてレーザービームの照射によりレイアウトの一部を切り取ると、ガラス基板12上の配線パターン等がアノードレイヤーの配線層15との間で短絡することになり、結局、正確に容量を測定できない。 One way to solve this problem, for example, in the design process, after cutting a part of the layout by the irradiation of a laser beam, a method is also conceivable to perform Haritate measurement by a prober, a display device according to FIG. 7 in 11, this way the cut out part of the layout by the irradiation of a laser beam, will be such as a wiring pattern on the glass substrate 12 is short-circuited between the wiring layer 15 of the anode layer and eventually, exactly It can not be measured capacity.

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、自発光に係る画素によるディスプレイ装置について、走査線、信号線の容量を正確に測定することができるディスプレイ装置を提案しようとするものである。 The present invention has been made in view of the above, the display device according to the pixel according to the self-emission, the scanning line is intended to provide a display device in which the capacitance of the signal lines can be accurately measured .

かかる課題を解決するため請求項1の発明においては、電流駆動による発光素子と発光素子を駆動する画素回路とによる画素をマトリックス状に配置してなるディスプレイ装置に適用して、基板上の略長方形形状による領域にマトリックス状に画素回路が配置されると共に、画素回路の信号線及び又は走査線に接続されてなる駆動用の配線に画素回路の駆動用の信号を出力する駆動回路が配置され、画素回路の上層に形成された中間配線層による電極を介して、中間配線層の上層に形成された発光素子の一端が対応する画素回路に接続され、発光素子の他端が、発光素子の上層に形成された電極パターンに接続され、中間配線層に形成された引き出し用の配線パターンを介して、電極パターンが外部接続用の電極に接続され中間配線層は、略 In the invention of claim 1 for solving the above problem, by applying the pixel by a pixel circuit for driving the light emitting element and the light-emitting element of the current driver to a display apparatus formed by arranging in a matrix shape, a substantially rectangular substrate together with the pixel circuits are arranged in a matrix form in the region by the shape, the driving circuit for outputting a signal for driving the pixel circuit in the wiring for driving which are connected to the signal line and or the scan line of pixel circuits are arranged, through the electrode by the intermediate wiring layer formed on the upper layer of the pixel circuit, one end of the light-emitting element formed on the upper layer of the intermediate wiring layers are connected to the corresponding pixel circuit, the other end of the light emitting element, the upper layer of the light emitting element connected to the electrode pattern formed on, via the wiring pattern of the lead-out formed on the intermediate wiring layer, an intermediate wiring layer electrode pattern is connected to the electrode for external connection is approximately 方形形状による領域を囲む形状により、駆動用の配線を覆うように引き出し用の配線パターンが形成され、駆動用の配線のそれぞれに対応する部位に、引き出し用の配線パターンから絶縁されて、下層の前記駆動用の配線に測定用のプローブを接続可能なコンタクト部が形成されてなるようにする。 The shape surrounding the area by the square shape, the wiring pattern for the drawer so as to cover the wiring for driving formed, at positions corresponding to each of the drive wiring is insulated from the wiring pattern for the drawer, the lower the so that the contact portion can be connected to the probe for measuring the driving wiring is formed.

