JP4652699B2 - Substrate inspection device, position adjustment method - Google Patents

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本発明は、プリント配線基板のような基板の配線の導通・短絡を検査する基板検査装置及び基板検査装置のプローブ又は接触子の駆動位置調整方法に関する。なお、本発明は、プリント配線基板に限らず、フレキシブル基板、多層配線基板、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ用の電力線デバイス基板、ならびに半導体パッケージ用のフィルムキャリアなど種々の基板上の電気的配線の検査に適用でき、本明細書では、それらの配線基板を総称して「基板」と称して説明を行う。   The present invention relates to a board inspection apparatus for inspecting conduction / short-circuiting of wiring of a board such as a printed wiring board, and a driving position adjusting method of a probe or a contact of the board inspection apparatus. The present invention is not limited to printed wiring boards, but is used for inspection of electrical wiring on various substrates such as flexible substrates, multilayer wiring substrates, power line device substrates for liquid crystal displays and plasma displays, and film carriers for semiconductor packages. In this specification, these wiring boards are collectively referred to as “substrates” and described.

従来、プリント配線基板やICパッケージに用いられるパッケージ基板等の基板に形成された配線、スルーホール、ビヤ等の接続配線や、接続配線にICパッケージや半導体チップなどを接続するためのランドやパッド等の導体パターン(以下、配線パターンという)の導通や、配線パターン間での短絡、あるいは各配線パターンについて他の配線パターンとの絶縁状態の良否(十分な絶縁性が確保されているか否か)の検査を行う基板検査装置が知られている。   Conventionally, wiring formed on a substrate such as a printed circuit board or a package substrate used for an IC package, connection wiring such as a through hole or via, and a land or pad for connecting an IC package or a semiconductor chip to the connection wiring Continuity of conductor patterns (hereinafter referred to as wiring patterns), short circuit between wiring patterns, or whether each wiring pattern is insulated from other wiring patterns (whether sufficient insulation is ensured). A substrate inspection apparatus that performs inspection is known.

また、このような基板検査装置において、例えば下記特許文献1には、一対の接触子を備え、検査対象の基板の配線パターンに応じて予め設計されたプログラムに従って一対の接触子を検査位置へ駆動して配線パターン上の検査点に順次当接させ、該一対の接触子間に流れる電流等を検出することで、前記各種の検査を行うものが開示されている。   In such a substrate inspection apparatus, for example, Patent Document 1 below includes a pair of contacts, and drives the pair of contacts to an inspection position according to a program designed in advance according to the wiring pattern of the substrate to be inspected. Then, it is disclosed that the various inspections are performed by sequentially contacting the inspection points on the wiring pattern and detecting the current flowing between the pair of contacts.

この種の基板検査装置においては、接触子を接触させる対象のパッド等が極めて小さいものである場合には、特に接触子の位置決め精度が要求される。   In this type of substrate inspection apparatus, when the pads to be contacted with the contacts are extremely small, particularly the positioning accuracy of the contacts is required.

しかしながら、例えば接触子の交換が行われると、接触子の先端部の位置が交換前の位置とずれる場合がある。また、接触子の製造上の誤差により、交換前の接触子と交換後の接触子との長さが同一でない場合もある。このような場合、各接触子間の実際の相対位置関係が、基準として予め記憶されている論理的位置関係(プログラム上での接触子の位置関係)と誤差が発生し、その結果、この基準の論理的位置関係に基づいて予め設定された接触子の駆動方向及び駆動量で該接触子を移動させても所望のパッド上の検査点に接触させることができないこととなる。   However, for example, when the contact is exchanged, the position of the tip of the contact may deviate from the position before the exchange. Moreover, the length of the contactor before replacement | exchange and the contactor after replacement | exchange may not be the same by the error on contact manufacture. In such a case, the actual relative positional relationship between the contacts has an error with the logical positional relationship (the positional relationship of the contacts on the program) stored in advance as a reference, and as a result, this reference Even if the contact is moved in the drive direction and drive amount of the contact set in advance based on the logical positional relationship, it is impossible to make contact with the inspection point on the desired pad.

そこで、例えば下記特許文献2には、基板検査装置にカメラ及び該カメラで撮像された画像を表示するモニタを設置するとともに、感圧紙を貼り付けたキャリブレーションボードを所定の位置にセットし、この感圧紙とカメラとを用いて、各接触子間の位置関係のずれを補正するようにしたものが開示されている。   Therefore, for example, in the following Patent Document 2, a camera and a monitor that displays an image captured by the camera are installed in a substrate inspection apparatus, and a calibration board with pressure-sensitive paper attached is set at a predetermined position. There is disclosed a technique in which a positional relationship between contactors is corrected using a pressure sensitive paper and a camera.

すなわち、各接触子を初期位置に位置する状態で感圧紙にそれぞれ接触させ、その感圧紙上に形成された痕跡を前記カメラによって撮像し、その撮像画像をモニタに表示する。そして、オペレータは、各接触子の接触により形成された両痕跡間の位置関係(接触子間の距離等)と、基準として予め設定された接触子の位置関係とを比較し、接触子の位置関係が基準の位置関係に合致するように、接触子間の位置関係を調整する作業を行う。
特開平3−229167号公報 日本電産リード株式会社 取扱説明書 GATS−3220 Ver 1.2.0
That is, each contactor is brought into contact with the pressure-sensitive paper in a state where it is located at the initial position, a trace formed on the pressure-sensitive paper is picked up by the camera, and the picked-up image is displayed on the monitor. The operator then compares the positional relationship between the traces formed by the contact of each contact (such as the distance between the contacts) with the positional relationship of the contact set in advance as a reference, and determines the position of the contact. Work to adjust the positional relationship between the contacts so that the relationship matches the reference positional relationship.
JP-A-3-229167 Nidec Lead Corporation Instruction Manual GATS-3220 Ver 1.2.0

しかしながら、前記非特許文献1の技術においては、一般に接触子の先端は極めて細く、感圧紙上に形成される痕跡が極めて小さい(例えば20μm)ため、モニタに表示される痕跡の画像を視認し難い。したがって、オペレータが痕跡の位置を正確に捉えることが困難で誤差が生じるため、接触子の位置決め精度に限界があった。   However, in the technique of Non-Patent Document 1, generally, the tip of the contact is extremely thin and the trace formed on the pressure-sensitive paper is extremely small (for example, 20 μm), so that it is difficult to visually recognize the trace image displayed on the monitor. . Therefore, it is difficult for the operator to accurately grasp the position of the trace and an error occurs, so that the positioning accuracy of the contactor is limited.

また、感圧紙は、比較的小さな圧力を受けた場合でも痕跡が残るため、取り扱いに注意が必要であり作業性の向上が望めない上に高価である。   Further, since pressure-sensitive paper leaves traces even when subjected to a relatively small pressure, handling thereof is necessary, and improvement in workability cannot be expected and is expensive.

一方、各接触子間の位置関係のずれの問題とは別に、被検査基板は、例えば、配線を形成する際の熱の影響などで、配線パターン及びその検査点が設計値からずれることがあり、この場合にも、設計値に基づいて接触子を検査点に駆動すると、接触子が検査点からずれる可能性があり、基準の論理的位置関係に基づいて予め設定された接触子の駆動方向及び駆動量で該接触子を移動させても所望のパッド上の検査点に接触させることができないという問題が発生する。   On the other hand, apart from the problem of the positional relationship between each contactor, the circuit board to be inspected may deviate from the design value due to the influence of heat at the time of forming the wiring, for example. In this case as well, if the contact is driven to the inspection point based on the design value, the contact may be displaced from the inspection point, and the contact driving direction set in advance based on the reference logical positional relationship In addition, there is a problem that even if the contact is moved by the driving amount, it is not possible to contact the inspection point on the desired pad.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、コストの増加を抑制しつつ、検査時に接触子を確実に所望の検査点に接触させることのできる基板検査装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus capable of reliably bringing a contact into contact with a desired inspection point during inspection while suppressing an increase in cost. .

請求項1に記載の発明は、接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段とを備え、被検査基板の表面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置において、前記両接触子を前記配線パターンの各検査点に順次接触させるべく駆動する際の両接触子の駆動位置を、設計上の基準位置を基準とした位置データとして記憶する第1の記憶手段と、前記被検査基板の予め定められた位置に所定の形状で形成された第1のマークの画像を撮像すべく、前記一対のプローブユニットの一方のみに対してそれと一体的に駆動される撮像手段と、前記撮像手段の設計上予定された基準位置から、前記撮像手段の光軸と前記第1のマークの中心とが所定の位置関係となるように駆動されるまでの該撮像手段の予定駆動ベクトルのデータを記憶する第2の記憶手段と、前記撮像手段を、予定基準位置のデータに基づいて設定された基準位置から、その光軸と前記第1のマークの中心が前記所定の位置関係になる撮像画像が得られるまで駆動するのに必要な実駆動ベクトルを検出する第1の検出手段と、前記第2の記憶手段に記憶された予定駆動ベクトルと前記第1の検出手段により検出された実駆動ベクトルとを比較し、その比較結果に基づき、前記第1の記憶手段に記憶された位置データを補正する第1の補正手段と、所定位置に設定される基準基板の表面所定位置に周辺領域と電気的特性が異なる材料により所定の図形を表して形成された第2のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させ電気的に走査することにより発生する電気的な状態変化を検出し、その検出値から、前記接触子の設計上の基準位置に対する、該接触子が前記第2のマークの中心に位置するときの中心位置データを検出する第2の検出手段と、各接触子についての中心位置データに基づき、両接触子の相対位置関係を検出する第3の検出手段と、前記第3の検出手段によって検出された相対位置関係に基づいて、前記第1の記憶手段に記憶された各接触子の位置データを更に補正する第2の補正手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置である。 The invention according to claim 1 includes a pair of probe units each provided with a contact and driving means for independently driving each probe unit, and a wiring pattern formed on the surface of the substrate to be inspected. In a substrate inspection apparatus for inspecting the wiring pattern by bringing each contact into contact with an inspection point, the drive positions of both contacts when driving both the contacts to sequentially contact each inspection point of the wiring pattern Is stored as position data with reference to a design reference position, and an image of a first mark formed in a predetermined shape at a predetermined position of the substrate to be inspected is captured. order, an imaging unit which one is integrally driven with it only for the pair of the probe unit, the design planned reference position of the imaging means, wherein the optical axis of said image pickup means A second storage unit that stores data of a scheduled drive vector of the imaging unit until the center of the mark is driven to have a predetermined positional relationship; and the imaging unit is based on data of a scheduled reference position First detection means for detecting an actual drive vector necessary for driving from the reference position set in the above-described manner until a captured image in which the optical axis and the center of the first mark have the predetermined positional relationship is obtained. And the planned drive vector stored in the second storage means and the actual drive vector detected by the first detection means are compared, and based on the comparison result, stored in the first storage means First correction means for correcting position data, a second mark formed on the surface of the reference substrate set at a predetermined position by a material having a different electrical characteristic from the peripheral region, and a second mark formed thereon Zhou An electrical state change generated by moving each contactor in contact or non-contact and electrically scanning the region is detected, and from the detected value, a reference position on the design of the contact, Based on the second detection means for detecting the center position data when the contact is located at the center of the second mark and the center position data for each contact, the relative positional relationship between the contacts is detected. Third detection means; and second correction means for further correcting position data of each contact stored in the first storage means based on the relative positional relationship detected by the third detection means; a substrate inspection device characterized by comprising a.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板検査装置において、前記予定駆動ベクトル及び実駆動ベクトルは、それぞれの基準位置を原点とするベクトル先端の座標として記憶及び検出されることを特徴とするものである。   According to a second aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the first aspect, the scheduled drive vector and the actual drive vector are stored and detected as coordinates of a vector tip having the respective reference positions as origins. It is a feature.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の基板検査装置において、前記第1のマークは、少なくとも2つ、被検査基板の所定箇所に分散して形成され、前記第1の補正手段は、各第1のマークに対する実駆動ベクトルから被検査基板の中心を検出し、検出された中心と設計上の中心とのずれに応じて位置データの補正を行うことを特徴とするものである。 The invention according to claim 3, in a substrate inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein the first mark, at least two, are formed by dispersing a predetermined portion of the inspected substrate, said first The correcting means detects the center of the substrate to be inspected from the actual driving vector for each first mark, and corrects the position data according to the deviation between the detected center and the designed center. It is.

請求項4に記載の発明は、接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段を備え、被検査基板の板面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置において、前記両プローブユニットの所定の論理的基準位置における前記両接触子の所定の相対位置関係に基づいて予め設定された、前記配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させるために必要な各プローブユニットの前記所定の論理的基準位置からの論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データをそれぞれ記憶する第1の記憶手段と、所定位置に位置決めされた基準基板の板面の所定位置に、周辺領域と電気的特性の異なる材料により所定の図形を表した第1のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させることにより発生する前記接触子の電気的な状態変化を検出し、その状態変化を利用して前記第1のマークの中心位置を検出する第1の検出手段と、前記各接触子を実際の基準位置から前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記各プローブユニットの駆動量及び駆動方向を導出し、この駆動量及び駆動方向に基づきその基準位置における前記両接触子の実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データをそれぞれ補正する第1の補正手段とを備えることを特徴とするものである。 According to a fourth aspect of the present invention, a wiring pattern formed on a plate surface of a substrate to be inspected is provided with a pair of probe units each having a contact and driving means for independently driving the probe units. In the board inspection apparatus for inspecting the wiring pattern by bringing each contact into contact with an inspection point, presetting is performed based on a predetermined relative positional relationship between the two contacts at a predetermined logical reference position of the two probe units. The drive data on the logical drive amount and the drive direction from the predetermined logical reference position of each probe unit necessary for bringing each contact into contact with the inspection point of the wiring pattern is stored. A predetermined figure is made of a material having different electrical characteristics from the peripheral region at a predetermined position on the plate surface of the reference substrate positioned at the first storage means and the predetermined position. An electrical state change of the contact generated by moving each contactor in contact or non-contact with the first mark and its peripheral region is detected, and the first change is detected using the state change. First detection means for detecting a center position of one mark, and a drive amount and a drive direction of each probe unit to be driven to position each contactor at the center position from an actual reference position; Based on the driving amount and driving direction, the actual relative positional relationship between the two contacts at the reference position is detected in reverse calculation, and the probe unit is detected based on the actual relative positional relationship and the predetermined logical relative positional relationship. And a first correction unit that corrects each of the drive data .

