JP4264083B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4264083B2 JP4264083B2 JP2005375313A JP2005375313A JP4264083B2 JP 4264083 B2 JP4264083 B2 JP 4264083B2 JP 2005375313 A JP2005375313 A JP 2005375313A JP 2005375313 A JP2005375313 A JP 2005375313A JP 4264083 B2 JP4264083 B2 JP 4264083B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens element
- deformable lens
- force
- magnetic
- bending moment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
- G03F7/70266—Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
パターン形成された放射線ビームが基板に到達する前に通過するように構成された変形可能レンズ要素と、
変形可能レンズ要素の形状を制御するように構成された変形可能レンズ用作動器であって、投影システムの光軸と実質的に平行な力と、光軸に実質的に垂直な軸の周囲の局所化されたトルクとの組み合わせを変形可能レンズ要素上の複数の下位領域で独立に伝達するように構成された変形可能レンズ用作動器と、を含むリソグラフィ装置が提供される。
パターン形成された放射線ビームが基板に到達する前に通過するように構成された変形可能レンズ要素と
交番するN極とS極の経路を形成するように、変形可能レンズ要素に接続され、且つ、同要素に関して実質的に接線方向に配向された複数の磁気双極子と、
変形可能なレンズ要素の一部に接線方向曲げモーメント、半径方向曲げモーメント、投影システムの光軸に実質的に平行な成分を持つ力、又は、それらのいずれかの組み合わせの1つ又は複数を印加し、且つ、それにより、変形可能レンズ要素の形状を変更するように、複数の磁気双極子の1つ又は複数の磁気双極子と相互作用するように構成された複数の磁気作動器と、を含むリソグラフィ装置が提供される。
パターン形成された放射線ビームを変形可能レンズ要素を介して基板の目標部分上に投影する工程と、を含むデバイス製造方法が提供される。
パターン形成された放射線ビームを変形可能レンズ要素を介して基板の目標部分上に投影する工程と、を含むデバイス製造方法が提供される。
(例えば、UV放射線又はEUV/DUV放射線などの)放射線ビームBを条件調整するように構成された照明システム(照明器)ILと、
(例えば、マスクなどの)パターン形成デバイスMAを支持するように構築され、且つ、特定のパラメータに従ってパターン形成デバイスを正確に位置決めするように構成された第1の位置決め器PMに接続された(例えば、マスク・テーブルなどの)支持構造体MTと、
(例えば、レジストが塗布されたウェハなどの)基板Wを保持するように構築され、且つ、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め器PWに接続された(例えば、ウェハ・テーブルなどの)基板テーブルWTと、
パターン形成デバイスMAにより放射線ビームBに与えられたパターンを基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイなどを含む)目標部分C上に投影するように構成された(例えば、屈折性投影レンズ・システムなどの)投影システムPLと、を含む。
1.ステップ・モードにおいて、支持構造体MT及び基板テーブルWTが基本的に静止に保たれる一方、放射線ビームに与えられたパターン全体が1度に目標部分C上に投影される(すなわち、単一の静止露光)。続いて、基板テーブルWTは、異なった目標部分Cを露光できるように、X及び/又はYの方向にずらされる。ステップ・モードにおいて、露光領域の最大サイズは単一の静止露光で画像形成される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいて、支持構造体MT及び基板テーブルWTが同期して走査される一方、放射線ビームに与えられたパターンが目標部分C上に投影される(すなわち、単一の動的露光)。支持構造体MTを基準とした基板テーブルWTの速度及び方向は投影システムPLの拡大(縮小)及び画像反転の特性により決定することができる。スキャン・モードにおいて、露光領域の最大サイズは単一の動的露光において目標部分の(非走査方向における)幅を制限するのに対し、走査の動きの長さは目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードにおいて、支持構造体MTは基本的に静止に保たれ、プログラム可能なパターン形成デバイスを保持し、基板テーブルWTは、放射線ビームに与えられたパターンが目標部分C上に投影される間、移動又は走査される。このモードにおいて、一般に、パルス化された放射線源が採用され、プログラム可能なパターン形成デバイスは基板テーブルWTの各移動の後、又は、走査中の連続した放射線パルス間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記に言及したようなタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成デバイスを利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
2、3 垂直力
4、85 支持フレーム
6、18、20、30 面外力
I1、I2 電流
14、15、53、55、91、93、95、97バネ
16 延長部材
19 半径内部位置
21 半径外部位置
22、24、26 力
28 曲げモーメント
32 バネ留め具部材
34 作動力
40 電磁石電流制御装置
42、62 磁石作動器
44 支持ロッド
48、50 電磁挟合部
54、56 電磁石
52、54、56、58 蛇腹
52a、54a、56a、58a パイプ
75 作動器コア
80 画像歪センサ
92、94、96、98 圧電作動器
100 制御装置
110 画像歪分析器
A 軸
AD 調整器
B 放射線ビーム
BD ビーム送達システム
C 目標部分
CO 集光器
IF 位置センサ
IL 照明システム
IN 積分器
M1、M2 パターン形成デバイス位置合わせマーク
MA パターン形成デバイス
MT 支持構造体
P1、P2 基板位置合わせマーク
PL 投影システム
PM 第1の位置決め器
PW 第2の位置決め器
SO 放射線源
W 基板
WT 基板テーブル
Z 軸
Claims (11)
- リソグラフィ装置であって、
パターン形成された放射線ビームを基板の目標部分上に投影するように構成された投影システムと、
前記パターン形成された放射線ビームが前記基板に到達する前に通過するように構成された変形可能レンズ要素と、
前記変形可能レンズ要素に接続され、且つ、交番するN極とS極の経路を形成するように前記変形可能レンズ要素に関して実質的に接線方向に向けられた複数の磁気双極子と、
接線方向曲げモーメント、半径方向曲げモーメント、前記投影システムの光軸に実質的に平行な成分を持つ力、又は、それらのいずれかの組み合わせの1つ又は複数を、前記変形可能レンズ要素の一部に印加し、それにより、前記変形可能レンズ要素の形状を変更するように、前記複数の磁気双極子の1つ又は複数の磁気双極子と相互作用するように構成された複数の磁気作動器と、を含み、
前記複数の磁気作動器の各々は、1対の電磁石と、各々に供給される電流を制御することにより前記1対の電磁石により発生される場の向き及び大きさを独立に制御するように構成された電磁石電流制御装置と、を含み、各場は前記投影システムの前記光軸に実質的に平行に向けられ、且つ、前記N極及びS極の1つを通過するように支配的に構成されており、前記1対の電磁石の第1の電磁石からの場は前記N極及びS極の経路の半径方向内部部分を通過するように構成され、且つ、前記1対の電磁石の第2の電磁石からの場は前記N極及びS極の経路の半径方向外部部分を通過するように構成されている、装置。 - 前記変形可能レンズ要素の形状を制御するように、各電磁石電流制御装置の出力を制御するように構成された電磁石システム制御装置をさらに含む請求項1に記載の装置。