請求項1の構成により、電流駆動による発光素子と発光素子を駆動する画素回路とによる画素をマトリックス状に配置してなるディスプレイ装置に適用して、基板上の略長方形形状による領域にマトリックス状に画素回路が配置されると共に、画素回路の信号線及び又は走査線に接続されてなる駆動用の配線に画素回路の駆動用の信号を出力する駆動回路が配置され、画素回路の上層に形成された中間配線層による電極を介して、中間配線層の上層に形成された発光素子の一端が対応する画素回路に接続され、発光素子の他端が、発光素子の上層に形成された電極パターンに接続され、中間配線層に形成された引き出し用の配線パターンを介して、電極パターンが外部接続用の電極に接続されてなるようにすれば、中間配線層を介して発光素 The arrangement of claim 1, the pixel by a pixel circuit for driving the light emitting element and the light-emitting element of the current driver applied to the display device formed by arranging in a matrix, in a matrix region by a substantially rectangular shape on the substrate together with the pixel circuits are arranged, the drive circuit is arranged to output a signal for driving the pixel circuit in the wiring for driving which are connected to the signal line and or the scan line of the pixel circuits are formed in the upper layer of the pixel circuit and through the electrode by the intermediate wiring layer, one end of the light-emitting element formed on the upper layer of the intermediate wiring layers are connected to the corresponding pixel circuit, the other end of the light emitting device, the electrode pattern formed on the upper layer of the light emitting element are connected, via a wiring pattern for a drawer formed in the intermediate wiring layers, if so electrode pattern is connected to the electrode for external connection, emission through the intermediate wiring layer containing の他端を引き出し得ることにより、この種のディスプレイ装置に求められる配線パターンの低抵抗化を図ることができる。 By capable of eliciting the other end, it is possible to reduce the resistance of the wiring pattern required for this type of display device. このとき中間配線層は、略長方形形状による領域を囲む形状により、駆動用の配線を覆うように引き出し用の配線パターンが形成され、駆動用の配線のそれぞれに対応する部位に、引き出し用の配線パターンから絶縁されて、下層の前記駆動用の配線に測定用のプローブを接続可能なコンタクト部が形成されてなるようにすれば、このように低抵抗化により中間配線層を介して発光素子の他端を引き出すようにしても、中間配線層を設けた状態でこのプローブを接続可能な部位を介して下層の駆動用の配線に係る容量を測定することができ、これにより自発光に係る画素によるディスプレイ装置について、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 At this time the intermediate wiring layers, the shape surrounding the area by a substantially rectangular shape, the wiring pattern for the drawer so as to cover the wiring for driving are formed, at positions corresponding to each of the drive wiring, the wiring lead-out is insulated from the pattern, if such contact portion connectable to probe for measuring the wiring for the lower layer of the drive is formed, the light-emitting element thus via an intermediate wiring layer by low resistance also be pulled out at the other end, through the probe can be connected sites in the state in which an intermediate wiring layers can measure capacitance of the lower wiring for driving, according thereby to self-luminous pixels for by the display device, scan lines, the capacitance of the signal lines can be accurately measured.

本発明によれば、自発光に係る画素によるディスプレイ装置について、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 According to the present invention, the display device according to the pixel according to the self-emission, the scanning line, the capacitance of the signal lines can be accurately measured.

本発明の実施例1に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 The display device according to a first embodiment of the present invention is a plan view and a cross-sectional view partially showing. 本発明の実施例1に係るディスプレイ装置を示す分解斜視図である。 It is an exploded perspective view showing a display device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施例2に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 The display device according to a second embodiment of the present invention is a plan view and a cross-sectional view partially showing. 本発明の実施例3に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 The display device according to a third embodiment of the present invention is a plan view and a cross-sectional view partially showing. 本発明の実施例4に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 The display device according to a fourth embodiment of the present invention is a plan view and a cross-sectional view partially showing. 従来のディスプレイ装置を示す平面図である。 Is a plan view showing a conventional display device. 配線パターンの抵抗値を小さくし得ると考えられるディスプレイ装置を示す分解斜視図である。 Is an exploded perspective view of a display device considered may reduce the resistance value of the wiring pattern. 図7のディスプレイ装置における画素の部分の断面図である。 It is a cross-sectional view of a portion of the pixel in the display device of FIG. 図7のディスプレイ装置の画素以外の部位における断面図である。 It is a cross-sectional view at a site other than the pixels of the display device of FIG.

以下、適宜図面を参照しながら本発明の実施例を詳述する。 Hereinafter, detailed embodiments of the present invention with reference to the drawings.

(1)実施例の構成 図2は、図7との対比により本発明の実施例1に係るディスプレイ装置を示す分解斜視図である。 (1) Configuration FIG. 2 embodiment is an exploded perspective view showing a display device according to a first embodiment of the present invention in comparison with FIG. このディスプレイ装置31は、ガラス基板12上の矩形の領域ARに画素回路が形成されると共に、この画素回路による走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGに駆動用の信号を出力する垂直スキャナーの集積回路4A、4B、セレクタの集積回路5がこのガラス基板12に設けられ、これら集積回路4A、4B、5による駆動回路が走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGにそれぞれ接続されてなる駆動信号用の配線に接続される。 The display device 31 together with the pixel circuit is formed in the rectangular area AR on the glass substrate 12, the scanning line by the pixel circuit SCAN1, SCAN2, integrated circuits vertical scanner for outputting a signal for driving the signal line SIG 4A, 4B, the integrated circuit 5 of the selector is provided on the glass substrate 12, these integrated circuits 4A, 4B, 5 by the drive circuit scan lines SCAN1, SCAN2, wiring for driving signals which are connected to the signal line SIG It is connected to. さらにこの上層に、中間配線層であるアノードレイヤーの配線層15が形成された後、有機EL素子の材料層、カソード電極の電極パターン17、ガラス基板18が順次積層され、カソード電極の電極パターン17が中間配線層に設けられた引き出し用の配線パターン19を介して外部接続用の電極であるパッド20A〜20Dに接続される。 Further to this upper layer, after the wiring layer 15 of the anode layer is an intermediate wiring layer is formed, the material layer of the organic EL device, the electrode pattern 17 of the cathode electrode, a glass substrate 18 are sequentially stacked, the cathode electrode pattern 17 There is connected to the pad 20A~20D an electrode for external connection through the wiring pattern 19 of the drawer provided in the intermediate wiring layers.