請求項5に記載の発明は、請求項に記載の基板検査装置において、前記検査時に被検査基板の歪みに対する前記プローブユニットについての駆動データの補正を行うべく前記被検査基板の板面に形成された第2のマークの画像を撮像するようにプローブユニットの一方にのみ一体的に駆動されるように設けられた撮像手段と、前記プローブユニット及び前記撮像手段の所定の論理的基準位置における前記接触子と前記撮像手段との所定の論理的相対位置関係に基づいて予め設定された、前記所定の論理的基準位置からの前記第2のマークを撮像する位置に位置させるために必要な前記撮像手段の論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データを記憶する第2の記憶手段と、前記第1のマークを前記撮像手段に撮像させ、その撮像動作により得られた前記第1のマークの画像から該第1のマークの中心位置を検出する第2の検出手段と、前記プローブユニットについての実際の基準位置から前記接触子を前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記プローブユニットの駆動量及び駆動方向と、前記撮像手段についての基準位置から光軸を前記中心位置に位置させるために駆動すべく前記撮像手段の駆動量及び駆動方向とに基づき、各実際の基準位置における前記接触子と前記撮像手段との実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記接触子及び前記撮像手段の所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データを補正する第2の補正手段とを備えたことを特徴とするものである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the fourth aspect , the substrate inspection apparatus is formed on the plate surface of the substrate to be inspected so as to correct the drive data for the probe unit with respect to distortion of the substrate to be inspected during the inspection. Imaging means provided so as to be integrally driven by only one of the probe units so as to take an image of the second mark, and the probe unit and the imaging means at a predetermined logical reference position The imaging necessary for positioning the second mark from the predetermined logical reference position, which is set in advance based on a predetermined logical relative positional relationship between the contact and the imaging unit, at a position for imaging. A second storage unit that stores drive data about a logical driving amount and a driving direction of the unit; and the first mark is imaged by the imaging unit, and the imaging operation is performed. Second detection means for detecting a center position of the first mark from the obtained image of the first mark, and positioning the contactor at the center position from an actual reference position of the probe unit. Based on the driving amount and driving direction of the probe unit to be driven and the driving amount and driving direction of the imaging unit to drive the optical axis from the reference position with respect to the imaging unit to the central position. , Detecting the actual relative positional relationship between the contact and the imaging unit at each actual reference position in reverse, and based on the actual relative positional relationship and a predetermined logical relative positional relationship between the contact and the imaging unit And a second correction means for correcting drive data for the probe unit .

請求項6に記載の発明は、請求項4または5に記載の基板検査装置において、前記第1の検出手段は、円形状又は楕円形状の第1のマークとその周辺領域とが所定の電位差を有する状態で第1のマーク及びその周辺領域に対して前記各接触子を接触させつつ移動させることにより前記第1のマークの周縁部において発生する前記接触子の電位変化を検出し、その状態変化から第1のマークの周縁位置を検出し、該周縁位置から数学的に前記第1のマークの中心位置を検出するものであることを特徴とする基板検査装置である。 According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the fourth or fifth aspect, the first detection means has a predetermined potential difference between the circular or elliptical first mark and its peripheral region. And detecting a change in the potential of the contact generated at the peripheral portion of the first mark by moving the contact with the first mark and its peripheral region in contact with the first mark. In this case, the peripheral position of the first mark is detected, and the center position of the first mark is mathematically detected from the peripheral position .

請求項7に記載の発明は、接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段とを備え、被検査基板の表面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置の位置調整方法において、前記両接触子を前記配線パターンの各検査点に順次接触させるべく駆動する際の両接触子の駆動位置を、設計上の基準位置を基準とした位置データとして記憶し、前記一対のプローブユニットの一方のみに対してそれと一体的に駆動される撮像手段により、前記被検査基板の予め定められた位置に所定の形状で形成された第1のマークの画像を撮像し、前記撮像手段の設計上予定された基準位置から、前記撮像手段の光軸と前記第1のマークの中心とが所定の位置関係となるように駆動されるまでの撮像手段の予定駆動ベクトルのデータを記憶し、前記撮像手段を、予定基準位置のデータに基づいて設定された基準位置から、その光軸と前記第1のマークの中心が前記所定の位置関係になる撮像画像が得られるまで駆動するのに必要な実駆動ベクトルを検出し、前記記憶された予定駆動ベクトルと前記検出された実駆動ベクトルとを比較し、その比較結果に基づき、前記記憶された位置データを補正し、所定位置に設定される基準基板の表面所定位置に周辺領域と電気的特性が異なる材料により所定の図形を表して形成された第2のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させ電気的に走査することにより発生する電気的な状態変化を検出し、その検出値から、前記接触子の設計上の基準位置に対する、該接触子が前記第2のマークの中心に位置するときの中心位置データを検出し、各接触子についての中心位置データに基づき、両接触子の相対位置関係を検出し、前記検出された相対位置関係に基づいて、前記各接触子の位置データを更に補正することを特徴とする位置調整方法である。 According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a wiring pattern formed on a surface of a substrate to be inspected, comprising a pair of probe units each provided with a contact and driving means for independently driving the probe units. In the position adjustment method of the substrate inspection apparatus for inspecting the wiring pattern by bringing each contact into contact with an inspection point, both contacts when driving the both contacts to sequentially contact each inspection point of the wiring pattern The driving position of the child is stored as position data with reference to the design reference position, and the substrate to be inspected is determined in advance by imaging means that is driven integrally with only one of the pair of probe units. An image of a first mark formed in a predetermined shape at a predetermined position is picked up, and the optical axis of the image pickup means and the first position are determined from a reference position that is scheduled in the design of the image pickup means. The data of the scheduled drive vector of the imaging means until it is driven so as to have a predetermined positional relationship with the center of the peak is stored, and the imaging means is stored from the reference position set based on the data of the scheduled reference position. Detecting an actual drive vector necessary for driving until a captured image having the predetermined positional relationship between the optical axis and the center of the first mark is obtained, and detecting the stored scheduled drive vector and the detected The actual drive vector is compared, and based on the comparison result, the stored position data is corrected. Detecting an electrical state change generated by electrically scanning the second mark formed around the second mark and its peripheral region by moving each contactor in contact or non-contact; From the detected value, the center position data when the contact is located at the center of the second mark with respect to the design reference position of the contact is detected, and based on the center position data for each contact, The position adjustment method is characterized in that the relative positional relationship between the two contacts is detected, and the position data of each contact is further corrected based on the detected relative positional relationship .

請求項8に記載の発明は、接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段を備え、被検査基板の板面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置の位置調整方法において、前記両プローブユニットの所定の論理的基準位置における前記両接触子の所定の相対位置関係に基づいて予め設定された、前記配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させるために必要な各プローブユニットの前記所定の論理的基準位置からの論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データをそれぞれ記憶し、所定位置に位置決めされた基準基板の板面の所定位置に、周辺領域と電気的特性の異なる材料により所定の図形を表した第1のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させることにより発生する前記接触子の電気的な状態変化を検出し、その状態変化を利用して前記第1のマークの中心位置を検出し、前記各接触子を実際の基準位置から前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記各プローブユニットの駆動量及び駆動方向を導出し、この駆動量及び駆動方向に基づきその基準位置における前記両接触子の実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データをそれぞれ補正することを特徴とするものである。 According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a pair of probe units each having a contact and driving means for independently driving the probe units, and a wiring pattern formed on a plate surface of a substrate to be inspected. In a position adjustment method of a substrate inspection apparatus that inspects the wiring pattern by bringing each contact into contact with an inspection point, a predetermined relative positional relationship between the two contacts at a predetermined logical reference position of the two probe units. Drive data on the logical drive amount and drive direction from the predetermined logical reference position of each probe unit necessary for bringing each contact into contact with the inspection point of the wiring pattern set in advance Each figure is stored, and a predetermined figure is represented at a predetermined position on the plate surface of the reference substrate positioned at a predetermined position by a material having a different electrical characteristic from the surrounding area. An electrical state change of the contact generated by moving the contacts in contact or non-contact with respect to the first mark and its peripheral region is detected, and the first change is detected using the state change. The center position of each mark is detected, the drive amount and the drive direction of each probe unit to be driven to position each contactor at the center position from the actual reference position, and the drive amount and drive direction are derived. The actual relative positional relationship between the two contacts at the reference position is detected based on the reverse, and the driving data for the probe unit is corrected based on the actual relative positional relationship and the predetermined logical relative positional relationship. It is characterized by.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の位置調整方法において、撮像手段を、前記検査時に被検査基板の歪みに対する前記プローブユニットについての駆動データの補正を行うべく前記被検査基板の板面に形成された第2のマークの画像を撮像するようにプローブユニットのそれぞれと一体的に駆動させるとともに、前記プローブユニット及び前記撮像手段の所定の論理的基準位置における前記接触子と前記撮像手段との所定の論理的相対位置関係に基づいて予め設定された、前記所定の論理的基準位置からの前記第2のマークを撮像する位置に位置させるために必要な前記撮像手段の論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データを記憶し、前記第1のマークを前記撮像手段に撮像させ、その撮像動作により得られた前記第1のマークの画像から該第1のマークの中心位置を検出し、前記プローブユニットについての実際の基準位置から前記接触子を前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記プローブユニットの駆動量及び駆動方向と、前記撮像手段についての基準位置から光軸を前記中心位置に位置させるために駆動すべく前記撮像手段の駆動量及び駆動方向とに基づき、各実際の基準位置における前記接触子と前記撮像手段との実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記接触子及び前記撮像手段の所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データを補正することを特徴とするものである。 According to a ninth aspect of the present invention, in the position adjustment method according to the eighth aspect, the imaging unit is configured to correct the drive data for the probe unit with respect to distortion of the inspected substrate during the inspection. The probe unit and the imaging unit are driven integrally with each of the probe units so as to capture an image of the second mark formed on the plate surface, and the contactor and the imaging unit at a predetermined logical reference position of the probe unit and the imaging unit. A logical position of the imaging means necessary for positioning the second mark from the predetermined logical reference position, which is set in advance based on a predetermined logical relative positional relationship with the means, at a position for imaging. Drive data for the drive amount and drive direction is stored, the first mark is picked up by the image pickup means, and the first map obtained by the image pickup operation is stored. The drive amount and drive direction of the probe unit to be driven to detect the center position of the first mark from the image of the mark and position the contactor at the center position from the actual reference position of the probe unit And the contactor and the imaging unit at each actual reference position based on the driving amount and driving direction of the imaging unit to drive the optical axis from the reference position with respect to the imaging unit to the central position. The actual relative positional relationship between the probe unit and the probe unit is corrected based on the actual relative positional relationship and a predetermined logical relative positional relationship between the contactor and the imaging unit. To do.

請求項1,に記載の発明によれば、接触子の交換等により、一体的に移動する接触子の先端部と撮像手段との相対位置関係がずれていたり、被検査基板の製造過程において配線パターン及びその検査点が設計値からずれたりしても、そのずれに応じて、設計上の基準位置を基準にして設定された接触子の駆動位置を示す位置データが補正される。したがって、例えば、配線を形成する際の熱の影響などで、配線パターン及びその検査点が設計値からずれた場合でも、接触子の先端部と被検査基板との相対位置関係のずれを容易に補うことができ、検査時において確実に接触子を所望の検査点に接触させることができる。 According to the first and seventh aspects of the present invention, the relative positional relationship between the tip portion of the contactor that moves integrally and the imaging means is shifted due to replacement of the contactor, etc. Even if the wiring pattern and its inspection point are deviated from the design value, the position data indicating the drive position of the contact set based on the design reference position is corrected according to the deviation. Therefore, for example, even when the wiring pattern and its inspection point deviate from the design value due to the influence of heat when forming the wiring, the relative positional relationship between the tip of the contact and the substrate to be inspected can be easily shifted. It is possible to compensate, and the contact can be reliably brought into contact with a desired inspection point at the time of inspection.

また、接触子の交換等により、接触子の先端部間の相対位置関係がずれても、設計上の基準位置を基準にして設定された各接触子の駆動位置を示す位置データが、接触子と一体的に移動する撮像手段を用いて補正される。したがって、検査時において確実に接触子を所望の検査点に接触させることができる。また、従来のように感圧紙を用いないため、コストの増加も抑制される。さらに、撮像手段は、プローブユニットの一方のみに備えられているので負荷が少なく、高速の検査が可能である。In addition, even if the relative positional relationship between the tip portions of the contacts is shifted due to replacement of the contacts, the position data indicating the driving position of each contact set with reference to the design reference position is displayed. Is corrected by using an image pickup unit that moves integrally. Therefore, the contact can be reliably brought into contact with a desired inspection point at the time of inspection. Further, since pressure sensitive paper is not used as in the prior art, an increase in cost is also suppressed. Furthermore, since the imaging means is provided only in one of the probe units, the load is small and high-speed inspection is possible.

請求項2に記載の発明によれば、接触子の駆動位置を示す位置データが各基準位置を原点とする座標系における座標を示すものとして記憶及び検出され、接触子は、補正された座標の位置に駆動され、高精度、高効率で検査点に順次接触させられる。   According to the second aspect of the present invention, the position data indicating the drive position of the contact is stored and detected as indicating the coordinates in the coordinate system with each reference position as the origin, and the contact is Driven to the position, the test points are sequentially brought into contact with high accuracy and high efficiency.

請求項3に記載の発明によれば、基板の中心を検出し、それに基づいて補正を行うので、補正がより正確になる。   According to the invention described in claim 3, since the center of the substrate is detected and the correction is performed based on the detected center, the correction becomes more accurate.

請求項に記載の発明によれば、接触子の交換等により、接触子間の相対位置関係がずれても、そのずれに応じて、検査時における各接触子の駆動量及び駆動方向を自動的に補正するようにしたので、接触子間の相対位置関係のずれを容易に補うことができ、検査時において確実に接触子を所望の検査点に接触させることができる。また、従来のように感圧紙を用いないため、コストの増加も抑制される。 According to the inventions described in claims 4 and 8 , even if the relative positional relationship between the contacts is deviated due to the exchange of the contacts, etc., the drive amount and the drive direction of each contact at the time of inspection according to the deviation. Is automatically corrected, the relative positional relationship between the contacts can be easily compensated, and the contacts can be reliably brought into contact with a desired inspection point during the inspection. Further, since pressure sensitive paper is not used as in the prior art, an increase in cost is also suppressed.

