JP4147911B2 - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents
電気光学装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4147911B2 JP4147911B2 JP2002328294A JP2002328294A JP4147911B2 JP 4147911 B2 JP4147911 B2 JP 4147911B2 JP 2002328294 A JP2002328294 A JP 2002328294A JP 2002328294 A JP2002328294 A JP 2002328294A JP 4147911 B2 JP4147911 B2 JP 4147911B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mark
- electro
- manufacturing
- optical device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 199
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 29
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 27
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching Effects 0.000 description 1
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置の製造方法および電子機器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶パネルのうち、例えばアクティブマトリクス型の一種であるTFT(薄膜トランジスタ)カラー液晶パネルは、TFTアレイ基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせて構成される。ここで、互いに対となるTFTアレイ基板およびカラーフィルタ基板を貼り合せる際には、両者を互いにアライメントする必要がある。具体的には、TFTアレイ基板上に微細に配列されたアクティブ素子等の構成要素と、カラーフィルタ基板上に微細に配列された着色パターン等の構成要素との位置合せを精度良く行うために、TFTアレイ基板およびカラーフィルタ基板を互いにアライメントする必要がある。
【0003】
従来においては、例えば、TFTアレイ基板に設けたマークと、カラーフィルタ基板に設けたマークとから成るアライメントマークを用い、両方の基板に設けたマークの位置関係に基づいてアライメントするようにしている。これらのマークの位置関係は、例えば、図9に示すように、第1の基板1に設けた第1のマーク1aと、第2の基板2に設けた第2のマーク2aとを撮像装置であるカメラ3によって撮像し、この撮像した画像に画像処理を行うことによって求められる。具体的には、透明な第2の基板2をカメラ3側に向けつつ第1の基板1と対向配置させ、第1のマーク1aおよび第2のマーク2aをカメラ3によって撮像し、この撮像した画像に画像処理を行うことにより、第1のマーク1aの重心G1と、第2のマーク2aの重心G2との位置関係が求められる。
【0004】
従来では、対となる基板の両方に設けたマークの重心相互間における位置関係が所定の位置関係となるように、例えば、画像上において予め設定された相互間距離Lだけ互いに離隔する位置関係となるようにアライメントしている(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
【特許文献1】
特許第2525589号公報(第2項、第1図)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、例えば、高倍率のカメラを用いる場合、互いに接触して傷付くのを防止するために対となる基板を離隔する場合、あるいは厚みのある基板を用いる場合においては、対となる基板を互いに高精度にアライメントすることが困難となる虞れがある。
【0007】
これらの場合では、上述したマークを設けた一対の基板を互いに対向配置した際に、カメラ3における撮像光学系の光軸3A方向のマーク相互間距離(Δd)が、カメラ3の被写界深度よりも大きなものとなり、両方のマークを鮮明に撮像することができない事態を招来する虞れがある。ここで、両方のマークを鮮明に撮像できなければ、最早両方のマーク相互間の位置関係を高精度に求めることもできないので、高精度にアライメントすることが困難となってしまう。このため、上述した各々の場合においては、所望するアライメント精度が得られない事態、つまり、一方の基板に設けた構成要素と、他方の基板に設けた構成要素との位置合せ精度が所望のものとならない事態を招来する虞れがあり、電気光学装置の高精度化を阻害する要因となる。
【0008】