- 前記投影システムにより実質的に基板の高さにおける領域上に投影された画像の歪を測定するように構成された画像歪センサをさらに含み、前記電磁石システム制御装置は、前記画像歪センサにより検出されたいかなる画像歪も補償するように、較正表を参照して各電磁石電流制御装置の出力を制御するように構成されている請求項2に記載の装置。
- 前記変形可能レンズ要素は実質的に回転対称である請求項1に記載の装置。
- 前記磁気作動器の各々は(a)半径方向の曲げモーメント、又は、(b)前記投影システムの前記光軸に実質的に平行な成分を持つ力、又は、(c)(a)及び(b)の双方と一緒に、接線方向の曲げモーメントをかけるように構成されている請求項1に記載の装置。
- 前記磁気作動器は、以下のZernike形状、Z5、Z6、Z10、Z11、Z17、Z18、Z26、Z27の1つ又は複数に対応する歪成分を実質的に補償するように構成されている請求項5に記載の装置。
- 前記磁気作動器は、接線方向曲げモーメントと、前記投影システムの前記光軸に実質的に平行な成分を持つ力との組み合わせを印加するように構成されている請求項6に記載の装置。
- 前記磁気作動器は、以下のZernike形状、Z7、Z8、Z12、Z13、Z19、Z20、Z28、Z29の1つ又は複数に対応する歪成分を実質的に補償するように構成されている請求項5に記載の装置。
- 前記磁気作動器の各々は、接線方向曲げモーメントと半径方向曲げモーメントの組み合わせを印加するように構成されている請求項8に記載の装置。
- 前記複数の磁気作動器は、接線方向曲げモーメントのみ、半径方向曲げモーメントのみ、又は、前記投影システムの前記光軸に実質的に平行な成分を持つ力のみを印加するように構成されている請求項1に記載の装置。
- 請求項1に記載の装置を用いたデバイス製造方法であって、
変形可能なレンズ要素の一部に接線方向曲げモーメント、半径方向曲げモーメント、変形可能レンズ要素の光軸に実質的に平行な成分を持つ力、又は、それらのいずれかの組み合わせを印加するように、複数の磁気双極子の1つ又は複数の磁気双極子と相互作用する複数の磁気作動器を使用することにより前記変形可能レンズ要素の形状を変更する工程と、
パターン形成された放射線ビームを前記変形可能レンズ要素を介して基板の目標部分上に投影する工程と、を含む方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/022,936 US7436484B2 (en) | 2004-12-28 | 2004-12-28 | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006191062A JP2006191062A (ja) | 2006-07-20 |
JP4264083B2 true JP4264083B2 (ja) | 2009-05-13 |
Family
ID=36128569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005375313A Expired - Fee Related JP4264083B2 (ja) | 2004-12-28 | 2005-12-27 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7436484B2 (ja) |
EP (1) | EP1677154B1 (ja) |
JP (1) | JP4264083B2 (ja) |
KR (2) | KR20060076750A (ja) |
CN (1) | CN1797206B (ja) |
DE (1) | DE602005010658D1 (ja) |
SG (1) | SG123749A1 (ja) |
TW (1) | TWI304160B (ja) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7756660B2 (en) * | 2004-12-28 | 2010-07-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI454731B (zh) | 2005-05-27 | 2014-10-01 | Zeiss Carl Smt Gmbh | 用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡 |
EP2035897B1 (en) * | 2006-07-03 | 2015-10-28 | Carl Zeiss SMT GmbH | Method for revising or repairing a lithographic projection objective |
US7675607B2 (en) * | 2006-07-14 | 2010-03-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102006034755A1 (de) * | 2006-07-24 | 2008-01-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Vorrichtung sowie Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung |
NO326372B1 (no) * | 2006-09-21 | 2008-11-17 | Polight As | Polymerlinse |
DE102006047666A1 (de) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektives |
JP5244806B2 (ja) | 2006-10-11 | 2013-07-24 | ポライト エイエス | 小型調整可能レンズの設計 |
US8883019B2 (en) * | 2006-10-11 | 2014-11-11 | Polight As | Method for manufacturing adjustable lens |
EP2097789B1 (en) * | 2006-12-01 | 2012-08-01 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical system with an exchangeable, manipulable correction arrangement for reducing image aberrations |
JP5362587B2 (ja) * | 2007-02-12 | 2013-12-11 | ポライト エイエス | 焦点距離が可変の可撓性レンズ組立体 |
DE102007009867A1 (de) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildungsvorrichtung mit auswechselbaren Blenden sowie Verfahren hierzu |
DE102008041287A1 (de) * | 2007-08-24 | 2009-02-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Kraftaktuator |
NL1036701A1 (nl) * | 2008-04-15 | 2009-10-19 | Asml Holding Nv | Apparatus for supporting an optical element, and method of making same. |
JP2010021535A (ja) * | 2008-06-11 | 2010-01-28 | Canon Inc | 変形機構、露光装置およびデバイス製造方法 |
