JP4567282B2 - The method for manufacturing a light emitting device - Google Patents

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JP4567282B2
JP4567282B2 JP2002279547A JP2002279547A JP4567282B2 JP 4567282 B2 JP4567282 B2 JP 4567282B2 JP 2002279547 A JP2002279547 A JP 2002279547A JP 2002279547 A JP2002279547 A JP 2002279547A JP 4567282 B2 JP4567282 B2 JP 4567282B2
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純矢 丸山
舜平 山崎
真由美 水上
徹 高山
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株式会社半導体エネルギー研究所
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Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、被剥離層の剥離方法、特に様々な素子を含む被剥離層の剥離方法に関する。 The present invention relates to a method of removing the layer to be peeled including a peeling method, in particular the various elements of the layer to be peeled. 加えて、本発明は、剥離した被剥離層を基材に貼りつけて転写させた薄膜トランジスタ(以下、TFTという)で構成された回路を有する半導体装置およびその作製方法に関する。 In addition, the present invention is exfoliated thin film transistor layer to be peeled is transferred adhered to a substrate (hereinafter, referred to as TFT) relates to a semiconductor device and a manufacturing method having a circuit composed of. 例えば、液晶モジュールに代表される電気光学装置やELモジュールに代表される発光装置、およびその様な装置を部品として搭載した電子機器に関する。 For example, the light emitting device typified by an electro-optical device, an EL module represented by a liquid crystal module, and a mounting electronic equipment such devices as a part.
【0002】 [0002]
なお、本明細書中において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般を指し、電気光学装置、発光装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置である。 Note that a semiconductor device in this specification refers to all devices that can function by utilizing semiconductor characteristics, and an electro-optical device, light emitting devices, semiconductor circuits, and electronic devices are all semiconductor devices.
【0003】 [0003]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
近年、絶縁表面を有する基板上に形成された半導体薄膜(厚さ数〜数百nm程度)を用いて薄膜トランジスタ(TFT)を構成する技術が注目されている。 Recently, a technique for forming a thin film transistor (TFT) using a semiconductor thin film (several to several hundred nm thick) formed on a substrate having an insulating surface has attracted attention. 薄膜トランジスタはICや電気光学装置のような電子デバイスに広く応用され、特に画像表示装置のスイッチング素子として開発が急がれている。 Thin film transistors are widely applied to electronic devices such as an IC or an electro-optical device, development has been accelerated, especially as switching elements for image display devices.
【0004】 [0004]
このような画像表示装置を利用したアプリケーションは様々なものが期待されているが、特に携帯機器への利用が注目されている。 Although such an image display device applications using are expected are various, in particular attention is the use of portable devices. 現在、ガラス基板や石英基板が多く使用されているが、割れやすく、重いという欠点がある。 Currently, glass substrates and quartz substrates are often used, cracks easily, there is a disadvantage that heavy. また、大量生産を行う上で、ガラス基板や石英基板は大型化が困難であり、不向きである。 In addition, in carrying out mass production, glass substrate or a quartz substrate is difficult to large-sized, it is not suitable. そのため、可撓性を有する基板、代表的にはフレキシブルなプラスチックフィルムの上にTFT素子を形成することが試みられている。 Therefore, a substrate having flexibility, typically it has been tried to form a TFT element on a flexible plastic film.
【0005】 [0005]
しかしながら、プラスチックフィルムの耐熱性が低いためプロセスの最高温度を低くせざるを得ず、結果的にガラス基板上に形成する時ほど良好な電気特性のTFTを形成できないのが現状である。 However, it is inevitable to lower the maximum temperature of the process due to the low heat resistance of the plastic film, it can not form a TFT having good electrical characteristics as when eventually formed on a glass substrate at present. そのため、プラスチックフィルムを用いた高性能な液晶表示装置や発光素子は実現されていない。 Therefore, high-performance liquid crystal display device or a light emitting element using a plastic film has not been realized.
【0006】 [0006]
また、基板上に分離層を介して存在する被剥離層を前記基板から剥離する剥離方法が既に提案されている。 Further, the peeling method for peeling the layer to be peeled existing through a separation layer on a substrate from the substrate have already been proposed. 例えば、特開平10−125929号公報、特開平10−125931号公報に記載された技術は、非晶質シリコン(またはポリシリコン)からなる分離層を設け、基板を通過させてレーザー光を照射して非晶質シリコンに含まれる水素を放出させることにより、空隙を生じさせて基板を分離させるというものである。 For example, JP-A-10-125929 discloses a technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 10-125931 is a separation layer made of amorphous silicon (or polysilicon) is provided, by irradiating a laser beam is passed through the substrate by releasing hydrogen Te contained in the amorphous silicon, it is that it causes a gap to separate the substrate. 加えて、この技術を用いて特開平10−125930号公報には被剥離層(公報では被転写層と呼んでいる)をプラスチックフィルムに貼りつけて液晶表示装置を完成させるという記載もある。 In addition, there is also described that to complete a liquid crystal display device in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-125930 layer to be peeled (in the publication is referred to as the transfer layer) adhered to the plastic film using this technique.
【0007】 [0007]
しかしながら、上記方法では、透光性の高い基板を使用することが必須であり、基板を通過させ、さらに非晶質シリコンに含まれる水素を放出させるに十分なエネルギーを与えるため、比較的大きなレーザー光の照射が必要とされ、被剥離層に損傷を与えてしまうという問題がある。 However, in the above method, it is essential to use a high light-transmitting substrate, passed through the substrate and to provide sufficient energy to release hydrogen contained in the amorphous silicon, relatively large laser is required irradiation of light, there is a problem that damage to the layer to be peeled. また、上記方法では、分離層上に素子を作製した場合、素子作製プロセスで高温の熱処理等を行えば、分離層に含まれる水素が拡散して低減してしまい、レーザー光を分離層に照射しても剥離が十分に行われない恐れがある。 The irradiation, in the above method, in the case of manufacturing a device on the separation layer, by performing high-temperature heat treatment in device manufacturing processes, hydrogen contained in the separation layer ends up reduced by diffusing the laser light separation layer and even peeling may not sufficiently performed. 従って、分離層に含まれる水素量を維持するため、分離層形成後のプロセスが制限されてしまう問題がある。 Therefore, in order to maintain the amount of hydrogen contained in the separation layer, there is a problem that the process after isolation layer formation may be limited. また、上記公報には、被剥離層への損傷を防ぐため、遮光層または反射層を設ける記載もあるが、その場合、透過型液晶表示装置を作製することが困難である。 Further, in the above publication, in order to prevent damage to the layer to be peeled, there is also described to provide a light shielding layer or a reflection layer, in which case, it is difficult to manufacture a transmission type liquid crystal display device. 加えて、上記方法では、大きな面積を有する被剥離層を剥離するのは困難である。 In addition, in the above method, it is difficult to peel the layer to be peeled having a large area.
【0008】 [0008]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
本発明は、上記問題点を鑑みてなされたものであり、本発明は、被剥離層に損傷を与えない剥離方法を提供し、小さな面積を有する被剥離層の剥離だけでなく、大きな面積を有する被剥離層を全面に渡って剥離することを可能とすることを課題としている。 The present invention has been made in consideration of the above situation, the present invention provides a separation method which does not damage the layer to be peeled, not only peeling of the layer to be peeled having a small area, a large area It has a problem that makes it possible to peel all over the surface layer to be peeled having.
【0009】 [0009]
また、本発明は、被剥離層の形成において、熱処理温度、基板の種類等の限定を受けない剥離方法を提供することを課題としている。 Further, the present invention is in the formation of the peeling layer, the heat treatment temperature, and aims to provide a peeling method without undergoing limited kind of the substrate.
【0010】 [0010]
また、本発明は、様々な基材に被剥離層を貼りつけ、軽量された半導体装置およびその作製方法を提供することを課題とする。 The present invention also adhered layer to be peeled to a variety of substrates, and to provide a lightweight semiconductor device and a manufacturing method thereof. 特に、フレキシブルなフィルムにTFTを代表とする様々な素子(薄膜ダイオード、シリコンのPIN接合からなる光電変換素子やシリコン抵抗素子)を貼りつけ、軽量化された半導体装置およびその作製方法を提供することを課題とする。 In particular, the paste various elements typified by TFT (thin film diode, a photoelectric conversion element and silicon resistor element made of a PIN junction of silicon), to provide a lightweight semiconductor device and a manufacturing method thereof in flexible film a an object of the present invention.
【0011】 [0011]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本発明者らは、数多くの実験、検討を重ねているうちに、基板上に設けた窒化物層、好ましくは窒化金属層を設け、前記窒化金属層に接して酸化層を設け、さらに酸化層上に成膜または500℃以上の熱処理を行ったところ、膜剥がれ(ピーリング)などのプロセス上の異常は生じない一方、物理的手段、代表的には機械的な力を加えること(例えば人間の手で引き剥がすこと)で容易に酸化層の層内または界面において、きれいに分離できる剥離方法を見出した。 The present inventors have, while you are overlapped many experiments, investigations, nitride layer provided on the substrate, preferably a metal nitride layer is provided, the oxide layer is provided in contact with the metal nitride layer, further oxide layer was subjected to film formation or 500 ° C. or more heat treatment above, film peeling while no abnormality in the process such as (peeling), physical means, typically applying mechanical force (for example human in the layer or in the interface easily oxidized layer by peeling by hand), we found a peeling method capable of clean separation.
【0012】 [0012]
即ち、窒化物層と酸化物層との結合力は、熱エネルギーには耐え得る強さを有している一方、窒化物層と酸化物層で互いの膜応力は異なり、窒化物層と酸化物層との間には応力歪みを有しているため、力学的エネルギーに弱く、剥離するには最適である。 That is, the bonding force between the nitride layer and the oxide layer, while having a strength capable of withstanding the heat energy, another film stress in the nitride layer and the oxide layer is different, oxide nitride layer because it has a stress strain between the object layer, weak mechanical energy, the peeling is optimal. 本発明者らは、このように膜応力を利用して剥離を行う剥離工程をストレスピールオフプロセスと呼ぶ。 The present inventors refer to peeling step for peeling by using such the membrane stress and stress peel off process.
【0013】 [0013]
なお、本明細書中において、膜の内部応力(膜応力と呼ぶ)とは、基板上に形成された膜の内部に任意の断面を考えたとき、断面の一方の側が他方の側に及ぼしている単位断面積当りの力のことである。 Note that in this specification, the internal stress of the film (referred to as film stress), when considering any cross-sectional inside of the film formed on the substrate, one side of the cross section exerts on the other side it is that the force per unit cross-sectional area are. 内部応力は、真空蒸着やスパッタリングや気相成長などで成膜された薄膜には多かれ少なかれ必ず存在するといってよい。 Internal stress may be said that more or less always present in the thin film formed by vacuum deposition, sputtering or the like and a vapor phase growth. その値は最大で10 9 N/m 2に達する。 Its value reaches a maximum at 10 9 N / m 2. 薄膜の材料、基板の物質、薄膜の形成条件などによって内部応力値は変化する。 Material of the thin film, material of the substrate, the internal stress value, such as by formation conditions of the thin film changes. また、熱処理を施すことによっても内部応力値は変化する。 The internal stress value is also changed by heat treatment.
【0014】 [0014]
また、基板面に垂直な単位断面積を通して相手に及ぼす力が引っ張る方向である状態を引っ張り状態といい、そのときの内部応力を引張応力、押す方向である状態を圧縮状態といい、そのときの内部応力を圧縮応力と呼ぶ。 Further, called state pulling the state is a direction force exerted on the opponent through a unit sectional area perpendicular to the substrate surface is pulled, called the compressed state the tensile stress, the state is the direction to press the internal stress at that time, at that time the internal stress is referred to as a compression stress. なお、本明細書では、グラフや表に示すとき引張応力を正(+)、圧縮応力を負(−)にとる。 In this specification, the tensile stress positive when shown in graphs and tables (+), a compressive stress negative - taken ().
【0015】 [0015]
本明細書で開示する剥離方法に関する発明の構成1は、 Configuration 1 of the invention relates to peeling methods disclosed herein,
被剥離層を基板から剥離する剥離方法であって、 A peeling method for peeling the layer to be peeled from the substrate,
前記基板上に窒化物層が設けられており、前記窒化物層が設けられた基板上に少なくとも前記窒化物層と接する酸化物層を含む積層からなる被剥離層を形成した後、該被剥離層を前記窒化物層が設けられた基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離することを特徴とする剥離方法である。 And nitride layer is provided on the substrate, after forming the layer to be peeled having a laminated comprising an oxide layer in contact with at least said nitride layer on the substrate on which the nitride layer is provided, 該被 peeling a peeling method wherein the peeling in the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means a layer from the substrate, wherein the nitride layer is provided.
【0016】 [0016]
また、支持体を接着剤で接着した後に剥離してもよく、本明細書で開示する剥離方法に関する発明の構成2は、 Also, better support be peeled off after glued, structure 2 of the invention relates to peeling methods disclosed herein,
被剥離層を基板から剥離する剥離方法であって、 A peeling method for peeling the layer to be peeled from the substrate,
前記基板上に窒化物層が設けられており、前記窒化物層が設けられた基板上に少なくとも前記窒化物層と接する酸化物層を含む積層からなる被剥離層を形成し、該被剥離層に支持体を接着した後、 And nitride layer is provided on the substrate, a layer to be peeled was formed a lamination comprising an oxide layer in contact with at least said nitride layer on the substrate on which the nitride layer is provided, 該被 peeling layer after bonding the support,
前記支持体に接着された被剥離層を前記窒化物層が設けられた基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離することを特徴とする剥離方法である。 A peeling method wherein the peeling in the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means to be peeled layer bonded to the support from the substrate on which the nitride layer is provided.
【0017】 [0017]
また、上記構成2において、さらに剥離を助長させるため、前記支持体を接着する前に、加熱処理またはレーザー光を照射してもよい。 In the above structure 2, in order to further promote the release, before bonding the support may be irradiated with heat treatment or laser light. この場合、窒化物層にはレーザー光を吸収する材料を選択し、窒化物層と酸化物層の界面を加熱させることによって、剥がれやすくしてもよい。 In this case, the nitride layer to select the material that absorbs laser light, by heating the surface of the nitride layer and the oxide layer may be easily peeled off. ただし、レーザー光を用いる場合は、基板として透光性のものを用いる。 However, the case of using a laser beam, used as the light transmitting as a substrate.
【0018】 [0018]
また、上記各構成において、窒化物層は、基板と窒化物層の間に他の層、例えば絶縁層や金属層等を設けてもよいが、プロセスを簡略化するためには、基板上に接して窒化物層を形成することが好ましい。 In the above structure, the nitride layer is another layer between the substrate and the nitride layer, for example an insulating layer may be provided and the metal layer or the like, but in order to simplify the process, on a substrate it is preferable to form the nitride layer in contact.
【0019】 [0019]
また、窒化物層に代えて、金属層、好ましくは窒化金属層でもよく、基板上に設けた金属層、好ましくは窒化金属層を設け、さらに前記窒化金属層に接して酸化層を設け、さらに成膜処理または500℃以上の熱処理を行っても、膜剥がれ(ピーリング)が生じずに、物理的手段で容易に酸化層の層内または界面において、きれいに分離できる。 Further, instead of the nitride layer, a metal layer, preferably may be a metal nitride layer, a metal layer provided on the substrate, preferably provided with a metal nitride layer, an oxide layer is provided further contact with the metal nitride layer, further even if a film forming process or 500 ° C. or more heat treatment, without causing film peeling (peeling) is, in the layer or in the interface easily oxidized layer by physical means, it can be cleanly separated.
【0020】 [0020]
本明細書で開示する剥離方法に関する発明の構成3は、 Configuration 3 invention relates peeling method disclosed herein,
被剥離層を基板から剥離する剥離方法であって、 A peeling method for peeling the layer to be peeled from the substrate,
前記基板上に金属層が設けられており、前記金属層が設けられた基板上に少なくとも前記金属層と接する酸化物層を含む積層からなる被剥離層を形成した後、該被剥離層を前記金属層が設けられた基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離することを特徴とする剥離方法である。 Wherein the metal layer is provided on the substrate to form a layer to be peeled having a laminated comprising an oxide layer in contact with at least the metal layer on the substrate on which the metal layer is provided, wherein the 該被 peeling layer a peeling method wherein the peeling in the layer or in the interface of a physical means by the oxide layer from the substrate on which the metal layer is provided.
【0021】 [0021]
また、支持体を接着剤で接着した後に剥離してもよく、本明細書で開示する剥離方法に関する発明の構成4は、 Also, better support be peeled off after glued, structure 4 of the invention relates to peeling methods disclosed herein,
被剥離層を基板から剥離する剥離方法であって、 A peeling method for peeling the layer to be peeled from the substrate,
前記基板上に金属層が設けられており、前記金属層が設けられた基板上に少なくとも前記金属層と接する酸化物層を含む積層からなる被剥離層を形成し、該被剥離層に支持体を接着した後、 And the metal layer is provided on the substrate, a layer to be peeled was formed a lamination comprising an oxide layer in contact with at least the metal layer on the substrate on which the metal layer is provided, the support to said peeling layer after bonding the,
前記支持体に接着された被剥離層を前記金属層が設けられた基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離することを特徴とする剥離方法である。 A peeling method wherein the peeling in the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means to be peeled layer bonded to the support from the substrate on which the metal layer is provided.
【0022】 [0022]
また、上記構成4においても、さらに剥離を助長させるため、前記支持体を接着する前に、加熱処理またはレーザー光を照射してもよい。 Also, in the above structure 4, in order to further promote the release, before bonding the support may be irradiated with heat treatment or laser light. この場合、金属層にはレーザー光を吸収する材料を選択し、金属層と酸化物層の界面を加熱させることによって、剥がれやすくしてもよい。 In this case, select the material that absorbs laser light in the metal layer, by heating the interface between the metal layer and the oxide layer may be easily peeled off. ただし、レーザー光を用いる場合は、基板として透光性のものを用いる。 However, the case of using a laser beam, used as the light transmitting as a substrate.
【0023】 [0023]
なお、本明細書中、物理的手段とは、化学ではなく、物理学により認識される手段であり、具体的には、力学の法則に還元できる過程を有する力学的手段または機械的手段を指し、何らかの力学的エネルギー(機械的エネルギー)を変化させる手段を指している。 In the present specification, the physical means rather than chemical, is a means that is recognized by physics, specifically refers to a dynamic means or a mechanical means having a process capable of reducing the laws of mechanics It refers to a means for changing some dynamical energy (mechanical energy).
【0024】 [0024]
ただし、上記構成2及び上記構成4のいずれにおいても、物理的手段により剥離する際、支持体との結合力より、酸化物層と金属層との結合力が小さくなるようにすることが必要である。 However, in any of the above structure 2 and the structure 4 also, when peeling by a physical means, than the bonding strength between the support is necessary to ensure that coupling force between the oxide layer and the metal layer is reduced is there.
【0025】 [0025]
また、上記構成3または上記構成4において、前記金属層は、Ti、Al、Ta、W、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの金属または混合物の積層であることを特徴としている。 In the above structure 3 or the structure 4, the metal layer, Ti, Al, Ta, W, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, it is characterized by a single layer made of an alloy material or a compound material mainly containing an element selected or the element, the Pt, or a laminate of these metals or mixtures thereof.
【0026】 [0026]
また、上記構成3または上記構成4において、金属層は、基板と金属層の間に他の層、例えば絶縁層等を設けてもよいが、プロセスを簡略化するためには、基板上に接して金属層を形成することが好ましい。 In the above structure 3 or the structure 4, the metal layer, another layer between the substrate and the metal layer, for example, may be an insulating layer or the like, but in order to simplify the process, in contact on the substrate it is preferable to form the metal layer Te.
【0027】 [0027]
また、上記本発明において、透光性を有する基板に限らず、あらゆる基板、例えば、ガラス基板、石英基板、半導体基板、セラミックス基板、金属基板を用いることができ、基板上に設けた被剥離層を剥離することができる。 In the above the present invention is not limited to a light-transmitting substrate, any substrate, e.g., a glass substrate, a quartz substrate, a semiconductor substrate, a ceramic substrate, it is possible to use a metal substrate, the layer to be peeled provided on the substrate it can be peeled off.
【0028】 [0028]
また、上記各構成において、前記酸化物層は、酸化シリコン材料または酸化金属材料からなる単層、またはこれらの積層であることを特徴としている。 In the above structure, the oxide layer is characterized in that a single layer composed of silicon oxide material or metal oxide material, or a laminate thereof.
【0029】 [0029]
また、上記各構成において、さらに剥離を助長させるため、前記物理的手段により剥離する前に、加熱処理またはレーザー光の照射を行う処理を行ってもよい。 In the above structure, to further promote the release, before peeling by the physical means may perform processing for performing irradiation heat treatment or laser light.
【0030】 [0030]
また、上記本発明の剥離方法を用いて、基板上に設けた被剥離層を転写体に貼りつけて(転写して)半導体装置を作製することも可能であり、半導体装置の作製方法に関する発明の構成は、 Further, by using the separation method of the present invention, the layer to be peeled provided on the substrate adhered to the transfer member (and transferred) it is also possible to manufacture a semiconductor device, the invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device configuration of,
基板上に窒化物層を形成する工程と、 Forming a nitride layer on the substrate,
前記窒化物層上に酸化物層を形成する工程と、 Forming an oxide layer on the nitride layer,
前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating layer on the oxide layer,
前記絶縁層上に素子を形成する工程と、 Forming an element on said insulating layer,
前記素子に支持体を接着した後、該支持体を基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離する工程と、 After bonding the support to the device, a step of peeling the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means to the support from the substrate,
前記絶縁層または前記酸化物層に転写体を接着し、前記支持体と前記転写体との間に前記素子を挟む工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。 The insulating layer or the bonding the transfer member to the oxide layer, a method for manufacturing a semiconductor device characterized by a step of sandwiching the elements between the transfer member and the support member.
【0031】 [0031]
また、上記構成において、さらに剥離を助長させるため、前記支持体を接着する前に、加熱処理またはレーザー光を照射してもよい。 In the above structure, in order to further promote the release, before bonding the support it may be irradiated with heat treatment or laser light. この場合、窒化物層にはレーザー光を吸収する材料を選択し、窒化物と酸化物層の界面を加熱させることによって、剥がれやすくしてもよい。 In this case, the nitride layer to select the material that absorbs laser light, by heating the interface between the nitride oxide layer may be easily peeled off. ただし、レーザー光を用いる場合は、基板として透光性のものを用いる。 However, the case of using a laser beam, used as the light transmitting as a substrate.
【0032】 [0032]
また、剥離を助長させるため、窒化物層上に粒状の酸化物を設け、該粒状の酸化物を覆う酸化層を設けることによって、剥がれやすくしてもよく、半導体装置の作製方法に関する発明の構成は、 Further, in order to facilitate the release, an oxide granular provided nitride layer, by providing the oxide layer covering the particulate oxide, may be easily peeled off, the constitution of the invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device It is,
基板上に窒化物層を形成する工程と、 Forming a nitride layer on the substrate,
前記窒化物層上に粒状の酸化物を形成する工程と、 Forming an oxide particulate to the nitride layer,
前記酸化物を覆う酸化物層を形成する工程と、 Forming an oxide layer covering the oxide,
前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating layer on the oxide layer,
前記絶縁層上に素子を形成する工程と、 Forming an element on said insulating layer,
前記素子に支持体を接着した後、該支持体を基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離する工程と、 After bonding the support to the device, a step of peeling the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means to the support from the substrate,
前記絶縁層または前記酸化物層に転写体を接着し、前記支持体と前記転写体との間に前記素子を挟む工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。 The insulating layer or the bonding the transfer member to the oxide layer, a method for manufacturing a semiconductor device characterized by a step of sandwiching the elements between the transfer member and the support member.
【0033】 [0033]
また、他の半導体装置の作製方法に関する発明の構成は、 Further, the configuration of the invention relates to a method for manufacturing another semiconductor device,
基板上に金属材料を含有する層を形成する工程と、 Forming a layer containing a metal material on a substrate,
前記金属材料を含有する層上に酸化物層を形成する工程と、 Forming an oxide layer on the layer containing the metallic material,
前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating layer on the oxide layer,
前記絶縁層上に素子を形成する工程と、 Forming an element on said insulating layer,
前記素子に支持体を接着した後、該支持体を基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離する工程と、 After bonding the support to the device, a step of peeling the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means to the support from the substrate,
前記絶縁層または前記酸化物層に転写体を接着し、前記支持体と前記転写体との間に前記素子を挟む工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。 The insulating layer or the bonding the transfer member to the oxide layer, a method for manufacturing a semiconductor device characterized by a step of sandwiching the elements between the transfer member and the support member.
【0034】 [0034]
また、上記構成において、さらに剥離を助長させるため、前記支持体を接着する前に、加熱処理またはレーザー光を照射してもよい。 In the above structure, in order to further promote the release, before bonding the support it may be irradiated with heat treatment or laser light. この場合、金属層にはレーザー光を吸収する材料を選択し、金属層と酸化物層の界面を加熱させることによって、剥がれやすくしてもよい。 In this case, select the material that absorbs laser light in the metal layer, by heating the interface between the metal layer and the oxide layer may be easily peeled off. ただし、レーザー光を用いる場合は、基板として透光性のものを用いる。 However, the case of using a laser beam, used as the light transmitting as a substrate.
【0035】 [0035]
また、剥離を助長させるため、金属材料を含有する層上に粒状の酸化物を設け、該粒状の酸化物を覆う酸化層を設けることによって、剥がれやすくしてもよく、半導体装置の作製方法に関する発明の構成は、 Further, in order to facilitate the release, an oxide granular provided on a layer containing a metal material, by providing the oxide layer covering the particulate oxide, it may be easily peeled off, to a method for manufacturing a semiconductor device the configuration of the invention,
基板上に金属材料を含有する層を形成する工程と、 Forming a layer containing a metal material on a substrate,
前記金属材料を含有する層上に粒状の酸化物を形成する工程と、 Forming an oxide particulate on the layer containing the metallic material,
前記酸化物を覆う酸化物層を形成する工程と、 Forming an oxide layer covering the oxide,
前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating layer on the oxide layer,
前記絶縁層上に素子を形成する工程と、 Forming an element on said insulating layer,
前記素子に支持体を接着した後、該支持体を基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離する工程と、 After bonding the support to the device, a step of peeling the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means to the support from the substrate,
前記絶縁層または前記酸化物層に転写体を接着し、前記支持体と前記転写体との間に前記素子を挟む工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。 The insulating layer or the bonding the transfer member to the oxide layer, a method for manufacturing a semiconductor device characterized by a step of sandwiching the elements between the transfer member and the support member.
【0036】 [0036]
上記構成において、前記金属材料を含有する層は、窒化物であることが好ましく、前記金属材料は、Ti、Al、Ta、W、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの金属または混合物の積層であることを特徴としている。 In the above structure, the layer containing the metal material is preferably a nitride, wherein the metal material, Ti, Al, Ta, W, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, wherein Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, element selected from Pt, or a single layer made of an alloy material or a compound material containing the element as its main component, or that it is a laminate of these metals or mixtures It is set to.