請求項に記載の発明によれば、検査時に被検査基板の歪みに対するプローブユニットの駆動量及び駆動方向の補正を行うべく前記被検査基板の板面に第2のマークを形成し、且つその第2のマークの画像を撮像する撮像手段をプローブユニットの一方と一体的に駆動させるようにしたので、接触子の交換等により、一体的に移動する接触子の先端部と撮像手段との相対位置関係がずれていたり、被検査基板の製造過程において配線パターン及びその検査点が設計値からずれたりしても、そのずれに応じて、各プローブユニットについての駆動データが補正される。したがって、検査時において確実に接触子を所望の検査点に接触させることができる。さらに、撮像手段は、プローブユニットの一方のみに備えられているので負荷が少なく、高速の検査が可能である。 According to the inventions of claims 5 and 9 , the second mark is formed on the plate surface of the substrate to be inspected so as to correct the driving amount and the driving direction of the probe unit against the distortion of the substrate to be inspected at the time of inspection, In addition, since the image pickup means for picking up the image of the second mark is driven integrally with one of the probe units, the tip of the contact piece and the image pickup means that move integrally by exchanging the contact pieces, etc. Even if the relative positional relationship is deviated or the wiring pattern and its inspection point are deviated from the design value in the manufacturing process of the substrate to be inspected, the drive data for each probe unit is corrected according to the deviation. Therefore, the contact can be reliably brought into contact with a desired inspection point at the time of inspection. Furthermore, since the imaging means is provided only in one of the probe units, the load is small and high-speed inspection is possible.

請求項に記載の発明によれば、容易に第1のマークの中心位置を検出することができる。 According to the sixth aspect of the invention, the center position of the first mark can be easily detected.

以下、本発明に係る実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、その説明の重複を避ける。   Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the structure which attached | subjected the same code | symbol in each figure shows that it is the same structure, and avoids duplication of the description.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る基板検査装置1の構成を示す断面図である。図1に示す断面図は、被検査基板100がワークホルダ2によって検査位置に保持された状態で被検査基板100の中央付近を切断する横断面から見た基板検査装置1の要部の断面を示している。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a substrate inspection apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention. The cross-sectional view shown in FIG. 1 shows a cross-section of the main part of the substrate inspection apparatus 1 as viewed from a transverse cross section in which the vicinity of the center of the substrate to be inspected 100 is cut while the substrate to be inspected 100 is held at the inspection position by the work holder 2. Show.

図1に示すように、基板検査装置1は、それぞれ接触子3,4を備えたX軸、Y軸及びZ軸の3軸方向に移動可能なプローブユニット5,6と、被検査基板100を接触子3,4に圧接するための押さえ板7と、押さえ板7を上下に昇降する昇降機構8と、カメラ9と、後述する制御部10(図3参照)とを備える。   As shown in FIG. 1, the substrate inspection apparatus 1 includes probe units 5 and 6 that are movable in three axial directions of an X axis, a Y axis, and a Z axis, each having contacts 3 and 4, and a substrate 100 to be inspected. A presser plate 7 for press-contacting the contacts 3 and 4, an elevating mechanism 8 for raising and lowering the presser plate 7 up and down, a camera 9, and a control unit 10 (see FIG. 3) described later are provided.

プローブユニット5,6は、駆動機構16,17(図3参照)によりそれぞれ独立してX軸、Y軸及びZ軸方向へ駆動可能に支持されており、それぞれ後述の制御部10からの制御信号によりX軸、Y軸及びZ軸方向に駆動制御される。   The probe units 5 and 6 are supported by driving mechanisms 16 and 17 (see FIG. 3) so as to be independently driven in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions, and control signals from the control unit 10 described later. Thus, drive control is performed in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions.

すなわち、プローブユニット5,6は、まず、所定の検査位置に位置決めされた被検査基板100の平面と平行な平面上で駆動され、X軸及びY軸方向において被検査基板100上の検査点に相当する位置に移動される。その後、被検査基板100に向かうZ軸方向に駆動され、接触子3,4が、前記検査点に弾性的に接触する。なお、被検査基板100は、基板検査装置1において水平又は垂直に保持される。また、被検査基板100の検査点は基板表面に露出しているが、配線パターンは全てが基板表面に露出しているとは限らない。   That is, the probe units 5 and 6 are first driven on a plane parallel to the plane of the substrate 100 to be inspected positioned at a predetermined inspection position, and set to inspection points on the substrate 100 to be inspected in the X-axis and Y-axis directions. It is moved to the corresponding position. Then, it drives to the to-be-inspected board | substrate 100 in the Z-axis direction, and the contacts 3 and 4 elastically contact the said test | inspection point. The inspected substrate 100 is held horizontally or vertically in the substrate inspection apparatus 1. Further, although the inspection points of the substrate 100 to be inspected are exposed on the substrate surface, not all the wiring patterns are exposed on the substrate surface.

このようにして選択された被検査基板100上の任意の2検査点間に所定の検査用信号を与えたときに流れる電流から抵抗値を測定することにより、検査対象の配線パターンの抵抗値に基づいてその配線パターンが導通していることを検査する導通検査や、検査対象の配線パターンと他の配線パターンとの間の抵抗値に基づいて検査対象の配線パターンと他の配線パターンとの間の短絡の有無を検査する絶縁検査が実行される。   The resistance value of the wiring pattern to be inspected is measured by measuring the resistance value from the current that flows when a predetermined inspection signal is applied between any two inspection points on the inspected substrate 100 selected in this way. Based on the continuity inspection that inspects that the wiring pattern is conductive based on the resistance value between the wiring pattern to be inspected and another wiring pattern, between the wiring pattern to be inspected and the other wiring pattern Insulation inspection is performed to inspect for the presence or absence of short circuits.

カメラ9は、対物レンズとCCD(charge coupled device)等の図略の撮像素子等を備えて構成され、ワークホルダ2により構成される保持面Sにその光軸Lが垂直に交差するように、プローブユニット5と一体的に移動可能に取り付けられている。   The camera 9 is configured to include an objective lens and an imaging device (not shown) such as a CCD (charge coupled device), and the optical axis L of the holding surface S formed by the work holder 2 intersects perpendicularly. The probe unit 5 and the probe unit 5 are attached so as to be movable.

被検査基板100には、配線パターン形成時の熱的、機械的ストレス等によってその板面に沿った方向に歪みが生じ、図2の点線で示すように、該基板100上に形成される後述の配線パターンに設計値からの角度(向き)ずれが生じている場合がある。このように被検査基板100に歪みが生じていると、設計上の駆動方向及び駆動量(以下、これらをまとめたものを駆動ベクトルという)で接触子3,4を移動させても該接触子3,4を所望の検査点に接触させることができない。   The substrate to be inspected 100 is distorted in the direction along the plate surface due to thermal and mechanical stresses at the time of forming the wiring pattern, and will be described later formed on the substrate 100 as shown by the dotted line in FIG. In some cases, an angle (orientation) shift from the design value occurs in the wiring pattern. When the substrate 100 to be inspected is distorted as described above, even if the contacts 3 and 4 are moved in a design drive direction and drive amount (hereinafter, a combination of these is referred to as a drive vector), the contact 3 and 4 cannot be brought into contact with a desired inspection point.

そこで、被検査基板100に生じている歪みに応じて前記設計上の駆動ベクトルを補正するため、カメラ9は、被検査基板100の歪みを検出するために備えられたものである。カメラ9は、被検査基板100の歪みを検出するべく被検査基板100の表面に形成された後述のアライメントマークM1,M2(図2参照)を撮像し、その撮像動作により得られた画像を制御部10に送出する。被検査基板100に歪みが発生している場合には、歪みのない基準検査基板100を基準として設計上又は理論上予め設定され記憶された該被検査基板100の中心座標に対し、撮像画像から算出される被検査基板100の実際の中心位置がその歪みの程度に応じてずれることから、これを利用して、制御部10は、前記アライメントマークM1,M2の撮像画像に基づき被検査基板100の歪み率を検出する。   Therefore, the camera 9 is provided to detect the distortion of the inspected substrate 100 in order to correct the designed drive vector according to the distortion generated in the inspected substrate 100. The camera 9 images alignment marks M1 and M2 (see FIG. 2), which will be described later, formed on the surface of the inspected substrate 100 in order to detect distortion of the inspected substrate 100, and controls an image obtained by the imaging operation. Send to unit 10. In the case where distortion occurs in the inspected substrate 100, from the captured image with respect to the center coordinates of the inspected substrate 100 that are preset and stored theoretically or theoretically with reference to the reference inspection substrate 100 without distortion. Since the actual center position of the calculated substrate 100 to be inspected is shifted according to the degree of the distortion, the control unit 10 utilizes this based on the captured images of the alignment marks M1 and M2. Detect the distortion rate.

図2は、被検査基板100の表面の配線の一例を示す正面図である。   FIG. 2 is a front view showing an example of the wiring on the surface of the substrate 100 to be inspected.

図2に示すように、被検査基板100の表面101には、例えばIC(Integrated Circuit)の接続端子を接続するための複数のパッドP1〜P7を有する複数の配線パターンN1〜N3が形成されている。前記導通検査や絶縁検査は、接触子3,4をこのパッドP1〜P7の中心位置に接触させた状態で行われる。   As shown in FIG. 2, a plurality of wiring patterns N1 to N3 having a plurality of pads P1 to P7 for connecting connection terminals of, for example, an IC (Integrated Circuit) are formed on the surface 101 of the inspected substrate 100. Yes. The continuity test and the insulation test are performed in a state where the contacts 3 and 4 are in contact with the center positions of the pads P1 to P7.

また、本実施形態においては、被検査基板100には、該被検査基板100の歪みを検出するためのアライメントマークM1,M2が適所に形成されている。なお、アライメントマークM1,M2は、それらの位置から被検査基板100の中心位置が導出されるよう、被検査基板100が前記保持面Sに載置されたときにX軸方向及びY軸方向の両方向において異なる位置に位置するように形成されている。なお、被検査基板100の中心位置を更に正確に導出するためにアライメントマークを3つ以上形成してもよい。   In the present embodiment, alignment marks M1 and M2 for detecting distortion of the substrate to be inspected 100 are formed on the inspected substrate 100 at appropriate positions. The alignment marks M1 and M2 are arranged in the X-axis direction and the Y-axis direction when the inspected substrate 100 is placed on the holding surface S so that the center position of the inspected substrate 100 is derived from these positions. It is formed so as to be located at different positions in both directions. Note that three or more alignment marks may be formed in order to derive the center position of the inspected substrate 100 more accurately.

被検査基板100にその板面に沿った方向に歪みが生じていると、そのアライメントマークM1,M2の位置は、該歪みの無い被検査基板100のアライメントマークM1,M2の位置と一致せず、よって、被検査基板100の中心位置も歪みの無い被検査基板100の中心位置からずれる。また、基板検査装置1の機械的製造・組み立て誤差もこのずれに影響する。したがって、検査対象の被検査基板100の中心位置と、歪みの無い被検査基板100の中心位置との離間方向及び離間距離を検出し、それらに基づいてプローブユニット5,6についての設計上の駆動ベクトルを補正することで、接触子3,4を検査対象のパッドの中心位置に接触させるようにしている。   If the inspected substrate 100 is distorted in the direction along the plate surface, the positions of the alignment marks M1, M2 do not coincide with the positions of the alignment marks M1, M2 of the inspected substrate 100 without the distortion. Therefore, the center position of the inspected substrate 100 is also shifted from the center position of the inspected substrate 100 without distortion. In addition, mechanical manufacturing / assembly errors of the substrate inspection apparatus 1 also affect this deviation. Accordingly, the separation direction and the separation distance between the center position of the inspection target substrate 100 to be inspected and the center position of the inspection target substrate 100 without distortion are detected, and the design drive for the probe units 5 and 6 is based on them. By correcting the vector, the contacts 3 and 4 are brought into contact with the center position of the pad to be inspected.

例えば、検査位置に載置された歪みの無い被検査基板100の中心座標を、前記X軸及びY軸により構成される2次元座標系において(X0,Y0)とし、接触子3を初期位置からX軸正方向にX1、Y軸正方向にY1だけ駆動すると、接触子3をその被検査基板100のパッドPxの中心位置に対応する位置に位置させることができるものとして設計上予め設定したものとする。   For example, the center coordinates of the inspected substrate 100 placed at the inspection position without distortion is set to (X0, Y0) in the two-dimensional coordinate system constituted by the X axis and the Y axis, and the contact 3 is moved from the initial position. Designed in advance so that the contact 3 can be positioned at a position corresponding to the center position of the pad Px of the substrate 100 to be inspected when driven by X1 in the X-axis positive direction and Y1 in the Y-axis positive direction. And

この場合において、例えば、実際の被検査基板の中心座標が(X0+Δx,Y0+Δy)と検出されたものとすると、その被検査基板100の中心座標がX軸方向にΔx、Y軸方向にΔyだけ前記基準の中心位置(X0,Y0)からずれている。したがって、歪みが発生している被検査基板100の前記パッドPxの中心位置に対応する位置に接触子3を接触させるため、接触子3の設計上の駆動ベクトルについて、X軸正方向にΔx分補正するとともにY軸正方向にΔy分補正し、その接触子3を、X軸正方向に(X1+Δx)、Y軸正方向に(Y1+Δy)だけ駆動することとなる。   In this case, for example, if the actual center coordinates of the inspected substrate are detected as (X0 + Δx, Y0 + Δy), the center coordinates of the inspected substrate 100 are Δx in the X-axis direction and Δy in the Y-axis direction. There is a deviation from the reference center position (X0, Y0). Therefore, in order to bring the contact 3 into contact with the position corresponding to the center position of the pad Px of the inspected substrate 100 in which distortion occurs, the design drive vector of the contact 3 is Δx minutes in the X-axis positive direction. Correction and correction by Δy in the Y-axis positive direction are performed, and the contact 3 is driven by (X1 + Δx) in the X-axis positive direction and (Y1 + Δy) in the Y-axis positive direction.

図3は、基板検査装置100の電気的な構成を示すブロック図である。   FIG. 3 is a block diagram showing an electrical configuration of the substrate inspection apparatus 100.

図3において、プローブユニット5,6及びカメラ9は、図1に示すプローブユニット5,6及びカメラ9に相当するものであり、このプローブユニット5,6及びカメラ9は、図略の配線ケーブル等により制御部10に電気的に接続されている。   In FIG. 3, probe units 5 and 6 and camera 9 correspond to probe units 5 and 6 and camera 9 shown in FIG. Is electrically connected to the control unit 10.

制御部10は、基板検査装置1全体の動作を司るものであり、例えば基板検査装置1の動作を制御するための制御プログラム等を記憶するROM(Read Only Memory)、一時的にデータを保管するRAM(Random Access Memory)等からなる記憶部12、及び制御プログラム等をROMから読み出して実行するマイクロコンピュータ等から構成されている。制御部10は、前述のアライメントマークM1,M2を用いた歪み補正及び導通検査等の検査を実行する検査制御部11としての機能を有する。   The control unit 10 controls the overall operation of the substrate inspection apparatus 1. For example, a ROM (Read Only Memory) that stores a control program for controlling the operation of the substrate inspection apparatus 1 and temporarily stores data. The storage unit 12 includes a RAM (Random Access Memory) and the like, and a microcomputer that reads a control program from the ROM and executes the program. The control unit 10 has a function as an inspection control unit 11 that executes inspections such as distortion correction and continuity inspection using the alignment marks M1 and M2.

