JP4642358B2 - ウエハ載置用電極 - Google Patents
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Description
本発明のウエハ載置用電極の実施例について、図1を用いて説明する。本実施例のウエハ載置用電極は、電極の構造体となる基材1、アルミナ製の溶射膜2、温調用の冷媒が流れる冷媒溝3、図には明示していないウエハと溶射膜2の間にガスを供給するガス供給溝4〜8、ガス供給溝にガスを供給するガス供給管9〜11、ウエハと溶射膜2の間からガスを排気するためのガス排気溝12〜13、ガス排気溝からガスを排気するためのガス排気管14〜15、ウエハと溶射膜2間の圧力を計測する圧力計16〜18、ガス供給量を制御する流量計19〜21、冷媒を所定の温度に制御して供給するサーキュレータ22、ガスボンベ23〜25、ガスを排気するポンプ26〜27などから構成されている。なお図には明示していないが、本ウエハ載置用電極はプラズマエッチング処理装置内に設置されている。
(70650−5803)/70650=0.918
となり、91.8%が接触することになる。ウエハと電極表面の接触する部分が多くなるほどウエハの冷却効率が高くなり、ウエハ温度上昇による悪影響を受けにくくなる。
Claims (3)
- プラズマ処理装置で用いられ、電極上に載置したウエハを静電吸着で固定し、電極内部に設けた流路に流すウエハ温度調節用の冷媒と、上記ウエハと電極表面間に供給する伝熱用ガスとで該ウエハの温度調節をしながら該ウエハの処理を行うウエハ載置用電極において、
電極表面は、外周部に円環状の伝熱用ガス供給溝が設けられ前記電極表面の中央に位置する円形領域と、前記円形領域を囲む第一の円環状領域と、前記第一の円環状領域を囲む第二の円環状領域と、に分割される溶射膜からなり、 前記第一及び第二の円環状領域及び前記円形領域はウエハ裏面と静電吸着により接触し、前記第一及び第二の円環状領域のそれぞれの内周部に一つの円環状の伝熱用ガス供給溝を設け、さらに前記第一及び第二の円環状領域のそれぞれの外周部にも一つの円環状の伝熱用ガス供給溝を設けるとともに、前記第一の円環状領域と前記第二の円環状領域との境界及び前記円形領域と前記第一の円環状領域との境界に円環状の伝熱用ガス排気溝を設け、前記第一及び第二の円環状領域及び前記円形領域それぞれの領域に独立に前記伝熱用ガスを供給する手段を有し、前記伝熱用ガスは前記供給溝から供給されるとともに、前記排気溝から排気されることを特徴とするウエハ載置用電極。 - 請求項1に記載のウエハ載置用電極において、
上記ウエハと電極表面間に供給する伝熱用ガスは、ヘリウム及び、又はアルゴンであることを特徴とするウエハ載置用電極。 - 請求項1又は2に記載のウエハ載置用電極において、
電極内部に流路が設けてあり、ウエハ温度を調整するために流す冷媒を、外周側の流路から導入し、かつ、内周側の流路から排出することを特徴とするウエハ載置用電極。
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