【0037】 [0037]
また、上記本発明の剥離方法を用いて、基板上に設けた被剥離層を剥離した後、第1の転写体や第2の転写体に貼りつけて半導体装置を作製することも可能であり、半導体装置の作製方法に関する発明の構成は、 Further, by using the separation method of the present invention, after separating the layer to be peeled provided on the substrate, it is also possible to manufacture a semiconductor device adhered to the first transfer body and the second transfer body the configuration of the invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device,
基板上に金属材料を含有する層を形成する工程と、 Forming a layer containing a metal material on a substrate,
前記金属材料を含有する層上に酸化物層を形成する工程と、 Forming an oxide layer on the layer containing the metallic material,
前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating layer on the oxide layer,
前記絶縁層上に素子を形成する工程と、 Forming an element on said insulating layer,
基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離する工程と、 A step of peeling the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means from the substrate,
前記絶縁層または酸化物層に第1の転写体を接着する工程と、 A step of bonding the first transfer body in the insulating layer or an oxide layer,
前記素子に第2の転写体を接着し、前記第1の転写体と前記第2の転写体の間に前記素子を挟む工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。 Bonding the second transfer body to the element, a method for manufacturing a semiconductor device characterized by a step of sandwiching said element between said first transfer member and the second transfer body.
【0038】 [0038]
上記構成において、前記金属材料を含有する層は、窒化物であることが好ましく、前記金属材料は、Ti、Al、Ta、W、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの金属または混合物の積層であることを特徴としている。 In the above structure, the layer containing the metal material is preferably a nitride, wherein the metal material, Ti, Al, Ta, W, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, wherein Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, element selected from Pt, or a single layer made of an alloy material or a compound material containing the element as its main component, or that it is a laminate of these metals or mixtures It is set to.
【0039】 [0039]
また、他の半導体装置の作製方法に関する発明の構成は、 Further, the configuration of the invention relates to a method for manufacturing another semiconductor device,
基板上に窒化物層を形成する工程と、 Forming a nitride layer on the substrate,
前記窒化物層上に酸化物層を形成する工程と、 Forming an oxide layer on the nitride layer,
前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating layer on the oxide layer,
前記絶縁層上に素子を形成する工程と、 Forming an element on said insulating layer,
基板から物理的手段により前記酸化物層の層内または界面において剥離する工程と、 A step of peeling the layer or in the interface of the oxide layer by a physical means from the substrate,
前記絶縁層または酸化物層に第1の転写体を接着する工程と、 A step of bonding the first transfer body in the insulating layer or an oxide layer,
前記素子に第2の転写体を接着し、前記第1の転写体と前記第2の転写体の間に前記素子を挟む工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。 Bonding the second transfer body to the element, a method for manufacturing a semiconductor device characterized by a step of sandwiching said element between said first transfer member and the second transfer body.
【0040】 [0040]
また、上記半導体装置の作製方法に関する上記各構成において、前記酸化物層は、酸化シリコン材料または酸化金属材料からなる単層、またはこれらの積層であることを特徴としている。 In each of the above-described structures related to the above-mentioned method of manufacturing the semiconductor device, the oxide layer is characterized in that a single layer composed of silicon oxide material or metal oxide material, or a laminate thereof.
【0041】 [0041]
また、上記半導体装置の作製方法に関する上記各構成において、さらに剥離を助長させるため、前記物理的手段により剥離する前に、加熱処理またはレーザー光の照射を行う処理を行ってもよい。 In each of the above-described structures related to the above-mentioned method of manufacturing the semiconductor device, in order to further promote the release, before peeling by the physical means may perform processing for performing irradiation heat treatment or laser light.
【0042】 [0042]
また、上記半導体装置の作製方法に関する上記各構成において、前記素子は、半導体層を活性層とする薄膜トランジスタであり、前記半導体層を形成する工程は、非晶質構造を有する半導体層を加熱処理またはレーザー光の照射を行う処理によって結晶化させ、結晶構造を有する半導体層とすることを特徴としている。 In each of the above-described structures related to the above-mentioned method of manufacturing the semiconductor device, the element is a thin film transistor as an active layer of the semiconductor layer, the step of forming the semiconductor layer, a semiconductor layer having an amorphous structure heat treatment or is crystallized by treatment for performing laser light irradiation, is characterized in that a semiconductor layer having a crystal structure.
【0043】 [0043]
なお、本明細書中において、転写体とは、剥離された後、被剥離層と接着させるものであり、特に限定されず、プラスチック、ガラス、金属、セラミックス等、いかなる組成の基材でもよい。 Note that in this specification, the transfer member, after being peeled off, which is bonded with the layer to be peeled is not particularly limited, plastic, glass, metal, ceramics, etc., may be the substrate of any composition. また、本明細書中において、支持体とは、物理的手段により剥離する際に被剥離層と接着するためのものであり、特に限定されず、プラスチック、ガラス、金属、セラミックス等、いかなる組成の基材でもよい。 Further, in this specification, and the support is for adhering the peeled layer upon the release of the physical means is not particularly limited, plastic, glass, metal, ceramics, etc., of any composition it may be a group member. また、転写体の形状および支持体の形状も特に限定されず、平面を有するもの、曲面を有するもの、可曲性を有するもの、フィルム状のものであってもよい。 The shape and the shape of the support of the transfer member is not particularly limited, those having a flat surface, those having a curved surface, those having a bendable, or may be a film-like. また、軽量化を最優先するのであれば、フィルム状のプラスチック基板、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリアリレート(PAR)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリイミドなどのプラスチック基板が好ましい。 Also, if the highest priority lightweight, film-like plastic substrate, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyether sulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), nylon, polyether ether ketone (PEEK), polysulfone (PSF), polyetherimide (PEI), polyarylate (PAR), polybutylene terephthalate (PBT), a plastic substrate such as polyimide preferred.
【0044】 [0044]
上記半導体装置の作製方法に関する上記各構成において、液晶表示装置を作製する場合は、支持体を対向基板とし、シール材を接着材として用いて支持体を被剥離層に接着すればよい。 In each of the above structures relating to methods for manufacturing the semiconductor device, the case of manufacturing a liquid crystal display device, the support is a counter substrate, the support may be adhered to the layer to be peeled with a sealant as an adhesive material. この場合、前記剥離層に設けられた素子は画素電極を有しており、該画素電極と、前記対向基板との間には液晶材料が充填されるようにする。 In this case, the element provided in the separation layer has a pixel electrode, a pixel electrode, between the said opposing substrate so that the liquid crystal material is filled.
【0045】 [0045]
また、上記半導体装置の作製方法に関する上記各構成において、EL素子を有する発光装置として代表される発光装置を作製する場合は、支持体を封止材として、外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐように発光素子を外部から完全に遮断することが好ましい。 In each of the above-described structures related to the above-mentioned method of manufacturing the semiconductor device, the case of manufacturing a light emitting device typified as a light emitting device having an EL element, a support as a sealing material, from outside moisture and oxygen, such as organic compound layer it is preferable that material to promote deterioration completely blocks light emitting element so prevented from entering from the outside. また、軽量化を最優先するのであれば、フィルム状のプラスチック基板が好ましいが、外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐ効果は弱いため、例えば、支持体上に第1の絶縁膜と第2の絶縁膜と第3の絶縁膜とを設けて、十分に外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐ構成とすればよい。 Also, if the highest priority lightweight, although film-like plastic substrate is preferred, because the effect is weak to prevent the material to promote the degradation of the organic compound layer such as moisture or oxygen from the outside from entering, for example, support a first insulating film and the second insulating film and a third insulating film provided on the upper, with the configuration that prevents prompt enough deterioration of moisture and oxygen, such as an organic compound layer from external agents from entering good. ただし、前記第1の絶縁膜(バリア膜)と前記第3の絶縁膜(バリア膜)との間に挟まれる前記第2の絶縁膜(応力緩和膜)は、前記第1の絶縁膜および前記第3の絶縁膜より膜応力が小さくなるようにする。 However, the first insulating film (barrier film) and the third insulating film (barrier film) and the second insulating film (stress relaxing film) sandwiched between the first insulating film and the from film stress third insulating film to be smaller.
【0046】 [0046]
また、EL素子を有する発光装置として代表される発光装置を作製する場合は、支持体だけでなく、転写体も同様に第1の絶縁膜と第2の絶縁膜と第3の絶縁膜とを設け、十分に外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐことが好ましい。 In manufacturing a light-emitting device represented as a light-emitting device having an EL element, not only support, transcript also a first insulating film in the same manner as in the second insulating film and a third insulating film provided, it is preferable to promote adequate degradation of water and oxygen, such as an organic compound layer from the outside material prevented from entering.
【0047】 [0047]
(実験1) (Experiment 1)
ここで、窒化物層または金属層に接して酸化物層を設け、該酸化層上に設けた被剥離層を基板から剥離できるかどうかを確認するため、以下の実験を行った。 Here, an oxide layer is provided in contact with the nitride layer or metal layer, in order to determine whether the layer to be peeled provided on the oxide layer can be peeled from the substrate, the following experiment was performed.
【0048】 [0048]
まず、基板上に図3(A)示すような積層を形成する。 First, a laminate, such as FIG. 3 shows (A) on the substrate.
【0049】 [0049]
基板30としては、ガラス基板(#1737)を用いた。 As the substrate 30, a glass substrate (# 1737). また、基板30上には、スパッタ法によりアルミニウム−シリコン合金層31を300nmの膜厚で成膜した。 Further, on the substrate 30 are aluminum by sputtering - a silicon alloy layer 31 was formed into a film having a thickness of 300 nm. 次いで、アルミニウム−シリコン合金層31上にスパッタ法により窒化チタン層32を100nmの膜厚で成膜した。 Then, aluminum - titanium nitride layer 32 was deposited thereon to a thickness of 100nm by sputtering on the silicon alloy layer 31.
【0050】 [0050]
次いで、スパッタ法により酸化シリコン層33を200nmの膜厚で成膜した。 Then, a silicon oxide layer 33 was deposited thereon to a thickness of 200nm by sputtering. 酸化シリコン層33の成膜条件は、RF方式のスパッタ装置を用い、酸化シリコンターゲット(直径30.5cm)を用い、基板温度150℃、成膜圧力0.4Pa、成膜電力3kW、アルゴン流量/酸素流量=35sccm/15sccmとした。 Conditions for forming the silicon oxide layer 33, using a sputtering apparatus of the RF method, using a silicon oxide target (diameter 30.5 cm), a substrate temperature of 0.99 ° C., film formation pressure 0.4 Pa, deposition power 3 kW, the argon flow rate / and the oxygen flow rate = 35sccm / 15sccm.
【0051】 [0051]
次いで、酸化シリコン層33上にプラズマCVD法により下地絶縁層を形成する。 Then, a base insulating layer by a plasma CVD method on the silicon oxide layer 33. 下地絶縁層としては、プラズマCVD法で成膜温度300℃、原料ガスSiH 4 、NH 3 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜34a(組成比Si=32%、O=27%、N=24%、H=17%)を50nm形成した。 As the base insulating layer, deposition temperature 300 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, NH 3, N 2 O silicon oxynitride is produced from the membrane 34a (composition ratio Si = 32%, O = 27 %, N = 24%, was H = 17%) was 50nm formed. 次いで、表面をオゾン水で洗浄した後、表面の酸化膜を希フッ酸(1/100希釈)で除去する。 Subsequently, after cleaning the surface with ozone water, to remove the oxide film on the surface with dilute hydrofluoric acid (1/100 dilution). 次いでプラズマCVD法で成膜温度300℃、原料ガスSiH 4 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜34b(組成比Si=32%、O=59%、N=7%、H=2%)を100nmの厚さに積層形成し、さらに大気解放せずにプラズマCVD法で成膜温度300℃、成膜ガスSiH 4で非晶質構造を有する半導体層(ここでは非晶質シリコン層35)を54nmの厚さで形成した。 Then film formation temperature 300 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, N 2 O silicon oxynitride made from film 34b (composition ratio Si = 32%, O = 59 %, N = 7%, H = 2% ) was laminated to a thickness of 100 nm, further deposition temperature 300 ° C. by a plasma CVD method without air release, the amorphous silicon layer 35 semiconductor layer (in this case having an amorphous structure in the deposition gas SiH 4 ) was formed to a thickness of 54 nm. (図3(A) (Figure 3 (A)
【0052】 [0052]
次いで、重量換算で10ppmのニッケルを含む酢酸ニッケル塩溶液をスピナーで塗布する。 It is then applied by a spinner nickel acetate solution containing 10ppm of nickel by weight. 塗布に代えてスパッタ法でニッケル元素を全面に散布する方法を用いてもよい。 Nickel by sputtering instead of coating may be used a method of spraying on the entire surface. 次いで、加熱処理を行い結晶化させて結晶構造を有する半導体膜(ここではポリシリコン層36)を形成する。 Was then heat treatment is performed for crystallization to form a semiconductor film (polysilicon layer 36 in this case) having a crystalline structure. (図3(B))ここでは脱水素化のための熱処理(500℃、1時間)の後、結晶化のための熱処理(550℃、4時間)を行って結晶構造を有するシリコン膜を得る。 (FIG. 3 (B)) the heat treatment (500 ° C., 1 hour) for dehydrogenation is here after, to obtain a silicon film having a heat-treated (550 ° C., 4 hours) the crystal structure for crystallization . なお、ここではシリコンの結晶化を助長する金属元素としてニッケルを用いた結晶化技術を用いたが、他の公知の結晶化技術、例えば固相成長法やレーザー結晶化法を用いてもよい。 Note that, although a crystallization technique using nickel as a metal element for promoting crystallization of silicon may be used other known crystallization techniques, for example, solid-phase growth method and a laser crystallization method.
【0053】 [0053]
次いで、接着層37としてエポキシ樹脂を用い、フィルム基板38(ここではポリエチレンテレフタレート(PET))をポリシリコン層36に貼り付けた。 Then, using an epoxy resin as the adhesive layer 37, the film substrate 38 (in this case polyethylene terephthalate (PET)) was attached to the polysilicon layer 36.
(図3(C)) (FIG. 3 (C))
【0054】 [0054]
図3(C)の状態を得た後、人間の手によってフィルム基板38と基板30とが分離するように引っ張った。 After obtaining the state in FIG. 3 (C), the the film substrate 38 and the substrate 30 is pulled to separate by the hand of man. 引き剥がした基板30には、少なくとも窒化チタン及びアルミニウム−シリコン合金層が残っていることが確認できた。 Pull the substrate 30 is peeled off, at least titanium nitride and aluminum - were confirmed to remain silicon alloy layer. この実験により、酸化シリコン33の層内または界面において剥離していると予想される。 This experiment is expected to be peeled off in the layer or in the interface between the silicon oxide 33.
【0055】 [0055]
このように、窒化物層または金属層に接して酸化物層を設け、該酸化層上に設けた被剥離層を引き剥がすことで、基板30から被剥離層を全面に渡って剥離することができる。 Thus, in contact with the nitride layer or metal layer is provided an oxide layer, by peeling the layer to be peeled provided on the oxide layer, it is separated over the entire surface of the layer to be peeled from the substrate 30 it can.
【0056】 [0056]
(実験2) (Experiment 2)
剥離がどこで行われているかを特定するため、部分的に本発明の剥離方法により剥離し、その境界付近の断面を調べる実験を行った。 To identify whether peeling has been carried out where, peeled by the separation method of partially present invention, an experiment was conducted to examine the cross section of the vicinity of the boundary.
【0057】 [0057]
基板としては、ガラス基板(#1737)を用いた。 As the substrate, a glass substrate (# 1737). また、基板上にスパッタ法により窒化チタン層を100nmの膜厚で成膜した。 Further, the titanium nitride layer was deposited thereon to a thickness of 100nm by sputtering on the substrate.
【0058】 [0058]
次いで、スパッタ法により酸化シリコン層を200nmの膜厚で成膜した。 Then, a silicon oxide layer was deposited thereon to a thickness of 200nm by sputtering. 酸化シリコン層の成膜条件は、RF方式のスパッタ装置を用い、酸化シリコンターゲット(直径30.5cm)を用い、基板温度150℃、成膜圧力0.4Pa、成膜電力3kW、アルゴン流量/酸素流量=35sccm/15sccmとした。 Conditions for forming the silicon oxide layer using a sputtering apparatus of the RF method, using a silicon oxide target (diameter 30.5 cm), a substrate temperature of 0.99 ° C., film formation pressure 0.4 Pa, deposition power 3 kW, argon flow rate / oxygen and a flow rate = 35sccm / 15sccm.
【0059】 [0059]
次いで、酸化シリコン層上にプラズマCVD法により下地絶縁層を形成する。 Then, a base insulating layer by plasma CVD silicon oxide layer.
下地絶縁層としては、プラズマCVD法で成膜温度300℃、原料ガスSiH 4 、NH 3 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜(組成比Si=32%、O=27%、N=24%、H=17%)を50nm形成した。 As the base insulating layer, deposition temperature 300 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, NH 3, N 2 O silicon oxynitride made from film (composition ratio Si = 32%, O = 27 %, N = 24%, H = 17%) was 50nm formed. 次いで、表面をオゾン水で洗浄した後、表面の酸化膜を希フッ酸(1/100希釈)で除去する。 Subsequently, after cleaning the surface with ozone water, to remove the oxide film on the surface with dilute hydrofluoric acid (1/100 dilution). 次いでプラズマCVD法で成膜温度300℃、原料ガスSiH 4 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜(組成比Si=32%、O=59%、N=7%、H=2%)を100nmの厚さに積層形成し、さらに大気解放せずにプラズマCVD法で成膜温度300℃、成膜ガスSiH 4で非晶質構造を有する半導体層(ここでは非晶質シリコン層)を54nmの厚さで形成した。 Then film formation temperature 300 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, N 2 O silicon oxynitride made from film (composition ratio Si = 32%, O = 59 %, N = 7%, H = 2%) was laminated to a thickness of 100 nm, further deposition temperature 300 ° C. by a plasma CVD method without air release, the semiconductor layer having an amorphous structure in the film forming gas SiH 4 (here, an amorphous silicon layer) It was formed with a thickness of 54nm.
【0060】 [0060]
次いで、重量換算で10ppmのニッケルを含む酢酸ニッケル塩溶液をスピナーで塗布する。 It is then applied by a spinner nickel acetate solution containing 10ppm of nickel by weight. 塗布に代えてスパッタ法でニッケル元素を全面に散布する方法を用いてもよい。 Nickel by sputtering instead of coating may be used a method of spraying on the entire surface. 次いで、加熱処理を行い結晶化させて結晶構造を有する半導体膜(ここではポリシリコン層)を形成する。 Was then heat treatment is performed for crystallization to form a semiconductor film (here, a polysilicon layer) having a crystalline structure. ここでは脱水素化のための熱処理(500℃、1時間)の後、結晶化のための熱処理(550℃、4時間)を行って結晶構造を有するシリコン膜を得た。 Here the heat treatment (500 ° C., 1 hour) for dehydrogenation after heat treatment (550 ° C., 4 hours) for crystallization to obtain a silicon film having a crystalline structure by performing a.
【0061】 [0061]
次いで、粘着テープをポリシリコン層の一部に貼り付け、人間の手によって粘着テープと基板とが分離するように引っ張った。 Then, paste the adhesive tape to a part of the polysilicon layer, and the adhesive tape and the substrate by the hand of man is pulled to separate. すると、粘着テープを貼った所のみが剥離し、テープに転写された。 Then, only where it pasted adhesive tape was peeled off, it has been transferred to the tape. 基板側の剥離境界におけるTEM写真を図20(A)に示し、その摸式図を図20(B)に示した。 TEM photographs of the peeling boundary on the substrate side shown in FIG. 20 (A), showed the schematic diagram in FIG. 20 (B).
【0062】 [0062]
図20に示したように、窒化チタン層は、ガラス基板上に全面残っており、テープを貼って転写された部分はきれいに転写され、積層(スパッタ法によるSiO 2膜、PCVD法による絶縁膜(1)及び(2)、ポリシリコン膜)がなくなっている。 As shown in FIG. 20, the titanium nitride layer is still entirely on a glass substrate, portions transferred taped is cleanly transferred, laminated (SiO 2 film by sputtering, the insulating by PCVD method film ( 1) and (2), a polysilicon film) is missing. これらのことから、窒化チタン層とスパッタ法によるSiO 2膜との界面で剥離が生じていることがわかる。 From these results, it can be seen that the peeling at the interface between the SiO 2 film occurs by a titanium nitride layer and the sputtering method.
【0063】 [0063]
(実験3) (Experiment 3)
ここで、窒化物層または金属層の材料をTiN、W、WNとした場合、窒化物層または金属層に接して酸化物層(酸化シリコン:膜厚200nm)を設け、酸化物層上に設けた被剥離層を基板から剥離できるかどうかを確認するため、以下の実験を行った。 Here, the material of the nitride layer or metal layer TiN, W, when the WN, the oxide layer in contact with the nitride layer or metal layer: providing a (silicon oxide film thickness 200 nm) is provided, the oxide layer the layer to be peeled to see if can be peeled from the substrate, the following experiment was performed.
【0064】 [0064]
サンプル1として、ガラス基板上にスパッタ法を用い、100nmの膜厚でTiNを形成した後、スパッタ法を用い、200nmの膜厚の酸化シリコン膜を形成した。 As a sample 1, a sputtering method using a glass substrate, after forming a TiN with a thickness of 100 nm, using a sputtering method to form a silicon oxide film having a thickness of 200 nm. 酸化シリコン膜の形成以降は、実験1と同様に積層および結晶化を行った。 After the formation of the silicon oxide film was subjected to the same stacking and crystallization in Experiment 1.
【0065】 [0065]
サンプル2として、ガラス基板上にスパッタ法を用い、50nmの膜厚でWを形成した後、スパッタ法を用い、200nmの膜厚の酸化シリコン膜を形成した。 As Sample 2, a sputtering method using a glass substrate, after forming a W with a thickness of 50 nm, using a sputtering method to form a silicon oxide film having a thickness of 200 nm. 酸化シリコン膜の形成以降は、実験1と同様に積層および結晶化を行った。 After the formation of the silicon oxide film was subjected to the same stacking and crystallization in Experiment 1.
【0066】 [0066]
サンプル3として、ガラス基板上にスパッタ法を用い、50nmの膜厚でWNを形成した後、スパッタ法を用い、200nmの膜厚の酸化シリコン膜を形成した。 As sample 3, a sputtering method using a glass substrate, after forming a WN with a thickness of 50 nm, using a sputtering method to form a silicon oxide film having a thickness of 200 nm. 酸化シリコン膜の形成以降は、実験1と同様に積層および結晶化を行った。 After the formation of the silicon oxide film was subjected to the same stacking and crystallization in Experiment 1.
【0067】 [0067]
このようにサンプル1〜3を形成し、被剥離層に粘着テープを接着して剥離するかどうか実験した。 Thus the sample 1-3 was formed, it was examined whether peeled by bonding a pressure-sensitive adhesive tape layer to be peeled. その結果を表1に示す。 The results are shown in Table 1.
【0068】 [0068]
【表1】 [Table 1]
【0069】 [0069]
また、酸化シリコン膜、TiN膜、W膜のそれぞれについて、熱処理(550℃、4時間)前後での内部応力を測定した。 Further, a silicon oxide film, for each of the TiN film, W film, a heat treatment (550 ° C., 4 hours) was measured internal stress before and after. その結果を表2に示す。 The results are shown in Table 2.
【0070】 [0070]
【表2】 [Table 2]
【0071】 [0071]
なお、酸化シリコン膜は、シリコン基板上にスパッタ法で400nmの膜厚で成膜したものを測定しており、TiN膜、W膜においては、ガラス基板上にスパッタ法で400nmの膜厚で成膜した後、内部応力を測定し、その後、キャップ膜として酸化シリコン膜を積層し、熱処理を行った後でキャップ膜をエッチングで除去して再度、内部応力を測定した。 Incidentally, the silicon oxide film is measured what was deposited thereon to a thickness of 400nm by sputtering on a silicon substrate, TiN film, in the W film, a film thickness of 400nm by sputtering on a glass substrate formed after film to measure the internal stress, then a silicon oxide film is deposited as a cap layer, again by removing the cap film by etching after performing the heat treatment was measured internal stress. また、それぞれサンプルは2つ作製し、測定を行った。 Also, each sample was prepared two, was measured.
【0072】 [0072]
W膜においては、成膜直後では圧縮応力(約−7×10 9 (Dyne/cm 2 ))を有しているが、熱処理によって引張応力(約8×10 9 〜9×10 9 (Dyne/cm 2 ))を有する膜になっており、剥離状態は良好であった。 In the W film, but just after the film formation has a compressive stress (about -7 × 10 9 (Dyne / cm 2)), tensile by heat treatment stress (approximately 8 × 10 9 ~9 × 10 9 (Dyne / cm 2)) has become a film having a peeling state was good. TiN膜に関しては熱処理前後で応力はほとんど変わらず、引張応力(約3.9×10 9 〜4.5×10 9 (Dyne/cm 2 ))を有したままであった。 Hardly changed stress before and after the heat treatment with respect to TiN film remained having a tensile stress (about 3.9 × 10 9 ~4.5 × 10 9 (Dyne / cm 2)). また、酸化シリコン膜に関しては熱処理前後で応力はほとんど変わらず、圧縮応力(約−9.4×10 8 〜−1.3×10 9 (Dyne/cm 2 ))を有したままであった。 Further, the stress hardly changes before and after the heat treatment with respect to a silicon oxide film, compressive stress (about -9.4 × 10 8 ~-1.3 × 10 9 (Dyne / cm 2)) remained had.
【0073】 [0073]
これらの結果から、剥離現象は、様々な要因による密着性と関係するが、特に内部応力と深い関係があり、窒化物層または金属層の上に酸化物層を形成した場合、窒化物層または金属層と酸化物層との界面から被剥離層を全面に渡って剥離することができることが読み取れる。 These results, peeling phenomenon is related to adhesion due to various factors, in particular an internal stress and closely related, the case of forming the oxide layer on the nitride layer or metal layer, nitride layer or that can be peeled over the layer to be peeled on the entire surface from the interface between the metal layer and the oxide layer can be read.
【0074】 [0074]
(実験4) (Experiment 4)
加熱温度の依存性を調べるため、以下の実験を行った。 To examine the dependence of the heating temperature, the following experiment was performed.
【0075】 [0075]
サンプルとして、ガラス基板上にスパッタ法を用い、50nmの膜厚でW膜(タングステン膜)を形成した後、スパッタ法(シリコンターゲットを用い、アルゴンガス流量10sccm、酸素ガス流量30sccm、成膜圧力0.4Pa、スパッタ電力3kW、基板温度300℃)を用い、200nmの膜厚の酸化シリコン膜を形成した。 As a sample, a sputtering method using a glass substrate, after forming a W film (tungsten film) with a film thickness of 50 nm, a sputtering method (silicon target with an argon gas flow rate of 10 sccm, an oxygen gas flow rate 30 sccm, the film formation pressure 0 .4Pa, sputtering power 3 kW, a substrate temperature of 300 ° C.), to form a silicon oxide film having a thickness of 200 nm. 次いで、実験1と同様にプラズマCVD法により下地絶縁層(酸化窒化シリコン膜50nmと酸化窒化シリコン膜100nm)、非晶質シリコン膜を54nmの厚さで形成する。 Then, Experiment 1 similarly to the base insulating layer (silicon oxynitride film 50nm silicon oxynitride film 100 nm) by a plasma CVD method, an amorphous silicon film with a thickness of 54 nm.
