JP4720290B2 - 有機エレクトロルミネッセンス層検査装置 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス層検査装置 Download PDF

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本発明は、紫外線を照射して合否を判定する有機エレクトロルミネッセンス層の検査装置に関する。
従来、低消費電力で明瞭な画像が得られるフラットパネルディスプレイとして、有機エレクトロルミネッセンス表示素子(以下、有機EL表示素子という)が知られている。この有機EL表示素子は、有機電子材料層を一対の電極間に挟持してなり、有機電子材料層の発光層に正孔と電子を注入することにより発現するエレクトロルミネッセンス(electroluminescence)発光現象を利用して表示を行うものである。
この有機EL表示素子により良好な表示品位を得るためには、電極間に挟持される有機電子材料層層の層厚が所期の厚さで均一であることが要求される。従って、形成された有機エレクトロルミネッセンス層(以下、有機EL層という)に対し、厚さの不均一な欠陥箇所の有無を検査する必要がある。
有機EL層の層厚を検査する方法として、通常の可視光線を使用した顕微鏡等による目視検査を採用することができない。なぜなら、有機EL層は通常は透明または半透明であるため、可視光線を照射しても反射光が殆ど得られず、顕微鏡等による目視検査は極めて困難であるからである。
そこで、特許文献1に示されるように紫外線を検査対象の有機EL層に照射する方法が提案されている。この場合、有機EL層が紫外線を吸収して光を発するから、この光をCCD(電荷結合素子)等により取り込んでモニタ表示させたり、顕微鏡観察の場合はその有機EL光による像を目視観察することにより、検査が可能となる。
特開2003−233330号公報
しかし、紫外線を有機EL層に照射する方法は、その累積照射量に応じて有機EL層がダメージを受け、有機EL表示素子としての表示品位が低下したり、表示素子としての寿命が短くなるという問題がある。
本発明の目的は、有機EL層に対してダメージを与えることなくその良否を正確に判定できる紫外線照射方式の有機EL層検査装置を提供することである。
本発明の有機EL層検査装置は、有機エレクトロルミネッセンス層に紫外線を照射し、この紫外線の反射光による画像に基づき欠陥の有無を検査する有機エレクトロルミネッセンス層検査装置であって、紫外線を射出する第1の光源と、前記第1の光源から射出された前記紫外線が入射され、該紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層の所定区画に照射させる導光手段と、前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を電気信号の画像信号に変換して取得する画像認識手段と、前記紫外線の前記有機エレクトロルミネッセンス層への照射時間を制限する照射制御手段と、前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成された検査対象試料を同一平面内において移動させて、前記検査対象試料における前記紫外線の照射対象区画を変更する試料移動手段と、を有し、前記照射制御手段は、前記第1の光源と前記導光手段との間の前記紫外線の第1の光路に進退自在に設けられ、該第1の光路に設けられたときに前記第1の光路を遮断する第1の遮光手段と、前記試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、少なくとも、前記速度検出回路により前記検査対象試料の停止が検知された時点から、前記画像信号を得るのに必要な時間に設定された所定時間が経過するまで前記第1の遮光手段を前記第1の光路から退避させて前記紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層へ照射し、前記画像認識手段に前記画像信号を取得させ、前記所定時間が経過した後、少なくとも、前記速度検出回路により前記検査対象試料の移動が検出されるまでの間、前記第1の遮光手段により前記光路を遮断することを特徴とするものである。
本発明の有機EL層検査装置によれば、画像を得るために検査対象の有機EL層に照射される紫外線の光量を必要最小限に制限するから、検査の際における紫外線の累積照射量により有機EL層を劣化させる不具合が防止され、表示品位や寿命を低下させずに有機EL表示素子を正確に検査することができる。
