JP4685995B2 - Color filter substrate, manufacturing method thereof, and display device - Google Patents

Color filter substrate, manufacturing method thereof, and display device Download PDF

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有害となる電磁波を発生させるカラーディスプレイ装置で、且つ、発光セルの発光色に対応して発光セル単位にカラーフィルターセルを設けたディスプレイ装置と、該ディスプレイ装置に用いられるカラーフィルターに関するものである。そして、特に、有害な電磁波を遮蔽することができるカラーフィルターと、該カラーフィルターを用いたディスプレイ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
各種放電型ディスプレイ、例えばブラウン管(CRTとも言う)、電子表示管、プラズマディスプレイ(PDPとも言う)や、その他のディスプレイにおいては、発色性能を向上させ、表示色を美麗に且つ色再現領域を広くする試みが種々為されている。
例えば、発光色のR、G、Bのみで色表示するCRTやPDP、その他のフルカラーディスプレイにおいては、3原色(RGB)蛍光体の改良等でそれ自体高度な色表現機能を有するが、発光色のR、G、Bをそれぞれ、さらにフィルタリングしてカラー表示するために、カラーフィルターを併用する方法も提案されている。
このカラーフィルターを併用する方法には、以下のような利点がある。
各種ディスプレイに用いられる蛍光体等の発光材料は、一般に、未発光時には白色又は薄い着色をしており、入射する外光を反射する為、発光色の彩度を低下させるが、カラーフィルターを併用することによりこれを防止でき、結果として、ハイコントラストなカラー表示が得られる。
又、各色蛍光体が発する不要な光をフィルターで選別除去し、より純粋なRGB3原色光を使用することができ、各色蛍光体の発色が著しく改善されて一層の高品質カラー表示が可能である。
近年では、RGB発光型デバイスにカラーフィルターを組み込んだ構成のディスプレイも市販される段階となってきた。
【0003】
一方、CRTやPDP、その他の放電型ディスプレイには、人体やシステムへの影響が懸念される有害な電磁波の漏洩があり、これらのディスプレイ装置に対して、有害と懸念される電磁波の遮蔽が求められるようになってきた。
このため、ディスプレイ前面に電磁波遮蔽板を設置して漏洩電磁波を吸収除去する方法も行われている。
電磁波遮蔽板は、透明導電膜もしくはメッシュ状の金属スクリーンをガラス等の透明基板面に形成させたもので、ディスプレイ前面に設置して漏洩電磁波を吸収させ除去している。
尚、一般に、電磁波遮蔽板は、ディスプレイパネルの前面に近接又は接触する形で設置されるので、独立部品としてカラーフィルターとは別に、任意の設計のもとに製造されるのが普通である。
【0004】
更に、発光型ディスプレイのカラー表示品質を向上させ、有害な電磁波の遮蔽を行う為に、図9(a)に示すように、ディスプレイ装置にカラーフィルター、電磁波遮蔽板を付加させる方法もある。
図9(a)は、プラズマディスプレイパネル(PDPとも言う)610にカラーフィルター620を組込み、更に電磁波遮蔽板640を付けたディスプレイ装置の断面構造を示すものであるが、これを簡単に説明しておく。
PDP610には、基本的に、電極及び放電空間を形成する為のリブ(障壁とも言う)617と発光用蛍光体とで構成されるバックプレート611と、透明基板面に透明導電膜(ITO)その他)の対抗電極を形成させたフロントプレート615とを用い、両者を重ねて生じる空間に発光ガスを封入し、赤色発光セルRL、緑色発光セルGL、青色発光セルBLの各色発光セルが形成されている。
通常は、この基本構造だけで一般的品質のPDPが完成するが、図9(a)に示す方式のものは、この基本構造をもつパネルPDP610にカラーフィルター620を付加してカラー発色品質を向上させ、外光の反射の影響を除去するものである。
図9(a)に示すディスプレイ装置では、さらに、保護用プレート630をカラーフィルター620の観察者側に覆うように配設し、電磁波遮蔽板640を該保護プレート630に近接または接触して観察者側に配設されている。
尚、電磁波遮蔽板640は、ベース基板641の一面ないし両面にメッシュ状、マトリックス状の導電性層645を設けているもので、所定の透明性を有し、且つ、有害な電磁波を遮蔽するメッシュ場の導電性層645を配設しているものであり、例えば、図9(b)に示すようにメッシュ状に導電性層645を設けている。尚、図9(b)は図9(a)のF1側から見た図である。
【0005】
しかし、図9(a)に示す方式のディスプレイ装置の場合、PDP610(図9(a))単体からなるディスプレイ装置に比べ、そのカラー表示品質の向上、有害な電磁波の遮蔽の点でその効果は極めて大きいが、PDP610単体にカラーフィルターを付加することによってパネルコストが高くなるが、更に電磁波遮蔽板を併用する為に、より製造価格が上昇せざるを得ないという問題がある。
また、電磁波遮蔽板がITOのような透明導電体膜で構成されている場合には発生しない問題ではあるが、金属メッシュ等で構成されている場合にはパネルのセル配列構造(及び走査線)とメッシュライン(又はメッシュ目)との関係で光の干渉によってモアレが発生し易いという問題もある。
尚、上記モアレはパネルのセル配列とメッシュラインとの角度を適正に組み合わせると最小限の発生度合とすることが出来るが、原理的に皆無にすることは出来ず、如何に視認性を低下させない(目立たせない)ような発生度合いに押さえるかが重要になる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、カラー表示品質の面、有害な電磁波の遮蔽の面で優れたディスプレイ装置を、生産性の面で優れ、比較的安価に提供できる方法が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、具体的には、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の表示面側に置かれて使用されるカラーフィルター基板であって、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けた構造の、生産性の面で優れ、比較的安価で、且つ、品質的にも実用的であるカラーフィルター基板を提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明のカラーフィルター基板は、発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の発光面の観察者側に置かれて使用される、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板であって、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は、各色を分離するための色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられており、前記第1の電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域および光透過領域を含む全面に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けていることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルター基板であって、プラズマディスプレイパネル用のカラーフィルター基板であり、使用の際には、プラズマディスプレイパネルの前面板の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前記前面板側にして、配置されるものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルター基板であって、カラーフィルターは樹脂を染色した、あるいは樹脂中に顔料を分散させた感光性の着色層からなることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルター基板であって、良好な導電性材料が、金属膜または金属粒子からなることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルター基板であって、第1の電磁遮蔽層の少なくとも一方の表面が黒色であることを特徴とするものである。
【0008】
本発明のディスプレイ装置は、上記いずれかのカラーフィルター基板をディスプレイの表示面側に設けたことを特徴とするものである。
【0009】
本発明のカラーフィルター基板の製造方法は、発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の発光面の観察者側に置かれる、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板で、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は、各色を分離するための色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられており、前記第1の電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域および光透過領域を含む全面に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けているカラーフィルター基板の製造方法であって、透明基板上に前記良好な導電性材料により第1の電磁遮蔽層を形成させた後に、各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設するもので、第1の電磁遮蔽層の形成の前または後で、且つ各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設する前に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けることを特徴とするものである。
また、本発明のカラーフィルター基板の製造方法は、発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の発光面の観察者側に置かれる、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板で、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は、各色を分離するための色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられており、前記第1の電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域および光透過領域を含む全面に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けているカラーフィルター基板の製造方法であって、透明基板上に各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設した後に、前記良好な導電性材料により第1の電磁遮蔽層を形成するもので、各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設した後、第1の電磁遮蔽層の形成の前または後に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けることを特徴とするものである。
そして、上記いずれかのカラーフィルター基板の製造方法であって、カラーフィルター基板がプラズマディスプレイパネル用のカラーフィルター基板であって、使用の際には、プラズマディスプレイパネルの前面板の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前記前面板側にして、配置されるものであることを特徴とするものである。
【0010】
【作用】
本発明のカラーフィルター基板は、このような構成にすることにより、ディスプレイ装置の表示面側に置かれ使用された場合、ディスプレイ装置の表示色画質を良くし、且つ、電磁波遮蔽効果を有し、更に、生産性の面で優れ、比較的安価に作製することができるカラーフィルター基板の提供を可能とした。
具体的には、発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の表示面側に置かれて使用される、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板であって、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は各色を分離するための色分離領域を含みマトリクス状に、あるいは、色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられていることにより、ディスプレイ装置の表示色画質を良くし、且つ、有害な電磁波の観察者側への漏洩を防止している。
【0011】
更に具体的には、プラズマディスプレイパネル用のカラーフィルター基板であって、使用の際には、プラズマディスプレイパネルの前面板の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前面板側にして、配置されるものであることにより、図10に示すプラズマディスプレイパネル自体とは、独立して、本発明のカラーフィルター基板を作製できるものとしており、プラズマディスプレイパネル自体の作製における熱処理等の条件に影響されずに、カラーフィルターの材質を選ぶことができる。
このため、その作製は容易で、生産性の良いものとでき、結果、プラズマディスプレイ装置の表示色画質を向上、およびプラズマディスプレイ装置へ電磁遮蔽効果の付与を、安価にできるものとしている。
尚、このようなプラズマディスプレイ用のカラーフィルター基板は、図10に示すプラズマディスプレイパネルの前面板710を通し、各発光セルの発光色が、それぞれ各同色のカラーフィルターに入射され、カラーフィルターにより発光色の不純色光を除去して良質化する様に色分布領域が制限されるものであるが、発光セルからの光の一部は、前面板通過中で拡散されて同色のカラーフィルターを通らないものもある。
しかし、拡散光は他のカラーフィルターに吸収されるので、色の特性を悪化させることはない。
通常の観察条件下では、殆どの色光が各色発光に対応した色のカラーフィルターを通るため、カラーフィルターを設けてあることにより、表示色画質は設けていない場合に比べ、向上する。
特に、前面板の厚さを薄くすることにより、この効果は大きくなり、ディスプレイ装置の前面板の内部の発光セル側に設けた場合に近づく。
即ち、本発明のプラズマディスプレイ用のカラーフィルターは、効果的に表示色品質を上げることができる。
また、前面板の発光セル側にカラーフィルターを設ける場合には、その材質は、熱処理(焼成)を必要とするため、顔料、低融点ガラスフリットを主とするものが用いられるが、本発明のカラーフィルター基板は、図10に示すプラズマディスプレイ自体とは別体で、前面板の観察者側に配設されるもので、顔料、低融点ガラスフリットを主とするものに限定されず、樹脂を染色した、あるいは樹脂中に顔料を分散させた感光性の着色層からなるものでも良い。
このため、その作製方法においても、感光性の着色層材料を塗布した後に、フォトリソグラフィーを用いて所定形状に形成する方法や、着色層材料を直接印刷方法による形成方法、感光性の樹脂を塗布した後に、フォトリソグラフィーを用いて所定形状に形成し、且つ、樹脂層を染色する方法を採ることができる。
基本的に高い精度は必要としないため、量産性に向いた作製方法を採ることができる。
【0012】