ここで、基板検査装置1による基板検査方法について説明する。図4は、基板検査装置1による基板検査方法を示すフローチャートである。   Here, a substrate inspection method by the substrate inspection apparatus 1 will be described. FIG. 4 is a flowchart showing a substrate inspection method performed by the substrate inspection apparatus 1.

図4に示すように、まず、検査対象である被検査基板100が所定の検査位置にセットされ、基板検査の開始が指示されると(ステップ♯1でYES)、検査制御部11は、設計上の駆動ベクトルに基づきカメラ9を所定の位置まで駆動し、その位置で被検査基板100に形成されたアライメントマークM1,M2をカメラ9に撮像させるとともに、その撮像画像から被検査基板100の歪み率を算出し、この歪み率に応じて設計上の接触子3,4の駆動ベクトルを示す駆動データを補正する(ステップ♯2)。   As shown in FIG. 4, first, when the inspected substrate 100 to be inspected is set at a predetermined inspection position and the start of substrate inspection is instructed (YES in Step # 1), the inspection control unit 11 performs design. Based on the above driving vector, the camera 9 is driven to a predetermined position, the alignment marks M1 and M2 formed on the inspected substrate 100 at that position are imaged by the camera 9, and the distortion of the inspected substrate 100 is determined from the captured image. The rate is calculated, and the drive data indicating the drive vector of the designed contacts 3 and 4 is corrected according to the distortion rate (step # 2).

なお、カメラ9は、アライメントマークM1,M2の撮像に当たって、アライメントマークM1,M2それぞれについて、その中心とカメラ9の光軸とが一致する必要は無く、アライメントマークM1,M2がカメラ9の撮像視野に入る位置までカメラ9が駆動され、そのときのカメラ9の位置と、アライメントマークM1,M2の像と撮像視野又はカメラ9の光軸Lとの関係の情報が得られていれば、それらの情報から、カメラ9が、基準位置からその光軸LとアライメントマークM1,M2の中心とが一致するまでの実駆動ベクトルが求められる。   When the camera 9 captures the alignment marks M1 and M2, the center of the alignment marks M1 and M2 does not have to coincide with the optical axis of the camera 9, and the alignment marks M1 and M2 are the imaging field of view of the camera 9. If the camera 9 is driven to the position where it enters, and information on the relationship between the position of the camera 9 at that time and the images of the alignment marks M1 and M2 and the imaging field of view or the optical axis L of the camera 9 is obtained. From the information, the camera 9 obtains an actual drive vector from the reference position until the optical axis L coincides with the centers of the alignment marks M1 and M2.

そして、検査制御部11は、補正後の駆動データに基づき、プローブユニット5,6をX軸、Y軸及びZ軸方向それぞれに駆動して(ステップ♯3)、接触子3,4を2検査点、例えば図2におけるパッドP1とP2との各中心位置に接触させて検査(導通検査及び絶縁検査等)を実行する(ステップ♯4)。   Then, the inspection control unit 11 drives the probe units 5 and 6 in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions based on the corrected drive data (step # 3), and the contacts 3 and 4 are subjected to two inspections. On the other hand, for example, inspection (continuity inspection, insulation inspection, etc.) is performed in contact with the center positions of the pads P1 and P2 in FIG. 2 (step # 4).

その結果、検査制御部11は不良と判断すると(ステップ♯5でNO)、当該基板検査装置1に接続されている図略のモニタに、当該被検査基板100が不良品である旨の表示を行う(ステップ♯8)。一方、検査制御部11は良好と判断すると(ステップ♯5でYES)、全ての配線パターンについて検査が終了したか否かを判定する(ステップ♯6)。   As a result, when the inspection control unit 11 determines that it is defective (NO in step # 5), a display indicating that the substrate 100 to be inspected is defective is displayed on a monitor (not shown) connected to the substrate inspection apparatus 1. Perform (Step # 8). On the other hand, when the inspection control unit 11 determines that the inspection is good (YES in Step # 5), it determines whether or not the inspection has been completed for all the wiring patterns (Step # 6).

検査すべき配線パターンが残っている場合には(ステップ♯6でNO)、ステップ♯3
に戻り、全ての配線パターンについて検査が終了すると(ステップ♯6でYES)、前記モニタに当該被検査基板100が良品である旨の表示を行う(ステップ♯7)。
If the wiring pattern to be inspected remains (NO in step # 6), step # 3
Returning to step S4, when all the wiring patterns have been inspected (YES in step # 6), the monitor displays that the inspected substrate 100 is non-defective (step # 7).

ところで、このようなプローブユニット5,6を用いて被検査基板100の検査を行う基板検査装置1においては、例えば接触子3,4の疲労や消耗等により該接触子3,4の交換が行われると、通常、接触子3,4の先端部の相対位置関係が交換前と交換後とでずれる。また、その接触子3,4の交換によって接触子3,4の先端部とカメラ9との相対位置関係も交換前と交換後とでずれる。   By the way, in the board inspection apparatus 1 that inspects the board to be inspected 100 using such probe units 5 and 6, the contacts 3 and 4 are exchanged due to fatigue or wear of the contacts 3 and 4, for example. As a result, the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4 usually deviates before and after replacement. In addition, by exchanging the contacts 3 and 4, the relative positional relationship between the tip of the contacts 3 and 4 and the camera 9 is also shifted before and after the replacement.

このように、接触子3,4の交換等により接触子3,4の相対位置関係や接触子3,4の先端部とカメラ9との相対位置関係が変化すると、プログラムにより予め設定されている設計上の駆動ベクトルでプローブユニット5,6を駆動しても、その接触子3,4の少なくとも一方が所望のパッドの中心位置に接触せず、図4に示すフローチャートのステップ♯2で行った歪み補正も適切に反映されなくなり、導通検査等の検査が正確に行えなくなる。   As described above, when the relative positional relationship between the contactors 3 and 4 and the relative positional relationship between the tip of the contactors 3 and 4 and the camera 9 are changed by exchanging the contactors 3 and 4 or the like, it is preset by a program. Even when the probe units 5 and 6 are driven with a design drive vector, at least one of the contacts 3 and 4 does not come into contact with the center position of the desired pad, and this is performed in step # 2 of the flowchart shown in FIG. Distortion correction is not properly reflected and inspection such as continuity inspection cannot be performed accurately.

そこで、本実施形態では、前述の導通検査や絶縁検査の際、接触子3,4がパッドP1〜P7の中心位置に接触するようにするため、導通検査等の検査を行う前に、接触子3,4の交換により接触子3,4の先端部の相対位置関係やカメラ9と接触子3,4の先端部との相対位置関係の変化を検出し、その相対位置関係の変化に応じて、接触子3,4及びカメラ9の移動制御についてそれぞれ予め設定された設計上の駆動ベクトルを補正するようにしている。   Therefore, in the present embodiment, the contactors 3 and 4 are brought into contact with the center positions of the pads P1 to P7 at the time of the above-described continuity test and insulation test. 3 and 4 are exchanged to detect the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4 and the relative positional relationship between the camera 9 and the tips of the contacts 3 and 4, and according to the change in the relative positional relationship The design drive vectors set in advance for the movement control of the contacts 3 and 4 and the camera 9 are corrected.

そして、その補正方法として、本実施形態では、キャリブレーションボード(補正用の基準基板)に特定の図形(ここでは円形)を表した補正マークM3(図6参照)を形成し、この補正マークM3を用いて前記補正を行うようにしている。以下、この補正方法について詳述する。   As a correction method, in this embodiment, a correction mark M3 (see FIG. 6) representing a specific figure (here, a circle) is formed on a calibration board (a reference substrate for correction), and this correction mark M3 is formed. The correction is performed by using. Hereinafter, this correction method will be described in detail.

制御部10には、接触子3,4を補正マークM3の中心に接触させるための接触子3,4の駆動ベクトルと、カメラ9の光軸Lが補正マークM3の中心を通るようにカメラ10を位置させるためのカメラ9の駆動ベクトルとが、設計上の駆動ベクトルとして予め記憶されている。   The control unit 10 includes the camera 10 so that the drive vector of the contacts 3 and 4 for bringing the contacts 3 and 4 into contact with the center of the correction mark M3 and the optical axis L of the camera 9 pass through the center of the correction mark M3. The drive vector of the camera 9 for positioning is stored in advance as a design drive vector.

そして、例えば接触子3,4の交換後、後述する探索方法により補正マークM3の中心位置を接触子3,4で探索し、その接触子3,4を補正マークM3の中心位置に位置させるために必要な接触子3,4の設計上の基準位置からの駆動ベクトルを導出し、この導出結果と前記予め記憶されている接触子3,4の設計上(論理的)駆動ベクトルとのずれを検出する。そして、このずれに基づいて、検査時に接触子3,4を各パッドP1〜P7の中心位置に接触させるべく予め記憶されている設計上の接触子3,4の駆動ベクトルを補正する。   For example, after exchanging the contacts 3 and 4, the center position of the correction mark M3 is searched by the contacts 3 and 4 by a search method described later, and the contacts 3 and 4 are positioned at the center position of the correction mark M3. The drive vector from the design reference position of the contacts 3 and 4 necessary for the operation is derived, and the deviation between the derived result and the design (logical) drive vector of the contacts 3 and 4 stored in advance is calculated. To detect. Based on this deviation, the design drive vector of the designed contacts 3 and 4 stored in advance is corrected so that the contacts 3 and 4 are brought into contact with the center positions of the pads P1 to P7 at the time of inspection.

これにより、検査時には、接触子3,4の先端部の相対位置関係のずれを加味して前記歪み補正が行われる。   Thereby, at the time of inspection, the distortion correction is performed in consideration of a shift in the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4.

これと同様にして、カメラ9と接触子3との相対位置関係のずれに対しても補正を行う。すなわち、カメラ9に前記補正マークM3を撮像させ、その撮像画像から補正マークM3の中心位置を検出する。カメラ9の光軸Lが補正マークM3の中心を通るようにカメラ9を位置させるのに必要なカメラ9の基準位置からの実駆動ベクトルを導出し、この導出結果と前記予め記憶されているカメラ9の設計上又は論理的駆動ベクトルとのずれを検出し、このずれに基づいて、検査時に接触子3,4を各パッドに接触させるべく予め記憶されている接触子3,4の駆動ベクトルを補正する。これにより、接触子3又は接触子4の先端部とカメラ9との相対位置関係のずれを加味して前記歪み補正が行われる。   In the same manner, correction is also performed for a shift in the relative positional relationship between the camera 9 and the contact 3. That is, the camera 9 is caused to capture the correction mark M3, and the center position of the correction mark M3 is detected from the captured image. An actual drive vector from the reference position of the camera 9 necessary for positioning the camera 9 so that the optical axis L of the camera 9 passes through the center of the correction mark M3 is derived, and the result of the derivation and the previously stored camera 9 detects a deviation from the design or logical drive vector of 9, and based on this deviation, the drive vector of the contact 3, 4 stored in advance to bring the contact 3, 4 into contact with each pad at the time of inspection is determined. to correct. As a result, the distortion correction is performed in consideration of the relative positional relationship between the tip of the contact 3 or the contact 4 and the camera 9.

ここで、接触子3,4は、実際には、各検査点に対しそれぞれ基準位置から駆動されるわけではなく、検査点から検査点への順次移動する制御が行われる。したがって、本実施形態の説明においては、説明の都合上、接触子3,4やカメラ9の設計上の駆動ベクトルを補正するという観点から説明を行うが、より正確な表現としては、接触子3,4やカメラ9の各初期位置をそれぞれ原点とする各3次元座標系において、各原点を始点とする前記駆動ベクトルの先端の座標を補正し、設計上の駆動ベクトルを示す駆動データを補正するというよりその座標を示す位置データを補正するものと言える。図5は、接触子3,4の先端位置の座標を補正するという観点から、上記補正について説明するものである。なお、図5では、説明の簡単化のため、前記各3次元座標系のうち、前記X軸及びY軸を2軸とする2次元座標系に着目して説明を行う。   Here, the contacts 3 and 4 are not actually driven from the reference position for each inspection point, but are controlled to move sequentially from the inspection point to the inspection point. Therefore, in the description of the present embodiment, for the sake of explanation, the description will be made from the viewpoint of correcting the drive vectors in the design of the contacts 3 and 4 and the camera 9, but as a more accurate expression, the contact 3 , 4, and the initial position of each camera 9 in each three-dimensional coordinate system, the coordinates of the tip of the drive vector starting from each origin are corrected, and the drive data indicating the designed drive vector is corrected. Rather, it can be said that the position data indicating the coordinates is corrected. FIG. 5 explains the above correction from the viewpoint of correcting the coordinates of the tip positions of the contacts 3 and 4. In FIG. 5, for simplification of description, the description will be given focusing on a two-dimensional coordinate system in which the X axis and the Y axis are two axes among the three-dimensional coordinate systems.

接触子3,4の各移動制御において、予め定められた接触子3,4の先端部の位置を原点とする前記2次元座標系(X−Y座標系)が設計上それぞれ設定されている。図5の矢印Aに示すように、接触子3,4の先端部の相対位置関係の位置ずれが無いという意味で、この異なる2つの2次元座標系を重ねて示すものとする。また、補正マークM3の中心座標は、この設計上の2次元座標系の座標(X0,Y0)に位置するものとする。   In each movement control of the contacts 3, 4, the two-dimensional coordinate system (XY coordinate system) having the origin at the position of a predetermined tip of the contacts 3, 4 is set by design. As shown by an arrow A in FIG. 5, the two different two-dimensional coordinate systems are overlapped in the sense that there is no displacement in the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4. Further, the center coordinate of the correction mark M3 is assumed to be located at the coordinates (X0, Y0) of the designed two-dimensional coordinate system.

今、接触子3,4により補正マークM3の中心位置を検出させた場合に、接触子3,4の先端部の相対位置関係の位置ずれが無ければ、その中心位置は、例えば前記各2次元座標系においてそれぞれ座標(X0,Y0)に位置することが検出される。しかし、例えば接触子3を交換したものとし、この接触子3の交換によりその先端部の位置がX軸方向に+Δx、Y軸方向に+Δyだけずれたものとすると、設計上の座標にしたがって接触子3を駆動すると、接触子3は、補正マークM3の中心位置以外の点に接触することとなる。   Now, when the center position of the correction mark M3 is detected by the contacts 3 and 4, if there is no positional shift in the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4, the center position is, for example, each of the two-dimensional positions. It is detected that the coordinate system is located at the coordinates (X0, Y0). However, for example, if the contact 3 is replaced, and the contact 3 is replaced, the tip position is shifted by + Δx in the X-axis direction and + Δy in the Y-axis direction. When the child 3 is driven, the contact 3 comes into contact with a point other than the center position of the correction mark M3.