ディスプレイ装置31は、このようにして形成されてなる中間配線層による引き出し用の配線パターン19において、走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGにそれぞれ接続されてなる駆動信号用の配線に対応する部位に、周囲より絶縁されて、下層の駆動信号用の配線にプローブを接続可能な部位32(以下、コンタクト部と呼ぶ)がそれぞれ形成される。 Display device 31, the wiring pattern 19 of the drawer by the intermediate wiring layer formed is formed in this manner, scan lines SCAN1, SCAN2, the portion corresponding to the wiring of the drive signals which are connected to the signal line SIG , it is insulated from the surrounding, underlying drive signal portion connectable probes to wiring for 32 (hereinafter, referred to as a contact portion) are formed. このディスプレイ装置31は、このコンタクト部32に係る構成を除いて、図7について上述したディスプレイ装置11と同一に形成されることにより、重複した説明は省略する。 The display device 31, except for the configuration according to the contact portion 32, by being formed in the same manner as the display device 11 described above with reference to FIG. 7, the duplicated description is omitted.

図1(A)は、このコンタクト部32を示す平面図であり、図1(B)は、この図1(A)をB−B線により切り取って示す断面図である。 1 (A) is a plan view showing the contact portion 32, FIG. 1 (B) is a cross-sectional view showing cut and FIG. 1 (A) line B-B. コンタクト部32は、走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGにそれぞれ接続されてなる駆動信号用の配線(図1においては、符号SCAN1、SCAN2、SIGにより示す)のそれぞれに設けられ、アノードレイヤーの配線層15において、各配線の上部に、矩形形状によるランド33が設けられ、このランド33が下層の対応する配線に接続されるようになされている。 Contact portion 32 (in FIG. 1, reference numeral SCAN1, SCAN2, indicated by SIG) scan lines SCAN1, SCAN2, wiring for driving signals which are connected to the signal line SIG is provided on each of the anode layer wirings in the layer 15, the upper portion of each wiring, land 33 by a rectangular shape is provided, the land 33 is adapted to be connected to the lower of the corresponding wires.

これによりこのディスプレイ装置31では、アノードレイヤーの配線層15を形成した後、このランド33にプローバーの先端を接触させることにより、プローバーによる針立て測定を実行して、各走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGの容量を正確に測定できるようになされている。 In this way the display device 31, after the formation of the wiring layer 15 of the anode layer, by contacting the tip of the prober to the land 33, running Haritate measurement by a prober, each scan line SCAN1, SCAN2, signal the capacity of the line SIG have been made to allow accurate measurement.

ところでこのようにしてランド33を形成した場合、ランド33においては、対応する走査線SCAN1、SCAN2、信号線SIGと同電位に保持されることになる。 However in the case of forming the lands 33 in this way, the land 33, corresponding scan lines SCAN1, SCAN2, will be held at the same potential and the signal line SIG. これによりアノードレイヤーの配線層15の上層に、全面により有機EL素子の材料層を設け、さらにはカソード電極の電極パターン17を設けた場合、このランド33の上層で有機EL素子の材料層が発光する場合も考えられる。 Thus the upper wiring layer 15 of the anode layer, the material layer of the organic EL element is provided on the entire surface by, more case of providing the electrode pattern 17 of the cathode electrode, the material layer of the organic EL element in the upper layer of the land 33 is emitting it is conceivable that. このためこのディスプレイ装置31では、少なくともランド33の上層側には、有機EL素子材料を設けないようになされ、これにより画素部以外の領域ではディスプレイ装置31が発光しないようになされている。 Thus in the display device 31, on the upper side of at least the land 33 is adapted not provided an organic EL device material, thereby in a region other than the pixel portion being adapted to the display device 31 does not emit light.