本発明は、上記実情に鑑みて、電気光学装置の高精度化を可能とする電気光学装置の製造方法および電子機器を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、この発明にかかる電気光学装置の製造方法は、第1の基板および第2の基板を対向配置し、撮像装置を用いて前記第1の基板および前記第2の基板を互いにアライメントする電気光学装置の製造方法であって、前記第1の基板および前記第2の基板に対して撮像光学系の光軸が所定の交差角度で交差するように配置し、前記撮像装置の焦点に前記第1のマークが合うように前記第1の基板を移動させて、前記撮像装置により前記第1のマークを撮像し、前記撮像装置の焦点に前記第2のマークが合うように前記撮像装置および前記第2の基板の少なくとも一方を前記光軸に沿って移動させて、前記撮像装置により前記第2のマークを撮像し、前記撮像装置の撮像結果に基づいて前記第1の基板もしくは前記第2の基板をアライメントすることを特徴とする。
【0010】
この発明によれば、第1の基板および第2の基板に対して撮像光学系の光軸が所定の交差角度で交差するように配置し、撮像装置の焦点に第1のマークが合うように前記第1の基板を移動させて、前記撮像装置により前記第1のマークを撮像し、前記撮像装置の焦点に第2のマークが合うように前記撮像装置および前記第2の基板の少なくとも一方を前記光軸に沿って移動させて、前記撮像装置により前記第2のマークを撮像し、前記撮像装置の撮像結果に基づいて前記第1の基板もしくは前記第2の基板をアライメントするので、前記第1のマークおよび前記第2のマークを前記撮像装置の焦点に合わせて個別に撮像することができ、しかも、前記光軸の方向に対する前記第1の基板、前記第2の基板および前記撮像装置の位置関係に依らず、撮像した前記第1のマークと前記第2のマークとの位置関係が同一となる。
【0011】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記第2の基板を所定の貼り合せ位置に配置した状態で、前記第2のマークを撮像した後に、前記第2の基板を前記第1の基板から離反する方向に前記光軸に沿って移動させ、前記第1の基板を前記貼り合せ位置に配置し、前記第1のマークを撮像した後に、前記第2の基板を前記光軸に沿って移動させて前記貼り合せ位置に復帰させ、前記第1の基板および前記第2の基板を前記貼り合せ位置で貼り合わせることを特徴とする。
【0012】
この発明によれば、第2の基板を所定の貼り合せ位置に配置した状態で、第2のマークを撮像した後に、前記第2の基板を第1の基板から離反する方向に前記光軸に沿って移動させ、前記第1の基板を前記貼り合せ位置に配置し、前記第1のマークを撮像した後に、前記第2の基板を前記光軸に沿って移動させて前記貼り合せ位置に復帰させ、前記第1の基板および前記第2の基板を前記貼り合せ位置で貼り合わせるので、前記貼り合せ位置に配置された前記第1の基板における前記第1のマークと、前記貼り合せ位置に配置された前記第2の基板における前記第2のマークとを撮像したものを用いてアライメントすることができる。
【0013】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記撮像装置の被写界深度外に前記第2のマークが位置するように、前記第2の基板を移動させることを特徴とする。
【0014】
この発明によれば、第2のマークが撮像装置の被写界深度外に位置するので、撮像した画像上において前記第2のマークがピンぼけした或いは全く写らない状態となる。
【0015】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記第1の基板および前記第2の基板として、対向配置した際に互いに対向する面に前記第1のマークおよび前記第2のマークを設けたものを用いることを特徴とする。
【0016】
この発明によれば、前記光軸の方向に対する第1のマークおよび第2のマークの相互間距離が抑えられるので、第1の基板および第2の基板を前記貼り合せ位置に配置した際に、第1のマークおよび第2のマークが前記撮像装置の被写界深度外となる事態を抑制することができる。
【0017】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記第1のマークおよび前記第2のマークとして、前記第1の基板および前記第2の基板を互いにアライメントした際に、前記第1のマークの対における重心相互間の中点が、前記第2のマークの対における重心相互間の中点を含む予め設定した許容範囲に対して対向位置するものを用いることを特徴とする。
【0018】
この発明によれば、第1のマークの対における重心相互間の中点と、第2のマークの対における重心相互間の中点とを対向位置させるようにして、第1の基板および第2の基板を互いにアライメントすることができる。
【0019】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記第1のマークおよび前記第2のマークとして、前記第1の基板および前記第2の基板を互いにアライメントした際に、前記第1のマークの対における個々の中心を通って前記第2の基板に直交する平面と、前記第2のマークの対における個々の中心を通って前記第1の基板に直交する平面とが、所定の角度で互いに交差するものを用いることを特徴とする。