一方、このずれが生じた状態で接触子3に補正マークM3の中心位置を検出させる場合、その中心位置の座標は、座標(X0,Y0)と検出されず、座標(X0−Δx,Y0−Δy)と検出されることとなる。   On the other hand, when the contact 3 detects the center position of the correction mark M3 in a state where this deviation occurs, the coordinates of the center position are not detected as coordinates (X0, Y0), but the coordinates (X0−Δx, Y0−). Δy) is detected.

すなわち、接触子3の交換によりその先端部の位置がX軸方向に+Δx、Y軸方向に+Δyだけずれたことは、前記交換後における接触子3の先端部の初期位置を原点とする2次元座標系を考えた場合に、図5の矢印Bで示すように、その2次元座標系(X’−Y’座標系)が、その設計上の2次元座標系(X−Y座標系)に対して、X軸方向に+Δx,Y軸方向に+Δyだけずれたことに相当する。   That is, the fact that the position of the tip of the contact 3 is displaced by + Δx in the X-axis direction and + Δy in the Y-axis direction due to the replacement of the contact 3 is a two-dimensional that uses the initial position of the tip of the contact 3 after the replacement as the origin. When the coordinate system is considered, as shown by an arrow B in FIG. 5, the two-dimensional coordinate system (X′-Y ′ coordinate system) is changed to the designed two-dimensional coordinate system (XY coordinate system). On the other hand, this corresponds to a deviation of + Δx in the X-axis direction and + Δy in the Y-axis direction.

したがって、この場合には、接触子3を各パッドの中心位置に接触させるための駆動位置の座標を、接触子3の設計上の座標に対して全てX座標が−Δx、Y座標が−Δyだけ小さい座標を設定し直すこととなる。すなわち、検査点をPn、その検査点Pnについての接触子3の設計上又は論理的な座標を座標(Xn,Yn)と一般的に表すものとすると、接触子3により補正マークM3の中心位置を検出し、そのときに検出される座標から接触子3の先端部のずれ量(Δx,Δy)を算出し、このずれ量(Δx,Δy)の分だけ、接触子3の設計上の座標を座標(Xn,Yn)から座標(Xn−Δx,Yn−Δy)に設定し直すこととなる。   Therefore, in this case, the coordinates of the drive position for bringing the contactor 3 into contact with the center position of each pad are all set to -Δx for the X coordinate and -Δy for the Y coordinate with respect to the design coordinates of the contactor 3. Only small coordinates will be reset. That is, assuming that the inspection point is generally represented by Pn and the design or logical coordinates of the contactor 3 with respect to the inspection point Pn are generally represented as coordinates (Xn, Yn), the contactor 3 causes the center position of the correction mark M3 to be expressed. , And the amount of deviation (Δx, Δy) of the tip of the contactor 3 is calculated from the coordinates detected at that time, and the design coordinates of the contactor 3 are calculated by the amount of deviation (Δx, Δy). Is reset from coordinates (Xn, Yn) to coordinates (Xn−Δx, Yn−Δy).

このような処理を接触子4についても行うことで、接触子4の先端部の位置ずれに対しても適切な座標が設定し直されることとなる。その結果、接触子3,4の先端部の相対位置関係にずれが生じても、検査時には両接触子3,4を所望の検査点に接触させることができる。   By performing such a process on the contact 4 as well, an appropriate coordinate is reset even for the positional deviation of the tip of the contact 4. As a result, even if the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4 is shifted, both the contacts 3 and 4 can be brought into contact with a desired inspection point at the time of inspection.

図6(a)は、基準基板としての前記キャリブレーションボード110の表面を示した平面図、図6(b)は、図6(a)のA−A線からみた矢視断面図である。   6A is a plan view showing the surface of the calibration board 110 as a reference board, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 6A.

図6に示すように、キャリブレーションボード110の表面適所には、導電性を有する材料で形成された補正マークM3が設けられている。この補正マークM3は、キャリブレーションボード110を貫通して裏面に露出し、この裏面側で接地されている。補正マークM3の直径は、例えば1mmである。   As shown in FIG. 6, a correction mark M3 formed of a conductive material is provided at an appropriate surface of the calibration board 110. The correction mark M3 passes through the calibration board 110 and is exposed on the back surface, and is grounded on the back surface side. The diameter of the correction mark M3 is 1 mm, for example.

この構成により、接触子3,4が補正マークM3に接触したときには、接触子3,4の電位は0Vとなる一方、補正マークM3の周囲は非導電性の材質で構成された基板の部分であるため、接触子3,4がその基板の部分に接触したときには、接触子3,4の電位が0Vより大きくなる。   With this configuration, when the contacts 3 and 4 come into contact with the correction mark M3, the potential of the contacts 3 and 4 becomes 0 V, while the periphery of the correction mark M3 is a portion of the substrate made of a non-conductive material. For this reason, when the contacts 3 and 4 come into contact with the substrate portion, the potential of the contacts 3 and 4 becomes higher than 0V.

これを利用して、接触子3,4をそれぞれ補正マークM3及びその周辺領域に対し、所定の方向に摺接(微小なピッチ(例えば1μm)で移動)させつつ接触子3,4の電位を検出し、電位の変化が生じたときの接触子3,4の位置を補正マークM3の外周の位置と判断する。   Using this, the potential of the contacts 3 and 4 is changed while sliding the contacts 3 and 4 in a predetermined direction (moving at a minute pitch (for example, 1 μm)) with respect to the correction mark M3 and the surrounding area. The position of the contacts 3 and 4 when the potential change is detected is determined as the position of the outer periphery of the correction mark M3.

そして、円の中心はその外周のうち3点の位置が判明すれば数学的に算出することができることから、補正マークM3のうち電位が変化した異なる3つの位置を検出することで、補正マークM3の中心位置を導出することができる。   Since the center of the circle can be mathematically calculated if the positions of three points on the outer periphery are known, the correction mark M3 is detected by detecting three different positions of the correction mark M3 where the potential has changed. The center position of can be derived.

以上のような動作を行うべく、制御部10は、記憶部12と、ずれ検出部13と、駆動データ補正処理部14と、駆動制御部15とを機能的に備えている。   In order to perform the operation as described above, the control unit 10 functionally includes a storage unit 12, a deviation detection unit 13, a drive data correction processing unit 14, and a drive control unit 15.

記憶部12は、例えば基板製造者から予め提供された被検査基板100の配線パターンに関するデータから導出された、接触子3,4をパッドP1〜P7の中心位置に接触させるために必要な接触子3,4の基準位置からの設計上の駆動ベクトルを示す駆動データを記憶する。また、記憶部12は、前記両接触子3,4の所定の基準位置における前記両接触子3,4の所定の位置関係に基づいて予め設定された、接触子3,4を補正マークM3の中心に接触させるための接触子3,4の基準位置からの設計上の駆動ベクトルを示す駆動データ、及びカメラ9の光軸Lが補正マークM3の中心を通るようにカメラ10を位置させるためのカメラ9の基準位置からの設計上の駆動ベクトルを示す駆動データも記憶している。   The storage unit 12 is a contact necessary for bringing the contacts 3 and 4 into contact with the center positions of the pads P1 to P7, which are derived from data relating to the wiring pattern of the substrate 100 to be inspected provided in advance by the substrate manufacturer, for example. Drive data indicating design drive vectors from the reference positions of 3 and 4 is stored. In addition, the storage unit 12 sets the contacts 3 and 4 of the correction mark M3, which are set in advance based on a predetermined positional relationship between the contacts 3 and 4 at a predetermined reference position of the both contacts 3 and 4. Driving data indicating a design driving vector from the reference position of the contacts 3 and 4 for contacting the center, and for positioning the camera 10 so that the optical axis L of the camera 9 passes through the center of the correction mark M3. Drive data indicating a design drive vector from the reference position of the camera 9 is also stored.

ずれ検出部13は、補正マークM3の中心位置を接触子3,4で探索させ、その接触子3,4を補正マークM3の中心位置に位置させるために必要な接触子3,4の基準位置からの実駆動ベクトルを導出し、この実駆動ベクトルと、予め記憶部12に記憶された接触子3,4の基準位置からの設計上の駆動ベクトルとのずれを検出する。また、ずれ検出部13は、カメラ9に前記補正マークM3を撮像させ、その撮像画像から補正マークM3の中心を検出するとともに、カメラ9の光軸Lが補正マークM3の中心を通るようにカメラ9を位置させるのに必要なカメラ9の基準位置からの実駆動ベクトルを導出し、この実駆動ベクトルと予め記憶部12に記憶されたカメラ9の設計上の駆動ベクトルとのずれを検出する。   The deviation detection unit 13 searches the center position of the correction mark M3 with the contacts 3 and 4, and the reference position of the contacts 3 and 4 required to position the contact 3 and 4 at the center position of the correction mark M3. The actual drive vector is derived, and a deviation between the actual drive vector and the designed drive vector from the reference position of the contacts 3 and 4 stored in advance in the storage unit 12 is detected. In addition, the deviation detection unit 13 causes the camera 9 to capture the correction mark M3, detects the center of the correction mark M3 from the captured image, and allows the optical axis L of the camera 9 to pass through the center of the correction mark M3. An actual drive vector from a reference position of the camera 9 necessary to position the camera 9 is derived, and a deviation between the actual drive vector and a design drive vector of the camera 9 stored in the storage unit 12 in advance is detected.

駆動データ補正処理部14は、ずれ検出部13で検出されたずれに基づいて、検査時に接触子3,4を各パッドP1〜P7の中心位置に接触させるべく予め記憶されている接触子3,4の設計上の駆動データを補正する。   Based on the deviation detected by the deviation detector 13, the drive data correction processing unit 14 stores the contacts 3 stored in advance in order to bring the contacts 3 and 4 into contact with the center positions of the pads P1 to P7 at the time of inspection. 4 is corrected.

また、駆動データ補正処理部14は、図4に示すフローチャートのステップ♯2の歪み補正処理時に、カメラ9から送出されるアライメントマークM1,M2の画像とその画像を得るべく駆動したカメラ9のその実駆動ベクトルとに基づき、予め記憶された中心位置(中心座標)と被検査基板100の実際の中心位置とのずれを検出し、このずれに基づき、前記補正された駆動データを更に補正する。   Further, the drive data correction processing unit 14 performs an image of the alignment marks M1 and M2 sent from the camera 9 and the actual result of the camera 9 driven to obtain the image during the distortion correction process in step # 2 of the flowchart shown in FIG. Based on the drive vector, a deviation between the center position (center coordinates) stored in advance and the actual center position of the inspected substrate 100 is detected, and the corrected drive data is further corrected based on this deviation.

駆動制御部15は、検査時において、駆動データ補正処理部14により補正された駆動量データに基づき前記駆動機構16,17を動作させるものである。   The drive control unit 15 operates the drive mechanisms 16 and 17 based on the drive amount data corrected by the drive data correction processing unit 14 at the time of inspection.

なお、制御部10を機能的にずれ検出部13、駆動データ補正処理部14及び駆動制御部15として機能させるプログラムは、ROM、CD−ROM等の記録媒体を通じて供給することも、通信回線等の伝送媒体を通じて供給することも可能である。   The program that causes the control unit 10 to function as the deviation detection unit 13, the drive data correction processing unit 14, and the drive control unit 15 can be supplied through a recording medium such as a ROM or a CD-ROM, It is also possible to supply through a transmission medium.

図7は、前述の駆動データ補正処理を示すフローチャートである。なお、ここでは、接触子3及び接触子4の少なくとも一方が交換されると、駆動データ補正処理が行われるものとする。   FIG. 7 is a flowchart showing the drive data correction process described above. Here, it is assumed that the drive data correction process is performed when at least one of the contact 3 and the contact 4 is exchanged.

図7に示すように、接触子3,4の少なくとも一方が交換されると(ステップ♯11でYES)、ずれ検出部13は、補正マークM3の中心位置を接触子3を用いて検出した後(ステップ♯12)、補正マークM3の中心位置を接触子4を用いて検出する(ステップ♯13)。そして、ずれ検出部13は、ステップ♯12,♯13においてそれぞれ検出した中心位置から、その接触子3,4を補正マークM3の中心位置に位置させるために必要な接触子3,4の基準位置からの実駆動ベクトルを導出し、この実駆動ベクトルと、予め記憶部12に記憶されている接触子3,4の設計上の基準位置からの駆動ベクトルとのずれを検出する(ステップ♯14)。   As shown in FIG. 7, when at least one of the contacts 3 and 4 is exchanged (YES in step # 11), the deviation detector 13 detects the center position of the correction mark M3 using the contact 3 (Step # 12), the center position of the correction mark M3 is detected using the contact 4 (step # 13). Then, the deviation detection unit 13 uses the reference positions of the contacts 3 and 4 necessary for positioning the contacts 3 and 4 at the center position of the correction mark M3 from the center positions detected in steps # 12 and # 13, respectively. The actual drive vector is derived, and a deviation between the actual drive vector and the drive vector from the design reference position of the contacts 3 and 4 stored in advance in the storage unit 12 is detected (step # 14). .

また、ずれ検出部13は、カメラ9に前記補正マークM3を撮像させ、その撮像画像から補正マークM3の中心を検出する(ステップ♯15)。そして、ずれ検出部13は、カメラ9の光軸Lが補正マークM3の中心を通るようにカメラ9を位置させるのに必要なカメラ9の実駆動ベクトルを導出し、この導出結果と予め記憶部12に記憶されているカメラ9の設計上の駆動ベクトルとのずれを検出する(ステップ♯16)。   Further, the deviation detecting unit 13 causes the camera 9 to capture the correction mark M3 and detects the center of the correction mark M3 from the captured image (step # 15). Then, the deviation detection unit 13 derives an actual drive vector of the camera 9 necessary for positioning the camera 9 so that the optical axis L of the camera 9 passes through the center of the correction mark M3. 12 is detected (step # 16).

そして、ずれ検出部13に検出されたずれに基づいて、検査時に接触子3,4を各パッドP1〜P7に接触させるべく予め記憶されている接触子3,4の駆動データを補正する(ステップ♯17)。   Then, based on the deviation detected by the deviation detecting unit 13, the drive data of the contacts 3, 4 stored in advance to correct the contacts 3, 4 to the pads P1 to P7 at the time of inspection is corrected (step). # 17).