また、良好な導電性材料からなる電磁遮蔽層を、カラーフィルターの各色を分離するための色分離領域に色分離用遮光性部を兼ねてマトリクス状に、あるいは、カラーフィルターの色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域に色分離用遮光性部を兼ねてマトリクス状に、且つ、それ以外の光透過領域にメッシュ状に設けられており、ディスプレイ装置の表示面側に置かれることにより、表示色画質に影響を与えることなく、ディスプレイ装置からの電磁波の観察者側への漏洩を防止できるものとしている。
そして、電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域およびそれ以外の光透過領域に、全面にわたり透明導電層を設けていることにより、電磁遮蔽層全体の面積抵抗を低くすること及び遮蔽電磁波の吸収波長帯をより広範囲とすることを可能としている。
【0013】
光透過領域にメッシュ状に電磁遮蔽層を設けた場合のモアレむらについては、発光セルの各光は、対応する色のカラーフィルター領域に設けられたメッシュを透過するため、図9に示すような別体の電磁遮蔽板640を用いた場合とは異なり、モアレむらは認識しにくい。
【0014】
第1の電磁遮蔽層としての良好な導電性材料には、金属膜または金属粒子からなるもの等が挙げられる。
また、メッシュ状の導電層の少なくとも一方の表面が黒色とすることにより、観察者側からのディスプレイパネルへの光の入射(外光の入射)に際し、外光の影響によるコントラストの低下を防止できるものとしている。
尚、各カラーフィルターセル領域の境界部に導電性層を設け、且つ、該導電性層と電磁波遮蔽用のメッシュ状の導電層とを電気的に接続させていることにより、メッシュ状の導電層の電気的な接地を容易な構造としている。
更に、各カラーフィルターセル領域の境界部にに設けられている導電性層を、該境界に沿う直線形状ないしマトリクス形状を有するものとすることにより、各カラーフィルターセル領域の境界部にに設けられている導電性層に対し、各色のカラーフィルターセル間の色分離機能を持たせることもできる。
【0015】
本発明のディスプレイ装置は、このように、本発明のカラーフィルター基板を用いていることにより、表示色品質の面で優れ、且つ電磁波遮蔽を有するディスプレイ装置を安価に提供できるものとしている。
また、その量産にも対応できるものとしている。
【0016】
本発明のカラーフィルター基板の製造方法としては、上記のような方法が挙げられるが、特にカラーフィルター基板がプラズマディスプレイパネル用のカラーフィルター基板であって、使用の際には、プラズマディスプレイパネルの前面板の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前面板側にして、配置される、図10に示すプラズマディスプレイ自体とは別体のものである場合には、カラーフィルター材質の自由度は大きく、、処理の制約も少なく、カラーフィルターの形成方法としては、量産向きのものを選ぶことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明に関わる形態例と本発明の実施の形態例を図に基づいて説明する。
図1(a)は、本発明に関わるカラーフィルター基板の例1の全体を示す概略平面図で、図1(b)はその一部(A0部)を拡大して示した平面図で、図1(c)は、図1(b)のA1−A2における断面図で、図2(a)、図2(b)、図2(c)は、それぞれ、図1に示す例1のカラーフィルター基板の変形例を示した特徴部の断面図で、図2(b)が本発明のカラーフィルター基板の実施の形態の1例を示しており、図3(a)は、本発明に関わるカラーフィルター基板の例2のカラーフィルター形成領域の一部の概略平面図で、図3(b)は図3(a)のB1−B2における拡大断面図で、図3(c)は、図3(b)のB3−B4間の一部領域における電磁遮蔽層を示した拡大平面図で、図4は、図3に示す例2のカラーフィルター基板の変形例を示した特徴部の断面図で、図5(a)は本発明に関わるカラーフィルター基板の例3のカラーフィルター形成領域の一部の概略断面図で、図5(b)はそのD1−D2間の一部領域における電磁遮蔽層を示した平面図で、図6(a)、図6(b)はそれぞれ、本発明に関わるディスプレイ装置の1例を示した概略図である。
また、図7、図8は、それぞれ、本発明に関わるカラーフィルター基板の製造方法の1例を示した工程図である。
図1〜8中、110、110A、110B、110Cはカラーフィルター基板、111はRフィルター、112はGフィルター、113はBフィルター、115はベース基板(ベース基材)、116カラーフィルター形成部、120は色分離帯兼用導電性層、130は導電性層、140は樹脂層、141は保護用樹脂層、210はカラーフィルター基板、211はRフィルター、212はGフィルター、213はBフィルター、215はベース基板(ベース基材)、220は色分離帯兼用導電性層、230、230Aは導電性層、240は樹脂層、241は保護用樹脂層、311はRフィルター、312はGフィルター、313はBフィルター、315はベース基板(ベース基材)、330は導電性層、410はプラズマディスプレイパネル(PDPとも言う)、411はR色発光セル、412はG色発光セル、413はB色発光セル、415は背面板、416は前面板、417は障壁(リブとも言う)、440、441は接着剤層である。
尚、図1(b)、図3(a)中の、R、G、Bは、それぞれ、R色、G色、B色の各色を表したものである。
また、ここでは、カラーフィルターの各セル(カラーフィルターセルとも言う)とは、図3(a)に示すR、G、Bの最小単位の発色領域、あるいは、図1(a)に示すR、G、Bのストライプ領域を言う。
また、図3(c)のB5−B6位置における断面の状態が図3(b)のB3−B4間の断面状態に相当し、図5(b)のD3−D4位置における断面の状態が図4(a)のD1、D2間の断面状態に相当する。
【0018】
はじめに、本発明に関わるカラーフィルター基板の例と本発明のカラーフィルターの実施の形態例を説明する。
先ず、本発明に関わるカラーフィルター基板の例1を挙げ、図1に基づいて説明する。 図1に示す例1のカラーフィルター基板110は、有害となる電磁波を発生させるプラズマディスプレイに用いられるカラーフィルター基板で、使用の際には、図10に示すプラズマディスプレイパネルの前面板710の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前面板側にして、配設されるものである。
プラズマディスプレイパネルの各色の発光セルに対応した位置に、対応した色のカラーフィルターを対応させるように設けている。
図1(a)に示すように、透明な基板からなるベース基板115の一面に、カラーフィルター(111、112、113)と、金属膜からなる遮光性の導電性層130をマトリックス状にした電磁遮蔽層とを設けたものであるが、図1(b)にその一部拡大図を示すように、カラーフィルターの各色の分離領域、およびストライプ状のカラーフィルターを跨ぐように、マトリックス状に導電性層130を設けている。
カラーフィルターの各色の分離領域に設けられた導電性層130は、各色の色分離を兼ねる為、これを、ここでは特に色分離帯兼用導電性層120としている。
尚、図示していないが、とマトリックス状の導電性層130を電気的に接続するアース端子を設けている。
図1(c)にその断面を示すように、ベース基板115側から電磁遮蔽層となる導電性層130(120も含む)とカラーフィルター111、112、113を設けており、導電性層130(120)間には、樹脂層140が設けられている。
【0019】
ベース基板115としては、透明なもので、ガラス基板や樹脂基板が挙げられる。
樹脂基板の材質としては、通常アクリル樹脂基板、ポリエステル樹脂基板その他があり、更に混合樹脂基板や複合基板等が挙げられる。
導電性層130としては、銅等の金属膜または銅、銀等の金属粒子が挙げられるが、導電性が良いものが好ましい。
そして、導電性層130の少なくとも一方の表面が黒色であることが、外光による表示のコントラストの低下の防止の面からは好ましい。
導電性層130の材質として銅を用いた場合には、銅の表面を酸化ないし硫化して黒化する黒化処理を施しておくと良い。
本例のカラーフィルター基板110は、これが用いられるプラズマディスプレイ自体(図10に示すPDP単体)とは別体であり、カラーフルター111、112、113の材質については、プラズマディスプレイ自体の製造工程条件に左右されないため、顔料、低融点ガラスフリットを主とするもの、樹脂を染色した、あるいは樹脂中に顔料を分散させた感光性の着色層からなるもの等が適用できる。
Rフィルター111、Gフィルター112、Bフィルター113としては、用いられるプラズマディスプレイの各発光色に対応した、所定の透過率特性を有するものが用いられる。
【0020】
次いで、本例の変形例を挙げておく。
図2(a)に示す第1の変形例は、ベース基板115上にカラーフィルター111、112、113を設け、その上に保護用樹脂層141を設け、さらにその上に、本例と同様、電磁遮蔽層を設けたものである。
図2(b)に示す第2の変形例は、第1の変形例の表面部にITO膜を形成させたもので、ITO膜も電磁遮蔽効果を有する。
導電性層130からなる第1の電磁遮蔽層に対し、第2の電磁遮蔽層とも言える。図2(c)に示す第3の変形例は、例1で、樹脂層140を設けず、導電性層130間にもカラーフィルター111、112、113を設けたものである。
【0021】
次に、本発明に関わるカラーフィルター基板の例2を挙げ、図3に基づいて説明する。 図1に示す例2のカラーフィルター210も、第1の例と同様、有害となる電磁波を発生させるプラズマディスプレイに用いられるカラーフィルター基板で、使用の際には、図10に示すプラズマディスプレイパネルの前面板710の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前面側にして、配設されるものである。
そして、プラズマディスプレイパネルの各色の発光セルに対応した位置に、対応した色のカラーフィルターを対応させるように設けている。
本例では、図3(a)にその一部拡大図を示すように、カラーフィルターの配列は、各色を交互に配列した所定の配列で、そのカラーフィルターの各色の色分離領域に沿い、遮光性の金属膜からなる導電性層230が設けられており、且つ、各カラーフィルター(211、212、213)の光透過領域にはメッシュ状に導電性層230が設けられている。
色分離領域に沿いマトリックス状に設けられた導電性層230は、各色の色分離帯を兼ねるもので、ここでは特に色分離帯兼用導電性層220とも言う。
メッシュ状の導電性層230とマトリックス状の色分離帯兼用導電性層220とは電気的に接続し、両者により、有害な電磁波の遮蔽機能を有するものである。
尚、図示していないが、メッシュ状の導電層230とマトリックス状の色分離帯兼用導電性層120とを電気的に接続するアース端子を設けている。
【0022】
本例では、図3(c)に示すように、メッシュ状の導電層230は、Rフィルター211、Gフィルター212、Bフィルター213の下側(ベース基板215側)に設けられており、導電性、且つ、遮光性の色分離帯兼用導電性層220と電気的に接続している。
樹脂層240は、透明樹脂からなり、マトリックス状の導電性層230(色分帯兼用導電性層220でもある)、メッシュ状の導電層230の隙間を埋めるもので、各色のフィルター(211〜213)の作製の際における平坦化層の役割をするものである。
図3(c)は、メッシュ状の導電性層230とマトリックス状の色分離帯兼用導電性層220とを一部拡大して示した平面図で、メッシュは、直線状の2方向の導電性層230が、所定の角度で互いに交叉しているものであるが、形状は、これに限定はされない。
【0023】
各部の材質としては、例1と同様のものが適用可能である。
光透過領域に設けられるメッシュ状の導電性層230の少なくとも一方の表面が黒色であることが、表示のコントラストの低下の防止の面からは好ましい。
【0024】
例2の変形例を挙げる。
図4に示す第1の変形例は、例2とは異なり、ベース基板215側から順に、各色のフィルター、保護用樹脂層241、そしてメッシュ状の導電性層230とマトリックス状の色分離帯兼用導電性層220を設配したものである。
第2の変形例は、図示していないが、例2において、樹脂層240を設けない構造で、マトリックス状の導電性層230(色分離帯兼用導電性層220)、メッシュ状の導電性層230間の隙間に、各色のフィルターを埋め込んだ状態のものである。
尚、図2のC1−C2から見た、メッシュ状の導電層230とマトリックス状の色分離帯兼用導電性層220の形状は、例2と同様に図2(c)のようになる。
【0025】
次に、本発明に関わるカラーフィルター基板の例3を挙げ、図5に基づいて説明する。 図5に示す例3のカラーフィルター基板310も、第1の例、第2の例と同様、有害となる電磁波を発生させるプラズマディスプレイに用いられるカラーフィルター基板で、使用の際には、図10に示すプラズマディスプレイパネルの前面板710の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前面側にして、配設されるものである。
例3は、図5に示すように、カラーフィルターの各色の色分離領域におよび、光透過透過領域全体にメッシュ状の導電性層330を設けたものである。
例1の樹脂層140や例2の樹脂層240に相当するものを設けず、メッシュ状の導電性層330の隙間、および上に各色フィルターを設けたものである。
尚、図5(a)のD1−D2から見た、メッシュ状の導電性層330の形状は、図5(b)のようになる。
また、図5(b)のD3−D4位置における断面の状態が図D(a)の断面状態に相当する。
【0026】
次に、本発明に関わるディスプレイ装置の1例を挙げる。
図6に示す本例は、有害となる電磁波を発生させるプラズマディスプレイパネル(PDP)410の前板面416の観察者側面に、プラズマディスプレイパネル(PDP)410の発光セル(411、412、413)の発光色に対応して発光セル単位に、図3に示す例2のカラーフィルタ基板210を配設したディスプレイ装置である。
このような構成にすることにより、プラズマディスプレイパネル(PDP)単体410の構成に比べ、表示画質の向上、有害な電磁波の遮蔽ができる。
【0027】
尚、ここで、AC型のプラズマディスプレイパネル(PDPとも以下言う)単体(図6のPDP410に相当)の1例を図10に挙げて、もう少しだけ説明しておく。
図10はPDP構成斜視図であるが、分かり易くするため前面板(ガラス基板710)、背面板(ガラス基板720)とを実際より離して示してある。
図10に示すように、2枚のガラス基板710、720が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板720上に互いに平行に設けられた障壁(セル障壁とも言う)730により、一定の間隔に保持されている。
前面板となるガラス基板710の背面側には、放電維持電極である透明電極740とバス電極である金属電極750とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、誘電体層760が形成されており、更にその上に保護層(MgO層)770が形成されている。
また、背面板となるガラス基板720の前面側には前記複合電極と直交するように障壁730間に位置してアドレス電極780が互いに平行に形成されており、更に障壁730の壁面とセル底面を覆うように螢光面790が設けられている。
障壁730は放電空間を区画するためのもので、区画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このAC型PDPは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加して、放電させる構造である。この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫外線により螢光体790を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認できるものである。
尚、DC型PDPにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造を有する点でAC型と相違するが、その放電効果は同じである。
また、図10に示すものは、ガラス基板720の一面に下地層767を設けその上に誘電体層765を設けた構造となっているが、下地層767、誘電体層765は必ずしも必要としない。
