JP4217218B2 - 抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法 - Google Patents
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Description
また、図1Bに示すように、探針10のV字形のチップの端部の傾斜面にソース領域11およびドレイン領域13が形成されており、その間の中央にチャンネル領域12が配置されている。
また、従来の技術では、このような数十nmサイズの半径を有するチップを備える探針は、酸化工程のような諸般工程を経て、カンチレバーに対して垂直に形成される。しかしながら、数十nmの高さのチップが形成された状態では、フォトグラフィ工程の精度が大きく劣るので、ショートチャンネルのソース領域およびドレイン領域を形成することは難しかった。また、拡散工程を用いてショートチャンネルを具現しても、フォトリソグラフィ工程での整列誤差によってショートチャンネルをチップの中心の端部に整列させることは難しいという問題点がある。
図2Aに示すように、P型不純物がドーピングされたV字型のチップ10は、その傾斜面にn型不純物がドーピングされたソース領域11とドレイン領域13とを備え、記録媒体15の表面を移動して表面電荷17の極性によってチャンネル領域12に流れる電流値を検出して表面電荷17の極性および強度を検出する。
図2Bに示すように、探針のチップ10が記録媒体15内の正の表面電荷17の上方に位置する場合、表面電荷17の電界によって、p型不純物がドーピングされたチャンネル領域12の正孔がチップの端部で急激に減少する。
すなわち、従来のMOSFETチップは、表面電荷による電界がソース領域およびドレイン領域まで小数キャリアのチャンネルを形成させる閾電界値以上を有する場合にのみトランジスタとして動作するので、しきい電界値より小さな電界を発生させる表面電荷は検出できないので、駆動範囲が制限的であり、感度が劣ってしまう。
図3に示すように、半導体探針のチップ50は、第1不純物がドーピングされたチップ50の本体部58と、チップ50の尖頭部に位置し、第2不純物が低濃度でドーピングされて形成された抵抗領域56と、抵抗領域56を挟んでチップ50の傾斜面に位置し、前記第2不純物が高濃度でドーピングされた第1半導体電極領域52および第2半導体電極領域54とから構成される。ここで、第1不純物がp型不純物である場合、第2不純物はn型不純物であり、第1不純物がn型不純物である場合、第2不純物はp型不純物である。
図2Bに示した従来技術によるFET(Field Effect Transistor)チップ10では、空乏領域14が形成されてチップ10の端部に小数キャリアである電子のチャンネルが形成され、空乏領域14が第1半導体電極領域11および第2半導体電極領域13まで拡張されて電子チャンネルが形成されることで、ソース領域11とドレイン領域13との間に電流が流れ、その電流の強度から表面電荷の極性を検出することができた。
一方、図4に示した抵抗性チップ50では、空乏領域68が第1半導体電極領域52および第2半導体電極領域54まで拡大されなくとも、不導体の空乏領域によって抵抗領域56の面積が減少することによって、抵抗領域56の抵抗値の変化が発生して、表面電荷57の極性および強度を検出することができる。このような半導体探針は、従来のFETチップを用いるものと比べて、表面電荷を感知できるしきい電界値が低くなり、チップ50の感度を向上させることができる。
まず、図5Aに示すように、第1不純物でドーピングされたシリコン基板31またはSOI(Silicon On Insulator)基板の表面にシリコン酸化膜またはシリコン窒化膜などのマスク膜33を形成し、フォトレジスト35をその上面に塗布した後、ストライプ型のフォトマスク38をその上方に配置する。
そして、図5Fに示すように、ストライプ型のフォトレジスト層37aによって覆われていないマスク膜33aをエッチングして四角形のマスク膜33bを形成する。
そして、マスク膜33bを除去した後、基板31を酸素雰囲気で加熱すれば、基板の上面に所定厚さのシリコン酸化膜(図示せず)が形成され、この酸化膜を除去すると、抵抗性領域の端部を尖らせることができる。このような熱酸化工程により、隔離された抵抗性領域36を接触させることができる。
まず、図6Aを参照して、p型不純物が、1015の密度でドーピングされたシリコン基板31のマスク膜33を除く領域をn型不純物でイオン注入すると、基板31の表面から内部に順次に、1021〜1015の不純物がドーピングされたことが分かる。第2不純物で高濃度ドーピングされた第1半導体電極領域32および第2半導体電極領域34は、比抵抗値が非常に低くなり、導電体となる。
そして、マスク膜33bを除去した後、基板31を酸素雰囲気で加熱すれば、チップ形状の表面にシリコン酸化膜が形成されつつ、チップの先端が図6Dに示すように尖る。このとき、互いに隔離された抵抗領域36が接触して抵抗性領域のチップを形成する。
さらに、酸化膜を除去すると、図6Eに示した尖ったチップ30が形成される。
図7を参照して、第1半導体電極領域52および第2半導体電極領域54には、p型不純物が高濃度にドーピングされ、抵抗領域56にp型不純物が低濃度ドーピングされている。そして、チップ50の位置する部分に正の表面電荷57が存在すると、電荷57から発生する電界によってチップ端部の抵抗領域56に空乏領域が形成される。
また、負の表面電荷の上部にチップを位置させた場合、空乏領域は形成されず、抵抗値の変化がほとんどないか、または小さくなって表面電荷の極性を区別できる。ここで、負の電荷を情報‘0’、正の電荷を情報‘1’と定義できる。もちろん、逆に定義することも可能である。
図8を参照して、記録媒体53に情報を記録するために、チップ50の第1半導体電極領域52および第2半導体電極領域54と本体部58とに同じ電圧を印加し、誘電体層59を支持する下部電極55を接地して、チップ50の尖頭部と、記録媒体53の下部電極55との間に電界を形成させる。ここで、第1半導体電極領域52および第2半導体電極領域54にのみ同じ電圧を印加しても、チップ50と下部電極55との間に電界を形成して記録媒体53に情報を記録することができる。
例えば、当業者であれば、本発明の技術的思想に基づいて多様な形態の探針を製造できる。したがって、本発明の範囲は、説明した実施形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された技術的思想によって決定されなければならない。
Claims (7)
- 第1不純物がドーピングされたチップと、前記チップが末端部に形成されたカンチレバーとを備え、前記チップの尖端部には、前記第1不純物と極性が異なる第2不純物が低濃度でドーピングされた抵抗領域が形成され、前記チップの傾斜面には、前記第2不純物が高濃度でドーピングされた第1半導体電極領域および第2半導体電極領域を有する抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法であって、
(a)前記第1不純物をドーピングした基板の上面に、ストライプ型のマスク膜を形成し、前記マスク膜を除く基板の領域に、前記第1不純物とは極性の異なる前記第2不純物を高濃度でドーピングして、前記第1半導体電極領域および前記第2半導体電極領域を形成する段階と、
(b)前記基板をアニーリングして前記第1半導体電極領域と前記第2半導体電極領域との間の距離を狭め、前記第1半導体電極領域および前記第2半導体電極領域の外郭に、前記第2不純物が低濃度でドーピングされた抵抗領域を形成する段階と、
(c)所定形状に前記マスク膜をパターニングして、前記パターニングされたマスク膜を除く前記基板の上面をエッチングして抵抗性チップを形成する第3段階と、
(d)前記基板の下面をエッチングして前記抵抗性チップが末端部に位置するようにカンチレバーを形成する段階と、
を含むことを特徴とする抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。 - 前記(b)段階は、前記第1半導体電極領域および前記第2半導体電極領域から拡散した抵抗領域が互いに接触してチップ形成部を形成すること、
を特徴とする請求項1に記載の抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。 - 前記(c)段階は、前記マスク膜と直交する方向にストライプ状のフォトレジストを配置した後、エッチング工程を行って前記マスク膜を四角形に形成する段階をさらに含むこと、
を特徴とする請求項1に記載の抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。 - 前記(c)段階は、前記パターニングされたマスク膜を除去した基板を、酸素雰囲気でアニーリングして表面に所定厚さの酸化膜を形成する段階と、
前記酸化膜を除去して前記抵抗性領域の端部を尖らせる段階と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。 - 前記第1半導体電極領域および前記第2半導体電極領域から拡散した抵抗領域を、前記基板の上部で互いに接触してチップ形成部を形成すること、
を特徴とする請求項4に記載の抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。 - 前記第1不純物はp型不純物であり、前記第2不純物はn型不純物であること、
を特徴とする請求項1に記載の抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。 - 前記第1不純物はn型不純物であり、前記第2不純物はp型不純物であること、
を特徴とする請求項1に記載の抵抗性チップを備えた半導体探針の製造方法。
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