【0076】 [0076]
次いで、加熱温度の条件を振って熱処理を行った後、接着剤を用いて石英基板を非晶質シリコン膜(或いはポリシリコン膜)表面に貼り付け、人間の手によって石英基板とガラス基板とが分離するように引っ張り、剥離可能かどうかを調べた。 Then, by heat treatment shaking conditions of a heating temperature, paste the quartz substrate to the amorphous silicon film (or a polysilicon film) surface using an adhesive, and a quartz substrate and a glass substrate by the hand of man pulling in to separate, it was examined whether it is possible to peel. 加熱温度の条件1として、500℃、1時間、条件2として450℃、1時間、条件3として425℃、1時間、条件4として410℃、1時間、条件5として400℃、1時間、条件6として350℃、1時間とした。 Condition 1 heating temperature, 500 ° C., 1 hour, 450 ° C. as the condition 2, 1 hour, condition 3 as 425 ° C., 1 hour, condition 4 as 410 ° C., 1 hour, 400 ° C. as the condition 5, 1 hour, conditions 6 as 350 ° C., was 1 hour.
【0077】 [0077]
実験の結果、条件1〜4のサンプルでは剥離することができたが、条件5、条件6のサンプルでは剥離ができなかった。 The results of the experiment, it was possible to peel the sample conditions 1-4, condition 5, the sample conditions 6 could not be peeled off. 従って、本発明の剥離方法においては、少なくとも410℃以上の熱処理を行うことが好ましい。 Therefore, in the separation method of the present invention, it is preferable to perform at least 410 ° C. or more heat treatment. この410℃以上の温度とは水素が膜中から放出または膜中に拡散する温度である。 And the 410 ° C. temperature above the temperature at which hydrogen is diffused into the release or film from the film.
【0078】 [0078]
また、剥離させた際、W膜は、ガラス基板上に全面残っており、石英基板上に、積層(スパッタ法によるSiO 2膜、PCVD法による絶縁膜(1)及び(2)、非晶質シリコン膜)が転写される。 Also, when was peeled, W film is left entirely on a glass substrate, a quartz substrate, laminated (SiO 2 film by sputtering, the insulating by PCVD method film (1) and (2), amorphous silicon film) is transferred. 転写されたSiO 2膜表面をTXRFで測定した結果が図21であり、またAFMで測定すると表面粗さRz(30ポイント)は5.44nmであった。 A result of measuring the transferred SiO 2 film surface TXRF is 21, and the surface roughness Rz (30 point) as measured by AFM was 5.44Nm. また、リファレンスとして石英基板上に形成した50nmのW膜表面をTXRFで測定した結果が図22であり、AFMで測定すると表面粗さRz(30ポイント)は22.8nmであった。 As a result of measurement of a W film surface of 50nm formed on a quartz substrate as a reference in TXRF is 22, the surface roughness Rz (30 point) as measured by AFM was 22.8Nm. また、石英基板のみをTXRFで測定した結果が図23である。 As a result of measurement of a quartz substrate only TXRF is 23. 図21と図22とを比較すると同様のW(タングステン)のピークを有していることから、転写されたSiO 2膜表面には微小の金属材料(ここではW)が付着していることがわかる。 Since it has a peak similar W (tungsten) Comparing Figure 21 and Figure 22, the transferred SiO 2 film surface that fine metallic material (for W in this case) is attached Understand.
【0079】 [0079]
本明細書で開示する本発明の構成は、 Configuration of the present invention disclosed herein,
支持体に接着材で接着された被剥離層は、酸化シリコン膜を有し、酸化シリコン膜と接着材との間には微量の金属材料を有する半導体装置である。 Layer to be peeled is bonded by adhesive to the support has a silicon oxide film, is formed between the adhesive and the silicon oxide film is a semiconductor device having a metal material traces.
【0080】 [0080]
上記構成において、前記金属材料は、W、Ti、Al、Ta、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料であることを特徴としている。 In the above configuration, the metallic material is chosen W, Ti, Al, Ta, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, a Pt element or is characterized in that said element is an alloy material or a compound material mainly.
【0081】 [0081]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
本発明の実施形態について、以下に説明する。 Embodiments of the present invention will be described below.
【0082】 [0082]
(実施の形態1) (Embodiment 1)
以下に本発明を用いた代表的な剥離手順を簡略に図1を用いて示す。 Simplified typical ablation procedure using the present invention is shown below with reference to FIG.
【0083】 [0083]
図1(A)中、10は基板、11は窒化物層または金属層、12は酸化物層、13は被剥離層である。 In Figure 1 (A), 10 denotes a substrate, 11 is a nitride layer or a metal layer, 12 is an oxide layer, 13 is a layer to be peeled.
【0084】 [0084]
図1(A)において、基板10はガラス基板、石英基板、セラミック基板などを用いることができる。 In FIG. 1 (A), the substrate 10 may be a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, or the like. また、シリコン基板、金属基板またはステンレス基板を用いても良い。 The silicon substrate may be a metal substrate or a stainless steel substrate.
【0085】 [0085]
まず、図1(A)に示すように基板10上に窒化物層または金属層11を形成する。 First, a nitride layer or metal layer 11 on the substrate 10 as shown in FIG. 1 (A). 窒化物層または金属層11として、代表的な一例はTi、Al、Ta、W、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの積層、或いは、これらの窒化物、例えば、窒化チタン、窒化タングステン、窒化タンタル、窒化モリブデンからなる単層、またはこれらの積層を用いればよい。 As the nitride layer or metal layer 11, a typical example is Ti, Al, Ta, W, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, element selected from Pt or a single layer made of an alloy material or a compound material containing the element as its main component, or laminated thereof, or a nitride thereof, for example, titanium nitride, tungsten nitride, tantalum nitride, molybdenum nitride single layer made of, or may be used for these layers.
【0086】 [0086]
次いで、窒化物層または金属層11上に酸化物層12を形成する。 Next, an oxide layer 12 on the nitride layer or metal layer 11. 酸化物層12として、代表的な一例は酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化金属材料を用いればよい。 As the oxide layer 12, a typical example is silicon oxide, silicon oxynitride, it may be used a metal oxide material. なお、酸化物層12は、スパッタ法、プラズマCVD法、塗布法などのいずれの成膜方法を用いてもよい。 Note that the oxide layer 12, a sputtering method, a plasma CVD method, may be used any film forming method such as a coating method.
【0087】 [0087]
本発明においては、この酸化物層12の膜応力と、窒化物層または金属層11の膜応力とを異ならせることが重要である。 In the present invention, the film stress of the oxide layer 12, be made different from the film stress of the nitride layer or metal layer 11 is important. 各々の膜厚は、1nm〜1000nmの範囲で適宜設定し、各々の膜応力を調節すればよい。 Each film thickness is appropriately set in a range of 1 nm to 1000 nm, it may be adjusted each membrane stress. また、図1では、プロセスの簡略化を図るため、基板10に接して窒化物層または金属層11を形成した例を示したが、基板10と窒化物層または金属層11との間に絶縁層や金属層を設け、基板10との密着性を向上させてもよい。 Further, in FIG. 1, in order to simplify the process, an example of forming a nitride layer or metal layer 11 in contact with the substrate 10, isolation between the substrate 10 and the nitride layer or metal layer 11 the layers and metal layers may be provided to improve the adhesion to the substrate 10.
【0088】 [0088]
次いで、酸化物層12上に被剥離層13を形成する。 Then, a peeled layer 13 on the oxide layer 12. (図1(A))被剥離層13は、TFTを代表とする様々な素子(薄膜ダイオード、シリコンのPIN接合からなる光電変換素子やシリコン抵抗素子)を含む層とすればよい。 (FIG. 1 (A)) layer to be peeled 13 may be a layer containing a different element typified by TFT (thin film diode, a photoelectric conversion element and silicon resistor element made of a PIN junction of silicon). また、基板10の耐え得る範囲の熱処理を行うことができる。 Further, the heat treatment can be performed in a range that can withstand the substrate 10. なお、本発明において、酸化物層12の膜応力と、窒化物層または金属層11の膜応力が異なっていても、被剥離層13の作製工程における熱処理によって膜剥がれなどが生じない。 In the present invention, the film stress of the oxide layer 12, also have different film stress of the nitride layer or metal layer 11, it does not occur such as film peeling by heat treatment in the manufacturing process of the peeling layer 13.
【0089】 [0089]
次いで、窒化物層または金属層11が設けられている基板10を物理的手段により引き剥がす。 Then, peeled by a physical means to the substrate 10 on which the nitride layer or metal layer 11 is provided. (図1(B))酸化物層12の膜応力と、窒化物層または金属層11の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 (FIG. 1 (B)) and the film stress of the oxide layer 12, since the film stress of the nitride layer or metal layer 11 are different, can be peeled with a relatively small force. また、ここでは、被剥離層13の機械的強度が十分であると仮定した例を示しているが、被剥離層13の機械的強度が不十分である場合には、被剥離層13を固定する支持体(図示しない)を貼りつけた後、剥離することが好ましい。 Further, here, the mechanical strength of the layer to be peeled 13 is an example where it is assumed to be sufficient, if the mechanical strength of the layer to be peeled 13 is insufficient, the fixed layer to be peeled 13 after pasted support (not shown) that, it is preferable to peel.
【0090】 [0090]
こうして、酸化物層12上に形成された被剥離層13を基板10から分離することができる。 Thus, the layer to be peeled 13 formed on the oxide layer 12 can be separated from the substrate 10. 剥離後の状態を図1(C)に示す。 A state after peeling is shown in FIG. 1 (C).
【0091】 [0091]
実験では、金属層11としてタングステン膜10nm、酸化物層12としてスパッタ法による酸化シリコン膜200nmであっても本発明の剥離法により剥離が確認でき、金属層11としてタングステン膜50nmと酸化物層12としてスパッタ法による酸化シリコン膜100nmであっても本発明の剥離法により剥離が確認できている。 In the experiment, the tungsten film 10nm as the metal layer 11, even a silicon oxide film 200nm by a sputtering method as the oxide layer 12 can be confirmed peeled by the separation method of the present invention, a tungsten film 50nm oxide layer 12 as a metal layer 11 even a silicon oxide film 100nm by sputtering has confirmed peeled by the separation method of the present invention as. また、金属層11としてタングステン膜50nmと酸化物層12としてスパッタ法による酸化シリコン膜400nmであっても本発明の剥離法により剥離が確認できている。 Further, even in a silicon oxide film 400nm by sputtering method as the oxide layer 12 and the tungsten film 50nm removed by peeling method of the present invention it is confirmed as the metal layer 11.
【0092】 [0092]
また、剥離した後、引き剥がした被剥離層13を転写体(図示しない)に貼り付けてもよい。 Further, after peeling may be adhered to the release layer 13 peel the transfer member (not shown).
【0093】 [0093]
また、本発明は様々な半導体装置の作製方法に用いることができる。 Further, the present invention can be used in a method for manufacturing a variety of semiconductor devices. 特に、転写体や支持体をプラスチック基板とすることで、軽量化が図れる。 In particular, the transfer member and the support member by a plastic substrate, weight reduction can be achieved.
【0094】 [0094]
液晶表示装置を作製する場合は、支持体を対向基板とし、シール材を接着材として用いて支持体を被剥離層に接着すればよい。 Case of manufacturing a liquid crystal display device, the support and the counter substrate, a support with a sealant as an adhesive material may be adhered to the layer to be peeled. この場合、被剥離層に設けられた素子は画素電極を有しており、該画素電極と、前記対向基板との間には液晶材料が充填されるようにする。 In this case, the element provided in the layer to be peeled has a pixel electrode, a pixel electrode, between the said opposing substrate so that the liquid crystal material is filled. また、液晶表示装置を作製する順序は、特に限定されず、支持体としての対向基板を貼りつけ、液晶を注入した後に基板を剥離して転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてもよいし、画素電極を形成した後、基板を剥離し、第1の転写体としてのプラスチック基板を貼り付けた後、第2の転写体としての対向基板を貼りつけてもよい。 The order of manufacturing the liquid crystal display device is not particularly limited, pasted the counter substrate as a support, it may be pasted plastic substrate as a transfer member is peeled off the substrate after injecting the liquid crystal, after forming the pixel electrode, peeling off the substrate, was attached to a plastic substrate as a first transfer member, it may be attached to a counter substrate as a second transfer member.
【0095】 [0095]
また、EL素子を有する発光装置として代表される発光装置を作製する場合は、支持体を封止材として、外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐように発光素子を外部から完全に遮断することが好ましい。 In manufacturing a light-emitting device represented as a light-emitting device having an EL element, a support as a sealing material, so that the material to promote deterioration of the organic compound layer such as moisture or oxygen from the outside prevented from entering it is preferable to completely cut off the light emitting element from the outside. また、EL素子を有する発光装置として代表される発光装置を作製する場合は、支持体だけでなく、転写体も同様、十分に外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐことが好ましい。 In manufacturing a light-emitting device represented as a light-emitting device having an EL element, not only the support, also transcript, material penetrates to promote degradation of sufficient organic compound layer from the outside such as moisture and oxygen to prevent it is preferable. また、発光装置を作製する順序は、特に限定されず、発光素子を形成した後、支持体としてのプラスチック基板を貼りつけ、基板を剥離し、転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてもよいし、発光素子を形成した後、基板を剥離して、第1の転写体としてのプラスチック基板を貼り付けた後、第2の転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてもよい。 The order of manufacturing a light-emitting device is not particularly limited, after forming the light-emitting element, pasted plastic substrate as a support, was peeled off the substrate may be pasted plastic substrate as a transfer member after forming the light-emitting element, and peeling off the substrate, was attached to a plastic substrate as a first transfer member, it may be attached to a plastic substrate as a second transfer member.
【0096】 [0096]
(実施の形態2) (Embodiment 2)
本実施の形態は、被剥離層に接する下地絶縁層を設けて、窒化物層または金属層や基板からの不純物の拡散を防ぎつつ、基板を剥離する剥離手順を簡略に図2を用いて示す。 This embodiment, by providing a base insulating layer in contact with the layer to be peeled, while preventing the diffusion of impurities from the nitride layer or metal layer or a substrate, denoted by briefly to FIG. 2 the peeling procedure for separating the substrate .
【0097】 [0097]
図2(A)中、20は基板、21は窒化物層または金属層、22は酸化物層、23a、23bは下地絶縁層、24は被剥離層である。 In FIG. 2 (A), 20 denotes a substrate, 21 is a nitride layer or a metal layer, 22 is an oxide layer, 23a, 23b are base insulating layer, 24 is a layer to be peeled.
【0098】 [0098]
図2(A)において、基板20はガラス基板、石英基板、セラミック基板などを用いることができる。 In FIG. 2 (A), the substrate 20 may be a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, or the like. また、シリコン基板、金属基板またはステンレス基板を用いても良い。 The silicon substrate may be a metal substrate or a stainless steel substrate.
【0099】 [0099]
まず、図2(A)に示すように基板20上に窒化物層または金属層21を形成する。 First, a nitride layer or metal layer 21 on the substrate 20 as shown in FIG. 2 (A). 窒化物層または金属層21として、代表的な一例はTi、Al、Ta、W、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの積層、或いは、これらの窒化物、例えば、窒化チタン、窒化タングステン、窒化タンタル、窒化モリブデンからなる単層、またはこれらの積層を用いればよい。 As the nitride layer or metal layer 21, a typical example is Ti, Al, Ta, W, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, element selected from Pt or a single layer made of an alloy material or a compound material containing the element as its main component, or laminated thereof, or a nitride thereof, for example, titanium nitride, tungsten nitride, tantalum nitride, molybdenum nitride single layer made of, or may be used for these layers.
【0100】 [0100]
次いで、窒化物層または金属層21上に酸化物層22を形成する。 Next, an oxide layer 22 on the nitride layer or metal layer 21. 酸化物層22として、代表的な一例は酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化金属材料を用いればよい。 As the oxide layer 22, a typical example is silicon oxide, silicon oxynitride, it may be used a metal oxide material. なお、酸化物層22は、スパッタ法、プラズマCVD法、塗布法などのいずれの成膜方法を用いてもよい。 Note that the oxide layer 22, a sputtering method, a plasma CVD method, may be used any film forming method such as a coating method.
【0101】 [0101]
本発明においては、この酸化物層22の膜応力と、窒化物層または金属層21の膜応力とを異ならせることが重要である。 In the present invention, the film stress of the oxide layer 22, be made different from the film stress of the nitride layer or metal layer 21 is important. 各々の膜厚は、1nm〜1000nmの範囲で適宜設定し、各々の膜応力を調節すればよい。 Each film thickness is appropriately set in a range of 1 nm to 1000 nm, it may be adjusted each membrane stress. また、図2では、プロセスの簡略化を図るため、基板20に接して窒化物層または金属層21を形成した例を示したが、基板20と窒化物層または金属層21との間に絶縁層や金属層を設け、基板20との密着性を向上させてもよい。 Further, in FIG. 2, in order to simplify the process, an example of forming a nitride layer or metal layer 21 in contact with the substrate 20, isolation between the substrate 20 and the nitride layer or metal layer 21 the layers and metal layers may be provided to improve the adhesion to the substrate 20.
【0102】 [0102]
次いで、酸化物層22上に下地絶縁層23a、23bを形成する。 Then formed over the oxide layer 22 underlying the insulating layer 23a, a 23b. ここでは、プラズマCVD法で成膜温度400℃、原料ガスSiH 4 、NH 3 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜23a(組成比Si=32%、O=27%、N=24%、H=17%)を50nm(好ましくは10〜200nm)形成し、さらにプラズマCVD法で成膜温度400℃、原料ガスSiH 4 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜23b(組成比Si=32%、O=59%、N=7%、H=2%)を100nm(好ましくは50〜200nm)の厚さに積層したが、特に限定されず、単層もしくは3層以上の積層であってもよい。 Here, the film formation temperature of 400 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, NH 3, N 2 silicon oxynitride made from O film 23a (composition ratio Si = 32%, O = 27 %, N = 24% , H = a 17%) 50 nm (preferably 10 to 200 nm) is formed, further deposition temperature 400 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, N 2 silicon oxynitride made from O film 23b (composition ratio: Si = 32%, O = 59%, N = 7%, was laminated H = 2%) to a thickness of 100 nm (preferably 50 to 200 nm), not particularly limited, a single layer or three or more layers it may be.
【0103】 [0103]
次いで、下地絶縁層23b上に被剥離層24を形成する。 Then, a peeled layer 24 on the underlying insulating layer 23b. (図2(A)) (FIG. 2 (A))
【0104】 [0104]
このような2層の下地絶縁層23a、23bとした場合、被剥離層24を形成するプロセスにおいて、窒化物層または金属層21や基板20からの不純物の拡散を防ぐことができる。 Base insulating layer 23a of such a two-layer, when a 23b, in the process of forming the layer to be peeled 24, it is possible to prevent diffusion of impurities from the nitride layer or metal layer 21 and the substrate 20. また、下地絶縁層23a、23bにより酸化物層22と被剥離層24との密着性を向上させることもできる。 Further, the base insulating layer 23a, also improve the adhesion between the oxide layer 22 and the layer to be peeled 24 by 23b.
【0105】 [0105]
また、窒化物層または金属層21や酸化物層22によって表面に凹凸が形成された場合、下地絶縁層を形成する前後に表面を平坦化してもよい。 Furthermore, if the uneven surface by the nitride layer or metal layer 21 and oxide layer 22 is formed, it may be planarized surface before and after forming the base insulating layer. 平坦化を行った方が、被剥離層24においてカバレッジが良好となり、素子を含む被剥離層24を形成する場合、素子特性が安定しやすいため好ましい。 Is better to perform planarization, the coverage becomes good in the layer to be peeled 24, the case of forming the layer to be peeled 24 that contains the element, the element characteristic is preferable for easily stabilized. なお、この平坦化処理として、塗布膜(レジスト膜等)を形成した後エッチングなどを行って平坦化するエッチバック法や機械的化学的研磨法(CMP法)等を用いればよい。 As the planarization process may be used for coating film etch-back method to flatten performed such as etching after (resist film) is formed and chemical mechanical polishing (CMP method).
【0106】 [0106]
次いで、窒化物層または金属層21が設けられている基板20を物理的手段により引き剥がす。 Then, peeled by a physical means to the substrate 20 on which the nitride layer or metal layer 21 is provided. (図2(B))酸化物層22の膜応力と、窒化物層または金属層21の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 (FIG. 2 (B)) and the film stress of the oxide layer 22, since the film stress of the nitride layer or metal layer 21 are different, can be peeled with a relatively small force. また、ここでは、被剥離層24の機械的強度が十分であると仮定した例を示しているが、被剥離層24の機械的強度が不十分である場合には、被剥離層24を固定する支持体(図示しない)を貼りつけた後、剥離することが好ましい。 Further, here, the mechanical strength of the layer to be peeled 24 is an example where it is assumed to be sufficient, if the mechanical strength of the layer to be peeled 24 is insufficient, the fixed layer to be peeled 24 after pasted support (not shown) that, it is preferable to peel.
【0107】 [0107]
こうして、下地絶縁層22上に形成された被剥離層24を基板20から分離することができる。 Thus, it is possible to separate the peeling layer 24 formed on the base insulating layer 22 from the substrate 20. 剥離後の状態を図2(C)に示す。 A state after peeling is shown in FIG. 2 (C).
【0108】 [0108]
また、剥離した後、引き剥がした被剥離層24を転写体(図示しない)に貼り付けてもよい。 Further, after peeling may be adhered to the release layer 24 which peel the transfer member (not shown).
【0109】 [0109]
また、本発明は様々な半導体装置の作製方法に用いることができる。 Further, the present invention can be used in a method for manufacturing a variety of semiconductor devices. 特に、転写体や支持体をプラスチック基板とすることで、軽量化が図れる。 In particular, the transfer member and the support member by a plastic substrate, weight reduction can be achieved.
【0110】 [0110]
液晶表示装置を作製する場合は、支持体を対向基板とし、シール材を接着材として用いて支持体を被剥離層に接着すればよい。 Case of manufacturing a liquid crystal display device, the support and the counter substrate, a support with a sealant as an adhesive material may be adhered to the layer to be peeled. この場合、被剥離層に設けられた素子は画素電極を有しており、該画素電極と、前記対向基板との間には液晶材料が充填されるようにする。 In this case, the element provided in the layer to be peeled has a pixel electrode, a pixel electrode, between the said opposing substrate so that the liquid crystal material is filled. また、液晶表示装置を作製する順序は、特に限定されず、支持体としての対向基板を貼りつけ、液晶を注入した後に基板を剥離して転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてもよいし、画素電極を形成した後、基板を剥離し、第1の転写体としてのプラスチック基板を貼り付けた後、第2の転写体としての対向基板を貼りつけてもよい。 The order of manufacturing the liquid crystal display device is not particularly limited, pasted the counter substrate as a support, it may be pasted plastic substrate as a transfer member is peeled off the substrate after injecting the liquid crystal, after forming the pixel electrode, peeling off the substrate, was attached to a plastic substrate as a first transfer member, it may be attached to a counter substrate as a second transfer member.
【0111】 [0111]
また、EL素子を有する発光装置として代表される発光装置を作製する場合は、支持体を封止材として、外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐように発光素子を外部から完全に遮断することが好ましい。 In manufacturing a light-emitting device represented as a light-emitting device having an EL element, a support as a sealing material, so that the material to promote deterioration of the organic compound layer such as moisture or oxygen from the outside prevented from entering it is preferable to completely cut off the light emitting element from the outside. また、EL素子を有する発光装置として代表される発光装置を作製する場合は、支持体だけでなく、転写体も同様、十分に外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐことが好ましい。 In manufacturing a light-emitting device represented as a light-emitting device having an EL element, not only the support, also transcript, material penetrates to promote degradation of sufficient organic compound layer from the outside such as moisture and oxygen to prevent it is preferable. また、発光装置を作製する順序は、特に限定されず、発光素子を形成した後、支持体としてのプラスチック基板を貼りつけ、基板を剥離し、転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてもよいし、発光素子を形成した後、基板を剥離して、第1の転写体としてのプラスチック基板を貼り付けた後、第2の転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてもよい。 The order of manufacturing a light-emitting device is not particularly limited, after forming the light-emitting element, pasted plastic substrate as a support, was peeled off the substrate may be pasted plastic substrate as a transfer member after forming the light-emitting element, and peeling off the substrate, was attached to a plastic substrate as a first transfer member, it may be attached to a plastic substrate as a second transfer member.
【0112】 [0112]
(実施の形態3) (Embodiment 3)
本実施の形態においては、実施の形態1に加えて、さらに剥離を助長させるため、レーザー光の照射または加熱処理を行う例を図4に示す。 In the present embodiment, in addition to the first embodiment, in order to further promote peeling, it shows an example of performing irradiation or heat treatment with the laser beam in FIG.
【0113】 [0113]
図4(A)中、40は基板、41は窒化物層または金属層、42は酸化物層、43は被剥離層である。 4 in (A), 40 denotes a substrate, 41 is a nitride layer or a metal layer, 42 is an oxide layer, 43 is a layer to be peeled.
【0114】 [0114]
被剥離層43まで形成する工程は、実施の形態1と同一であるので省略する。 Forming up the layer to be peeled 43 is omitted are the same as the first embodiment.
【0115】 [0115]
被剥離層43を形成した後、レーザー光の照射を行う。 After forming the layer to be peeled 43, performs laser light irradiation. (図3(A))レーザー光としては、エキシマレーザー等の気体レーザーや、YVO 4レーザーやYAGレーザーなどの固体レーザーや、半導体レーザーを用いればよい。 The (FIG. 3 (A)) laser, or a gas laser such as an excimer laser, or a solid-state laser such as YVO 4 laser or YAG laser, may be used a semiconductor laser. また、レーザー発振の形態は、連続発振、パルス発振のいずれでもよく、レーザービームの形状も線状、矩形状、円状、楕円状のいずれでもよい。 Further, the form of laser oscillation may continuous oscillation, either pulsed, laser beam shape linear, rectangular, circular, may be either elliptical. また、使用する波長は、基本波、第2高調波、第3高調波のいずれでもよい。 The wavelength used is fundamental, second harmonic may be any of the third harmonic.
【0116】 [0116]
また、窒化物層または金属層41として用いる材料は、レーザー光を吸収しやすい材料を用いることが望ましく、窒化チタンが好ましい。 The material used as the nitride layer or metal layer 41, it is desirable to use a material that easily absorbs the laser beam, titanium nitride is preferred. なお、レーザー光を通過させるため、基板40は透光性を有している基板を用いる。 Incidentally, for passing the laser beam, the substrate 40 is a substrate having translucency.