(2)実施例の動作 以上の構成において、このディスプレイ装置31では、周囲に形成されたパッド20A〜20D、22A〜22D、24A〜24Dが電源、駆動回路等に接続されて所望の画像が画素部で表示される。 (2) Operation of Embodiment With the above configuration, in the display device 31, the pad 20A~20D formed around, 22A to 22D, 24A to 24D power, a desired image is connected to the drive circuit is a pixel It is displayed in parts. すなわちディスプレイ装置31では、これらパッド20A〜20D、22A〜22D、24A〜24Dのうち、長辺側の両端に設けられたパッド22A〜22Dが電源Vcc用に割り当てられ、また短辺側の両端に設けられたパッド20A〜20Dがカソード用に割り当てられ、残る信号線用のパッド22A〜22Dを介して各画素の階調が設定されて所望の画像が表示される。 That is, in the display device 31, the pads 20A to 20D, 22A to 22D, of 24A to 24D, the pad 22A to 22D provided at opposite ends of the long side are assigned for power Vcc, also at both ends of the short sides provided pad 20A~20D is allocated for the cathode, a desired image tone is set for each pixel through a pad 22A~22D for remaining signal lines are displayed.

ディスプレイ装置31では、このようにして各画素を駆動するにつき、長辺側の両端に設けられたパッド22A〜22Dより供給される電源が、このパッド22A〜22Dよりアノードレイヤーの配線層15に形成された配線パターン21A、21Bに供給され、さらにこの配線パターン21A、21Bを介して下層の配線パターン層に供給され、この下層の配線パターンより画素部の各画素に供給される。 In the display device 31, per driving the pixels in this way, power supplied from the pad 22A~22D provided at both ends of the long side is, formed on the wiring layer 15 of the anode layer from the pad 22A~22D and the wiring patterns 21A, is supplied to 21B, further the wiring pattern 21A, is supplied to the lower wiring pattern layer through the 21B, is supplied to each pixel of the pixel portion from the lower wiring pattern.

またこのようにして各画素に電源を供給して、ディスプレイ装置31では、各画素に設けられた画素回路が、アノードレイヤーの配線層15に形成された電極16により上層の有機EL素子に接続され、この画素回路による有機EL素子の駆動電流がさらに上層のカソード電極の電極パターン17により画素部でまとめられる。 Also supplies power to each pixel in this manner, the display device 31, the pixel circuit provided in each pixel is connected to the upper layer of the organic EL element by the electrode 16 formed on the wiring layer 15 of the anode layer are summarized in the pixel unit by the electrode patterns 17 of the cathode electrode driving current is further the upper organic EL device according to the pixel circuit. ディスプレイ装置31では、このカソード電極の電極パターン17にまとめられた有機EL素子の駆動電流が、画素部を囲むようにアノードレイヤーの配線層15に形成された配線パターン19に導かれ、この配線パターン19に接続されてなる短辺側のカソード用のパッド20A〜20Dより流出する。 In the display device 31, the drive current of the gathered organic EL element to the electrode pattern 17 of the cathode electrode is led to the wiring pattern 19 formed on the wiring layer 15 of the anode layer so as to surround the pixel portion, the wiring pattern It is connected to the 19 flows out from the pad 20A~20D for the cathode of the short sides formed by.

これによりディスプレイ装置31では、多数の配線パターン層の中で最も抵抗値の低い中間配線層であるアノードレイヤーの配線層15を有効に利用して、有機EL素子の駆動電流の経路を低抵抗化し、消費電力を低減すると共に、配線パターンの抵抗による画質劣化を有効に回避するようになされている。 Thus, in the display device 31, by effectively utilizing the wiring layer 15 of the anode layer is lower intermediate interconnect layer having the highest resistance among a number of wiring pattern layer, the path of the driving current of the organic EL element low resistance , while reducing power consumption, it has been made to effectively avoid image quality degradation due to the resistance of the wiring pattern.

またこのようにして中間配線層であるアノードレイヤーの配線層15を介してカソード電極の電極パターン、電源の配線パターンを引き出して、これらの配線パターンに係る抵抗値を小さくすることにより、ディスプレイ装置31では、このアノードレイヤーの配線層15が信号線SIG、走査線SCN1、SCN2、駆動回路4A、4B、5を覆うように形成され、信号線SIG、走査線SCN1、SCN2においては、アノードレイヤーの配線層15により容量が著しく増大する。 The electrode pattern of the cathode electrode through the wiring layer 15 of the anode layer is the intermediate wiring layer in this manner, pull out the power of the wiring pattern, by reducing the resistance value according to the wiring pattern, the display device 31 in the wiring layer 15 is the signal line SIG of the anode layer, the scanning lines SCN1, SCN2, driving circuits 4A, is formed so as to cover the 4B, 5, the signal line SIG, in the scanning lines SCN1, SCN2, the anode layer wirings capacity by the layer 15 increases significantly.