【0028】
変形例としては、図1に示す本発明に関わるカラーフィルター基板の例1を、図5に示す例3、あるいは、これらの変形例、および例2の変形例を、図6におけるカラーフィルター基板210に置き代えたディスプレイ装置が挙げられる。
変形例も、基本的に、表示画質、電磁波遮蔽機能の点では図6に示す例と同様となる。
【0029】
次いで、本発明に関わるカラーフィルター基板の製造方法の例を挙げる。
図3に示す例2のカラーフィルター基板の製造方法の1例を図7に基づいて説明する。 先ず、ベース基板215の一面に無電解めっきにより導電性層を薄く付け、更にその上に電解めっきにより導電性層を薄く付けて、所定の厚さに導電性層230Aを形成する。(図7(a))
尚、必要に応じて、無電解めっきによる導電性層形成前に、蒸着、スパッタ等により、金属薄膜を形成しておいても良い。
導電性層230Aとしては、Cu、Ag、Au等の金属めっき層が挙げられるが、価格の面から、通常、Cuめっき層が用いられる。
導電性層230AをCuめっき層とした場合、次いで、市販の電解黒化液を用いてCu面を黒色化する黒化処理を行ない、ベース基板215上にCu層、黒化層を順に形成しておく。
尚、導電性層230AをCuめっき層とした場合、メッシュ状の導電層230の厚みは総厚で5〜50μm程度とする。
導電性層230Aを形成した後、黒化処理を行う理由は、表示デバイスの観察者側からの光によるコントラストの低下を防止するためである。
次いで、導電性層230A上に耐エッチング性のレジストを塗布、乾燥し、所定の形状に開口部を有するレジスト膜を作製した後、製版したレジスト膜を耐エッチングマスクとしてエッチングし、メッシュ状の導電層230、マトリックス状の色分離帯兼用導電性層220を形成する。(図7(b ))
レジスト膜の製版は、導電性層230A表面の黒化層上に塗布されたフォトレジストに所定の原版を用いて密着露光し、現像したもので、PDPの障壁(リブとも言う)(図6の417)位置に相当する色分離帯兼用導電性層220位置に、障壁幅よりやや狭い線で、且つ、発光セルに対応したカラーフィルターセル領域内では、メッシュ状の導電性層230の線幅をより狭い線幅とする。
【0030】
次いで、透明な樹脂層240を塗布し、硬化させておく。(図7(c))
これは、次に行う各色のカラーフィルターの形成における各色の市販の感光性材料の膜厚が、導電性層230により、薄くなる場合があるためである。
感光性材料の膜厚の塗布が、品質的に問題なく行なわれれば、透明な樹脂層240を設ける必要はない。
尚、導電性層230とほぼ同じ厚さに透明な樹脂層240を塗布した場合には、硬化後、透明な樹脂層240は導電性層230の上面よりも下側にくる。
【0031】
次いで、各色のフィルターの形成行う。
カラーフィルター材料としてはR、G、B各色の市販の感光性材料を用いることができる。
予め、R、G、B各色用のセルパターンを持つ3枚の原板を用意し、この原版のカラーフィルターセルのパターンサイズをメッシュ状の導電性層230を形成する領域のサイズよりも5〜10μm大きく設計して位置合わせが容易になるように配慮しておくと良い。
先ず、R色用の感光性材料をメッシュ状の導電性層230形成側に全面に塗布し、所定の原版を用いて、これを露光、現像し、R用カラーフィルター211を形成する。(図7(d))
この後、同様にして、G用カラーフィルター212を形成し(図7(e))、B用カラーフィルター213を形成する。(図7(f))
このようにして、カラーフィルター基板210が作製される。
尚、工程は以上の通りであるが、電磁波遮蔽により発生した電流をリークする為、メッシュ状の導電性層230や、マトリックス状の色分離帯兼用導電性層220に電気的に接続するアース端子部を、メッシュ状の導電性層230、マトリックス状の色分離帯兼用導電性層220を形成する際に、形成しておく。
【0032】
次に、図4に示す例2の変形例のカラーフィルター基板の、製造方法の1例を図8に基づいて説明する。
ベース基板215(図8(a))の一面に、図7に示す例と同様にして、R用カラーフィルター211を形成し(図8(b))、G用カラーフィルター212を形成し(図8(c))、B用カラーフィルター213を形成する。(図8(d))
図8(d)に示すように、各色のカラーフィルターは、隣接するように接近させて形成する。
各色のカラーフィルターを作製するための各色の感光材料を製版するための原版を予めこのようになるように作成しておく。
また、各色のカラーフィルターを作製するための各原版の位置合わせを容易とする位置合わせマーク、あるいは後工程のマトリックス状、メッシュ状の導電層230を作成する際のレジスターマーク等、適宜必要に応じ作成して使用する。
【0033】
次いで、各色のカラーフィルターの保護層としてアクリル樹脂等の保護用の樹脂層241を形成しておく。(図8(e))
【0034】
次いで、無電解めっきにより、薄い導電性層を形成し、更にその上に電解めっきにより、所定の厚さに導電性層230Aを形成する。(図8(f))
導電性層230Aについては、例1と同様である。
【0035】
この後、感光性レジスト(例えば、OMR、東京応用化株式会社製)を塗布し、メッシュ状の導電層を作製するためのパターン原版を用い、作成してあるレジスターマークと位置合わせして、露光、現像、乾燥、ポストベーキングし、感光性レジストから露出した部分を塩化第2鉄液でエッチング、水洗し、所定形状のメッシュ状の導電性層230、およびマトリックス状の色分離帯兼用導電性層220を得る。(図8(g))
このようにして、カラーフィルター基板210Aが作製される。
この後、めっきCuの表面部を、例1と同様にして黒化する黒化処理を施しておく。
【0036】
[参考実施例]
(参考実施例1)
参考実施例1はプラズマディスプレイ用のカラーフィルター基板であり、図7に示すに示す製造方法により本発明に関わるカラーフィルター基板(図3の例2のカラーフルター基板210)を作製したものである。
そして、更に作製されたカラーフィルター基板を、図10に示すようなプラズマディスプレイパネルに付加して、図6に示す本発明に関わるディスプレイ装置を作製した。
本参考実施例を、以下、図7に基づいて、説明する。
先ず、厚さ3mmの透明な清浄なガラス基板の一面に、黒色の酸化クロム層(CrOx)を1500Åの厚さに形成した。
酸化クロム層は、Crターゲット及び酸素混在のAr雰囲気で通常条件でのスパッタリング法で形成したものである。
次いで、酸化クロム層面を活性化処理した後、以下の条件にて、約2μmの厚さに無電解Cuめっきを行い、次いで電解Cuめっきを行い、Cuの総厚を5μm程度とした。(図7(a))
【0037】
無電解Cuめっき条件、電解Cuめっき条件は、それぞれ、以下の通りである。
【0038】
次いで、OMR感光性レジスト(東京応化株式会社製)を導電性層230A上に塗布、乾燥した後、所定形状の写真原版を用いて所定領域を露光して、メッシュ状およびマトリックス状にパターニングを行い、これを耐エッチングマスクとして、塩化第2鉄液(比重38度ボーメ)でCu層とCrOx層を同時にエッチングし、更に、残留レジストを剥膜除去した。(図7(b))
写真原板は、プラズマディスプレイパネルの発光セルの障壁(図10の790で幅60μm)上の位置に相当する部分では、障壁(リブ)幅よりやや狭い線幅40μmとなるようにし、また、発光セル領域に対応する部分では、より狭い線幅20μmとした。
尚、写真原板は電子ビーム描画して作製した。
【0039】
次いで、CuのエッチングパターンをコパーブラックCuo(商品名:株式会社アイソレート化学研究所製)のA液(20%液)、B液(10%液)を含む水溶液中で60〜80°C、2〜3分間浸漬して化成処理し、Cu表面及びエッチング断面を黒色化した。
このようにして、メッシュ状の導電性層220(230)とマトリックス状の導電性層130を形成した。
実用的には、電磁波遮蔽により発生した電流をリークする為のアース端子部を形成させておく必要があり、メッシュ状の導電性層220(230)とマトリックス状の導電性層230を形成する際に、これらの周辺部に、アース端子部を、同時に形成した。
尚、アース端子部は表示部外の目視できない場所にある為、表面黒化処理は不要であり、黒化層はかえってアース接続の弊害となるからCu面のままが好ましい。
【0040】
次いで、メッシュ状の導電性層220(230)とマトリックス状の導電性層230の隙間(凹部)にR、G、B、の3色カラーフィルターを形成させる為に、予め凹部全面に透明な感光性アクリル樹脂をスキージ法で充填し、紫外線露光と熱処理(150°C、30分)で完全に硬化し、樹脂層240を形成した。(図7(c))
この処理によって導電性層230形成面がほぼ平坦化されるが、アクリル樹脂の硬化収縮によって導電性層230の面より1μm程度低くなり、若干凹部として残った。
【0041】
次いで、全面に顔料分散タイプの感光性のカラーフィルター材料(カラーレジストとも言う)をスピンコートで充填し、露光、現像、加熱処理を行って、R色カラーフィルター211を形成し(図7(d))、更に同様にして、、G色カラーフィルター212を形成し(図7(e))、B色カラーフィルター213を形成した。(図7(f))
以下、各色のフィルターの形成方法を述べる。
カラーフィルター材料としてはR、G、B各色共に市販の感光性材料、JSR(日本合成ゴム株式会社の略)製の感光性色材、Color Resist:CR2000R(赤色)、CR2000G(緑色)、CR2000B(青色)を使用した。
先ず、予め、R、G、B各色用のセルパターンを持つ3枚の写真原板を用意し、この原版のセルパターンサイズを導電性メッシュよりも5〜10μm大きく設計して位置合わせが容易になるように配慮した。
次いで、まず、導電性マトリクス形成面に赤色感光性色材CR20000Rを塗布し乾燥した。
この時、導電性層230と樹脂層240とで形成される面は高さが5μmの凹版形状を持っているので、感光性色材はこの凹部に充填される形となる。
一般に色材層は1〜2μmあれば十分な必要濃度が得られるので、感光性色材を予め溶剤で希釈し、塗布(充填)、乾燥後所定の透過濃度1.2〜2.0を示すように調整した。
塗布法は、硬質ゴム製のスキージ板を用いたスキージ法を採用したが、回転塗布法やバーコート法でもよい。
次いで、Rカラーフィルター用写真原板を用いて、導電性メッシュのRセル部に位置合わせして密着露光し、処方に従って現像、乾燥、加熱処理(180°C、30分以上)を行いR色カラーフィルター211を形成した。
加熱処理を付加したのは、感光性色材の硬化を十分に完了させ、後続する他の色のフィルター形成における耐溶剤性を強化する為の処置である。これによって安定な赤色フィルター層が形成された。
引き続き同様な処理によって、緑色カラーフィルター212を形成し、次い青色カラーフィルター213を形成した。
これにより、R色カラーフィルター211、G色カラーフィルター212、B色カラーフィルター213が形成された。
【0042】
この後、さらに透明なアクリル系樹脂を約20μm塗布し保護膜として電磁波遮蔽効果を有する本発明のカラーフィルター基板210を完成させた。
【0043】
更に、このようにして作製されたカラーフィルター基板210のプラズマディスプレイパネルへの付加は、以下のようにして行ない、図6に示す形態の本発明のディスプレイ装置を作製した。
上記のように作製されたカラーフィルター基板210を、プラズマディスプレイパネルの前面板(図10の710に相当)に取り付けるに当たり、前面板の透明ガラス基板(図10の710)の観察者側面に、透明な熱接着性アクリル系樹脂を約20μmの厚さに塗布した後、作製されたカラーフィルター基板210を、障壁(図10の790)線上に相当する太い導電性層(色分離体兼用導電性層120)をプラズマディスプレイパネルの発光セル形成障壁の線上に正確に位置合わせし、圧着しながら熱接着して装着した。
これにより、図6に示す形態の本発明に関わるディスプレイ装置が作製された。
【0044】
ここで用いたプラズマディスプレイパネルについて、簡単に説明しておく。
前面板(図10の710に相当)の透明ガラス基板の厚さ2mm、放電維持電極である透明電極(図10の740に相当)はITO、バス電極である金属電極(図10の750に相当)はCr/Cu/Crの3層構造、誘電体層(図10の760に相当)は低融点ガラスペースト、保護層(図10の770に相当)はMGO膜である。
また、背面板(図10の720に相当)は、透明ガラス基板(図10の720に相当)の厚さは2mmで、障壁(図10の730に相当)は、ガラスペーストからなる。
42インチ表示で、発光セルのピッチ0.36mm、幅60μm、高さ120μmで、封入ガスは、Ne+Xe(ペニング混合ガス、500〜600Torrで封入)である。
そして、蛍光面(図10の790に相当)を形成する蛍光体は、R蛍光体、G蛍光体、B蛍光体を、それぞれ、株式会社化成オプトニクス社製のKX−504A((Y、Cd)BO3 :Eu3+)、PI−GIS(Zn2 SiO4 :Mn)、KX−501A(BaMgAl1423:Eu2+)とし、アドレス電極(図10の780に相当)は、Cr/Cu/Cr(Agでも良い)で厚さ数μm〜10μmで、電極ピッチは、0.13mmである。
尚、前面板(フロントプレートとも言う)、背面板(バックプレートとも言う)自体の製造方法、およびプラズマディスプレイパネルの製造方法については、一般に良く知られており、ここでは省略する。
【0045】
本参考実施例のカラーフィルター基板210の製造方法では、カラーフィルター部をプラズマディスプレイパネルのとは独立的に製造できる為、カラーフィルターの製造方法では、工程内で重量のあるプラズマディスプレイパネル自体を取り扱う必要がなく製造が楽であった。
【0046】
参考実施例2
参考実施例2も、参考実施例1と同様、プラズマディスプレイ用のカラーフィルター基板であり、図8に示すに示す製造方法により本発明に関わるカラーフィルター基板(図4のカラーフルター基板210A)を作製したものである。
そして、更に作製されたカラーフィルター基板210Aを、図10に示すようなプラズマディスプレイパネルにに付加して、図6に示す本発明に関わるディスプレイ装置を作製した。
本参考実施例を、以下、図8に基づいて、説明する。
先ず、厚さ3mmの透明な清浄なガラス基板であるベース基板215の一面に、実施例1で用いた感光性色材(カラーレジスト)を用い、同様にして、R色カラーフィルター211を形成し(図8(b))、G色カラーフィルター212を形成し(図8(c))、B色カラーフィルター213を形成した。(図8(d))
所定の写真原版を用い、製版、現像を行い、各色のカラーフィルターが、それぞれ隣接するように作製した。
尚、カラーフィルターとして有効面積の外側に、各色の原版のパターン境界部の位置を示すレジスターマークを入れておいた。
また、メッシュ状の導電層を作製する際に用いる写真原版は、メッシュ状のパターンの太い線の部分が各色のカラーフィルターの境界と合致するようにその位置を検出し調整できるように考慮して設計しておいた。
【0047】
次いで、紫外線硬化性透明アクリル樹脂を保護層として2〜5μmの厚さに塗布し、紫外線硬化させ、更に180°C、30分熱硬化させ、保護樹脂層241を形成した。(図8(e))
【0048】
次いで、以下の条件にて、2μmの厚さに無電解Cuめっきをカラーフィルター上に施し、更に、電解Cuめっきを行い、総厚5μmにCu層を形成した。(図8(f))
次いで、感光性レジストOMRを塗布、乾燥し、このレジストに所定形状のパターン原版を用い、上記カラーフィルター作製時に設けたレジスターマークと位置合わせして、露光、現像、乾燥、ポストベーキングの各処理を施し、所定形状にレジストパターンを形成した後、レジストを耐エッチングマスクとして、塩化第2鉄液でめっきCu層からなる導電性層230Aをエッチング、水洗した。(図8(g))
【0049】
次いで、以下の条件でCu表面の黒化処理を行い、水洗乾燥した。
[黒化処理条件]
黒色ニッケルめっき浴使用
硫酸ニッケルアンモン 60 g/l
硫酸亜鉛 7.5 g/l
チオシアン酸ナトリウム 15 g/l
温度 30°C
電流密度(通電時間3分) 初期0.1A/dmとし、電流を
漸次増し終期1A/dmとした。
更に、表面に保護膜として紫外線硬化性透明アクリル樹脂を約20μmの厚さに塗布し、硬化させて表面を平坦化して本発明に関わるカラーフィルター基板210Aを完成させた。
【0050】
次いで、このようにして作製されたカラーフィルター基板210Aをプラズマディスプレイパネルに装着して、本発明に関わるディスプレイ装置を作製した。
装着は、プラズマディスプレイパネルの前面板(図10の710に相当)の観察者側に透明アクリル樹脂からなる接着剤を20〜30μmの厚さに塗布してのち、作製されたカラーフィルター基板210Aを正確に位置合わせして行った。
参考実施例では観察者側のメッシュ状の導電層の面の黒化を省いたが、この導電層上に一層カラーフィルター層が形成されるので、Cuの赤褐色は弊害にならないからである。
勿論、本例の導電性層230Aに代え、参考実施例1と同様に3層の導電性層(CrOx−Cu−黒化銅)としても良い。
また、カラーフィルター面にブラックマトリクスを、色分離帯兼導電性層220とは別に予め形成させておいてもよい。
【0051】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、ディスプレイ装置の表示面側に置かれ使用された場合、ディスプレイ装置の表示色画質を良くし、且つ、電磁波遮蔽効果を有し、更に、生産性の面で優れ、比較的安価に作製することができるカラーフィルター基板の提供を可能とした。
詳しくは、図9に示すような従来のカラーフィルターと電磁波遮蔽板とを別個に併用する方式と比べ、構成が簡単となり製造も容易となり、結果、より薄型でより安価なディスプレイを提供することを可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に関わるカラーフィルター基板の例1の概略図である。
【図2】 図2(a)〜図2(c)は本発明に関わる例1のカラーフィルター基板の変形例で、図2(b)は本発明のカラーフィルター基板の実施の形態の1例である。
【図3】 本発明に関わるカラーフィルター基板の例2の概略図である。
【図4】 例2のカラーフィルター基板の変形例である。
【図5】 本発明に関わるカラーフィルター基板の例3の概略図である。
【図6】 本発明に関わるディフスプレイ装置の概略断面図である。
【図7】 本発明に関わるカラーフィルター基板の製造方法の1例の製造工程図である。
【図8】 本発明に関わるカラーフィルター基板の製造方法の別の1例の製造工程図である。
【図9】 カラーフィルター構成有する従来のPDPを説明するための概略断面図である。
【図10】 PDP単体の構成を説明するための概略図である。
【符号の説明】
110、110A、110B、110C カラーフィルター基板
111 Rフィルター
112 Gフィルター
113 Bフィルター
115 ベース基板(ベース基材)
116 カラーフィルター形成部
120 色分離帯兼導電性層
130 導電性層
140 樹脂層
141 保護用樹脂層
150 ITO
210、210A カラーフィルター基板
211 Rフィルター
212 Gフィルター
213 Bフィルター
215 ベース基板(ベース基材)
220 色分離帯兼導電性層
230、230A 導電性層
240 樹脂層
241 保護用樹脂層
310 カラーフィルター基板
311 Rフィルター
312 Gフィルター
313 Bフィルター
315 ベース基板(ベース基材)
330 導電性層
410 プラズマディスプレイ(PDP)
411 R色発光セル
412 G色発光セル
413 B色発光セル
415 背面板
417 障壁(リブ)
430 保護用基板
440、441 接着剤層
610 プラズマディスプレイパネル(PDPとも言う)
611 バックプレート(背面板)
615 フロントプレート(前面板)
617 障壁(リブ)
620 カラーフィルター
630 保護用プレート
640 電磁波遮蔽板
641 ベース基板
645 導電性層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a color display device that generates harmful electromagnetic waves, a display device in which color filter cells are provided in units of light emitting cells corresponding to the light emission color of the light emitting cells, and a color filter used in the display device. Is. In particular, the present invention relates to a color filter capable of shielding harmful electromagnetic waves and a display device using the color filter.
[0002]
[Prior art]
Various discharge-type displays, such as cathode ray tubes (also called CRT), electronic display tubes, plasma displays (also called PDP), and other displays, improve the color development performance, make the display color beautiful and wide the color reproduction range. Various attempts have been made.
For example, CRT, PDP, and other full-color displays that display colors only with the emission colors R, G, and B have advanced color expression functions by improving the three primary color (RGB) phosphors. In order to further display each of R, G, and B in color by color display, a method using a color filter has also been proposed.
This method of using the color filter has the following advantages.
Luminescent materials such as phosphors used in various displays are generally white or lightly colored when not emitting light, and reflect incident external light, reducing the color saturation of the emitted light, but also using a color filter This can be prevented, and as a result, a high-contrast color display can be obtained.
In addition, unnecessary light emitted from each color phosphor can be selected and removed with a filter, and more pure RGB three primary color light can be used, and the color development of each color phosphor is remarkably improved, and further high-quality color display is possible. .
In recent years, displays having a structure in which a color filter is incorporated into an RGB light emitting device have been put on the market.
[0003]
On the other hand, CRTs, PDPs, and other discharge-type displays have leakage of harmful electromagnetic waves that are feared to affect human bodies and systems, and these display devices are required to be shielded from harmful electromagnetic waves. Has come to be.
For this reason, a method of absorbing and removing leakage electromagnetic waves by installing an electromagnetic wave shielding plate on the front surface of the display is also performed.
The electromagnetic shielding plate is formed by forming a transparent conductive film or a mesh-like metal screen on the surface of a transparent substrate such as glass, and is installed on the front surface of the display to absorb and remove leaked electromagnetic waves.
In general, since the electromagnetic wave shielding plate is installed in the form of being close to or in contact with the front surface of the display panel, it is usually manufactured as an independent component based on an arbitrary design separately from the color filter.
[0004]
Further, in order to improve the color display quality of the light-emitting display and shield harmful electromagnetic waves, there is a method of adding a color filter and an electromagnetic wave shielding plate to the display device as shown in FIG.
FIG. 9A shows a cross-sectional structure of a display device in which a color filter 620 is incorporated in a plasma display panel (also referred to as PDP) 610 and an electromagnetic wave shielding plate 640 is further provided. deep.
The PDP 610 basically includes a back plate 611 composed of ribs (also referred to as barriers) 617 for forming electrodes and discharge spaces and a phosphor for light emission, a transparent conductive film (ITO) and the like on the transparent substrate surface. ) And a front plate 615 on which counter electrodes are formed, and a light emitting gas is sealed in a space formed by overlapping the two, and each color light emitting cell of red light emitting cell RL, green light emitting cell GL, and blue light emitting cell BL is formed. Yes.
Normally, a PDP having a general quality is completed with only this basic structure. However, in the system shown in FIG. 9A, a color filter 620 is added to the panel PDP 610 having this basic structure to improve the color development quality. The effect of reflection of external light is removed.
In the display device shown in FIG. 9A, the protective plate 630 is further disposed so as to cover the observer side of the color filter 620, and the electromagnetic wave shielding plate 640 is brought close to or in contact with the protective plate 630. It is arranged on the side.
The electromagnetic wave shielding plate 640 is provided with a mesh-like or matrix-like conductive layer 645 on one surface or both surfaces of the base substrate 641, and has a predetermined transparency and shields harmful electromagnetic waves. For example, the conductive layer 645 is provided in a mesh shape as shown in FIG. 9B. In addition, FIG.9 (b) is the figure seen from F1 side of Fig.9 (a).
[0005]
However, in the case of the display device of the system shown in FIG. 9A, the effect is improved in terms of improving the color display quality and shielding harmful electromagnetic waves compared to the display device consisting of a single PDP 610 (FIG. 9A). Although extremely large, the panel cost is increased by adding a color filter to the PDP 610 alone, but there is a problem that the manufacturing price is inevitably increased due to the combined use of the electromagnetic shielding plate.