以上のように、補正マークM3を用いて接触子3,4間の相対位置関係のずれを自動的に検出し、そのずれを検査時における接触子3,4の設計上の駆動ベクトルを自動的に補正することで補うようにしたので、検査時において確実に接触子3,4を所望のパッドの中心位置に接触させることのできる基板検査装置1を実現することができるとともに、検査時において接触子3,4を所望のパッドの中心位置に接触させるための処理が容易となる。   As described above, the deviation of the relative positional relationship between the contacts 3 and 4 is automatically detected using the correction mark M3, and the design drive vector of the contacts 3 and 4 at the time of inspection is automatically detected. Therefore, it is possible to realize the substrate inspection apparatus 1 that can reliably contact the contacts 3 and 4 with the center position of the desired pad at the time of inspection, and at the time of contact at the time of inspection. Processing for bringing the child 3 or 4 into contact with the center position of the desired pad is facilitated.

また、従来のように感圧紙を用いないので、従来の比してコストの抑制や作業性の向上を達成することができる。   In addition, since pressure sensitive paper is not used as in the prior art, cost reduction and workability improvement can be achieved as compared with the prior art.

さらに、接触子3及び4の少なくとも一方の交換等により、その接触子の先端部とカメラ9との相対位置関係がずれていたり、被検査基板100の製造過程において配線パターン及びその検査点が設計値からずれたりしても、そのずれに応じて、設計上の基準位置を基準にして設定された接触子の設計上の駆動ベクトルを補正するようにしたので、例えば、配線を形成する際の熱の影響などで、配線パターン及びその検査点が設計値からずれた場合でも、接触子3,4の先端部と被検査基板100との相対位置関係のずれを容易に補うことができ、検査時において確実に接触子3,4を所望の検査点に接触させることができる。   Further, the relative positional relationship between the tip of the contact 3 and the camera 9 is shifted due to replacement of at least one of the contacts 3 and 4, or the wiring pattern and the inspection point are designed in the manufacturing process of the substrate 100 to be inspected. Even if it deviates from the value, the design drive vector of the contact set based on the design reference position is corrected according to the deviation. For example, when the wiring is formed, Even when the wiring pattern and its inspection point deviate from the design values due to the influence of heat, the relative positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4 and the substrate 100 to be inspected can be easily compensated, and inspection can be performed. At times, the contacts 3 and 4 can be reliably brought into contact with a desired inspection point.

なお、本発明は、前記第1の実施形態に代えて次の実施形態(1)〜(4)も採用可能である。   The present invention can employ the following embodiments (1) to (4) instead of the first embodiment.

(1)前記第1の実施形態においては、補正マークM3の外周位置を検出する場合に、キャリブレーションボード110の補正マークM3及びその周辺領域に接触子3,4を摺接させつつ接触子3,4の電位を検出するようにしたが、これに限られず、次のように補正マークM3の外周位置を検出するようにしてもよい。   (1) In the first embodiment, when detecting the outer peripheral position of the correction mark M3, the contact 3 is brought into sliding contact with the correction mark M3 of the calibration board 110 and the peripheral area thereof. , 4 are detected, but the present invention is not limited to this, and the outer peripheral position of the correction mark M3 may be detected as follows.

図8は、この補正マークの外周位置検出処理を示すフローチャートであり、図9は、他の変形形態に係る補正マークM3の外周位置検出方法の説明図である。   FIG. 8 is a flowchart showing this correction mark outer periphery position detection process, and FIG. 9 is an explanatory diagram of a correction mark M3 outer periphery position detection method according to another modification.

本実施形態では、前記第1の実施形態のように、補正マークM3の外周位置を検出するに際し、接触子3(又は接触子4)を被検査基板100に摺接しながら移動させるものではなく、外周位置の検出を開始して接触子3が始めて補正マークM3に接触したときの初期位置から該接触子3を離散的に被検査基板100に接触させていく。また、その接触時に接触子3(又は接触子4)の電位を検出し、接触子3の電位が0Vの状態とそれ以外の電位の状態(以下、これらを総称してコンタクト状態という)とが切換わるごとに、接触子3の移動方向を逆向きに設定するとともに、接触子3の移動距離を前回の移動距離の半分にしていき、移動距離が駆動機構16,17による駆動の限界ピッチより小さくなった時点の接触子3の位置を補正マークM3の外周位置と判断する。   In the present embodiment, unlike the first embodiment, when detecting the outer peripheral position of the correction mark M3, the contact 3 (or contact 4) is not moved while sliding on the substrate 100 to be inspected. The contact 3 is discretely brought into contact with the substrate 100 to be inspected from the initial position when the contact 3 starts to contact the correction mark M3 after the detection of the outer peripheral position. In addition, the potential of the contact 3 (or the contact 4) is detected at the time of contact, and a state where the potential of the contact 3 is 0 V and a state of other potential (hereinafter collectively referred to as a contact state) are detected. Each time the switch is made, the moving direction of the contact 3 is set in the opposite direction, and the moving distance of the contact 3 is reduced to half of the previous moving distance. The moving distance is larger than the limit pitch of driving by the driving mechanisms 16 and 17. The position of the contact 3 when it becomes smaller is determined as the outer peripheral position of the correction mark M3.

すなわち、図8に示すように、まず、制御部10は、初期設定として接触子3の移動距離Lを補正マークM3の直径に設定した後(ステップ♯21)、接触子3を駆動して接触子3を被検査基板100上の任意の位置に接触させる(ステップ♯22)。そして、制御部10は、この状態で接触子3の電位を検出することにより該接触子3のコンタクト状態を検出する(ステップ♯23)。   That is, as shown in FIG. 8, first, the control unit 10 sets the movement distance L of the contact 3 as the diameter of the correction mark M3 as an initial setting (step # 21), and then drives the contact 3 to make contact. The child 3 is brought into contact with an arbitrary position on the inspected substrate 100 (step # 22). Then, the control unit 10 detects the contact state of the contact 3 by detecting the potential of the contact 3 in this state (step # 23).

その結果、接触子3が補正マークM3に接触していない場合には(ステップ♯23でNO)、制御部10は、接触子3が補正マークM3に接触するまでプローブユニット5を移動させ、一方、接触子3が補正マークM3に接触した場合には(ステップ♯23でYES)、接触直前のプローブユニット5の移動方向を記憶する(ステップ♯24)。   As a result, when the contact 3 is not in contact with the correction mark M3 (NO in step # 23), the control unit 10 moves the probe unit 5 until the contact 3 comes into contact with the correction mark M3. When the contact 3 comes into contact with the correction mark M3 (YES in step # 23), the moving direction of the probe unit 5 immediately before the contact is stored (step # 24).

次に、プローブユニット5の移動距離Lが前記限界ピッチLthより小さいか否かを判定する(ステップ♯25)。その結果、プローブユニット5の移動距離Lが前記限界ピッチLth以上の場合には(ステップ♯25でNO)、プローブユニット5をステップ♯4で記憶された方向にその移動距離L/2だけ移動させる(ステップ♯26)。このステップ♯16の処理が1巡目の場合には、プローブユニット5の移動距離Lは、補正マークM3の半径に等しく、その半径分の長さだけ前記移動方向にプローブユニット5を移動する。   Next, it is determined whether or not the moving distance L of the probe unit 5 is smaller than the limit pitch Lth (step # 25). As a result, when the moving distance L of the probe unit 5 is equal to or greater than the limit pitch Lth (NO in step # 25), the probe unit 5 is moved in the direction stored in step # 4 by the moving distance L / 2. (Step # 26). When the process of step # 16 is the first round, the moving distance L of the probe unit 5 is equal to the radius of the correction mark M3, and the probe unit 5 is moved in the moving direction by the length corresponding to the radius.

そして、今回の移動によりプローブユニット5と補正マークM3とのコンタクト状態が切換わったか否かを判定する(ステップ♯27)。すなわち、図9(a)に示すように、点Aに接触した状態から補正マークM3の半径分移動して接触した点が点Bであるものとすると、その移動後の接触点Bが補正マークM3外の位置であるから、前回の接触状態と今回の接触状態とでコンタクト状態が切換わる。このように、コンタクト状態が切換わった場合には(ステップ♯27でYES)、プローブユニット5の移動方向を逆方向に設定する(ステップ♯28)とともに、次回の移動距離Lを今回の移動距離Lの半分に設定し(ステップ♯29)、ステップ♯15に戻る。   Then, it is determined whether or not the contact state between the probe unit 5 and the correction mark M3 has been switched by the current movement (step # 27). That is, as shown in FIG. 9 (a), when the point that has moved by the radius of the correction mark M3 from the state of contact with the point A and touched is the point B, the contact point B after the movement is the correction mark. Since the position is outside M3, the contact state is switched between the previous contact state and the current contact state. As described above, when the contact state is switched (YES in step # 27), the moving direction of the probe unit 5 is set in the reverse direction (step # 28), and the next moving distance L is set to the current moving distance. Set to half of L (step # 29) and return to step # 15.

一方、図9(b)に示すように、点Pに接触した状態から補正マークM3の半径分移動して接触した点が点Qであるものとすると、その移動後の接触点Qが補正マークM3内の位置であるから、前回の接触状態と今回の接触状態とでコンタクト状態は切換わらない。このように、コンタクト状態が切換わらない場合には(ステップ♯27でNO)、プローブユニット5の移動方向及び移動距離Lを前回のものに維持したまま、ステップ♯25に戻る。   On the other hand, as shown in FIG. 9B, assuming that the point moved by the radius of the correction mark M3 from the state in contact with the point P is the point Q, the contact point Q after the movement is the correction mark. Since the position is within M3, the contact state is not switched between the previous contact state and the current contact state. As described above, when the contact state is not switched (NO in step # 27), the process returns to step # 25 while maintaining the moving direction and moving distance L of the probe unit 5 at the previous time.

このようにしてステップ♯25〜♯29を繰り返す。図9(a),(b)は、コンタクト状態の切換わりの有無に応じてプローブユニット5の移動方向及び移動距離を設定して該プローブユニット5を移動させる状態を示している。なお、図9(a),(b)では、各移動量を分かりやすく表示するため、各移動を表す線をずらして示しているが、実際には、同一線上を図示の量ずつプローブユニットが移動する。   In this way, steps # 25 to # 29 are repeated. FIGS. 9A and 9B show a state in which the probe unit 5 is moved by setting the moving direction and moving distance of the probe unit 5 depending on whether or not the contact state is switched. In FIGS. 9 (a) and 9 (b), in order to display each movement amount in an easy-to-understand manner, the lines representing the respective movements are shifted. However, in actuality, the probe unit is shown on the same line by the indicated amount. Moving.

すなわち、図9(a)では、接触子3の接触点がA→B→C→D→Eの順に移動し、接触点が変わる度にコンタクト状態が切換わり、移動距離が前回の半分に設定されている状態を示している。また、図9(b)では、接触子3の接触点がP→Q→R→S→T→Uの順に移動し、点Pから点Qへの移動及び点Tから点Uへの移動においてはコンタクト状態が切換わらず移動方向及び移動距離が前回の移動距離に維持され、それ以外の移動においてはコンタクト状態が切換わるため、移動方向が逆方向に設定され且つ移動距離が前回の半分に設定されている状態を示している。なお、図9(a),(b)において、アルファベットに付加された括弧内の「ON」と「OFF」とは、接触子3の電位が0Vの状態とそれ以外の電位の状態とを示している。   That is, in FIG. 9A, the contact point of the contact 3 moves in the order of A → B → C → D → E, the contact state is switched every time the contact point changes, and the movement distance is set to half of the previous time. It shows the state being done. In FIG. 9B, the contact point of the contact 3 moves in the order of P → Q → R → S → T → U, and the movement from the point P to the point Q and the movement from the point T to the point U are performed. Since the contact state is not switched, the movement direction and the movement distance are maintained at the previous movement distance, and the contact state is switched in other movements, so the movement direction is set to the reverse direction and the movement distance is reduced to half of the previous movement distance. Indicates the set state. In FIGS. 9A and 9B, “ON” and “OFF” in parentheses added to the alphabet indicate a state where the potential of the contactor 3 is 0 V and a state of other potentials. ing.

そして、プローブユニット5の移動距離Lが前記限界ピッチLthより小さくなると(ステップ♯25でYES)、その時点における接触子3の接触点が補正マークM3の外周位置として設定する(ステップ♯30)。   When the moving distance L of the probe unit 5 becomes smaller than the limit pitch Lth (YES in step # 25), the contact point of the contact 3 at that time is set as the outer peripheral position of the correction mark M3 (step # 30).

この方法によれば、第1の実施形態のように接触子3を被検査基板100に摺接しながら補正マークM3の外周位置を検出する構成に比して、補正マークM3の中心位置の検出時間を短縮することができる。   According to this method, as compared with the configuration in which the outer peripheral position of the correction mark M3 is detected while the contact 3 is in sliding contact with the substrate 100 to be inspected as in the first embodiment, the detection time of the center position of the correction mark M3. Can be shortened.

(2)第1の実施形態では、補正マークM3の形状を円形状としたが、これに限られるものではなく、楕円形状や三角形状でもよく、外周の位置から数学的に補正マークの中心位置が算出できるものであれば、どのような形状でもよい。また、補正マークM3の導電部をキャリブレーションボード110の裏面においてグランドに接地するようにしたが、これに限らず、キャリブレーションボードの内層に、該ボードの略全体に例えば電源やグランドを供給するためのベタ導体部が備えられている場合には、補正マークM3とベタ導体部とを接続し、ベタ導体部によりグランドを供給するようにしてもよい。   (2) In the first embodiment, the shape of the correction mark M3 is a circular shape, but is not limited to this, and may be an elliptical shape or a triangular shape. Any shape can be used as long as can be calculated. In addition, the conductive portion of the correction mark M3 is grounded to the ground on the back surface of the calibration board 110. However, the present invention is not limited to this. For example, power or ground is supplied to the entire inner layer of the calibration board. In the case where a solid conductor portion is provided, the correction mark M3 and the solid conductor portion may be connected and the ground may be supplied by the solid conductor portion.

(3)補正マークM3の中心位置を検出する方法として、前述したものの他に、次のような方法を採用してもよい。   (3) As a method for detecting the center position of the correction mark M3, the following method may be adopted in addition to the method described above.