【0117】 [0117]
次いで、窒化物層または金属層41が設けられている基板40を物理的手段により引き剥がす。 Then, peeled by a physical means to the substrate 40 on which the nitride layer or metal layer 41 is provided. (図4(B))酸化物層42の膜応力と、窒化物層または金属層41の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 And film stress in (Fig. 4 (B)) oxide layer 42, since the nitride layer or a film stress of the metal layer 41 are different, can be peeled with a relatively small force.
【0118】 [0118]
レーザー光を照射することによって、窒化物層または金属層41と酸化物層42との界面を加熱することにより、互いの膜応力を変化させて、剥離を助長することができ、さらに小さな力で剥離させることができる。 By laser irradiation, by heating the interface between the nitride layer or metal layer 41 and the oxide layer 42, by changing the mutual film stress, it is possible to facilitate the release, further a small force it can be peeled off. また、ここでは、被剥離層43の機械的強度が十分であると仮定した例を示しているが、被剥離層43の機械的強度が不十分である場合には、被剥離層43を固定する支持体(図示しない)を貼りつけた後、剥離することが好ましい。 Further, here, the mechanical strength of the layer to be peeled 43 is an example where it is assumed to be sufficient, if the mechanical strength of the layer to be peeled 43 is insufficient, the fixed layer to be peeled 43 after pasted support (not shown) that, it is preferable to peel.
【0119】 [0119]
こうして、酸化物層42上に形成された被剥離層43を基板40から分離することができる。 Thus, the layer to be peeled 43 formed on the oxide layer 42 can be separated from the substrate 40. 剥離後の状態を図4(C)に示す。 A state after peeling is shown in FIG. 4 (C).
【0120】 [0120]
また、レーザー光に限定されず、ハロゲンランプ等の光源からの可視光、赤外線、紫外線、マイクロ波などを用いてもよい。 The invention is not limited to the laser beam, a visible light from a light source such as a halogen lamp, infrared, ultraviolet, or the like may be used microwave.
【0121】 [0121]
また、レーザー光に代えて電気炉での加熱処理でもよい。 It may also be a heat treatment in an electric furnace in place of the laser beam.
【0122】 [0122]
また、支持体を接着する前、或いは、前記物理的手段により剥離する前に、加熱処理またはレーザー光の照射を行う処理を行ってもよい。 Furthermore, prior to bonding the support, or, prior to peeling by the physical means it may perform processing for performing irradiation heat treatment or laser light.
【0123】 [0123]
また、本実施の形態は、実施の形態2と組み合わせることができる。 Further, this embodiment can be combined with the second embodiment.
【0124】 [0124]
(実施の形態4) (Embodiment 4)
本実施の形態においては、実施の形態1に加えて、さらに剥離を助長させるため、粒状の酸化物を窒化物層または金属層と酸化物層との界面に設ける例を図5に示す。 In the present embodiment, in addition to the first embodiment, in order to further promote the release, an example of providing an oxide granular at the interface of the nitride layer or metal layer and the oxide layer in Fig.
【0125】 [0125]
図5(A)中、50は基板、51は窒化物層または金属層、52aは粒状の酸化物、52bは酸化物層、53は被剥離層である。 Figure 5 (A), 50 denotes a substrate, 51 is a nitride layer or metal layer, 52a oxide particulate, 52b oxide layer, 53 is a layer to be peeled.
【0126】 [0126]
窒化物層または金属層51まで形成する工程は、実施の形態1と同一であるので省略する。 Forming down to the nitride layer or metal layer 51 is omitted are the same as the first embodiment.
【0127】 [0127]
窒化物層または金属層51を形成した後、粒状の酸化物52aを形成する。 After forming the nitride layer or metal layer 51, an oxide 52a granular. 粒状の酸化物52aとしては酸化金属材料、例えば、ITO(酸化インジウム酸化スズ合金)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In 23 ―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等を用いればよい。 Metal oxide materials as the oxide 52a particulate, for example, ITO (indium tin oxide alloy), indium oxide-zinc oxide alloy (In 2 O 3 -ZnO) oxide, may be used zinc oxide (ZnO) and the like.
【0128】 [0128]
次いで、粒状の酸化物52aを覆って酸化物層52bを形成する。 Next, an oxide layer 52b covering the oxide 52a granular. 酸化物層52bとして、代表的な一例は酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化金属材料を用いればよい。 As the oxide layer 52 b, a representative example is silicon oxide, silicon oxynitride, it may be used a metal oxide material. なお、酸化物層23bは、スパッタ法、プラズマCVD法、塗布法などのいずれの成膜方法を用いてもよい。 Note that the oxide layer 23b is a sputtering method, a plasma CVD method, it may be used any film forming method such as a coating method.
【0129】 [0129]
次いで、酸化物層52b上に被剥離層53を形成する。 Then, a peeled layer 53 on the oxide layer 52b. (図5(A)) (FIG. 5 (A))
【0130】 [0130]
次いで、窒化物層または金属層51が設けられている基板50を物理的手段により引き剥がす。 Then, peeled by a physical means to the substrate 50 on which the nitride layer or metal layer 51 is provided. (図5(B))酸化物層52の膜応力と、窒化物層または金属層51の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 And (FIG. 5 (B)) film stress of the oxide layer 52, since the film stress of the nitride layer or metal layer 51 are different, can be peeled with a relatively small force.
【0131】 [0131]
粒状の酸化物52bを設けることによって、窒化物層または金属層51と酸化物層52との結合力を弱め、互いの密着性を変化させて、剥離を助長することができ、さらに小さな力で剥離させることができる。 By providing the oxide 52b granular, weaken the bonding force between the nitride layer or metal layer 51 and the oxide layer 52, by changing the mutual adhesion, it is possible to facilitate the release, further a small force it can be peeled off. また、ここでは、被剥離層53の機械的強度が十分であると仮定した例を示しているが、被剥離層53の機械的強度が不十分である場合には、被剥離層53を固定する支持体(図示しない)を貼りつけた後、剥離することが好ましい。 Further, here, the mechanical strength of the layer to be peeled 53 is an example where it is assumed to be sufficient, if the mechanical strength of the layer to be peeled 53 is insufficient, the fixed layer to be peeled 53 after pasted support (not shown) that, it is preferable to peel.
【0132】 [0132]
こうして、酸化物層52b上に形成された被剥離層53を基板50から分離することができる。 Thus, the layer to be peeled 53 formed on the oxide layer 52b can be separated from the substrate 50. 剥離後の状態を図5(C)に示す。 A state after peeling is shown in FIG. 5 (C).
【0133】 [0133]
また、本実施の形態は、実施の形態2、または実施の形態3と組み合わせることができる。 Further, this embodiment can be combined with Embodiment 2 or Embodiment 3, Embodiment.
【0134】 [0134]
以上の構成でなる本発明について、以下に示す実施例でもってさらに詳細な説明を行うこととする。 The present invention having the above structure will be performed explained in more detail in the following examples.
【0135】 [0135]
(実施例) (Example)
[実施例1] [Example 1]
本発明の実施例を図6〜図8を用いて説明する。 The embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. ここでは、同一基板上に画素部と、画素部の周辺に設ける駆動回路のTFT(nチャネル型TFT及びpチャネル型TFT)を同時に作製する方法について詳細に説明する。 Here, a pixel portion over one substrate is described in detail a method of making TFT of a driver circuit provided in the periphery of the pixel portion (n-channel type TFT and p-channel type TFT) simultaneously.
【0136】 [0136]
まず、基板100上に窒化物層または金属層101、酸化物層102、下地絶縁膜103を形成し、結晶構造を有する半導体膜を得た後、所望の形状にエッチング処理して島状に分離された半導体層104〜108を形成する。 First, the nitride layer or metal layer 101 on the substrate 100, oxide layer 102, forming the base insulating film 103, after obtaining a semiconductor film having a crystalline structure, separated in an island shape by etching into a desired shape forming a semiconductor layer 104 to 108, which is.
【0137】 [0137]
基板100としては、ガラス基板(#1737)を用いる。 As the substrate 100, a glass substrate (# 1737).
【0138】 [0138]
また、金属層101としては、Ti、Al、Ta、W、Mo、Cu、Cr、Nd、Fe、Ni、Co、Zr、Zn、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの積層を用いればよい。 The metal layer 101 has been chosen Ti, Al, Ta, W, Mo, Cu, Cr, Nd, Fe, Ni, Co, Zr, Zn, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, a Pt element , or a single layer made of an alloy material or a compound material containing the element as its main component, or may be used for these layers. さらに好ましくは、これらの窒化物、例えば、窒化チタン、窒化タングステン、窒化タンタル、窒化モリブデンからなる単層、またはこれらの積層を用いればよい。 More preferably, these nitrides, e.g., titanium nitride, tungsten nitride, tantalum nitride, a single layer made of molybdenum nitride, or may be used for these layers. ここではスパッタ法で膜厚100nmの窒化チタン膜を用いる。 Is used here film thickness 100nm titanium nitride film by sputtering.
【0139】 [0139]
また、酸化物層102としては、酸化シリコン材料または酸化金属材料からなる単層、またはこれらの積層を用いればよい。 As oxide layer 102, a single layer made of silicon oxide material or metal oxide material, or may be used for these layers. ここではスパッタ法で膜厚200nmの酸化シリコン膜を用いる。 Here a silicon oxide film having a film thickness of 200nm by sputtering. この金属層101と酸化物層102の結合力は熱処理には強く、膜剥がれ(ピーリングとも呼ばれる)などが生じないが、物理的手段で簡単に酸化物層の層内、あるいは界面において剥離することができる。 Bonding force of the metal layer 101 and the oxide layer 102 is strong to heat treatment, but does not occur such as film peeling (also called peeling), it is peeled off in layers within, or interface simply oxide layer by a physical means can.
【0140】 [0140]
また、下地絶縁膜103としては、プラズマCVD法で成膜温度400℃、原料ガスSiH 4 、NH 3 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜103a(組成比Si=32%、O=27%、N=24%、H=17%)を50nm(好ましくは10〜200nm)形成する。 As the base insulating film 103, a film formation temperature 400 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, NH 3, N 2 silicon oxynitride made from O film 103a (composition ratio Si = 32%, O = 27 %, N = 24%, H = 17%) of 50 nm (preferably 10 to 200 nm) is formed. 次いで、表面をオゾン水で洗浄した後、表面の酸化膜を希フッ酸(1/100希釈)で除去する。 Subsequently, after cleaning the surface with ozone water, to remove the oxide film on the surface with dilute hydrofluoric acid (1/100 dilution). 次いでプラズマCVD法で成膜温度400℃、原料ガスSiH 4 、N 2 Oから作製される酸化窒化シリコン膜103b(組成比Si=32%、O=59%、N=7%、H=2%)を100nm(好ましくは50〜200nm)の厚さに積層形成し、さらに大気解放せずにプラズマCVD法で成膜温度300℃、成膜ガスSiH 4で非晶質構造を有する半導体膜(ここではアモルファスシリコン膜)を54nmの厚さ(好ましくは25〜80nm)で形成する。 Then film formation temperature 400 ° C. by a plasma CVD method, a raw material gas SiH 4, N 2 O silicon oxynitride made from film 103b (composition ratio Si = 32%, O = 59 %, N = 7%, H = 2% ) and 100 nm (preferably laminated in a thickness of 50 to 200 nm), further film-forming temperature 300 ° C. by a plasma CVD method without air release, the semiconductor film (here, having an amorphous structure in the deposition gas SiH 4 in amorphous silicon film) with a thickness of 54 nm (preferably formed of 25 to 80 nm).
【0141】 [0141]
本実施例では下地膜103を2層構造として示したが、前記絶縁膜の単層膜または2層以上積層させた構造として形成しても良い。 In the present embodiment it has been shown for the base film 103 as a two-layer structure, or may be a single layer or by stacking two or more layers structure of the insulating film. また、半導体膜の材料に限定はないが、好ましくはシリコンまたはシリコンゲルマニウム(Si X Ge 1-X (X=0.0001〜0.02))合金などを用い、公知の手段(スパッタ法、LPCVD法、またはプラズマCVD法等)により形成すればよい。 Although there is no limitation on the material of the semiconductor film, preferably silicon or silicon germanium (Si X Ge 1-X ( X = 0.0001~0.02)) such as an alloy, known means (sputtering method, LPCVD law or may be formed by a plasma CVD method, etc.). また、プラズマCVD装置は、枚葉式の装置でもよいし、バッチ式の装置でもよい。 The plasma CVD apparatus may be a single wafer type apparatus, or an apparatus in a batch. また、同一の成膜室で大気に触れることなく下地絶縁膜と半導体膜とを連続成膜してもよい。 Further, a base insulating film and the semiconductor film may be continuously formed without being exposed to air in the same deposition chamber.
【0142】 [0142]
次いで、非晶質構造を有する半導体膜の表面を洗浄した後、オゾン水で表面に約2nmの極薄い酸化膜を形成する。 After cleaning the surface of the semiconductor film having an amorphous structure, to form a very thin oxide film of about 2nm to the surface with ozone water. 次いで、TFTのしきい値を制御するために微量な不純物元素(ボロンまたはリン)のドーピングを行う。 Then, a very small amount of an impurity element (boron or phosphorus) to control a threshold value of the TFT. ここでは、ジボラン(B 26 )を質量分離しないでプラズマ励起したイオンドープ法を用い、ドーピング条件を加速電圧15kV、ジボランを水素で1%に希釈したガス流量30sccm、ドーズ量2×10 12 /cm 2で非晶質シリコン膜にボロンを添加した。 Here, diborane (B 2 H 6) with a mass without separation ion doping method in which plasma excitation of the acceleration voltage 15kV doping condition, the gas flow rate 30sccm diluted to 1% diborane in hydrogen, a dose of 2 × 10 12 It was added boron amorphous silicon film at / cm 2.
【0143】 [0143]
次いで、重量換算で10ppmのニッケルを含む酢酸ニッケル塩溶液をスピナーで塗布する。 It is then applied by a spinner nickel acetate solution containing 10ppm of nickel by weight. 塗布に代えてスパッタ法でニッケル元素を全面に散布する方法を用いてもよい。 Nickel by sputtering instead of coating may be used a method of spraying on the entire surface.
【0144】 [0144]
次いで、加熱処理を行い結晶化させて結晶構造を有する半導体膜を形成する。 Then, a semiconductor film having a crystalline structure is crystallized subjected to heat treatment.
この加熱処理は、電気炉の熱処理または強光の照射を用いればよい。 The heat treatment may be used irradiation heat treatment or strong light electric furnace. 電気炉の熱処理で行う場合は、500℃〜650℃で4〜24時間で行えばよい。 When performing the heat treatment at an electric furnace, it may be performed at 4 to 24 hours at 500 ° C. to 650 ° C.. ここでは脱水素化のための熱処理(500℃、1時間)の後、結晶化のための熱処理(550℃、4時間)を行って結晶構造を有するシリコン膜を得る。 Here the heat treatment (500 ° C., 1 hour) for dehydrogenation obtained after heat treatment (550 ° C., 4 hours) for crystallization of the silicon film having a crystalline structure by performing a. なお、ここでは炉を用いた熱処理を用いて結晶化を行ったが、ランプアニール装置で結晶化を行ってもよい。 Here, although crystallized by using a heat treatment using a furnace, crystallization may be performed by lamp annealing apparatus. なお、ここではシリコンの結晶化を助長する金属元素としてニッケルを用いた結晶化技術を用いたが、他の公知の結晶化技術、例えば固相成長法やレーザー結晶化法を用いてもよい。 Note that, although a crystallization technique using nickel as a metal element for promoting crystallization of silicon may be used other known crystallization techniques, for example, solid-phase growth method and a laser crystallization method.
【0145】 [0145]
次いで、結晶構造を有するシリコン膜表面の酸化膜を希フッ酸等で除去した後、結晶化率を高め、結晶粒内に残される欠陥を補修するための第1のレーザー光(XeCl:波長308nm)の照射を大気中、または酸素雰囲気中で行う。 Then, after removing the oxide film on the surface of the silicon film having a crystal structure with dilute hydrofluoric acid or the like to increase the crystallization rate, the first laser beam for repairing defects remaining in crystal grains (XeCl: wavelength 308nm the irradiation) conducted in air or an oxygen atmosphere. レーザー光には波長400nm以下のエキシマレーザ光や、YAGレーザの第2高調波、第3高調波を用いる。 Excimer laser light below a wavelength of 400nm to the laser beam, the second harmonic of the YAG laser, the third harmonic is used. いずれにしても、繰り返し周波数10〜1000Hz程度のパルスレーザー光を用い、当該レーザー光を光学系にて100〜500mJ/cm 2に集光し、90〜95%のオーバーラップ率をもって照射し、シリコン膜表面を走査させればよい。 In any case, using a pulsed laser beam with a repetition frequency of approximately 10 to 1000 Hz, and condenses the laser beam by an optical system to 100 to 500 mJ / cm 2, and irradiation is performed with an overlap ratio of 90% to 95%, silicon the membrane surface may be scanned. ここでは、繰り返し周波数30Hz、エネルギー密度393mJ/cm 2で第1のレーザー光の照射を大気中で行なう。 Here, a repetition frequency 30 Hz, an energy density of 393mJ / cm 2 to the irradiation of the first laser beam in the atmosphere. なお、大気中、または酸素雰囲気中で行うため、第1のレーザー光の照射により表面に酸化膜が形成される。 Since is performed in the atmosphere or in an oxygen atmosphere, an oxide film is formed on the surface by irradiation of the first laser beam.
【0146】 [0146]
次いで、第1のレーザー光の照射により形成された酸化膜を希フッ酸で除去した後、第2のレーザー光の照射を窒素雰囲気、或いは真空中で行い、半導体膜表面を平坦化する。 After removing the oxide film formed by the irradiation of the first laser beam with dilute hydrofluoric acid, subjected to irradiation of the second laser beam nitrogen atmosphere or in vacuum, to flatten the surface of the semiconductor film. このレーザー光(第2のレーザー光)には波長400nm以下のエキシマレーザー光や、YAGレーザーの第2高調波、第3高調波を用いる。 The excimer laser light or less than the wavelength 400nm This laser beam (second laser beam), the second harmonic of the YAG laser, the third harmonic is used. 第2のレーザー光のエネルギー密度は、第1のレーザー光のエネルギー密度より大きくし、好ましくは30〜60mJ/cm 2大きくする。 Energy density of the second laser light is made larger than the energy density of the first laser light, preferably greater 30~60mJ / cm 2. ここでは、繰り返し周波数30Hz、エネルギー密度453mJ/cm 2で第2のレーザー光の照射を行ない、半導体膜表面における凹凸のP―V値(Peak to Valley、高さの最大値と最小値の差分)が50nm以下となる。 Here, repetition frequency 30 Hz, an energy density of 453mJ / cm 2 performs irradiation of the second laser beam, P-V value of unevenness in the surface of the semiconductor film (Peak-to Valley, difference between the maximum value and the minimum value of the height) but the 50nm or less. このP−V値は、AFM(原子間力顕微鏡)により得られる。 The P-V value is obtained by AFM (atomic force microscope).
【0147】 [0147]
また、本実施例では第2のレーザー光の照射を全面に行ったが、オフ電流の低減は、画素部のTFTに特に効果があるため、少なくとも画素部のみに選択的に照射する工程としてもよい。 Further, in this embodiment it was carried out on the entire surface irradiated with the second laser beam, the amount of off, since it is particularly effective in the TFT of the pixel portion, as the step of selectively irradiating only the least pixel portion good.
【0148】 [0148]
次いで、オゾン水で表面を120秒処理して合計1〜5nmの酸化膜からなるバリア層を形成する。 Then, a barrier layer formed of an oxide film of a total 1~5nm by treating the surface with ozone water for 120 seconds.
【0149】 [0149]
次いで、バリア層上にスパッタ法にてゲッタリングサイトとなるアルゴン元素を含む非晶質シリコン膜を膜厚150nmで形成する。 Then, an amorphous silicon film containing an argon element which serves as a gettering site by sputtering on the barrier layer at a thickness of 150 nm. 本実施例のスパッタ法による成膜条件は、成膜圧力を0.3Paとし、ガス(Ar)流量を50(sccm)とし、成膜パワーを3kWとし、基板温度を150℃とする。 Deposition conditions by sputtering in this embodiment, the deposition pressure is 0.3 Pa, gas (Ar) flow rate and 50 (sccm), the deposition power and 3 kW, a substrate temperature of 0.99 ° C.. なお、上記条件での非晶質シリコン膜に含まれるアルゴン元素の原子濃度は、3×10 20 /cm 3 〜6×10 20 /cm 3 、酸素の原子濃度は1×10 19 /cm 3 〜3×10 19 /cm 3である。 The atomic concentration of argon elements contained in the amorphous silicon film under the above conditions, 3 × 10 20 / cm 3 ~6 × 10 20 / cm 3, the atomic concentration of oxygen 1 × 10 19 / cm 3 ~ 3 is a × 10 19 / cm 3. その後、ランプアニール装置を用いて650℃、3分の熱処理を行いゲッタリングする。 Thereafter, 650 ° C. using a lamp annealing apparatus, gettering is performed a heat treatment for 3 minutes.
【0150】 [0150]
次いで、バリア層をエッチングストッパーとして、ゲッタリングサイトであるアルゴン元素を含む非晶質シリコン膜を選択的に除去した後、バリア層を希フッ酸で選択的に除去する。 Then, the barrier layer as an etching stopper, after selectively removing the amorphous silicon film containing an argon element which is a gettering site, is selectively removed the barrier layer with dilute hydrofluoric acid. なお、ゲッタリングの際、ニッケルは酸素濃度の高い領域に移動しやすい傾向があるため、酸化膜からなるバリア層をゲッタリング後に除去することが望ましい。 At the time of gettering, since nickel tends to move to a region with a high oxygen concentration, it is desirable to remove the barrier layer made of an oxide film after gettering.
【0151】 [0151]
次いで、得られた結晶構造を有するシリコン膜(ポリシリコン膜とも呼ばれる)の表面にオゾン水で薄い酸化膜を形成した後、レジストからなるマスクを形成し、所望の形状にエッチング処理して島状に分離された半導体層104〜108を形成する。 Then, after a thin oxide film is formed from ozone water on the surface of the silicon film (also referred to as a polysilicon film) having the resulting crystal structure, a resist mask is formed, island is etched into a desired shape forming a semiconductor layer 104 to 108 separated into. 半導体層を形成した後、レジストからなるマスクを除去する。 After forming the semiconductor layer, the resist mask is removed.
【0152】 [0152]
次いで、フッ酸を含むエッチャントで酸化膜を除去すると同時にシリコン膜の表面を洗浄した後、ゲート絶縁膜109となる珪素を主成分とする絶縁膜を形成する。 After cleaning the surface of the silicon film at the same time as the oxide film is removed with an etchant containing hydrofluoric acid, to form an insulating film mainly containing silicon serving as a gate insulating film 109. 本実施例では、プラズマCVD法により115nmの厚さで酸化窒化シリコン膜(組成比Si=32%、O=59%、N=7%、H=2%)で形成する。 In this embodiment, a silicon oxynitride film with a thickness of 115nm by plasma CVD (composition ratio Si = 32%, O = 59%, N = 7%, H = 2%) formed by.
【0153】 [0153]
次いで、図6(A)に示すように、ゲート絶縁膜109上に膜厚20〜100nmの第1の導電膜110aと、膜厚100〜400nmの第2の導電膜110bとを積層形成する。 Then, as shown in FIG. 6 (A), a first conductive film 110a with a thickness of 20~100nm on the gate insulating film 109 is laminated and a second conductive film 110b with a thickness of 100 to 400 nm. 本実施例では、ゲート絶縁膜109上に膜厚50nmの窒化タンタル膜、膜厚370nmのタングステン膜を順次積層する。 In this embodiment, sequentially stacked tantalum nitride film with a thickness of 50 nm, a tungsten film having a thickness of 370nm on the gate insulating film 109.
【0154】 [0154]
第1の導電膜及び第2の導電膜を形成する導電性材料としてはTa、W、Ti、Mo、Al、Cuから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料もしくは化合物材料で形成する。 As a conductive material for forming the first conductive film and second conductive film Ta, W, Ti, Mo, Al, element selected from Cu and the elemental alloy material or a compound material containing, Form. また、第1の導電膜及び第2の導電膜としてリン等の不純物元素をドーピングした多結晶シリコン膜に代表される半導体膜や、、AgPdCu合金を用いてもよい。 May also be a semiconductor film and ,, AgPdCu alloy represented by the first conductive film and the polycrystalline silicon film doped with an impurity element such as phosphorus as the second conductive film. また、2層構造に限定されず、例えば、膜厚50nmのタングステン膜、膜厚500nmのアルミニウムとシリコンの合金(Al−Si)膜、膜厚30nmの窒化チタン膜を順次積層した3層構造としてもよい。 Further, not limited to a two-layer structure, for example, a tungsten film having a thickness of 50 nm, a film thickness 500nm of aluminum-silicon alloy (Al-Si) film, a three-layer structure in which sequentially stacked titanium nitride film having a film thickness of 30nm it may be. また、3層構造とする場合、第1の導電膜のタングステンに代えて窒化タングステンを用いてもよいし、第2の導電膜のアルミニウムとシリコンの合金(Al−Si)膜に代えてアルミニウムとチタンの合金膜(Al−Ti)を用いてもよいし、第3の導電膜の窒化チタン膜に代えてチタン膜を用いてもよい。 In the case of the three-layer structure, tungsten nitride may be used instead of tungsten of the first conductive film, and an aluminum in place of the second conductive film of aluminum and silicon alloy (Al-Si) film may be used an alloy film (Al-Ti) of titanium, a titanium film may be used in place of the third conductive titanium nitride layer of the membrane. また、単層構造であってもよい。 Further, it may be a single-layer structure.
【0155】 [0155]
次に、図6(B)に示すように光露光工程によりレジストからなるマスク112〜117を形成し、ゲート電極及び配線を形成するための第1のエッチング処理を行う。 Next, a mask 112 to 117 made of resist by light exposure step as shown in FIG. 6 (B), and a first etching treatment for forming gate electrodes and wirings. 第1のエッチング処理では第1及び第2のエッチング条件で行う。 The first etching processing is performed under first and second etching conditions. エッチングにはICP(Inductively Coupled Plasma:誘導結合型プラズマ)エッチング法を用いると良い。 The etching ICP (Inductively Coupled Plasma: inductive coupled plasma) may be used an etching method. ICPエッチング法を用い、エッチング条件(コイル型の電極に印加される電力量、基板側の電極に印加される電力量、基板側の電極温度等)を適宜調節することによって所望のテーパー形状に膜をエッチングすることができる。 Using ICP etching method, the etching conditions film into a desired tapered shape by adjusting the (amount of power applied to a coiled electrode, the amount of power applied to an electrode on the substrate side, the electrode temperature of the substrate side) as appropriate it can be etched. なお、エッチング用ガスとしては、Cl 2 、BCl 3 、SiCl 4 、CCl 4などを代表とする塩素系ガスまたはCF 4 、SF 6 、NF 3などを代表とするフッ素系ガス、またはO 2を適宜用いることができる。 As an etching gas, Cl 2, BCl 3, SiCl 4, CCl 4 chlorine gas or CF 4 to the typified like, SF 6, fluorine-based gas NF 3 and the like typified, or O 2 as appropriate it can be used.