【0020】
この発明によれば、第1のマークの対における個々の中心を通って第2の基板に直交する平面と、第2のマークの対における個々の中心を通って第1の基板に直交する平面とを所定の角度で互いに交差させるようにして、前記第1の基板および前記第2の基板を互いにアライメントすることができる。
【0021】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記所定の角度をほぼ90度に設定したものを用いることを特徴とする。
【0022】
この発明によれば、前記所定の角度をほぼ90度に設定したものを用いるので、前記両方の平面を直交させるようにして、第1の基板および第2の基板を互いにアライメントすることができる。
【0023】
つぎの発明にかかる電気光学装置の製造方法は、上記の発明において、前記第1のマークおよび前記第2のマークを、円形としたことを特徴とする。
【0024】
この発明によれば、互いに円形を成す第1のマークおよび第2のマークを用いて、第1の基板および第2の基板が互いにアライメントされる。
【0025】
つぎの発明にかかる電子機器は、上記の発明のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【0026】
この発明によれば、上記の発明のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を備えた電子機器が具現化される。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照して、本発明にかかる電気光学装置の製造方法および電子機器の好適な実施の形態を詳細に説明する。なお、本実施の形態では、電気光学装置として、液晶パネルを例にとるが、これに限定する趣旨でないことは言うまでもない。
【0028】
図1は、本発明の実施の形態におけるアライメント装置のブロック線図を示すものである。このアライメント装置は、第1の基板10および透明な第2の基板20を互いに上下に対向配置した状態でアライメントするものである。例えば、TFT(薄膜トランジスタ)カラー液晶パネルを製造する場合には、第1の基板10としてTFTアレイ基板が適用される一方、第2の基板20としてカラーフィルタ基板が適用される。ここで、TFTアレイ基板には、アクティブ素子等の構成要素が微細に配列されて設けてある一方、カラーフィルタ基板には、着色パターン等の構成要素が微細に配列されて設けてある。
【0029】
図2(a)、(b)は、図1における投影図であり、より詳細には、(a)は図1における矢印A方向の投影図、(b)は図1における矢印B方向の投影図である。なお、図2(b)では、裏側に対向する第1の基板10を省略して図示している。
【0030】
本実施の形態では、第1の基板10および第2の基板20として矩形状を成すものを適用している。第1の基板10には、対角両隅部のそれぞれに一対の第1のマーク10aが設けてある一方、第2の基板20には、対角両隅部のそれぞれに一対の第2のマーク20aが設けてある。
【0031】
これら第1のマーク10aおよび第2のマーク20aは、本実施の形態におけるアライメントマークを構成するもので、図1に示すように、第1の基板10および第2の基板20を互いに対向配置した際に、互いに対向する面に設けてある。ここで、第1のマーク10aおよび第2のマーク20aとしては、図2に示すように、円形を成し、かつ直径が異なるもの、具体的には第1のマーク10aの直径の方が第2のマーク20aのものよりも大きなものを適用してある。
【0032】
第1のマーク10aおよび第2のマーク20aは、第1の基板10に設けられた構成要素と、第2の基板20に設けられた構成要素とが所望する位置関係となる場合に、すなわち第1の基板10と第2の基板20とが互いにアライメントされた場合に、互いに所定の位置関係を有するようにそれぞれ配設してある。この所定の位置関係とは、第1のマーク10aの対における重心相互間の中点C10が、第2のマーク20aの対における重心相互間の中点C20に対して対向位置し、かつ第1のマーク10aの対における個々の中心を通って第2の基板20に直交する平面が、第2のマーク20aの対における個々の中心を通って第1の基板10に直交する平面と互いに直交する位置関係である。第1のマーク10aおよび第2のマーク20aの位置関係は、上述した所定の位置関係を満たす場合、図3に例示するようになる。
【0033】
一方、図1に示したアライメント装置は、XYZθテーブル10A、Zテーブル20A、カメラ30,30′、画像処理部40、軸駆動部50および装置シーケンス制御部60を備えている。
【0034】
