JP4142996B2 - ダネッジ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、載置される物品の形状に応じた収容凹部を有する、合成樹脂で一体成形されたダネッジに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、真空成形により成形されるダネッジを構成する外周壁や、物品の収容凹部を形成する凸部や土手部等の側壁は、金型からのダネッジの抜き易さ等を考慮して、垂直面に対する傾斜角度(以下、抜き勾配という。)が、3〜5度程度である。このようなダネッジは、一例として、特許文献1に開示されている。
【0003】
【特許文献1】
実用新案登録第3080799号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図7〜図11を用いて、従来のダネッジ及び該ダネッジが有する課題について説明する。
【0005】
図7には、真空成形により成形された一例としての鞍状のダネッジD’が示されている。この単純化されたダネッジD’は、平面形状が方形状の箱型に形成されており、外周壁1と、外周壁1の相対する周壁部1aを連結する土手部2とを有しており、外周壁1と土手部2と底部3とで形成された一対の収容凹部Sに、物品が収容されるように構成されている。
【0006】
土手部2は、天部2aと側壁2bとを有しており、側壁2bには、縦方向に延在する縦溝4が、所定の間隔で複数本、形成されている。土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝4は、相対する側壁部4aと奥壁部4bとを有しており、相対する側壁部4aは、下方に行くにしたがって、互いに接近するように傾斜しているとともに、奥壁部4bから側壁2bに行くにしたがって、互いに離反するように傾斜している。従って、縦溝4は、下方から上方に向かって拡がるように構成されているとともに、奥壁部4bから側壁2bに向かって外側に拡がるように構成されている。なお、縦溝4を、天部2aや底部3まで延長して形成することも、また、相対する側壁部4a及び天部2aに亘たって、連続した縦溝4を形成することもできる。
【0007】
また、外周壁1の抜き勾配θ1及び土手部2を構成する側壁2bの抜き勾配θ2は、略同じであり、3〜5度程度に形成されている。
【0008】
上述した構成を有するダネッジD’は、真空成形により形成されているので、ダネッジD’を裏側から見た場合には、土手部2内には、土手部2に対応して、下方が開放されたトンネル状の空洞空間2’が形成されているとともに、土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝4に対応して、側壁2bの裏面(空洞空間2’側の面)2b1から、縦凸条4’が膨出している。
【0009】
上述した構成を有する2つのダネッジD’を、上下方向に配置した際には、上に位置するダネッジDa’の底部3及び底部3付近の外周壁1が、下に位置するダネッジDb’の上部開口部に挿入されるとともに、下に位置するダネッジDb’の土手部2の上部が、上に位置するダネッジDa’の下方が開放された空洞空間2’の下部に挿入されることになる。この時点では、上に位置するダネッジDa’と下に位置するダネッジDb’とは、互いに、如何なる個所においても接触してない。その後、上に位置するダネッジDa’を下げると、上に位置するダネッジDa’の外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDb’の外周壁1の内面1bに当接するとともに、下に位置するダネッジDb’の土手部2の側壁2bの外面(収容凹部S側の面)2b2が、上に位置するダネッジDa’の空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1に当接し、上に位置するダネッジDa’が、それ以上、下に位置するダネッジDb’に挿入されることはなく、所謂、上に位置するダネッジDa’の下に位置するダネッジDb’へのネスティングが終了することになる。なお、このようなネスティング状態においては、上に位置するダネッジDa’の土手部2を構成する側壁2bの裏面2b1から膨出している縦凸条4’は、下に位置するダネッジDb’の土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝4の側壁部4aや奥壁部4bに接触していない。
【0010】