In addition, this problem does not occur when the electromagnetic shielding plate is made of a transparent conductive film such as ITO, but when it is made of a metal mesh or the like, the cell arrangement structure of the panel (and the scanning line) There is also a problem that moire is likely to occur due to light interference due to the relationship between the mesh line and the mesh line.
Note that the above moire can be minimized when the angle between the cell array of the panel and the mesh line is properly combined, but it cannot be eliminated in principle, and the visibility will not be lowered. It is important to suppress the degree of occurrence (not to be noticeable).
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, there has been a demand for a method that can provide a display device that is excellent in terms of color display quality and shielding harmful electromagnetic waves, in terms of productivity, and relatively inexpensive.
The present invention corresponds to this, and more specifically, is a color filter substrate that is used by being placed on the display surface side of a display device that generates harmful electromagnetic waves. An object of the present invention is to provide a color filter substrate having a structure provided with a filter and an electromagnetic shielding layer, which is excellent in productivity, relatively inexpensive, and practical in quality.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
  The color filter substrate of the present invention is a display device that generates harmful electromagnetic waves by combining each cell of the color filter in units of light emitting cells.On the viewer side of the light emitting surfaceA color filter substrate on the display surface side of a display provided with a color filter and an electromagnetic shielding layer on one surface of a base substrate, wherein at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material. The color filter is provided in the opening and the lower side or the upper side, and the first electromagnetic shielding layer separates each color.For color separation area and light transmission areaThe color separation region is provided in a mesh shape or in a matrix shape including the color separation region and in a mesh shape in the light transmission region, and is in direct contact with the top or bottom of the first electromagnetic shielding layer. In addition, a transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer is provided on the entire surface including the light transmission region.
  The color filter substrate is a color filter substrate for a plasma display panel, and when used, the color filter forming surface side is placed on the front plate side on the observer side of the front plate of the plasma display panel. Specially placedIt is a sign.
Also,In any one of the above color filter substrates, the color filter is formed of a photosensitive colored layer in which a resin is dyed or a pigment is dispersed in the resin.
  In any one of the color filter substrates described above, a good conductive material is made of a metal film or metal particles.
  Also, any one of the color filter substrates described above is characterized in that at least one surface of the first electromagnetic shielding layer is black.
[0008]
  The display device of the present invention is the above-mentionedAny color filter substrateIs provided on the display surface side of the display.
[0009]
  The method of manufacturing a color filter substrate according to the present invention includes a display device that generates harmful electromagnetic waves by combining each cell of a color filter with a light emitting cell unit.On the viewer side of the light emitting surfaceA color filter substrate on the display surface side of a display provided with a color filter and an electromagnetic shielding layer on one surface of a base substrate, wherein at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material, and its opening and A color filter is provided on the lower or upper side, and the first electromagnetic shielding layer separates each colorColor separation area and light transmission areaOr in the form of a matrix including the color separation region and in the shape of a mesh in the light transmission region. The color separation is performed by directly contacting the top or bottom of the first electromagnetic shielding layer. A method for manufacturing a color filter substrate in which a transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer is provided on the entire surface including a region and a light transmission region, wherein the first electromagnetic wave is formed on the transparent substrate by the good conductive material. After forming the shielding layer, the filter material of each color is arranged according to the light emitting cell unit, and the first electromagnetic shielding layer is formed.Before or afterIn addition, a transparent conductive layer, which is a second electromagnetic shielding layer, is provided before the filter materials of the respective colors are arranged in accordance with the light emitting cell unit.
  In addition, the method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention includes a display device that generates harmful electromagnetic waves by combining each cell of the color filter in units of light emitting cells.On the viewer side of the light emitting surfaceA color filter substrate on the display surface side of a display provided with a color filter and an electromagnetic shielding layer on one surface of a base substrate, wherein at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material, and its opening and A color filter is provided on the lower or upper side, and the first electromagnetic shielding layer separates each colorColor separation area and light transmission areaOr in the form of a matrix including the color separation region and in the shape of a mesh in the light transmission region. The color separation is performed by directly contacting the top or bottom of the first electromagnetic shielding layer. A method of manufacturing a color filter substrate in which a transparent conductive layer, which is a second electromagnetic shielding layer, is provided on the entire surface including a region and a light transmission region, and each color filter material is arranged on the transparent substrate in units of light emitting cells. After disposing, the first electromagnetic shielding layer is formed by the good conductive material. After arranging the filter materials of each color according to the light emitting cell unit, the first electromagnetic shielding layer is formed.Before or afterIn addition, a transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer is provided.
  And any one of the color filter substrate manufacturing method described above, the color filter substrate is a color filter substrate for a plasma display panel, and in use, on the viewer side of the front plate of the plasma display panel, The color filter forming surface side is the front plate side, and is arranged.
[0010]
[Action]
The color filter substrate of the present invention has such a configuration, when placed on the display surface side of the display device and used, improves the display color image quality of the display device, and has an electromagnetic shielding effect, Furthermore, it is possible to provide a color filter substrate that is excellent in productivity and can be manufactured at a relatively low cost.
Specifically, color filters and electromagnetic shielding are provided on one side of the base substrate, which is used by placing each cell of the color filter in units of light emitting cells and placing it on the display surface side of a display device that generates harmful electromagnetic waves. A color filter substrate on a display surface side of a display provided with a layer, wherein at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material, and a color filter is provided on the opening and below or above the opening. The first electromagnetic shielding layer includes a color separation region for separating each color in a matrix, or a mesh shape in the color separation region and the light transmission region, or a matrix including the color separation region. In addition, since the light transmission region is provided in a mesh shape, the display color image quality of the display device is improved, and harmful electromagnetic waves to the observer side are improved. Thereby preventing the motor.
[0011]
More specifically, it is a color filter substrate for a plasma display panel, and when used, is placed on the observer side of the front panel of the plasma display panel with the color filter forming surface side facing the front panel. Therefore, the color filter substrate of the present invention can be manufactured independently of the plasma display panel itself shown in FIG. 10 and is not affected by conditions such as heat treatment in manufacturing the plasma display panel itself. In addition, the color filter material can be selected.
For this reason, the fabrication is easy and the productivity can be improved. As a result, the display color image quality of the plasma display device can be improved and the electromagnetic shielding effect can be imparted to the plasma display device at a low cost.
Note that such a color filter substrate for plasma display passes through the front plate 710 of the plasma display panel shown in FIG. 10, and the light emission color of each light emitting cell is incident on each color filter of the same color and emits light by the color filter. Although the color distribution area is limited so as to improve the quality by removing the impure color light, a part of the light from the light emitting cell is diffused through the front plate and passes through the color filter of the same color. Some are not.
However, since diffused light is absorbed by other color filters, the color characteristics are not deteriorated.
Under normal observation conditions, most of the color light passes through the color filters of the colors corresponding to the emission of each color. Therefore, the provision of the color filter improves the display color image quality compared to the case where the display color image quality is not provided.
In particular, by reducing the thickness of the front plate, this effect is increased, approaching the case where it is provided on the light emitting cell side inside the front plate of the display device.
That is, the color filter for plasma display of the present invention can effectively improve the display color quality.
In addition, when a color filter is provided on the light emitting cell side of the front plate, the material requires heat treatment (firing). Therefore, a material mainly composed of a pigment and a low melting point glass frit is used. The color filter substrate is separate from the plasma display itself shown in FIG. 10 and is disposed on the viewer side of the front plate. The color filter substrate is not limited to those mainly composed of pigments and low-melting-point glass frit. It may be composed of a photosensitive colored layer dyed or having a pigment dispersed in a resin.
For this reason, in the manufacturing method, after applying the photosensitive colored layer material, a method of forming it into a predetermined shape using photolithography, a forming method of the colored layer material by a direct printing method, and applying a photosensitive resin. After that, it is possible to adopt a method of forming into a predetermined shape using photolithography and dyeing the resin layer.
Since high accuracy is not basically required, a production method suitable for mass production can be adopted.
[0012]
In addition, an electromagnetic shielding layer made of a good conductive material is used in the form of a matrix that also serves as a color separation light-shielding portion in the color separation area for separating each color of the color filter, or the color separation area and light of the color filter. Provided in a mesh shape in the transmissive region, or in a matrix shape that also serves as a color separation light-shielding portion in the color separation region, and in a mesh shape in the other light transmissive region. Therefore, leakage of electromagnetic waves from the display device to the viewer side can be prevented without affecting the display color image quality.
Then, by directly contacting the top or bottom of the electromagnetic shielding layer and providing a transparent conductive layer over the entire surface in the color separation region and other light transmission regions, the area resistance of the entire electromagnetic shielding layer is reduced. In addition, the absorption wavelength band of the shielding electromagnetic wave can be made wider.
[0013]
As for the moire unevenness when the electromagnetic shielding layer is provided in a mesh shape in the light transmission region, each light of the light emitting cell is transmitted through the mesh provided in the color filter region of the corresponding color. Unlike the case of using a separate electromagnetic shielding plate 640, it is difficult to recognize moire unevenness.
[0014]
Good conductive materials for the first electromagnetic shielding layer include those made of metal films or metal particles.
In addition, when at least one surface of the mesh-shaped conductive layer is black, it is possible to prevent a decrease in contrast due to the influence of external light when light is incident on the display panel from the observer side (incident external light). It is supposed to be.
In addition, by providing a conductive layer at the boundary between each color filter cell region and electrically connecting the conductive layer and the mesh-shaped conductive layer for shielding electromagnetic waves, the mesh-shaped conductive layer The electrical grounding is made easy.
Furthermore, the conductive layer provided at the boundary portion of each color filter cell region has a linear shape or matrix shape along the boundary, so that it is provided at the boundary portion of each color filter cell region. The conductive layer can have a color separation function between the color filter cells of each color.
[0015]
Thus, the display device of the present invention can provide a display device that is excellent in display color quality and has electromagnetic wave shielding at low cost by using the color filter substrate of the present invention.
In addition, it can handle the mass production.
[0016]
Examples of the method for producing the color filter substrate of the present invention include the above-described methods. In particular, the color filter substrate is a color filter substrate for a plasma display panel. When the color filter forming surface side is disposed on the front plate side on the viewer side of the face plate and is separate from the plasma display itself shown in FIG. 10, the degree of freedom of the color filter material is large. There are few processing restrictions, and a color filter forming method can be selected for mass production.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  The present inventionRelated to the embodiment and the embodiment of the present inventionWill be described with reference to the drawings.
  FIG. 1 (a) shows the present invention.Involved inColor filter substrateExample 11B is an enlarged plan view showing a part (A0 part) of FIG. 1B, and FIG. 1C is a cross-sectional view taken along line A1-A2 of FIG. 1B. 2 (a), FIG. 2 (b), and FIG. 2 (c) are respectively shown in FIG.Example 1It is sectional drawing of the characteristic part which showed the modification of the color filter substrate,FIG. 2 (b) shows an example of an embodiment of the color filter substrate of the present invention.FIG. 3 (a) shows the present invention.Involved inColor filter substrateExample 23B is a schematic plan view of a part of the color filter forming region, FIG. 3B is an enlarged cross-sectional view taken along B1-B2 of FIG. 3A, and FIG. 3C is B3-B of FIG. FIG. 4 is an enlarged plan view showing an electromagnetic shielding layer in a partial region between B4.Example 2FIG. 5A is a cross-sectional view of a characteristic portion showing a modification of the color filter substrate of FIG.Involved inColor filter substrateExample 3FIG. 5B is a plan view showing an electromagnetic shielding layer in a partial region between D1 and D2, and FIG. 6A and FIG. ) Each represents the present inventionInvolved inDisplay device1 exampleIt is the schematic which showed.
  FIG. 7 and FIG. 8 respectively show the present invention.Involved inIt is process drawing which showed one example of the manufacturing method of a color filter substrate.