本発明の有機EL層検査装置は、紫外線の照射対象区画を変更するために前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成された検査対象試料を同一平面内において移動させる試料移動手段を更に有していることが好ましく、これにより、表示エリアの大きい有機EL表示素子も正確且つ迅速に検査することができる。
また、本発明の有機EL層検査装置においては、照射制御手段が、紫外線の光路に進退自在に設けられた遮光手段と、試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、前記速度検出回路により検査対象試料の停止が検知された時点で前記遮光手段を前記導光路から所定時間だけ退避させ、画像認識手段に画像信号を取得させる構成とすることが好ましく、これにより、有機EL層に対する紫外線の累積照射量を必要最小限の量に的確に制限できる。
そして、上述の紫外線の照射を検査対象試料が停止した時間に制限する場合において、可視光線を射出する第2の光源と、射出された可視光線を前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射させる第2の導光手段と、可視光線の光路に進退自在に設けられた第2の遮光手段とを更に有し、照射制御手段は、検査対象試料が移動しているときに選択的に前記第2の遮光手段を可視光線の光路から退避させ、可視光線による検査対象試料の動画像を前記画像認識手段に取得させる構成とすることがより好ましく、これにより、取得された検査対象試料の動画像に基づき照射対象エリアを変更する際の検査対象試料の移動距離を最短化して、検査作業を効率よく実施することができる。
また、照射制御手段が、検査対象試料の移動が停止した後の所定時間に加えて検査対象試料の移動が開始してから停止するまでの間も遮光手段を紫外線の光路から退避させ、紫外線による検査対象試料の動画像も前記画像認識手段に取得させる構成とすることがより好ましく、これにより、可視光線を照射するための第2の光源、同導光手段、及び同シャッタ部材を設けなくても、上述の場合と同様に効率よく検査作業を実施することができる。
さらに、照射制御手段が、試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、前記速度検出回路により検査対象試料の停止が検知された時点で紫外線の光源を所定時間だけ点灯し、前記画像認識手段に前記画像信号を取得させる構成としてもよく、これにより、照射制御手段の構成が簡素化する。
またさらに、画像認識手段が、有機EL層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機EL層の画像を表示する表示手段を備えていることが好ましく、これにより、検査作業者は表示された画像を観察しつつ有機EL層の検査を容易に実施することができる。
加えて、画像認識手段が、有機EL層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機EL層中の欠陥の有無を判定する画像処理手段とを備えていることが好ましく、これにより、有機EL層中の欠陥の有無を人間の視覚を経ることなく正確に自動判定することができる。
図1は本発明の第1実施形態としての有機EL層検査装置における光学系の構成を示す斜視図で、図2はその検査装置により検査される検査対象試料である有機EL層が塗布形成された半製品状態の有機EL表示素子中間品を示す模式的部分断面図である。
本実施形態の有機EL層検査装置における光学系は、図1に示されるように、大略、紫外線を射出する紫外光源1、シャッタ機構2、導光部3、撮像素子としてのCCDカメラ4で構成されている。
まず、図2に基づき、本実施形態の有機EL層検査装置により検査される試料(以下、ワークという)wとしての有機EL表示素子中間品5の構造について説明する。
ガラス基板51の表面には、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜からなる複数の第1の電極52が所定方向(本例では紙面左右方向)へ互いに平行に配設されている。
また、それら第1の電極52の延在方向に直交させて、複数のメタルバンク53が等間隔で互いに平行に配設されている。メタルバンク53は、金や銅等の金属からなり、画素列間に対応させて配設され、画素列を区画する土手(バンク)となる。また、本実施形態のメタルバンク53は、各画素エリア毎に対応させて設けられている薄膜トランジスタ(不図示)に電気接続されており、各画素毎に薄膜トランジスタを介して有機EL層を駆動するソース配線を兼ねている。なお、メタルバンク53の周表面には絶縁膜(不図示)がコーティングされており、これにより周囲に対する絶縁性が確保されている。
メタルバンク53で区画された各画素列には、まず有機EL層のうちの正孔注入層54が第1の電極52を覆ってノズル塗布方式により形成される。正孔注入層54を形成する有機電子材料としては、フェニルアミン系、或いはフタロシアニン系の酸化バナジウムや酸化モリブデン等が好適に用いられる。
正孔注入層54上には、インターレイヤ層55を介して発光層56がノズル塗布方式により積層される。本実施形態の有機EL表示素子はフルカラー表示素子であり、従って、発光層56は赤、緑、青の画素配置に応じてそれぞれの色の発光要素層が配設されている。各色発光要素層を形成するための有機電子材料としては、シクロペンタジエン誘導体やトリフェニルアミン誘導体等の色素系発光材料、アルミキノリノール錯体等の金属錯体系発光材料、或いはポリパラフェニレンビニレン誘導体等の高分子系発光材料が、好適に用いられる。
なお、インターレイヤ層55は、発光層56の発光効率を高めるために設けられており、正孔注入層54や発光層56と同様に、有機電子材料を用いてノズル塗布方式により形成される。
上述した正孔注入層54と発光層56及びインターレイア層55は、それぞれ、上述した各材料をトルエンやテトラリン等の有機溶剤に溶かしてインク状に液状化し、有機EL材塗布装置により重畳塗布される。
図1に戻って、シャッタ機構2は、回転方向を正、逆各方向に自在に切換え可能なモータ21と、モータ21のシャフトにアーム22を介して連結されたシャッタ板23とからなり、光源1から紫外線が射出される光路にシャッタ板23を自在に進退させる構成となっている。すなわち、シャッタ板23は、紫外線の射出光路Puから退避した実線で示される退避位置と、射出光路Puに進出して紫外線の進行を遮断する進出位置との間で、モータ21の正、逆各回転によりアーム22と一体に往復回動される。なお、シャッタ板23は、射出紫外線の透過を確実に遮断できる材質及び寸法で形成されている。
導光部3は、ハーフミラー31と集光レンズ32及び遮光マスク33が、この順序でシリーズに配置されてなる。ハーフミラー31は射出された紫外線の進行方向をワークwが載置されている部位に向けて反射させると共にワークwからの反射光を透過させる。
集光レンズ32は、凸レンズであり、ハーフミラー31により反射された紫外線を集光するために設けられている。
遮光マスク33は、矩形の開口331が穿設されてなり、ワークwとしての有機EL表示素子中間品5に対する紫外線の照射エリアaを画定し、無駄な紫外線の照射による有機EL層の劣化を防止するために設けられている。照射エリアaは遮光マスク33の位置とその開口331の大きさにより画定され、予め設定されている検査単位区画と一致する照射エリアaが得られるように、最適な開口331を備えた遮光マスク33が選定され、その位置が調整される。
導光部3のワークwに対向する側とは反対側に、CCDカメラ4が配置されている。CCDカメラ4は、ワークwにおける紫外線が照射される検査単位区画を撮像するものである。従って、CCDカメラ4の最適視野と紫外線の照射エリアa(検査単位区画)とは、互いに一致するようにそれぞれが最適調整される。
次に、本第1実施形態の有機EL層検査装置における試料ステージの構成とこれと上述した光学系を制御して実施される検査システムについて、図3に基づき説明する。
本実施形態の試料ステージ6は、手動式であり、ワークwをX軸方向に移動させるX軸移動機構61と、X軸に直交するY軸方向へワークwを載置されたX軸移動機構61ごと移動させるY軸移動機構62とからなる。X、Y各軸移動機構61、62は、それぞれ、各軸方向に沿って延在させたボールネジ611、621を、作業者がハンドル612、622を回転操作することにより、各ステージ部613、623をそれぞれX軸方向及びY軸方向に沿って往復直線移動させるものである。X、Y各軸移動機構61、62には、それぞれ、エンコーダ614、624が設置されており、各ステージ613、623の移動速度情報が、本有機EL層検査装置全体の駆動を制御するコントローラ7に出力される。
コントローラ7は、中央制御回路71、速度判定回路72、画像バッファメモリ73等からなる。速度判定回路72には試料ステージ6におけるX、Y各軸移動機構61、62の各エンコーダ614、624からそれぞれの速度情報が入力され、速度判定回路72は、これら速度情報から試料ステージ6が停止しワークwが静止しているか否かを判断し、試料ステージ6が停止していると判断したらその旨の信号を中央制御回路71に出力する。