本実施形態は、図10(a)に示すように、接触子3を補正マークM3から所定距離離間させた状態で補正マークM3及びその周辺領域で接触子3を径方向に移動させると、接触子3と補正マークM3とで構成される電気容量が変化することを利用したものである。   In the present embodiment, as shown in FIG. 10A, when the contact 3 is moved in the radial direction in the correction mark M3 and its peripheral region in a state where the contact 3 is separated from the correction mark M3 by a predetermined distance, This is based on the fact that the electric capacity formed by the child 3 and the correction mark M3 changes.

図10(b)は、補正マークM3及びその周辺領域で接触子3を径方向に移動させた場合の電気容量の測定結果を示すグラフである。図10(b)に示すように、この電気容量の変化は、同一の離間距離の条件のもとでは、接触子3が補正マークM3の中心位置を通る法線上に位置したときに最大となり、その位置から径方向外方に移動するにしたがって小さくなっていくものとなる。   FIG. 10B is a graph showing a measurement result of the capacitance when the contact 3 is moved in the radial direction in the correction mark M3 and its peripheral region. As shown in FIG. 10 (b), this change in capacitance becomes maximum when the contact 3 is positioned on the normal passing through the center position of the correction mark M3 under the same separation distance condition. It becomes smaller as it moves radially outward from that position.

この特性を利用して、補正マークM3の中心位置を検出することができる。すなわち、接触子3を補正マークM3から所定距離離間させた状態で補正マークM3及びその周辺領域で接触子3を径方向に移動させ、電気容量が最大となる接触子3の位置を通る補正マークM3の法線と該補正マークM3との交点を補正マークM3の中心位置として設定すればよい。   Using this characteristic, the center position of the correction mark M3 can be detected. That is, the correction mark M3 is moved in the radial direction in the correction mark M3 and its peripheral region with the contact 3 spaced apart from the correction mark M3 by a predetermined distance, and the correction mark passes through the position of the contact 3 where the electric capacity becomes maximum. An intersection point between the normal line of M3 and the correction mark M3 may be set as the center position of the correction mark M3.

(4)第1の実施形態においては、カメラ9がプローブユニット5にのみ一体的に移動可能に取り付けられており、そのカメラ9で撮像したアライメントマークM1,M2の画像を用いて、接触子3,4の設計上の駆動データを補正するものであるため、接触子3,4の駆動データを、接触子3,4の所定の基準位置における前記両接触子3,4の所定の位置関係に基づいて設定する必要があったが、各プローブユニット5,6にそれぞれ一体的にカメラが備えられている場合には、各プローブユニット5,6に一体的に備えられた各カメラ間の位置関係は固定され予めそれらの相対位置関係は判明していることから、接触子3,4の駆動データを設定するに際し、初期位置における接触子3,4の相対位置関係を予め判明させておく必要がない。   (4) In the first embodiment, the camera 9 is attached to the probe unit 5 so as to be integrally movable, and the contact 3 is used by using the images of the alignment marks M1 and M2 captured by the camera 9. , 4 is corrected, the drive data of the contacts 3, 4 is changed to a predetermined positional relationship between the contacts 3, 4 at a predetermined reference position of the contacts 3, 4. However, when the cameras are integrally provided in the probe units 5 and 6, the positional relationship between the cameras integrally provided in the probe units 5 and 6 is required. Since the relative positional relationship between them is fixed and the relative positional relationship between the contacts 3 and 4 is set in advance, it is necessary to determine the relative positional relationship between the contacts 3 and 4 at the initial position in advance. There.

すなわち、本実施形態の基板検査装置においては、記憶部12は、予め設定された、例えば両接触子3,4の初期位置から接触子3,4を補正マークM3の中心に接触させるための接触子3,4の設計上の駆動ベクトルを示す駆動データ、及びカメラ9の初期位置からその光軸Lが補正マークM3の中心を通る位置まで移動させるためのカメラ9の設計上の駆動ベクトルを示す駆動データを記憶している。   That is, in the substrate inspection apparatus according to the present embodiment, the storage unit 12 is a contact for bringing the contacts 3 and 4 into contact with the center of the correction mark M3 from a preset initial position of the contacts 3 and 4, for example. Drive data indicating design drive vectors of the sub-elements 3 and 4 and design drive vectors of the camera 9 for moving the optical axis L from the initial position of the camera 9 to a position passing through the center of the correction mark M3 are shown. Drive data is stored.

そして、接触子3,4の少なくとも一方が交換されると、補正マークM3の中心位置を接触子3,4を用いてそれぞれ検出し、各中心位置から、接触子3,4を補正マークM3の中心位置に位置させるために必要な接触子3,4の実駆動ベクトルを導出し、この実駆動ベクトルと、予め記憶部12に記憶されている接触子3,4の設計上の駆動ベクトルとのずれを検出する。   When at least one of the contacts 3 and 4 is replaced, the center position of the correction mark M3 is detected using the contacts 3 and 4, and the contacts 3 and 4 are detected from the center positions of the correction mark M3. Deriving actual drive vectors of the contacts 3 and 4 necessary for positioning at the center position, and calculating the actual drive vector and the design drive vectors of the contacts 3 and 4 stored in the storage unit 12 in advance. Detect deviation.

また、各カメラに補正マークM3を撮像させ、各撮像画像から補正マークM3の中心をそれぞれ検出し、各カメラの光軸Lが補正マークM3の中心を通るように各カメラを位置させるのに必要なカメラの実駆動ベクトルを導出し、この実駆動ベクトルと予め記憶部12に記憶されている各カメラの設計上の駆動ベクトルとのずれを検出する。そして、一体的に駆動されるプローブユニットとカメラとについての検出されたずれに基づいて、検査時に接触子3,4を各パッドP1〜P7に接触させるべく予め記憶されている接触子3,4の設計上の駆動データを補正する。   Also, it is necessary to cause each camera to image the correction mark M3, detect the center of the correction mark M3 from each captured image, and position each camera so that the optical axis L of each camera passes through the center of the correction mark M3. An actual drive vector of a simple camera is derived, and a deviation between the actual drive vector and a design drive vector of each camera stored in advance in the storage unit 12 is detected. Based on the detected displacement between the probe unit and the camera that are driven integrally, the contacts 3 and 4 stored in advance to bring the contacts 3 and 4 into contact with the pads P1 to P7 during the inspection. The drive data in the design is corrected.

この方法によっても、接触子3,4の先端部の位置関係のずれに応じた駆動データの補正が適切に補われるとともに、図4に示すフローチャートのステップ♯2で行った歪み補正が適切に反映される。   Also with this method, the correction of the drive data in accordance with the positional relationship between the tips of the contacts 3 and 4 is appropriately compensated, and the distortion correction performed in step # 2 of the flowchart shown in FIG. 4 is appropriately reflected. Is done.

本発明の第1の実施形態に係る基板検査装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the board | substrate inspection apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 被検査基板の配線面の一例を示す正面図である。It is a front view which shows an example of the wiring surface of a to-be-inspected board | substrate. 基板検査装置の電気的な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electrical structure of a board | substrate inspection apparatus. 基板検査装置による基板検査方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the board | substrate inspection method by a board | substrate inspection apparatus. 接触子の設計上の駆動データの補正を説明するための図である。It is a figure for demonstrating correction | amendment of the drive data on the design of a contactor. (a)は、キャリブレーションボードの表面を示した平面図、(b)は、(a)のA−A線からみた矢視断面図である。(A) is the top view which showed the surface of the calibration board, (b) is arrow sectional drawing seen from the AA line of (a). 駆動データ補正処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a drive data correction process. 補正マークの外周位置検出処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the outer periphery position detection process of a correction mark. 他の変形形態に係る補正マークの外周位置検出方法の説明図である。It is explanatory drawing of the outer periphery position detection method of the correction mark which concerns on another modification. 補正マークの中心位置を検出する他の方法を示す図である。It is a figure which shows the other method of detecting the center position of a correction mark.

1 基板検査装置
3,4 接触子
5,6 プローブユニット
9 カメラ
10 制御部
12 記憶部
13 ずれ検出部
14 駆動データ補正処理部
15 駆動制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 3, 4 Contact 5, 5 Probe unit 9 Camera 10 Control part 12 Memory | storage part 13 Deviation detection part 14 Drive data correction process part 15 Drive control part

Claims (9)