ネスティング状態においては、上に位置するダネッジDa’と下に位置するダネッジDb’とは、上述したように、上に位置するダネッジDa’の外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDb’の外周壁1の内面1bに当接しているとともに、上に位置するダネッジDa’の空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1が、下に位置するダネッジDb’の土手部2の側壁2bの外面2b2に当接しているので、安定した状態でネスティングされており、且つ、上に位置するダネッジDa’の空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1が、下に位置するダネッジDb’の土手部2の側壁2bの外面2b2に当接しているので、上に位置するダネッジDa’の中央部が下方に撓むようなこともない。
【0011】
ところで、抜き勾配が、垂直に近い程、即ち、小さいほど、ネスティングがし難く、その作業性が悪く、また、ネスティング効率(上に位置するダネッジが、下に位置するダネッジにどの程度挿入できるかの度合)が悪くなるが、ダネッジを深くすることができるとともに、その内容積を大きくすることができ、高さの高い大きな物品を収容することができる。一方、抜き勾配が、水平に近い程、即ち、大きいほど、ネスティングがし易く、その作業性が向上し、また、ネスティング効率が良くなるが、ダネッジの深さが浅くなったり、また、その内容積が小さくなり、高さの高い大きな物品を収容することができなくなる。
【0012】
上述した、抜き勾配の大小による利点や欠点を勘案して、図12に示されているように、ダネッジD’の外周壁1の抜き勾配θ1を従来のダネッジのように、3〜5度程度と小さく形成し、ダネッジD’内に形成される土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2を、外周壁1の抜き勾配θ1に比べて、大きくすることが考えられる。しかしながら、土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2を、外周壁1の抜き勾配θ1より大きくすると、図13に示されているように、ネスティング状態において、上に位置するダネッジDa’の外周壁1の外面1aは、下に位置するダネッジDb’の外周壁1の内面1bに当接しているが、上に位置するダネッジDa’の空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1は、下に位置するダネッジDb’の土手部2の側壁2bの外面2b2に当接していないことになる。
【0013】
上述したように、ネスティング状態において、上に位置するダネッジDa’の空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1が、下に位置するダネッジDb’の土手部2の側壁2bの外面2b2に当接しておらず、上に位置するダネッジDa’の空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1と下に位置するダネッジDb’の土手部2の側壁2bの外面2b2との間に、間隙ができると、上に位置するダネッジDa’が下方に撓み変形するという問題が発生する。
【0014】
また、上に位置するダネッジDa’の重量を支える個所が、上に位置するダネッジDa’の外周壁1の外面1aと下に位置するダネッジDb’の外周壁1の内面1bとの接触個所のみであり、この接触個所で、上に位置するダネッジDa’の重量を支えることになるので、上に位置するダネッジDa’の外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDb’の外周壁1の内面1bに強く当接するとともに、上に位置するダネッジDa’が、下に位置するダネッジDb’に深く嵌入されることになり、ネスティング状態の上に位置するダネッジDa’を、下に位置するダネッジDb’から取り出すことが困難になるという問題が発生することになる。
【0015】
本発明の目的は、物品の収容凹部を構成する側壁の抜き勾配が、ダネッジの外周壁の抜き勾配より大きい場合に発生する、上述した課題を解決することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した目的を達成するために、物品が収容される収容凹部を構成する土手部の側壁の抜き勾配が、外周壁の抜き勾配より大きく形成されているダネッジであって、ネスティング状態において、上に位置するダネッジの外周壁が、下に位置するダネッジの外周壁に当接するとともに、上に位置するダネッジの上記側壁の裏面から膨出している縦凸条が、下に位置するダネッジの上記側壁に当接するように構成したものである。
【0017】
【実施例】
以下に.本発明の実施例について説明するが、本発明の趣旨を越えない限り何ら、本実施例に限定されるものではない。
【0018】
本実施例のダネッジDは、土手部2に形成された縦溝4の構成が異なる点及び土手部2の抜き勾配θ2が、外周壁1の抜き勾配θ1より大きい点で異なる以外は、上述した従来のダネッジD’と同じ構成を有しているので、従来のダネッジD’と同じ構成部材については、同じ符号を使用するとともに、その詳細な説明は省略する。