ディスプレイ装置31では、これによりアノードレイヤーの配線層15において、走査線SCN1、SCN2、信号線SIGを対応する駆動回路4A、4B、5に接続する配線に対応する部位に、周囲より絶縁されて、下層のこれら駆動信号に係る配線に測定用のプローバーを接続可能なコンタクト部32が形成される。 In the display device 31, thereby the wiring layer 15 of the anode layer, the scanning lines SCN1, SCN2, drive circuit 4A to the corresponding signal line SIG, a portion corresponding to the wiring connected to 4B, 5, is insulated from the surroundings, contact portion 32 capable of connecting the prober for measuring the wire according to these drive signals of the lower layer is formed. これによりディスプレイ装置31では、このコンタクト部32により走査線SCN1、SCN2、信号線SIGの容量をアノードレイヤーの配線層15を形成した後に測定し得、これにより自発光に係る画素によるディスプレイ装置について、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 In this way the display device 31, the contact portion 32 by the scanning lines SCN1, SCN2, obtained by measuring the capacitance of the signal line SIG after the formation of the wiring layer 15 of the anode layer, thereby the display device according to a pixel according to the self-emission, scan lines, the capacitance of the signal lines can be accurately measured.

このディスプレイ装置31は、このような測定用のプローバーを接続可能なコンタクト部32が、それぞれ下層の配線に接続されたアノードレイヤーの配線層15によるランド33により形成され、これにより単にプローバーの先端を各ランド33に接触させるだけで、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 The display device 31, such prober can be connected contact portion 32 of the measurement is formed by the land 33 by the wiring layer 15 of the anode layer which is connected to the lower wiring, respectively, thereby simply the tip of the prober only brought into contact with each land 33, the scan lines, the capacitance of the signal lines can be accurately measured.

またこのようにしてランド33により測定用のプローバーを接続可能なコンタクト部32を形成して、少なくともこのランド33の部分には有機EL材料が堆積しないようになされ、これにより画素部以外の領域における発光が有効に回避される。 Also by forming the contact portion 32 capable of connecting the prober for measurement by the land 33 in this way, at least this is directed to the land portion 33 is adapted to prevent the organic EL material is deposited, thereby in the region other than the pixel portion emission is effectively avoided.

(3)実施例の効果 以上の構成によれば、発光素子の一端の電極であるカソード電極に接続されてなる電極パターンを中間配線層の配線パターンを介して引き出すようにして、この中間配線層の信号線、走査線の配線に対応する部位に、周囲より絶縁して下層の信号線、走査線の配線に測定用のプローブを接触可能なコンタクト部32を形成することにより、自発光に係る画素によるディスプレイ装置について、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 (3) Advantages of Embodiment With the above configuration, so as to draw an electrode pattern formed by connecting the cathode electrode which is one end of the electrode of the light emitting element through the wiring pattern of the intermediate wiring layers, the intermediate interconnect layer signal line, a portion corresponding to the wiring of the scanning line, the lower layer of the signal line by insulating above the ambient, by forming the contact portion 32 capable of contacting the probe for measuring the wiring of the scanning line, according to the self-emission for a display device according to pixels, scan lines, the capacitance of the signal lines can be accurately measured.

またこのような測定用のプローブを接触可能なコンタクト部を、下層の配線に接続されたランドにより形成することにより、単にプローバーの先端を各ランドに接触させるだけで、走査線、信号線の容量を正確に測定することができる。 The probe capable contacts contact portion for such measurements, by forming the lower layer of the connected land lines, simply by contacting the tip of the prober to the land, the scan lines, the capacitance of the signal line it is possible to accurately measure.

またこのようにしてランドにより測定用のプローブを接続可能なコンタクト部を形成して、少なくともこのランドの部分には有機EL材料が堆積しないように形成することにより、画素部以外の領域における発光を有効に回避することができる。 Also by forming a contact portion connectable probes for measurement by the land in this way, by the portion of the at least the land formed so as not to organic EL material is deposited, the light emission in the region other than the pixel portion it can be effectively avoided.