【0156】 [0156]
本実施例では、基板側(試料ステージ)にも150WのRF(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。 In this embodiment, also supplied RF (13.56 MHz) power of 150W to the substrate side (sample stage) to substantially apply a negative self-bias voltage. なお、基板側の電極面積サイズは、12.5cm×12.5cmであり、コイル型の電極面積サイズ(ここではコイルの設けられた石英円板)は、直径25cmの円板である。 Incidentally, the electrode area size of the substrate side is 12.5 cm × 12.5 cm, coiled electrode area size (here a quartz disc on which the coil is provided) is a disk having a diameter of 25 cm. この第1のエッチング条件によりW膜をエッチングして第1の導電層の端部をテーパー形状とする。 The end portion of the first conductive layer by etching the W film under the first etching condition is tapered. 第1のエッチング条件でのWに対するエッチング速度は200.39nm/min、TaNに対するエッチング速度は80.32nm/minであり、TaNに対するWの選択比は約2.5である。 Etching rate to W in the first etching conditions etching rate of 200.39 nm / min, TaN is 80.32 nm / min, a selection ratio of W to TaN is about 2.5. また、この第1のエッチング条件によって、Wのテーパー角は、約26°となる。 Furthermore, under the first etching conditions, a taper angle of W is about 26 °. この後、レジストからなるマスク112〜117を除去せずに第2のエッチング条件に変え、エッチング用ガスにCF 4とCl 2とを用い、それぞれのガス流量比を30/30(sccm)とし、1Paの圧力でコイル型の電極に500WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生成して約30秒程度のエッチングを行った。 Thereafter, it changed to the second etching conditions without removing the masks 112 to 117 made of resist, using CF 4 and Cl 2 as etching gas, setting the gas flow rate ratio thereof to 30/30 (sccm), It was etched for about 30 seconds to put the RF (13.56 MHz) power of 500W to a coiled electrode to generate plasma at a pressure of 1 Pa. 基板側(試料ステージ)にも20WのRF(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。 Also supplied RF (13.56 MHz) power of 20W to the substrate side (sample stage) to substantially apply a negative self-bias voltage. CF 4とCl 2を混合した第2のエッチング条件ではW膜及びTaN膜とも同程度にエッチングされる。 In the second etching conditions using the gas mixture of CF 4 and Cl 2 are etched to the same extent, the W film and the TaN film. 第2のエッチング条件でのWに対するエッチング速度は58.97nm/min、TaNに対するエッチング速度は66.43nm/minである。 The etching rate for W in the second etching conditions etching rate to 58.97 nm / min, TaN is 66.43 nm / min. なお、ゲート絶縁膜上に残渣を残すことなくエッチングするためには、10〜20%程度の割合でエッチング時間を増加させると良い。 In order to perform etching without any residue on the gate insulating film, the etching time is prolonged by a rate of about 10 to 20%.
【0157】 [0157]
上記第1のエッチング処理では、レジストからなるマスクの形状を適したものとすることにより、基板側に印加するバイアス電圧の効果により第1の導電層及び第2の導電層の端部がテーパー形状となる。 The first etching process, by be suitable the shape of a resist mask, the first conductive layer and the second ends of the conductive layer is tapered due to the effect of a bias voltage applied to the substrate side to become. このテーパー部の角度は15〜45°とすればよい。 The angle of the tapered portion may be set to 15 to 45 °.
【0158】 [0158]
こうして、第1のエッチング処理により第1の導電層と第2の導電層から成る第1の形状の導電層119〜123(第1の導電層119a〜123aと第2の導電層119b〜123b)を形成する。 Thus, first shape conductive layers by the first etching process consisting of the first conductive layer and the second conductive layer 119 to 123 (first conductive layer 119a~123a and the second conductive layer 119B~123b) to form. ゲート絶縁膜となる絶縁膜109は、10〜20nm程度エッチングされ、第1の形状の導電層119〜123で覆われない領域が薄くなったゲート絶縁膜118となる。 The gate insulating film to become the insulating film 109 is 10~20nm about etching the gate insulating film 118 areas not covered is thinned by the first shape conductive layers 119 to 123.
【0159】 [0159]
次いで、レジストからなるマスクを除去せずに第2のエッチング処理を行う。 Next, a second etching process is performed without removing the masks made of resist.
ここでは、エッチング用ガスにSF 6とCl 2とO 2とを用い、それぞれのガス流量比を24/12/24(sccm)とし、1.3Paの圧力でコイル型の電極に700WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生成してエッチングを25秒行った。 Here, using the SF 6, Cl 2 and O 2 as etching gas, the gas flow rate is set to 24/12/24 (sccm), RF of 700W to a coiled electrode at a pressure of 1.3 Pa ( 13.56 MHz) with power of 20 to generate plasma 25 seconds. 基板側(試料ステージ)にも10WのRF(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。 Also supplied RF (13.56 MHz) power of 10W to the substrate side (sample stage) to substantially apply a negative self-bias voltage. 第2のエッチング処理でのWに対するエッチング速度は227.3nm/min、TaNに対するエッチング速度は32.1nm/minであり、TaNに対するWの選択比は7.1であり、絶縁膜118であるSiONに対するエッチング速度は33.7nm/minであり、SiONに対するWの選択比は6.83である。 The etching rate for W in the second etching process is an etching rate to 227.3 nm / min, TaN is 32.1 nm / min, a selection ratio of W to TaN is 7.1, an insulating film 118 SiON etching rate to is 33.7 nm / min, a selection ratio of W to SiON is 6.83. このようにエッチングガス用ガスにSF 6を用いた場合、絶縁膜118との選択比が高いので膜減りを抑えることができる。 Thus when using the SF 6 as an etching gas for the gas, it is possible to suppress the reduction in film thickness due to the high selectivity of the insulating film 118. 本実施例では絶縁膜118において約8nmしか膜減りが起きない。 In the present embodiment it does not occur about 8nm only film reduction in the insulating film 118.
【0160】 [0160]
この第2のエッチング処理によりWのテーパー角は70°となった。 Taper angle of W Through the second etching treatment became 70 °. この第2のエッチング処理により第2の導電層126b〜131bを形成する。 By the second etching process to form the second conductive layer 126B~131b. 一方、第1の導電層は、ほとんどエッチングされず、第1の導電層126a〜131aとなる。 Meanwhile, the first conductive layers are hardly etched, and first conductive layer 126A~131a. なお、第1の導電層126a〜131aは、第1の導電層119a〜124aとほぼ同一サイズである。 Note that the first conductive layer 126a~131a is substantially the same size as the first conductive layer 119A~124a. 実際には、第1の導電層の幅は、第2のエッチング処理前に比べて約0.3μm程度、即ち線幅全体で0.6μm程度後退する場合もあるがほとんどサイズに変化がない。 In practice, the width of the first conductive layer is about 0.3μm about than before the second etching treatment, that is, there is no substantial change in the size sometimes retracted approximately 0.6μm across the line width.
【0161】 [0161]
また、2層構造に代えて、膜厚50nmのタングステン膜、膜厚500nmのアルミニウムとシリコンの合金(Al−Si)膜、膜厚30nmの窒化チタン膜を順次積層した3層構造とした場合、第1のエッチング処理の第1のエッチング条件としては、BCl 3とCl 2とO 2とを原料ガスに用い、それぞれのガス流量比を65/10/5(sccm)とし、基板側(試料ステージ)に300WのRF(13.56MHz)電力を投入し、1.2Paの圧力でコイル型の電極に450WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生成して117秒のエッチングを行えばよく、第1のエッチング処理の第2のエッチング条件としては、CF 4とCl 2とO 2とを用い、それぞれのガス流量比を25/25/10(sccm)とし、基 Further, instead of the two-layer structure, a tungsten film having a thickness of 50 nm, an alloy (Al-Si) of aluminum and silicon having a thickness of 500nm film, when a sequentially stacked titanium nitride film having a thickness of 30 nm, as the first etching conditions of the first etching process, using a BCl 3 and Cl 2 and O 2 as a source gas, the gas flow rate is set to 65/10/5 (sccm), a substrate side (sample stage ) to put the RF (13.56 MHz) power of 300 W, the line etching by introducing a RF (13.56 MHz) power of 450W to a coiled electrode to generate plasma 117 seconds at a pressure of 1.2Pa Ebayoku, as the second etching conditions of the first etching process, using CF 4, Cl 2 and O 2, the gas flow rate is set to 25/25/10 (sccm), group 側(試料ステージ)にも20WのRF(13.56MHz)電力を投入し、1Paの圧力でコイル型の電極に500WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生成して約30秒程度のエッチングを行えばよく、第2のエッチング処理としてはBCl 3とCl 2を用い、それぞれのガス流量比を20/60(sccm)とし、基板側(試料ステージ)には100WのRF(13.56MHz)電力を投入し、1.2Paの圧力でコイル型の電極に600WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生成してエッチングを行えばよい。 Also supplied RF (13.56 MHz) electric power of 20W to the side (sample stage), RF of 500W to a coiled electrode at a pressure of 1 Pa (13.56 MHz) for about 30 seconds with power of 150 to generate plasma may be performed degree of etching, the second etching treatment with BCl 3 and Cl 2, and the ratio of respective gas flow and 20/60 (sccm), to the substrate side (sample stage) 100W of RF (13 .56MHz) power of 20, etching may be performed by generating plasma by introducing RF (13.56 MHz) power of 600W to a coiled electrode at a pressure of 1.2 Pa.
【0162】 [0162]
次いで、レジストからなるマスクを除去した後、第1のドーピング処理を行って図6(D)の状態を得る。 Then, after removing the masks made of resist, and the state shown in FIG. 6 (D) by performing first doping processing. ドーピング処理はイオンドープ法、もしくはイオン注入法で行えば良い。 The doping process may be performed by ion doping or ion implantation. イオンドープ法の条件はドーズ量を1.5×10 14 atoms/cm 2とし、加速電圧を60〜100keVとして行う。 The condition of the ion doping method is the dosage of 1.5 × 10 14 atoms / cm 2 , the accelerating voltage of 60~100KeV. n型を付与する不純物元素として、典型的にはリン(P)または砒素(As)を用いる。 As an impurity element imparting n-type, typically, phosphorus (P) or arsenic (As). この場合、第1の導電層及び第2の導電層126〜130がn型を付与する不純物元素に対するマスクとなり、自己整合的に第1の不純物領域132〜136が形成される。 In this case, first conductive layers and second conductive layers 126 to 130 become masks to the impurity element imparting n-type, self-aligning manner a first impurity region 132 to 136 are formed. 第1の不純物領域132〜136には1×10 16 〜1×10 17 /cm 3の濃度範囲でn型を付与する不純物元素を添加する。 The first impurity regions 132 to 136 added with an impurity element imparting n-type conductivity in a concentration range of 1 × 10 16 ~1 × 10 17 / cm 3. ここでは、第1の不純物領域と同じ濃度範囲の領域をn --領域とも呼ぶ。 Here, the region having the same concentration range as the first impurity region n - also called region.
【0163】 [0163]
なお、本実施例ではレジストからなるマスクを除去した後、第1のドーピング処理を行ったが、レジストからなるマスクを除去せずに第1のドーピング処理を行ってもよい。 Incidentally, after removing the masks made of resist in this embodiment, performing the first doping process, the first doping process may be performed without removing the masks made of resist.
【0164】 [0164]
次いで、図7(A)に示すようにレジストからなるマスク137〜139を形成し第2のドーピング処理を行う。 Then, perform the formed second doping process masks 137-139 made of resist as shown in FIG. 7 (A). マスク137は駆動回路のpチャネル型TFTを形成する半導体層のチャネル形成領域及びその周辺の領域を保護するマスクであり、マスク138は駆動回路のnチャネル型TFTの一つを形成する半導体層のチャネル形成領域及びその周辺の領域を保護するマスクであり、マスク139は画素部のTFTを形成する半導体層のチャネル形成領域及びその周辺の領域と保持容量となる領域とを保護するマスクである。 Mask 137 is a mask for protecting a channel forming region and a periphery thereof of a semiconductor layer forming a p-channel TFT of the driver circuit, the mask 138 of the semiconductor layer forming one of n-channel TFT of the driver circuit a mask for protecting a channel formation region of the mask 139 is a mask for protecting the region to be the storage capacitor as a channel formation region of the semiconductor layer forming a TFT of a pixel portion.
【0165】 [0165]
第2のドーピング処理におけるイオンドープ法の条件はドーズ量を1.5×10 15 atoms/cm 2とし、加速電圧を60〜100keVとしてリン(P)をドーピングする。 The ion doping conditions in the second doping process a dosage of 1.5 × 10 15 atoms / cm 2 , is doped with phosphorus (P) an acceleration voltage of 60~100KeV. ここでは、第2の導電層126b〜128bをマスクとして各半導体層に不純物領域が自己整合的に形成される。 Here, impurity regions are formed in a self-aligned manner in the semiconductor layer and the second conductive layer 126b~128b as a mask. 勿論、マスク137〜139で覆われた領域には添加されない。 Of course, not added to the regions covered by the masks 137 to 139. こうして、第2の不純物領域140〜142と、第3の不純物領域144が形成される。 Thus, second impurity regions 140 to 142, the third impurity region 144 are formed. 第2の不純物領域140〜142には1×10 20 〜1×10 21 /cm 3の濃度範囲でn型を付与する不純物元素を添加されている。 It is doped with an impurity element that imparts n-type conductivity in a concentration range of 1 × 10 20 ~1 × 10 21 / cm 3 in the second impurity regions 140 to 142. ここでは、第2の不純物領域と同じ濃度範囲の領域をn +領域とも呼ぶ。 Here, the region having the same concentration range as the second impurity region is also called an n + region.
【0166】 [0166]
また、第3の不純物領域は第1の導電層により第2の不純物領域よりも低濃度に形成され、1×10 18 〜1×10 19 /cm 3の濃度範囲でn型を付与する不純物元素を添加されることになる。 The third impurity region is formed in a lower concentration than the second impurity region by the first conductive layer, an impurity element imparting n-type conductivity in a concentration range of 1 × 10 18 ~1 × 10 19 / cm 3 It will be added. なお、第3の不純物領域は、テーパー形状である第1の導電層の部分を通過させてドーピングを行うため、テーパ−部の端部に向かって不純物濃度が増加する濃度勾配を有している。 The third impurity region, for performing doping by passing portions of the first conductive layer is tapered, the taper - has a concentration gradient impurity concentration towards the end of the part increases . ここでは、第3の不純物領域と同じ濃度範囲の領域をn -領域とも呼ぶ。 Here, the region having the same concentration range as the third impurity region n - also called region. また、マスク138、139で覆われた領域は、第2のドーピング処理で不純物元素が添加されず、第1の不純物領域146、147となる。 Furthermore, the regions covered by the masks 138 and 139, the impurity element in the second doping process is not added, the first impurity regions 146 and 147.
【0167】 [0167]
次いで、レジストからなるマスク137〜139を除去した後、新たにレジストからなるマスク148〜150を形成して図7(B)に示すように第3のドーピング処理を行う。 Then, after removing the mask 137 to 139 made of resist, new forms a mask 148-150 perform a third doping process as shown in FIG. 7 (B) made of a resist.
【0168】 [0168]
駆動回路において、上記第3のドーピング処理により、pチャネル型TFTを形成する半導体層および保持容量を形成する半導体層にp型の導電型を付与する不純物元素が添加された第4の不純物領域151、152及び第5の不純物領域153、154を形成する。 In the driving circuit, by the third doping process, the fourth impurity regions 151 to which an impurity element imparting p-type conductivity to the semiconductor layer is added to form the semiconductor layer and the holding capacitor to form a p-channel type TFT to form a 152 and the fifth impurity regions 153, 154.
【0169】 [0169]
また、第4の不純物領域151、152には1×10 20 〜1×10 21 /cm 3の濃度範囲でp型を付与する不純物元素が添加されるようにする。 Also, so that the impurity element imparting p-type conductivity in a concentration range of 1 × 10 20 ~1 × 10 21 / cm 3 in the fourth impurity regions 151 and 152 are added. 尚、第4の不純物領域151、152には先の工程でリン(P)が添加された領域(n --領域)であるが、p型を付与する不純物元素の濃度がその1.5〜3倍添加されていて導電型はp型となっている。 Incidentally, in the fourth impurity regions 151 and 152 regions in the preceding step phosphorus (P) has been added - is a (n region), the 1.5 the concentration of the impurity element imparting p-type 3 times conductivity type is added has a p-type. ここでは、第4の不純物領域と同じ濃度範囲の領域をp +領域とも呼ぶ。 Here, the region having the same concentration range as the fourth impurity region is also called a p + region.
【0170】 [0170]
また、第5の不純物領域153、154は第2の導電層127aのテーパー部と重なる領域に形成されるものであり、1×10 18 〜1×10 20 /cm 3の濃度範囲でp型を付与する不純物元素が添加されるようにする。 Further, fifth impurity regions 153 and 154 are intended to be formed in regions overlapping the tapered portion of the second conductive layer 127a, a p-type conductivity in a concentration range of 1 × 10 18 ~1 × 10 20 / cm 3 impurity element imparting to to be added. ここでは、第5の不純物領域と同じ濃度範囲の領域をp -領域とも呼ぶ。 Here, the region having the same concentration range as the fifth impurity region p - also called region.
【0171】 [0171]
以上までの工程でそれぞれの半導体層にn型またはp型の導電型を有する不純物領域が形成される。 n-type or p-type impurity region having a conductivity type is formed in each semiconductor layer in the steps up. 導電層126〜129はTFTのゲート電極となる。 The conductive layer 126 to 129 become gate electrodes of a TFT. また、導電層130は画素部において保持容量を形成する一方の電極となる。 The conductive layer 130 serves as one electrode forming the storage capacitor in the pixel portion. さらに、導電層131は画素部においてソース配線を形成する。 Further, the conductive layer 131 forms a source wiring in the pixel portion.
【0172】 [0172]
次いで、ほぼ全面を覆う絶縁膜(図示しない)を形成する。 Then, a substantially entire surface of the covering insulating film (not shown). 本実施例では、プラズマCVD法により膜厚50nmの酸化シリコン膜を形成した。 In this embodiment, a silicon oxide film having a thickness of 50nm by a plasma CVD method. 勿論、この絶縁膜は酸化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良い。 Of course, the insulating film is not limited to the silicon oxide film may be used other insulating films containing silicon as a single layer or a laminate structure.
【0173】 [0173]
次いで、それぞれの半導体層に添加された不純物元素を活性化処理する工程を行う。 Then, the impurity elements used to dope the semiconductor layers a step of activating. この活性化工程は、ランプ光源を用いたラピッドサーマルアニール法(RTA法)、或いはYAGレーザーまたはエキシマレーザーを裏面から照射する方法、或いは炉を用いた熱処理、或いはこれらの方法のうち、いずれかと組み合わせた方法によって行う。 The activation step, a rapid thermal annealing method using a lamp light source (RTA method), or a method of irradiating a YAG laser or excimer laser from the back side, or heat treatment using a furnace, or of these methods, combined with either carried out by the method.
【0174】 [0174]
また、本実施例では、上記活性化の前に絶縁膜を形成した例を示したが、上記活性化を行った後、絶縁膜を形成する工程としてもよい。 Further, in the present embodiment shows an example in which the insulating film is formed before the activation, after the above activation may be a step of forming the insulating film.
【0175】 [0175]
次いで、窒化シリコン膜からなる第1の層間絶縁膜155を形成して熱処理(300〜550℃で1〜12時間の熱処理)を行い、半導体層を水素化する工程を行う。 Then a first interlayer insulating film 155 made of a silicon nitride film by heat treatment (heat treatment for 1 to 12 hours at 300 to 550 ° C.), a step of hydrogenating the semiconductor layers. (図7(C))この工程は第1の層間絶縁膜155に含まれる水素により半導体層のダングリングボンドを終端する工程である。 (FIG. 7 (C)) This step is a step of terminating dangling bonds in the semiconductor layers by hydrogen contained in the first interlayer insulating film 155. 酸化シリコン膜からなる絶縁膜(図示しない)の存在に関係なく半導体層を水素化することができる。 Can be hydrogenated semiconductor layer irrespective of the presence of the insulating film made of silicon oxide film (not shown).
ただし、本実施例では、第2の導電層としてアルミニウムを主成分とする材料を用いているので、水素化する工程において第2の導電層が耐え得る熱処理条件とすることが重要である。 However, in this embodiment, since a material mainly containing aluminum as the second conductive layer, it is important to heat treatment conditions in which the second conductive layer in the step of hydrogenation can withstand. 水素化の他の手段として、プラズマ水素化(プラズマにより励起された水素を用いる)を行っても良い。 As another means for hydrogenation may be performed Plasma hydrogenation (using hydrogen excited by plasma).
【0176】 [0176]
次いで、第1の層間絶縁膜155上に有機絶縁物材料から成る第2の層間絶縁膜156を形成する。 Then, a second interlayer insulating film 156 made of an organic insulating material is formed on the first interlayer insulating film 155. 本実施例では膜厚1.6μmのアクリル樹脂膜を形成する。 In this embodiment form an acrylic resin film with a thickness of 1.6 [mu] m. 次いで、ソース配線131に達するコンタクトホールと、導電層129、130に達するコンタクトホールと、各不純物領域に達するコンタクトホールを形成する。 Then formed and contact holes reaching the source wiring 131, contact holes reaching the conductive layers 129 and 130, contact holes reaching the respective impurity regions. 本実施例では複数のエッチング処理を順次行う。 Sequentially performing a plurality of etching processes in the present embodiment. 本実施例では第1の層間絶縁膜をエッチングストッパーとして第2の層間絶縁膜をエッチングした後、絶縁膜(図示しない)をエッチングストッパーとして第1の層間絶縁膜をエッチングしてから絶縁膜(図示しない)をエッチングした。 After in this embodiment etching the second interlayer insulating film of the first interlayer insulating film as an etching stopper, the insulating film (not insulating film (not shown) the first interlayer insulating film as an etching stopper after etching It does not) was etched.
【0177】 [0177]
その後、Al、Ti、Mo、Wなどを用いて配線及び画素電極を形成する。 Thereafter, a Al, Ti, Mo, W, wirings and pixel electrodes by using a. これらの電極及び画素電極の材料は、AlまたはAgを主成分とする膜、またはそれらの積層膜等の反射性の優れた材料を用いることが望ましい。 Materials of these electrodes and the pixel electrodes, it is desirable to use a material having superior reflectivity film or the laminate film, or the like as a main component Al or Ag. こうして、ソース電極またはドレイン電極157〜162、ゲート配線164、接続配線163、画素電極165が形成される。 Thus, the source electrode or the drain electrode 157 to 162, a gate wiring 164, the connection wiring 163, the pixel electrode 165 is formed.
【0178】 [0178]
以上の様にして、nチャネル型TFT201、pチャネル型TFT202、nチャネル型TFT203を有する駆動回路206と、nチャネル型TFTからなる画素TFT204、保持容量205とを有する画素部207を同一基板上に形成することができる。 More in the manner, a driving circuit 206 having an n-channel type TFT 201, p-channel type TFT 202, n-channel type TFT 203, n-channel type consisting TFT pixel TFT 204, a pixel portion 207 over the same substrate having a storage capacitor 205 it can be formed. (図8)本明細書中ではこのような基板を便宜上アクティブマトリクス基板と呼ぶ。 (FIG. 8) is referred to herein as such a substrate for convenience as the active matrix substrate.
【0179】 [0179]
画素部207において、画素TFT204(nチャネル型TFT)にはチャネル形成領域169、ゲート電極を形成する導電層129の外側に形成される第1の不純物領域(n --領域)147と、ソース領域またはドレイン領域として機能する第2の不純物領域(n +領域)142、171を有している。 In the pixel portion 207, a channel forming region 169 in the pixel TFT 204 (n-channel type TFT), a first impurity region formed on the outside of the conductive layer 129 forming the gate electrode - and the (n region) 147, a source region or the second impurity regions (n + regions) 142,171 functioning as the drain region. また、保持容量205の一方の電極として機能する半導体層には第4の不純物領域152、第5の不純物領域154が形成されている。 Further, the semiconductor layer which functions as one electrode of the storage capacitor 205 fourth impurity regions 152, the fifth impurity region 154 are formed. 保持容量205は、絶縁膜(ゲート絶縁膜と同一膜)118を誘電体として、第2の電極130と、半導体層152、154、170とで形成されている。 Storage capacitor 205, an insulating film (gate insulating film and the same film) 118 as a dielectric, and a second electrode 130, are formed in the semiconductor layer 152,154,170.
【0180】 [0180]
また、駆動回路206において、nチャネル型TFT201(第1のnチャネル型TFT)はチャネル形成領域166、ゲート電極を形成する導電層126の一部と絶縁膜を介して重なる第3の不純物領域(n -領域)144とソース領域またはドレイン領域として機能する第2の不純物領域(n +領域)140を有している。 Further, in the drive circuit 206, the n-channel type TFT 201 (first n-channel type TFT) a channel forming region 166, third impurity region overlapping through a portion of the insulating film of the conductive layer 126 forming the gate electrode ( the n - and the second impurity region (n + region) 140 functioning as a region) 144 and a source region or a drain region.
【0181】 [0181]
また、駆動回路206において、pチャネル型TFT202にはチャネル形成領域167、ゲート電極を形成する導電層127の一部と絶縁膜を介して重なる第5不純物領域(p -領域)153とソース領域またはドレイン領域として機能する第4の不純物領域(p +領域)151を有している。 Further, in the drive circuit 206, a portion between the fifth impurity region overlapping with an insulating film of the conductive layer 127 is the p-channel type TFT202 forming a channel forming region 167, a gate electrode (p - region) 153 and the source region or and the fourth impurity region (p + region) 151 functioning as a drain region.
【0182】 [0182]
また、駆動回路206において、nチャネル型TFT203(第2のnチャネル型TFT)にはチャネル形成領域168、ゲート電極を形成する導電層128の外側に第1の不純物領域(n --領域)146とソース領域またはドレイン領域として機能する第2の不純物領域(n +領域)141を有している。 Further, in the drive circuit 206, the n-channel type TFT203 first impurity region outside the (second n-channel type TFT) channel forming region 168, the conductive layer 128 forming the gate electrode (n - region) 146 and a second impurity region (n + region) 141 functioning as a source region or a drain region.
