JP4552222B2 - Wafer aligner - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、大型化されたウェハのノッチまたはオリフラを検出することに好適なウェハのアライナー装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、シリコンウェハには、ウェハの円周方向における基準回転位置を表す目印として、弦状にきりかかれたオリフラやV字状またはU字状に切り欠かれたノッチまたはオリフラ等が外周部に形成されている。そして、ウェハに対し半導体のゲート形成等の処理を行なう際、個々のウェハは、そのオリフラ又はノッチまたはオリフラの位置が基準回転位置と常に一致している状態の下で処理ステージにセットされることが要求されていた。
【0003】
カセットには通常ランダムな状態で複数枚のウェハが上下方向に配置されて収納されている。このため、搬送ロボットによってカセットからウェハを取り出し、直接、処理ステージにセットすることは、オリフラ又はノッチの位置が基準回転位置と一致しない状態でウェハが処理ステージに設置されることになり、ウェハに対して所望の処理を行なえなくなっていた。
【0004】
そのため、カセットから取り出されたウェハをオリフラ合わせ装置又はウェハのアライナー装置に搬入し、このオリフラ合わせ装置又はウェハのアライナー装置によってノッチまたはオリフラの位置を回転基準に一致させた後、ウェハを処理ステージにセットする方法が取られていた。
【0005】
従来のウェハのアライナー装置は、ウェハを、ウェハの裏面で吸着するように支持したり、又はウェハを落し込んでウェハの裏面外周面を支持するように構成されていた。例えば、図13に示すウェハのアライナー装置50の場合、ウェハ3の外周面を支持する受け部52aを有して形成される固定ステージ51と、固定ステージ51の下方で上下移動及び回転可能な回転ステージ53とが、機台55上に配置されている(特開2000−21956号公報参照)。
【0006】
固定ステージ51は、回転中心位置を基準として等間隔に延設された3個のアーム52を有して、ロボットのハンドで保持されたウェハ3を、ハンドの下降移動によって受け部52aの上方位置から下降させて保持するように形成され、回転ステージ53は、回転中心位置を基準として等間隔に延設された3個のアーム54を有して固定ステージ51に支持されているウェハ3を持ち上げた後、1回転することによって、ノッチまたはオリフラ位置を検出可能としている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来のように、ウェハの裏面を吸着して支持する場合、ウェハの裏面に傷をつけたりパーティクルが付着することから、ウェハの裏面を吸着する方法が回避される傾向にあった。また、上記の公報に示されるウェハのアライナー装置50は、ウェハ3裏面の外周面を支持することで、ウェハ3を傷つけたりパーティクルの発生を極力少なくしているものの、ウェハ3は落とし込みにより回転ステージ53のガイド部に支持されることから、ウェハ3の外周面はガイド部によって押圧するように把持されていない。そのため、ノッチまたはオリフラの位置検出のためにウェハ3を回転させた時に、ウェハ3の外周面と回転ステージ53のアーム54とウェハ受け54aの間で滑りが発生し、回転方向の精度を確保することができなかった。このことから精度を確保するために滑ることのない程度のスピードで駆動させる必要があり、高速回転が制限されていた。さらに、ウェハ3の外周面とアーム54のガイド部54bとの間に僅かな隙間があることから回転方向だけでなくX軸、Y軸方向においても位置決め精度を低下させることとなっていた。
【0008】
さらに、ノッチまたはオリフラの位置を検出したウェハ3を固定ステージ51に載置した状態で、1枚のウェハごとハンドが搬入するまで待機することから、待機時間を増大させることとなってスループットを低下させていた。
【0009】
この発明は、上述の課題を解決するものであり、ウェハに傷をつけたりパーティクルを発生させず、ウェハのエッジを確実に把持することによって位置決め精度を向上させるとともに、高速回転でノッチまたはオリフラの位置検出を行ない、しかもスループットを向上できるウェハのアライナー装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかわるウェハのアライナー装置では、上記の課題を解決するために、以下のように構成するものである。即ち、
ウェハを保持して回転可能に配置される保持手段と、ロボットから搬送されたウェハを保持して前記保持手段に受渡しする受渡し手段と、前記ウェハの回転中にノッチまたはオリフラ位置を検出する検出手段と、を備え、前記ウェハのノッチまたはオリフラ位置を基準回転位置に一致させるように構成されたウェハのアライナー装置であって、
前記受渡し手段は、前記ウェハ保持部を2段に有するとともに、第1回転駆動手段によって所定角度回転可能に構成され、さらに、前記保持手段を、前記ウェハ保持部の上方と下方の間で昇降できるように第1開閉駆動手段によって開閉可能に構成され、
前記保持手段は、前記受渡し手段のウェハ保持部を間にして昇降可能なウェハ把持部を有して第2回転駆動手段によって回転可能に構成され、かつ昇降駆動手段によって、前記ウェハを前記受渡し手段のウェハ保持位置を間にして下方の位置から上方の位置まで移動可能に構成されるとともに、前記ウェハのエッジを把持または把持解除するための第2開閉駆動手段によって開閉可能に構成されていることを特徴とするものである。
【0011】
また好ましくは、前記第1回転駆動手段が、前記保持手段と前記受渡し手段とのオーバーラップを回避するためのシフト角度分回転可能に構成されているものであればよい。
【0012】
さらに、前記第1回転駆動手段が、偏心カムと、前記偏心カムに係合可能なカムローラを有する揺動レバーとを有して構成されていればなおよい。
【0013】
また、前記受渡し手段が、少なくとも2個のウェハ保持アームを有し、前記ウェハ保持アームが、第1カム手段と前記第1カム手段に係合可能な第1ローラ手段を備える前記第1開閉駆動手段により軸心に対して接近離隔する方向に、移動可能に構成されていればよい。
【0014】
また、前記保持手段が、回転中心から放射線方向に配設される複数のクランプアームを有し、前記各クランプアームが、前記ウェハのエッジを把持する把持部を有するとともに、少なくとも1個のクランプアームが前記第2開閉駆動手段によって水平方向に移動可能に構成されていることが望ましい。
【0015】
さらに、前記第2開閉駆動手段が、垂直方向に形成されたカム部を有する第2カム手段と、前記第2カム手段に係合可能に配置され前記カム部に沿って移動可能な第2ローラ手段とを有して構成されていればなおよい。
【0016】
【発明の効果】
本発明のウェハのアライナー装置は、ロボットのハンドで搬送されてきたウェハを、開閉可能に構成された受渡し手段で把持すると、ウェハを把持するために開閉可能な保持手段が昇降して、ウェハ把持部でウェハのエッジを保持し、保持手段のウェハ把持部が、受渡し手段のウェハ保持部を越えて上昇することによって、ウェハを回転可能な位置に移動させた後ウェハを1回転させる。ウェハを把持して回転させることによって、ウェハのノッチまたはオリフラ位置を検出手段で検出し、ノッチまたはオリフラ位置を基準回転位置に合わせることとなる。従って、ウェハのエッジを把持して回転することから、ウェハのずれを発生させずに回転することができ、確実に位置決め精度を向上させるとともに高速回転を可能とすることができる。
【0017】
また、受渡し手段が2段のウェハ保持部を有していることから、一方のウェハ保持部(例えば、上段のウェハ保持部)をバッファステージとして構成でき、ノッチまたはオリフラ位置を検出したウェハをバッファステージに待機させることによって、ウェハのノッチまたはオリフラの位置検出作業を連続して行なうことができスループットを向上することができる。
【0018】
さらに、ウェハの裏面を吸着して保持することがないためにパーティクルを付着させることもない。
【0019】
また、昇降する保持手段が、受渡し手段とオーバラップする位置にある時には、つまり、保持手段のウェハ把持部と受渡し手段のウェハ保持部が同じ角度で一致する位置にある場合には、保持手段のウェハ把持部は昇降することによって受渡し手段のウェハ保持部に干渉することから、第1回転駆動手段が、受渡し手段に対してオーバーラップを回避する所定角度分移動させることになり、保持手段のウェハ把持部と受渡し手段のウェハ保持部とが干渉しない位置で、保持手段が昇降してウェハを受渡し手段に保持させることができる。
【0020】
この際、第1回転駆動手段は、偏心カムとカムローラを有する揺動レバーを備えていることから、偏心カムによって揺動レバーを所定角度揺動させることができ、その結果、受渡しアーム部を所定角度揺動させて、保持手段と受渡し手段の干渉を回避することができ、容易な構成でオーバーラップを回避させることができる。
【0021】
さらに、ノッチまたはオリフラの位置を検出されたウェハを、保持手段が保持した状態で上段のバッファステージに移載する際、受渡し手段には、第1カム手段と第1ローラ手段により2本のウェハ保持アームを開閉するように構成されていることから、保持手段のウェハ把持部が受渡し手段のウェハ保持部に干渉することなく昇降できることとなる。
【0022】
また、保持手段が複数のクランプアームを有し、1個のクランプアームが水平方向に移動できることから、保持手段はウェハの外径より大きく開いてウェハの把持可能な位置に移動して受渡しを可能とし、さらに閉じることによってウェハのエッジを確実に把持することができる。
【0023】
また、第2開閉駆動手段が、垂直方向に形成された第1カム手段と、第1カム手段に沿って移動可能な第1ローラ手段を有することから、保持手段が昇降すると同時に開閉可能に形成されることとなって、保持手段がウェハの高さ位置に移動してウェハのエッジを把持することが可能となる。しかもカム手段が垂直方向に形成されていることから、横方向のスペースを小さくしてコンパクトに構成されたアライナー装置を提供することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。本発明のウェハのアライナー装置(以下、アライナー装置という。)は、ロボットのハンドで移載されたウェハをそのエッジを把持することによって位置精度を向上した状態で、ウェハに形成されたノッチまたはオリフラを検出して基準回転位置に位置合わせするように構成されている。
【0025】