XYZθテーブル10Aは、その上面に第1の基板10を保持するものであり、水平面上で互いに直交するX,Y軸および水平面に直交するZ軸に沿って移動可能、かつZ軸回りのθ方向に回転可能に構成してある。Zテーブル20Aは、その下面に第2の基板20を保持するもので、Z軸に沿って移動可能に構成してある。ここで、本実施の形態では、図1に示すように、XYZθテーブル10Aに保持された状態の第1の基板10がZ軸に直交する一方、Zテーブル20Aに保持された状態の第2の基板20がZ軸に直交するようにしてある。
【0035】
カメラ30,30′は、レンズ31,31′等の構成要素から成る撮像光学系を介して、第1のマーク10aおよび第2のマーク20aを撮像する撮像装置である。このカメラ30,30′は、上述した保持状態の第1の基板10および第2の基板20に対して、その撮像光学系の光軸30A,30A′が直交するように、Z軸に沿って下向きに配置してある。なお、これらカメラ30,30′としては、例えば、互いに同一の性能を有するCCD(Charge-coupled device)カメラをそれぞれ適用することができる。
【0036】
画像処理部40は、カメラ30,30′によって撮像された各マークの画像を取得、記憶する一方、例えば、取得した各マークの画像をパターンマッチングによって画像認識し、適宜画像処理を行うものである。
【0037】
軸駆動部50は、装置シーケンス制御部60からの指令により、XYZθテーブル10AおよびZテーブル20Aを駆動するものである。装置シーケンス制御部60は、画像処理部40による画像処理結果に基づいて、X,Y軸およびθ方向に対する補正量を計算し、該計算した補正量だけXYZθテーブル10Aを駆動するように軸駆動部50に指令する。また、この装置シーケンス制御部60は、軸駆動部50を介してXYZθテーブル10AおよびZテーブル20AをZ軸に沿って駆動させる機能をも有している。これにより、本実施の形態では、XYZθテーブル10AおよびZテーブル20AをZ軸に沿って駆動させることにより、上述した保持状態の第1の基板10および第2の基板20をZ軸に沿ってそれぞれ移動させるようにしてある。
【0038】
図4〜7は、本実施の形態において第1の基板10および第2の基板20を互いにアライメントする工程を順次示すものである。なお、同図中では、説明の便宜上、カメラ30に対する第1の基板10および第2の基板20の位置関係のみを示してあるが、カメラ30′についても同様の位置関係となる。
【0039】
まず、図4(a)に示すように、第1の基板10および第2の基板20を互いに貼り合わせる所定の貼り合せ位置(以下、単に貼り合せ位置PHという)に第2の基板20の下面の位置を一致させる。この時、カメラ30における撮像光学系の焦点が合う位置と貼り合せ位置PHとが一致するように、カメラ30を配置しておく。これにより、第2の基板20の下面に設けた第2のマーク20aがカメラ30の焦点に合う状態となり、この状態で第2のマーク20aの対を撮像し、該撮像した画像を画像処理部40によって記憶する。この時、第1の基板10を例えば10mm程度、貼り合せ位置PHよりも下方に位置させておき、カメラ30の被写界深度外に位置させる。これにより、図4(b)に例示するように、第1のマーク10aがピンぼけ或いは全く写らなくなり、第2のマーク20aのみが鮮明に撮像される。
【0040】
つぎに、図5に示すように、第2の基板20を保持するZテーブル20AをZ軸に沿って上方に駆動させて、第2の基板20を第1の基板10から離反する方向、つまりZ軸に沿って上方に移動させる。ここで、第2の基板20を例えば10mm程度、貼り合せ位置PHよりも上方に位置するように移動させて、第2のマーク20aをカメラ30の被写界深度外に位置させる。ここで、「被写界深度外」とは、カメラが認識できる領域外を言う。
【0041】
つぎに、図6(a)に示すように、貼り合せ位置PHに第1の基板10の上面の位置を一致させるように、XYZθテーブル10AをZ軸に沿って上方に駆動させて、第1の基板10をZ軸に沿って上方に移動させる。こうして貼り合せ位置PHに第1の基板10の上面の位置を一致させた状態で、第1のマーク10aの対を撮像する。この時、第1の基板10の上面に設けた第1のマーク10aがカメラ30の焦点に合う一方、第2のマーク20aがカメラ30の被写界深度外に位置する。これにより、図6(b)に例示するように、第2のマーク20aがピンぼけ或いは全く写らない状態となり、第1のマーク10aのみが鮮明に撮像される。
【0042】
つぎに、画像処理部40によって記憶した第2のマーク20aの対の画像と、第1のマーク10aの対の画像とを用いて、第1のマーク10aおよび第2のマーク20aが上述した所定の位置関係を満たすように、第1の基板10および第2の基板20を互いにアライメントする。具体的には、画像処理部40によって、第1のマーク10aの対における重心G10相互間の中点C10および第2のマーク20aの対における重心G20相互間の中点C20の位置をそれぞれ求める。その後に、装置シーケンス制御部60によって、図8に示すように、カメラ30の視野30a内において中点C10および中点C20が互いに重なり合うように、X,Y軸およびθ方向に対する補正量を計算する。さらにその後に、装置シーケンス制御部60によって、計算した補正量だけ軸駆動部50を介してXYZθテーブル10Aを駆動させることにより、第1の基板10を移動させて第2の基板20に対するアライメント動作を行う。なお、このアライメント動作は、一回に限定されるものではなく、所望するアライメント精度に応じて複数回繰り返して行うようにしても良い。