中央制御回路71は、上記ステージ停止信号が入力されたら、シャッタ機構2(図1参照)を駆動するシャッタ回路24に信号を出力してシャッタ板21を紫外線の射出光路から最短必要時間だけ退避させる(シャッタを開く)。これにより、紫外線がワークwの検査単位エリアaに照射され、その画像がCCDカメラ4により撮像される。撮像された画像は、CCDカメラ回路41を介し画像データとしてコントローラ7に送られる。コントローラ7では、中央制御回路71から画像バッファメモリ73に画像データの取込みを指示する信号が出力され、送られてきた画像データが画像バッファメモリ73に記憶される。そして、この記憶された画像データは、モニタ8に所定時間だけ静止画として表示される。検査作業者は、モニタ8に表示される検査単位エリアaの静止画を観察し、有機EL層の層厚が規定範囲外となった欠陥部を検出する。
ここで、上述の検査工程で実施される動作フローを、図1及び図3を参照しつつ図4のフローチャート図と図5のワークwを示す斜視図に基づき詳細に説明する。
本実施形態においては、図5に示すように、ワークwの最終製品である有機EL表示素子の有効表示エリアに対応する有機EL層が形成されたEL層形成エリアAが、縦(Y軸方向)3区画、横(X軸方向)4区画の計12区画の同じ検査単位区画s1〜s12に分割されている。
まず、図3において、検査作業者は、試料ステージ6を移動させるX軸移動機構61とY軸移動機構62の各ハンドル611、621を回転操作し、ワークwを検査が開始される初期位置つまり検査単位区画s1に紫外線が照射される位置にセットする。この初期位置のセットは、X、Y各軸移動機構61、62に設けられている目盛り(不図示)を予め設定されている基準値に合わせることにより、容易且つ正確に実施される。
ワークwの初期位置へのセットが完了し、試料ステージ6の停止が検知されたら、直ちにシャッタ板21が紫外線射出光路Puから退避し、紫外線がワークwの検査単位区画s1に照射される。この紫外線の照射は、検査単位区画s1の静止画をCCDカメラ4で撮像するのに最小限必要な時間t(図4参照)だけ実施され、この時間tが経過したらシャッタ板21は直ちに紫外線射出光路Puに進出した元の閉成位置に復帰し、紫外線の進行を遮断する。
紫外線の照射により得られる検査単位区画s1の画像は、CCDカメラ4により撮像され、画像データとして画像バッファメモリ73に記憶されるとともにモニタ8に静止画で表示される。検査作業者は、この静止画を観察しながらワークwの最初の検査単位区画s1に対する欠陥部の有無の検査(以下、検査E1という)を行う。この検査E1の実施時間は任意であり、検査作業者が完了と判断するまで実施できる。従って、検査作業者は、検査単位区画s1の静止画を観察しながら正確に欠陥部の有無を判定できる。なお、この検査単位区画s1の静止画は、次の検査単位区画s2の画像データが画像バッファメモリ73に上書きされるまでモニタ8に表示されている。
検査作業者は、検査E1が完了したと判断したら、次に、X軸移動機構61とY軸移動機構62の各ハンドル611、621のうちの例えばX軸移動ハンドル612を回転操作し、ワークwを1検査単位区画のX軸方向幅分だけ移動させる。これにより、紫外線が照射される照射エリアaが最初の検査単位区画s1に対して重複或いは離隔することなく次順の検査単位区画s2に正確に変更される。
紫外線照射エリアaに検査単位区画s2が位置し試料ステージ6の移動が停止したら、上述の検査E1と同じ動作フローで検査単位区画s2に対する検査E2が実施される。この後、同じ動作フローで検査単位区画s3、s4に対する検査E3、E4が実施される。
ワークwのX軸方向1ラインにわたる検査単位区画s1〜s4に対する検査E1〜E4が終了したら、ワークwをY軸方向へ検査単位区画のY軸方向幅分だけ移動させ、検査単位区画s5〜s8に対する各検査を同じ動作フローで実施し、この後、再度、ワークwをY軸方向へ検査単位区画のY軸方向幅分だけ移動させ、検査単位区画s9〜s12に対する各検査を同じ動作フローで実施する。これにより、ワークwに対する有機EL層の検査が終了する。
以上のように、本実施形態の有機EL層検査装置は、ワークwの移動が停止した後の画像取込みに最低限必要な時間だけシャッタ機構2を開いてワークwに紫外線を必要で且つ充分な量だけ照射し、検査単位区画の画像を画像データとして一旦画像バッファメモリ73に記憶してその静止画像をモニタ8に表示するから、有機EL層が形成状態によって欠陥の有無の判定に時間を要し検査時間が長くなっても、紫外線の照射量は前述した時間tだけ照射される最低限必要な量で一定である。また、遮光マスク33によりCCDカメラ4の視野(検査単位区画)以外のエリアへの紫外線の照射が阻止される。従って、紫外線を過度に累積照射して有機EL層を劣化させることなく、検査時間中は継続表示されている静止画像を観察しながら有機EL層を高い精度で周到に検査できる。その結果、高表示品位で且つ高寿命の有機EL表示素子を、高い歩留りで効率よく製造することが可能となる。
次に、本発明の第2実施形態としての有機EL層検査装置について、図6に基づき説明する。なお、上記実施形態と同一の構成要素については同一の符号を付して、その説明を省略する。
本実施形態の有機EL層検査装置は、上述した第1実施形態の有機EL層検査装置に、可視光線を射出する第2の光源としての可視光源9、射出された可視光線の光路Pvに対して進退自在に設けられた第2シャッタ機構10、及び第2導光部11を追加設置したものである。
第2シャッタ機構10は、紫外線の射出光路Puに進退させるシャッタ機構(以下、第1シャッタ機構という)2と同じものであり、モータ101とアーム102及びシャッタ板103からなる。この第2シャッタ機構10も、第1シャッタ機構2と同様に、図3に示されるコントローラ7によりその駆動が制御される。
第2導光部11は、専用のハーフミラー111に第1導光部3の集光レンズ32と遮光マスク33を兼用する構成となっている。
上述のように構成された第2実施形態の有機EL層検査装置の動作について、図7のフローチャートに基づき説明する。なお、検査対象ワークは、上記第1実施形態の場合と同じ図5に示されるワークwである。
まず、第1実施形態の場合と同様に試料ステージ6を初期位置にセットする。このとき、第1(紫外線)シャッタ機構2は閉じ、第2(可視光線)シャッタ機構10は開いている。従って、ワークwには可視光線が照射され、その反射光による画像がモニタ8に表示される。この画像は、ワークwの可視光線が照射されるエリアがCCDカメラ4により撮像されて画像データとして出力され、その画像データは画像バッファメモリ73に記憶されることなくリアルタイムでモニタ8に表示される動画像である。従って、検査作業者は、その動画像を観察しながら試料ステージ6を手動操作し、ワークwを所望の位置つまり初期位置へ最短距離で効率良く容易に移動させることができる。この場合、試料ステージ6の移動を初期位置近傍までは動画像を観察しつつ最終的なセットは試料ステージ6の目盛りを基準として行うことにより、目盛りだけによる場合に比べてワークwを容易且つ迅速に初期位置近傍へ移動させ、且つ正確に初期位置へセットすることができる。なお、可視光線による画像では、透明に近い有機EL層を認識することは難しいが、薄膜トランジスタ回路やメタルバンクは可視光線でも充分に認識可能であるから、所望位置近傍への大まかな移動には何ら支障はない。
ワークwの初期位置へのセットが完了し、試料ステージ6の停止が検知されたら、直ちに第2シャッタ機構10が閉じられ、同時に第1シャッタ機構2が所定時間tだけ開かれる。これにより、初期位置にセットされたワークwに紫外線が照射され、この紫外線による検査単位区画s1(図5参照)の静止画像が、モニタ8に表示される。この静止画像は、次の検査単位区画s2に対する検査を行うための試料ステージ6の移動が開始されるまで表示され、この間に、検査作業者がその静止画像を観察することにより検査単位区画s1に対する検査E1が実施される。
検査E1が終了したら、検査作業者は次の検査E2に向けて試料ステージ6の移動を開始する。この試料ステージ6の移動開始と同時に、第2シャッタ機構10が開かれ、可視光線のワークwへの照射が再開され、モニタ8には次の検査E2に向けて移動されるワークwの動画像が表示される。この後は、上述した動作が繰り返され、検査単位区画s2〜s12に対する各検査が順次実施される。
以上のように、本第2実施形態の有機EL層検査装置は、紫外線を照射する第1の光学系に加えて可視光線を照射する第2の光学系を設け、検査単位区画を切り替えるためにワークwを移動する際は可視光線を照射して移動するワークwの動画像をモニタ表示し、ワークwを停止させて有機EL層を検査する際は紫外線を最低限必要な時間だけ照射して検査単位区画の静止画をモニタ表示する構成としたから、紫外線の累積照射量を最小限に抑えて有機EL層の劣化を防止しつつ、有機EL層の検査を紫外線が照射されている検査単位区画の静止画をモニタしながら高い精度で実施できるだけでなく、検査単位区画の切り替え手動操作をワークwの可視光線による動画像をモニタしながら迅速且つ的確に実施することができる。その結果、高表示品位で且つ高寿命の有機EL表示素子を、より少ない検査工数で効率よく且つ高い歩留りで製造することが可能となる。
次に、本発明の第3実施形態としての有機EL層検査装置について、図8のタイミングチャートに基づき説明する。
本第3実施形態の有機EL層検査装置は、第1実施形態の有機EL層検査装置において、シャッタ機構2の開成タイミングを異ならせただけで、その他の構成は同じである。
図8に示されるように、試料ステージ6が移動を開始すると、これと同時にシャッタ機構2が開いて紫外線の検査単位区画sへの照射が開始され、試料ステージ6が停止して所定時間tが経過した後にシャッタ機構2が閉じ、紫外線の検査単位区画sへの照射が遮断される。
これにより、モニタ8には、シャッタ機構2が開いている間は移動するワークwの紫外線による動画が表示され、シャッタ機構2が閉じている間は検査単位区画sの紫外線による静止画が表示される。したがって、第1実施形態の場合と同様に、検査作業者は、シャッタ機構2が閉じている間に、検査単位区画sの静止画をモニタしながら、有機EL層の検査を必要かつ充分な時間をかけて高い精度で実施することができる。
そして、本実施形態の場合、検査単位区画sの手動による切り替え作業を、移動するワークwの紫外線による動画をモニタしながら迅速且つ的確に実施することができる。また、この切り替え作業中にモニタ8に表示される動画は紫外線によるものであるから、有機EL層の形成状態も認識することができる。従って、検査単位区画sを切り替える際に表示される動画によっても、静止画による本来の検査の前に或る程度の大まかな検査を行うことができ、その結果、本来の検査時間が短縮され、検査作業全体の工数を低減することが可能となる。なおこの場合、紫外線がワーク移動中も照射されるために、第1実施形態の場合よりも有機EL層に対する紫外線の累積照射量が増加するが、ワーク移動に要する時間は検査に要する時間に比べ格段に短いから、紫外線の照射量が有機EL層を劣化させるまでに蓄積されることはない。
本発明は、上記第1乃至第3実施形態に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態等においてはワークwを移動させるために試料ステージ6を手動操作する方式を採用しているが、これに限らず、ワーク移動手段を、同一平面内におけるX、Y、θの各軸移動機構で構成し、これらを自動NC制御する方式としてもよい。この場合、コントローラ7にワークwの位置情報データが入力されるから、画像認識手段として画像処理装置を用い、検査単位区画sの画像データと位置データをその画像処理装置に送ることにより、ワークwの合否判断を全自動で行うことが可能となる。
また、図5に示すようにワークwの検査対象エリアAを12個の検査単位区画s1〜s12に分割して検査を行う場合、上記実施形態のような手動操作では各検査単位区画s1〜s12をオーバーラップさせずに切り替えることは困難であるが、NC制御方式によれば、それら12個の検査単位区画s1〜s12をオーバーラップさせたり離隔させることなく的確且つ迅速に切り替えることができ、検査工数がより低減されるとともに、全検査対象エリアAにわたり紫外線の累積照射量を略均一化することができる。
このように、NC制御方式により検査単位区画を切り替えて画像処理により合否判定を行う構成とした有機EL層検査装置によれば、紫外線の累積照射量が均一化されるから過剰照射による有機EL層の劣化が確実に防止されるとともに、有機EL層の合否判定を画像処理により迅速且つ正確に実施することが可能となる。
また、紫外線の照射制御手段としては、上記実施形態におけるようなシャッタ機構を利用する方式に限らず、光源自体を点滅させるストロボ方式としてもよい。
本発明の第1実施形態としての有機EL層検査装置における光学系の構成を示す斜視図である。 上記有機EL層検査装置により検査される有機EL表示素子中間品を示す模式的断面図である。 上記有機EL層検査装置における試料ステージと制御系の構成を示す説明図である。 上記有機EL層検査装置により実施される検査動作を示すフローチャートである。 上記有機EL層検査装置により検査される有機EL表示素子中間品の検査単位区画を示す斜視図である。 本発明の第2実施形態としての有機EL層検査装置における光学系の構成を示す斜視図である。 上記第2実施形態の有機EL層検査装置により実施される検査動作を示すフローチャートである。 本発明の第3実施形態としての有機EL層検査装置により実施される検査動作を示すフローチャートである。
符号の説明
1 紫外光源
2 シャッタ機構(第1)
23 シャッタ板
3 導光部(第1)
31 ハーフミラー
32 集光レンズ
33 遮光マスク
4 CCDカメラ
41 CCDカメラ回路
5 有機EL表示素子中間品
6 試料ステージ
61 X軸移動機構
62 Y軸移動機構
7 コントローラ
71 中央制御回路
72 速度判定回路
73 画像バッファメモリ
8 モニタ
9 可視光源
10 第2シャッタ機構
11 第2導光部
A 検査対象エリア
s、s1〜s12 検査単位区画
w ワーク(有機EL表示素子中間品)

Claims (5)

