JP4413689B2 - 電源起動シーケンスを有する半導体集積回路装置 - Google Patents
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Description
前記第1の領域を前記正の内部電源に駆動する第1の内部電源発生回路と、
電源起動時において、前記第1の内部電源発生回路を起動して前記第2の領域を所定の電位にクランプしながら前記第1の領域を前記正の内部電源電位より高いオーバードライブ電位に駆動し、その後、前記第2の領域のクランプ状態を解除して前記第1の領域をオーバードライブ電位から前記正の内部電源電位に向かって降圧して、前記容量のカップリングにより前記第2の領域を負の電位に降圧する電源シーケンサとを有することを特徴とする半導体集積回路装置。
更に、前記第2の領域を負の内部電源に駆動する第2の内部電源発生回路を有し、
当該第2の内部電源発生回路は、ポンピングキャパタを有するポンピング回路と、当該ポンピング回路に駆動パルスを供給する発振回路とを有することを特徴とする半導体集積回路装置。
更に、複数のメモリセルを有するメモリコアを有し、前記第1の領域は前記メモリセルのセルプレート領域、前記第2の領域は前記メモリセルのセルトランジスタのバックゲート領域、前記正の内部電源は前記セルプレート領域に印加されるセルプレート電源、前記負の内部電源が前記バックゲート領域に印加されるバックゲートバイアス電源であることを特徴とする半導体集積回路装置。
更に、複数のメモリセルと、複数のワード線と、複数のビット線とを有するメモリコアを有し、
前記第1の領域は前記メモリセルのセルプレート領域またはビット線領域のいずれか一方または両方、前記第2の領域は前記メモリセルのセルトランジスタのバックゲート領域またはワード線領域のいずれか一方または両方、前記正の内部電源が前記セルプレート領域に印加されるセルプレート電源または前記ビット線領域に印加されるビット線プリチャージ電源のいずれか一方または両方、前記負の内部電源が前記バックゲート領域に印加されるバックゲートバイアス電源または前記ワード線に印加されるワード線リセット電源のいずれか一方または両方であることを特徴とする半導体集積回路装置。
前記メモリセルはセルキャパシタを有し、当該セルキャパシタが、前記セルプレート領域内に形成されたトレンチキャパシタにより構成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
前記メモリセルは、半導体基板内に形成された前記セルプレート領域と、前記セルプレート領域内に形成された前記バックゲート領域と、前記バックゲート領域内に形成されたソース領域及びドレイン領域とを有することを特徴とする半導体集積回路装置。
更に、グランド電源と、外部電源とを有し、
前記正の内部電源は、前記グランド電源と外部電源との間の電位であることを特徴とする半導体集積回路装置。
前記第1の内部電源発生回路は、前記外部電源を利用して、前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動する正電源起動回路と、前記正の内部電源を所定の正の内部電源電位に維持する正電源発生回路とを有し、
前記電源シーケンサは、前記正電源起動回路により前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動し、前記正電源発生回路により前記正の内部電源を降圧することを特徴とする半導体集積回路装置。
前記セルプレート領域を前記正の内部電源に駆動する第1の内部電源発生回路と、
前記バックゲート領域を前記負の内部電源に駆動する第2の内部電源発生回路と、
電源起動時において、前記第1の内部電源発生回路を起動して前記バックゲート領域を所定の電位にクランプしながら前記セルプレート領域を前記正の内部電源電位より高いオーバードライブ電位に駆動し、その後、前記バックゲート領域のクランプ状態を解除し、第1の内部電源発生回路により前記セルプレート領域をオーバードライブ電位から前記正の内部電源電位に向かって降圧して、前記容量のカップリングにより前記バックゲート領域を負の電位に降圧する電源シーケンサとを有することを特徴とする半導体メモリ装置。
前記第1の内部電源発生回路は、前記外部電源を利用して、前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動する正電源起動回路と、前記正の内部電源を所定の正の内部電源電位に維持する正電源発生回路とを有し、
前記電源シーケンサは、前記正電源起動回路により前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動し、前記正電源発生回路により前記正の内部電源を降圧することを特徴とする半導体メモリ装置。
更に、グランド電源と、外部電源とを有し、
前記正の内部電源は、前記グランド電源と外部電源との間の電位であることを特徴とする半導体メモリ装置。
前記メモリセルは、半導体基板内に形成された前記セルプレート領域と、前記セルプレート領域内に形成された前記バックゲート領域と、前記バックゲート領域内に形成されたセルトランジスタのソース領域及びドレイン領域とを有することを特徴とする半導体メモリ装置。
VBLEQ:ビット線プリチャージ電源(正の内部電源)
VSS:グランド電源
VBB:バックゲートバイアス電源(負の内部電源)
VNN:ワード線リセット電源(負の内部電源)
22,25:第1の内部電源発生回路(VPL起動回路、VPL電源発生回路)
29:第2の内部電源発生回路(VBB電源発生回路)
Claims (9)
- 容量を介して設けられる第1の領域と第2の領域を、正の内部電源と負の内部電源にそれぞれ駆動する半導体集積回路装置において、
前記第1の領域を前記正の内部電源に駆動する第1の内部電源発生回路と、
電源起動時において、前記第1の内部電源発生回路を起動して前記第2の領域を所定の電位にクランプしながら前記第1の領域を前記正の内部電源電位より高いオーバードライブ電位に駆動し、その後、前記第2の領域のクランプ状態を解除して前記第1の領域をオーバードライブ電位から前記正の内部電源電位に向かって降圧して、前記容量のカップリングにより前記第2の領域を負の電位に降圧する電源シーケンサとを有し、
更に、複数のメモリセルを有するメモリコアを有し、
前記第1の領域は前記メモリセルのセルプレート領域、前記第2の領域は前記メモリセルのセルトランジスタのバックゲート領域、前記正の内部電源は前記セルプレート領域に印加されるセルプレート電源、前記負の内部電源が前記バックゲート領域に印加されるバックゲートバイアス電源であることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項1において、
更に、前記電源起動後において、前記バックゲート領域を負の内部電源に駆動する第2の内部電源発生回路を有し、
当該第2の内部電源発生回路は、ポンピングキャパタを有するポンピング回路と、当該ポンピング回路に駆動パルスを供給する発振回路とを有し、前記負の内部電源が規定の負電位より高い場合に前記発振回路が発振動作をして前記ポンピング回路により前記負の内部電源を低下させることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項2において、
前記第2の内部電源発生回路は、さらに、前記負の内部電源が前記規定の負電位より低い場合に当該負の内部電源の電位を押し上げるブリーダ回路を有することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項1において、
前記メモリセルは、半導体基板内に形成された前記セルプレート領域と、前記セルプレート領域内に形成された前記バックゲート領域と、前記バックゲート領域内に形成されたソース領域及びドレイン領域とを有することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項1において、
前記第1の内部電源発生回路は、前記外部電源を利用して、前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動する正電源起動回路と、前記正の内部電源を所定の正の内部電源電位に維持する正電源発生回路とを有し、
前記電源シーケンサは、前記正電源起動回路により前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動し、前記正電源発生回路により前記正の内部電源を降圧することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 複数のメモリセルを有し、容量を介して設けられるセルプレート領域とセルトランジスタのバックゲート領域が、正の内部電源と負の内部電源にそれぞれ駆動される半導体メモリ装置において、
前記セルプレート領域を前記正の内部電源に駆動する第1の内部電源発生回路と、
前記バックゲート領域を前記負の内部電源に駆動する第2の内部電源発生回路と、
電源起動時において、前記第1の内部電源発生回路を起動して前記バックゲート領域を所定の電位にクランプしながら前記セルプレート領域を前記正の内部電源電位より高いオーバードライブ電位に駆動し、その後、前記バックゲート領域のクランプ状態を解除し、第1の内部電源発生回路により前記セルプレート領域をオーバードライブ電位から前記正の内部電源電位に向かって降圧して、前記容量のカップリングにより前記バックゲート領域を負の電位に降圧する電源シーケンサとを有することを特徴とする半導体メモリ装置。 - 請求項6において、
前記第1の内部電源発生回路は、前記外部電源を利用して、前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動する正電源起動回路と、前記正の内部電源を所定の正の内部電源電位に維持する正電源発生回路とを有し、
前記電源シーケンサは、前記正電源起動回路により前記正の内部電源を前記オーバードライブ電位に起動し、前記正電源発生回路により前記正の内部電源を降圧することを特徴とする半導体メモリ装置。 - 請求項7において、
更に、グランド電源と、外部電源とを有し、
前記正の内部電源は、前記グランド電源と外部電源との間の電位であることを特徴とする半導体メモリ装置。 - 請求項7において、
前記メモリセルは、半導体基板内に形成された前記セルプレート領域と、前記セルプレート領域内に形成された前記バックゲート領域と、前記バックゲート領域内に形成されたセルトランジスタのソース領域及びドレイン領域とを有することを特徴とする半導体メモリ装置。
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