図3は、図1との対比により本発明の実施例2に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 Figure 3 is a plan view and a cross-sectional view showing a display device according to a second embodiment of the present invention in comparison with FIG. 1 partially. この実施例においては、実施例1に係るディスプレイ装置31と同様に、中間配線層の信号線、走査線の配線に対応する部位に、周囲より絶縁して下層の信号線、走査線の配線に測定用のプローブを接触可能なコンタクト部42が形成される。 In this embodiment, similarly to the display device 31 according to the first embodiment, the signal line of the intermediate wiring layers, a portion corresponding to the wiring of the scanning line, the lower layer of the signal line by insulating above the ambient, the wiring of the scanning line a probe for measuring the contact portion 42 capable of contacting is formed. このディスプレイ装置では、このコンタクト部42が、実施例1と同様に、下層の配線に接続されたランド43により形成され、これにより実施例1について上述したディスプレイ装置31と同様に、簡易かつ正確に、走査線、信号線の容量を測定することができるようになされている。 In this display device, the contact portion 42, in the same manner as in Example 1, is formed by the land 43 connected to the lower wiring, thereby similarly to the display device 31 described above for Example 1, easily and accurately , the scanning lines are made to be able to measure the capacitance of the signal line. なおこのディスプレイ装置においては、これらコンタクト部42に関する構成が異なる点を除いて、実施例1について上述したディスプレイ装置31と同一に作成される。 Note In the display device, except for the configuration of these contact portions 42 are different, they are created the same as the display device 31 described above for Example 1.

このディスプレイ装置では、このような中間配線層に係るアノードレイヤーの配線層15を作成した後の平坦化膜の作成工程において、このランド43の部分にも絶縁層による平坦化膜44が形成され、上層の有機EL素子材料膜との間についても、この平坦化膜44によりこのコンタクト部42が絶縁されるようになされている。 In this display device, in the creation process of the planarizing film after creating the wiring layer 15 of the anode layer in accordance with such an intermediate wiring layer, the planarizing film 44 by the insulating layer in the portion of the land 43 is formed, for even while the upper layer of the organic EL device material film, the contact portion 42 is adapted to be insulated by the planarization film 44.

またこれに対応してディスプレイ装置では、アノードレイヤーの配線層15の上層側全面に、有機EL素子の材料層が形成され、これによりこの材料膜の作成工程を簡略化するようになされている。 Also in the display device in response to this, the upper entire surface of the wiring layer 15 of the anode layer, the material layer of the organic EL element is formed, thereby being adapted to simplify the creation process of the material film.

この実施例においては、アノードレイヤーの配線層を作成した後の平坦化膜により上層の有機EL素子の材料層との間についてもコンタクト部42を絶縁することにより、簡易な工程により画素部以外の領域における発光を有効に回避して、実施例1と同様の効果を得ることができる。 In this embodiment, by insulating the contact portions 42 also between the material layers of the upper layer of the organic EL device by flattening film after creating a wiring layer of the anode layer, other than the pixel portion by a simple process and effectively avoid the emission in the region, it is possible to obtain the same effect as the first embodiment.

図4は、図1との対比により本発明の実施例3に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 Figure 4 is a plan view and a cross-sectional view showing a display device according to a third embodiment of the present invention in comparison with FIG. 1 partially. この実施例においては、実施例2に係るディスプレイ装置と同様に、中間配線層の信号線、走査線の配線に対応する部位に、周囲より絶縁して下層の信号線、走査線の配線に測定用のプローブを接触可能なコンタクト部52が形成される。 In this embodiment, as in the display device according to the second embodiment, the measurement signal lines of the intermediate wiring layers, a portion corresponding to the wiring of the scanning line, the lower layer of the signal line by insulating above the ambient, the wiring of the scanning line probe contactable contact portion 52 of the use are formed. このディスプレイ装置においては、コンタクト部52に関する構成が異なる点を除いて、実施例2について上述したディスプレイ装置と同一に作成される。 In this display device, the configuration about the contact portion 52 with the exception of the different points are created in the same as the above-described display device for Example 2.

このディスプレイ装置では、このコンタクト部52が、平坦化膜14により下層の配線より絶縁されたランド53により形成される。 In this display device, the contact portion 52 is formed by the land 53 which is insulated from the lower wiring by planarization film 14. これによりこのディスプレイ装置では、このランド53を目標にしたレーザービームの照射により、平坦化膜14を部分的に除去した後、測定用のプローブをランド53又は下層の配線に接触させて走査線等の容量を測定するようになされている。 Thereby, in the display device, the irradiation of the laser beam with the land 53 to the target, the planarizing film 14 after partial removal of the scan line probe for measurement by contact with the lands 53 or the lower wiring, etc. It is adapted to measure the capacitance.