  1. 有機エレクトロルミネッセンス層に紫外線を照射し、この紫外線の反射光による画像に基づき欠陥の有無を検査する有機エレクトロルミネッセンス層検査装置であって、
    紫外線を射出する第1の光源と、
    前記第1の光源から射出された前記紫外線が入射され、該紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層の所定区画に照射させる導光手段と、
    前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を電気信号の画像信号に変換して取得する画像認識手段と、
    前記紫外線の前記有機エレクトロルミネッセンス層への照射時間を制限する照射制御手段と
    前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成された検査対象試料を同一平面内において移動させて、前記検査対象試料における前記紫外線の照射対象区画を変更する試料移動手段と、
    を有し、
    前記照射制御手段は、前記第1の光源と前記導光手段との間の前記紫外線の第1の光路に進退自在に設けられ、該第1の光路に設けられたときに前記第1の光路を遮断する第1の遮光手段と、前記試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、少なくとも、前記速度検出回路により前記検査対象試料の停止が検知された時点から、前記画像信号を得るのに必要な時間に設定された所定時間が経過するまで前記第1の遮光手段を前記第1の光路から退避させて前記紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層へ照射し、前記画像認識手段に前記画像信号を取得させ、前記所定時間が経過した後、少なくとも、前記速度検出回路により前記検査対象試料の移動が検出されるまでの間、前記第1の遮光手段により前記光路を遮断することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
  2. 可視光線を射出する第2の光源と、
    前記第2の光源から射出された前記可視光線が入射され、該可視光線を前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射させる第2の導光手段と、
    前記可視光線と前記第2の導光手段との間の前記可視光線第2の光路に進退自在に設けられ、該第2の光路に設けられたときに前記第2の光路を遮断する第2の遮光手段と
    を更に有し、
    前記照射制御手段は、前記速度検出回路により前記検査対象試料の移動が検出されている間、前記第2の遮光手段を前記第2の光路から退避させて前記可視光線を前記有機エレクトロルミネッセンス層へ照射して、可視光線による検査対象試料の動画像を前記画像認識手段に取得させることを特徴とする請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
  3. 前記照射制御手段は、前記速度検出回路により前記検査対象試料の停止が検出された後の前記所定時間に加えて、前記検査対象試料の移動が検出されてから前記検査対象試料の停止が検知されるまでの間も前記第1の遮光手段を紫外線の光路から退避させて前記紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層へ照射し前記紫外線による前記検査対象試料の動画像も前記画像認識手段に取得させることを特徴とする請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
  4. 前記画像認識手段は、前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機エレクトロルミネッセンス層の画像を表示する表示手段を備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項の何れかに請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
  5. 前記画像認識手段は、前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機エレクトロルミネッセンス層中の欠陥の有無を判定する画像処理手段を備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項の何れかに請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
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