実施形態のアライナー装置1は、図1〜2に示すように、機台10と、ロボットのハンド5で移載されたウェハ3を一旦支持する受渡し手段としての受渡しアーム部20と、受渡しアーム部20に支持されたウェハ3を把持してノッチまたはオリフラの位置を検出するために回転可能に構成される保持手段としての保持クランパー30と、機台10の一端から上方に向かって突設されるとともに、保持クランパー30で把持されて回転されるウェハ3のノッチまたはオリフラの位置を検出する検出手段としての検出部40とを備えて構成されている。
【0026】
機台10は筐体状に形成され、中心部に、機台10の底部に固着されて底部から機台10上に突出する回転中心軸部11を立設するとともに、機台10上に受渡しアーム部20と保持クランパー30が突出するように配置されている。
【0027】
機台10には、図3に示すように、受渡しアーム部20を開閉する開閉駆動部12と、受渡しアーム部20を軸心に対して所定角度回転させるシフト角度回転駆動部13と、保持クランパー30を回転駆動する回転駆動部14と、保持クランパー30を昇降させる昇降駆動部15と、保持クランパー30を開閉駆動する開閉駆動部16とを内蔵している。
【0028】
受渡しアーム部20は、機台10の上方に突出して軸受24を介して回転可能に支持された中空状の回転軸部21と、回転軸部21上に装着されて左右対称的に延設されるL字形の2本のロアアーム部22、23とを有し、各ロアアーム部22、23の上端にはウェハ3を載置するとともに、それぞれ2か所のウェハ受け部221a、231aを有する下段爪部221、231と、ウェハ3のバッファステージとして形成されるウェハ受け部222a、232aを有する上段爪部222、232とが配置され、回転軸部21の下端面に1本の揺動レバー25が先端にカムローラ26(図4参照)を有して配置されている。さらに、ロアアーム部22、23は、図5に示すように、それぞれ回転軸部21に内嵌されたカム部材27に係合する一対のカムローラ28、28に支持され、一対のカムローラ28、28の移動に伴い、カム部材27の中心(回転中心軸部11)に対して接近離隔する方向に直線的に移動される。
【0029】
保持クランパー30は、図2及び3に示すように、回転中心軸部11を覆って回転中心軸部11に回転可能に配置される筒状軸部31と、筒状軸部31の上端部に形成されて放射線状に3方向に腕を延設する頭部32からそれぞれ延設する3本のアッパアーム部33、34、35を有している。3本のアッパアーム部33、34、35は、それぞれ先端部にウェハ3を上面部で把持する爪部331、341、351が配置され、そのうち1本のアッパアーム部33は回転中心軸部11に対して水平方向に接近離隔するように配置されている。
【0030】
つまり、アッパアーム部33は、頭部32に対してリニアガイド36を介して移動可能に装着され、他の2本のアッパアーム部34、35は頭部32に一体的に形成されるかまたはねじ等により固着されている。移動可能なアッパアーム部33の元部は筒状軸部31の上端部の一方に形成された切欠溝311に挿入されて下端部にカムローラ332を備えるとともに、頭部32に対してコイルばね333を掛止することによって、常時、アッパアーム部33を頭部32側に付勢している。
【0031】
受渡しアーム部20を開閉駆動する開閉駆動部12は、図3または図5に示すように、保持クランパー30のアッパアーム部33、34、35で把持されたウェハ3をバッファステージとしての上段爪部222、232を間にして昇降する際に、ウェハ3と上段爪部222、232との干渉を回避するために開閉するものであり、前述のカム部材27とカム部材27の対称位置に係合する一対のカムローラとを有し、カム部材27を回転駆動するモータ121と、モータ121の駆動軸に装着された小ギア122と、小ギアに歯合されてカム部材27の下部に装着された大ギア123とから構成される。カム部材27のカム形状は、図5に示すように、軸心に対して対称位置に形成される一対の凸部271と一対の凹部272を有して形成され、凸部271と凹部272との直線状におけるストローク差分カムローラ28が移動され、それに伴い、ロアアーム部22、23が移動されることとなる。
【0032】
受渡しアーム部20を所定角度回転するシフト角度回転駆動部13は、保持クランパー30がウェハ3のノッチまたはオリフラ位置を検出した後、基準回転位置に移動した時に、保持クランパー30におけるアッパアーム部33、34、35の爪部331、341、351が上昇して、受渡しアーム部20におけるロアアーム部22、23の下段爪部221、231と干渉する位置に設定された場合に、その干渉を回避するために駆動されるものであって、図3〜4に示すように、機台10内に支持されるモータ131と、モータ131の駆動軸に装着された偏心カム132と、揺動レバー25の一端に装着されて偏心カム132の外周面に係合可能なカムローラ25とで構成されている。
【0033】
従って、モータ131の駆動で偏心カム132が回転することによって、偏心カム132に係合するカムローラ132が移動される。カムローラ132は他端が回転軸部21に固着した揺動レバー25の一端に装着されていることから、揺動レバー25が回転中心に対して揺動して回転軸部21を、回転軸部21の中心に対して所定角度回転することになる。この角度は、受渡しアーム部20と保持クランパー30とがオーバーラップした時の回避角度を示すものであり、5〜7°に設定されることが望ましい。
【0034】
保持クランパー30を回転駆動する回転駆動部14は、図3に示すように、機台10内に支持されたモータ141と、モータ141の駆動軸に装着された小プーリ142と、ベルト143を介して筒状軸部31と一体的に固着された大プーリ144とを有して構成されている。従って、モータ141が回転駆動すると、小プーリ142からベルト143を介して大プーリ144を回転させることから、大プーリ144に固着された筒状軸部31が回転中心軸部11の回りを回転することとなる。
【0035】
保持クランパー30の昇降を駆動する昇降駆動部15は、機台10内に支持されたモータ151と、モータ151の駆動軸に装着された駆動プーリ152と、駆動プーリ152にベルト153を介して連結された従動プーリ154と、機台10内に支持されて従動プーリ154の回転とともに回転可能なボールねじ155と、ボールねじ155に螺合されて昇降可能なナット部材156と、一端がナット部材156に固着されて中心部を筒状軸部31に軸受157を介して支持される昇降プレート158とを有して構成されている。昇降プレート158と筒状軸部31とは一体的に昇降するように構成される。従って、モータ151が回転駆動すると、駆動プーリ152、従動プーリ154を介してボールねじ155が回転し、それに伴ってナット部材156が昇降することによって筒状軸部31を昇降させてアッパアーム部33、34、35を昇降させることとなる。
【0036】
保持クランパー30の開閉を駆動する開閉駆動部16は、回転中心軸部11の上部に、下部大径部111aと下部大径部111aの上方に位置する小径部111bと、小径部111bの上方に位置する上部大径部111cとを有して垂直方向に形成されたカム面111と、カム面111に係合するアッパアーム部33のカムローラ332とからなり、昇降駆動部15が駆動源として構成される。
【0037】
つまり、昇降駆動部15の駆動で筒状軸部31が昇降することによってアッパアーム部33が昇降すると、アッパアーム部33の昇降に伴い、カムローラ332が同時に昇降する。カムローラ332は、カム面111に沿って垂直方向に昇降することから、カム面111の下部大径部111aに係合する際に、アッパアーム部33が回転中心軸部11から離隔する方向に移動し、カムローラ332が小径部111bに係合すると回転中心軸部11に接近する方向に移動し、カムローラ332がさらに上昇して上部大径部111cに係合すると回転中心軸部11から離隔する方向に移動することによって開閉駆動が行なわれることとなる。
【0038】
ウェハ3のノッチまたはオリフラ位置を検出する検出部40は、図1に示すように、機台10の側部一端からアッパアーム部33の外方を通って、上端をアッパアーム部33及びロアアーム部22の上方に位置するように配置されるコ字形のブラケット41と、ブラケット41内のウェハ3を挟んで上下の位置に投光部42と受光部43とを一対装着する位置検出センサ44と、バッファステージのウェハの有無を確認して投光部45、受光部46とを備えるウェハ有無センサ47とを有している。位置検出センサ44の投光部42が下段のウェハ3のエッジ部に向かって光線を発射できる位置に、投光部42・受光部43とがそれぞれブラケット41内に配置され、ウェハ有無センサ47の投光部45が上段のウェハ3のエッジ部に向かって光線を発射できる位置に、投光部45、受光部46とがそれぞれブラケット41内に配置されている。
【0039】
次に、上記のように構成されたアライナー装置1の作用について、図1〜12に基づいて説明する。
【0040】
実施形態のウェハのアライナー装置1に対するウェハ3の搬入及び搬出は、搬送ロボットのハンド5によって行なわれ、ハンド5は、図2における受渡しアーム部20の長手方向に対して直交する方向から出入することになる。ハンド5は、ウェハ3を受渡しアーム部20の下段爪部221、231の上方から、下段爪部221、231のウェハ受け部221a、231a上に降下させて載置することによって、ウェハ3をアライナー装置1上に移載することになる。そして、アライナー装置1上にウェハ3を搬入した後、ハンド5がアライナー装置1上から図示しないロボット側に移動する。この状態では、アッパアーム部33、34、35は、図3に示す高さ位置にあり、カムローラ332は回転中心軸部11に形成されたカム面111の大径部111aの下方に位置されている。
【0041】
ウェハ3が受渡しアーム部20に載置されると、保持クランパー30の昇降駆動部15が作動して、ボールねじ155に螺合するナット部材156及び昇降プレート158に伴って筒状軸部31を上昇させる。これに伴い、図6に示すように、カムローラ332がカム面111の大径部111aに向かって上昇する。すると、アッパアーム部33は、回転中心軸部11から離隔する方向に移動して爪部331をウェハ3のエッジより外方に移動させながら、爪部331をウェハ3のエッジの高さ位置まで上昇する。他のアッパアーム34、35は、開閉することなく同様の高さ位置まで上昇することになる。
【0042】
さらに、昇降駆動部15が作動されてカムローラ332が筒状軸部31と共に上昇すると、図7に示すように、カムローラ332はカム面111の小径部111bに到達してアッパアーム部33、34、35を受渡しアーム部20の下段爪部221、231上方の位置に移動させるとともに、コイルばね333の付勢力によってアッパアーム部33を回転中心軸部11側に接近させ、ウェハ3のエッジを他のアッパアーム部34、35側に当接させてウェハ3のエッジを3点にて把持する。
【0043】
このウェハ3の高さ位置は、図1の二点鎖線で示すウェハのうち、下方に配置されたウェハ3の位置に一致することとなり、次に、この高さ位置で保持クランパー30を1回転させる。
【0044】
保持クランパー30の回転駆動する回転駆動部14の駆動モータ141を作動して、図2の矢印に示すように、筒状軸部31を1回転させる。アッパアーム部33、34、35の爪部331、341、351に把持されているウェハ3は、筒状軸部31の1回転に伴って機台10に対して1回転する。検出部においては、検出部40の位置検出センサ44は、ウェハ3の回転と同時にウェハ3のエッジに向かって投光部42から受光部43に向かって光を発射することによりウェハ3のノッチまたはオリフラ位置を検出し、ウェハ有無センサ47では、投光部45を受光部46に向かって光を発射することにより上段爪部222、232に保持されたウェハ3の有無を検出することとなる。
【0045】
ノッチまたはオリフラ位置が検出されたウェハ3は、ノッチまたはオリフラ位置を回転基準位置として一致するために1回転した位置から、図示しない制御装置で演算されて駆動された前述のモータ141により所定の角度回転してノッチまたはオリフラ位置を基準回転位置に合わせる。
【0046】
次に、位置合わせしたウェハ3は、さらに上昇して、図8〜9に示すように、バッファステージに移載される。つまり、昇降駆動部15のモータ151の作動によってボールねじ155が回転され、ナット部材156及び昇降プレート158の上昇により筒状軸部31の上昇とともにカムローラ332が上昇してカム面111の上部大径部111cに係合する。カムローラ332が上部大径部111cに係合することによって、保持クランパー30のアッパアーム部33、34、35は受渡しアーム部20の上段爪部222、232より僅かに上昇した位置に移動するとともに、アッパアーム部33は回転中心軸部11に対して離隔することから保持クランパー30はウェハ3の外径より大きく開かれる。しかしながらウェハ3はアッパアーム部33の爪部331の底面に保持されていることから保持クランパー30から脱落することはない。
【0047】
なお、保持クランパー30の上昇時、受渡しアーム部20は、ウェハ3または受渡しアーム部20との干渉を回避するために開閉駆動部12によって、ロアアーム部22、23が開く。この作用は、モータ121を作動させてカム部材27を回転することによって、図5に示すように、一対のカムローラ28、28をカム部材27の凹部272、272から凸部271、271に係合移動させ、これによってロアアーム部22、23を回転中心軸部11より離隔する方向に移動させることとなる。
【0048】
そして、ウェハ3が受渡しアーム部20の上段爪部222、232より上方に移動すると、カム部材27をさらに回転させ一対のカムローラ28、28を、カム部材27の凸部271、271から凹部272、272に係合移動させる。これによって、図9に示すように、ロアアーム部22、23の上段爪部222、232はそれぞれ回転中心軸部11側に接近させて、ウェハ3の保持できる位置に移動されることとなる。
【0049】
この状態で、保持クランパー30を降下させると、保持クランパー30は開いた状態に有る(アッパアーム部33がウェハ3の外径より外方に移動している)ことから、図10に示すように、ウェハ3は受渡しアーム部20の上段爪部222、232上に移載され、バッファステージに収納されることとなる。保持クランパー30がさらに降下して、アッパアーム33、34、35の爪部331、341、351を、受渡しアーム部20の下段爪部221、231より下方に位置させる。
【0050】
この保持クランパー30の降下の際、もし、保持クランパー30のアッパアーム33、34、35のいずれかの爪部331、341、351(図例では爪部351)が、図11に示すように、受渡しアーム部20のロアアーム部22または23の下段爪部221、231(図例では下段爪部231)とオーバーラップした位置にある場合、保持クランパー30は受渡しアーム部20と干渉して降下できないことから、図3〜4に示すように、受渡しアーム部20をロアアーム部22または23の下段爪部221、231とアッパアーム部33または34または35の爪部331、341、351に干渉しない位置に所定角度回転させる。
【0051】
この作動は、受渡しアーム部20のシフト角度回転駆動部13によって行なわれる。つまり、モータ131を作動させると偏心カム132が回転し、偏心カム132の偏心ストローク分カムローラ26を移動させることになり、カムローラ26を装着している揺動レバー25が、図12に示すように、回転中心に対して揺動し回転軸部21を5〜7°回転させることとなって、ロアアーム部22または23の下段爪部221、231とアッパアーム部33または34または35の爪部331、341、351とのオーバーラップを回避することとなる。
【0052】
受渡しアーム部20と保持クランパー30とのオーバーラップが回避されると、保持クランパー30を降下させて、次のウェハ3がハンド5で搬入されるのを待つことになる。
【0053】
次のウェハ3がハンド5で搬入されて受渡しアーム部20の下段爪部221、231上に移載されると、ハンド5が再びロボット側に復帰移動されて、前述の作用の通り下段爪部221、231に保持されたウェハ3の位置合わせを行なう。つまり、この状態では、バッファステージに位置合わせを終了したウェハ3が待機されている状態で、次のウェハ3は保持クランパー30で把持されてウェハ3のノッチまたはオリフラの位置合わせを行なうことができる。
【0054】
そして、位置合わせが終了した次のウェハ3が、保持クランパー30から受渡しアーム部20の下段爪部221、231に移載すると、ハンド5が搬入されて、受渡しアーム部20の上段爪部222、232上に待機されているウェハ(バッファステージ上のウェハ)3と下段爪部221、231上に移載されたウェハを順次搬出する。そして、再び新しいウェハを搬入して新たにウェハの位置合わせを行なうこととなる。これによって、1サイクルが終了する。
【0055】
なお、ハンド5が位置合わせを終了した上下2枚のウェハを搬出する際には、例えば、ハンドが2段に配置されたロボットを設置すれば、同時に2枚のウェハを搬出することができて、スループットさらに向上することができる。
【0056】
上記のように、実施形態のアライナー装置1は、ウェハ3のエッジを把持して回転することから、ウェハ3のずれを発生させずに回転することができ、確実に位置決め精度を向上させるとともに高速回転を可能とすることができる。
【0057】
また、受渡しアーム部20が2段の爪部(下段爪部221、231と上段爪部222、232)を有していることから、一方の爪部(例えば、上段爪部222、232)をバッファステージとして構成でき、ノッチまたはオリフラ位置を検出したウェハ3をバッファステージに待機させた状態で、ウェハ3のノッチまたはオリフラの位置検出作業を連続して行なうことができスループットを向上することができる。
【0058】
さらに、ウェハ3の裏面を吸着して保持することがないためにパーティクルを付着させることもない。
【0059】
また、昇降可能に構成された保持クランパー30が、受渡しアーム部20とオーバラップする位置にある時には、つまり、保持クランパー30の爪部331、341、351のいずれかと、受渡しアーム部20の下段爪部221、231のいずれかが同じ角度で一致する位置にある場合には、保持クランパー30の爪部331、341、351は、昇降することによって受渡しアーム部20の下段爪部221、231に干渉することから、回転駆動部13が、受渡しアーム部20に対してオーバーラップを回避する所定角度分移動させることになり、保持クランパー30の爪部331、341、351と受渡しアーム部20の下段爪部221、231とが干渉しない位置で、保持クランパー30が昇降してウェハ3を受渡しアーム部20に保持させることができる。
【0060】
この際、回転駆動部13は、偏心カム132と、カムローラ26を有する揺動レバー25を備えていることから、偏心カム132によって揺動レバー25を所定角度揺動させることができ、その結果、受渡しアーム部20を所定角度揺動させて、保持クランパー30と受渡しアーム部20との干渉を回避することができ、容易な構成でオーバーラップを回避させることができる。
【0061】
さらに、ノッチまたはオリフラの位置を検出されたウェハ3を、保持クランパー30が保持した状態で、上段爪部222、232(バッファステージ)に移載する際、受渡しアーム部20には、カム部材27と一対のカムローラ28、28により2本のロアアーム部22、23を開閉するように構成されていることから、ウェハ3は受渡しアーム部20の上段爪部222、232に干渉することなく昇降できることとなる。
【0062】
また、保持クランパー30が少なくとも3個のアッパアーム部33、34、35を有し、1個のアッパアーム部33が水平方向に移動できることから、保持クランパー30はウェハ3の外径より大きく開いてウェハ3の把持可能な位置に移動して受渡しを可能とし、さらに閉じることによってウェハ3のエッジを確実に把持することができる。
【0063】
また、開閉駆動部16が、垂直方向に形成されたカム面111と、カム面111に沿って移動可能なカムローラ332を有することから、保持クランパー30が昇降すると同時に開閉可能に形成されることとなって、保持クランパー30がウェハ3の高さ位置に移動してウェハ3のエッジを把持することが可能となる。
しかもカム面111が垂直方向に形成されていることから、横方向のスペースを小さく形成することができてコンパクトに構成されたアライナー装置1を提供することができる。
【0064】
なお、アライナー装置1の構成は上記に限定するものではなく、例えば、シフト角度回転駆動部13の構成は、上記のように偏心カムとカムローラで行なうことに限定するものではなく、他のカム機構、例えば溝カムとカムローラまたは異形のカム形状を使用したカム機構、あるいはカム機構でなくてもシリンダを使用したシリンダ機構であってもよい。
【0065】
また、開閉駆動部16も上記のようなカム機構でなく、他のカム機構でもよくさらには、シリンダ機構であってもよい。
【0066】
さらに、昇降駆動部15の昇降駆動は、ボールねじ機構でなくシリンダ機構でもよく、またカム機構あるいはクランク機構を使用してもよい。
【0067】
また、受渡しアーム部20を構成するロアアーム部22、23は、2本でなく放射線状に等角度で形成したものであれば3本以上であってもよい。この場合、ハンドが出入できるように設計されればよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一形態によるウェハのアライナー装置を示す正面図である。
【図2】同平面図である。