【0043】
こうして所望するアライメント精度が得られた後に、図7(a)に示すように、Zテーブル20AをZ軸に沿って下方に駆動させて、第2の基板20をZ軸に沿って下方に移動させ、貼り合せ位置PHに復帰させる。こうして、第1の基板10および第2の基板20が、互いに貼り合わされる位置に配置された状態となる。その後に、例えばこれを液晶パネルの製造方法に適用したとすると、周知の製造方法と同様に、例えば、第1の基板10および第2の基板20において互いに対向する面に塗布された図示しないシール材を硬化させて両者を貼り合わせ、さらに切断分割、液晶注入、偏向板の取り付け等を行って、液晶パネルを製造することができる。
【0044】
上述したように本実施の形態では、第1の基板10および第2の基板20をZ軸に直交させつつ、Z軸に沿って移動させるようにしており、かつカメラ30,30′の光軸30A,30A′をZ軸と平行にしている。すなわち、第1の基板10および第2の基板20に対して光軸30A,30A′が所定の交差角度、具体的には90度で交差するように、カメラ30,30′を配置しており、さらに第1の基板10および第2の基板20を光軸30A,30A′に沿って移動させるようにしている。こうして、カメラの光軸方向に対する第2の基板の位置と、カメラの光軸方向に対する第2のマークの投影領域とが互いに依存しない状態にした上で、第2の基板をカメラの光軸に沿って移動させ、カメラの焦点に第2のマークを合わせた状態で撮像するようにしている。このため、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、アライメント時において第1のマークと第2のマークとのZ軸方向の相互間距離がカメラの被写界深度よりも大きな場合であっても、第1のマークおよび第2のマークをカメラの焦点に個別に合わせて、鮮明に撮像することができる。
【0045】
従って、本実施の形態である電気光学装置の製造方法によれば、高倍率のカメラを用いる場合、互いに接触して傷付くのを防止するために対となる基板を離隔する場合、あるいは厚みのある基板を用いる場合のいずれにおいても、第1のマークおよび第2のマークの両方を鮮明に撮像できないことに伴って、両者の位置関係を高精度に求めることができない事態を防止することができる。このため、本実施の形態である電気光学装置の製造方法によれば、第1の基板および第2の基板を互いに高精度にアライメントすることが可能になるので、一方の基板に設けた構成要素と、他方の基板に設けた構成要素とを高精度に位置合わせすることにより、電気光学装置の高精度化を図ることが可能になる。
【0046】
また、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、第1の基板および第2の基板として、互いに対向配置した際に互いに対向する面に第1のマークおよび第2のマークを設けたものを用いることにより、カメラの光軸方向に対する第1のマークおよび第2のマークの相互間距離が抑えてある。また、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、第1の基板10を所定の貼り合せ位置に配置した状態で、カメラ30の焦点に第1のマーク10aを合わせて撮像する一方、第2の基板20を所定の貼り合せ位置に配置した状態で、カメラ30の焦点に第2のマーク20aを合わせて撮像するようにしている。これらにより、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、第1の基板および第2の基板を互いに貼り合せる位置に配置した際に、カメラの焦点に第1のマークおよび第2のマークの両方を合わせた状態で撮像することが可能になる。従って、本実施の形態である電気光学装置の製造方法によれば、第1の基板および第2の基板を互いに貼り合わせる前に、第1のマーク10aおよび第2のマーク20aの位置関係を高精度に確認することが可能になる。なお、この確認の結果に基づいて、必要に応じて再度アライメントを行うようにしても良いことは勿論である。
【0047】
また、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、第1のマークの対における重心相互間の中点と、第2のマークの対における重心相互間の中点とを対向位置させるようにアライメントするので、カメラの視野内におけるマークと第2のマークとの相互間距離の大きさに応じて、カメラ30のキャリブレーション誤差等の測定誤差に起因してアライメント誤差が生じる事態を防止することができる。このため、本実施の形態である電気光学装置の製造方法によれば、アライメント精度を一層向上させることが可能になるので、電気光学装置の一層の高精度化を図ることが可能になる。
【0048】