【0183】 [0183]
これらのTFT201〜203を適宜組み合わせてシフトレジスタ回路、バッファ回路、レベルシフタ回路、ラッチ回路などを形成し、駆動回路206を形成すればよい。 A shift register circuit in combination these TFT201~203 appropriate, a buffer circuit, a level shifter circuit, etc. to form a latch circuit may be formed a drive circuit 206. 例えば、CMOS回路を形成する場合には、nチャネル型TFT201とpチャネル型TFT202を相補的に接続して形成すればよい。 For example, in the case of forming a CMOS circuit, the n-channel type TFT201 and p-channel type TFT202 it may be formed by complementarily connected.
【0184】 [0184]
特に、駆動電圧が高いバッファ回路には、ホットキャリア効果による劣化を防ぐ目的から、nチャネル型TFT203の構造が適している。 In particular, the driving voltage is high buffer circuit, for the purpose of preventing deterioration due to hot carrier effect, the structure of the n-channel type TFT203 is suitable.
【0185】 [0185]
また、信頼性が最優先とされる回路には、GOLD構造であるnチャネル型TFT201の構造が適している。 Further, the circuit reliability is the highest priority, the structure of the n-channel type TFT201 is suitable is a GOLD structure.
【0186】 [0186]
また、半導体膜表面の平坦化を向上させることによって信頼性を向上させることができるので、GOLD構造のTFTにおいて、ゲート電極とゲート絶縁膜を介して重なる不純物領域の面積を縮小しても十分な信頼性を得ることができる。 Further, it is possible to improve the reliability by improving the planarization of the surface of the semiconductor film, the TFT of the GOLD structure, even sufficient to reduce the area of ​​the impurity region overlapping with the gate electrode and the gate insulating film it is possible to obtain the reliability.
具体的にはGOLD構造のTFTにおいてゲート電極のテーパー部となる部分サイズを小さくしても十分な信頼性を得ることができる。 Specifically be smaller part size as the tapered portion of the gate electrode in the TFT of the GOLD structure can provide sufficient reliability.
【0187】 [0187]
また、GOLD構造のTFTにおいてはゲート絶縁膜が薄くなると寄生容量が増加するが、ゲート電極(第1導電層)のテーパー部となる部分サイズを小さくして寄生容量を低減すれば、f特性(周波数特性)も向上してさらなる高速動作が可能となり、且つ、十分な信頼性を有するTFTとなる。 Further, parasitic capacitance between the gate insulating film is reduced in TFT of the GOLD structure is increased, if reducing the parasitic capacitance by reducing the portion size as the tapered portion of the gate electrode (first conductive layer), f characteristics ( frequency characteristics) also enables higher speed operation is improved, and, a TFT having a sufficient reliability.
【0188】 [0188]
なお、画素部207の画素TFTにおいても、第2のレーザー光の照射によりオフ電流の低減、およびバラツキの低減が実現される。 Also in the pixel TFT of the pixel portion 207, the amount of off, and variation reduction of is achieved by irradiation of the second laser beam.
【0189】 [0189]
また、本実施例では反射型の表示装置を形成するためのアクティブマトリクス基板を作製する例を示したが、画素電極を透明導電膜で形成すると、フォトマスクは1枚増えるものの、透過型の表示装置を形成することができる。 Further, although this embodiment shows an example of manufacturing an active matrix substrate for forming a reflective display device, forming a pixel electrode of a transparent conductive film, although the photomask is increased by one, a transmissive display it is possible to form the device.
【0190】 [0190]
また、本実施例ではガラス基板を用いたが、特に限定されず、石英基板、半導体基板、セラミックス基板、金属基板を用いることができる。 Further, in this embodiment, although a glass substrate is not particularly limited, it is possible to use a quartz substrate, a semiconductor substrate, a ceramic substrate, a metal substrate.
【0191】 [0191]
また、図8の状態を得た後、酸化物層102上に設けたTFTを含む層(被剥離層)の機械的強度が十分であれば、基板100を引き剥がしてもよい。 Also, after obtaining the state of FIG. 8, if the sufficient mechanical strength of the layer (layer to be peeled) containing a TFT provided on the oxide layer 102 may be peeled off the substrate 100. 本実施例は、被剥離層の機械的強度が不十分であるので、被剥離層を固定する支持体(図示しない)を貼りつけた後、剥離することが好ましい。 This embodiment, the mechanical strength of the layer to be peeled is not sufficient, after pasted a support that secures a peeled layer (not shown), it is preferable to peel.
【0192】 [0192]
[実施例2] [Example 2]
本実施例では、実施例1で作製したアクティブマトリクス基板から、基板100を剥離してプラスチック基板を貼り合わせてアクティブマトリクス型液晶表示装置を作製する工程を以下に説明する。 In this embodiment, the active matrix substrate manufactured in Embodiment 1, a process of manufacturing an active matrix liquid crystal display device by bonding a plastic substrate by separating the substrate 100 below. 説明には図9を用いる。 The description is made with reference to FIG 9.
【0193】 [0193]
図9(A)において、400は基板、401は窒化物層または金属層、402は酸化物層、403は下地絶縁層、404aは駆動回路413の素子、404bは画素部414の素子404b、405は画素電極である。 In FIG. 9 (A), 400 denotes a substrate, 401 is a nitride layer or metal layer, the oxide layer 402, 403 is a base insulating layer, 404a is the element of the driving circuit 413, 404b are elements of a pixel portion 414 404b, 405 it is a pixel electrode. ここで素子とは、アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、画素のスイッチング素子として用いる半導体素子(典型的にはTFT)もしくはMIM素子等を指す。 Here, the elements, in an active matrix type liquid crystal display device, refers to a semiconductor element (typically TFT) or MIM element or the like is used as a switching element of a pixel. 図9(A)に示したアクティブマトリクス基板は図8に示したアクティブマトリクス基板を簡略化して示したものであり、図8中の基板100は図9(A)中の基板400に対応している。 The active matrix substrate shown in FIG. 9 (A) are those showing a simplified active matrix substrate shown in FIG. 8, substrate 100 in Figure 8 corresponds to the substrate 400 of FIG. 9 (A) in there. 同様に図9(A)中の401は、図8中の101に、図9(A)中の402は、図8中の102に、図9(A)中の403は、図8中の103に、図9(A)中の404aは、図8中の201及び202に、図9(A)中の404bは、図8中の204に、図9(A)中の405は、図8中の165にそれぞれ対応している。 Similarly 401 in FIG. 9 (A) is 101 in FIG. 8, 402 in FIG. 9 (A) is a 102 in FIG. 8, 403 in FIG. 9 (A) in FIG. 8 to 103, 404a in FIG. 9 (a) is the 201 and 202 in FIG. 8, 404b in FIG. 9 (a) is 204 in FIG. 8, 405 in FIG. 9 (a) FIG. corresponding respectively to 165 in 8.
【0194】 [0194]
まず、実施例1に従い、図8の状態のアクティブマトリクス基板を得た後、図8のアクティブマトリクス基板上に配向膜406aを形成しラビング処理を行う。 First, according to Example 1, after obtaining an active matrix substrate in the state of FIG. 8, it performs a rubbing processing the orientation films 406a on the active matrix substrate of FIG. なお、本実施例では配向膜を形成する前に、アクリル樹脂膜等の有機樹脂膜をパターニングすることによって基板間隔を保持するための柱状のスペーサ(図示しない)を所望の位置に形成した。 Incidentally, before forming the orientation film in this embodiment, columnar spacer for holding a substrate interval by patterning an organic resin film such as an acrylic resin film (not shown) is formed at a desired position. また、柱状のスペーサに代えて、球状のスペーサを基板全面に散布してもよい。 Further, instead of the columnar spacer, spherical spacers may be scattered on the entire surface of the substrate.
【0195】 [0195]
次いで、支持体407となる対向基板を用意する。 Then, a counter substrate is prepared as a support 407. この対向基板には、着色層、遮光層が各画素に対応して配置されたカラーフィルタ(図示しない)が設けられている。 This counter substrate, colored layers, a color filter shielding layer is arranged corresponding to each pixel (not shown) is provided. また、駆動回路の部分にも遮光層を設けた。 It was also provided a light shielding layer on a portion of the drive circuit. このカラーフィルタと遮光層とを覆う平坦化膜(図示しない)を設けた。 The planarizing film (not shown) for covering this color filter and the light-shielding layer is provided. 次いで、平坦化膜上に透明導電膜からなる対向電極408を画素部に形成し、対向基板の全面に配向膜406bを形成し、ラビング処理を施した。 Then, a counter electrode 408 made of a transparent conductive film on the planarized film in a pixel portion, an orientation film 406b is formed on the entire surface of the opposing substrate, a rubbing-treated.
【0196】 [0196]
そして、画素部と駆動回路が形成されたアクティブマトリクス基板400と支持体407とを接着層409となるシール材で貼り合わせる。 Then, bonding the active matrix substrate 400 on which the pixel portion and the driver circuit are formed with the support 407 with a sealing material comprising an adhesive layer 409. シール材にはフィラーが混入されていて、このフィラーと柱状スペーサによって均一な間隔を持って2枚の基板が貼り合わせられる。 The sealant is mixed with filler, and the two substrates are joined while maintaining a uniform gap by this filler and the columnar spacers. その後、両基板の間に液晶材料410を注入し、封止剤(図示せず)によって完全に封止する。 Thereafter, a liquid crystal material is injected 410 between the substrates, and completely sealed by a sealant (not shown). (図9(B))液晶材料410には公知の液晶材料を用いれば良い。 (FIG. 9 (B)) may be a known liquid material in the liquid crystal material 410.
【0197】 [0197]
次いで、窒化物層または金属層401が設けられている基板400を物理的手段により引き剥がす。 Then, peeled by a physical means to a substrate 400 on which the nitride layer or metal layer 401 is provided. (図9(C))酸化物層402の膜応力と、窒化物層または金属層401の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 (FIG. 9 (C)) and the film stress of the oxide layer 402, since the film stress of the nitride layer or metal layer 401 are different, can be peeled with a relatively small force.
【0198】 [0198]
次いで、エポキシ樹脂などの接着層411により転写体412に貼り付ける。 Then, the adhesive layer 411 such as an epoxy resin paste to a transfer member 412.
本実施例では、転写体412をプラスチックフィルム基板とすることで、軽量化を図る。 In this embodiment, the transfer member 412 by a plastic film substrate, reduce the weight.
【0199】 [0199]
このようにしてフレキシブルなアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。 Thus a flexible active matrix liquid crystal display device is completed. そして、必要があれば、フレキシブルな基板412または対向基板を所望の形状に分断する。 Then, if necessary, to divide the flexible substrate 412 or the counter substrate into a desired shape. さらに、公知の技術を用いて偏光板(図示しない)等を適宜設けた。 Furthermore, providing the polarizing plate (not shown) or the like as appropriate by a known technique. そして、公知の技術を用いてFPC(図示しない)を貼りつけた。 Then, paste the FPC (not shown) using known techniques.
【0200】 [0200]
[実施例3] [Example 3]
実施例2では、支持体としての対向基板を貼りつけ、液晶を注入した後に基板を剥離して転写体としてのプラスチック基板を貼りつけた例を示したが、本実施例では、図8に示したアクティブマトリクス基板を形成した後、基板を剥離し、第1の転写体としてのプラスチック基板と、第2の転写体としてのプラスチック基板を貼りつけた例である。 In Example 2, pasted the counter substrate as a support, although an example in which pasted plastic substrate as the separation to transcript the substrate after injecting the liquid crystal, in this embodiment, shown in FIG. 8 after forming the active matrix substrate, peeling the substrate, and a plastic substrate as a first transfer member, an example in which pasted plastic substrate as a second transfer member. 説明には図10を用いる。 The description is made with reference to FIG 10.
【0201】 [0201]
図10(A)において、500は基板、501は窒化物層または金属層、502は酸化物層、503は下地絶縁層、504aは駆動回路514の素子、504bは画素部515の素子504b、505は画素電極である。 In FIG. 10 (A), 500 denotes a substrate, 501 is a nitride layer or a metal layer, 502 is an oxide layer, 503 base insulating layer, 504a is the element of the driving circuit 514, 504b are elements of a pixel portion 515 504b, 505 it is a pixel electrode. 図10(A)に示したアクティブマトリクス基板は図8に示したアクティブマトリクス基板を簡略化して示したものであり、図8中の基板100は図10(A)中の基板500に対応している。 The active matrix substrate shown in FIG. 10 (A) are those showing a simplified active matrix substrate shown in FIG. 8, substrate 100 in Figure 8 corresponds to the substrate 500 in FIG. 10 (A) there. 同様に図10(A)中の501は、図8中の101に、図10(A)中の502は、図8中の102に、図10(A)中の503は、図8中の103に、図10(A)中の504aは、図8中の201及び202に、図10(A)中の504bは、図8中の204に、図10(A)中の505は、図8中の165にそれぞれ対応している。 Similarly 501 in FIG. 10 (A) to 101 in FIG. 8, 502 in FIG. 10 (A) to 102 in FIG. 8, 503 in FIG. 10 (A) in FIG. 8 to 103, 504a in FIG. 10 (a) to 201 and 202 in FIG. 8, 504b in FIG. 10 (a) to 204 in FIG. 8, 505 in FIG. 10 (a) Fig. corresponding respectively to 165 in 8.
【0202】 [0202]
まず、実施例1に従い、図8の状態のアクティブマトリクス基板を得た後、窒化物層または金属層501が設けられている基板500を物理的手段により引き剥がす。 First, according to Example 1, after obtaining an active matrix substrate in the state of FIG. 8, peeled by a physical means to a substrate 500 on which the nitride layer or metal layer 501 is provided. (図10(B))酸化物層502の膜応力と、窒化物層または金属層501の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 (FIG. 10 (B)) and the film stress of the oxide layer 502, since the film stress of the nitride layer or metal layer 501 are different, can be peeled with a relatively small force.
【0203】 [0203]
次いで、エポキシ樹脂などの接着層506により転写体507(第1の転写体)に貼り付ける。 Then, the adhesive layer 506 such as an epoxy resin paste to a transfer member 507 (first transfer body). 本実施例では、転写体507をプラスチックフィルム基板とすることで、軽量化を図る。 In this embodiment, the transfer member 507 by a plastic film substrate, reduce the weight. (図10(C)) (FIG. 10 (C))
【0204】 [0204]
次いで、配向膜508aを形成しラビング処理を行う。 Then, performing a rubbing process of the alignment film 508a. なお、本実施例では配向膜を形成する前に、アクリル樹脂膜等の有機樹脂膜をパターニングすることによって基板間隔を保持するための柱状のスペーサ(図示しない)を所望の位置に形成した。 Incidentally, before forming the orientation film in this embodiment, columnar spacer for holding a substrate interval by patterning an organic resin film such as an acrylic resin film (not shown) is formed at a desired position. また、柱状のスペーサに代えて、球状のスペーサを基板全面に散布してもよい。 Further, instead of the columnar spacer, spherical spacers may be scattered on the entire surface of the substrate.
【0205】 [0205]
次いで、支持体510(第2の転写体)となる対向基板を用意する。 Then, to prepare to become counter substrate support 510 (the second transfer body). この対向基板には、着色層、遮光層が各画素に対応して配置されたカラーフィルタ(図示しない)が設けられている。 This counter substrate, colored layers, a color filter shielding layer is arranged corresponding to each pixel (not shown) is provided. また、駆動回路の部分にも遮光層を設けた。 It was also provided a light shielding layer on a portion of the drive circuit. このカラーフィルタと遮光層とを覆う平坦化膜(図示しない)を設けた。 The planarizing film (not shown) for covering this color filter and the light-shielding layer is provided. 次いで、平坦化膜上に透明導電膜からなる対向電極509を画素部に形成し、対向基板の全面に配向膜508bを形成し、ラビング処理を施した。 Then, a counter electrode 509 made of a transparent conductive film on the planarized film in a pixel portion, an orientation film 508b is formed on the entire surface of the opposing substrate, a rubbing-treated.
【0206】 [0206]
そして、画素部と駆動回路が接着されたプラスチックフィルム基板507と支持体510とを接着層512となるシール材で貼り合わせる。 Then, bonding the plastic film substrate 507 on which the pixel portion and the driver circuit are bonded a support 510 with a sealing material comprising an adhesive layer 512. (図10(D))シール材にはフィラーが混入されていて、このフィラーと柱状スペーサによって均一な間隔を持って2枚の基板が貼り合わせられる。 The (Figure 10 (D)) sealant is mixed with filler, and the two substrates are joined while maintaining a uniform gap by this filler and the columnar spacers. その後、両基板の間に液晶材料513を注入し、封止剤(図示せず)によって完全に封止する。 Thereafter, a liquid crystal material is injected 513 between the substrates, and completely sealed by a sealant (not shown). (図10(D))液晶材料513には公知の液晶材料を用いれば良い。 (FIG. 10 (D)) may be a known liquid material in the liquid crystal material 513.
【0207】 [0207]
このようにしてフレキシブルなアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。 Thus a flexible active matrix liquid crystal display device is completed. そして、必要があれば、フレキシブルな基板507または対向基板を所望の形状に分断する。 Then, if necessary, to divide the flexible substrate 507 or the counter substrate into a desired shape. さらに、公知の技術を用いて偏光板(図示しない)等を適宜設けた。 Furthermore, providing the polarizing plate (not shown) or the like as appropriate by a known technique. そして、公知の技術を用いてFPC(図示しない)を貼りつけた。 Then, paste the FPC (not shown) using known techniques.
【0208】 [0208]
[実施例4] [Example 4]
実施例2または実施例3により得られた液晶モジュールの構成を図11の上面図を用いて説明する。 The structure of the liquid crystal module obtained in Example 2 or Example 3 will be described with reference to the top view of FIG. 11. 実施例2における基板412、または実施例3における基板507が基板301に対応する。 Substrate 507 in the exemplary substrate 412 in Example 2 or Example 3, corresponds to the substrate 301.
【0209】 [0209]
基板301の中央には、画素部304が配置されている。 In the center of the substrate 301, the pixel portion 304 is disposed. 画素部304の上側には、ソース信号線を駆動するためのソース信号線駆動回路302が配置されている。 On the upper side of the pixel portion 304, a source signal line driver circuit 302 for driving the source signal line is arranged. 画素部304の左右には、ゲート信号線を駆動するためのゲート信号線駆動回路303が配置されている。 The left and right of the pixel portion 304, a gate signal line driver circuit 303 for driving the gate signal lines are arranged. 本実施例に示した例では、ゲート信号線駆動回路303は画素部に対して左右対称配置としているが、これは片側のみの配置でも良く、液晶モジュールの基板サイズ等を考慮して、設計者が適宜選択すれば良い。 In the example shown in this embodiment, the gate signal line driver circuit 303 has a symmetrical arrangement with respect to the pixel unit, which may be a arranged on one side only, by considering the substrate size or the like of the liquid crystal module, the designer There may be appropriately selected. ただし、回路の動作信頼性や駆動効率等を考えると、図11に示した左右対称配置が望ましい。 However, given the operation reliability and driving efficiency of the circuit, it is desirable symmetrical arrangement shown in FIG. 11.
【0210】 [0210]
各駆動回路への信号の入力は、フレキシブルプリント基板(Flexible Print Circuit:FPC)305から行われる。 Input signal to each drive circuit, a flexible printed circuit board: made from (Flexible Print Circuit FPC) 305. FPC305は、基板301の所定の場所まで配置された配線に達するように、層間絶縁膜および樹脂膜にコンタクトホールを開口し、接続電極309を形成した後、異方性導電膜等を介して圧着される。 FPC305 is to reach the place until placed wiring board 301, a contact hole in the interlayer insulating film and the resin film, after forming the connection electrode 309, through the anisotropic conductive film such as a pressing It is. 本実施例においては、接続電極はITOを用いて形成した。 In the present embodiment, the connection electrode is formed using ITO.
【0211】 [0211]
駆動回路、画素部の周辺には、基板外周に沿ってシール剤307が塗布され、あらかじめフィルム基板上に形成されたスペーサ310によって一定のギャップ(基板301と対向基板306との間隔)を保った状態で、対向基板306が貼り付けられる。 Drive circuit, the periphery of the pixel portion, sealing agent 307 is applied along the substrate periphery, maintaining a constant gap (distance between the substrate 301 and the counter substrate 306) by a spacer 310 formed in advance film substrate state, the counter substrate 306 is attached. その後、シール剤307が塗布されていない部分より液晶材料が注入され、封止剤308によって密閉される。 Thereafter, the liquid crystal material than the portion of the sealant 307 is not coated is injected and sealed by a sealant 308. 以上の工程により、液晶モジュールが完成する。 Through the above steps, a liquid crystal module is completed.
【0212】 [0212]
また、ここでは全ての駆動回路をフィルム基板上に形成した例を示したが、駆動回路の一部に数個のICを用いてもよい。 Also, here is shown an example of forming all the driving circuits on the film substrate may be used several IC part of the drive circuit.
【0213】 [0213]
また、本実施例は、実施例1と自由に組みあわせることが可能である。 Further, this embodiment can be freely combined with Embodiment 1.
【0214】 [0214]
[実施例5] [Example 5]
実施例1では画素電極が反射性を有する金属材料で形成された反射型の表示装置の例を示したが、本実施例では画素電極を透光性を有する導電膜で形成した透過型の表示装置の例を示す。 Although Example 1, the pixel electrode is an example of a reflective display device that is formed of a metallic material having reflectivity, transmissive display formed by a light-transmitting conductive film and the pixel electrode in this embodiment an example of a device.
【0215】 [0215]
層間絶縁膜を形成する工程までは実施例1と同じであるので、ここでは省略する。 Since up to the step of forming an interlayer insulating film is the same as in Example 1, description thereof is omitted here. 実施例1に従ってTFTおよび層間絶縁膜を形成した後、透光性を有する導電膜からなる画素電極601を形成する。 After forming the TFT and the interlayer insulating film according to Example 1, to form a pixel electrode 601 made of a light-transmitting conductive film. 透光性を有する導電膜としては、ITO(酸化インジウム酸化スズ合金)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In 23 ―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等を用いればよい。 As the conductive film having a light-transmitting property, ITO (indium tin oxide alloy), indium oxide-zinc oxide alloy (In 2 O 3 -ZnO) oxide, may be used zinc oxide (ZnO) and the like.
【0216】 [0216]
その後、層間絶縁膜600にコンタクトホールを形成する。 Thereafter, contact holes are formed in the interlayer insulating film 600. 次いで、画素電極と重なる接続電極602を形成する。 Then, a connection electrode 602 overlapping the pixel electrode. この接続電極602は、コンタクトホールを通じてドレイン領域と接続されている。 The connection electrode 602 is connected to the drain region through the contact hole. また、この接続電極と同時に他のTFTのソース電極またはドレイン電極も形成する。 The source electrode or the drain electrode at the same time the other TFT and the connection electrode is also formed.
【0217】 [0217]
また、ここでは全ての駆動回路を基板上に形成した例を示したが、駆動回路の一部に数個のICを用いてもよい。 Also, here is shown an example of forming all the driving circuit on the substrate, it may be used several IC part of the drive circuit.
【0218】 [0218]
以上のようにしてアクティブマトリクス基板が形成される。 The active matrix substrate is formed as described above. このアクティブマトリクス基板を用い、基板を剥離した後、プラスチック基板を貼り合わせ、実施例2〜4に従って液晶モジュールを作製し、バックライト604、導光板605を設け、カバー606で覆えば、図12にその断面図の一部を示したようなアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。 Using this active matrix substrate, after removing the substrate, bonding the plastic substrate, to produce a liquid crystal module in accordance with Examples 2-4, the backlight 604, the provided light guide plate 605, be covered with a cover 606, FIG. 12 its cross-section an active matrix liquid crystal display device as shown a portion of the diagram is completed. なお、カバーと液晶モジュールは接着剤や有機樹脂を用いて貼り合わせる。 The cover and the liquid crystal module is bonded using an adhesive or an organic resin. また、プラスチック基板と対向基板を貼り合わせる際、枠で囲んで有機樹脂を枠と基板との間に充填して接着してもよい。 Further, when bonding the plastic substrate and the counter substrate may be bonded by filling the organic resin enclosed in a frame between the frame and the substrate. また、透過型であるので偏光板603は、プラスチック基板と対向基板の両方に貼り付ける。 The polarizing plate 603 because it is transmission type, pasted to both of the plastic substrate and the counter substrate.
【0219】 [0219]
また、本実施例は、実施例1乃至4と自由に組みあわせることが可能である。 Further, this embodiment can be freely combined with Embodiments 1 to 4.
【0220】 [0220]
[実施例6] [Example 6]
本実施例では、プラスチック基板上に形成された有機発光素子を備えた発光装置を作製する例を図13に示す。 In this embodiment, an example of manufacturing a light emitting device including an organic light emitting element formed on a plastic substrate in FIG.
【0221】 [0221]
図13(A)において、600は基板、601は窒化物層または金属層、602は酸化物層、603は下地絶縁層、604aは駆動回路611の素子、604b、604cは画素部612の素子、605はEL素子(Organic Light Emitting Device)である。 13 In (A), 600 denotes a substrate, 601 is a nitride layer or a metal layer, 602 is an oxide layer, 603 is a base insulating layer, element 604a may drive circuit 611, 604b, 604c are elements of a pixel portion 612, 605 is a EL device (Organic Light Emitting device). ここで素子とは、アクティブマトリクス型の発光装置ならば画素のスイッチング素子として用いる半導体素子(典型的にはTFT)もしくはMIM素子並びにEL素子等を指す。 And here element (typically TFT) semiconductor device used as a switching element of a pixel, if an active matrix light-emitting device refers to or MIM element and the EL element or the like. そして、これらの素子を覆って、層間絶縁膜606を形成する。 Then, over these elements, an interlayer insulating film 606. 層間絶縁膜606は、成膜後の表面がより平坦であることが好ましい。 Interlayer insulating film 606, it is preferable that the surface after the film formation is more flat. なお、層間絶縁膜606は必ずしも設ける必要はない。 The interlayer insulating film 606 need not necessarily be provided.
【0222】 [0222]
なお、基板600上に設ける601〜603は実施の形態2乃至4のいずれか一に従って形成すればよい。 Incidentally, 601 to 603 provided on the substrate 600 may be formed in accordance with any one of Embodiments 2 to 4.
【0223】 [0223]
これらの素子(604a、604b、604cを含む)は、上記実施例1のnチャネル型TFT201、上記実施例1のpチャネル型TFT202に従って作製すればよい。 These elements (604a, 604b, including 604c), the first embodiment of the n-channel type TFT 201, may be manufactured in accordance with the p-channel type TFT202 of Example 1. なお、ここでは一つの画素に2つのTFTを用いた例を示したが、3つ、またはそれ以上のTFTを用いてもよい。 Here, although an example of using two TFT in one pixel may use three or more of the TFT.
