JP4380326B2 - 有機el用蒸着マスク - Google Patents
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Description
低分子系有機EL素子の場合、低分子系有機EL素子を構成する陽極と陰極は無機薄膜であるが、有機EL層はすべて有機薄膜で形成されている。
また、陰極の材料は、水や酸素に対し弱い金属材料であるために、フォトリソグラフィ法などの方法で陰極をパターニングすることは難しく、一般には蒸着法によってパターン状に膜の形成をおこなっている。
図1、及び図2に示すように、有機EL層などの形成に用いられる蒸着マスク(10)は、例えば、インバー材など金属製の本枠(11)の上面に、インバーなど金属製のメタルマスク(12)がテンションをかけて貼り付けされたものである。
図3、及び図4に示すように、蒸着マスク(10)の製造に用いられる紗貼り枠(21)
は、例えば、アルミニウムなどの金属製の枠である。この紗貼り枠(21)の上面に紗(22)が貼り付けるられる。
紗貼り枠(21)の大きさは、例えば、前記横(a)50cm、縦(b)50cm程度の大きさの蒸着マスク(10)を製造する際の紗貼り枠(21)としては、横(e)80cm、縦(f)80cm程度で、紗貼り枠(21)のB−B’線での断面は、高さ(g)30mm、巾(h)40mm程度のものである。
まづ、図5(a)に示すように、紗貼り枠(21)の上面の全面に紗(22)を配し、矢印で示すように、紗(22)にテンションをかけ、紗貼り枠(21)の上面の(i)で示す部分に接着剤を用いて紗(22)を接着し貼り付ける。
次に、図5(b)に示すように、紗(22)の余分な部分を切断して取り除く。矢印は、紗(22)におけるテンションを表している。
また、この余白部(14)の巾は、40mm〜50mm程度のものである。
これにより、矢印で示すように、メタルマスク原反(16)にもテンションがかかることになり、メタルマスク原反(16)は引っ張られた状態で、紗(22)を介し紗貼り枠(21)に貼り付けたものとなる。
すなわち、メタルマスク(12)上のパターン部(13)には、紗貼り枠(21)の2次元的、或いは3次元的は歪み、紗(22)へのテンションのかけ方の不均一性、紗(22)にテンションがかかった際の不均一な応力の分布、図5(d)に示す紗(22)の中央部を取り除いた際に、メタルマスク原反(16)にかかるテンションの不均一性、接着剤の剛性などに起因して位置の変動が起こっているからである。
ク原反(16)を下方から照明(L)するようになっている。
また、保持ベース(73)の上方には、メタルマスク(12)に形成された位置合わせマーク(17)、及びガラス描画板の位置合わせマーク(87)の位置をモニターするCCDカメラ(C)が設けられている。
また、ガラス描画板(80)は、精密な位置合わせの基準となるものであり、透明なガラス製の基板に基準となる位置合わせマーク(87)が設けられている。
次に、図9に示すように、メタルマスク原反(16)の周囲の(m)で示す紗(22)の部分を切断し、また、メタルマスク原反(16)の余白部(14)を切断して取り除き、メタルマスク(12)を蒸着マスクの本枠(11)に転写して蒸着マスクを得る。
図10、及び図11に示すように、本枠(11)の上面には紗片(22a)を伴ったメタルマスク原反(16)が接着部分(n)にて貼り付けられている。
余白部(14)の切断は、一点鎖線で示す、メタルマスク(12)と余白部(14)の境界線(15)で切断される。境界線(15)の位置は接着部分(n)より外側にあり、切断によって境界線(15)がメタルマスク(12)の外周となる。
。
図12に示すように、メタルマスク原反(26)は、メタルマスク(12)、易破断線(25)、及び余白部(14)で構成されている。二点鎖線で示す易破断線(25)は、メタルマスク(12)と余白部(14)の間の境界の位置にあり、この部分が破断され余白部(14)が除去される。本枠(11)とメタルマスク(12)との接着部(n)は易破断線(25)の内側にある。
図、図13(c)は(a)におけるB−B’線での断面図である。
図13(a)、(b)、(c)に示すように、易破断線(25)は、金属薄板の表裏がエッチングされて貫通した貫通線(27)とハーフエッチングされた保持部(29)とが交互に連なった線状のものである。
この破断は、例えば、易破断線(25)の位置で余白部(14)を折り曲げるといった折り曲げ応力、或いは、余白部(14)を斜め上方へ引っ張るといった引っ張り応力によって保持部を破断する。
メタルマスク原反(26)は実線で示されており、破線はメタルマスク原反(26)が貼り付けられている紗(22)の中央部端(22b),及びメタルマスク(12)が貼り付けられている本枠(11)を示している。メタルマスク(12)と本枠(11)との接着部(n)は易破断線(25)の内側にある。
11・・・蒸着マスクの本枠
12・・・メタルマスク
13・・・メタルマスクのパターン部
14・・・メタルマスクの余白部
16・・・メタルマスク原反
17・・・メタルマスクの位置合わせマーク
21・・・紗貼り枠
22・・・紗
25・・・本発明における易破断線
26・・・本発明におけるメタルマスク原反
27・・・貫通線
29・・・保持部
71・・・転写装置のステージ
72・・・ガイドレール
73・・・保持ベース
74・・・押し機構
75・・・引き機構
76・・・位置合わせする微調整機構
80・・・ガラス描画板
87・・・ガラス描画板の位置合わせマーク
C・・・CCDカメラ
L・・・照明
a・・・本枠の横
b・・・本枠の縦
c・・・本枠の高さ
d・・・本枠の巾
e・・・紗貼り枠の横
f・・・紗貼り枠の縦
g・・・紗貼り枠の高さ
h・・・紗貼り枠の巾
Claims (1)
- 金属製の本枠と、本枠の上面に貼り付けられたメタルマスクからなる有機EL用蒸着マスクにおいて、メタルマスクは、一旦メタルマスク原反の周縁の余白部にて紗貼り枠に紗を介して貼り付けられたメタルマスク原反から、該余白部が切断除去され本枠へ転写されたメタルマスクであり、メタルマスク原反として、メタルマスクと余白部の間に貫通部と保持部とで構成される易破断線を設けたメタルマスク原反を用いたことを特徴とする有機EL用蒸着マスク。
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