この実施例のように、下層の配線と絶縁してランドを設けて測定用のプローブを接触可能なコンタクト部を形成するようにしても、実施例1との同様の効果を得ることができる。 As in this example, also possible to form a probe capable of contacting a contact portion for measurement by providing a land to be insulated with the lower wiring, it is possible to obtain the same effect with the first embodiment. またこのように下層の配線と絶縁してランドを設けることにより、有機EL素子の材料層を全面に作成する場合にあっても、このランドの部分における発光を有効に回避し得、これにより簡易な工程により実施例1との同様の効果を得ることができる。 In addition, by providing lands insulated Thus lower wiring and, even when creating material layer of the organic EL element on the entire surface, resulting effectively avoiding the emission in the portion of the land, thereby simplified it is possible to obtain the same effect with the first embodiment by a process.

図5は、図1との対比により本発明の実施例4に係るディスプレイ装置を部分的に示す平面図及び断面図である。 Figure 5 is a plan view and a cross-sectional view showing a display device partly according to a fourth embodiment of the present invention in comparison with FIG. この実施例においては、実施例1に係るディスプレイ装置と同様に、中間配線層の信号線、走査線の配線に対応する部位に、周囲より絶縁して下層の信号線、走査線の配線に測定用のプローブを接触可能なコンタクト部62が形成される。 In this embodiment, as in the display device according to the first embodiment, the measurement signal lines of the intermediate wiring layers, a portion corresponding to the wiring of the scanning line, the lower layer of the signal line by insulating above the ambient, the wiring of the scanning line probe contactable contact portion 62 of the use are formed. このディスプレイ装置においては、コンタクト部62に関する構成が異なる点を除いて、実施例3について上述したディスプレイ装置と同一に作成される。 In this display device, the configuration about the contact portion 62 with the exception of the different points are created in the same as the above-described display device for Example 3.

このディスプレイ装置では、このコンタクト部62が、アノードレイヤーの配線層15に島状に形成された開口により形成され、これによりこの開口の部位では下層の平坦化膜14が露出するようになされている。 In this display device, the contact portion 62 is formed by an opening formed in an island shape on the wiring layer 15 of the anode layer, thereby at the site of the opening is adapted to the planarizing film 14 of the lower layer is exposed . このディスプレイ装置では、これによりこの開口を目標にしたレーザービームの照射により、平坦化膜14を部分的に除去した後、測定用のプローブを下層の配線に接触させて走査線等の容量を測定するようになされている。 In this display device, thereby the irradiation of laser beam to the opening to the target, after removal of the flattening film 14 partially, measure the capacity of such scan line of the probe for measurement is brought into contact with the lower wiring It has been made to.

この実施例のように、下層の平坦化膜を露出させる開口により測定用のプローブを接触可能なコンタクト部を形成するようにしても、実施例1との同様の効果を得ることができる。 As in this example, be formed a contact portion contactable with the probe for measuring the opening for exposing the underlying planarizing film, it is possible to obtain the same effect with the first embodiment. またこのようにしてプローブを接触可能な部位を形成する場合にあっては、有機EL素子材料を全面に作成する場合にあっても、この部位における発光を有効に回避し得、これにより簡易な工程により実施例1との同様の効果を得ることができる。 Further In the case of forming this way allows contact probe site is even to create an organic EL element material over the entire surface, resulting effectively avoiding emission at this site, which with a simple it is possible to obtain the same effect with the first embodiment by the process.

なお上述の実施例においては、発光素子のアノードを中間配線層側にしてなるディスプレイ装置に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、発光素子のカソードを中間配線層側にしてなるディスプレイ装置にも広く適用することができる。 Incidentally, in the aforementioned embodiment, it has dealt with the case of applying the present invention to a display device formed by the intermediate wiring layer side of the anode of the light emitting device, the present invention is not limited to this, the intermediate wiring layers of the cathode of the light emitting element it can be widely applied to a display device formed by the side.

また上述の実施例においては、電源の配線パターンを中間配線層の下層側にしてなるディスプレイ装置に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、電源側を最上層側にしてなるディスプレイ装置にも広く適用することができる。 Also in the embodiment described above has dealt with the case of applying the present invention the power to the wiring pattern on a display device formed by the lower layer side of the intermediate wiring layers, the present invention is not limited thereto, the uppermost layer side power supply side it can also widely applicable to a display device which is formed by the.

また上述の実施例においては、信号線及び走査線の双方について、容量を測定する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、何れか一方についてのみ容量を測定する場合にも広く適用することができる。 Furthermore, in the aforementioned embodiment, for both of the signal lines and the scanning lines, it has dealt with the case of measuring the capacitance, the present invention is not limited thereto, applied widely in the case of measuring the capacitance only one be able to.

また上述の実施例においては、有機EL素子によるディスプレイ装置に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、電流駆動に係る自発光素子によるディスプレイ装置に広く適用することができる。 Also in the embodiment described above has dealt with the case of applying the present invention to a display device using organic EL elements, the present invention is not limited to this, but is widely applicable to a display device according to the self-emission element according to the current driving it can.

本発明は、例えば有機EL素子によるディスプレイ装置に適用することができる。 The present invention can be applied to, for example, a display device using organic EL elements.

1、11、31……ディスプレイ装置、2、12……ガラス基板、3……画素部、4A、4B、5……集積回路、14、44……平坦化膜、15……配線層、17 ……電極パターン、 19、21A、21B……配線パターン、33、43、53……ランド 1,11,31 ...... display device, 2,12 ...... glass substrate, 3 ...... pixel portion, 4A, 4B, 5 ...... integrated circuit, 14, 44 ...... planarization film, 15 ...... wiring layer, 17 ...... electrode pattern, 19,21A, 21B ...... wiring patterns, 33, 43, 53 ...... land

Claims (5)

  1. 電流駆動の発光素子と発光素子を駆動する画素回路とから構成された画素をマトリックス状に配置して成るディスプレイ装置であって、 The pixel is composed of a pixel circuit for driving the light emitting element and the light-emitting element of a current drive a display device in which are arranged in a matrix,
    基板の略長方形形状を有する領域に、マトリックス状に画素回路が配置されると共に、画素回路の信号線及び又は走査線に駆動信号用の配線を介して接続され、画素回路の駆動用の信号を出力する駆動回路が配置されており、 The area having a substantially rectangular shape of the substrate, the pixel circuits are arranged in a matrix, it is connected through the wiring of the drive signal to the signal lines and or the scan line of the pixel circuits, a signal for driving the pixel circuit output driving circuit is arranged,
    画素回路上に設けられた平坦化膜上に、電極、発光素子を構成する材料層、電極パターンが順次形成されており、 On the planarized film provided on the pixel circuits, the electrode, the material layer constituting the light emitting elements are sequentially formed electrode pattern,
    発光素子の一端は、電極を介して、対応する画素回路に接続されており、 One end of the light emitting element via the electrodes, are connected to the corresponding pixel circuits,
    発光素子の他端は、電極パターンに接続されており、 The other end of the light-emitting element is connected to the electrode patterns,
    平坦化膜上に形成され、電極を囲んだ引き出し用の配線パターンを介して、電極パターンは外部接続用の電極に接続されており、 Is formed on the planarizing film, through the wiring pattern of the lead-out surrounding the electrodes, the electrode patterns are connected to the electrodes for external connection,
    引き出し用の配線パターン内には、引き出し用の配線パターンから絶縁され、下方の駆動信号用の配線に測定用のプローブを接続可能なコンタクト部が形成されていることを特徴とするディスプレイ装置。 Within wiring pattern for drawers, is insulated from the wiring pattern of the lead-out, a display device, characterized in that the contact part can be connected to the probe for measuring the wiring for the lower driving signal is formed.
  2. コンタクト部は、平坦化膜上に島状に形成され、駆動信号用の配線に接続されたランドであることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置。 Contact portion is formed in an island shape on the planarizing film, a display device according to claim 1, characterized in that the connected land on the wiring for the drive signal.
  3. ランドの上方には、発光素子を構成する材料層が形成されていないことを特徴とする請求項2に記載のディスプレイ装置。 Above the land, the display device according to claim 2, wherein a material layer constituting the light emitting element is not formed.
  4. コンタクト部は、平坦化膜上に島状に形成され、駆動信号用の配線から絶縁されたランドであることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置。 Contact portion is formed in an island shape on the planarizing film, a display device according to claim 1, characterized in that a land that is insulated from the wiring of the drive signal.
  5. コンタクト部は、電極パターンに形成された開口であることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置。 Contact portion, a display device according to claim 1, characterized in that the opening formed in the electrode pattern.
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