さらに、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、第1のマークの対における個々の重心を通って第2の基板に直交する平面と、第2のマークの対における個々の重心を通って第1の基板に直交する平面とを、所定の交差角度、具体的には90度で互いに重なり合わせるようにアライメントする。しかも、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、互いに等しい大きさの矩形を成す第1の基板および第2の基板における対角両隅部に設けられた第1のマークおよび第2のマークから成るアライメントマークを用いてアライメントする。これらにより、本実施の形態であるアライメントマークによれば、第1の基板および第2の基板が上述したθ方向に互いに傾斜してアライメント誤差を生じる事態を可及的に抑えることができる。このため、本実施の形態である電気光学装置の製造方法によれば、アライメント精度を一層向上させることが可能になるので、電気光学装置の一層の高精度化を図ることが可能になる。
【0049】
さらにまた、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、第1のマークおよび第2のマークのうち、一方のマークをカメラの焦点に合わせて撮像する際に、他方のマークをカメラの被写界深度外となる位置に配置するので、撮像した画像上において他方のマークがピンぼけした或いは全く写らない状態となり、これにより画像処理時に一方のマークとの識別が容易となる。しかも、本実施の形態1である電気光学装置の製造方法では、第1のマークおよび第2のマークとして、円形を成すものをそれぞれ適用したので、カメラの視野上の座標における姿勢の影響を受けることなく各マークのパターンマッチングを行うことが可能になり、画像処理を容易に行うことが可能になる。これらにより、本実施の形態である電気光学装置の製造方法では、画像処理の負担を可及的に低減することができるので、アライメントを高効率に行うことが可能になり、その結果、電気光学装置の製造におけるスループットを向上させることが可能になる。
【0050】
なお、以上説明した本実施の形態では、カメラ側を固定した状態で第1の基板および第2の基板を移動させて、第1のマークおよび第2のマークを個別にカメラの焦点に合わせる場合を示したが、これに限定されるものではない。具体的には、カメラ側を第1の基板および第2の基板に対して移動させて、第1のマークおよび第2のマークを個別にカメラの焦点に合わせるようにしても、上述した本実施の形態と同様の作用、効果を奏するようになる。
【0051】
また、本実施の形態では、第1のマークおよび第2のマークの一方をカメラの焦点に合わせて撮像する際に、他方をカメラの被写界深度外に位置させるようにしたがこれに限定されるものではない。例えば、画像処理によってマスク処理を行うことにより、撮像した画像から第1のマークおよび第2のマークのうち、不要となる一方のマークを取り除くことができるので、一方のマークをカメラの被写界深度外に必ずしも位置させる必要はない。
【0052】
また、本実施の形態では、第1の基板および第2の基板を互いに対向配置させた状態で、第2のマークを撮像する場合を示したが、これに限定されるものではない。具体的には、第2のマークを撮像する際には、後から撮像される第1のマークを有する第1の基板を必ずしも第2の基板と対向配置させておく必要がないので、第2のマークの撮像後に第1の基板を第2の基板と対向配置させるようにしても良い。
【0053】
なお、本実施の形態である製造工程によって製造された液晶パネルは、各種の電子機器に搭載され、液晶表示装置としての機能を果たすようになる。この液晶表示装置を搭載した電子機器としては、例えば、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機等が挙げられる。
【0054】
また、本実施の形態においては、いずれもTFTカラー液晶パネルを例示してきたが、これに限定されるものではなく、例えば、同じくアクティブマトリクス型の液晶パネルの一種である薄膜ダイオードカラー液晶パネル、あるいはパッシブマトリクス型の液晶パネルにも同様に適用することができる。なお、本実施の形態は、カラー液晶パネルに限定されるものではなく、モノクロ液晶パネルにも適用できることは勿論である。
【0055】
また、本発明が適用できる電気光学装置は、液晶パネルには限られず、例えば有機ELディスプレイにも適用が可能である。また、本発明が適用できる基板として、例えばガラスとプラスチックやガラスとフィルム、ガラスと例えばSiウェハなどの貼り合せにも適用できる。
【0056】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、電気光学装置の高精度化を図ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態におけるアライメント装置のブロック線図である。
【図2】 図1における投影図であり、(a)は図1における矢印A方向の投影図、(b)は図1における矢印B方向の投影図である。
【図3】 アライメント後における各マークの位置関係を示す説明図である。