【図3】図1における検出部を除いたアライナー装置を示す正面断面図である。
【図4】図3におけるIV−IV断面図である。
【図5】図3におけるV −V 断面図である。
【図6】保持クランパーがウェハの把持位置に上昇して開いた状態を示す図である。
【図7】保持クランパーがさらに上昇してウェハを把持する状態を示す図である。
【図8】保持クランパーがさらに上昇してウェハをバッファステージの上方に移動して開いた状態を示す図である。
【図9】保持クランパーが図8の状態から降下してウェハをバッファステージに載置させる状態を示す図である。
【図10】保持クランパーが図9の状態から、元の下方に移動した状態を示す図である。
【図11】保持クランパーと受渡しアーム部とがオーバーラップした状態を示す平面図である。
【図12】保持クランパーと受渡しアーム部とがオーバーラップを解除した状態を示す平面図である。
【図13】従来のウェハのアライナー装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
1…ウェハのアライナー装置
3…ウェハ
5…ハンド
10…機台
11…回転中心軸部
111…カム面(第2カム手段)
12…開閉駆動部(第1開閉駆動手段)
13…シフト角度回転駆動部(第1回転駆動手段)
132…偏心カム
14…回転駆動部(第2回転駆動手段)
15…昇降駆動部(昇降駆動手段)
16…開閉駆動部(第2開閉駆動手段)
20…受渡しアーム部(受渡し手段)
21…回転軸部
22、23…ロアアーム部(ウェハ保持アーム)
221、231…下段爪部
222、232…上段爪部(バッファステージ)
25…揺動アーム
26…カムローラ
27…カム部材(第1カム手段)
28…カムローラ(第1ローラ手段)
30…保持クランパー(保持手段)
31…筒状軸部
33、34、35…アッパアーム部(クランプアーム)
331、341、351…爪部(ウェハ把持部)
332…カムローラ(第2ローラ手段)
40…検出部(検出手段)
44…位置検出センサ
47…ウェハ有無センサ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a wafer aligner suitable for detecting notches or orientation flats of a large wafer.
[0002]
[Prior art]
As is well known, silicon wafers have a chord-shaped orientation flat, a V-shaped or U-shaped notch or orientation flat, etc. as a mark indicating the reference rotational position in the circumferential direction of the wafer. It is formed in the part. When performing processing such as semiconductor gate formation on the wafer, each wafer is set on the processing stage under a state where the orientation flat or notch or orientation flat always coincides with the reference rotation position. Was requested.
[0003]
A cassette usually stores a plurality of wafers arranged in a vertical direction in a random state. For this reason, removing the wafer from the cassette by the transfer robot and setting it directly on the processing stage means that the wafer is placed on the processing stage in a state where the orientation flat or notch position does not coincide with the reference rotation position. However, the desired processing could not be performed.
[0004]
Therefore, the wafer taken out from the cassette is carried into the orientation flat aligner or wafer aligner, and the position of the notch or orientation flat is matched with the rotation reference by the orientation flat aligner or wafer aligner, and then the wafer is placed on the processing stage. The method of setting was taken.
[0005]
Conventional wafer aligner devices are configured to support the wafer so that it is attracted to the back surface of the wafer, or to drop the wafer and support the outer peripheral surface of the back surface of the wafer. For example, in the case of the wafer aligner 50 shown in FIG. 13, a fixed stage 51 formed with a receiving portion 52 a that supports the outer peripheral surface of the wafer 3, and a rotation that can be moved up and down and rotated below the fixed stage 51. The stage 53 is disposed on the machine base 55 (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-21956).
[0006]
The fixed stage 51 has three arms 52 extending at equal intervals with respect to the rotation center position, and the wafer 3 held by the robot hand is moved to a position above the receiving portion 52a by the downward movement of the hand. The rotary stage 53 has three arms 54 extending at equal intervals with reference to the rotation center position, and lifts the wafer 3 supported by the fixed stage 51. After that, the position of the notch or orientation flat can be detected by one rotation.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, as in the prior art, when the back surface of the wafer is sucked and supported, the back surface of the wafer is scratched or particles are attached, so that the method of sucking the back surface of the wafer tends to be avoided. The wafer aligner 50 shown in the above publication supports the outer peripheral surface of the back surface of the wafer 3 to damage the wafer 3 and reduce the generation of particles as much as possible. The outer peripheral surface of the wafer 3 is not held so as to be pressed by the guide portion. Therefore, when the wafer 3 is rotated to detect the position of the notch or orientation flat, slippage occurs between the outer peripheral surface of the wafer 3, the arm 54 of the rotary stage 53, and the wafer receiver 54a, thereby ensuring the accuracy in the rotation direction. I couldn't. For this reason, in order to ensure accuracy, it is necessary to drive at a speed that does not slip, and high-speed rotation is limited. Further, since there is a slight gap between the outer peripheral surface of the wafer 3 and the guide portion 54b of the arm 54, the positioning accuracy is lowered not only in the rotation direction but also in the X-axis and Y-axis directions.
[0008]
Further, since the wafer 3 on which the position of the notch or orientation flat is detected is placed on the fixed stage 51, the process waits until the hand is loaded for each wafer, thereby increasing the waiting time and lowering the throughput. I was letting.
[0009]
The present invention solves the above-mentioned problems, and improves the positioning accuracy by reliably grasping the edge of the wafer without damaging the wafer or generating particles, and the position of the notch or orientation flat at high speed. An object of the present invention is to provide a wafer aligner that can detect and improve the throughput.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The wafer aligner according to the present invention is configured as follows in order to solve the above-mentioned problems. That is,
A holding means that is rotatably arranged to hold the wafer, a delivery means that holds the wafer transferred from the robot and delivers it to the holding means, and a detection means that detects a notch or orientation flat position during rotation of the wafer A wafer aligner configured to match a notch or orientation flat position of the wafer with a reference rotational position,
The delivery unit includes the wafer holding unit in two stages, is configured to be rotatable by a predetermined angle by the first rotation driving unit, and can move the holding unit up and down between the upper side and the lower side of the wafer holding unit. The first opening / closing driving means is configured to be openable and closable,
The holding means has a wafer gripping portion that can be raised and lowered with a wafer holding portion of the delivery means interposed therebetween, and is configured to be rotatable by second rotation driving means, and the delivery means by the raising and lowering driving means. It is configured to be movable from a lower position to an upper position with the wafer holding position in between, and to be opened and closed by a second opening / closing drive means for gripping or releasing the edge of the wafer. It is characterized by.
[0011]
Preferably, the first rotation driving unit may be configured to be rotatable by a shift angle for avoiding an overlap between the holding unit and the delivery unit.
[0012]
Further, it is more preferable that the first rotation driving means includes an eccentric cam and a swing lever having a cam roller engageable with the eccentric cam.
[0013]
The delivery means includes at least two wafer holding arms, and the wafer holding arms include first cam means and first roller means engageable with the first cam means. What is necessary is just to be comprised in the direction which approaches / separates with respect to an axial center by a means.
[0014]
The holding means has a plurality of clamp arms arranged in the radial direction from the center of rotation, and each clamp arm has a holding part for holding the edge of the wafer, and at least one clamp arm. However, it is desirable that the second opening / closing drive means is configured to be movable in the horizontal direction.
[0015]
Further, the second opening / closing drive means has a second cam means having a cam portion formed in a vertical direction, and a second roller arranged to be engageable with the second cam means and movable along the cam portion. It is even better if it is configured with means.
[0016]
【The invention's effect】
According to the wafer aligner of the present invention, when a wafer transferred by a robot hand is gripped by a delivery means configured to be openable and closable, the holding means that can be opened and closed is lifted and lowered to grip the wafer. The edge of the wafer is held by the portion, and the wafer gripping portion of the holding means moves up beyond the wafer holding portion of the delivery means, thereby moving the wafer to a rotatable position and then rotating the wafer once. By gripping and rotating the wafer, the notch or orientation flat position of the wafer is detected by the detecting means, and the notch or orientation flat position is adjusted to the reference rotational position. Therefore, since the wafer edge is gripped and rotated, the wafer can be rotated without causing a deviation of the wafer, and the positioning accuracy can be improved reliably and high-speed rotation can be achieved.
[0017]
Further, since the delivery means has a two-stage wafer holding section, one wafer holding section (for example, the upper wafer holding section) can be configured as a buffer stage, and a wafer whose notch or orientation flat position is detected can be buffered. By making the stage stand by, the position of the wafer notch or orientation flat can be continuously detected, and the throughput can be improved.
[0018]
Furthermore, since the back surface of the wafer is not attracted and held, particles are not attached.
[0019]
When the holding means that moves up and down is in a position that overlaps with the delivery means, that is, when the wafer gripping portion of the holding means and the wafer holding portion of the delivery means are at the same angle, the holding means Since the wafer gripping part moves up and down and interferes with the wafer holding part of the delivery means, the first rotation driving means moves to the delivery means by a predetermined angle to avoid overlap, and the wafer of the holding means The holding means can be raised and lowered to hold the wafer on the delivery means at a position where the gripper and the wafer holding part of the delivery means do not interfere with each other.
[0020]
At this time, since the first rotation driving means includes a swing lever having an eccentric cam and a cam roller, the swing lever can be swung by a predetermined angle by the eccentric cam. By swinging the angle, interference between the holding means and the delivery means can be avoided, and overlap can be avoided with an easy configuration.
[0021]
Further, when the wafer whose position of the notch or orientation flat is detected is transferred to the upper buffer stage while being held by the holding means, the first cam means and the first roller means are used as the delivery means, and the two wafers are transferred. Since the holding arm is configured to open and close, the wafer gripping portion of the holding means can be raised and lowered without interfering with the wafer holding portion of the delivery means.
[0022]
In addition, since the holding means has a plurality of clamp arms and one clamp arm can move in the horizontal direction, the holding means opens larger than the outer diameter of the wafer and can be moved to a position where the wafer can be held for delivery. And by further closing, the edge of the wafer can be securely gripped.
[0023]
In addition, since the second opening / closing drive means has the first cam means formed in the vertical direction and the first roller means movable along the first cam means, the holding means can be opened and closed at the same time. As a result, the holding means can move to the height position of the wafer and grip the edge of the wafer. Moreover, since the cam means is formed in the vertical direction, it is possible to provide an aligner device that is compactly configured with a small space in the lateral direction.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The wafer aligner apparatus (hereinafter referred to as aligner apparatus) of the present invention has a notch or orientation flat formed on the wafer in a state where the positional accuracy is improved by gripping the edge of the wafer transferred by the robot hand. Is detected and aligned with the reference rotational position.
[0025]
As shown in FIGS. 1 and 2, the aligner apparatus 1 according to the embodiment includes a machine base 10, a delivery arm unit 20 as a delivery unit that temporarily supports the wafer 3 transferred by the robot hand 5, and a delivery arm unit. A holding clamper 30 as a holding means configured to be rotatable to hold the wafer 3 supported by 20 and detect the position of the notch or orientation flat, and protrudes upward from one end of the machine base 10. At the same time, it includes a detection unit 40 as detection means for detecting the position of the notch or orientation flat of the wafer 3 held and rotated by the holding clamper 30.
[0026]
The machine base 10 is formed in a casing shape, and a central rotating shaft 11 that is fixed to the bottom of the machine base 10 and protrudes from the bottom to the machine base 10 is provided at the center, and is delivered to the machine base 10. The arm part 20 and the holding clamper 30 are arranged so as to protrude.
[0027]
As shown in FIG. 3, the machine base 10 includes an opening / closing drive unit 12 that opens and closes the delivery arm unit 20, a shift angle rotation drive unit 13 that rotates the delivery arm unit 20 by a predetermined angle with respect to the axis, and a holding clamper. The rotary drive unit 14 that rotationally drives 30, the lift drive unit 15 that lifts and lowers the holding clamper 30, and the open / close drive unit 16 that drives the holding clamper 30 to open and close are incorporated.
[0028]
The delivery arm portion 20 protrudes above the machine base 10 and is rotatably supported via a bearing 24. The delivery arm portion 20 is mounted on the rotation shaft portion 21 and extends symmetrically. L-shaped lower arm portions 22 and 23, and a lower nail having a wafer 3 placed on the upper ends of the lower arm portions 22 and 23 and having two wafer receiving portions 221a and 231a, respectively. 221 and 231 and upper claw portions 222 and 232 having wafer receiving portions 222 a and 232 a formed as buffer stages of the wafer 3 are arranged, and one swing lever 25 is provided on the lower end surface of the rotating shaft portion 21. A cam roller 26 (see FIG. 4) is disposed at the tip. Further, as shown in FIG. 5, the lower arm portions 22 and 23 are respectively supported by a pair of cam rollers 28 and 28 that engage with a cam member 27 fitted inside the rotary shaft portion 21. Along with the movement, it is linearly moved in a direction approaching and separating from the center of the cam member 27 (rotation center shaft portion 11).
[0029]
As shown in FIGS. 2 and 3, the holding clamper 30 includes a cylindrical shaft portion 31 that covers the rotation center shaft portion 11 and is rotatably disposed on the rotation center shaft portion 11, and an upper end portion of the cylindrical shaft portion 31. It has three upper arm portions 33, 34, and 35 that extend from a head 32 that is formed and extends radially in three directions. The three upper arm portions 33, 34, and 35 are respectively provided with claw portions 331, 341, and 351 that hold the wafer 3 at the top end portion, and one of the upper arm portions 33 is located with respect to the rotation center shaft portion 11. Are arranged so as to approach and separate in the horizontal direction.
[0030]
That is, the upper arm portion 33 is attached to the head portion 32 so as to be movable via the linear guide 36, and the other two upper arm portions 34 and 35 are formed integrally with the head portion 32 or are screws or the like. It is fixed by. The base part of the movable upper arm part 33 is inserted into a notch groove 311 formed in one of the upper end parts of the cylindrical shaft part 31 and is provided with a cam roller 332 at the lower end part. The upper arm 33 is always urged toward the head 32 by being hooked.
[0031]
As shown in FIG. 3 or 5, the opening / closing drive unit 12 that opens and closes the delivery arm unit 20 includes an upper claw unit 222 that uses the wafer 3 held by the upper arm units 33, 34, and 35 of the holding clamper 30 as a buffer stage. 223, which is opened and closed to avoid interference between the wafer 3 and the upper claw portions 222 and 232 when being moved up and down, and engages the symmetrical position of the cam member 27 and the cam member 27 described above. A motor 121 having a pair of cam rollers and rotationally driving the cam member 27, a small gear 122 mounted on the drive shaft of the motor 121, and a large gear engaged with the small gear and mounted on the lower portion of the cam member 27 And a gear 123. As shown in FIG. 5, the cam shape of the cam member 27 includes a pair of convex portions 271 and a pair of concave portions 272 that are formed symmetrically with respect to the axial center. The stroke difference cam roller 28 in the straight line shape is moved, and accordingly, the lower arm portions 22 and 23 are moved.
[0032]
The shift angle rotation drive unit 13 that rotates the delivery arm unit 20 by a predetermined angle detects the notch or orientation flat position of the wafer 3 and then moves the upper arm units 33 and 34 in the holding clamper 30 when the holding clamper 30 moves to the reference rotation position. In order to avoid interference when the claw portions 331, 341, 351 of the 35 are set at positions where they interfere with the lower claw portions 221, 231 of the lower arm portions 22, 23 in the delivery arm portion 20 3 to 4, the motor 131 supported in the machine base 10, the eccentric cam 132 mounted on the drive shaft of the motor 131, and one end of the swing lever 25 are provided. The cam roller 25 is mounted and can be engaged with the outer peripheral surface of the eccentric cam 132.
[0033]
Accordingly, when the eccentric cam 132 is rotated by driving the motor 131, the cam roller 132 engaged with the eccentric cam 132 is moved. Since the other end of the cam roller 132 is mounted on one end of the swinging lever 25 that is fixed to the rotating shaft portion 21, the swinging lever 25 swings with respect to the center of rotation, thereby rotating the rotating shaft portion 21 into the rotating shaft portion. It rotates by a predetermined angle with respect to the center of 21. This angle indicates an avoidance angle when the delivery arm portion 20 and the holding clamper 30 overlap, and is desirably set to 5 to 7 °.
[0034]
As shown in FIG. 3, the rotation drive unit 14 that rotates the holding clamper 30 includes a motor 141 supported in the machine base 10, a small pulley 142 attached to a drive shaft of the motor 141, and a belt 143. And a large pulley 144 fixed integrally with the cylindrical shaft portion 31. Therefore, when the motor 141 is driven to rotate, the large pulley 144 is rotated from the small pulley 142 via the belt 143, so that the cylindrical shaft portion 31 fixed to the large pulley 144 rotates around the rotation center shaft portion 11. It will be.
[0035]
The raising / lowering drive unit 15 for driving raising / lowering of the holding clamper 30 is connected to the motor 151 supported in the machine base 10, the driving pulley 152 mounted on the driving shaft of the motor 151, and the driving pulley 152 via the belt 153. Driven pulley 154, a ball screw 155 supported in the machine base 10 and rotatable with the rotation of the driven pulley 154, a nut member 156 screwed into the ball screw 155 and movable up and down, and one end of the nut member 156 And an elevating plate 158 that is supported by a cylindrical shaft portion 31 via a bearing 157. The elevating plate 158 and the cylindrical shaft portion 31 are configured to move up and down integrally. Therefore, when the motor 151 is driven to rotate, the ball screw 155 is rotated via the drive pulley 152 and the driven pulley 154, and the nut member 156 is moved up and down accordingly, whereby the cylindrical shaft portion 31 is moved up and down, and the upper arm portion 33, 34 and 35 are moved up and down.
[0036]
The opening / closing drive unit 16 that drives opening and closing of the holding clamper 30 is provided above the rotation center shaft portion 11, above the lower large diameter portion 111 a, the small diameter portion 111 b located above the lower large diameter portion 111 a, and above the small diameter portion 111 b. The cam surface 111 is formed in the vertical direction with the upper large diameter portion 111c positioned, and the cam roller 332 of the upper arm portion 33 that engages with the cam surface 111, and the lift drive unit 15 is configured as a drive source. The
[0037]
In other words, when the upper arm portion 33 is moved up and down by moving the cylindrical shaft portion 31 up and down by the drive of the lift drive unit 15, the cam roller 332 is moved up and down simultaneously with the movement of the upper arm portion 33. Since the cam roller 332 moves up and down in the vertical direction along the cam surface 111, the upper arm portion 33 moves in a direction away from the rotation center shaft portion 11 when engaging the lower large diameter portion 111 a of the cam surface 111. When the cam roller 332 engages with the small diameter portion 111b, the cam roller 332 moves in a direction approaching the rotation center shaft portion 11, and when the cam roller 332 further rises and engages with the upper large diameter portion 111c, the cam roller 332 moves away from the rotation center shaft portion 11. The opening / closing drive is performed by moving.
[0038]
As shown in FIG. 1, the detection unit 40 that detects the notch or orientation flat position of the wafer 3 passes through the outside of the upper arm unit 33 from one end of the side of the machine base 10, and the upper ends of the upper arm unit 33 and the lower arm unit 22. A U-shaped bracket 41 disposed so as to be positioned above; a position detection sensor 44 for mounting a pair of light projecting unit 42 and light receiving unit 43 on the upper and lower sides of the wafer 3 in the bracket 41; and a buffer stage A wafer presence / absence sensor 47 including a light projecting unit 45 and a light receiving unit 46 is confirmed. The light projecting unit 42 and the light receiving unit 43 are respectively disposed in the bracket 41 at positions where the light projecting unit 42 of the position detection sensor 44 can emit light toward the edge of the lower wafer 3. The light projecting unit 45 and the light receiving unit 46 are disposed in the bracket 41 at positions where the light projecting unit 45 can emit light toward the edge of the upper wafer 3.
[0039]
Next, the operation of the aligner apparatus 1 configured as described above will be described with reference to FIGS.
[0040]
Loading and unloading of the wafer 3 with respect to the wafer aligner device 1 of the embodiment is performed by the hand 5 of the transfer robot, and the hand 5 is moved in and out from the direction orthogonal to the longitudinal direction of the delivery arm unit 20 in FIG. become. The hand 5 lowers and places the wafer 3 on the wafer receiving portions 221a and 231a of the lower claw portions 221 and 231 from above the lower claw portions 221 and 231 of the delivery arm portion 20, thereby aligning the wafer 3 on the aligner. It will be transferred onto the device 1. Then, after the wafer 3 is loaded onto the aligner device 1, the hand 5 moves from the aligner device 1 to the robot side (not shown). In this state, the upper arm portions 33, 34, and 35 are at the height positions shown in FIG. 3, and the cam roller 332 is positioned below the large-diameter portion 111 a of the cam surface 111 formed on the rotation center shaft portion 11. .
[0041]
When the wafer 3 is placed on the delivery arm portion 20, the lifting / lowering driving portion 15 of the holding clamper 30 is activated, and the cylindrical shaft portion 31 is moved along with the nut member 156 and the lifting plate 158 that are screwed into the ball screw 155. Raise. Accordingly, as shown in FIG. 6, the cam roller 332 rises toward the large diameter portion 111 a of the cam surface 111. Then, the upper arm portion 33 moves in a direction away from the rotation center shaft portion 11 and moves the claw portion 331 outward from the edge of the wafer 3 while raising the claw portion 331 to the height position of the edge of the wafer 3. To do. The other upper arms 34 and 35 are raised to the same height position without opening and closing.
[0042]
Further, when the elevating drive unit 15 is actuated to raise the cam roller 332 together with the cylindrical shaft portion 31, the cam roller 332 reaches the small diameter portion 111b of the cam surface 111 and the upper arm portions 33, 34, 35 as shown in FIG. Is moved to a position above the lower claw portions 221 and 231 of the delivery arm portion 20, and the upper arm portion 33 is moved closer to the rotation center shaft portion 11 side by the urging force of the coil spring 333, and the edge of the wafer 3 is moved to the other upper arm portion. The edge of the wafer 3 is held at three points by being brought into contact with the 34 and 35 sides.
[0043]
The height position of the wafer 3 coincides with the position of the wafer 3 arranged below among the wafers indicated by the two-dot chain line in FIG. 1, and then the holding clamper 30 is rotated once at this height position. Let
[0044]
The drive motor 141 of the rotational drive unit 14 that rotationally drives the holding clamper 30 is actuated to rotate the cylindrical shaft portion 31 once as shown by the arrow in FIG. The wafer 3 held by the claw portions 331, 341, 351 of the upper arm portions 33, 34, 35 rotates once with respect to the machine base 10 with one rotation of the cylindrical shaft portion 31. In the detection unit, the position detection sensor 44 of the detection unit 40 emits light from the light projecting unit 42 toward the light receiving unit 43 toward the edge of the wafer 3 simultaneously with the rotation of the wafer 3, thereby The orientation flat position is detected, and the wafer presence / absence sensor 47 detects the presence / absence of the wafer 3 held by the upper claw portions 222 and 232 by emitting light from the light projecting portion 45 toward the light receiving portion 46.
[0045]
The wafer 3 from which the position of the notch or orientation flat is detected has a predetermined angle by the motor 141 calculated and driven by a control device (not shown) from a position rotated once so that the notch or orientation flat position coincides with the rotation reference position. Rotate to adjust the notch or orientation flat position to the reference rotation position.
[0046]
Next, the aligned wafer 3 is further raised and transferred to the buffer stage as shown in FIGS. That is, the ball screw 155 is rotated by the operation of the motor 151 of the elevating drive unit 15, and the cam roller 332 is raised along with the rise of the cylindrical shaft portion 31 due to the rise of the nut member 156 and the elevating plate 158, so Engage with the portion 111c. When the cam roller 332 is engaged with the upper large-diameter portion 111c, the upper arm portions 33, 34, and 35 of the holding clamper 30 move to a position slightly raised from the upper claw portions 222 and 232 of the delivery arm portion 20, and the upper arm Since the portion 33 is separated from the rotation center shaft portion 11, the holding clamper 30 is opened larger than the outer diameter of the wafer 3. However, since the wafer 3 is held on the bottom surface of the claw portion 331 of the upper arm portion 33, it does not fall off from the holding clamper 30.
[0047]
When the holding clamper 30 is raised, the lower arm portions 22 and 23 of the delivery arm unit 20 are opened by the opening / closing drive unit 12 in order to avoid interference with the wafer 3 or the delivery arm unit 20. This action is achieved by operating the motor 121 and rotating the cam member 27 to engage the pair of cam rollers 28 and 28 with the convex portions 271 and 271 from the concave portions 272 and 272 of the cam member 27 as shown in FIG. Thus, the lower arm portions 22 and 23 are moved away from the rotation center shaft portion 11.
[0048]
When the wafer 3 moves above the upper claw portions 222 and 232 of the delivery arm portion 20, the cam member 27 is further rotated to move the pair of cam rollers 28 and 28 from the convex portions 271 and 271 of the cam member 27 to the concave portions 272 and 272. 272 is engaged and moved. As a result, as shown in FIG. 9, the upper claw portions 222 and 232 of the lower arm portions 22 and 23 are moved closer to the rotation center shaft portion 11 and moved to positions where the wafer 3 can be held.
[0049]
When the holding clamper 30 is lowered in this state, the holding clamper 30 is in an open state (the upper arm portion 33 is moved outward from the outer diameter of the wafer 3), as shown in FIG. The wafer 3 is transferred onto the upper claw portions 222 and 232 of the delivery arm portion 20 and stored in the buffer stage. The holding clamper 30 is further lowered to position the claw portions 331, 341, 351 of the upper arms 33, 34, 35 below the lower claw portions 221, 231 of the delivery arm portion 20.
[0050]
When the holding clamper 30 is lowered, if any of the claw portions 331, 341, 351 (claw portion 351 in the illustrated example) of the upper arms 33, 34, 35 of the holding clamper 30 is delivered as shown in FIG. If the lower arm 22 or 23 of the lower arm 22 or 23 of the arm 20 is overlapped with the lower pawls 221 and 231 (the lower pawl 231 in the illustrated example), the holding clamper 30 cannot be lowered due to interference with the delivery arm 20. 3-4, the delivery arm portion 20 is positioned at a predetermined angle so as not to interfere with the lower claw portions 221 and 231 of the lower arm portion 22 or 23 and the claw portions 331, 341 and 351 of the upper arm portion 33 or 34 or 35. Rotate.
[0051]
This operation is performed by the shift angle rotation driving unit 13 of the delivery arm unit 20. That is, when the motor 131 is operated, the eccentric cam 132 rotates and the cam roller 26 is moved by the eccentric stroke of the eccentric cam 132, and the swing lever 25 to which the cam roller 26 is attached is as shown in FIG. Oscillating with respect to the rotation center and rotating the rotary shaft portion 21 by 5 to 7 °, so that the lower arm portions 221, 231 of the lower arm portion 22 or 23 and the claw portion 331 of the upper arm portion 33 or 34 or 35, Thus, overlap with 341 and 351 is avoided.
[0052]
When the overlap between the delivery arm unit 20 and the holding clamper 30 is avoided, the holding clamper 30 is lowered and waiting for the next wafer 3 to be carried in by the hand 5.
[0053]
When the next wafer 3 is carried in by the hand 5 and transferred onto the lower claw portions 221 and 231 of the delivery arm unit 20, the hand 5 is moved back to the robot side again, and the lower claw portion is operated as described above. The wafer 3 held by 221 and 231 is aligned. That is, in this state, the wafer 3 that has been aligned with the buffer stage is waiting, and the next wafer 3 can be held by the holding clamper 30 to align the notch or orientation flat of the wafer 3. .
[0054]
Then, when the next wafer 3 that has been aligned is transferred from the holding clamper 30 to the lower claw portions 221 and 231 of the delivery arm portion 20, the hand 5 is carried in, and the upper claw portion 222 of the delivery arm portion 20; A wafer (wafer on the buffer stage) 3 waiting on 232 and the wafer transferred onto the lower claw portions 221 and 231 are sequentially carried out. Then, a new wafer is loaded again and the wafer is newly aligned. This completes one cycle.
[0055]
When carrying out the upper and lower two wafers for which the hand 5 has completed the alignment, for example, if a robot having a hand arranged in two stages is installed, two wafers can be carried out at the same time. Throughput can be further improved.
[0056]
As described above, the aligner device 1 of the embodiment grips and rotates the edge of the wafer 3, and therefore can rotate without causing the wafer 3 to be displaced, thereby reliably improving positioning accuracy and high speed. Rotation can be possible.
[0057]
Moreover, since the delivery arm part 20 has two claw parts (lower claw parts 221 and 231 and upper claw parts 222 and 232), one claw part (for example, the upper claw parts 222 and 232) is provided. It can be configured as a buffer stage, and the position detection operation of the notch or orientation flat of the wafer 3 can be continuously performed in a state where the wafer 3 that has detected the position of the notch or orientation flat is kept in the buffer stage, thereby improving the throughput. .
[0058]
Furthermore, since the back surface of the wafer 3 is not attracted and held, particles are not attached.
[0059]
Further, when the holding clamper 30 configured to be able to move up and down is in a position overlapping the delivery arm portion 20, that is, any one of the claw portions 331, 341, 351 of the holding clamper 30 and the lower claw of the delivery arm portion 20. When one of the portions 221 and 231 is at the same angle, the claw portions 331, 341, and 351 of the holding clamper 30 interfere with the lower claw portions 221 and 231 of the delivery arm portion 20 by moving up and down. Therefore, the rotation drive unit 13 is moved by a predetermined angle with respect to the delivery arm unit 20 to avoid overlap, and the claw portions 331, 341, 351 of the holding clamper 30 and the lower claw of the delivery arm unit 20 At a position where the portions 221 and 231 do not interfere with each other, the holding clamper 30 moves up and down to hold the wafer 3 on the delivery arm portion 20. It can be.
[0060]
At this time, since the rotational drive unit 13 includes the eccentric cam 132 and the swing lever 25 having the cam roller 26, the swing lever 25 can be swung by a predetermined angle by the eccentric cam 132. The delivery arm unit 20 can be swung by a predetermined angle to avoid interference between the holding clamper 30 and the delivery arm unit 20, and overlap can be avoided with an easy configuration.
[0061]
Further, when the wafer 3 from which the position of the notch or orientation flat is detected is transferred to the upper claw portions 222 and 232 (buffer stage) while being held by the holding clamper 30, the transfer arm portion 20 is provided with the cam member 27. Since the two lower arm portions 22 and 23 are opened and closed by the pair of cam rollers 28 and 28, the wafer 3 can be moved up and down without interfering with the upper claw portions 222 and 232 of the delivery arm portion 20. Become.
[0062]
Further, since the holding clamper 30 has at least three upper arm portions 33, 34, and 35, and one upper arm portion 33 can move in the horizontal direction, the holding clamper 30 is opened larger than the outer diameter of the wafer 3 and the wafer 3 The edge of the wafer 3 can be securely gripped by moving to a grippable position to enable delivery and further closing.
[0063]
Further, since the opening / closing drive unit 16 has a cam surface 111 formed in the vertical direction and a cam roller 332 movable along the cam surface 111, the holding clamper 30 is formed so as to be opened / closed at the same time. Thus, the holding clamper 30 can move to the height position of the wafer 3 and grip the edge of the wafer 3.
Moreover, since the cam surface 111 is formed in the vertical direction, it is possible to provide a aligner device 1 that can be formed in a small space in the lateral direction and is compact.
[0064]
Note that the configuration of the aligner device 1 is not limited to the above. For example, the configuration of the shift angle rotation driving unit 13 is not limited to the eccentric cam and the cam roller as described above, but other cam mechanisms. For example, a cam mechanism using a groove cam and a cam roller or an irregular cam shape, or a cylinder mechanism using a cylinder instead of the cam mechanism may be used.
[0065]
Further, the opening / closing drive unit 16 may be another cam mechanism instead of the cam mechanism as described above, or may be a cylinder mechanism.
[0066]
Furthermore, the raising / lowering drive of the raising / lowering drive part 15 may be not a ball screw mechanism but a cylinder mechanism, and may use a cam mechanism or a crank mechanism.
[0067]
Moreover, the lower arm parts 22 and 23 which comprise the delivery arm part 20 may be three or more as long as they are formed in a radial equiangular form instead of two. In this case, it may be designed so that the hand can enter and exit.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view showing a wafer aligner according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view of the same.
FIG. 3 is a front cross-sectional view showing an aligner device excluding a detection unit in FIG. 1;
4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
5 is a cross-sectional view taken along the line V-V in FIG. 3;
FIG. 6 is a view showing a state in which a holding clamper is raised to a wafer gripping position and opened.
FIG. 7 is a view showing a state in which a holding clamper is further raised to grip a wafer.
FIG. 8 is a view showing a state in which the holding clamper is further raised and the wafer is moved above the buffer stage and opened.
9 is a view showing a state in which the holding clamper is lowered from the state of FIG. 8 to place the wafer on the buffer stage.
10 is a view showing a state in which the holding clamper has moved downward from the state shown in FIG. 9;
FIG. 11 is a plan view showing a state in which the holding clamper and the delivery arm portion overlap each other.
FIG. 12 is a plan view showing a state in which the overlap between the holding clamper and the delivery arm portion is released.
FIG. 13 is a perspective view showing a conventional wafer aligner.
[Explanation of symbols]
1 ... Wafer aligner
3 ... Wafer
5 ... hand
10 ... Machine stand
11 ... Rotation center shaft
111 ... Cam surface (second cam means)
12 ... Opening / closing drive section (first opening / closing drive means)
13: Shift angle rotation drive section (first rotation drive means)
132: Eccentric cam
14: Rotation drive unit (second rotation drive means)
15 ... Elevating drive unit (elevating drive means)
16: Opening / closing drive unit (second opening / closing drive means)
20 ... Delivery arm (delivery means)
21 ... Rotating shaft
22, 23 ... Lower arm (wafer holding arm)
221, 231 ... Lower nail
222, 232 ... Upper nail (buffer stage)
25. Swing arm
26 ... Cam roller
27. Cam member (first cam means)
28. Cam roller (first roller means)
30 ... Holding clamper (holding means)
31 ... Cylindrical shaft part
33, 34, 35 ... Upper arm (clamp arm)
331, 341, 351 ... Claw part (wafer gripping part)
332 ... Cam roller (second roller means)
40... Detection unit (detection means)
44 ... Position detection sensor
47. Wafer presence sensor

Claims (6)

ウェハを保持して回転可能に配置される保持手段と、ロボットから搬送されたウェハを保持して前記保持手段に受渡しする受渡し手段と、前記ウェハの回転中にノッチまたはオリフラ位置を検出する検出手段と、を備え、前記ウェハのノッチまたはオリフラ位置を基準回転位置に一致させるように構成されたウェハのアライナー装置であって、
前記受渡し手段は、前記ウェハ保持部を2段に有するとともに、第1回転駆動手段によって所定角度回転可能に構成され、さらに、前記保持手段を、前記ウェハ保持部の上方と下方の間で昇降できるように第1開閉駆動手段によって開閉可能に構成され、
前記保持手段は、前記受渡し手段のウェハ保持部を間にして昇降可能なウェハ把持部を有して第2回転駆動手段によって回転可能に構成され、かつ昇降駆動手段によって、前記ウェハを前記受渡し手段のウェハ保持位置を間にして下方の位置から上方の位置まで移動可能に構成されるとともに、前記ウェハのエッジを把持または把持解除するための第2開閉駆動手段によって開閉可能に構成されていることを特徴とするウェハのアライナー装置。
A holding means that is rotatably arranged to hold the wafer, a delivery means that holds the wafer transferred from the robot and delivers it to the holding means, and a detection means that detects a notch or orientation flat position during rotation of the wafer A wafer aligner configured to match a notch or orientation flat position of the wafer with a reference rotational position,
The delivery unit includes the wafer holding unit in two stages, is configured to be rotatable by a predetermined angle by the first rotation driving unit, and can move the holding unit up and down between the upper side and the lower side of the wafer holding unit. The first opening / closing driving means is configured to be openable and closable,
The holding means has a wafer gripping portion that can be raised and lowered with a wafer holding portion of the delivery means interposed therebetween, and is configured to be rotatable by second rotation driving means, and the delivery means by the raising and lowering driving means. It is configured to be movable from a lower position to an upper position with the wafer holding position in between, and to be opened and closed by a second opening / closing drive means for gripping or releasing the edge of the wafer. A wafer aligner.
前記第1回転駆動手段が、前記保持手段と前記受渡し手段とのオーバーラップを回避するためのシフト角度分回転可能に構成されることを特徴とする請求項1記載のウェハのアライナー装置。2. The wafer aligner according to claim 1, wherein the first rotation driving unit is configured to be rotatable by a shift angle for avoiding an overlap between the holding unit and the delivery unit. 前記第1回転駆動手段が、偏心カムと、前記偏心カムに係合可能なカムローラを有する揺動レバーとを有して構成されることを特徴とする請求項2記載のウェハのアライナー装置。3. The wafer aligner according to claim 2, wherein the first rotation driving means includes an eccentric cam and a swing lever having a cam roller engageable with the eccentric cam. 前記受渡し手段が、少なくとも2個のウェハ保持アームを有し、前記ウェハ保持アームが、第1カム手段と前記第1カム手段に係合可能な第1ローラ手段を備える前記第1開閉駆動手段により軸心に対して接近離隔する方向に、移動可能に構成されていることを特徴とする請求項1記載のウェハのアライナー装置。The delivery means includes at least two wafer holding arms, and the wafer holding arms include first cam means and first roller means that can be engaged with the first cam means. 2. The wafer aligner according to claim 1, wherein the wafer aligner is configured to be movable in a direction approaching and separating from the axis. 前記保持手段が、回転中心から放射線方向に配設される複数のクランプアームを有し、前記各クランプアームが、前記ウェハのエッジを把持する把持部を有するとともに、少なくとも1個のクランプアームが前記第2開閉駆動手段によって水平方向に移動可能に構成されることを特徴とする請求項1記載のウェハのアライナー装置。The holding means has a plurality of clamp arms arranged in a radial direction from the center of rotation, each clamp arm has a grip part for gripping an edge of the wafer, and at least one clamp arm has the clamp arm 2. The wafer aligner according to claim 1, wherein the wafer aligner is configured to be movable in the horizontal direction by the second opening / closing drive means. 前記第2開閉駆動手段が、垂直方向に形成されたカム部を有する第2カム手段と、前記第2カム手段に係合可能に配置され前記カム部に沿って移動可能な第2ローラ手段とを有して構成されていることを特徴とする請求項5記載のウェハのアライナー装置。The second opening / closing drive means has second cam means having a cam portion formed in a vertical direction, and second roller means arranged to be engageable with the second cam means and movable along the cam portion. 6. The wafer aligner according to claim 5, wherein the wafer aligner is configured to include:
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