JP4465065B2 - 配線の断線修復方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線の断線修復方法に関し、より詳しくは、配線に断線が生じた場合にその配線の機能を回復するための配線の断線修復方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
LCD(liquid crystal display)、PDP(plasma display panel)、FED(field emission display)などのフラット型ディスプレイは、CRTに比べて奥行きを増やさずに大型化が可能なことから開発が進み、実際に市場を獲得し始めている。それらの画像表示の原理、構造は異なるが、画素の回りに配線が形成されている点で共通している。
【0003】
そのようなディスプレイパネルでは、製造工程において配線が断線することがあり、その断線は画素欠損を招いて歩留り低下の原因となる。
そこで、ディスプレイパネルにおいては、欠陥のある配線を救済するために表示領域の周辺に予備配線を設けておき、配線に断線が存在する場合には、断線により信号が通じなくなった配線経路に予備配線を介して信号を送れる状態にし、これによりディスプレイパネルの歩留りを向上させている。
【0004】
例えば、LCDにおいては、ドレインバスラインの一端が信号ドライバに接続されているが、ドレインバスラインに断線が生じた場合の対策として、ドレインバスラインの両端部を予備配線を介して導通させてドレインバスラインの欠陥を救済するといったリペア法が採用されている。
図1(a) は、LCDのドレインバスライン1と予備配線2を絶縁膜3を介して上下に配置した断面を示し、そのドレインバスライン1の両端部と予備配線2の両端部は図1(b) に示すように表示領域の周辺で交差するような構造となっている。
【0005】
そして、ドレインバスライン1のうち図1(b) に示す点Bで断線が生じた場合には、図1(c) に示すように、ドレインバスライン1と予備配線2の交差領域の中央に向けてレーザビームを上から1ショット照射してドレインバスライン1、予備配線2及び絶縁膜3に孔4を開けると同時にドレインバスライン1と予備配線2の一部を融解させる。そして、ドレインバスライン1と予備配線2のうち溶解した部分は孔4を通して流れて互いに接続する。これによって、断線したドレインバスライン1は予備配線2を介して導通することになる。
【0006】
なお、図1(a),(c) において符号5は下地絶縁膜を示している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記したリペア技術では、1ショットのレーザビームを照射しても予備配線2とドレインバスライン1が接続しない場合には、同じ強度のレーザビームを繰り返し照射することもある。そのようなレーザビームの照射によれば、ドレインバスライン1と予備配線2の交差部分が破壊されてしまう可能性が高く、配線欠陥修復の信頼性が低かった。
【0008】
また、ドレインバスライン1と予備配線2の導通部分では、SEM観察しても孔4の内面に凹凸が殆ど見られず、しかも下側の膜が、図2に示すようにめくれあがった状態で開口4の上の周辺に残り、その後に異物としてパネル内に存在することになる。
本発明の目的は、配線欠陥修復の信頼性を向上することができる配線の断線修復方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記した課題は、図4、図5に例示するように、断線の生じている本配線13と前記本配線13に層間絶縁膜15を介して形成される予備配線16とを互いの交差領域で接続する工程を有する配線の断線修復方法において、前記本配線13と前記予備配線の前記交差領域に向けてレーザ42から第1の出力強度のレーザビームを照射することにより孔44を開口する工程と、前記第1の出力強度よりも高い第2の出力強度のレーザビームを前記孔44に向けて照射して前記予備配線16と前記本配線13の一部を融解して前記予備配線16と前記本配線13を接続する工程とを有することを特徴とする配線の断線修復方法により解決する。
【0010】
上記した配線の断線修復方法において、前記レーザ42は、出力波長の変更によって出力強度を調整できる特性を有していることを特徴とする。
上記した配線の断線修復方法において、前記レーザビームは、前記第1の出力強度と前記第2の出力強度の間の第3の出力強度で前記孔に向けてさらに照射されることを特徴とする。
【0011】
上記した配線の断線修復方法において、前記予備配線16を保護絶縁膜20で覆い、該保護絶縁膜20のうち前記交差領域の一部に位置合わせ用孔20aを形成し、該位置合わせ用孔20aに向けて前記レーザビームが照射されることを特徴とする。
上記した配線の断線修復方法において、図11、図12に例示するように、前記交差領域における前記本配線13と前記予備配線16のうち少なくとも一方に位置合わせ用孔20aを形成し、該位置合わせ用孔20aに向けて前記レーザビームが照射されることを特徴とする。
【0012】
上記した配線の断線修復方法に関する構造として、基板の上で内部から周辺に延在し、且つ途中に切断部分の存在する本配線13と、前記基板の周辺部に形成され且つ前記本配線13の上又は下に絶縁膜を介して重ねられて形成された予備配線16と、前記絶縁膜の孔44を通して前記予備配線16と前記本配線13を溶融状態で接続し、且つ該孔44の内面に沿った断面に溶融した前記予備配線16及び前記本配線13からなる凹凸を有する接続部とを有することを特徴とする多層配線構造がある。
【0013】
その多層配線構造において、前記本配線13と前記予備配線16の交差領域には、前記本配線13と前記予備配線16のいずれかに接続される導電性パッド13f,13b,16a,16bが形成されるようにしてもよい。
次に、本発明の作用について説明する。
本発明によれば、本配線と予備配線を互いの交差領域において接続する際に、レーザビーム照射によって本配線と予備配線に孔を設け、その後にその場所で、出力強度を変化させたレーザビーム照射によって本配線と予備配線とを融解するといった2段階で本配線と予備配線を接続するようにしている。これにより、本線と予備配線は、その交差領域において確実に接続することができ、配線欠陥修復の信頼性が向上する。
【0014】
この場合、複数回のレーザビームを照射しているが、それらのレーザビームの強度を変化させて調整しているので、本配線と予備配線の交差部分の破壊を未然に防止できる。
また、本配線と予備配線の交差部分にレーザビームを照射する場合には、本配線又は予備配線の縁を目標にするとレーザビームの照射外れが防止される。さらに、本配線と予備配線の交差領域において、本配線、予備配線、保護絶縁膜のいずれかに位置合わせ用孔を形成しておけば、レーザビームの照射位置合わせが容易になる。
【0015】
さらに、レーザ強度を変化させて本配線と予備配線を接続すると、本配線と予備配線の接続部は、レーザ照射毎に徐々に熔解されて昇華するので、本配線と予備配線の接続部では膜のめくれあがりが存在しない。これにより、基板上に異物が残りにくくなる。しかも、レーザ照射によって本配線と予備配線に形成された孔の内面には凹凸が存在する。
【0016】
そのようなレーザ照射後の形状はSEM観察によって容易に判断できる。
なお、本配線としては、例えば液晶表示パネルにおけるゲートバスライン、ドレインバスラインなどがある。
【0017】
【発明の実施の形態】
そこで、以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1の実施の形態)
図3(a) は本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルのゲートバスラインとドレインバスラインと予備配線の配置の概要を示す平面図、図3(b) は、ゲートバスラインとドレインバスラインの交差状態を示す断面図、図3(c) は、ドレインバスラインとリペア用の予備配線の配置関係を示す断面図である。なお、ドレインバスラインは、データバスラインともよばれる。
【0018】
図3(a) において、石英などの第1の透明基板11の上には、クロム、アルミニウムなどの金属よりなるゲートバスライン12とそのような金属よりなるドレインバスライン13がそれぞれ複数本形成されている。
複数のゲートバスライン12は、走査ドライバ30に接続されるものであって互いに一定間隔をおいて所定の方向に平行に配置される。また、複数のドレインバスライン13は、信号ドライバ31に接続されるものであって、ゲートバスライン12に交差する状態で、互いに一定間隔をおいて平行に配置されている。
【0019】
ゲートバスライン12とドレインバスライン13は、図3(b) に示すように、第1の層間絶縁膜14を介して上下に絶縁されて配置されている。さらに、ドレインバスライン13は、第2の層間絶縁膜15に覆われ、この第2の層間絶縁膜15の上には図3(c) に示すように予備配線16が形成されている。
予備配線16は、図3(a) に示すように、画素領域を迂回して複数のドレインバスライン13の上方を通るように、第1の透明基板11の外周に沿ってU字状に形成されている。
【0020】
また、ドレインバスライン13の一端には、図4(a) に示すようにドレインラインパッド13aが形成され、このドレインラインパッド13aには信号ドライバ31のデータ端子が接続される。
さらに、複数のゲートバスライン12と複数のドレインバスライン13のそれぞれの交差部分の近傍には図4(b),(c) に示すように薄膜トランジスタ(TFT(thin film transistor))17が配置されている。
【0021】
図4(a) において、第1の透明基板11のうちTFT17、バスライン12,13等が配置される側の面は、第2の透明基板21上の透明性共通電極22に対向して配置される。また、第2の透明基板21の上には例えば3色のカラーフィルタ23が配置されている。そして、第1の透明基板11と第2の透明基板21の間には液晶24が注入される。
【0022】
TFT17は、例えば図4(b),(c) に示すような構造を有し、そのドレインはドレインバスライン13に接続され、そのソースはITO(indium tin oxide) などの光透過性導電材よりなる画素電極18に接続されている。
TFT17は、第1の透明電極11上で蓄積コンデンサ電極(不図示)を覆う下地絶縁膜10の上に形成されている。TFT17のゲート電極17gはゲートバスライン12からその側方に突出した形状を有し、そのゲート電極17gの上には多結晶シリコン又は非晶質シリコンよりなるn型又はp型の動作半導体膜17aが形成されている。その動作半導体膜17aの上層部には、動作半導体膜17aとは逆導電型のドレイン層17dとソース層17sが溝17vによって互いに分離されて形成されている。ドレイン層17dは、ドレインバスライン13からその側方に突出したドレイン電極13dに接続されている。また、ソース層17sの上には画素電極18に延びるソース電極19が形成されている。このような構成からなるTFT17は、第3の層間絶縁膜15に覆われている。
【0023】
上記した予備配線16は、複数のドレインバスライン13の両端近傍で交差するように配置されている。その交差部分では、図5(a),(b) に示すようにドレインバスライン13側にパッドを設けるか、又は、図6(a),(b) に示すように予備配線16側にパッドを設けることが好ましい。
即ち、ドレインバスライン13のデータ端子実装側のうち予備配線16と交差する部分では、図5(a) に示すように、第1のパッド13fが形成されている。また、ドレインバスライン13のデータ端子非実装側のうち予備配線16と交差する部分では、図5(b) に示すように、第2のパッド13bが形成されている。なお、第3の層間絶縁膜15の下において、第1及び第2のパッド13f,13bが別々に形成されることがある。例えば、第1のパッド13fとドレインバスライン13の間と、第2のパッド13bとドレインバスライン13の間とにそれぞれ絶縁膜(不図示)が形成される場合には、その絶縁膜中のビア(不図示)を介してパッド13f、13bがドレインバスライン13に接続される。
【0024】
また、予備配線16の両端には、図6(a),(b) に示すようにそれぞれ第3、第4のパッド16a、16bを設けてもよい。ここで図6(a) は、予備配線16のうちドレインバスライン13のデータ端子実装側を示し、図6(b) は、予備配線16のうちドレインバスライン13のデータ端子非実装側を示している。
なお、上記したパッド13a,13b,13f,16a,16bは全て導電材から構成されている。
【0025】
次に、液晶表示パネルの製造工程において、ドレインバスライン13の1本に断線が発生した場合に、ドレインバスライン13の機能を回復させる方法を以下に説明する。
まず、ドレインバスライン13を有する第1の透明基板11を、図7に示すリペア装置のステージ41の上に載せる。ステージ41の上方には、レーザビームを出力するレーザ42が配置され、そのレーザ42の出力とショット回数は制御回路43によって制御される。また、レーザ42は、波長を制御することによってレーザビームの出力強度を変更できるような構造となっている。レーザ42においては、図8に示すように出力強度と出力波長がほぼガウス分布の関係となっている。
【0026】
次に、図示しない顕微鏡を使用して、断線の発生したドレインバスライン13のうち予備配線16と交差する部分をレーザ42の出射方向に位置させる。その交差部の平面は、上記した図5(a) 、図5(b) 、図6(a) 、又は図6(b) のようになっている。
レーザ42のレーザビーム照射領域に位置するその交差部分は、例えば図9(a) に示す断面の状態になっている。
【0027】
このような状態から、例えば図5(a) に示すデータ端子実装側のドレインバスライン13の第1のパッド13fと予備配線16の交差領域のうち、予備配線16の縁部の複数箇所のレーザビーム照射部Lに向けてレーザビームを照射する。
そのレーザビームの照射は2段階に分けて行う。
第1段階では、制御回路43によってレーザ42の出力波長を図8の波長帯域II又はIII になるように調整して0.5〜1.0mJ/pulse、好ましくは0.7〜0.9mJ/pulseの大きさのレーザビームをレーザ42から出力させて、そのレーザビームをレーザビーム照射部Lに向けて照射する。これによって、図9(b) に示すようにドレインバスライン13、予備配線16及び第3の層間絶縁膜15を通る孔44を形成する。なお、同じ強度のレーザビームを複数回照射することにより、図10(a) に示すように孔4を深くしてもよい。
【0028】
この段階では、レーザビームの強度が低く、予備配線16の融解部分が孔44内を通してドレインバスライン13の融解部分と一体化する可能性は低い。
そこで、第2段階では、制御回路43によりレーザ42の出力波長を図8の波長帯域Iとなるように調整して、予備配線16とドレインバスライン13の構成材料が融解して孔44内に流入する程度の大きさ0.8〜1.8mJ/pulse、好ましくは1.2〜1.5mJ/pulseのレーザビームをレーザ42から出力させてレーザビーム照射部Lに向けて照射する。
【0029】
これにより、予備配線16の融解部分は、図10(b) に示すように孔44内を流れてドレインバスライン13の融解部分と一体化する。これにより、配線欠陥修復の信頼性が従来よりも向上する。
このようなレーザの照射を図5(b) に示すようなデータ端子非実装側のドレインバスライン12と予備配線16に対しても行う。なお、レーザビーム照射は、上記したようにデータ端子実装側から行ってもよいし、或いはデータ非実装側から行ってもよい。
【0030】
以上のように、初めにレーザ照射強度を低くしてドレインバスライン13と予備配線16に孔44を開け、その後にレーザ照射強度を高くしてドレインバスライン13と予備配線16のそれぞれの溶解部分を孔44を通して互いに接続させると、断線のあるドレインバスライン(本配線)13の全体に、予備配線16を通して信号ドライバ31から信号を送ることが可能になる。
【0031】
また、予備配線16の縁をレーザビームの照射部分に設定すると、レーザビーム照射箇所を見つけやすくなり、その縁を目印にしてレーザビームを照射することができる。
ところで、レーザビームの照射位置は、予備配線16の縁に限るものではなく、例えばドレインバスライン13の縁に向けてレーザビームを照射するようにしてもよい。ドレインバスライン13は予備配線16の下側に位置しているが、ドレインバスライン13の縁は図11(a) に示すように予備配線16では段となって現れるので、位置検出が容易である。予備配線16の縁に向けてレーザビームを2段階強度で照射した後の断面形状は図11(b) のようになる。
【0032】
上記した説明では、第1の透明基板11の上に予備配線16を1本だけ設けているが、並列に複数本配置してもよい。また、上記した説明では、ドレインバスライン13と予備配線16を接続する例について説明したが、ゲートバスライン12の両端を予備配線を介して接続するようにしてもよい。
また、上記した説明では、レーザビームの照射の際に、最初は照射強度を低くし、最後の照射強度を高くしているが、その逆に、初めは高く、その後に低くするようにしてもよい。初めは高くその後に低くする場合には、初めが高くその後に低くする場合に比べて配線間接続の安定性が悪いが、層間の溶解はいずれもほぼ同じ効果が得られた。
【0033】
さらに、レーザビームの照射を複数回行って、照射強度を徐々に低くするか、或いは徐々に高くするような方法を採用してもよい。
最初に高い強度でレーザショットすると、予備配線又は本配線が吹き飛ばされてバリ等などが発生するが、その後の低い強度のレーザショットにより予備配線又は本配線が融解されてバリの発生が見られなくなることが確認された。即ち、レーザがショット回数を重ねるとその通過時に熱による溶解が起きる。
【0034】
しかし、低い強度から強い強度に変わるレーザショット方法を採用すると、最初のレーザショットによりバリは発生せず、その後のレーザショットにより予備配線と本配線が融解するので配線間接続に安定性がある。なお、低い強度で複数回のレーザショットを行っても、パワー不足で層貫通、配線間短絡に至らない。
(第2の実施の形態)
第1の実施の形態では、レーザを照射する位置を予備配線16の縁及びその周辺に設定したが、本実施形態では、以下に説明するような構造を採用して予備配線16の内部及びその周辺にレーザ照射位置を設定してもよい。
【0035】
図12(a),(b) は、予備配線16を覆う保護絶縁膜20のうち、予備配線16とドレインバスライン13の交差領域の内部(例えば中央)に位置合わせ用の孔20aを形成した構造を示している。
また、図13(a),(b) は、予備配線16とドレインバスライン13の交差領域の内部において、ドレインバスライン13に第1の位置合わせ用孔13xを設け、予備配線16に第2の位置合わせ用孔16xを設けるとともに、第1の位置合わせ用孔13xと第2の位置合わせ用孔16xを上下に重なるようにした構造を示している。
【0036】
そして、予備配線16とドレインバスライン13にレーザビームを照射する場合には、それらの位置合わせ用孔20a,13x,16xに向けてレーザ42を向けると、レーザ照射の位置決めが容易になる。なお、それらの位置合わせ用孔20a,13x,16xは、いずれか一方が存在すれば、その孔の形跡が顕微鏡等により見えるので、レーザビーム照射部分の位置合わせが容易になる。
【0037】
図12(a) 、図13(a) において予備配線16とドレインバスライン13を接続する場合には、位置合わせ用の用孔20a,13x,16xに向けてレーザビームを照射して図14(a) に示すような孔45を予備配線16及びドレインバスライン13に開ける。その後に、レーザビームの強度を上げ、図14(b) に示すように、照射部分の予備配線16及びドレインバスライン13を融解して互いを接続させる。
【0038】
上記した第1及び第2実施形態において説明したように、レーザ強度を2段階で変更して照射することにより、バスラインと予備配線を接続したところ、図15に示すSEM写真のようにその接続部分には膜のめくり上がりは見ら無かったが、その接続部分の孔の内周には凹凸が見られた。
なお、上記した実施形態では、液晶表示パネルの本配線の断線修復方法について説明したが、その他のフラットパネルの画素周辺の配線の断線の際にも上記した断線修復方法を適用してもよい。
{付 記}
(1)画素の側方を通って断線の生じている本配線と前記本配線に層間絶縁膜を介して形成される予備配線とを互いの交差領域で接続する工程を有する配線の断線修復方法において、前記本配線と前記予備配線の前記交差領域に向けてレーザから第1の出力強度のレーザビームを照射することにより孔を開口する工程と、前記第1の出力強度とは異なる第2の出力強度のレーザビームを前記孔に向けて照射して前記予備配線と前記本配線の一部を融解して前記予備配線と前記本配線を接続する工程とを有することを特徴とする配線の断線修復方法。
(2)前記第2の出力強度は、前記第1の出力強度よりも高いことを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(3)前記孔を開口するための前記第1の出力強度の前記レーザビームの照射は複数回行われることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(4)前記レーザは、出力波長の変更により前記レーザビームの出力強度を調整できる特性を有していることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(5)前記レーザビームは、前記第1の出力強度と前記第2の出力強度の間の第3の出力強度で前記孔に向けてさらに照射されることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(6)前記レーザビームの照射位置は、前記交差領域にある前記予備配線の縁又は前記本配線の縁であることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(7)前記予備配線を保護絶縁膜で覆い、該保護絶縁膜のうち前記交差領域の一部に位置合わせ用孔を形成し、該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射されることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(8)前記交差領域における前記本配線と前記予備配線のうち少なくとも一方に位置合わせ用孔を形成し、該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射されることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(9)前記本配線は、液晶表示パネルのドレインバスライン又はゲートバスラインであることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(10)前記予備配線は表示パネルの表示領域を迂回して該表示領域の周囲に形成されることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(11)前記交差領域には、前記本配線と前記予備配線のいずれかに接続される導電性パッドが形成されていることを特徴とする(1)に記載の配線の断線修復方法。
(12)基板の上で、内部から周辺に延在し、且つ途中に切断部分の存在する本配線と、前記基板の周辺に形成され、前記本配線の上又は下に絶縁膜を介して重ねられて形成された予備配線と、前記絶縁膜の孔を通して前記予備配線と前記本配線を溶融状態で接続し、且つ該孔の内面に沿った断面に凹凸を有する接続部とを有することを特徴とする多層配線構造。
(13)前記本配線は、液晶表示パネルのドレインバスライン又はゲートバスラインであることを特徴とする(12)に記載の多層配線構造。
(14)前記予備配線は、表示パネルの表示領域を迂回して該表示領域の周囲に形成されることを特徴とする(12)に記載の多層配線構造。
(15)前記本配線と前記予備配線のいずれかに接続される導電性パッドが前記交差領域に形成されていることを特徴とする(12)に記載の多層配線構造。
(16)前記基板には、液晶表示パネルの液晶を挟んで第2の基板が対向して配置されることを特徴とする(12)に記載の多層配線構造。
【0039】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、本配線と予備配線を互いの交差領域において接続する際に、レーザビーム照射によって本配線と予備配線に孔を設け、その後に、出力強度を変化させたレーザビーム照射によって本配線と予備配線とを融解するといった2段階で本配線と予備配線を接続するようにしたので、本線と予備配線をその交差領域において確実に接続することができ、配線欠陥修復の信頼性を向上することができる。
【0040】
この場合、複数回のレーザビームを照射しているが、それらのレーザビームの強度を変化させて調整しているので、本配線と予備配線の交差部分の破壊を未然に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a) は、表示装置の一般的なバスラインと予備配線との配置関係を示す断面図、図1(b) は、そのバスラインと予備配線との配置関係を示す平面図、図1(c) は、従来の配線の断線修復方法を示す断面図である。
【図2】図2は、従来方法によって接続された本配線と予備配線の接続状態を示すSEM写真である。
【図3】図3(a) は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルにおいて、複数のバスラインと予備配線の配置関係を示す平面図、図3(b) は、複数のバスラインの層構造を示す断面図、図3(c) は、バスラインと予備配線の層構造を示す断面図である。
【図4】図4(a) は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルの分解斜視図、図4(b) は、その表示パネル内に形成される1画素領域の構造を示す平面図、図4(c) は、その1画素領域の構造を示す断面図である。
【図5】図5(a),(b) は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルに用いるバスラインと予備配線の配置関係を示す平面図(その1)である。
【図6】図6(a),(b) は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルに用いるバスラインと予備配線の配置関係を示す平面図(その2)である。
【図7】図7は、本発明の第1実施形態に用いるレーザ装置の概要図である。
【図8】図8は、本発明の第1実施形態に用いるレーザ装置の出力波長と出力強度の関係を示す図である。
【図9】図9は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線の接続方法を示す断面図(その1)である。
【図10】図10は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線の接続方法を示す断面図(その2)である。
【図11】図11(a),(b) は、本発明の第1実施形態に係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線へのレーザ照射位置をバスラインの縁に合わせた例を示す断面図である。
【図12】図12(a),(b) は、本発明の第2実施形態に係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線の配置関係を示す断面図及び平面図(その1)である。
【図13】図13(a),(b) は、本発明の第2実施形態に係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線の配置関係を示す断面図及び平面図(その2)である。
【図14】図14(a),(b) は、本発明の第2実施形態に係る表示パネル内のバスラインと予備配線の接続方法を示す断面図である。
【図15】図15は、本発明による本配線と予備配線の接続部分の一例を示すSEM写真である。
【符号の説明】
10…下地絶縁膜、11…第1の透明基板、12…ゲートバスライン、13…ドレインバスライン、13b,13f…パッド、13x…孔、14,15…層間絶縁膜、16…予備配線、16a,16b…パッド、16x…孔、17…薄膜トランジスタ、18…画素電極、19…層間絶縁膜、20…保護絶縁膜、20a…孔、21…第2の透明基板、22…共通電極、23…カラーフィルタ、24…液晶、30…走査ドライバ、31…信号ドライバ、41…ステージ、42…レーザ、43…制御回路、44,45…位置合わせ用孔。
Claims (5)
- 断線の生じている本配線と前記本配線に層間絶縁膜を介して形成される予備配線とを互いの交差領域で接続する工程を有する配線の断線修復方法において、
前記本配線と前記予備配線の前記交差領域に向けてレーザから第1の出力強度のレーザビームを照射することにより孔を開口する工程と、
前記第1の出力強度よりも高い第2の出力強度のレーザビームを前記孔に向けて照射して前記予備配線と前記本配線の一部を融解して前記予備配線と前記本配線を接続する工程とを有することを特徴とする配線の断線修復方法。 - 前記レーザは、出力波長の変更によって前記レーザビームの出力強度を調整できる特性を有していることを特徴とする請求項1に記載の配線の断線修復方法。
- 前記レーザビームは、前記第1の出力強度と前記第2の出力強度の間の第3の出力強度で前記孔に向けてさらに照射されることを特徴とする請求項1に記載の配線の断線修復方法。
- 前記予備配線を保護絶縁膜で覆い、該保護絶縁膜のうち前記交差領域の一部に位置合わせ用孔を形成し、該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射されることを特徴とする請求項1に記載の配線の断線修復方法。
- 前記交差領域における前記本配線と前記予備配線のうち少なくとも一方に位置合わせ用孔を形成し、該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射されることを特徴とする請求項1に記載の配線の断線修復方法。
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