【図4】 本実施の形態において第1の基板および第2の基板を互いにアライメントする工程を示すもので、第1の工程を示す説明図である。
【図5】 本実施の形態において第1の基板および第2の基板を互いにアライメントする工程を示すもので、第2の工程を示す説明図である。
【図6】 本実施の形態において第1の基板および第2の基板を互いにアライメントする工程を示すもので、第3の工程を示す説明図である。
【図7】 本実施の形態において第1の基板および第2の基板を互いにアライメントする工程を示すもので、第4の工程を示す説明図である。
【図8】 本実施の形態におけるアライメントの様子を示す説明図である。
【図9】 従来のアライメント方法を説明する説明図である。
【符号の説明】
10 第1の基板、10a 第1のマーク、10A XYZθテーブル、20 第2の基板、20a 第2のマーク、20A Zテーブル、30,30′ カメラ、30A,30A′ 光軸、31,31′ レンズ、30a,30a′ 視野、40 画像処理部、50 軸駆動部、60 装置シーケンス制御部、C10,C20 中点、G10,G20 重心、PH 貼り合せ位置
Claims (6)
- 第1のマークを有する第1の基板と第2のマークを有する第2の基板とを、撮像装置を用いて互いにアライメントする電気光学装置の製造方法であって、
前記第1の基板を所定の貼り合せ位置に配置した状態で、前記第1のマークを撮像する工程と、
前記撮像装置の撮像光学系の光軸に沿って前記第2の基板から離反する方向に、前記第1の基板を移動する工程と、
前記第2の基板を前記貼り合せ位置に配置した状態で前記第2のマークを撮像する工程と、
前記第1の基板を前記光軸にそって前記貼り合せ位置に移動させて、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合せることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記第1の基板および前記第2の基板として、対向配置した際に互いに対向する面に前記第1のマークおよび前記第2のマークを設けたものを用いることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記第1のマークおよび前記第2のマークとして、前記第1の基板および前記第2の基板を互いにアライメントした際に、前記第1のマークの対における重心相互間の中点が、前記第2のマークの対における重心相互間の中点を含む予め設定した許容範囲に対して対向位置するものを用いることを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記第1のマークおよび前記第2のマークとして、前記第1の基板および前記第2の基板を互いにアライメントした際に、前記第1のマークの対における個々の中心を通って前記第2の基板に直交する平面と、前記第2のマークの対における個々の中心を通って前記第1の基板に直交する平面とが、所定の角度で互いに交差するものを用いることを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記所定の角度をほぼ90度に設定したものを用いることを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記第1のマークおよび前記第2のマークを、円形としたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002328294A JP4147911B2 (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | 電気光学装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002328294A JP4147911B2 (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | 電気光学装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004163598A JP2004163598A (ja) | 2004-06-10 |
JP4147911B2 true JP4147911B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=32806634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002328294A Expired - Fee Related JP4147911B2 (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | 電気光学装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4147911B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011069797A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Saxa Inc | 変位量測定装置及び変位量測定方法 |
