JP4720545B2 - 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents
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Description
実施例1は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物である例である(助触媒層のCoの、Ptに対するモル比は0.1)。
実施例2は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が1である例である。
実施例3は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が5である例である。
実施例4は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、この助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が10である例である。
実施例5は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が30である例である。
実施例6は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が50である例である。
実施例7は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、この助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が0.1である例である。
実施例8は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が1である例である。
実施例9は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、この助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が5である例である。
実施例10は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、この助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が10である例である。
実施例11は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、この助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が30である例である。
実施例12は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、この助触媒層のCoの、Ptに対するモル比が50である例である。
実施例13は、貴金属粒子がPt、化合物粒子がセリア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Ptに対するモル比は0.01である例である。
実施例14は、貴金属粒子がPd、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Pdに対するモル比が0.1である例である。
実施例15は、貴金属粒子がPd、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Pdに対するモル比が10である例である。
実施例16は、貴金属粒子がPd、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Pdに対するモル比は30である例である。
実施例17は、貴金属粒子がPd、化合物粒子がセリウムジルコネート(粒径30nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Pdに対するモル比が50である例である。
実施例18は、貴金属粒子がRh、化合物粒子がジルコニア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Rhに対するモル比が10である例である。
実施例19は、貴金属粒子がRh、化合物粒子がジルコニア(粒径10nm)、助触媒層がCoの酸化物であり、助触媒層のCoの、Rhに対するモル比が30である例である。
比較例1は、いわゆる通常の貴金属を含浸担持した触媒である。
12 化合物粒子
13 助触媒層)
14 酸化物粒子
Claims (14)
- 貴金属粒子と、
前記貴金属粒子を担持する化合物粒子と、
前記化合物粒子上で当該貴金属粒子表面の少なくとも一部を被覆する助触媒層と、
前記化合物粒子の周囲に形成され、当該化合物粒子同士を離隔する、複数の酸化物粒子と、
を有し、
前記化合物粒子は、当該化合物粒子に接触する貴金属粒子の移動を抑制し、
前記酸化物粒子は、長さが10nm〜200nm、幅が5nm〜20nmの粒子であり、さらに前記複数の酸化物粒子が前記貴金属粒子を担持した化合物粒子を覆うことにより、当該化合物粒子同士が接触し凝集することを抑制することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 前記助触媒層が金属酸化物よりなり、前記金属酸化物の量は、当該金属酸化物中の金属の、前記貴金属粒子の金属に対するモル比で0.1〜50の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記助触媒層が金属酸化物よりなり、前記金属酸化物の量は、当該金属酸化物中の金属の、前記貴金属粒子の金属に対するモル比で10〜30の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記貴金属が、白金、パラジウム及びロジウムから選ばれる少なくとも1種の貴金属であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記助触媒層が、Co、Ni、Fe、Cu、Sn、Mn、Ce及びZrから選ばれるの少なくとも1種の金属の酸化物からなることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記化合物粒子が、セリウムを含む酸化物粒子、セリウムとジルコニウムとの複合酸化物粒子、ジルコニウムを含む酸化物粒子、又は、アルミニウムを含む酸化物粒子であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記酸化物粒子は、ベーマイトアルミナを加熱処理することにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 貴金属粒子を化合物粒子に担持させる工程と、
前記貴金属粒子を担持した前記化合物粒子の当該貴金属粒子の表面の少なくとも一部に、選択析出法により助触媒層用の卑金属を析出させる工程と、
酸化性雰囲気中での加熱処理により、前記卑金属を酸化して金属酸化物よりなる助触媒層を形成する工程と、
前記助触媒層が形成され、かつ前記貴金属粒子が担持された前記化合物粒子の周囲に、酸化物粒子を形成する工程と、
を有することを特徴とする排気ガス浄化用触媒の製造方法。 - 前記助触媒層中の金属酸化物の量は、当該金属酸化物中の金属の、前記貴金属粒子の金属に対するモル比で0.1〜50の範囲内であることを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化用触媒の製造方法。
- 前記助触媒層中の金属酸化物の量は、当該金属酸化物中の金属の、前記貴金属粒子の金属に対するモル比で10〜30の範囲内であることを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化用触媒の製造方法。
- 前記貴金属が、白金、パラジウム及びロジウムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化用触媒の製造方法。
- 前記助触媒層が、Co、Ni、Fe、Cu、Sn、Mn、Ce及びZrから選ばれるの少なくとも1種の金属の酸化物からなることを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化用触媒の製造方法。
- 前記化合物粒子が、セリウムを含む酸化物粒子、セリウムとジルコニウムとの複合酸化物粒子、ジルコニウムを含む酸化物粒子、又は、アルミニウムを含む酸化物粒子であることを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化用触媒の製造方法。
- 前記酸化物粒子は、ベーマイトアルミナを加熱処理することにより形成されることを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化用触媒の製造方法。
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