【0224】 [0224]
EL素子605は、電場を加えることで発生するルミネッセンス(Electroluminescence)が得られる有機化合物(有機発光材料)を含む層(以下、有機発光層と記す)と、陽極層と、陰極層とを有している。 EL element 605 has an organic compound which luminescence (Electroluminescence) is obtained generated by application of an electric field and a layer containing (organic light emitting material) (hereinafter, referred to as an organic light emitting layer), an anode layer, a cathode layer ing. 有機化合物におけるルミネッセンスには、一重項励起状態から基底状態に戻る際の発光(蛍光)と三重項励起状態から基底状態に戻る際の発光(リン光)とがあるが、本発明の発光装置は、上述した発光のうちの、いずれか一方の発光を用いていても良いし、または両方の発光を用いていても良い。 The luminescence in the organic compound, there are the light emission upon return light emission upon return from a singlet excited state to a ground state (fluorescence) from a triplet excited state to a ground state (phosphorescence), the light emitting device of the present invention , of the light-emitting described above, may be formed using either one of the light emitting, or may be formed using both light emission. なお、本明細書では、EL素子の陽極と陰極の間に形成された全ての層を有機発光層と定義する。 In this specification, all layers formed between an anode and a cathode of the EL element are defined as the organic light emitting layer. 有機発光層には具体的に、発光層、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層、電子輸送層等が含まれる。 Specifically the organic light emitting layer, light emitting layer, a hole injection layer, an electron injection layer, a hole transport layer include an electron transport layer and the like. 基本的にEL素子は、陽極/発光層/陰極が順に積層された構造を有しており、この構造に加えて、陽極/正孔注入層/発光層/陰極や、陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/陰極等の順に積層した構造を有していることもある。 Basically EL element has an anode / emitting layer / cathode are sequentially stacked, in addition to this structure, an anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode or anode / hole injection layer / sometimes has layered in this order of the light-emitting layer / electron transporting layer / cathode or the like.
【0225】 [0225]
上記方法により、図13(A)の状態を得たら、接着層607により支持体608を貼り合わせる。 By the above method, after obtaining the state of FIG. 13 (A), bonded to the support 608 by the adhesive layer 607. (図13(B))本実施例では支持体608としてプラスチック基板を用いる。 (FIG. 13 (B)) In this embodiment, a plastic substrate as a support 608. 具体的には、支持体として、厚さ10μm以上の樹脂基板、例えばPES(ポリエチレンサルファイル)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)もしくはPEN(ポリエチレンナフタレート)を用いることができる。 Specifically, as a support, thickness 10μm above the resin substrate, for example, PES (polyethylene sulfile), PC (polycarbonate), it is possible to use PET (polyethylene terephthalate) or PEN (polyethylene naphthalate). なお、EL素子から見て観測者側(発光装置の使用者側)に位置する場合、支持体608および接着層607は、光を透過する材料であることが必要である。 Incidentally, when located viewer side when viewed from the EL element (the user side of the light-emitting device), the support 608 and the adhesive layer 607 is required to be a material that transmits light.
【0226】 [0226]
次いで、窒化物層または金属層601が設けられている基板600を物理的手段により引き剥がす。 Then, peeled by a physical means to a substrate 600 on which the nitride layer or metal layer 601 is provided. (図13(C))酸化物層602の膜応力と、窒化物層または金属層601の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 (FIG. 13 (C)) and the film stress of the oxide layer 602, since the film stress of the nitride layer or metal layer 601 are different, it can be peeled with a relatively small force.
【0227】 [0227]
次いで、エポキシ樹脂などの接着層609により転写体610に貼り付ける。 Then, the adhesive layer 609 such as an epoxy resin paste to a transfer member 610.
(図13(D))本実施例では、転写体610をプラスチックフィルム基板とすることで、軽量化を図る。 In the present embodiment (FIG. 13 (D)), the transfer member 610 by a plastic film substrate, reduce the weight.
【0228】 [0228]
こうして、可撓性を有する支持体608、可撓性を有する転写体610によって挟まれたフレキシブルな発光装置を得ることができる。 Thus, the support 608 having flexibility, it is possible to obtain a flexible light-emitting device sandwiched by the transfer member 610 having flexibility. なお、支持体608と転写体610とを同一材料にすると、熱膨張係数が等しくなるので、温度変化による応力歪みの影響を受けにくくすることができる。 Incidentally, the supporting member 608 and the transfer member 610 when the same material, the thermal expansion coefficient is equal, it is possible to reduce the influence of stress strain due to temperature changes.
【0229】 [0229]
そして、必要があれば、可撓性を有する支持体608、可撓性を有する転写体610を所望の形状に分断する。 Then, if necessary, the support 608 having flexibility, to divide the transfer member 610 having flexibility in the desired shape. そして、公知の技術を用いてFPC(図示しない)を貼りつけた。 Then, paste the FPC (not shown) using known techniques.
【0230】 [0230]
[実施例7] [Example 7]
実施例6では、支持体を貼りつけた後、基板を剥離して転写体としてのプラスチック基板を貼りつけた例を示したが、本実施例では、基板を剥離した後、第1の転写体としてのプラスチック基板と、第2の転写体としてのプラスチック基板を貼りつけてEL素子を備えた発光装置を作製する例である。 In Example 6, after sticking a support, although an example in which pasted plastic substrate as a transfer member is peeled off the substrate, in the present embodiment, after separating the substrate, first transfer body and a plastic substrate as an example of manufacturing a light emitting device having an EL element pasted plastic substrate as a second transfer member. 説明には図14を用いる。 The description is made with reference to FIG 14.
【0231】 [0231]
図14(A)において、700は基板、701は窒化物層または金属層、702は酸化物層、703は下地絶縁層、704aは駆動回路711の素子、704b、704cは画素部712の素子、705はEL素子(Organic Light Emitting Device)である。 In FIG. 14 (A), 700 denotes a substrate, 701 is a nitride layer or a metal layer, 702 is an oxide layer, 703 base insulating layer, 704a is the element of the driving circuit 711, 704b, 704c are elements of a pixel portion 712, 705 is a EL device (Organic Light Emitting device). ここで素子とは、アクティブマトリクス型の発光装置ならば画素のスイッチング素子として用いる半導体素子(典型的にはTFT)もしくはMIM素子並びにEL素子等を指す。 And here element (typically TFT) semiconductor device used as a switching element of a pixel, if an active matrix light-emitting device refers to or MIM element and the EL element or the like. そして、これらの素子を覆って、層間絶縁膜706を形成する。 Then, over these elements, an interlayer insulating film 706. 層間絶縁膜706は、成膜後の表面がより平坦であることが好ましい。 Interlayer insulating film 706, it is preferable that the surface after the film formation is more flat. なお、層間絶縁膜706は必ずしも設ける必要はない。 The interlayer insulating film 706 need not necessarily be provided.
【0232】 [0232]
なお、基板700上に設ける701〜703は実施の形態2乃至4のいずれか一に従って形成すればよい。 Incidentally, 701 through 703 provided on the substrate 700 may be formed in accordance with any one of Embodiments 2 to 4.
【0233】 [0233]
これらの素子(704a、704b、704cを含む)は、上記実施例1のnチャネル型TFT201、上記実施例1のpチャネル型TFT202に従って作製すればよい。 These elements (704a, 704b, including 704c) is, n-channel type TFT201 of Example 1, it may be manufactured in accordance with the p-channel type TFT202 of Example 1.
【0234】 [0234]
上記方法により、図14(A)の状態を得たら、窒化物層または金属層701が設けられている基板700を物理的手段により引き剥がす。 By the above method, after obtaining the state of FIG. 14 (A), peeled by a physical means to a substrate 700 on which the nitride layer or metal layer 701 is provided. (図14(B))酸化物層702の膜応力と、窒化物層または金属層701の膜応力が異なっているため、比較的小さな力で引き剥がすことができる。 (FIG. 14 (B)) and the film stress of the oxide layer 702, since the film stress of the nitride layer or metal layer 701 are different, can be peeled with a relatively small force.
【0235】 [0235]
次いで、エポキシ樹脂などの接着層709により転写体(第1の転写体)710に貼り付ける。 Then, the transfer member by an adhesive layer 709 such as epoxy resin (a first transfer member) pasted to 710. 本実施例では、転写体710をプラスチックフィルム基板とすることで、軽量化を図る。 In this embodiment, the transfer member 710 by a plastic film substrate, reduce the weight.
【0236】 [0236]
次いで、接着層707により基材(第2の転写体)708を貼り合わせる。 Then, the adhesive layer 707 bonding the substrate (the second transfer body) 708. (図14(C))本実施例では基材708としてプラスチック基板を用いる。 (FIG. 14 (C)) In this embodiment, a plastic substrate as a substrate 708. 具体的には、転写体710及び基材708として、厚さ10μm以上の樹脂基板、例えばPES(ポリエチレンサルファイル)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)もしくはPEN(ポリエチレンナフタレート)を用いることができる。 Specifically, as a transfer member 710 and the substrate 708, the thickness of 10μm or more of the resin substrate, for example, PES (polyethylene sulfile), PC (polycarbonate), the use of PET (polyethylene terephthalate) or PEN (polyethylene naphthalate) can. なお、EL素子から見て観測者側(発光装置の使用者側)に位置する場合、基材708および接着層707は、光を透過する材料であることが必要である。 Incidentally, when located viewer side when viewed from the EL element (the user side of the light-emitting device), the substrate 708 and the adhesive layer 707 is required to be a material that transmits light.
【0237】 [0237]
こうして、可撓性を有する基材708、可撓性を有する転写体710によって挟まれたフレキシブルな発光装置を得ることができる。 Thus, a flexible substrate 708 having a can be obtained a flexible light-emitting device sandwiched by the transfer member 710 having flexibility. なお、基材708と転写体710とを同一材料にすると、熱膨張係数が等しくなるので、温度変化による応力歪みの影響を受けにくくすることができる。 Incidentally, when the the substrate 708 and the transfer member 710 in the same material, the thermal expansion coefficient is equal, it is possible to reduce the influence of stress strain due to temperature changes.
【0238】 [0238]
そして、必要があれば、可撓性を有する基材708、可撓性を有する転写体710を所望の形状に分断する。 Then, if necessary, to divide the flexible substrate 708 having a transfer member 710 having flexibility in the desired shape. そして、公知の技術を用いてFPC(図示しない)を貼りつけた。 Then, paste the FPC (not shown) using known techniques.
【0239】 [0239]
[実施例8] [Example 8]
実施例6または実施例7では、可撓性を有する基板によって挟まれたフレキシブルな発光装置を得る例を示したが、プラスチックからなる基板は、一般的に水分や酸素を透過しやすく、有機発光層はこれらのものによって劣化が促進されるので、発光装置の寿命が短くなりやすい。 In Example 6 or Example 7, an example of obtaining a flexible light-emitting device sandwiched by a flexible substrate, a substrate made of plastic, generally tends to transmit moisture and oxygen, an organic light emitting since the layer is degraded is facilitated by these things, the life of the light emitting device becomes short easily.
【0240】 [0240]
そこで本実施例では、プラスチック基板上に、酸素や水分がEL素子の有機発光層に入り込むのを防ぐ複数の膜(以下、バリア膜)と、前記バリア膜どうしの間に前記バリア膜よりも応力の小さい層(応力緩和膜)を設ける。 Stress Therefore, in the present embodiment, on a plastic substrate, a plurality of film oxygen or moisture is prevented from entering the organic light emitting layer of the EL element (hereinafter, a barrier film) and, than the barrier film between said barrier layer each other providing a small layer of (stress relaxation film). 本明細書では、バリア膜と応力緩和膜を積層した膜を封止膜と呼ぶ。 Referred to herein as sealing a film formed by laminating a barrier film and the stress relaxation film.
【0241】 [0241]
具体的には、無機物からなるバリア膜(以下、バリア膜と呼ぶ)を2層以上設けて、さらに該2層のバリア膜の間に樹脂を有する応力緩和膜(以下、応力緩和膜と呼ぶ)を設ける。 Specifically, the barrier film (hereinafter, referred to as a barrier layer) made of an inorganic substance and providing two or more layers, further stress relieving layer having a resin between the barrier films of the two layers (hereinafter, referred to as the stress relaxation film) the provision. そして、該3層以上の絶縁膜上にEL素子を形成して密封することにより、発光装置を形成する。 Then, by sealing by forming an EL element to the three or more layers of insulating film, forming a light-emitting device. なお、実施例6または実施例7とは基板以外の構成は同一であるのでここでは省略する。 Note that the Example 6 or Example 7 omitted here since configurations other than the substrate is identical.
【0242】 [0242]
図15に示すように、フィルム基板810上にバリア膜を2層以上設けて、さらに該2層のバリア膜の間に応力緩和膜を設ける。 As shown in FIG. 15, a barrier film on the film substrate 810 is provided two or more layers, further providing stress relaxation film between the barrier films of the two layers. その結果、フィルム基板810と第2接着層809の間に、該バリア膜と応力緩和膜を積層した封止膜が形成される。 As a result, while the film substrate 810 and the second adhesive layer 809, a sealing film obtained by laminating the barrier film and the stress relaxation film is formed.
【0243】 [0243]
ここでは、フィルム基板810上にバリア膜811aとして、窒化珪素からなる膜をスパッタを用いて成膜し、バリア膜811a上にポリイミドを有する応力緩和膜811bを成膜し、応力緩和膜811b上にバリア膜811cとして、窒化珪素からなる膜をスパッタを用いて成膜する。 Here, as a barrier film 811a on the film substrate 810, a film made of silicon nitride is deposited by a sputtering, thereby forming a stress relaxation film 811b having a polyimide on the barrier film 811a, on the stress relaxation film 811b as a barrier film 811c, is deposited by a sputtering the film made of silicon nitride. バリア膜811a、応力緩和膜811b、バリア膜811cを積層した膜を封止膜811と総称する。 Barrier film 811a, a stress relaxation film 811b, a film formed by laminating a barrier film 811c are collectively referred to as the sealing film 811. そして、該封止膜811が形成されたフィルム基板810を、第2接着層809を用いて、素子を含む被剥離層に貼り合わせればよい。 Then, the film substrate 810 encapsulating Tomemaku 811 is formed by using the second adhesive layer 809 may be bonded to the layer to be peeled including an element.
【0244】 [0244]
同様に、フィルム基板812上にバリア膜814aとして、窒化珪素からなる膜をスパッタを用いて成膜し、バリア膜814a上にポリイミドを有する応力緩和膜814bを成膜し、応力緩和膜814b上にバリア膜814cとして、窒化珪素からなる膜をスパッタを用いて成膜する。 Similarly, as a barrier film 814a on the film substrate 812, a film made of silicon nitride is deposited by a sputtering, thereby forming a stress relaxation film 814b having a polyimide on the barrier film 814a, on the stress relaxation film 814b as a barrier film 814c, is deposited by a sputtering the film made of silicon nitride. バリア膜814a、応力緩和膜814b、バリア膜814cを積層した膜を封止膜814と総称する。 Barrier film 814a, a stress relaxation film 814b, a film formed by laminating a barrier film 814c are collectively referred to as the sealing film 814. そして、該封止膜814が形成されたフィルム基板812を、第2接着層809を用いて、素子を含む被剥離層に貼り合わせればよい。 Then, the film substrate 812 encapsulating Tomemaku 814 is formed by using the second adhesive layer 809 may be bonded to the layer to be peeled including an element.
【0245】 [0245]
なお、バリア膜は2層以上設けていれば良い。 The barrier film may if provided two or more layers. そしてバリア膜は、窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウムまたは窒化酸化珪化アルミニウム(AlSiON)を用いることができる。 The barrier film may be used silicon nitride, silicon nitride oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum nitride oxide or nitride oxide silicide aluminum (AlSiON).
【0246】 [0246]
窒化酸化珪化アルミニウムは熱伝導度が比較的高いので、バリア膜に用いることで、素子で発生した熱を効率良く放熱することができる。 Since nitride oxide silicide aluminum has a relatively high thermal conductivity, by using the barrier film, it is possible to efficiently radiate the heat generated by the element.
【0247】 [0247]
また、応力緩和膜には、透光性を有する樹脂を用いることができる。 Further, the stress relaxation film, it is possible to use a resin having a light transmitting property. 代表的には、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、ベンゾシクロブテンもしくはエポキシ樹脂等を用いることが可能である。 Typically, it is possible to use polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, benzocyclobutene or epoxy resin. なお、上述した以外の樹脂を用いることもできる。 It is also possible to use a resin other than the above-mentioned. ここでは、熱重合するタイプのポリイミドを塗布後、焼成して形成する。 Here, after coating A thermal polymerization type polyimide is, formed by firing.
【0248】 [0248]
窒化珪素は、アルゴンを導入し、基板温度を150℃に保ち、スパッタ圧力0.4Pa程度で成膜を行う。 Silicon nitride, introducing argon, maintaining the substrate temperature at 0.99 ° C., to form a film of about sputtering pressure 0.4 Pa. そしてターゲットとして珪素を用い、アルゴンの他に窒素及び水素を導入して成膜を行った。 Then using silicon as a target, film formation was carried out by introducing nitrogen and hydrogen in addition to the argon. 窒化酸化珪素の場合、アルゴンを導入し、基板温度を150℃に保ち、スパッタ圧力0.4Pa程度で成膜を行う。 For silicon nitride oxide, introducing argon, maintaining the substrate temperature at 0.99 ° C., to form a film of about sputtering pressure 0.4 Pa. そしてターゲットとして珪素を用い、アルゴンの他に窒素、ニ酸化窒素及び水素を導入して成膜を行った。 Then using silicon as a target, the nitrogen in addition to argon, a film formation by introducing dioxide nitrogen and hydrogen was carried out. なおターゲットとして酸化珪素を用いても良い。 It should be noted that may be used silicon oxide as a target.
【0249】 [0249]
バリア膜の膜厚は50nm〜3μmの範囲であることが望ましい。 Thickness of the barrier film is preferably in the range of 50Nm~3myuemu. ここでは、窒化珪素を1μmの膜厚で成膜した。 Here, by forming a silicon nitride with a film thickness of 1 [mu] m.
【0250】 [0250]
なお、バリア膜の成膜方法はスパッタのみに限定されず、実施者が適宜設定することができる。 The deposition method of the barrier film is not limited to sputtering, it is possible to practitioner appropriately set. 例えば、LPCVD法、プラズマCVD法等を用いて成膜しても良い。 For example, LPCVD method, or it may be formed using a plasma CVD method or the like.
【0251】 [0251]
また、応力緩和膜の膜厚は、200nm〜2μmの範囲であることが望ましい。 The thickness of the stress relaxation film is preferably in the range of 200Nm~2myuemu. ここでは、ポリイミドを1μmの膜厚で成膜した。 Here, by forming a polyimide film thickness of 1 [mu] m.
【0252】 [0252]
実施例6における支持体608または転写体610、或いは実施例7における基材708または転写体710として、本実施例の封止膜が設けられたプラスチック基板を適用することによりEL素子を完全に大気から遮断することができる。 As substrate 708 or transcript 710 in support 608 or transfer member 610 or Example 7, in Example 6, full atmosphere EL element by applying a plastic substrate sealing film of the present embodiment is provided it can be cut off from. これにより酸化による有機発光材料の劣化をほぼ完全に抑制することができ、EL素子の信頼性を大幅に向上させることができる。 Thus it is possible to almost completely suppress the degradation of the organic light emitting material due to oxidation, the reliability of the EL element can be significantly improved.
【0253】 [0253]
[実施例9] [Example 9]
実施例6または実施例7により得られたEL素子を有するモジュール、いわゆるELモジュールの構成を図16の上面図を用いて説明する。 Module having the EL element obtained in Example 6 or Example 7 will be described with reference to the top view of FIG. 16 the structure of a so-called EL module. 実施例7における転写体610、または実施例8における転写体710がフィルム基板900に対応する。 Transcript 710 in the transfer member 610 or Example 8, in Example 7 corresponds to the film substrate 900.
【0254】 [0254]
図16(A)は、EL素子を有するモジュール、いわゆるELモジュールを示す上面図、図16(B)は図16(A)をA−A'で切断した断面図である。 Figure 16 (A) is a top view showing the module, the so-called EL module having an EL element, FIG. 16 (B) is a cross-sectional view of FIG 16 (A) taken along A-A '. 可撓性を有するフィルム基板900(例えば、プラスチック基板等)に、画素部902、ソース側駆動回路901、及びゲート側駆動回路903を形成する。 Film substrate 900 having flexibility (for example, a plastic substrate or the like) to form a pixel portion 902, the source side driver circuit 901 and the gate side driver circuit 903,. これらの画素部や駆動回路は、上記実施例に従えば得ることができる。 These pixel portion and driver circuit may be obtained according to the above embodiment. また、918はシール材、919はDLC膜であり、画素部および駆動回路部はシール材918で覆われ、そのシール材は保護膜919で覆われている。 Further, 918 sealing material, 919 is a DLC film, the pixel portion and the driver circuit portion are covered with the sealing material 918, the sealing material is covered with a protective film 919. さらに、接着材を用いてカバー材920で封止されている。 Further, it sealed with a cover member 920 using an adhesive. カバー材920の形状および支持体の形状も特に限定されず、平面を有するもの、曲面を有するもの、可曲性を有するもの、フィルム状のものであってもよい。 Shape and the shape of the support of the cover member 920 is not particularly limited, those having a flat surface, those having a curved surface, those having a bendable, or may be a film-like. 熱や外力などによる変形に耐えるためカバー材920はフィルム基板900と同じ材質のもの、例えばプラスチック基板を用いることが望ましく、図16に示す凹部形状(深さ3〜10μm)に加工されたものを用いる。 Cover member 920 to resist such as by deformation heat and external force is of the same material as the film substrate 900, for example, it is desirable to use a plastic substrate, those which are processed into concave shape (depth 3 to 10 [mu] m) shown in FIG. 16 used. さらに加工して乾燥剤921が設置できる凹部(深さ50〜200μm)を形成することが望ましい。 It is desirable to further processed desiccant 921 to form a recess (depth 50 to 200 [mu] m) can be installed. また、多面取りでELモジュールを製造する場合、基板とカバー材とを貼り合わせた後、CO 2レーザー等を用いて端面が一致するように分断してもよい。 In the production of the EL module in multiple-piece, after bonding the substrate and the cover member may be divided so that the end face coincides with the CO 2 laser.
【0255】 [0255]
また、ここでは図示しないが、用いる金属層(ここでは陰極など)の反射により背景が映り込むことを防ぐために、位相差板(λ/4板)や偏光板からなる円偏光板と呼ばれる円偏光手段を基板900上に設けてもよい。 Further, where although not shown, is used to prevent being reflected background by the reflection of the (cathode such as in this case) a metal layer, circularly polarized light, called phase difference plate (lambda / 4 plate) and consisting of a polarizing plate circular polarizer means may be provided on the substrate 900.
【0256】 [0256]
なお、908はソース側駆動回路901及びゲート側駆動回路903に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)909からビデオ信号やクロック信号を受け取る。 Incidentally, 908 is a wiring for transmitting signals inputted to the source side driver circuit 901 and the gate side driver circuit 903, an external input terminal FPC (flexible printed circuit) 909 serving as an external input terminal. また、本実施例の発光装置は、デジタル駆動であってもよく、アナログ駆動であってもよく、ビデオ信号はデジタル信号であってもよいし、アナログ信号であってもよい。 The light-emitting device of the present embodiment may be a digital drive, may be an analog drive, the video signal may be a digital signal may be an analog signal. なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り付けられていても良い。 Although only the FPC is shown here, a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC. 本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。 The light-emitting device in this specification includes not only a light-emitting device itself but also a state where an FPC or a PWB is attached. また、これらの画素部や駆動回路と同一基板上に複雑な集積回路(メモリ、CPU、コントローラ、D/Aコンバータ等)を形成することも可能であるが、少ないマスク数での作製は困難である。 Also, complex integrated circuits to the pixel portion and the driving circuit on the same substrate (memory, CPU, and the controller, D / A converter or the like) it is also possible to form a preparation of a small number of masks is difficult is there. 従って、メモリ、CPU、コントローラ、D/Aコンバータ等を備えたICチップを、COG(chip on glass)方式やTAB(tape automated bonding)方式やワイヤボンディング方法で実装することが好ましい。 Accordingly, memory, CPU, and the controller, the IC chip with D / A converter or the like, it is preferable to implement by COG (chip on glass) method or TAB (tape automated bonding) method or a wire bonding method.
【0257】 [0257]
次に、断面構造について図16(B)を用いて説明する。 It will now be described with reference to FIG. 16 (B) cross-sectional structure. フィルム基板900上に接着層を介して絶縁膜910が設けられ、絶縁膜910の上方には画素部902、ゲート側駆動回路903が形成されており、画素部902は電流制御用TFT911とそのドレインに電気的に接続された画素電極912を含む複数の画素により形成される。 On the film substrate 900 through an adhesive layer insulating film 910 is formed, the pixel portion 902 over the insulating film 910, a gate side driver circuit 903 are formed, the pixel portion 902 and the current control TFT911 a drain It is formed of a plurality of pixels including a pixel electrode 912 electrically connected to the. なお、実施の形態1乃至4のいずれか一に従って、基板上に形成した被剥離層を剥離した後、フィルム基板900が接着層で貼りつけられる。 Incidentally, according to any one of the first to fourth embodiments, after peeling the layer to be peeled formed on the substrate, a film substrate 900 is pasted by the adhesive layer. また、ゲート側駆動回路903はnチャネル型TFT913とpチャネル型TFT914とを組み合わせたCMOS回路を用いて形成される。 Further, the gate side driver circuit 903 is formed using a CMOS circuit combining an n-channel type TFT913 and a p-channel type 914.
【0258】 [0258]
これらのTFT(911、913、914を含む)は、上記実施例1のnチャネル型TFT201、上記実施例1のpチャネル型TFT202に従って作製すればよい。 These TFT (including 911,913,914) is, n-channel type TFT201 of Example 1, it may be manufactured in accordance with the p-channel type TFT202 of Example 1.
【0259】 [0259]
なお、TFTとEL素子の間に設ける絶縁膜としては、アルカリ金属イオンやアルカリ土金属イオン等の不純物イオンの拡散をブロックするだけでなく、積極的にアルカリ金属イオンやアルカリ土金属イオン等の不純物イオンを吸着する材料が好ましく、更には後のプロセス温度に耐えうる材料が適している。 As the insulating film provided between the TFT and the EL element, not only to block the diffusion of the impurity ions such as alkali metal ions or alkaline earth metal ions, positively impurities such as alkali metal ions or alkaline earth metal ion is preferably made of a material which can adsorb ions, further are suitable materials that can withstand the process temperature after. これらの条件に合う材料は、一例としてフッ素を多く含んだ窒化シリコン膜が挙げられる。 Materials that meet these criteria include the fluorine laden silicon nitride film as an example.