CN109814304A (zh) * | 2019-03-18 | 2019-05-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板和显示装置 |
CN111683514A (zh) * | 2020-06-10 | 2020-09-18 | 深圳汉和智造有限公司 | 一种假压对位方法及假压设备 |
-
2002
- 2002-11-12 JP JP2002328294A patent/JP4147911B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004163598A (ja) | 2004-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20190335072A1 (en) | Device and method for relative positioning of multi-aperture optics comprising several optical channels in relation to an image sensor | |
US7251883B2 (en) | Electronic-component alignment method and apparatus therefor | |
TWI623250B (zh) | 零件安裝裝置 | |
WO2015016002A1 (ja) | 撮像モジュール及び電子機器 | |
JP4147911B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
WO2015015999A1 (ja) | 撮像モジュール及び電子機器 | |
JP2003066466A (ja) | 基板重ね合わせ装置、基板の貼り合わせ方法、および液晶セルの製造方法 | |
JP2828503B2 (ja) | フリップチップボンダー装置及び該装置の位置合わせ方法 | |
JP2820526B2 (ja) | フリップチップボンディングの位置合わせ方法及び装置 | |
TWI750242B (zh) | 包括反射光學元件的接合頭組件、相關接合機和相關方法 | |
JP2009063692A (ja) | 電気光学装置の製造方法及び製造装置 | |
JP4264694B2 (ja) | 固体カメラ及びこれを用いた部品実装装置 | |
JP2006019454A (ja) | 駆動素子搭載方法 | |
JP2004163597A (ja) | 電気光学装置および電気光学装置の製造方法並びに電子機器 | |
JP2003249797A (ja) | 実装装置および実装装置におけるアライメント方法 | |
JP4110640B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
TWI700769B (zh) | 對準系統及其操作方法 | |
JP2004151653A (ja) | 電気光学装置、及び電気光学装置の製造方法、並びに電気光学装置の製造装置、電子機器 | |
KR102132094B1 (ko) | 전자 부품 실장 장치 및 전자 부품 실장 방법 | |
JPH0917710A (ja) | 露光フィルムの整合方法及び整合装置 | |
KR20220061327A (ko) | 표시 장치용 패널 정렬 장치 및 패널 정렬 방법 | |
JPH1187432A (ja) | 半導体ベアチップ実装方法 | |
JP2005019873A (ja) | 駆動素子のボンディング方法 | |
JP2004138700A (ja) | 電気光学装置、その製造方法、電子部品実装用基板、電子部品の実装方法および電子機器 | |
JP2000329516A (ja) | アライメントマーク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050624 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071016 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080219 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080411 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080603 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080616 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130704 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |