JP4633349B2 - 電子デバイスを製造するための欠陥解析方法及びそのプログラム - Google Patents
電子デバイスを製造するための欠陥解析方法及びそのプログラム Download PDFInfo
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以下、実施の形態の内容を理解を容易にすべく、特許文献1に開示された内容の一部を前提技術として説明する。以下で述べる実施の形態は複数の製造工程における所定の工程の新規欠陥に着目した欠陥解析方法である。具体的な内容を示すため、電子デバイスがA、B、C、D、E、Fの6工程を経て製造され、A〜F工程後にそれぞれ検査装置を用いて欠陥検査を行っていると仮定する。
(原理)
チップの全領域(実施の形態1では電気テスタによる集積回路に対する電気テスト対象領域にも相当)に対して面積縮小機能で検査する欠陥検査領域が半分、すなわち、面積比が50%の場合を50%測定として考える。100チップ/Waferで、欠陥の有るチップが2チップであるとき、100%測定(チップの全領域を検査対象とした欠陥検査)なら2倍の4チップと直感的に推定できる。しかし、50%測定の際に欠陥の有るチップが60チップのとき、100%測定なら2倍の120チップとは推定することは矛盾する。そこで、正確な推定欠陥有りチップ数を求める以下の考え方を導入する。
PK=1-(1-K1/K0)^ (1/RS)…(I)
EK1=K0・PK=K0・{1-(1-K1/K0)^ (1/RS)}…(II)
図2はこの発明による実施の形態1である推定欠陥有りチップ数の推定換算方法の処理手順を示すフローチャートである。
(1) 新規欠陥無し・良品 =157チップ、
(2) 新規欠陥無し・不良品=24チップ、
(3) 新規欠陥有り・良品 =32チップ、
(4) 新規欠陥有り・不良品=7チップ、
(1)+(2)+(3)+(4):1ウエハのチップ数=220チップ。
(原理)
実施の形態1で推定欠陥有りチップ数を得た後、チップを推定後の欠陥の有無及び良・不良で4分類する場合、推定欠陥有りチップ数のうち、チップの全領域の100%検査していた場合にどれだけが良品でどれだけが不良品であったかの内訳をさらに推定する必要がある。
図5は実施の形態1によって推定換算した推定欠陥有りチップ数を模式的に示した説明図である。同図に示すように、図2のステップS4直後に得られる原チップ分類データは、図5の(a) のように、欠陥無し・良品エリアA1、欠陥無し・不良エリアA2、欠陥有り・良品エリアA3及び欠陥有り・不良エリアA4に分類されたデータである。
第2推定方法として、不良品数を最小に見積もった場合の良品数と不良品数の内訳を考える。
RB1=A2/(A1+A2)…(III)
NE=(A3+A4)・RB1…(IV)
N1=A4-NE…(V)
RG=rg3/rg1…(VI)
RF=1-RG…(VII)
NB=(A3+A4)・RF…(VIII)
NB2 = EK1・RF = (A3+A5+A4+A6) ・RF…(IX)
ここで(A5+A6)は、推定欠陥有りチップ数EK1に基づき(EK1−A1-A2)で算出可能であるため、エリアA5とA6の内訳を計算しなくとも工程不良チップ数NB1を計算することはできる。また、前述したように、致命率RFは既に求まっている。しかし、推定換算後の新規不良チップ数N12を求めるときなどは、推定換算後の4分類のデータ(第2のチップ分類データ)が必要なのでエリアA5とA6の内訳を計算することにする。致命率RFが変わらないとの仮定より、次の(X)式及び(XI)式を解法して、A5とA6をそれぞれ求めればよい。
RF= 1-(rg13/rg11)…(X)
ただし、
rg11=(A1-A5)/(A1-A5+A2-A6)、
rg13=(A3+A5)/(A3+A5+A4+A6)
A5+A6 = EK1−A3-A4 …(XI)
図7はこの発明の実施の形態2である欠陥解析方法を示すフローチャートである。以下、同図を参照しつつ、その処理の流れを示す。
A1:新規欠陥無し・良品=157チップ、
A2:新規欠陥無し・不良品=24チップ、
A3:新規欠陥有り・良品=32チップ、
A4: 新規欠陥有り・不良品=7チップ、
A1+A2+A3+A4 1ウエハのチップ数=220チップ。
A5+A6=71.1-(32+7)=32.1チップ、
A5=(A5+A6)・A3/(A3+A4)
=32.1・32/(32+7)=26.3チップ、
A6=(A5+A6)・A4/(A3+A4)
=32.1×7/(32+7)=5.8チップ。
A7=A1−A5=157-26.3=130.7チップ、
A8=A2−A6=24-5.8=18.2チップ、
A3’=A3+A5=32+26.3=58.3チップ、
A4’=A4+A6=7+5.8=12.8チップ。
RF1=1-{A3’/(A3’+A4’)}・{A7/(A7+A8)}
=1-58.3/(58.3+12.8)×(130.7+18.2)/130.7=0.065、
NB1=(A3’+A4’)×RF1
=(58.3+12.8)×0.065=4.6チップ、
N11=A4’- (A3’+A4’)×A8/(A7+A8)
=12.8-(58.3+12.8)×18.2/(130.7+18.2)=4.1チップ。
RF2=1-A3/(A3+A4)×(A1+A2)/ A1
=1-32/(32+7)×(157+24)/157=0.054、
A3’+A4’=A3+A4+A5+A6=71.1チップ、
NB2=(A3’+A4’)×RF2
=71.1×0.054=3.8チップ。
ただし、
rg11=(A1-A5)/(A1-A5+A2-A6)、
rg13=(A3+A5)/(A3+A5+A4+A6)、
A5+A6 = 71.1-(32+7)=32.1チップ。
A5=26.8チップ、
A6=5.3チップ。
A8=A2−A6=24-5.3=18.7チップ、
A3’=A3+A5=32+26.8=58.8チップ、
A4’=A4+A6=7+5.3=12.3チップ。
したがって、新規不良チップ数NB12は以下のように求まる。
N12=12.3-(58.8+12.3)・18.7/(130.2+18.7)=3.4チップ
(原理)
実施の形態1及び実施の形態2では欠陥検査は面積縮小機能を用いてチップの一部領域である欠陥検査対象領域に対して行い、テスタによる集積回路の電気テストをチップの全領域である電気テスト対象領域に対して行う場合を示した。
図12は実施の形態3による欠陥解析方法を示すフローチャートである。以下、同図を参照しつつ、その処理の流れを示す。
実施の形態2あるいは実施の形態3の欠陥解析方法を用い、工程管理を行い、その結果をフィードバックし、歩留まり等の向上を図りながら電子デバイスを製造するのが実施の形態4である。
(プログラムへの応用)
実施の形態1で示した欠陥解析方法の少なくとも一部(図2のステップS5,S6)、実施の形態2で示した欠陥解析方法(図7のステップS11〜S13,図8のステップS21〜S26)及び実施の形態3で示した欠陥解析方法(図12のステップS41〜S43)はコンピュータ実行可能なプログラムとして記述することができる。
Claims (2)
- 電子デバイスを製造するための複数の工程を経て、ウエハ上の複数のチップそれぞれに形成される電子デバイスの欠陥解析方法であって、
(a) 前記複数の工程のうち少なくとも1つの工程それぞれの実行後に、1チップ当たりの全欠陥検査可能領域の一部の領域である欠陥検査対象領域を対象として前記複数のチップそれぞれについて欠陥の検出を行うステップと、
(b) 前記欠陥が、前記少なくとも1つの工程内の所定の一工程において新たに発生したかどうかを、前記複数のチップそれぞれについて判定するステップと、
(c) 前記欠陥検査対象領域の前記全欠陥検査可能領域に対する面積比を求めるステップと、
(d) 前記ステップ(b)で判定した、新たに発生した前記欠陥を有するチップ数をK1、前記複数のチップ数をK0,前記ステップ(c)で求めた前記面積比をRSとしたとき、前記全欠陥検査可能領域に適合した前記欠陥を有するチップ数である推定欠陥有りチップ数EK1を、以下の式(1)を用いて推定換算するステップとを備えた、
EK1=K0・{1-(1-K1/K0)^(1/RS)}… (1)
電子デバイスを製造するための欠陥解析方法。 - 請求項1記載の電子デバイスを製造するための欠陥解析方法における前記ステップ(c) 及び(d) をコンピュータに実行させるためのプログラム。
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