  1-8, 110, 110A, 110B, and 110C are color filter substrates, 111 is an R filter, 112 is a G filter, 113 is a B filter, 115 is a base substrate (base substrate), 116 color filter forming unit, 120 Is a conductive layer for color separation band, 130 is a conductive layer, 140 is a resin layer, 141 is a protective resin layer, 210 is a color filter substrate, 211 is an R filter, 212 is a G filter, 213 is a B filter, Base substrate (base substrate), 220 is a conductive layer for color separation band, 230 and 230A are conductive layers, 240 is a resin layer, 241 is a protective resin layer, 311 is an R filter, 312 is a G filter, 313 is B filter, 315 is a base substrate (base substrate), 330 is a conductive layer, 410 is a plasma display panel 411 is an R color light emitting cell, 412 is a G color light emitting cell, 413 is a B color light emitting cell, 415 is a back plate, 416 is a front plate, 417 is a barrier (also called a rib), and 440 and 441 are bonded. It is an agent layer.
  Note that R, G, and B in FIG. 1B and FIG. 3A represent R, G, and B colors, respectively.
  Further, here, each cell of the color filter (also referred to as a color filter cell) is the color development region of the minimum unit of R, G, and B shown in FIG. 3A, or R, shown in FIG. G and B stripe regions are referred to.
  Further, the cross-sectional state at the position B5-B6 in FIG. 3C corresponds to the cross-sectional state between B3-B4 in FIG. 3B, and the cross-sectional state at the position D3-D4 in FIG. This corresponds to the cross-sectional state between D1 and D2 in 4 (a).
[0018]
  First, the present inventionInvolved inColor filter baseExample of plate and embodiment of color filter of the present inventionWill be explained.
  First, the present inventionInvolved inColor filter substrateExample 1This will be described with reference to FIG. As shown in FIG.Example 1The color filter substrate 110 is a color filter substrate used in a plasma display that generates harmful electromagnetic waves. When used, a color filter is formed on the viewer side of the front plate 710 of the plasma display panel shown in FIG. The surface side is disposed on the front plate side.
  A color filter of a corresponding color is provided at a position corresponding to the light emitting cell of each color of the plasma display panel.
  As shown in FIG. 1A, an electromagnetic wave in which a color filter (111, 112, 113) and a light-shielding conductive layer 130 made of a metal film are formed in a matrix on one surface of a base substrate 115 made of a transparent substrate. As shown in a partially enlarged view of FIG. 1 (b), a conductive layer is provided in a matrix so as to straddle the separation regions of each color of the color filter and the striped color filter. A conductive layer 130 is provided.
  Since the conductive layer 130 provided in the separation region of each color of the color filter also serves as the color separation of each color, this is specifically referred to as the color separation band-use conductive layer 120 here.
  Although not shown, a ground terminal is provided for electrically connecting the matrix-like conductive layer 130 to each other.
  1C, a conductive layer 130 (including 120) serving as an electromagnetic shielding layer and color filters 111, 112, and 113 are provided from the base substrate 115 side, and the conductive layer 130 ( 120), a resin layer 140 is provided.
[0019]
The base substrate 115 is transparent and includes a glass substrate and a resin substrate.
As a material of the resin substrate, there are usually an acrylic resin substrate, a polyester resin substrate, and the like, and further, a mixed resin substrate, a composite substrate, and the like.
Examples of the conductive layer 130 include metal films such as copper or metal particles such as copper and silver, but those having good conductivity are preferable.
Further, it is preferable that at least one surface of the conductive layer 130 is black from the viewpoint of preventing a decrease in display contrast due to external light.
When copper is used as the material of the conductive layer 130, it is preferable to perform a blackening process in which the copper surface is oxidized or sulfided to blacken.
The color filter substrate 110 of this example is separate from the plasma display itself (PDP alone shown in FIG. 10) in which it is used, and the materials of the color filters 111, 112, 113 are subject to the manufacturing process conditions of the plasma display itself. Since it is not influenced, a pigment, a material mainly composed of a low melting point glass frit, a material dyed with a resin, or a photosensitive colored layer in which a pigment is dispersed in a resin can be applied.
As the R filter 111, the G filter 112, and the B filter 113, those having a predetermined transmittance characteristic corresponding to each emission color of the plasma display to be used are used.
[0020]
  Next, modifications of this example will be given.
  In the first modification shown in FIG. 2A, color filters 111, 112, and 113 are provided on a base substrate 115, a protective resin layer 141 is provided thereon, and further, as in this example. An electromagnetic shielding layer is provided.
  In the second modification shown in FIG. 2B, an ITO film is formed on the surface portion of the first modification, and the ITO film also has an electromagnetic shielding effect.
  In contrast to the first electromagnetic shielding layer made of the conductive layer 130, it can also be said to be a second electromagnetic shielding layer. The third modification shown in FIG., In example 1The resin layers 140 are not provided, and the color filters 111, 112, and 113 are provided between the conductive layers 130.
[0021]
  Next, the present inventionInvolved inColor filter substrateExample 2 ofThis will be described with reference to FIG. Shown in Figure 1Example 2As in the first example, the large filter 210 is also a color filter substrate used in a plasma display that generates harmful electromagnetic waves. When used, the front side plate 710 of the plasma display panel shown in FIG. In addition, the color filter forming surface side is the front surface side.
  And the color filter of a corresponding color is provided in the position corresponding to the light emission cell of each color of a plasma display panel.
  In this example,FIG. 3 (a)As shown in a partially enlarged view, the color filter array is a predetermined array in which each color is alternately arranged, and a conductive layer made of a light-shielding metal film along the color separation region of each color of the color filter. 230 and the conductive layer 230 is provided in a mesh shape in the light transmission region of each color filter (211 212, 213).
  The conductive layer 230 provided in a matrix along the color separation region also serves as a color separation band for each color, and is also referred to as a color separation band combined conductive layer 220 here.
  The mesh-like conductive layer 230 and the matrix-like color separation band-use conductive layer 220 are electrically connected, and both have a function of shielding harmful electromagnetic waves.
  Although not shown, a ground terminal for electrically connecting the mesh-like conductive layer 230 and the matrix-like color separation band-use conductive layer 120 is provided.
[0022]
In this example, as shown in FIG. 3C, the mesh-like conductive layer 230 is provided below the R filter 211, the G filter 212, and the B filter 213 (on the base substrate 215 side). In addition, it is electrically connected to the light-shielding color separation band and conductive layer 220.
The resin layer 240 is made of a transparent resin, and fills the gap between the matrix-like conductive layer 230 (also the color separation band conductive layer 220) and the mesh-like conductive layer 230. Each color filter (211 to 213) ) To serve as a planarizing layer.
FIG. 3C is a plan view showing a part of the mesh-like conductive layer 230 and the matrix-like color separation band-use conductive layer 220 in an enlarged manner, and the mesh is linear in two directions. The layers 230 intersect each other at a predetermined angle, but the shape is not limited to this.
[0023]
  As material of each partExample 1 andSimilar ones are applicable.
  From the viewpoint of preventing a reduction in display contrast, it is preferable that at least one surface of the mesh-like conductive layer 230 provided in the light transmission region is black.
[0024]
Example 2A modification is given.
  The first modification shown in FIG.Example 2 andIn contrast, each color filter, protective resin layer 241, mesh conductive layer 230, and matrix color separation band conductive layer 220 are arranged in this order from the base substrate 215 side.
  Although the second modification is not shown,, In Example 2The resin layer 240 is not provided, and the filter of each color is embedded in the gap between the matrix-like conductive layer 230 (the color separation band-use conductive layer 220) and the mesh-like conductive layer 230. It is.
  The shape of the mesh-like conductive layer 230 and the matrix-like color separation band combined conductive layer 220 viewed from C1-C2 in FIG.Example 2 andSimilarly, it becomes as shown in FIG.
[0025]
  Next, the present inventionInvolved inColor filter substrateExample 3 ofThis will be described with reference to FIG. As shown in FIG.Example 3Similar to the first and second examples, the color filter substrate 310 is also a color filter substrate used for a plasma display that generates harmful electromagnetic waves. When used, the color filter substrate 310 is in front of the plasma display panel shown in FIG. The face plate 710 is disposed on the viewer side with the color filter forming surface side being the front side.The
Example 3As shown in FIG. 5, a mesh-like conductive layer 330 is provided in the color separation region of each color of the color filter and in the entire light transmission / transmission region.
  Example 1Resin layer 140Or example 2A color filter is provided in the gap between the mesh-like conductive layer 330 and on the top thereof without providing the resin layer 240.
  In addition, the shape of the mesh-shaped electroconductive layer 330 seen from D1-D2 of Fig.5 (a) becomes like FIG.5 (b).
  In addition, the cross-sectional state at the position D3-D4 in FIG. 5B corresponds to the cross-sectional state in FIG.
[0026]
  Next, the present inventionInvolved inDisplay equipmentOne exampleGeru.
  In this example shown in FIG. 6, light emitting cells (411, 412, 413) of the plasma display panel (PDP) 410 are formed on the viewer side of the front plate surface 416 of the plasma display panel (PDP) 410 that generates harmful electromagnetic waves. For each light emitting cell,Example 2 shown in FIG.This is a display device provided with a color filter substrate 210.
  With such a configuration, display image quality can be improved and harmful electromagnetic waves can be shielded compared to the configuration of the plasma display panel (PDP) unit 410 alone.
[0027]
Here, an example of a single AC type plasma display panel (hereinafter also referred to as PDP) (corresponding to PDP 410 in FIG. 6) will be described with reference to FIG.
FIG. 10 is a perspective view of the PDP structure, but the front plate (glass substrate 710) and the back plate (glass substrate 720) are shown separated from each other for the sake of clarity.
As shown in FIG. 10, two glass substrates 710 and 720 are arranged in parallel and facing each other, and both of them are barriers (cell barriers) provided in parallel to each other on a glass substrate 720 as a back plate. (Also referred to as 730).
On the back side of the glass substrate 710 serving as the front plate, a composite electrode composed of a transparent electrode 740 serving as a discharge sustaining electrode and a metal electrode 750 serving as a bus electrode is formed in parallel with each other. A layer 760 is formed, and a protective layer (MgO layer) 770 is further formed thereon.
In addition, address electrodes 780 are formed between the barriers 730 so as to be orthogonal to the composite electrode on the front side of the glass substrate 720 serving as a back plate, and are formed in parallel with each other. A fluorescent surface 790 is provided so as to cover.
The barrier 730 is for partitioning the discharge space, and each partitioned discharge space is called a cell or a unit light emitting region.
The AC type PDP is a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between the composite electrodes on the front plate to discharge. In this case, since alternating current is applied, the direction of the electric field changes corresponding to the frequency. Then, the phosphor 790 is caused to emit light by ultraviolet rays generated by this discharge, and the observer can visually recognize the light transmitted through the front plate.
The DC type PDP is different from the AC type in that the electrode has a structure not covered with a dielectric layer, but the discharge effect is the same.
10 has a structure in which a base layer 767 is provided on one surface of a glass substrate 720 and a dielectric layer 765 is provided thereon, but the base layer 767 and the dielectric layer 765 are not necessarily required. .
[0028]
  As a modification, the present invention shown in FIG.MoFilter boardExample 1 ofAs shown in FIG.Example 3,Alternatively, these variations, andAnd Example 2As a modification, there is a display device in which the color filter substrate 210 in FIG. 6 is replaced.
  The modification is basically the same as the example shown in FIG. 6 in terms of display image quality and electromagnetic wave shielding function.
[0029]
  Next, the present inventionInvolved inManufacturing method of color filter substrateExamplesGeru.
  As shown in FIG.Example 2An example of a method for manufacturing a color filter substrate will be described with reference to FIG. First, a conductive layer is thinly formed on one surface of the base substrate 215 by electroless plating, and further a conductive layer is thinned thereon by electrolytic plating to form a conductive layer 230A having a predetermined thickness. (Fig. 7 (a))
  If necessary, a metal thin film may be formed by vapor deposition, sputtering, or the like before forming the conductive layer by electroless plating.
  Examples of the conductive layer 230A include metal plating layers such as Cu, Ag, and Au. From the viewpoint of cost, a Cu plating layer is usually used.
  When the conductive layer 230A is a Cu plating layer, a blackening process for blackening the Cu surface is then performed using a commercially available electrolytic blackening solution, and a Cu layer and a blackening layer are sequentially formed on the base substrate 215. Keep it.
  When the conductive layer 230A is a Cu plating layer, the mesh-like conductive layer 230 has a total thickness of about 5 to 50 μm.
  The reason why the blackening process is performed after the formation of the conductive layer 230A is to prevent a decrease in contrast due to light from the viewer side of the display device.
  Next, an etching resistant resist is applied onto the conductive layer 230A and dried to form a resist film having an opening in a predetermined shape, and then the resist film thus formed is etched as an etching resistant mask to form a mesh-like conductive film. The layer 230 and the matrix-shaped color separation band conductive layer 220 are formed. (Fig. 7 (b))
  The plate making of the resist film is a photo resist coated on the blackened layer on the surface of the conductive layer 230A, exposed using a predetermined original plate and developed, and is a PDP barrier (also referred to as a rib) (refer to FIG. 6). 417) In the color filter cell region corresponding to the light emitting cell, the line width of the mesh-like conductive layer 230 is set at the position of the color separation band / conductive layer 220 corresponding to the position, which is slightly narrower than the barrier width. Use a narrower line width.
[0030]
Next, a transparent resin layer 240 is applied and cured. (Fig. 7 (c))
This is because the film thickness of the commercially available photosensitive material for each color in the formation of the color filter for each color to be performed next may be reduced by the conductive layer 230.
If application of the film thickness of the photosensitive material is performed without any problem in quality, it is not necessary to provide the transparent resin layer 240.
In addition, when the transparent resin layer 240 is applied to the same thickness as the conductive layer 230, the transparent resin layer 240 is located below the upper surface of the conductive layer 230 after curing.
[0031]
Next, each color filter is formed.
As the color filter material, commercially available photosensitive materials of R, G, and B colors can be used.
Three original plates having cell patterns for each color of R, G, and B are prepared in advance, and the pattern size of the color filter cells of the original plate is 5 to 10 μm larger than the size of the region where the mesh-like conductive layer 230 is formed. It is better to consider it so that it can be easily designed and positioned.
First, an R-color photosensitive material is applied to the entire surface of the mesh-like conductive layer 230 forming side, and is exposed and developed using a predetermined original plate to form an R color filter 211. (Fig. 7 (d))
Thereafter, similarly, the G color filter 212 is formed (FIG. 7E), and the B color filter 213 is formed. (Fig. 7 (f))
In this way, the color filter substrate 210 is manufactured.
Although the process is as described above, in order to leak the current generated by the electromagnetic wave shielding, the ground terminal electrically connected to the mesh-like conductive layer 230 or the matrix-like color separation band conductive layer 220 The portions are formed when the mesh-like conductive layer 230 and the matrix-like color separation band conductive layer 220 are formed.
[0032]
  Next, as shown in FIG.Example 2One example of a manufacturing method of the color filter substrate of the modification will be described with reference to FIG.
  An R color filter 211 is formed on one surface of the base substrate 215 (FIG. 8A) in the same manner as the example shown in FIG. 7 (FIG. 8B), and a G color filter 212 is formed (FIG. 8). 8 (c)), the B color filter 213 is formed. (Fig. 8 (d))
  As shown in FIG. 8D, the color filters of the respective colors are formed so as to be adjacent to each other.
  An original plate for making a plate for each color photosensitive material for producing a color filter for each color is prepared in advance as described above.
  In addition, an alignment mark that facilitates alignment of each original plate for producing a color filter of each color, or a register mark when creating a matrix-like or mesh-like conductive layer 230 in a subsequent process, etc. as necessary Create and use.
[0033]
Next, a protective resin layer 241 such as an acrylic resin is formed as a protective layer for each color filter. (Fig. 8 (e))
[0034]
  Next, a thin conductive layer is formed by electroless plating, and a conductive layer 230A having a predetermined thickness is formed thereon by electrolytic plating. (Fig. 8 (f))
  About conductive layer 230AExample 1 andIt is the same.
[0035]
  After that, a photosensitive resist (for example, OMR, manufactured by Tokyo Kokusai Kogyo Co., Ltd.) is applied, and a pattern original plate for producing a mesh-like conductive layer is used, aligned with the created register mark, and exposed. , Development, drying, post-baking, etching the portions exposed from the photosensitive resist with ferric chloride solution, washing with water, mesh-shaped conductive layer 230 having a predetermined shape, and matrix-shaped color separation band conductive layer 220 is obtained. (Fig. 8 (g))
  In this way, the color filter substrate 210A is manufactured.
  After this, the plating Cu surface partExample 1 andSimilarly, a blackening process for blackening is performed.
[0036]
  [Reference Example]
  (Reference Example 1)
  Reference Example 1Is a color filter substrate for plasma display, and is produced by the manufacturing method shown in FIG.Involved inColor filter substrate (Fig. 3Example 2 ofA color filter substrate 210) is produced.
  Further, the manufactured color filter substrate is added to a plasma display panel as shown in FIG.De related to MingA display device was produced.
This reference exampleHereinafter, a description will be given based on FIG.
  First, a black chromium oxide layer (CrOx) was formed to a thickness of 1500 mm on one surface of a transparent clean glass substrate having a thickness of 3 mm.
  The chromium oxide layer is formed by sputtering under normal conditions in a Cr target and oxygen-mixed Ar atmosphere.
  Next, after activating the chromium oxide layer surface, electroless Cu plating was performed to a thickness of about 2 μm under the following conditions, and then electrolytic Cu plating was performed to make the total thickness of Cu about 5 μm. (Fig. 7 (a))
[0037]
The electroless Cu plating conditions and the electrolytic Cu plating conditions are as follows.
[0038]
Next, an OMR photosensitive resist (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied on the conductive layer 230A and dried, and then a predetermined region is exposed using a photographic original plate having a predetermined shape, and patterned into a mesh and a matrix. Then, using this as an anti-etching mask, the Cu layer and the CrOx layer were simultaneously etched with a ferric chloride solution (specific gravity 38 ° Baume), and the residual resist was stripped and removed. (Fig. 7 (b))
The photographic original plate has a line width of 40 μm, which is slightly narrower than the barrier (rib) width, in the portion corresponding to the position on the barrier of the light emitting cell of the plasma display panel (width of 60 μm in 790 of FIG. 10). In a portion corresponding to the region, a narrower line width was set to 20 μm.
The photographic original plate was produced by electron beam drawing.
[0039]
Next, the etching pattern of Cu was changed to 60 to 80 ° C. in an aqueous solution containing A liquid (20% liquid) and B liquid (10% liquid) of Copper Black Cuo (trade name: manufactured by Isolate Chemical Laboratory). It was immersed for 2 to 3 minutes for chemical conversion treatment, and the Cu surface and the etching cross section were blackened.
Thus, the mesh-like conductive layer 220 (230) and the matrix-like conductive layer 130 were formed.
Practically, it is necessary to form a ground terminal portion for leaking current generated by electromagnetic wave shielding. When forming the mesh-like conductive layer 220 (230) and the matrix-like conductive layer 230, In addition, a ground terminal portion was simultaneously formed on these peripheral portions.
Since the ground terminal portion is located outside the display portion and is not visible, the surface blackening treatment is unnecessary, and the blackened layer is rather harmful to ground connection, so the Cu surface is preferable.
[0040]
Next, in order to form a three-color filter of R, G, B in the gap (recess) between the mesh-like conductive layer 220 (230) and the matrix-like conductive layer 230, a transparent photosensitive film is formed on the entire recess in advance. A functional acrylic resin was filled by a squeegee method and completely cured by ultraviolet exposure and heat treatment (150 ° C., 30 minutes) to form a resin layer 240. (Fig. 7 (c))
By this treatment, the surface on which the conductive layer 230 is formed is almost flattened, but is about 1 μm lower than the surface of the conductive layer 230 due to curing shrinkage of the acrylic resin, and remains as a concave portion.
[0041]
Next, a pigment dispersion type photosensitive color filter material (also referred to as a color resist) is filled on the entire surface by spin coating, and exposure, development, and heat treatment are performed to form an R color filter 211 (FIG. 7D). In the same manner, a G color filter 212 was formed (FIG. 7E), and a B color filter 213 was formed. (Fig. 7 (f))
Hereinafter, a method for forming the filters of the respective colors will be described.
As color filter materials, commercially available photosensitive materials for R, G and B colors, photosensitive color materials made by JSR (abbreviation of Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), Color Resist: CR2000R (red), CR2000G (green), CR2000B ( Blue) was used.
First, three photographic original plates having cell patterns for each color of R, G, and B are prepared in advance, and the cell pattern size of the original plate is designed to be 5 to 10 μm larger than the conductive mesh to facilitate alignment. Considered so.
Next, a red photosensitive color material CR20000R was first applied to the conductive matrix forming surface and dried.
At this time, since the surface formed by the conductive layer 230 and the resin layer 240 has an intaglio shape with a height of 5 μm, the photosensitive color material is filled in the recess.
In general, if the color material layer has a thickness of 1 to 2 μm, a sufficient necessary concentration can be obtained. Therefore, the photosensitive color material is previously diluted with a solvent, applied (filled), and dried to exhibit a predetermined transmission density of 1.2 to 2.0. Adjusted as follows.
As a coating method, a squeegee method using a squeegee plate made of hard rubber is adopted, but a spin coating method or a bar coating method may be used.
Next, using the photographic original plate for R color filter, it is aligned and exposed to the R cell part of the conductive mesh, followed by development, drying, and heat treatment (180 ° C, 30 minutes or more) according to the prescription, R color color A filter 211 was formed.
The heat treatment is added in order to sufficiently complete the curing of the photosensitive color material and to enhance the solvent resistance in the subsequent formation of other color filters. This formed a stable red filter layer.
Subsequently, the green color filter 212 was formed by the same process, and then the blue color filter 213 was formed.
As a result, an R color filter 211, a G color filter 212, and a B color filter 213 were formed.
[0042]
Thereafter, a transparent acrylic resin of about 20 μm was applied to complete the color filter substrate 210 of the present invention having an electromagnetic wave shielding effect as a protective film.
[0043]
  Furthermore, the color filter substrate 210 manufactured in this way was added to the plasma display panel as follows, and the display device of the present invention having the form shown in FIG. 6 was manufactured.
  When the color filter substrate 210 manufactured as described above is attached to the front plate (corresponding to 710 in FIG. 10) of the plasma display panel, a transparent glass substrate (710 in FIG. 10) on the front plate is transparent on the viewer side. After applying a heat-adhesive acrylic resin to a thickness of about 20 μm, the produced color filter substrate 210 is coated with a thick conductive layer corresponding to the barrier (790 in FIG. 10) line 120) was precisely aligned on the line of the light emitting cell formation barrier of the plasma display panel, and was attached by thermal bonding while being crimped.
  Thus, the present invention in the form shown in FIG.Related toA display device was produced.
[0044]
The plasma display panel used here will be briefly described.
The front glass plate (corresponding to 710 in FIG. 10) has a transparent glass substrate thickness of 2 mm. ) Is a three-layer structure of Cr / Cu / Cr, the dielectric layer (corresponding to 760 in FIG. 10) is a low melting glass paste, and the protective layer (corresponding to 770 in FIG. 10) is an MGO film.
The back plate (corresponding to 720 in FIG. 10) is 2 mm in thickness of the transparent glass substrate (corresponding to 720 in FIG. 10), and the barrier (corresponding to 730 in FIG. 10) is made of glass paste.
With 42-inch display, the pitch of the light emitting cells is 0.36 mm, the width is 60 μm, the height is 120 μm, and the sealing gas is Ne + Xe (Penning mixed gas, sealed at 500 to 600 Torr).
The phosphors forming the phosphor screen (corresponding to 790 in FIG. 10) are R phosphor, G phosphor, and B phosphor, respectively, KX-504A ((Y, Cd ) BOThree: Eu3 +), PI-GIS (Zn2SiOFour: Mn), KX-501A (BaMgAl14Otwenty three: Eu2 +), the address electrodes (corresponding to 780 in FIG. 10) are Cr / Cu / Cr (Ag may be used) and are several μm to 10 μm thick, and the electrode pitch is 0.13 mm.
Note that a method for manufacturing a front plate (also referred to as a front plate), a back plate (also referred to as a back plate), and a method for manufacturing a plasma display panel are generally well known and will not be described here.
[0045]
  This reference exampleIn the method of manufacturing the color filter substrate 210, the color filter part can be manufactured independently of the plasma display panel. Therefore, in the method of manufacturing the color filter, it is not necessary to handle the heavy plasma display panel itself in the process. Was easy.
[0046]
  (Reference Example 2)
  Reference Example 2Also,Reference Example 1Similarly to the color filter substrate for plasma display, the present invention is manufactured by the manufacturing method shown in FIG.Mosquitoes involved inA large filter substrate (color filter substrate 210A in FIG. 4) is produced.
  Further, the produced color filter substrate 210A is added to a plasma display panel as shown in FIG. 10, and the present invention shown in FIG.Related toA display device was produced.
  This reference exampleWill be described below with reference to FIG.
  First, the photosensitive color material (color resist) used in Example 1 is used on one surface of a base substrate 215 which is a transparent and clean glass substrate having a thickness of 3 mm, and an R color filter 211 is formed in the same manner. (FIG. 8B), the G color filter 212 was formed (FIG. 8C), and the B color filter 213 was formed. (Fig. 8 (d))
  Using a predetermined photographic original plate, plate making and development were performed, and each color filter was prepared so as to be adjacent to each other.
  As a color filter, a register mark indicating the position of the pattern boundary portion of the original plate of each color is placed outside the effective area.
  In addition, the photographic original plate used for producing the mesh-like conductive layer is designed so that the position of the thick line portion of the mesh-like pattern can be detected and adjusted so that it matches the boundary of the color filter of each color. I designed it.
[0047]
Next, an ultraviolet curable transparent acrylic resin was applied as a protective layer to a thickness of 2 to 5 μm, cured with ultraviolet rays, and further thermally cured at 180 ° C. for 30 minutes to form a protective resin layer 241. (Fig. 8 (e))
[0048]
Next, electroless Cu plating was applied on the color filter to a thickness of 2 μm under the following conditions, and further, electrolytic Cu plating was performed to form a Cu layer having a total thickness of 5 μm. (Fig. 8 (f))
Next, a photosensitive resist OMR is applied and dried, and a resist pattern provided with a predetermined shape is used for the resist, and the resist mark provided at the time of manufacturing the color filter is aligned with each of the processes of exposure, development, drying, and post-baking. Then, after forming a resist pattern in a predetermined shape, the conductive layer 230A made of a plated Cu layer was etched and washed with ferric chloride using the resist as an etching resistant mask. (Fig. 8 (g))
[0049]
  Subsequently, the blackening process of the Cu surface was performed on the following conditions, and it washed with water and dried.
  [Blackening treatment conditions]
          Uses black nickel plating bath
          Nickel ammonium sulfate 60 g / l
          Zinc sulfate 7.5 g / l
          Sodium thiocyanate 15 g / l
          Temperature 30 ° C
          Current density (energization time 3 minutes) Initial 0.1 A / dm
                                          Gradually increased to the final stage of 1 A / dm.
  In addition, a UV curable transparent acrylic resin is applied to the surface as a protective film to a thickness of about 20 μm, and cured to flatten the surface.MoA large filter substrate 210A was completed.
[0050]
  Next, the color filter substrate 210A thus manufactured is mounted on a plasma display panel, and the present invention is applied.Involved inA display device was produced.
  The mounting is performed by applying an adhesive made of a transparent acrylic resin to a thickness of 20 to 30 μm on the viewer side of the front panel (corresponding to 710 in FIG. 10) of the plasma display panel, and then manufacturing the produced color filter substrate 210A. Accurate alignment was performed.
  BookReference exampleThen, blackening of the surface of the mesh-like conductive layer on the observer side was omitted, but since a color filter layer is formed on this conductive layer, the reddish brown color of Cu is not harmful.
  Of course, instead of the conductive layer 230A of this example,Reference Example 1Similarly to the above, a three-layer conductive layer (CrOx-Cu-blackened copper) may be used.
  Further, a black matrix may be formed in advance on the color filter surface separately from the color separation band and conductive layer 220.
[0051]
【The invention's effect】
As described above, the present invention, when used on the display surface side of the display device, improves the display color image quality of the display device, has an electromagnetic wave shielding effect, and is excellent in productivity. Therefore, it is possible to provide a color filter substrate that can be manufactured at a relatively low cost.
Specifically, compared to a conventional method of separately using a color filter and an electromagnetic shielding plate as shown in FIG. 9, the configuration is simple and the manufacturing is easy, and as a result, a thinner and cheaper display is provided. It was possible.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows the present invention.Involved inColor filter substrateExample 1SchematicIt is.
[Figure 2]2 (a) to 2 (c) are examples of Example 1 relating to the present invention.A modification of the color filter substrate,FIG. 2B is an example of an embodiment of the color filter substrate of the present invention.
FIG. 3Involved inColor filter substrateExample 2SchematicIt is.
[Fig. 4]Example 2Color filter substrate modificationIt is.
FIG. 5 shows the present invention.Involved inColor filter substrateExample 3SchematicIt is.
FIG. 6Involved inSchematic sectional view of the diff spray deviceIt is.
FIG. 7Involved inManufacturing process diagram of an example of a manufacturing method of a color filter substrateIt is.
FIG. 8Involved inAnother example of manufacturing process of color filter substrate manufacturing processIt is.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining a conventional PDP having a color filter configurationIt is.
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the configuration of a single PDP.It is.
[Explanation of symbols]
110, 110A, 110B, 110C Color filter substrate
111 R filter
112 G filter
113 B filter
115 Base substrate (base material)
116 Color filter forming part
120 color separation band and conductive layer
130 Conductive layer
140 Resin layer
141 Protective resin layer
150 ITO
210, 210A Color filter substrate
211 R filter
212 G filter
213 B filter
215 Base substrate (base substrate)
220 Color separation band and conductive layer
230, 230A Conductive layer
240 resin layer
241 Protective resin layer
310 Color filter substrate
311 R filter
312 G filter
313 B filter
315 Base substrate (base material)
330 Conductive layer
410 Plasma display (PDP)
411 R color light emitting cell
412 G light emitting cell
413 B color light emitting cell
415 Back plate
417 Barrier (rib)
430 Protection board
440, 441 Adhesive layer
610 Plasma display panel (also called PDP)
611 Back plate (back plate)
615 Front plate (front plate)
617 Barrier (rib)
620 Color filter
630 Protection plate
640 Electromagnetic wave shielding plate
641 Base substrate
645 Conductive layer

Claims (9)

  1. 発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の発光面の観察者側に置かれて使用される、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板であって、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は、各色を分離するための色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられており、前記第1の電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域および光透過領域を含む全面に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けていることを特徴とするカラーフィルター基板。A color filter and an electromagnetic shielding layer are placed on one side of the base substrate, which is used by placing each cell of the color filter in units of light emitting cells and placing it on the viewer side of the light emitting surface of the display device that generates harmful electromagnetic waves. A color filter substrate on the display surface side of the provided display, wherein at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material, and the color filter is provided on the opening and on the lower side or the upper side thereof. The first electromagnetic shielding layer is provided in a mesh shape in the color separation region and the light transmission region for separating each color, or in a matrix shape including the color separation region and in a mesh shape in the light transmission region. A transparent conductive layer which is a second electromagnetic shielding layer over the entire surface including the color separation region and the light transmission region, in direct contact with the first electromagnetic shielding layer above or below. A color filter substrate, characterized in that is provided.
  2. 請求項1に記載のカラーフィルター基板であって、プラズマディスプレイパネル用のカラーフィルター基板であり、使用の際には、プラズマディスプレイパネルの前面板の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前記前面板側にして、配置されるものであることを特徴とするカラーフィルター基板。  2. The color filter substrate according to claim 1, wherein the color filter substrate is a color filter substrate for a plasma display panel, and when used, the front side plate of the plasma display panel is placed on the front side of the color filter on the front side of the color filter. A color filter substrate, which is arranged on the face plate side.
  3. 請求項1ないし2のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板であって、カラーフィルターは樹脂を染色した、あるいは樹脂中に顔料を分散させた感光性の着色層からなることを特徴とするカラーフィルター基板。 3. A color filter substrate according to claim 1 , wherein the color filter comprises a photosensitive colored layer in which a resin is dyed or a pigment is dispersed in the resin. Filter substrate.
  4. 請求項1ないし3のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板であって、良好な導電性材料が、金属膜または金属粒子からなることを特徴とするカラーフィルター基板。The color filter substrate according to any one of claims 1 to 3 , wherein a good conductive material is made of a metal film or metal particles.
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板であって、第1の電磁遮蔽層の少なくとも一方の表面が黒色であることを特徴とするカラーフィルター基板。 5. The color filter substrate according to claim 1, wherein at least one surface of the first electromagnetic shielding layer is black. 6.
  6. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板をディスプレイの表示面側に設けたことを特徴とするディスプレイ装置。 6. A display device comprising the color filter substrate according to claim 1 provided on a display surface side of the display.
  7. 発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の発光面の観察者側に置かれる、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板で、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は、各色を分離するための色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられており、前記第1の電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域および光透過領域を含む全面に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けているカラーフィルター基板の製造方法であって、透明基板上に前記良好な導電性材料により第1の電磁遮蔽層を形成させた後に、各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設するもので、第1の電磁遮蔽層の形成の前または後で、且つ各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設する前に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。Display cells with color filters and electromagnetic shielding layers on one side of the base substrate are placed on the viewer side of the light emitting surface of the display device that generates harmful electromagnetic waves by combining each cell of the color filter in the light emitting cell unit. In the color filter substrate on the display surface side, at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material, and the color filter is provided on the opening and below or above the first electromagnetic shielding layer. Is provided in a mesh shape in a color separation region and a light transmission region for separating each color, or in a matrix shape including the color separation region and in a mesh shape in the light transmission region. A color which has a transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer provided on the entire surface including the color separation region and the light transmission region in direct contact with or above the electromagnetic shielding layer. A method for manufacturing a filter substrate, comprising: forming a first electromagnetic shielding layer on a transparent substrate with the good conductive material; and then arranging each color of the filter material in units of light emitting cells. A color characterized in that a transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer is provided before or after the formation of one electromagnetic shielding layer and before the filter material of each color is arranged in accordance with the light emitting cell unit. A method for manufacturing a filter substrate.
  8. 発光セル単位にカラーフィルターの各セルを合わせて、有害となる電磁波を発生させるディスプレイ装置の発光面の観察者側に置かれる、ベース基板の一面上にカラーフィルターと電磁遮蔽層を設けたディスプレイの表示面側のカラーフィルター基板で、少なくとも第1の電磁遮蔽層は、良好な導電性材料からなり、その開口部および、その下側ないし上側にカラーフィルターを設けており、第1の電磁遮蔽層は、各色を分離するための色分離領域および光透過領域にメッシュ状に、あるいは、前記色分離領域を含みマトリクス状に、且つ、光透過領域にメッシュ状に設けられており、前記第1の電磁遮蔽層の上あるいは下に直接接触させて、色分離領域および光透過領域を含む全面に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けているカラーフィルター基板の製造方法であって、透明基板上に各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設した後に、前記良好な導電性材料により第1の電磁遮蔽層を形成するもので、各色のフィルター材料を発光セル単位にあわせて配設した後、第1の電磁遮蔽層の形成の前または後に、第2の電磁遮蔽層である透明導電層を設けることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。Display cells with color filters and electromagnetic shielding layers on one side of the base substrate are placed on the viewer side of the light emitting surface of the display device that generates harmful electromagnetic waves by combining each cell of the color filter in the light emitting cell unit. In the color filter substrate on the display surface side, at least the first electromagnetic shielding layer is made of a good conductive material, and the color filter is provided on the opening and below or above the first electromagnetic shielding layer. Is provided in a mesh shape in a color separation region and a light transmission region for separating each color, or in a matrix shape including the color separation region and in a mesh shape in the light transmission region. A color which has a transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer provided on the entire surface including the color separation region and the light transmission region in direct contact with or above the electromagnetic shielding layer. A method for manufacturing a filter substrate, wherein after a filter material of each color is arranged on a transparent substrate according to a light emitting cell unit, a first electromagnetic shielding layer is formed by the good conductive material. A transparent conductive layer as a second electromagnetic shielding layer is provided after the filter material is arranged in accordance with the light emitting cell unit and before or after the formation of the first electromagnetic shielding layer. Production method.
  9. 請求項7ないし8のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板の製造方法であって、カラーフィルター基板がプラズマディスプレイパネル用のカラーフィルター基板であって、使用の際には、プラズマディスプレイパネルの前面板の観察者側に、カラーフィルター形成面側を前記前面板側にして、配置されるものであることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。 9. The method of manufacturing a color filter substrate according to claim 7 , wherein the color filter substrate is a color filter substrate for a plasma display panel, and is used in front of the plasma display panel in use. A method for producing a color filter substrate, characterized in that the color filter substrate is disposed on the viewer side of the face plate with the color filter forming surface side facing the front plate side.
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