US8310772B2 (en) * | 2008-07-11 | 2012-11-13 | Polight As | Method and arrangement for reducing thermal effects in compact adjustable optical lenses |
JP5511199B2 (ja) * | 2009-02-25 | 2014-06-04 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US20120089347A1 (en) * | 2010-10-12 | 2012-04-12 | Kellogg Brown & Root Llc | Displacement Generator for Fatigue Analysis of Floating Prduction and Storage Unit Process and Utility Piping |
EP2492928A3 (en) * | 2011-02-22 | 2017-08-30 | ASML Netherlands BV | Electromagnetic actuator, stage apparatus and lithographic apparatus |
JP5922838B2 (ja) * | 2012-04-11 | 2016-05-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置用の回転フレームおよび投影システム |
CN103837979B (zh) * | 2012-11-22 | 2016-03-30 | 上海丽恒光微电子科技有限公司 | 基于mems的焦距调整装置及其制备方法 |
WO2015173363A1 (de) * | 2014-05-14 | 2015-11-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit feldnahem manipulator |
CN104076616B (zh) * | 2014-07-01 | 2016-03-02 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种三叶像差变形镜装置 |
CN104076618B (zh) * | 2014-07-01 | 2016-03-02 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种四叶像差变形镜装置 |
CN104076617B (zh) * | 2014-07-01 | 2016-04-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种像散变形镜装置 |
DE102014114477B3 (de) * | 2014-10-06 | 2016-02-25 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Digitales Mikroskop mit einem Radialkolbenbremssystem |
DE102014114479B3 (de) * | 2014-10-06 | 2016-02-25 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Digitales mikroskop mit klickstopp |
DE102014114478B3 (de) * | 2014-10-06 | 2016-02-25 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Digitales Mikroskop mit federgelagerter schwenkbarer Einheit |
CN105259651B (zh) * | 2015-10-30 | 2017-12-26 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种能够产生多种像差的变形镜装置 |
KR20180068228A (ko) | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 삼성전자주식회사 | 위치 조정 유닛 및 이를 포함하는 마스크리스 노광 장치 |
CN107357263A (zh) * | 2017-06-20 | 2017-11-17 | 深圳市国匠数控科技有限公司 | 一种电子雕刻机控制系统及方法 |
DE102018207454A1 (de) * | 2018-05-15 | 2019-05-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Aktuatoranordnung, Projektionsbelichtungsanlage und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterlithographie |
CN114442302A (zh) * | 2020-11-03 | 2022-05-06 | 上海奕太智能科技有限公司 | 基于可变形透镜的水下显微镜及控制方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993025929A1 (en) * | 1992-06-08 | 1993-12-23 | United Technologies Corporation | Coaxial integrated deformable mirror actuator/retraction arrangement |
US6721104B2 (en) * | 1995-05-12 | 2004-04-13 | Pc Lens Corp | System and method for focusing an elastically deformable lens |
US5774274A (en) * | 1995-05-12 | 1998-06-30 | Schachar; Ronald A. | Variable focus lens by small changes of the equatorial lens diameter |
US7112772B2 (en) * | 1998-05-29 | 2006-09-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective with adaptive mirror and projection exposure method |
DE19827602A1 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-23 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler |
DE19827603A1 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-23 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie |
DE19859634A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie |
US6847433B2 (en) * | 2001-06-01 | 2005-01-25 | Agere Systems, Inc. | Holder, system, and process for improving overlay in lithography |
DE10151919B4 (de) * | 2001-10-20 | 2007-02-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Belichtungsobjektiv in der Halbleiterlithographie |
US6902281B2 (en) * | 2002-01-23 | 2005-06-07 | Bennett Optical Research, Inc. | Adaptive optic mirror |