【0019】
本実施例のダネッジDは、物品が収容される収容凹部Sを構成する土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2が、外周壁1の抜き勾配θ1より大きく形成されている。例えば、外周壁1の抜き勾配θ1は、従来のダネッジD’と同様に、3〜5度程度に形成されており、土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2は、8〜15度程度に形成されている。
【0020】
従来のダネッジD’の土手部2の側壁2bに形成された縦溝4と同様に、本実施例のダネッジDの土手部2に形成された縦溝40も、相対する側壁部40aと奥壁部40bとを有している。そして、縦溝40を構成する相対する側壁部40aは、互いに平行に形成されているとともに、土手部2の側壁2bに対して垂直に形成されている。また、奥壁部40bは、土手部2の側壁2bと平行に形成されており、換言すれば、奥壁部40bの抜き勾配は、土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2と同じであり、相対する側壁部40aと奥壁部40bとの内角θ3は、略90度に形成されている。
【0021】
本実施例のダネッジDも、従来のダネッジD’と同様に、真空成形により形成されているので、ダネッジDを裏側から見た場合には、土手部2内には、土手部2に対応して、下方が開放されたトンネル状の空洞空間2’が形成されているとともに、土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝40に対応して、側壁2bの裏面(空洞空間2’側の面)2b1から、略角筒状の縦凸条40’が膨出している。
【0022】
上述した構成を有する2つのダネッジDを、上下方向に配置した際には、上に位置するダネッジDaの底部3及び底部3付近の外周壁1が、下に位置するダネッジDbの上部開口部に挿入されるとともに、下に位置するダネッジDbの土手部2の上部が、上に位置するダネッジDaの下方が開放された空洞空間2’の下部に挿入されることになる。この時点では、上に位置するダネッジDaと下に位置するダネッジDbとは、互いに、如何なる個所においても接触してない。
【0023】
その後、上に位置するダネッジDaを下げると、図5に示されているように、上に位置するダネッジDaの外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDbの外周壁1の内面1bに当接することになる。上に位置するダネッジDaの外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDbの外周壁1の内面1bに当接した時点においては、土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2は、外周壁1の抜き勾配θ1より大きく形成されているので、上に位置するダネッジDaの空洞空間2’を形成する土手部2の側壁2bの裏面2b1は、下に位置するダネッジDbの土手部2の側壁2bの外面(収容凹部S側の面)2b2に当接していない。
【0024】
しかしながら、本実施例のダネッジDの土手部2に形成された縦溝40の相対する側壁部40aは、互いに平行で、且つ、土手部2の側壁2bに対して垂直に形成されているとともに、奥壁部40bの抜き勾配は、土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2と同じに形成されているので、上に位置するダネッジDaの外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDbの外周壁1の内面1bに当接した時点で、図5や図6に示されているように、上に位置するダネッジDaの土手部2を構成する側壁2bの裏面2b1から膨出している縦凸条40’が、下に位置するダネッジDbの土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝40の側壁部40a付近に位置する側壁2bの外面2b2が当接することになる。
【0025】
上述したように、ダネッジDの土手部2に形成された縦溝40の相対する側壁部40aを、互いに平行で、且つ、土手部2の側壁2bに対して垂直に形成するとともに、奥壁部40bの抜き勾配を、土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2と同じに形成することにより、ネスティング状態において、上に位置するダネッジDaの土手部2を構成する側壁2bの裏面2b1から膨出している縦凸条40’が、下に位置するダネッジDbの土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝40内に挿入されるようなことはなく、上に位置するダネッジDaの土手部2を構成する側壁2bの裏面2b1から膨出している縦凸条40’が、下に位置するダネッジDbの土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝40の側壁部40a付近に位置する側壁2bの外面(収容凹部S側の面)2b2が当接することになる。