窒化シリコン膜の膜中に含まれるフッ素濃度は、1×10 19 /cm 3以上、好ましくは窒化シリコン膜中でのフッ素の組成比を1〜5%とすればよい。 Fluorine concentration in the film of the silicon nitride film is, 1 × 10 19 / cm 3 or more, preferably the composition ratio of the fluorine in the silicon nitride film may be set to 1-5%. 窒化シリコン膜中のフッ素がアルカリ金属イオンやアルカリ土金属イオン等と結合し、膜中に吸着される。 Fluorine in the silicon nitride film is bonded to an alkali metal ion or alkaline earth metal ions, etc., and is adsorbed in the film. また、他の例としてアルカリ金属イオンやアルカリ土金属イオン等を吸着するアンチモン(Sb)化合物、スズ(Sn)化合物、またはインジウム(In)化合物からなる微粒子を含む有機樹脂膜、例えば、五酸化アンチモン微粒子(Sb 25・nH 2 O)を含む有機樹脂膜も挙げられる。 Further, antimony (Sb) compound to adsorb alkali metal ions or alkaline earth metal ions such as As another example, tin (Sn) compound, or indium (In) organic resin film containing fine particles composed of a compound, e.g., antimony pentoxide the organic resin film containing fine particles (Sb 2 O 5 · nH 2 O) can be mentioned. なお、この有機樹脂膜は、平均粒径10〜20nmの微粒子が含まれており、光透過性も非常に高い。 Note that this organic resin film, includes a fine particles having an average particle diameter: 10 to 20 nm, light permeability very high. この五酸化アンチモン微粒子で代表されるアンチモン化合物は、アルカリ金属イオン等の不純物イオンやアルカリ土金属イオンを吸着しやすい。 Antimony compounds represented by the antimony pentoxide particle is likely to adsorb impurity ions and alkaline earth metal ions such as alkali metal ions.
【0260】 [0260]
また、TFTの活性層とEL素子との間に設ける絶縁膜の他の材料としては、AlN XYで示される層を用いてもよい。 As another material of the insulating film provided between the active layer and the EL elements of TFT, it may be used a layer indicated by AlN X O Y. スパッタ法を用い、例えば、窒化アルミニウム(AlN)ターゲットを用い、アルゴンガスと窒素ガスと酸素ガスを混合した雰囲気下にて成膜して得られるアルミニウムを含む窒化酸化物層(AlN XYで示される層)は、窒素を2.5atm%〜47.5atm%含む膜であり、水分や酸素をブロッキングすることができる効果に加え、熱伝導性が高く放熱効果を有し、さらには透光性が非常に高いという特徴を有している。 By sputtering, for example, an aluminum nitride (AlN) target, nitrided oxide layer containing aluminum obtained by film formation in an atmosphere of a mixture of argon gas and nitrogen gas and oxygen gas (with AlN X O Y the layers) is that shown, is a film containing nitrogen 2.5atm% ~47.5atm%, in addition to the advantage of being able to block moisture or oxygen, thermal conductivity has a high heat dissipation effect, more translucent sex has a feature that extremely high. 加えて、アルカリ金属やアルカリ土類金属などの不純物がTFTの活性層に入り込むのを防ぐことができる。 In addition, it is possible to impurities such as alkali metals and alkaline earth metals are prevented from entering the active layer of the TFT.
【0261】 [0261]
特にRFスパッタ装置を用い、シリコンターゲットを用いて形成される窒化シリコン膜は、有機樹脂膜からなる層間絶縁膜のパッシベーション膜として適している。 In particular using an RF sputtering device, a silicon nitride film formed by using a silicon target is suitable as a passivation film of an interlayer insulating film made of an organic resin film. 窒化シリコン膜は、有機樹脂膜の脱ガスを抑えることができ、さらに水分や酸素のブロッキングもできるため、有機化合物層のシュリンクとよばれる不良発生を抑えることができる。 Silicon nitride film can be suppressed degassing of the organic resin film, since it is also more moisture and oxygen blocking, it is possible to suppress occurrence of defects called shrink organic compound layer.
【0262】 [0262]
画素電極912はEL素子の陽極として機能する。 Pixel electrode 912 functions as an anode of an EL element. また、画素電極912の両端にはバンク915が形成され、画素電極912上にはEL層916および発光素子の陰極917が形成される。 Banks 915 are formed at both ends of the pixel electrode 912, on the pixel electrode 912 a cathode 917 of the EL layer 916 and the light emitting element is formed. バンク915としては無機絶縁膜または有機絶縁膜をパターニングすることによって得ることができ、カバレッジを良好なものとするため、バンク915の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにすることが好ましい。 The bank 915 can be obtained by patterning the inorganic insulating film or an organic insulating film, in order to obtain favorable coverage, a curved surface having a curvature at its upper or lower end portion of the bank 915 is formed it is preferable. 例えば、バンク915の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、バンク915の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。 For example, in the case of using positive photosensitive acrylic as a material of the bank 915, it is preferable to have a curved surface with a curvature radius (0.2μm~3μm) only at the upper end portion of the bank 915. また、バンク915として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。 Moreover, as the bank 915, a negative type which becomes insoluble in an etchant by photosensitive light or a positive type which becomes soluble in an etchant by light can be used.
【0263】 [0263]
EL層916としては、発光層、電荷輸送層または電荷注入層を自由に組み合わせてEL層(発光及びそのためのキャリアの移動を行わせるための層)を形成すれば良い。 The EL layer 916, light emitting layer, may be formed EL layer by freely combining a charge transport layer or a charge injection layer (a layer for carrier transfer for light emission and for). 例えば、低分子系有機EL材料や高分子系有機EL材料を用いればよい。 For example, it may be used low molecular weight organic EL materials and high molecular based organic EL materials. また、EL層として一重項励起により発光(蛍光)する発光材料(シングレット化合物)からなる薄膜、または三重項励起により発光(リン光)する発光材料(トリプレット化合物)からなる薄膜を用いることができる。 Further, it is possible to use a thin film made of a thin film made of light by singlet excitation as the EL layer (fluorescent) emitting material (singlet compound) or a triplet excited by emission, (phosphorescence) emitting material (triplet compound). また、電荷輸送層や電荷注入層として炭化珪素等の無機材料を用いることも可能である。 It is also possible to use inorganic materials such as silicon carbide as a charge-transporting layer and charge injection layer. これらの有機EL材料や無機材料は公知の材料を用いることができる。 These organic EL materials and inorganic materials can be a known material.
【0264】 [0264]
陰極917は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線908を経由してFPC909に電気的に接続されている。 Cathode 917 also functions as a wiring common to all pixels, and is electrically connected to FPC909 via the connection wiring 908. さらに、画素部902及びゲート側駆動回路903に含まれる素子は全て陰極917、シール材918、及び保護膜919で覆われている。 Furthermore, elements included in the pixel portion 902 and the gate side driver circuit 903 are all cathode 917 is covered with the sealant 918, and the protective layer 919.
【0265】 [0265]
なお、シール材918としては、できるだけ可視光に対して透明もしくは半透明な材料を用いるのが好ましい。 As the sealant 918, it is preferable to use a transparent or semi-transparent material to possible visible light. また、シール材918はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。 The sealing member 918 is desirably made of a material which does not transmit moisture or oxygen as much as possible.
【0266】 [0266]
また、シール材918を用いて発光素子を完全に覆った後、すくなくとも図16に示すようにDLC膜等からなる保護膜919をシール材918の表面(露呈面)に設けることが好ましい。 Further, after completely covering the light-emitting element using a sealing material 918, it is preferable to provide a protective film 919 made of a DLC film or the like as shown in at least FIG. 16 on the surface of the sealing material 918 (exposed surface). また、基板の裏面を含む全面に保護膜を設けてもよい。 Further, the entire surface may be provided with a protective film comprising a back surface of the substrate. ここで、外部入力端子(FPC)が設けられる部分に保護膜が成膜されないように注意することが必要である。 Here, it is necessary that the protective film in the portion where the external input terminal (FPC) is provided to careful not deposited. マスクを用いて保護膜が成膜されないようにしてもよいし、CVD装置で用いるマスキングテープ等のテープで外部入力端子部分を覆うことで保護膜が成膜されないようにしてもよい。 It protective film using a mask may not be deposited, a protective film by covering the external input terminal portion with a tape such as masking tape for use in the CVD apparatus may not be deposited.
【0267】 [0267]
以上のような構造で発光素子をシール材918及び保護膜で封入することにより、発光素子を外部から完全に遮断することができ、外部から水分や酸素等のEL層の酸化による劣化を促す物質が侵入することを防ぐことができる。 Material by encapsulating the structural sealant 918 and the protective film light-emitting element in the above light-emitting element can be completely shut off from the outside, to promote oxidative degradation, such as moisture and oxygen, the EL layer from external There can be prevented from entering. 加えて、保護膜として熱伝導性を有する膜(AlON膜、AlN膜など)を用いれば駆動させたときに生じる発熱を発散することができる。 In addition, thermal conductivity and having film (AlON film, AlN film) the heat generated when driven by using the can diverge as a protective film. 従って、信頼性の高い発光装置を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain a highly reliable light-emitting device.
【0268】 [0268]
また、画素電極を陰極とし、EL層と陽極を積層して図16とは逆方向に発光する構成としてもよい。 Further, the pixel electrode as a cathode, may be configured to emit light in a direction opposite to the 16 by laminating the EL layer and the anode. 図17にその一例を示す。 Figure 17 shows an example thereof. なお、上面図は同一であるので省略する。 Incidentally, omitted top view is the same.
【0269】 [0269]
図17に示した断面構造について以下に説明する。 Described below cross-sectional structure shown in FIG. 17. フィルム基板1000としては、プラスチック基板を用いる。 The film substrate 1000, a plastic substrate. なお、実施の形態1乃至4のいずれか一に従って、基板上に形成した被剥離層を剥離した後、フィルム基板1000が接着層で貼りつけられる。 Incidentally, according to any one of the first to fourth embodiments, after peeling the layer to be peeled formed on the substrate, the film substrate 1000 is pasted with an adhesive layer. フィルム基板1000上に絶縁膜1010が設けられ、絶縁膜1010の上方には画素部1002、ゲート側駆動回路1003が形成されており、画素部1002は電流制御用TFT1011とそのドレインに電気的に接続された画素電極1012を含む複数の画素により形成される。 Film substrate 1000 insulating film 1010 is provided over the pixel portion 1002 over the insulating film 1010, a gate side driving circuit 1003 are formed, the pixel portion 1002 electrically connected to a drain of the current controlling TFT1011 It is formed of a plurality of pixels including a pixel electrode 1012 that is. また、ゲート側駆動回路1003はnチャネル型TFT1013とpチャネル型TFT1014とを組み合わせたCMOS回路を用いて形成される。 Further, the gate side driver circuit 1003 is formed using a CMOS circuit combining an n-channel type TFT1013 and p-channel type TFT 1014.
【0270】 [0270]
画素電極1012は発光素子の陰極として機能する。 Pixel electrode 1012 functions as a cathode of the light emitting element. また、画素電極1012の両端にはバンク1015が形成され、画素電極1012上にはEL層1016および発光素子の陽極1017が形成される。 Banks 1015 are formed at both ends of the pixel electrode 1012, on the pixel electrode 1012 anode 1017 of the EL layer 1016 and the light emitting element is formed.
【0271】 [0271]
陽極1017は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線1008を経由してFPC1009に電気的に接続されている。 The anode 1017 also functions as a wiring common to all pixels, and is electrically connected to FPC1009 via a connection wiring 1008. さらに、画素部1002及びゲート側駆動回路1003に含まれる素子は全て陽極1017、シール材1018、及びDLC等からなる保護膜1019で覆われている。 Furthermore, covered with the pixel portion 1002 and all elements anode 1017 contained in the gate side driver circuit 1003, a protective film 1019 made of the sealing material 1018, and DLC like. また、カバー材1021と基板1000とを接着剤で貼り合わせた。 Further, bonding the cover material 1021 and the substrate 1000 with an adhesive. また、カバー材には凹部を設け、乾燥剤1021を設置する。 Further, a recess in the cover member, placing a desiccant 1021.
【0272】 [0272]
なお、シール材1018としては、できるだけ可視光に対して透明もしくは半透明な材料を用いるのが好ましい。 As the sealing material 1018, it is preferable to use a transparent or semi-transparent material to possible visible light. また、シール材1018はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。 Further, the sealant 1018 is desirably made of a material which does not transmit moisture or oxygen as much as possible.
【0273】 [0273]
また、図17では、画素電極を陰極とし、EL層と陽極を積層したため、発光方向は図17に示す矢印の方向となっている。 Further, in FIG. 17, the pixel electrode as a cathode, because of the stacked EL layer and the anode, the light emitting direction is the direction of the arrow shown in FIG. 17.
【0274】 [0274]
また、ここでは図示しないが、用いる金属層(ここでは陰極となる画素電極など)の反射により背景が映り込むことを防ぐために、位相差板(λ/4板)や偏光板からなる円偏光板と呼ばれる円偏光手段をカバー材1020上に設けてもよい。 Further, although not shown here, in order to prevent being reflected background by the reflection of the (pixel such as an electrode serving as the cathode in this case) the metal layer to be used, a phase difference plate (lambda / 4 plate) or a circularly polarizing plate composed of a polarizing plate circularly polarizing means, called may be provided on the cover member 1020.
【0275】 [0275]
本実施例では、実施例1で得られる電気特性、信頼性ともに高いTFTを用いるため、従来の素子に比べて信頼性の高い発光素子を形成することができる。 In this embodiment, electrical characteristics obtained in Example 1, since the use of reliability both high TFT, it is possible to form the light-emitting element with high reliability as compared with the conventional device. また、そのような発光素子を有する発光装置を表示部として用いることにより高性能な電気器具を得ることができる。 Further, it is possible to obtain a high performance electrical appliances using a light-emitting device having such a light-emitting element as a display unit.
【0276】 [0276]
なお、本実施例は実施例1、実施例7、実施例8、または実施例9と自由に組み合わせることが可能である。 Note that this embodiment Example 1, Example 7, it is possible to freely combine the Example 8 or Example 9,.
【0277】 [0277]
[実施例10] [Example 10]
本発明を実施して様々なモジュール(アクティブマトリクス型液晶モジュール、パッシブ型液晶モジュール、アクティブマトリクス型ELモジュール、パッシブ型ELモジュール、アクティブマトリクス型ECモジュール)を完成させることができる。 Various modules by implementing the present invention can be completed (active matrix liquid crystal module, passive liquid crystal module, active matrix EL module, passive EL module, active matrix type EC module) a. 即ち、本発明を実施することによって、それらを組み込んだ全ての電子機器が完成される。 That is, by implementing the present invention, all electronic devices incorporating them are completed.
【0278】 [0278]
その様な電子機器としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ(ゴーグル型ディスプレイ)、カーナビゲーション、プロジェクタ、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等)などが挙げられる。 As such electronic equipment, a video camera, a digital camera, a head-mounted display (goggle type display), a car navigation system, a projector, a car stereo, a personal computer, a portable information terminal (mobile computer, mobile phone, an electronic book, or the like), and the like and the like. それらの一例を図18、図19に示す。 Examples of these are shown in FIGS.
【0279】 [0279]
図18(A)はパーソナルコンピュータであり、本体2001、画像入力部2002、表示部2003、キーボード2004等を含む。 FIG. 18 (A) is a personal computer including a main body 2001, an image input unit 2002, a display portion 2003, a keyboard 2004 and the like.
【0280】 [0280]
図18(B)はビデオカメラであり、本体2101、表示部2102、音声入力部2103、操作スイッチ2104、バッテリー2105、受像部2106等を含む。 And FIG. 18 (B) is a video camera which includes a main body 2101, a display portion 2102, an audio input portion 2103, operation switches 2104, a battery 2105, an image receiving portion 2106 and the like.
【0281】 [0281]
図18(C)はモバイルコンピュータ(モービルコンピュータ)であり、本体2201、カメラ部2202、受像部2203、操作スイッチ2204、表示部2205等を含む。 Figure 18 (C) is a mobile computer, containing a main body 2201, a camera portion 2202, an image receiving portion 2203, operation switches 2204, a display portion 2205 and the like.
【0282】 [0282]
図18(D)はプログラムを記録した記録媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであり、本体2401、表示部2402、スピーカ部2403、記録媒体2404、操作スイッチ2405等を含む。 Figure 18 (D) is a recording medium (hereinafter, referred to as a recording medium) which records a program a player using a main body 2401, a display portion 2402, speaker portions 2403, a recording medium 2404, and operation switches 2405 and the like. なお、このプレーヤーは記録媒体としてDVD(Digtial Versatile Disc)、CD等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。 The player uses DVD (Digtial Versatile Disc) as a recording medium, a CD and the like, it is possible to perform music appreciation, film appreciation, games and the Internet.
【0283】 [0283]
図18(E)はデジタルカメラであり、本体2501、表示部2502、接眼部2503、操作スイッチ2504、受像部(図示しない)等を含む。 Figure 18 (E) is a digital camera including a main body 2501, a display portion 2502, an eyepiece portion 2503, operation switches 2504, an image receiving portion (not shown) or the like.
【0284】 [0284]
図19(A)は携帯電話であり、本体2901、音声出力部2902、音声入力部2903、表示部2904、操作スイッチ2905、アンテナ2906、画像入力部(CCD、イメージセンサ等)2907等を含む。 Figure 19 (A) shows a cellular phone including a main body 2901, an audio output portion 2902, an audio input portion 2903, a display portion 2904, operation switches 2905, an antenna 2906, an image input section (CCD, image sensor, etc.) 2907, or the like.
【0285】 [0285]
図19(B)は携帯書籍(電子書籍)であり、本体3001、表示部3002、3003、記憶媒体3004、操作スイッチ3005、アンテナ3006等を含む。 Figure 19 (B) shows a portable book (electronic book) including a main body 3001, a display portion 3002 and 3003, a storage medium 3004, operation switches 3005, an antenna 3006, and the like.
【0286】 [0286]
図19(C)はディスプレイであり、本体3101、支持台3102、表示部3103等を含む。 Figure 19 (C) shows a display including a main body 3101, a support base 3102, a display portion 3103.
【0287】 [0287]
ちなみに図19(C)に示すディスプレイは中小型または大型のもの、例えば5〜20インチの画面サイズのものである。 Incidentally display shown in FIG. 19 (C) is small and medium type or large type, for example, those 5 to 20 inches screen size. また、このようなサイズの表示部を形成するためには、基板の一辺が1mのものを用い、多面取りを行って量産することが好ましい。 Further, to manufacture the display part with such sizes, it is preferable that one side of the substrate is used as the 1 m, the mass production by gang.
【0288】 [0288]
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器の作製方法に適用することが可能である。 As described above, the application range of the present invention can be applied to very wide, electronic apparatuses of various fields. また、本実施例の電子機器は実施例1〜9のどのような組み合わせからなる構成を用いても実現することができる。 The electronic device of this embodiment can be realized by using a combination of constitutions in Example 1-9 throat.
【0289】 [0289]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
本発明は、物理的手段によって基板から剥離するため、半導体層への損傷なく、素子の信頼性を向上できる。 The present invention, in order to peel from the substrate by physical means, without damage to the semiconductor layer, thereby improving the reliability of the device.
【0290】 [0290]
また、本発明は、小さな面積を有する被剥離層の剥離だけでなく、大きな面積を有する被剥離層を全面に渡って歩留まりよく剥離することが可能である。 Further, the present invention is not only peeling of the layer to be peeled having a small area, it is possible to peel good yield over a layer to be peeled having a large area over the entire surface.
【0291】 [0291]
加えて、本発明は、物理的手段で容易に剥離、例えば人間の手で引き剥がすことが可能であるため、量産に適したプロセスと言える。 In addition, the present invention is easily peeled by physical means, for example it is possible to peel by hand, it can be said that the process appropriate for mass production. また、量産する際に被剥離層を引き剥がすための製造装置を作製した場合、大型の製造装置も安価に作製することができる。 Also, the case of manufacturing the manufacturing device for peeling the layer to be peeled at the time of mass production, large manufacturing apparatus can be manufactured at low cost.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】 実施の形態1を説明する図である。 1 is a diagram for explaining the first embodiment.
【図2】 実施の形態2を説明する図である。 2 is a diagram for explaining the second embodiment.
【図3】 実験を説明する図である。 FIG. 3 is a diagram to explain the experiment.
【図4】 実施の形態3を説明する図である。 4 is a diagram illustrating a third embodiment.
【図5】 実施の形態4を説明する図である。 5 is a diagram illustrating a fourth embodiment.
【図6】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示す図。 6 is a diagram showing a manufacturing process of an active matrix substrate.
【図7】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示す図。 7 is a diagram showing a manufacturing process of an active matrix substrate.
【図8】 アクティブマトリクス基板を示す図。 FIG. 8 is a diagram showing the active matrix substrate.
【図9】 実施例2を説明する図である。 9 is a diagram for explaining a second embodiment.
【図10】 実施例3を説明する図である。 10 is a diagram for explaining a third embodiment.
【図11】 実施例4を説明する図である。 11 is a diagram for explaining an embodiment 4.
【図12】 実施例5を説明する図である。 12 is a diagram for explaining an embodiment 5.
【図13】 実施例6を説明する図である。 13 is a diagram for explaining an embodiment 6.
【図14】 実施例7を説明する図である。 14 is a diagram for explaining an embodiment 7.
【図15】 実施例8を説明する図である。 15 is a diagram for explaining an embodiment 8.
【図16】 実施例9を説明する図である。 16 is a diagram for explaining the ninth embodiment.
【図17】 実施例9を説明する図である。 17 is a diagram for explaining the ninth embodiment.
【図18】 電子機器の一例を示す図。 FIG. 18 is a diagram showing an example of an electronic device.
【図19】 電子機器の一例を示す図。 Figure 19 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus.
【図20】 部分的に剥離させた境界の断面TEM写真図及び模式図。 Figure 20 is a cross-sectional TEM photograph of boundaries partially peeled and schematic view.
【図21】 剥離した酸化シリコン膜表面のTXRF測定結果を示すグラフ。 Figure 21 is a graph showing the TXRF measurement results of the peeled surface of the silicon oxide film.
【図22】 石英基板上に成膜されたW膜表面のTXRF測定結果を示すグラフ。 Figure 22 is a graph showing the TXRF measurement results of the formed W film surface on a quartz substrate. (リファレンス) (reference)
【図23】 石英基板表面のTXRF測定結果を示すグラフ。 Figure 23 is a graph showing the TXRF measurement results of the surface of the quartz substrate. (リファレンス) (reference)

Claims (13)

  1. 基板上に窒化物層を形成し、 The nitride layer is formed on a substrate,
    前記窒化物層上に接して酸化物層を形成し、 The oxide layer was formed in contact with the nitride layer,
    前記酸化物層上に絶縁層を形成し、 Forming an insulating layer on said oxide layer,
    前記絶縁層上に発光素子を形成し、 A light emitting element formed on the insulating layer,
    前記発光素子を覆う層間絶縁膜を形成し、 An interlayer insulating film covering the light emitting element,
    前記層間絶縁膜に支持体を接着した後、 人間の手又は前記発光素子を引き剥がす装置を用いることにより前記酸化物層の層内または前記窒化物層と前記酸化物層との界面において前記発光素子を前記基板から剥離し、 After bonding the support in the interlayer insulating film, the light emitting at the interface between the human hand or the inner layer of the oxide layer by using a peeled off device a light emitting device or said nitride layer said oxide layer and peeling the element from the substrate,
    前記酸化物層に転写体を接着することを特徴とする発光装置の作製方法。 The method for manufacturing a light emitting device characterized by bonding the transfer member to the oxide layer.
  2. 基板上に窒化物層を形成し、 The nitride layer is formed on a substrate,
    前記窒化物層上に接して酸化物層を形成し、 The oxide layer was formed in contact with the nitride layer,
    前記酸化物層上に絶縁層を形成し、 Forming an insulating layer on said oxide layer,
    前記絶縁層上に発光素子を形成し、 A light emitting element formed on the insulating layer,
    前記発光素子を覆う層間絶縁膜を形成し、 An interlayer insulating film covering the light emitting element,
    人間の手又は前記発光素子を引き剥がす装置を用いることにより前記酸化物層の層内または前記窒化物層と前記酸化物層との界面において前記発光素子を前記基板から剥離し、 At the interface between the human hand or the inner layer of the oxide layer by using a peeled off device a light emitting device or said nitride layer the oxide layer separating the light emitting element from the substrate,
    前記酸化物層に転写体を接着した後、前記層間絶縁膜に支持体を接着することを特徴とする発光装置の作製方法。 After bonding the transfer member to said oxide layer, a method for manufacturing a light emitting device characterized by bonding a support to said interlayer insulating film.
  3. 請求項1または2において、前記窒化物層に代えて金属層または窒化金属層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 According to claim 1 or 2, the method for manufacturing a light emitting device and forming a metal layer or metal nitride layer in place of the nitride layer.
  4. 請求項1乃至3のいずれか一において、前記酸化物層として、酸化シリコン材料もしくは酸化金属材料からなる単層、またはこれらの積層を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 1 to 3, as the oxide layer, a single layer made of silicon oxide material or metal oxide material or a manufacturing method of a light-emitting device, which comprises using a laminate thereof.
  5. 請求項1乃至4のいずれか一において、前記支持体は、可撓性を有することを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 1 to 4, wherein the support is a method for manufacturing a light-emitting device characterized by having flexibility.
  6. 請求項1乃至4のいずれか一において、前記支持体として、封止膜が設けられたプラスチック基板を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 1 to 4, wherein as the support, a method for manufacturing a light emitting device, which comprises using a plastic substrate sealing film is provided.
  7. 請求項1乃至6のいずれか一において、前記転写体は、可撓性を有することを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 1 to 6, wherein the transfer member, a method for manufacturing a light-emitting device characterized by having flexibility.
  8. 請求項1乃至6のいずれか一において、前記転写体として、封止膜が設けられたプラスチック基板を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 1 to 6, as the transfer member, a method for manufacturing a light emitting device, which comprises using a plastic substrate sealing film is provided.
  9. 請求項6または8において、前記封止膜として、第1のバリア膜と、前記第1のバリア膜上に形成された応力緩和膜と、前記応力緩和膜上に形成された第2のバリア膜とを積層した膜を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 According to claim 6 or 8, as the sealing film, the first barrier film, the a first barrier film on the formed stress relaxation film, a second barrier film formed on the stress relieving layer the method for manufacturing a light emitting device which is characterized by using a film of laminated layers and.
  10. 請求項9において、前記第1のバリア膜として、窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム、または窒化酸化珪化アルミニウムを用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 In claim 9, the first barrier film, silicon nitride, silicon nitride oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, a method for manufacturing a light emitting device, which comprises using the aluminum nitride oxide, or nitride oxide silicide aluminum.
  11. 請求項9または10において、前記第2のバリア膜として、窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム、または窒化酸化珪化アルミニウムを用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 According to claim 9 or 10, as the second barrier film, silicon nitride, silicon nitride oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, a method for manufacturing a light emitting device, which comprises using the aluminum nitride oxide, or nitride oxide silicide aluminum.
  12. 請求項9乃至11のいずれか一において、前記応力緩和膜として、透光性を有する樹脂を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 9 to 11, as the stress relaxation film, a method for manufacturing a light emitting device which is characterized by using a resin having a light transmitting property.
  13. 請求項1乃至12のいずれか一において、前記発光素子は、薄膜トランジスタに接続された電極を陰極または陽極としていることを特徴とする発光装置の作製方法。 In any one of claims 1 to 12, wherein the light emitting device, a method for manufacturing a light-emitting device, characterized in that the electrodes connected to the thin film transistor as a cathode or an anode.
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