接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段とを備え、被検査基板の表面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置において、
前記両接触子を前記配線パターンの各検査点に順次接触させるべく駆動する際の両接触子の駆動位置を、設計上の基準位置を基準とした位置データとして記憶する第1の記憶手段と、
前記被検査基板の予め定められた位置に所定の形状で形成された第1のマークの画像を撮像すべく、前記一対のプローブユニットの一方のみに対してそれと一体的に駆動される撮像手段と、
前記撮像手段の設計上予定された基準位置から、前記撮像手段の光軸と前記第1のマークの中心とが所定の位置関係となるように駆動されるまでの該撮像手段の予定駆動ベクトルのデータを記憶する第2の記憶手段と、
前記撮像手段を、予定基準位置のデータに基づいて設定された基準位置から、その光軸と前記第1のマークの中心が前記所定の位置関係になる撮像画像が得られるまで駆動するのに必要な実駆動ベクトルを検出する第1の検出手段と、
前記第2の記憶手段に記憶された予定駆動ベクトルと前記第1の検出手段により検出された実駆動ベクトルとを比較し、その比較結果に基づき、前記第1の記憶手段に記憶された位置データを補正する第1の補正手段と
所定位置に設定される基準基板の表面所定位置に周辺領域と電気的特性が異なる材料により所定の図形を表して形成された第2のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させ電気的に走査することにより発生する電気的な状態変化を検出し、その検出値から、前記接触子の設計上の基準位置に対する、該接触子が前記第2のマークの中心に位置するときの中心位置データを検出する第2の検出手段と、
各接触子についての中心位置データに基づき、両接触子の相対位置関係を検出する第3の検出手段と、
前記第3の検出手段によって検出された相対位置関係に基づいて、前記第1の記憶手段に記憶された各接触子の位置データを更に補正する第2の補正手段と
を備えたことを特徴とする基板検査装置。
A pair of probe units each provided with a contact and driving means for independently driving each probe unit are provided, and each contact is brought into contact with an inspection point of a wiring pattern formed on the surface of the substrate to be inspected. In the substrate inspection apparatus for inspecting the wiring pattern,
First storage means for storing the drive positions of both contacts when driving both the contacts to sequentially contact each inspection point of the wiring pattern as position data based on a design reference position;
Wherein in order to capture a first image of a mark formed in a predetermined shape at a predetermined position of the substrate to be inspected, the pair of the probes only one with respect to the imaging means are integrally driven and its units When,
The planned drive vector of the image pickup means from the reference position scheduled in the design of the image pickup means until the optical axis of the image pickup means and the center of the first mark are driven to have a predetermined positional relationship. Second storage means for storing data;
Necessary for driving the imaging means from a reference position set based on data of a planned reference position until a captured image is obtained in which the optical axis and the center of the first mark have the predetermined positional relationship. First detection means for detecting a real drive vector;
The planned drive vector stored in the second storage means is compared with the actual drive vector detected by the first detection means, and based on the comparison result, the position data stored in the first storage means a first correction means for correcting,
The surface of the reference substrate set at a predetermined position is brought into contact with each contact with the second mark and its peripheral area formed by representing a predetermined figure with a material having different electrical characteristics from the peripheral area at a predetermined position. An electrical state change generated by non-contact movement and electrical scanning is detected, and the contact point is a center of the second mark with respect to a reference position on the design of the contact point based on the detected value. Second detection means for detecting center position data when positioned at
Third detection means for detecting a relative positional relationship between the two contacts based on the center position data for each contact;
Second correction means for further correcting position data of each contact stored in the first storage means based on the relative positional relationship detected by the third detection means;
Substrate inspection apparatus characterized by comprising a.
前記予定駆動ベクトル及び実駆動ベクトルは、それぞれの基準位置を原点とするベクトル先端の座標として記憶及び検出されることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。   The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the planned drive vector and the actual drive vector are stored and detected as coordinates of a vector tip having each reference position as an origin. 前記第1のマークは、少なくとも2つ、被検査基板の所定箇所に分散して形成され、前記第1の補正手段は、各第1のマークに対する実駆動ベクトルから被検査基板の中心を検出し、検出された中心と設計上の中心とのずれに応じて位置データの補正を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板検査装置。 At least two of the first marks are formed at predetermined locations on the substrate to be inspected, and the first correction means detects the center of the substrate to be inspected from the actual driving vector for each first mark. 3. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the position data is corrected in accordance with a deviation between the detected center and the design center. 接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段を備え、被検査基板の板面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置において、
前記両プローブユニットの所定の論理的基準位置における前記両接触子の所定の相対位置関係に基づいて予め設定された、前記配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させるために必要な各プローブユニットの前記所定の論理的基準位置からの論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データをそれぞれ記憶する第1の記憶手段と、
所定位置に位置決めされた基準基板の板面の所定位置に、周辺領域と電気的特性の異なる材料により所定の図形を表した第1のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させることにより発生する前記接触子の電気的な状態変化を検出し、その状態変化を利用して前記第1のマークの中心位置を検出する第1の検出手段と、
前記各接触子を実際の基準位置から前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記各プローブユニットの駆動量及び駆動方向を導出し、この駆動量及び駆動方向に基づきその基準位置における前記両接触子の実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データをそれぞれ補正する第1の補正手段と
を備えることを特徴とする基板検査装置。
A pair of probe units each provided with a contact and driving means for independently driving each probe unit are provided, and each contact is brought into contact with an inspection point of a wiring pattern formed on a plate surface of a substrate to be inspected. In the substrate inspection apparatus for inspecting the wiring pattern,
Probes necessary for bringing the contacts into contact with the inspection points of the wiring pattern, which are set in advance based on a predetermined relative positional relationship between the contacts at a predetermined logical reference position of the probe units. First storage means for storing drive data about a logical drive amount and drive direction from the predetermined logical reference position of the unit, respectively;
Contact each contactor at a predetermined position on the plate surface of the reference substrate positioned at a predetermined position with respect to the first mark representing a predetermined figure by a material having electrical characteristics different from that of the peripheral area and the peripheral area. First detection means for detecting an electrical state change of the contact generated by moving in a non-contact manner and detecting a center position of the first mark using the state change;
A driving amount and a driving direction of each probe unit to be driven to position each contactor from the actual reference position to the center position are derived, and the both contacts at the reference position are derived based on the driving amount and the driving direction. First correcting means for detecting the actual relative positional relationship of the child in a reverse calculation and correcting the driving data for the probe unit based on the actual relative positional relationship and the predetermined logical relative positional relationship; A board inspection apparatus comprising:
前記検査時に被検査基板の歪みに対する前記プローブユニットについての駆動データの補正を行うべく前記被検査基板の板面に形成された第2のマークの画像を撮像するようにプローブユニットの一方にのみ一体的に駆動されるように設けられた撮像手段と、
前記プローブユニット及び前記撮像手段の所定の論理的基準位置における前記接触子と前記撮像手段との所定の論理的相対位置関係に基づいて予め設定された、前記所定の論理的基準位置からの前記第2のマークを撮像する位置に位置させるために必要な前記撮像手段の論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データを記憶する第2の記憶手段と、
前記第1のマークを前記撮像手段に撮像させ、その撮像動作により得られた前記第1のマークの画像から該第1のマークの中心位置を検出する第2の検出手段と、
前記プローブユニットについての実際の基準位置から前記接触子を前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記プローブユニットの駆動量及び駆動方向と、前記撮像手段についての基準位置から光軸を前記中心位置に位置させるために駆動すべく前記撮像手段の駆動量及び駆動方向とに基づき、各実際の基準位置における前記接触子と前記撮像手段との実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記接触子及び前記撮像手段の所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データを補正する第2の補正手段と
を備えることを特徴とする請求項に記載の基板検査装置。
Only one of the probe units is integrated so as to capture an image of the second mark formed on the plate surface of the substrate to be inspected to correct the drive data for the probe unit with respect to distortion of the substrate to be inspected during the inspection. Imaging means provided to be driven in an automated manner;
The first from the predetermined logical reference position set in advance based on a predetermined logical relative positional relationship between the contactor and the imaging means at a predetermined logical reference position of the probe unit and the imaging means. Second storage means for storing drive data regarding the logical drive amount and drive direction of the image pickup means necessary to position the second mark at the position for image pickup;
Second detection means for causing the imaging means to image the first mark and detecting a center position of the first mark from an image of the first mark obtained by the imaging operation;
The drive amount and drive direction of the probe unit to be driven to position the contactor at the center position from the actual reference position for the probe unit, and the optical axis from the reference position for the imaging means to the center position Based on the driving amount and driving direction of the image pickup means to be driven to position the image pickup means, the actual relative position relationship between the contactor and the image pickup means at each actual reference position is detected in reverse calculation, and the actual relative position claim, characterized in that it comprises a <br/> and second correction means for correcting the driving data for said probe unit based on a predetermined logical relative positional relationship between the contacts and the imaging means and related 4 The board inspection apparatus according to 1.
前記第1の検出手段は、円形状又は楕円形状の第1のマークとその周辺領域とが所定の電位差を有する状態で第1のマーク及びその周辺領域に対して前記各接触子を接触させつつ移動させることにより前記第1のマークの周縁部において発生する前記接触子の電位変化を検出し、その状態変化から第1のマークの周縁位置を検出し、該周縁位置から数学的に前記第1のマークの中心位置を検出するものであることを特徴とする請求項またはに記載の基板検査装置。 The first detection means is configured to bring each contactor into contact with the first mark and the peripheral area in a state where the circular or elliptical first mark and the peripheral area have a predetermined potential difference. A change in the potential of the contact generated at the peripheral portion of the first mark is detected by the movement, the peripheral position of the first mark is detected from the change in state, and the first position is mathematically calculated from the peripheral position. substrate inspection apparatus according to claim 4 or 5, characterized in that to detect the center position of the mark. 接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段とを備え、被検査基板の表面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置の位置調整方法において、
前記両接触子を前記配線パターンの各検査点に順次接触させるべく駆動する際の両接触子の駆動位置を、設計上の基準位置を基準とした位置データとして記憶し、
前記一対のプローブユニットの一方のみに対してそれと一体的に駆動される撮像手段により、前記被検査基板の予め定められた位置に所定の形状で形成された第1のマークの画像を撮像し、
前記撮像手段の設計上予定された基準位置から、前記撮像手段の光軸と前記第1のマークの中心とが所定の位置関係となるように駆動されるまでの撮像手段の予定駆動ベクトルのデータを記憶し、
前記撮像手段を、予定基準位置のデータに基づいて設定された基準位置から、その光軸と前記第1のマークの中心が前記所定の位置関係になる撮像画像が得られるまで駆動するのに必要な実駆動ベクトルを検出し、
前記記憶された予定駆動ベクトルと前記検出された実駆動ベクトルとを比較し、その比較結果に基づき、前記記憶された位置データを補正し、
所定位置に設定される基準基板の表面所定位置に周辺領域と電気的特性が異なる材料により所定の図形を表して形成された第2のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させ電気的に走査することにより発生する電気的な状態変化を検出し、その検出値から、前記接触子の設計上の基準位置に対する、該接触子が前記第2のマークの中心に位置するときの中心位置データを検出し、
各接触子についての中心位置データに基づき、両接触子の相対位置関係を検出し、
前記検出された相対位置関係に基づいて、前記各接触子の位置データを更に補正することを特徴とする位置調整方法。
A pair of probe units each provided with a contact and driving means for independently driving each probe unit are provided, and each contact is brought into contact with an inspection point of a wiring pattern formed on the surface of the substrate to be inspected. In the position adjustment method of the substrate inspection apparatus for inspecting the wiring pattern,
The drive position of both contacts when driving both the contacts to sequentially contact each inspection point of the wiring pattern is stored as position data with reference to a design reference position,
By imaging means that is driven integrally with only one of the pair of probe units, an image of a first mark formed in a predetermined shape at a predetermined position of the substrate to be inspected is captured,
Data of the planned drive vector of the imaging unit from the reference position scheduled in the design of the imaging unit until the optical axis of the imaging unit and the center of the first mark are driven to have a predetermined positional relationship Remember
Necessary for driving the imaging means from a reference position set based on data of a planned reference position until a captured image is obtained in which the optical axis and the center of the first mark have the predetermined positional relationship. Real driving vector is detected,
Comparing the stored planned drive vector with the detected actual drive vector, and correcting the stored position data based on the comparison result;
The surface of the reference substrate set at a predetermined position is brought into contact with each contact with the second mark and its peripheral area formed by representing a predetermined figure with a material having different electrical characteristics from the peripheral area at a predetermined position. A change in the electrical state generated by scanning and electrically scanning without contact is detected, and from the detected value, the contact with respect to a reference position on the design of the contact is the center of the second mark. Detect the center position data when located at
Based on the center position data for each contact, detect the relative positional relationship between both contacts,
The position adjustment method further comprising correcting the position data of each contact based on the detected relative positional relationship .
接触子をそれぞれ備えた一対のプローブユニットと、前記各プローブユニットをそれぞれ独立して駆動する駆動手段を備え、被検査基板の板面に形成された配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させて当該配線パターンの検査を行う基板検査装置の位置調整方法において、
前記両プローブユニットの所定の論理的基準位置における前記両接触子の所定の相対位置関係に基づいて予め設定された、前記配線パターンの検査点に前記各接触子を接触させるために必要な各プローブユニットの前記所定の論理的基準位置からの論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データをそれぞれ記憶し、
所定位置に位置決めされた基準基板の板面の所定位置に、周辺領域と電気的特性の異なる材料により所定の図形を表した第1のマーク及びその周辺領域に対し、前記各接触子を接触又は非接触で移動させることにより発生する前記接触子の電気的な状態変化を検出し、その状態変化を利用して前記第1のマークの中心位置を検出し、
前記各接触子を実際の基準位置から前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記各プローブユニットの駆動量及び駆動方向を導出し、この駆動量及び駆動方向に基づきその基準位置における前記両接触子の実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データをそれぞれ補正することを特徴とする位置調整方法。
A pair of probe units each provided with a contact and driving means for independently driving each probe unit are provided, and each contact is brought into contact with an inspection point of a wiring pattern formed on a plate surface of a substrate to be inspected. In the position adjustment method of the substrate inspection apparatus for inspecting the wiring pattern,
Probes necessary for bringing the contacts into contact with the inspection points of the wiring pattern, which are set in advance based on a predetermined relative positional relationship between the contacts at a predetermined logical reference position of the probe units. Storing driving data about the logical driving amount and driving direction from the predetermined logical reference position of the unit,
Contact each contactor at a predetermined position on the plate surface of the reference substrate positioned at a predetermined position with respect to the first mark representing a predetermined figure by a material having electrical characteristics different from that of the peripheral area and the peripheral area. Detecting an electrical state change of the contact generated by moving in a non-contact manner, and detecting a center position of the first mark using the state change;
A driving amount and a driving direction of each probe unit to be driven to position each contactor from the actual reference position to the center position are derived, and the both contacts at the reference position are derived based on the driving amount and the driving direction. A position adjustment method comprising: detecting an actual relative positional relationship of a child in a reverse calculation and correcting driving data for the probe unit based on the actual relative positional relationship and the predetermined logical relative positional relationship .
撮像手段を、前記検査時に被検査基板の歪みに対する前記プローブユニットについての駆動データの補正を行うべく前記被検査基板の板面に形成された第2のマークの画像を撮像するようにプローブユニットのそれぞれと一体的に駆動させるとともに、
前記プローブユニット及び前記撮像手段の所定の論理的基準位置における前記接触子と前記撮像手段との所定の論理的相対位置関係に基づいて予め設定された、前記所定の論理的基準位置からの前記第2のマークを撮像する位置に位置させるために必要な前記撮像手段の論理的な駆動量及び駆動方向についての駆動データを記憶し、
前記第1のマークを前記撮像手段に撮像させ、その撮像動作により得られた前記第1のマークの画像から該第1のマークの中心位置を検出し、
前記プローブユニットについての実際の基準位置から前記接触子を前記中心位置に位置させるために駆動すべき前記プローブユニットの駆動量及び駆動方向と、前記撮像手段についての基準位置から光軸を前記中心位置に位置させるために駆動すべく前記撮像手段の駆動量及び駆動方向とに基づき、各実際の基準位置における前記接触子と前記撮像手段との実相対位置関係を逆算的に検出し、その実相対位置関係と前記接触子及び前記撮像手段の所定の論理的相対位置関係とに基づき前記プローブユニットについての駆動データを補正することを特徴とする請求項に記載の位置調整方法。
The imaging unit is configured to capture an image of a second mark formed on the plate surface of the substrate to be inspected so as to correct drive data for the probe unit with respect to distortion of the substrate to be inspected during the inspection. While driving together with each,
The first from the predetermined logical reference position set in advance based on a predetermined logical relative positional relationship between the contactor and the imaging means at a predetermined logical reference position of the probe unit and the imaging means. Storing the drive data about the logical drive amount and drive direction of the imaging means necessary for positioning the mark of 2 at the position for imaging,
The first mark is imaged by the imaging means, and the center position of the first mark is detected from the image of the first mark obtained by the imaging operation,
The drive amount and drive direction of the probe unit to be driven to position the contactor at the center position from the actual reference position for the probe unit, and the optical axis from the reference position for the imaging means to the center position Based on the drive amount and drive direction of the imaging means to be driven to position the imaging means, the actual relative positional relationship between the contactor and the imaging means at each actual reference position is detected in reverse calculation, and the actual relative position 9. The position adjustment method according to claim 8 , wherein driving data for the probe unit is corrected based on a relationship and a predetermined logical relative positional relationship between the contact and the imaging means .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109961067A (en) * 2019-03-19 2019-07-02 上海望友信息科技有限公司 Choosing method, system, computer storage medium and the equipment of optical reference point

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4820731B2 (en) * 2006-10-17 2011-11-24 日本電産リード株式会社 Substrate inspection apparatus and substrate inspection method
JP2009019907A (en) * 2007-07-10 2009-01-29 Hioki Ee Corp Inspection apparatus
JP2010071800A (en) * 2008-09-18 2010-04-02 Hioki Ee Corp Circuit board inspecting device
JP5335391B2 (en) * 2008-12-04 2013-11-06 日置電機株式会社 Inspection apparatus and inspection method
JP5511200B2 (en) * 2009-02-27 2014-06-04 日置電機株式会社 Method for obtaining probe pin offset in circuit board inspection apparatus
JP5388626B2 (en) * 2009-02-27 2014-01-15 日置電機株式会社 Method for obtaining probe pin offset in circuit board inspection apparatus and inspection jig thereof
JP5370828B2 (en) * 2009-05-11 2013-12-18 株式会社島津製作所 TFT array inspection apparatus and TFT substrate alignment method
JP2012189347A (en) * 2011-03-09 2012-10-04 Hioki Ee Corp Substrate inspection apparatus and substrate inspection method
JP5953118B2 (en) * 2012-05-22 2016-07-20 日置電機株式会社 Editing apparatus and editing method
US10163522B2 (en) 2015-10-15 2018-12-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Test line letter for embedded non-volatile memory technology
US9983257B2 (en) 2015-10-15 2018-05-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Test line patterns in split-gate flash technology
KR101890765B1 (en) * 2016-09-23 2018-08-22 재단법인한국조선해양기자재연구원 Apparatus and Method for Diagnosing PCB using PIN Detection based on Vision System
JP2018179748A (en) * 2017-04-13 2018-11-15 日置電機株式会社 Inspection procedure data generation device, substrate inspection device, and substrate inspection method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000055971A (en) * 1998-06-02 2000-02-25 Nippon Densan Riido Kk Board inspection apparatus and method for adjusting relative position of board to inspection head in board inspection apparatus
JP2000346896A (en) * 1999-06-01 2000-12-15 Nidec-Read Corp Board inspecting device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57108709A (en) * 1980-12-26 1982-07-06 Fujitsu Ltd Coordinate tracing system
JPS5857780A (en) * 1981-10-01 1983-04-06 株式会社日立製作所 Method and device for inspecting printed board
JPH0278970A (en) * 1988-09-14 1990-03-19 Nippon Seiko Kk Conduction inspecting machine for conductor pattern and coordinate setting method for its probe
JPH0282172A (en) * 1988-09-19 1990-03-22 Nippon Seiko Kk Continuity inspecting machine for conductor pattern
JP3062255B2 (en) * 1990-12-20 2000-07-10 日置電機株式会社 Method for detecting reference position of circuit board to be inspected in circuit board inspection apparatus
JPH0687074B2 (en) * 1992-09-30 1994-11-02 日東精工株式会社 Double-sided board inspection device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000055971A (en) * 1998-06-02 2000-02-25 Nippon Densan Riido Kk Board inspection apparatus and method for adjusting relative position of board to inspection head in board inspection apparatus
JP2000346896A (en) * 1999-06-01 2000-12-15 Nidec-Read Corp Board inspecting device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109961067A (en) * 2019-03-19 2019-07-02 上海望友信息科技有限公司 Choosing method, system, computer storage medium and the equipment of optical reference point
CN109961067B (en) * 2019-03-19 2021-05-28 上海望友信息科技有限公司 Method and system for selecting optical reference point, computer storage medium and equipment

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