【0026】
従って、本実施例のダネッジDをネスティングした際には、上に位置するダネッジDaの外周壁1の外面1aが、下に位置するダネッジDbの外周壁1の内面1bに当接するとともに、上に位置するダネッジDaの土手部2を構成する側壁2bの裏面2b1から膨出している縦凸条40’が、下に位置するダネッジDbの土手部2を構成する側壁2bに形成された縦溝40の側壁部40a付近に位置する側壁2bの外面2b2に当接しているので、上に位置するダネッジDaが下方に撓むようなことがなく、多数のダネッジDを、安定した状態でネスティングすることができる。
【0027】
物品が収容される収容凹部Sを構成する土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2が、外周壁1の抜き勾配θ1より大きく形成されているダネッジDを、ネスティングした際には、このように、物品が収容される収容凹部Sを構成する土手部2の側壁2bの抜き勾配θ2が、外周壁1の抜き勾配θ1より大きく形成されているので、土手部2のネスティングが容易になり、ネスティング作業の作業性が向上するとともに、上に位置するダネッジDaの外周壁1が、下に位置するダネッジDbの外周壁1に当接し、且つ、上に位置するダネッジDaの上記側壁2bの裏面2b1から膨出している縦凸条40’が、下に位置するダネッジDbの上記側壁2bに当接するように構成したので、上に位置するダネッジDaが下方に撓むようなことがなく、多数のダネッジDを、安定した状態でネスティングすることができる。
【0028】
なお、上述した実施例には、ダネッジが、真空成形により成形されている例が示されているが、圧空成形や射出成形等により形成することもできる。
【0029】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されているので、以下に記載するような効果を奏するものである。
【0030】
ネスティング作業の作業性が向上するとともに、ネスティング状態において、上に位置するダネッジの外周壁が、下に位置するダネッジの外周壁に当接するとともに、上に位置するダネッジの上記側壁の裏面から膨出している縦凸条が、下に位置するダネッジの上記側壁に当接するように構成されているので、上に位置するダネッジが下方に撓むようなことがなく、多数のダネッジを、安定した状態でネスティングすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一例としてのダネッジの斜視図である。
【図2】図2は、図1に示されているダネッジに形成されている縦溝付近の斜視図である。
【図3】図3は、図1に示されているダネッジの垂直側断面図である。
【図4】図4は、図1に示されているダネッジに形成されている縦溝の水平断面図である。
【図5】図5は、図1に示されている一対のダネッジのネスティング状態を示す垂直側断面図である。
【図6】図6は、図5に示されているネスティング状態のダネッジの縦溝付近の水平断面図である。
【図7】図7は、従来の一例としてのダネッジの斜視図である。
【図8】図8は、図7に示されているダネッジに形成されている縦溝付近の斜視図である。
【図9】図9は、図7に示されているダネッジの垂直側断面図である。
【図10】図10は、図7に示されているダネッジに形成されている縦溝の水平断面図である。
【図11】図11は、図7に示されている一対のダネッジのネスティング状態を示す垂直側断面図である。
【図12】図12は、従来の他のダネッジの図9と同様の垂直側断面図である。
【図13】図13は、図12に示されている一対のダネッジのネスティング状態を示す垂直側断面図である。
【符号の説明】
D・・・・・・・・・・・・ダネッジ
S・・・・・・・・・・・・収容凹部
1・・・・・・・・・・・・外周壁
2・・・・・・・・・・・・土手部
4・・・・・・・・・・・・縦溝
4’・・・・・・・・・・・縦凸条
Claims (1)
- 物品が収容される収容凹部を構成する土手部の側壁の抜き勾配が、外周壁の抜き勾配より大きく形成されているダネッジであって、ネスティング状態において、上に位置するダネッジの外周壁が、下に位置するダネッジの外周壁に当接するとともに、上に位置するダネッジの上記側壁の裏面から膨出している縦凸条が、下に位置するダネッジの上記側壁に当接するように構成されていることを特徴とするダネッジ。
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