JP4485374B2 - 冷却処理装置 - Google Patents
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Description
40 冷却処理装置
60 冷却板
80 レーザ変位計
70 第1の吹出し・吸引口
71 第2の吹出し・吸引口
90 装置制御部
W ウェハ
Claims (7)
- 基板を冷却する冷却処理装置であって,
基板を載置して冷却する冷却板と,
前記冷却板上に載置された基板の反りを測定する反り測定部と,
前記冷却板の表面の複数個所に形成され,冷却板上の基板に対する気体の吹き出しと吸引を選択的に行うことができる吹出し・吸引口と,
前記反り測定部の測定結果に基づいて,冷却板上で冷却される基板が平坦になるように,前記各吹出し・吸引口による吹き出し又は吸引を行う制御部と,
を有し,
前記制御部は,前記反り測定部により測定された基板の反りの程度に応じて,前記各吹き出し・吸引口の気体の吹き出し流量又は吸引流量を調整できることを特徴とする,基板の冷却処理装置。 - 基板を冷却する冷却処理装置であって,
基板を載置して冷却する冷却板と,
前記冷却板上に載置された基板の反りを測定する反り測定部と,
前記冷却板の表面の複数個所に形成され,冷却板上の基板に対する気体の吹き出しと吸引を選択的に行うことができる吹出し・吸引口と,
前記反り測定部の測定結果に基づいて,冷却板上で冷却される基板が平坦になるように,前記各吹出し・吸引口による吹き出し又は吸引を行う制御部と,
を有し,
前記複数の吹出し・吸引口のうちのいずれかには,吹出しと吸引により前記冷却板の表面上に突出自在で,冷却板上の基板の裏面を押圧可能な押圧部材が設けられていることを特徴とする,基板の冷却処理装置。 - 前記吹き出し・吸引口は,前記冷却板上の基板の中央部に対応する位置と,前記基板の外周部に対応する位置に形成されていることを特徴とする,請求項1又は2のいずれかに記載の基板の冷却処理装置。
- 前記吹き出し・吸引口は,前記冷却板上の基板に対応する面内に均等に配置されていることを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載の基板の冷却処理装置。
- 前記冷却板は,基板よりも大きな表面を有し,
前記冷却板には,基板を支持し,前記基板と冷却板との間に隙間を形成する支持ピンが設けられ,
前記冷却板の表面には,平面から見て,冷却板上に載置された基板の外方の位置から当該基板の中心部付近にまで通じる溝が形成されていることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の基板の冷却処理装置。 - 前記溝は,前記冷却板の表面の一端部から中心部付近を通って他端部まで到達するように形成されていることを特徴とする,請求項5に記載の基板の冷却処理装置。
- 前記溝には,給気口又は排気口が形成されていることを特徴とする,請求項6に記載の基板の冷却処理装置。
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