DE10222331A1 (de) | 2002-05-18 | 2003-11-27 | Zeiss Carl Smt Ag | Verfahren zur gezielten Deformation eines optischen Elements |
US20030234918A1 (en) * | 2002-06-20 | 2003-12-25 | Nikon Corporation | Adjustable soft mounts in kinematic lens mounting system |
US6897940B2 (en) * | 2002-06-21 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography |
AU2002346911A1 (en) | 2002-10-15 | 2004-05-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical arrangement and method of specifying and performing a deformation of an optical surface of an optical element being part of the optical arrangement |
US7528931B2 (en) * | 2004-12-20 | 2009-05-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2004
- 2004-12-28 US US11/022,936 patent/US7436484B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-15 EP EP05257742A patent/EP1677154B1/en not_active Not-in-force
- 2005-12-15 DE DE602005010658T patent/DE602005010658D1/de active Active
- 2005-12-16 TW TW094144930A patent/TWI304160B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-12-22 SG SG200508312A patent/SG123749A1/en unknown
- 2005-12-23 CN CN200510003546.3A patent/CN1797206B/zh active Active
- 2005-12-27 JP JP2005375313A patent/JP4264083B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-28 KR KR1020050132187A patent/KR20060076750A/ko not_active Application Discontinuation
-
2008
- 2008-04-04 KR KR1020080031517A patent/KR20080046143A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-04-24 US US12/081,975 patent/US7999914B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200632581A (en) | 2006-09-16 |
CN1797206A (zh) | 2006-07-05 |
EP1677154A3 (en) | 2006-12-27 |
KR20060076750A (ko) | 2006-07-04 |
KR20080046143A (ko) | 2008-05-26 |
US7999914B2 (en) | 2011-08-16 |
JP2006191062A (ja) | 2006-07-20 |
US7436484B2 (en) | 2008-10-14 |
EP1677154A2 (en) | 2006-07-05 |
CN1797206B (zh) | 2010-09-29 |
TWI304160B (en) | 2008-12-11 |
US20060139585A1 (en) | 2006-06-29 |
EP1677154B1 (en) | 2008-10-29 |
DE602005010658D1 (de) | 2008-12-11 |
SG123749A1 (en) | 2006-07-26 |
US20080218722A1 (en) | 2008-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4264083B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US7125128B2 (en) | Adaptive-optics actuator arrays and methods for using such arrays | |
JP3822072B2 (ja) | リソグラフィ投影装置およびデバイス製造方法 | |
US8553207B2 (en) | Optically compensated unidirectional reticle bender | |
US7292317B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating | |
JP4791421B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4644652B2 (ja) | 光学素子アセンブリ、渦電流式ダンパー及びリソグラフィシステム | |
JP4851422B2 (ja) | リソグラフィ装置及び露光方法 | |
JP4417310B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5883515B2 (ja) | 対象物を保持するための支持構造を備えるリソグラフィ装置及びそれに用いられる支持構造 | |
KR101670314B1 (ko) | 패터닝 디바이스 조작 시스템 및 리소그래피 장치 | |
JP2004343075A (ja) | 投影システム及びその使用方法 | |
JP5600138B2 (ja) | 位置決めデバイス、位置決め方法及びデバイス製造方法 | |
JP3708075B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2007043168A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US7382438B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
TWI636346B (zh) | 置物台系統、微影裝置及器件製造方法 | |
JP6856758B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
WO2016134862A1 (en) | Lithographic apparatus, manipulator system and method of controlling curvature of a focal plane | |
JP2012033920A (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080610 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080903 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090129 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090213 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4264083 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |