JP4131218B2 - Display panel, and a display device - Google Patents

Display panel, and a display device

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JP4131218B2
JP4131218B2 JP2003324625A JP2003324625A JP4131218B2 JP 4131218 B2 JP4131218 B2 JP 4131218B2 JP 2003324625 A JP2003324625 A JP 2003324625A JP 2003324625 A JP2003324625 A JP 2003324625A JP 4131218 B2 JP4131218 B2 JP 4131218B2
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哲朗 山▲崎▼
高司 武田
政敏 米窪
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セイコーエプソン株式会社
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Description

本発明は、表示パネル、表示パネルの製造方法及び表示装置、特に、光により制御可能な表示装置に用いられる表示パネルの技術に関する。 The present invention relates to a display panel, a manufacturing method and a display device of the display panel, and more particularly, to a technique of a display panel used in the controllable display device by light.

従来、画像表示装置としては、例えば、有機エレクトロ・ルミネッセンス(以下、「EL」という。)ディスプレイが用いられる。 Conventionally, as an image display device, for example, an organic electroluminescence (hereinafter, referred to as "EL".) Display is used. 有機ELディスプレイの技術としては、例えば、非特許文献1に提案されているものがある。 Techniques organic EL display, for example, there is proposed in Non-Patent Document 1.

従来の有機ELディスプレイは、画素に対応する領域ごとに、低温ポリシリコン又はアモルファス・シリコン等により構築された薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下、「TFT」という。)素子を設けている。 Conventional organic EL display, for each area corresponding to a pixel, the thin film transistor constructed in accordance with the low-temperature polysilicon or amorphous silicon, etc. (Thin Film Transistor; hereinafter referred to as "TFT".) Are provided elements. 各TFT素子は、電流を用いるアクセスによって、ON/OFFが制御される。 Each TFT element, the access using current, ON / OFF is controlled. 電流を用いて各TFT素子のON/OFFを制御することにより、有機ELディスプレイを駆動することができる。 By controlling the ON / OFF of the TFT elements with currents, it is possible to drive the organic EL display. しかしながら、画素数を増加する場合、画素ごとにTFT素子を設けると、画素数の増加に応じてTFT素子の数も増加する。 However, when increasing the number of pixels, providing the TFT element for each pixel, also increases the number of TFT elements according to the increase in the number of pixels. TFT素子の数が増加すると、電流によりアクセスするための電気的な配線も増加する。 When the number of TFT elements increases, electrical wiring for access by a current also increases. 有機ELディスプレイの構成が複雑となると、歩留まりの減少の原因ともなり得る。 When the configuration of the organic EL display becomes complicated, it may also cause a decrease in yield. 従って、画面を大型にするために画素数を増加すると、有機ELディスプレイの製造コストが高騰する場合がある。 Therefore, increasing the number of pixels to a screen in a large, sometimes soaring costs of manufacturing the organic EL display.

TFT素子の数を増加させると、電気的な配線も増加することから、電気的な抵抗の増加を引き起こす原因となり得る。 Increasing the number of TFT elements, electric wiring since it also increases, can be a cause of increase in electrical resistance. 電気的な抵抗が増加すると、全TFT素子に十分な電流を行き渡らせてアクセスを行うことが困難となる。 When electrical resistance is increased, it becomes difficult to perform access by spread enough current to all TFT element. さらに、TFT素子のばらつきが無い大型な画面を製造することは、非常に困難である。 Further, to produce a large screen variations of no TFT element is very difficult. 画面のTFT素子にばらつきがあると、表示画像が不均一となってしまう。 When there are variations in the TFT elements of the screen, the display image becomes uneven. このように、製造コストが高騰する場合がある上、均一にTFT素子を製造することが難しいため、大型な画面を製造することは困難である。 Thus, on some cases manufacturing costs are rising, it is difficult to uniformly produce a TFT element, it is difficult to manufacture a large-sized screen. このように、従来の有機ELディスプレイは、画面を大型にする場合、TFT素子のアクセスにおける駆動面での困難や、製造面における困難があるため問題である。 Thus, conventional organic EL display, when the screen large, difficult and at the driving surface at the access of the TFT element is a problem because of the difficulties in terms of production. 本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、大型化が容易な表示パネル、その表示パネルの製造方法及びその表示パネルを用いた表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, large easy display panel, and an object thereof is to provide a display device using the manufacturing method and the display panel of the display panel.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明によれば、光学的に透明な第1の透明電極層、及び第2の透明電極層と、第1の透明電極層の上に設けられた導電率可変層と、導電率可変層と第2の透明電極層との間に設けられ、電圧が印加されることにより発光するEL層と、を有し、第1の透明電極層と第2の透明電極層との間に、所定の電圧が印加され、導電率可変層は、第1の透明電極層を透過した制御光の光量に応じて電気的な導電率が変化し、EL層は、第1の透明電極層を透過した制御光の光量に応じて導電率可変層の導電率が変化し、所定の電圧のうち導電率可変層の導電率に応じた電圧が印加されることによって発光することを特徴とする表示パネルを提供することができる。 To solve the above problems and to achieve the object, according to the present invention, the first transparent electrode layer optically clear, and a second transparent electrode layer, on the first transparent electrode layer and provided conductivity-variable layer is provided between the conductivity-variable layer and the second transparent electrode layer has an EL layer emits light when a voltage is applied, a first transparent electrode layer If between the second transparent electrode layer, a predetermined voltage is applied, the variable conductivity layer is electrically conductivity changes according to the amount of control light passing through the first transparent electrode layer, EL layer, the conductivity of the conductivity-variable layer is changed in accordance with the amount of control light passing through the first transparent electrode layer, a voltage corresponding to the conductivity of the conductivity-variable layer of a predetermined voltage is applied it is possible to provide a display panel, characterized in that emits light Rukoto.

本発明の表示パネルは、第1の透明電極層に制御光を入射させることにより駆動する。 Display panel of the present invention is driven by incident control light into the first transparent electrode layer. 導電率可変層は、制御光を入射させないとき、電気的な導電率が略ゼロの絶縁層として機能する。 Variable conductivity layer, when not allowed to be incident control light, electrical conductivity functions as an insulating layer of substantially zero. また、制御光を入射させるとき、導電率可変層は、第1の透明電極層を透過した制御光の光量に応じて、電気的な導電率が変化する。 Further, when to be incident control light, variable conductivity layer, in accordance with the amount of control light passing through the first transparent electrode layer, electrically conductivity is changed. 第1の透明電極層と、第2の透明電極層との間に所定の電圧を印加させておくと、EL層に、所定の電圧のうち制御光の光量に応じた電圧を印加させることができる。 A first transparent electrode layer, when allowed to apply a predetermined voltage between the second transparent electrode layer, the EL layer, is possible to apply a voltage corresponding to the amount of the control light of a predetermined voltage it can. EL層は、制御光の光量に応じた電圧が印加されることにより、制御光の光量に応じて発光する。 EL layer, by a voltage corresponding to the amount of the control light is applied, emits light according to the light quantity of the control light. このようにして、表示パネルは、制御光でアクセスすることにより駆動を制御することができる(光アドレッシング)。 In this way, the display panel can be controlled to drive by accessing the control light (light addressing). 制御光を入射させることにより制御可能であるから、本発明の表示パネルは、TFT素子を設ける必要がない。 Since the control light is controllable by entering the display panel of the present invention, it is not necessary to provide a TFT element. TFT素子は画素に対応する領域ごとに設ける必要があるのに対して、本発明の表示パネルは、導電率可変層、第1の透明電極層、第2の透明電極層を基板全体に一様に成膜できるため容易に製造することができる。 Whereas the TFT elements must be provided for each area corresponding to a pixel, a display panel of the present invention, the variable conductivity layer, a first transparent electrode layer, uniform the second transparent electrode layer on the entire substrate it can be easily produced because it deposited. また、制御光を走査させる構成によって画素ごとのアクセスが可能であるから、画素ごとに電気的にアクセスする必要もない。 Further, since it is possible to access each pixel by the configuration for scanning the control light, there is no need to electrically access each pixel. このことから、画素ごとに電気的な配線を施すことも不要である。 Therefore, it is not necessary to apply an electrical wiring for each pixel. このため、本発明の表示パネルは、従来のELディスプレイより簡易な構成とすることができる。 Therefore, the display panel of the present invention may be a simple configuration than the conventional EL display. 表示パネルを簡易な構成とすることにより、歩留まりを向上し、製造コストを削減することも可能である。 With a simple configuration the display panel, to improve the yield, it is also possible to reduce manufacturing costs.

TFT素子を用いると、画面を大型にして画素数が多くなるに従い、TFT素子のばらつきが無いディスプレイを製造することが困難となる。 With TFT element according the greater the number of pixels in a screen in a large, it is difficult to produce a display variation in the absence TFT element. また、画面が大型になって画素数が多くなると、TFT素子を電気的に接続するための配線も増加することから、電気的な抵抗が増加するという問題がある。 Further, when the screen is the number of pixels is increased becomes large, since the wiring for electrically connecting the TFT elements also increases, there is a problem that electrical resistance increases. これに対して、本発明の表示パネルは、主に、各層を構成する材料を基板の全体に対して一様に成膜することによって製造可能であるから、大型な画面であっても製造が容易である。 In contrast, the display panel of the present invention, mainly, because it is possible to manufacture by uniformly depositing the material constituting each layer for the entire of the substrate, even a large-sized screen production it is easy. また、本発明の表示パネルは画素ごとの電気的なアクセスが不要であるから、画素数を増加させても、電気的な抵抗が増加することはない。 The display panel of the present invention because the electrical access for each pixel is not required, increasing the number of pixels, the electrical resistance does not increase. 画素数を増加させても電気的な抵抗が増加しないため、表示パネルの全体に制御光を入射させることが可能であれば、大型な表示パネルであっても容易に駆動を制御することができる。 Because even by increasing the number of pixels electrical resistance does not increase, it is possible be made incident control light across the display panel to control if possible, the easily driven even large-sized display panel . さらに、電気的な抵抗が増加しないうえ、EL層自体の消費電力が少ないことから、表示パネルを大型とする場合の消費電力を低減することができる。 Moreover, terms of electrical resistance does not increase, since the power consumption of the EL layer itself is small, it is possible to reduce power consumption when the display panel and large. これにより、大型化が容易な表示パネルを得られる。 Thus, large-sized can be obtained easily display panel.

また、本発明の好ましい態様によれば、EL層は、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなすことが望ましい。 According to a preferred embodiment of the present invention, EL layer, it is desirable to form a split structure in a plurality of regions corresponding to pixels. これにより、画像信号に応じて画素ごとに発光させて表示することが可能な表示パネルを得られる。 Thus, the resulting display panel capable of displaying by light emission for each pixel according to an image signal.

また、本発明の好ましい態様によれば、第1の透明電極層の、制御光を入射させる面の近傍に設けられ、画素に対応して開口部が形成された遮光部を有し、開口部は、制御光を通過させることにより、所定の画素に対応する第1の透明電極層の位置に入射させる位置に配置され、EL層は、開口部を通過した制御光を所定の画素に対応する第1の透明電極層のみに入射させることにより、画素ごとに発光することが望ましい。 According to a preferred embodiment of the present invention has the first transparent electrode layer provided in the vicinity of the surface to be incident control light, the light shielding portion having an opening formed corresponding to the pixels, the opening , by passing the control light, is disposed at a position to be incident on the position of the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel, EL layer corresponding control light passing through the opening to a predetermined pixel by incident only on the first transparent electrode layer, it is desirable to emit light for each pixel. 制御光は、遮光部に設けられた開口部を通過した後、第1の透明電極層に入射する。 Control light passes through the openings provided in the light blocking portion, is incident on the first transparent electrode layer. 開口部は、制御光を通過させ、所定の画素に対応する第1の透明電極層に入射させる位置に配置されている。 Opening passes the control light, is disposed at a position to be incident on the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel. これにより、所定の画素に対応する第1の透明電極層のみに制御光を入射させることができる。 Thus, it is possible to enter the control light only in the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel.

制御光が所定の画素とは異なる画素に対応する第1の透明電極層の方向へ進行した場合、制御光は、遮光部で遮光される。 If the control light has traveled in the direction of the first transparent electrode layer corresponding to a different pixel from the predetermined pixel, the control light is shielded by the shielding portion. このように、遮光部と、画素に応じて開口部とを設けることにより、誤って所定の画素以外の画素に対応する領域に制御光が入射することを防止できる。 Thus, it is possible to prevent the light shielding part, by providing an opening according to the pixel, that accidentally control light in a region corresponding to the pixel other than the predetermined pixel is incident. また、複数の制御光をそれぞれ異なる画素に対応する領域に入射させる場合、一つの開口部に複数の制御光を通過させる構成としても良い。 Further, when to be incident on a region corresponding plurality of control light to different pixels, respectively, may be configured to pass the plurality of control light to one of the openings. このとき、開口部に制御光を入射させることができる精度で制御光をスキャンすることにより、それ以上に制御光の入射位置を高精度に制御しなくても、所定の画素に対応する第1の透明電極層のみに、正確に制御光を入射させることができる。 In this case, by scanning the control light with an accuracy can be incident control light into the opening, even without controlling the incident position of the control light at high accuracy more than that, the first corresponding to the predetermined pixel only the transparent electrode layer, can be incident accurately control light. また、制御光のスキャン速度を遅くしなくても良いため、画像の品質を低下することなく正確に光アドレッシングを行うことができる。 Also, there is no need to slow down the scanning speed of the control light, it is possible to perform accurate light addressing without reducing the quality of the image. これにより、正確な制御を容易に行うことができる。 Thus, it is possible to perform accurate control easily.

また、本発明の好ましい態様としては、EL層は、導電率可変層の上に設けられた複数の仕切部材によって、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなすことが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, EL layer, by a plurality of partition members provided on the conductivity-variable layer, it is desirable to form a structure which is divided into a plurality of regions corresponding to pixels. 導電率可変層の上に仕切部材を設けることによって、EL層を、複数の画素に分割された構造とする。 By providing the partition member on the conductivity-variable layer, and an EL layer, it is divided into a plurality of pixel structures. これにより、画像信号に応じて画素ごとに発光させて表示することが可能な表示パネルを得られる。 Thus, the resulting display panel capable of displaying by light emission for each pixel according to an image signal.

また、本発明の好ましい態様としては、EL層は、導電率可変層と接する側の面に、画素に対応して設けられた反射電極を有し、反射電極は、画素に対応するEL層の領域より大きい領域を有することが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, EL layer, the surface on the side contacting the variable conductivity layer has a reflective electrode provided in correspondence to the pixel, the reflective electrode, the EL layer corresponding to the pixel it is desirable to have a larger area than the region. 仕切部材は、導電率可変層の上に設けられている。 The partition member is provided on the conductivity-variable layer. そして、第1の透明電極層のうち仕切部材に対応する位置に制御光が入射すると、導電率可変層は、仕切部材の下部でのみ導電率が変化する。 When the control light at a position corresponding to the partition member of the first transparent electrode layer is incident, the variable conductivity layer, conductivity is changed only at the bottom of the partition member. 導電率可変層の導電率が仕切部材の下部でのみ変化するとき、EL層に十分な電圧を印加することができず、EL層を発光させることができない場合がある。 When the conductivity of the variable conductivity layer is changed only at the bottom of the partition member, it is impossible to apply a sufficient voltage to the EL layer, it may not be possible to emit light EL layer. ここで、本発明の表示パネルはTFT素子を不要とすることから、仕切部材の下部に電気配線を設ける必要がない。 Here, the display panel of the present invention obviates the need for the TFT elements, it is not necessary to the lower portion of the partition member providing electrical interconnection. このため、反射電極を、仕切部材の下部の空間にまで反射電極の領域を広げることができる。 Therefore, the reflective electrode, it is possible to widen the area of ​​the reflective electrode to the bottom of the space of the partition member.

反射電極の周辺部を、仕切部材と導電率可変層との間に挟むようにして設けると、仕切部材で画素ごとに分割されているEL層の部分より、仕切部材と導電率可変層とに挟まれている領域の分だけ、画素ごとの反射電極の領域が大きくなる。 The peripheral portion of the reflective electrode, the provision so as to sandwich between the partition member and the variable conductivity layer, than the portion of the EL layer is divided for each pixel by the partition member, is sandwiched between the partition member and the variable conductivity layer and that by the amount of area, the area of ​​the reflective electrode of each pixel is increased. 画素ごとの反射電極の領域を、仕切部材で分割されているEL層の部分の領域より大きくできるため、反射電極が、EL層と同様に、画素に対応して分割されている場合よりも、広い範囲に入射した制御光を利用することができる。 The area of ​​the reflective electrode of each pixel, since it larger than the area of ​​the portion of the EL layer is divided by the partition member, the reflective electrode, similarly to the EL layer, than when it is divided corresponding to the pixels, can utilize a control light enters a wide area. また、広い範囲に入射した制御光を利用することができるため、制御光の入射位置を高い精度で制御することが困難であっても、表示パネルの制御を十分に行うことができる。 Further, it is possible to utilize the control light enters a wide area, even difficult to control the incident position of the control light at high accuracy can be performed sufficiently control the display panel. これにより、効率良くEL層を発光させることができる。 Thus, it is possible to emit light efficiently EL layer.

また、本発明の好ましい態様としては、導電率可変層は、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなすことが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, the variable conductivity layer, it is desirable to form a split structure in a plurality of regions corresponding to pixels. 導電率可変層の導電率が変化する領域は、制御光の照射位置を中心として制御光の強度とその照射時間とに比例して周辺へ拡がる傾向がある。 Region the conductivity changes in the conductivity variable layer tend to spread to the peripheral in proportion to the intensity of the control light and its irradiation time around the irradiation position of control light. 導電率可変層を、EL層と同様に画素に対応する複数の領域に分割された構造とすると、制御光によって所定の画素に対応するEL層を正確に発光させることができる。 The conductivity-variable layer, when the EL layer and divided into a plurality of regions corresponding to the pixel as well structure, the EL layer corresponding to a predetermined pixel by the control light can be accurately emit light. また、制御光の入射位置を高い精度で制御することが困難であっても、表示パネルの制御を十分に行うことができる。 Moreover, even if it is difficult to control the incident position of the control light at high accuracy can be performed sufficiently control the display panel. これにより、正確な制御が可能な表示パネルを得られる。 Thus, it obtained a possible precise control display panel.

また、本発明の好ましい態様としては、EL層の複数の領域は、第1色光用画素と、第2色光用画素と、第3色光用画素と、に対応して設けられ、画素集合体は、1つの第1色光用画素と、1つの第2色光用画素と、1つの第3色光用画素とから構成され、複数の画素集合体が、所定の略直交する2方向に略等間隔で設けられていることが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, a plurality of regions of the EL layer, a pixel for the first color light, a pixel second color light, and a third for color light pixels are provided corresponding to the pixel aggregate , one of the first color-light pixels, and one second color-light pixels is composed of one of the third color light pixels, a plurality of pixels aggregates, at substantially regular intervals in two directions a predetermined substantially perpendicular it is desirable to provided. 第1色光用画素と、第2色光用画素と、第3色光用画素とにより、フルカラーの画像を表示する。 A pixel first color light, a pixel for the second color light by the for the third color light pixel to display a full-color image. 第1色光用画素と、第2色光用画素と、第3色光用画素とで画素集合体を構成すると、各画素を密に配列できる。 A pixel for the first color light, a pixel second color light, when forming the pixel aggregate in the third color-light pixels, each pixel can be densely arranged. 各画素を密に配列可能であると、表示パネルの開口率を向上させ、明るい画像を得られる。 When the pixels are densely be arranged to improve the aperture ratio of the display panel, obtain a bright image. さらに、複数の画素集合体が2次元方向に略等間隔で配列されていることにより、画像のひずみを低減し、正確に画像を表示することができる。 Moreover, by a plurality of pixels assemblies are arranged at substantially equal intervals in two dimensions, to reduce the distortion of the image can be displayed accurately image. これにより、明るく正確なフルカラー像を得られる。 Thus, the resulting bright accurate full-color image.

さらに、本発明によれば、基板上に、第1の透明電極層を形成する第1の透明電極層形成工程と、第1の透明電極層形成工程において形成された第1の透明電極層の上に、導電率可変層を形成する導電率可変層形成工程と、導電率可変層形成工程において形成された導電率可変層の上に、所定の間隔で仕切部材を形成する仕切部材形成工程と、仕切部材形成工程において形成された仕切部材どうしの間にEL層を形成するEL層形成工程と、仕切部材形成工程において形成された仕切部材と、EL層形成工程において形成されたEL層との上に第2の透明電極層を形成する第2の透明電極層形成工程と、第2の透明電極層形成工程において形成された第2の透明電極層の上に、保護層を形成する保護層形成工程と、を含むことを特徴とする表 Furthermore, according to the present invention, on a substrate, a first transparent electrode layer forming step of forming a first transparent electrode layer, the first transparent electrode layer formed in the first transparent electrode layer forming step above, and conductivity-variable layer forming step of forming a variable conductivity layer, on the conductivity-variable layer forming step conductivity-variable layer which is formed in the partition member forming step of forming the partition member at a predetermined interval , of the EL layer forming step of forming an EL layer between the partition member to each other which are formed in the partition member forming step, and the partition member formed in the partition member forming step, an EL layer formed in the EL layer forming step a second transparent electrode layer forming step of forming a second transparent electrode layer on top, on the second transparent electrode layer formed in the second transparent electrode layer forming step, the protective layer to form a protective layer Table, which comprises a forming step, a パネルの製造方法を提供することができる。 Method of manufacturing a panel can be provided. これにより、上記の表示パネルを製造することができる。 Thus, it is possible to manufacture the above-described display panel. また、上記の表示パネルはTFT素子を不要とするため、画素を構成するための仕切部材や、画素に対応して設けられているEL層以外の部分の層を、基板に対して全面に成膜することによって形成できる。 Further, since the above-described display panel which eliminates the need for TFT elements, and the partition member for forming a pixel, the layer in the portion other than the EL layer provided in correspondence with pixels, on the entire surface to the substrate forming It can be formed by membranes. このため、表示パネルを容易に製造することができる。 Therefore, it is possible to easily manufacture the display panel.

さらに、本発明によれば、第1の基板上に、第1の透明電極層を形成する第1の透明電極層形成工程と、第1の透明電極層形成工程において形成された第1の透明電極層の上に、導電率可変層を形成する導電率可変層形成工程と、を含み、第1の基板と、第1の透明電極層と、導電率可変層と、を有する第1の層状構造体を形成する第1の層状構造体形成工程と、第2の基板上に、第2の透明電極層を形成する第2の透明電極層形成工程と、第2の透明電極層形成工程において形成された第2の透明電極層の上に、所定のパターンで仕切部材を形成する仕切部材形成工程と、仕切部材形成工程において形成された仕切部材によって囲まれている第2の透明電極層上の領域にEL層を形成するEL層形成工程と、を含み、第2の基板と、第2の Furthermore, according to the present invention, on the first substrate, a first transparent electrode layer forming step of forming a first transparent electrode layer, a first transparent formed in the first transparent electrode layer forming step on the electrode layer, wherein the conductivity-variable layer forming step of forming a conductivity-variable layer, and a first substrate, a first layer having a first transparent electrode layer, and the conductivity-variable layer, the a first layered structure forming step of forming a structure, on the second substrate, a second transparent electrode layer forming step of forming a second transparent electrode layer, the second transparent electrode layer forming step on the second transparent electrode layer formed, the partition member forming step and the second transparent electrode layer which is surrounded by a partition member formed in the partition member forming step of forming the partition members in a predetermined pattern of anda EL layer forming step of forming an EL layer in the region, and a second substrate, the second 明電極層と、仕切部材と、エレクトロ・ルミネッセンス層と、を有する第2の層状構造体を形成する第2の層状構造体形成工程と、第1の層状構造体形成工程において形成された導電率可変層と、第2の層状構造体形成工程において形成されたEL層と、を貼り合わせて、第1の層状構造体形成工程において形成された第1の層状構造体と、第2の層状構造体形成工程において形成された第2の層状構造体と、を一体にする貼り合せ工程と、を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法を提供することができる。 A transparent electrode layer, and the partition member, and electro-luminescence layer, and a second layered structure forming step of forming a second layered structure having a conductivity which is formed in the first layered structure forming step a variable layer, a second layered structure forming step EL layer formed in, by bonding, a first layered structure formed in the first layered structure forming step, the second layered structure a second layered structure formed in the body formation step, it is possible to provide a manufacturing method of a display panel, characterized in that it comprises a bonding step to integrate the.

表示パネルにTFT素子を設ける場合、TFT素子の電極の位置と、画素に対応させるEL層の位置とを整合させるようにして製造する必要がある。 When providing the TFT elements in the display panel, and the position of the electrode of the TFT elements, it is necessary to be manufactured so as to align the position of the EL layer to correspond to the pixel. これに対して、上記の表示パネルは、TFT素子を不要とする。 In contrast, the above-described display panel, eliminating the need for TFT elements. EL層は、TFT素子を設ける場合のように位置を整合させる必要がなく、第1の基板に対して全面に成膜されている導電率可変層上に、画素に対応させて構成すれば良い。 EL layer, a position it is not necessary to align the like in the case of providing the TFT elements, the conductivity-variable layer on which is formed over the entire surface with respect to the first substrate, may be configured to correspond to the pixel . このため、第1の基板に対して全面に成膜可能な第1の層状構造体と、画素に対応した構造の第2の層状構造体と、をそれぞれ別体として形成できる。 Therefore, it is possible to form the first and the layered structure can be formed on the entire surface with respect to the first substrate, and a second layered structure having a structure corresponding to the pixel, as separate, respectively. そして、第1の層状構造体と、第2の層状構造体とを貼り合せて一体にすることにより、表示パネルを製造することができる。 Then, by integrally bonding the first layered structure and a second layered structure, it is possible to manufacture a display panel. この場合、第2の層状構造体は、第2の基板の上に、順次第2の透明電極層と、EL層とを積層させて形成できる。 In this case, the second layered structure on the second substrate can be formed by laminating a transparent electrode layer of the order as soon as 2, and the EL layer. 第2の層状構造体を、第2の基板である保護層の上に順次各層を積層させて形成できると、画素に対応した層状構造の上に保護層を形成する場合より、保護層を強固な部材とすることができる。 The second layered structure and may be formed by stacking sequentially the layers on the protective layer which is a second substrate, than the case of forming a protective layer on the layered structure corresponding to pixels, robust protective layer it can be a member. 本発明によると、表示パネルの保護層を強固にできることから、製造された表示パネルを長期間使用することができる。 According to the present invention, because it can firmly protective layer of the display panel, it is possible to use a display panel manufactured long time.

さらに、本発明によれば、表示パネルと、表示パネルに電圧を印加する電源と、表示パネルに制御光を供給する制御光用光学系と、を有し、表示パネルは、上記の表示パネルであって、電源は、表示パネルの第1の透明電極層と第2の透明電極層との間に電圧を印加し、制御光用光学系は、制御光を表示パネルの第1の透明電極層に入射させることを特徴とする表示装置を提供することができる。 Furthermore, according to the present invention includes a display panel, a power source for applying a voltage to the display panel, and a control light optical system that supplies a control light to the display panel, the display panel, the above display panel there, the power supply voltage is applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer of the display panel, the control light optical system includes a first transparent electrode layer of the display panel control light it is incident on it is possible to provide a display device comprising a. 本発明の表示装置は、制御光用光学系からの制御光を入射させることにより制御する。 Display device of the present invention controls by incident control light from the control light optical system. EL層を発光させるための電圧は、第1の透明電極層と第2の透明電極層との間に印加されている。 Voltage for causing the light EL layer is applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer. EL層を発光させるための電圧は電源によって印加されているため、制御光の強度は、導電率可変層の電気的な導電率を変化させる程度で良い。 Since the voltage for causing the light-emitting EL layers are applied by the power supply, the intensity of the control light may be a degree of changing the electrical conductivity of the variable conductivity layer. このため、制御光用光学系は、強度が大きい制御光を発生させることが困難であっても、本発明の表示装置に使用することができる。 Therefore, the control light optical system, even if it is difficult to generate a strength greater control light, can be used in the display device of the present invention. 強度の大きい制御光を発生させる必要がないことから、表示装置を安全に使用することができる。 It is not necessary to generate a large control light intensity, it is possible to safely use the display device. また、上記の表示パネルを使用することから、消費電力が少なく表示パネルの大型化も容易である。 Further, since the use of the display panel described above, upsizing of the power consumption is small display panel is easy.

さらに、制御光用光学系は、ビーム状の制御光を第1の透明電極層に走査させる。 Furthermore, the control light optical system is to scan the beam shape of the control light into the first transparent electrode layer. 本発明の表示装置は、例えばCRTを用いる表示装置のように真空管を必要としないため、表示パネルを大型としても、表示装置を軽量にできる。 Display device of the present invention, for example, because it does not require a vacuum tube as a display device using a CRT, even as a large display panel can be a display device lighter. また、電子線を用いる場合と異なり、制御光は、ミラーにより進行方向を屈折させることや、レンズにより絞ることが可能である。 Further, unlike the case of using an electron beam, the control light, thereby refracting the traveling direction by the mirror and it is possible to narrow the lens. このため、表示装置を薄型としても、例えばミラーを用いて制御光の進行方向を折り曲げることによって、大型な表示パネル全体に制御光をスキャンすることができる。 Therefore, even as a thin display device, for example by bending the traveling direction of the control light with a mirror, it is possible to scan the control light on the entire large-size display panel. さらに、制御光の進行方向を折り曲げることによって、表示装置を小型に維持したまま制御光の光路が長くなる。 Further, by bending the traveling direction of the control light, the optical path of the left control light was kept small is longer display device. このため、制御光の走査角度を小さくすることができる。 Therefore, it is possible to reduce the scanning angle of the control light. これにより、表示パネルを容易に大型化できる表示装置を得られる。 Thus, the resulting display device can be easily large-sized display panel.

また、本発明の好ましい態様としては、制御光用光学系は、開口部に制御光を通過させることにより、所定の画素に対応する第1の透明電極層の位置に入射させることが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, the control light optical system, by passing the control light into the opening, it is desirable to be incident on the position of the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel. 表示パネルの開口部は、制御光を通過させ、所定の画素に対応する第1の透明電極層に入射させる位置に配置されている。 Opening of the display panel passes the control light, is disposed at a position to be incident on the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel. 制御光用光学系は、開口部に制御光を通過させることにより所定の画素に対応する第1の透明電極層の位置に入射させる。 Control light optical system to be incident on the position of the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel by passing the control light into the opening. これにより、制御光を、所定の画素に対応する第1の透明電極層に正確に入射させることができる。 Thus, the control light can be precisely incident on the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel. また、例えば、R光用EL層と、G光用EL層と、B光用EL層とをそれぞれ異なる制御光によって駆動する場合、一つの開口部に各色光用EL層に入射させる制御光を通過させる構成とすることもできる。 Further, for example, the EL for R light layer, and the G-light EL layer, when driving the B-light EL layer by a different control light, respectively, the control light to be incident on the EL layer for each color light in one of the openings It may be configured to pass. このとき、開口部に制御光を入射させることができる精度で制御光をスキャンさせることにより、それ以上に制御光の入射位置を高精度に制御しなくても、各色光用EL層に、正確に制御光を入射させることができる。 In this case, by scanning the control light with an accuracy can be incident control light into the opening, the incident position of the control light without accurately controlled, the EL layer for each color light more than that, exactly the control light can be incident on the. これにより、正確な制御を容易に行うことができる。 Thus, it is possible to perform accurate control easily.

また、本発明の好ましい態様としては、制御光用光学系は、複数の制御光用光源ユニットを有し、制御光用光源ユニットは、第1色光用画素に対応する第1の透明電極層に第1の制御光を供給する第1制御光用光源部と、第2色光用画素に対応する第1の透明電極層に第2の制御光を供給する第2制御光用光源部と、第3色光用画素に対応する第1の透明電極層に第3の制御光を供給する第3制御光用光源部と、からなり、複数の制御光用光源ユニットは、それぞれ表示パネルの異なる領域に、第1の制御光と、第2の制御光と、第3の制御光とを供給することが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, the control light optical system has a plurality of control light source unit, the control light source unit, the first transparent electrode layer corresponding to a first color light pixel a first control light source unit for supplying a first control light and a second second control light source unit supplies the control light to the first transparent electrode layer corresponding to a second color light pixel, the a first to a transparent electrode layer 3 third control light source unit supplies a control light corresponding to a third color light pixel consists a plurality of control light source unit, in different regions of each display panel a first control light, it is desirable to provide a second control light, and the third control light.

各制御光用光源ユニットによって表示パネルの領域を分担して各制御光を供給することにより、ガルバノミラーから表示パネルまでの距離を短くできる。 By supplying the control light to share a region of the display panel by the control light source unit can shorten the distance from the galvano mirror to the display panel. また、表示パネルの領域を分担して各制御光を供給することにより、各制御光の走査角度を小さくすることもできる。 Further, by supplying the respective control light by sharing an area of ​​the display panel, it is also possible to reduce the scanning angle of the control light. 各制御光の走査距離を小さくするため、各制御光の走査速度を小さくしても、画像表示を十分に行うことができる。 To reduce the scanning distance of the control light, be smaller the scanning speed of the control light, the image display can be sufficiently performed. これにより、表示装置を小型化できるうえ、制御光を容易に走査することができる。 Thus, upon which can be miniaturized display device, it is possible to easily scan the control light.

また、本発明の好ましい態様としては、少なくとも制御光用光学系を収納する筐体を有し、表示パネルは、筐体に設けられていることが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention includes a housing for accommodating at least the control light optical system, the display panel is preferably provided in the housing. 上記の表示パネルを筐体に設けるため、表示パネルを大型としても、筐体を軽量で薄型にすることができる。 To provide the above-described display panel housing, even as a large display panel, it is possible to thin the housing lightweight. これにより、表示パネルの大型化が容易な表示装置を得られる。 Accordingly, size of the display panel is obtained an easy display device.

また、本発明の好ましい態様としては、他の画像表示装置からの光を、制御光として用いることが望ましい。 Further, a preferred embodiment of the present invention, light from another image display apparatus, it is desirable to use as the control light. 表示パネルの第1の透明電極層と、他の画像表示装置のディスプレイとを対向させて表示パネルを配置し、ディスプレイからの光を制御光として、表示パネルの第1の透明電極層に入射させる。 A first transparent electrode layer of the display panel, a display of another image display device to place the display panel so as to face the light from the display as the control light, is incident on the first transparent electrode layer of the display panel . 導電率可変層は、ディスプレイからの光が入射した第1の透明電極層の位置に対応する位置において、ディスプレイからの光の光量に応じて導電率を変化させる。 Variable conductivity layer is at a position corresponding to the position of the first transparent electrode layer where light is incident from the display, changing the conductivity in accordance with the amount of light from the display. このため、EL層が表示パネルの一面に、一様に設けられている場合であっても、第1の透明電極層に入射したディスプレイからの光の位置及び光量に応じてEL層を発光させ、画像を表示することができる。 Therefore, on one side of the EL layer display panel, even if provided uniformly causes the light EL layer in accordance with the position and light quantity of light from the display is incident on the first transparent electrode layer , the image can be displayed. このようにして、表示パネルは、第1の透明電極層にディスプレイからの光を入射させることにより駆動することができる。 In this way, the display panel may be driven by incident light from the display to the first transparent electrode layer. さらに、表示パネルの、ディスプレイからの光の入射側と、表示パネルの発光光の射出側とにカラーフィルタを設けることにより、表示パネルにおいてフルカラー像を得ることもできる。 Further, the display panel, and a light incident side of the display, by providing a color filter on the exit side of the luminescent light of the display panel, it is possible to obtain a full color image on the display panel. これにより、簡易な構成で、他の画像表示装置の画像を表示可能な表示パネルを得られる。 Thus, with a simple configuration, obtain a display panel image capable of displaying the other image display device.

以下に図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する。 With reference to the drawings, an embodiment of the present invention in detail.

図1は、本発明の実施例1に係る表示装置100の概略構成を示す。 Figure 1 shows a schematic configuration of a display apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention. 本実施例では、まず表示装置100の構成と、制御光による制御について説明し、次に表示装置100による具体的な画像表示について説明する。 In this embodiment, the configuration of the first display device 100, describes the control of the control light, will be described specifically image display by the display device 100. 表示装置100は、表示パネル120と、電源130と、制御光用光学系140とから構成されている。 Display device 100 includes a display panel 120, a power supply 130, and a control light optical system 140.. 表示パネル120は、有機EL層110を発光させることによって画像を表示する。 Display panel 120 displays an image by emitting the organic EL layer 110.

基板101は、光学的に透明な硝子部材、ポリマー部材等により構成された平行平板である。 Substrate 101 is optically transparent glass member, a parallel flat plate constituted by the polymer member or the like. 基板101の上には、光学的に透明な第1の透明電極層102、導電率可変層103が順次積層されている。 On a substrate 101, an optically transparent first transparent electrode layer 102, variable conductivity layer 103 are sequentially stacked. 第1の透明電極層102は、ITO膜で構成できる。 The first transparent electrode layer 102 may be composed of an ITO film. 導電率可変層103は、第1の透明電極層102を透過した制御光Lにより、電気的な導電率を変化させる。 Variable conductivity layer 103 is, the control light L transmitted through the first transparent electrode layer 102, changing the electrical conductivity. 導電率可変層103は、例えばアモルファス・シリコン(以下、「a−Si」という。)又は感光性有機膜などを用いることができる。 Variable conductivity layer 103 is, for example, amorphous silicon (hereinafter "a-Si" hereinafter.) Or the like can be used or a photosensitive organic film. 例えば、a−Siは、水素を含んでいることが望ましい。 For example, a-Si, it is preferable to contain hydrogen. また、a−Siは、気相成長法(CVD法)により形成する。 Also, a-Si is formed by vapor deposition (CVD). a−Siは、制御光Lを全く照射させていない状態では、電気的な導電率が略ゼロ(即ち抵抗値が略無限大)の絶縁性部材として機能する。 a-Si, in the state of not completely by irradiating the control light L, the electrical conductivity is substantially zero (i.e. resistance substantially infinite) functions as an insulating member. これに対して、a−Siに制御光Lを照射させると、その光量に応じて導電率が大きくなる(即ち抵抗値が小さくなる)。 In contrast, when the irradiation with the control light L in a-Si, the conductivity increases (i.e. the resistance value decreases) in accordance with the amount of light. 導電率可変層103において導電率が変化する領域は、制御光Lを照射させた第1の透明電極層102の領域である。 Region the conductivity in the variable conductivity layer 103 is changed, an area of ​​the first transparent electrode layer 102 is irradiated with the control light L.

導電率可変層103の上には、有機EL層110が設けられている。 On the conductivity-variable layer 103, the organic EL layer 110 is provided. 有機EL層110は、導電率可変層103の側から、反射電極111、ITO膜112、正孔輸送層113、有機発光層114、電子輸送層115が順次積層されて構成されている。 The organic EL layer 110, from the side of the variable conductivity layer 103, the reflection electrode 111, ITO film 112, hole transport layer 113, organic light emitting layer 114, an electron transport layer 115 are formed are sequentially stacked. 反射電極111は、金属、例えば、アルミニュウム(Al)を蒸着することによって構成することができる。 Reflective electrode 111, a metal, for example, can be constructed by depositing aluminum (Al). ITO膜112は、反射電極111から正孔輸送層113への電荷の放出を促すために設けられている。 ITO film 112 is provided to facilitate release of charges from the reflection electrode 111 into the hole-transporting layer 113. 正孔輸送層113の材料としては、例えば、トリアゾール誘導体を用いることができる。 As the material of the hole transport layer 113, for example, it can be used triazole derivative. 有機発光層114には、例えば、ベンゾチアゾール系化合物を用いることができる。 The organic light emitting layer 114, for example, can be used benzothiazole compound. 電子輸送層115には、例えば、ジフェニルキノン誘導体等の電子伝達性化合物を用いることができる。 The electron transport layer 115, for example, may be an electron transfer compounds such as diphenyl quinone derivative. 正孔輸送層113、有機発光層114、電子輸送層115は、いずれも数十nm程度の厚みを有することから、光学的に透明である。 Hole transport layer 113, organic light emitting layer 114, an electron-transporting layer 115, since all have a thickness of approximately several tens nm, it is optically transparent. 第2の透明電極層104は、第1の透明電極層102と同様、ITO膜で構成できる。 The second transparent electrode layer 104, similarly to the first transparent electrode layer 102 can be composed of an ITO film. 第2の透明電極層104の上には、基板101と同様の、光学的に透明な部材からなる保護層105が設けられている。 On the second transparent electrode layer 104, similar to the substrate 101, the protective layer 105 is provided comprising the optically transparent member. そして、表示パネル120は、第1の透明電極層102と、第2の透明電極層104との間に、電源130によって電圧が印加されている。 The display panel 120 includes a first transparent electrode layer 102, between the second transparent electrode layer 104, a voltage is applied by the power source 130.

表示パネル120を構成する各層の積層法としては、抵抗加熱真空蒸着法、電子ビーム加熱真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、キャスト法、スピンコート法等を適宜用いることができる。 The lamination method of the respective layers constituting the display panel 120, the resistance heating vacuum deposition, electron beam heating vacuum deposition, sputtering, ion plating method, can be employed casting method, a spin coating method, or the like as appropriate. なお、有機EL層110の構成は、上述のものに限られない。 The structure of the organic EL layer 110 is not limited to those described above. 例えば、有機EL層110を構成する各層のいずれかに接着層を設けても良い。 For example, an adhesive layer may be provided on any of the layers constituting the organic EL layer 110. また、正孔輸送層113、電子輸送層115を設けず、有機発光層114に正孔輸送材料と、電子輸送材料とを混合することとしても良い。 The hole transport layer 113, without providing the electron transporting layer 115, a hole-transporting material to the organic light emitting layer 114, it is also possible to mix the electron transporting material. 反射電極111の電荷を正孔輸送層113に十分に放出させることが可能であれば、ITO膜112を設けないこととしても良い。 To sufficiently release the charge of the reflective electrode 111 to the hole transport layer 113 is possible, it is also possible without the ITO film 112.

制御光用光学系140は、ガルバノミラー144と、制御光用光源部142とから構成されている。 Control light optical system 140 includes a galvano mirror 144, and a control light source unit 142. 制御光用光学系140は、表示パネル120に対して、基板101の側に設けられている。 Control light optical system 140, the display panel 120 is provided on the side of the substrate 101. 制御光用光源部142は、ビーム状の光、例えば、レーザ光である制御光Lを供給する。 Control light source unit 142, a beam-shaped light, for example, supplies the control light L is a laser beam. 制御光用光源部142は、例えば、変調器が設けられた半導体レーザ素子や面発光レーザ素子を用いることができる。 Control light source unit 142 may be, for example, a semiconductor laser element or the surface emitting laser element modulator is provided. そして、制御光用光源部142は、制御部148からの画像信号に応じて制御光Lの強度を変調して、供給することができる。 The control light source unit 142, the intensity of the control light L in accordance with the image signal from the control unit 148 modulates, can be supplied. 制御光用光源部142からの制御光Lは、ガルバノミラー144により表示パネル120の方向に反射される。 Control light L from the control-light source unit 142 is reflected in the direction of the display panel 120 by the galvanometer mirror 144. そして、表示パネル120の方向に反射された制御光Lは、表示パネル120の基板101側の面へ入射する。 Then, the control light L reflected toward the display panel 120 is incident on a surface of the substrate 101 side of the display panel 120. ガルバノミラー144は、例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術により作成することができる。 Galvanometer mirror 144, for example, can be produced by MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology. ガルバノミラー144は、略直交する所定の2軸を中心として回動することにより、制御光Lを二方向に走査させる。 Galvanometer mirror 144 by rotating around a predetermined two axes substantially orthogonal to scan the control light L in two directions. ガルバノミラー144の回動は、制御部148によって、画像信号に応じて制御されている。 Rotation of the galvanometer mirror 144, the control unit 148 is controlled according to an image signal. このようにして、制御光用光学系140は、制御光Lを表示パネル120の基板101側の面に走査させる。 In this way, the control light optical system 140 to scan the control light L to the surface of the substrate 101 side of the display panel 120.

制御光Lとしては、導電率可変層103の電気的な導電率を変化させることが可能な波長領域の光を用いる。 The control light L, using light in a wavelength region capable of changing the electrical conductivity of the variable conductivity layer 103. このとき、制御光Lが、導電率可変層103の電気的な導電率を最も効率良く変化させるような波長領域をもつ場合、小さい光量の制御光Lを用いることができる。 At this time, the control light L, when having a wavelength region that is most efficiently change the electrical conductivity of the variable conductivity layer 103, may be used the control light L of a small amount of light. また、制御光Lが、導電率可変層103の電気的な導電率を最も効率良く変化させる波長領域以外の波長領域である場合であっても、制御光Lの光量を大きくすることにより、表示パネル120の制御に用いることが可能である。 Further, the control light L is, even if the wavelength region other than the wavelength region to be most efficiently change the electrical conductivity of the variable conductivity layer 103, by increasing the amount of control light L, the display it is possible to use the control panel 120. このようにして、制御光Lの波長と、光量とを適宜組み合わせることにより表示パネル120を制御することができる。 In this way, it is possible to control the display panel 120 by combining the wavelength of the control light L, and the quantity of light appropriately. 制御光Lとしては、紫外線レーザ、可視光線レーザ、赤外線レーザを用いることができる。 The control light L, it is possible to use ultraviolet laser, a visible light laser, an infrared laser. また、レーザ光に限らず、ビーム状の光、例えば、発光ダイオード素子(LED)からの光を制御光Lとして用いることとしても良い。 Further, not limited to the laser beam, beam-shaped light, for example, it may be used the light from a light-emitting diode (LED) as the control light L.

次に、制御光Lによる表示装置100の制御について説明する。 Next, a description will be given of the control of the display device 100 by the control light L. 制御光用光学系140からの制御光Lは、表示パネル120の基板101と、第1の透明電極層102とを透過して、導電率可変層103に入射する。 Control light L from the control-light optical system 140 includes a substrate 101 of the display panel 120, is transmitted through the first transparent electrode layer 102, is incident on the variable conductivity layer 103. 画像信号に応じた強度の制御光Lが導電率可変層103に入射されると、制御光Lの入射位置の部分について、制御光Lの光量に応じて電気的な導電率が増大する。 When the control light L having intensity corresponding to the image signal is incident on the conductivity-variable layer 103, the portion of the incident position of the control light L, the electrical conductivity increases according to the amount of the control light L. なお、厳密には、導電率可変層103の導電率が変化する領域は、制御光Lの強度とその照射時間とに比例して、照射位置を中心として周辺へ拡がる傾向がある。 Strictly speaking, the area where the conductivity of the variable conductivity layer 103 is changed in proportion to the intensity of the control light L and its irradiation time, tends to spread to the surrounding around the irradiation position. ここでは、ガルバノミラー144により制御光Lを高速に走査させることとし、制御光Lを照射させた領域近傍のみの導電率が変化するものとして扱う。 Here, it is possible to scan the control light L at high speed by the galvanomirror 144, deals with the control light L as the conductivity of only the region near that is irradiated is changed.

導電率可変層103の導電率が増大することにより、電源130の、第1の透明電極層102と接続されている一方の電極は、第1の透明電極層102と導電率可変層103とを経由して、反射電極111と電気的に接続される。 By the conductivity of the variable conductivity layer 103 is increased, the power source 130, the first transparent electrode layer 102 and the one electrode is connected, and a first transparent electrode layer 102 and the conductivity-variable layer 103 via is electrically connected to the reflective electrode 111. 導電率可変層103の導電率は、第1の透明電極層102を透過した制御光Lの光量に応じて変化するため、反射電極111には、制御光Lの光量に応じた電圧が印加される。 The conductivity of the variable conductivity layer 103 changes according to the amount of the control light L transmitted through the first transparent electrode layer 102, the reflective electrode 111, a voltage is applied in accordance with the amount of the control light L that. また、電源130の他方の電極は、第2の透明電極層104に接続されている。 The other electrode of the power source 130 is connected to the second transparent electrode layer 104. 反射電極111と第2の透明電極層104とに電圧が印加されると、反射電極111の電荷がITO膜112を介して正孔輸送層113に放出される。 When the voltage on the reflective electrode 111 and the second transparent electrode layer 104 is applied, the charge of the reflective electrode 111 is emitted through the ITO film 112 in the hole-transporting layer 113. 正孔輸送層113に電荷が放出されると、正孔輸送層113から有機発光層114へ正孔が輸送される。 When the charge on the hole transport layer 113 is released, holes are transported from the hole transporting layer 113 to the organic light emitting layer 114. さらに、反射電極111と第2の透明電極層104とに電圧が印加されると、電子輸送層115から有機発光層114へ電子が輸送される。 Further, when a voltage is applied to the reflection electrode 111 and the second transparent electrode layer 104, electrons are transported from the electron-transporting layer 115 into the organic emission layer 114. 有機発光層114では、正孔輸送層113からの正孔と、電子輸送層115からの電子とが結合する。 In the organic light emitting layer 114, and holes from the hole transport layer 113, and the electrons from the electron transporting layer 115 binds. 有機発光層114の蛍光物質は、正孔と電子とが結合するときに生じるエネルギーによって、励起される。 Fluorescent substance of the organic light emitting layer 114, the energy generated when the holes and electrons combine, excited. そして、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに発光現象を起こして、有機発光層114から光が発生する。 Then, the excited phosphor causes a light emission phenomenon when returning to a ground state, light is generated from the organic light emitting layer 114.

有機発光層114からの光は、制御光Lが入射した位置に対応する有機発光層114の位置を中心として全方向に進行する。 Light from the organic light emitting layer 114, the control light L travels in all directions around the position of the organic light emitting layer 114 corresponding to the incident position. 有機発光層114の発光位置から保護層105の方向へ進行した光は、電子輸送層115、第2の透明電極層104、保護層105を透過して、表示パネル120から射出する。 Light that has traveled in the direction of the protective layer 105 from the emission position of the organic light emitting layer 114, electron-transporting layer 115, the second transparent electrode layer 104, transmitted through the protective layer 105, emitted from the display panel 120. また、有機発光層114の発光位置から基板101の方向へ進行した光は、正孔輸送層113、ITO膜112を透過し、反射電極111で反射される。 The light traveling from the light emitting position in the direction of the substrate 101 of the organic light emitting layer 114 passes through the hole transport layer 113, ITO film 112, is reflected by the reflective electrode 111. 反射電極111で反射された光は、各層を透過して保護層105の方向へ進行して、表示パネル120から射出される。 The light reflected by the reflective electrode 111, and proceeds through the layers in the direction of the protective layer 105, is emitted from the display panel 120. 観察者は、表示パネル120の保護層105から射出される光を観察する。 The viewer observes the light emitted from the protective layer 105 of the display panel 120. 反射電極111が、基板101の方向へ進行する光を保護層105の方向へ反射させることにより、有機発光層114からの光を効率良く表示パネル120から射出させることができる。 Reflective electrode 111, by reflecting the light traveling in the direction of the substrate 101 in the direction of the protective layer 105, it is possible to emit light from the organic light emitting layer 114 from efficiently display panel 120.

このように、表示パネル120に導電率可変層103を設けて第1の透明電極層102に制御光Lを入射させることにより、第1の透明電極層102と第2の透明電極層104とに印加されている電圧のうち、制御光Lの光量に応じた電圧を有機EL層110に印加させる。 Thus, by entering the control light L to the first transparent electrode layer 102 provided with a variable conductivity layer 103 on the display panel 120, a first transparent electrode layer 102 and the second transparent electrode layer 104 of applied by that voltage, to apply a voltage corresponding to the amount of the control light L to the organic EL layer 110. 制御光Lの光量に応じた電圧により、有機発光層114を、画像信号に応じて発光させることができる。 By a voltage corresponding to the amount of the control light L, and an organic light emitting layer 114 can emit light in response to an image signal. なお、本実施例の表示パネル120は、有機EL層110が画素ごとに分割されておらず、有機EL層110は、表示パネル120の一面に一様に設けられている。 The display panel 120 of this embodiment, the organic EL layer 110 is not divided for each pixel, an organic EL layer 110 is provided uniformly on one surface of the display panel 120. 上述のように、導電率可変層103は、制御光Lを照射させた領域近傍のみの導電率が変化する。 As described above, variable conductivity layer 103, the conductivity of only the region near that is irradiated is changed to control light L. 制御光Lを照射させた領域のみの導電率が変化するため、制御光Lを入射させると、制御光Lを入射させた位置に対応して有機発光層114を発光させることができる。 Since the conductivity of only was irradiated with the control light L region changes, when the incident control light L, it is possible to correspond to is incident control light L position emitting the organic light emitting layer 114. このため、制御光用光学系140を用いて制御光Lを入射させる位置を制御することにより、画像信号に応じて有機発光層114を画素ごとに発光させて画像を表示することができる(光アドレッシング)。 Thus, by controlling the position for entering the control light L with the control light optical system 140, an organic emission layer 114 may display an image by emitting for each pixel according to an image signal (light addressing).

有機発光層114を発光させるための電圧は、電源130によって第1の透明電極層102と、第2の透明電極層104との間に印加されている。 Voltage for emitting an organic light emitting layer 114 includes a first transparent electrode layer 102 by the power source 130 is applied between the second transparent electrode layer 104. 本実施例において、制御光Lを用いて光アドレッシングする場合、制御光Lの強度は、導電率可変層103の電気的な導電率を変化させる程度で足りる。 In the present embodiment, when the light addressing with the control light L, the intensity of the control light L is sufficient extent of changing the electrical conductivity of the variable conductivity layer 103. 本実施例では、画像表示のために制御光Lのエネルギーをそのまま用いて発光させる場合に比較して、小さい強度の制御光Lを用いることができる。 In this embodiment, the energy of the control light L for image display by using it in comparison with the case of light emission, it is possible using the control light L of lower intensity. このため、制御光用光源部142は、強度が大きい制御光Lを発生させることが困難なものであっても、表示装置100に使用可能である。 Therefore, the control light source unit 142, even those is difficult to generate an intensity greater control light L, and can be used in the display device 100. このため、制御光用光学系140には、出力量が小さく安価な制御光用光源部142を用いても良い。 Therefore, the control light optical system 140, the output amount may also be used small inexpensive control-light source unit 142. また、強度の大きい制御光Lを発生させる必要がないことから、表示装置100の安全性を向上させることもできる。 Moreover, it is not necessary to generate a large control light L of strength, it can also improve the safety of the display device 100. さらに、本実施例の表示装置100は、制御光Lとしては可視光等を使用できる。 Further, the display device 100 of this embodiment, the visible light or the like can be used as the control light L. 例えば、制御光Lとして電子線を用いる必要がないから、CRTを設けた表示装置のように、真空管等の部材を必要としない。 For example, not necessary to use an electron beam as the control light L, as in the display device provided with a CRT, does not require a member, such as a vacuum tube. 真空管等の部材を必要としないため、表示パネル120を大型としても、表示装置100を軽量にできる。 It does not require a member of the vacuum tube or the like, even as a large display panel 120 can be a display device 100 to light. これにより、表示パネル120を容易に大型化できる表示装置100を得られるという効果を奏する。 Thus, an effect that is obtained in the display device 100 can easily increase the size of the display panel 120.

表示装置100は、制御光Lによって表示パネル120の駆動を制御する。 Display device 100 controls the driving of the display panel 120 by the control light L. 従って、本実施例の表示パネル120は、TFT素子を設ける必要がない。 Thus, the display panel 120 of the present embodiment, it is not necessary to provide a TFT element. TFT素子は画素ごとに設ける必要があるのに対して、表示パネル120の導電率可変層103、第1の透明電極層102、有機EL層110、第2の透明電極層104は、それぞれ基板101全体に一様に成膜することにより形成することができる。 Whereas the TFT elements must be provided for each pixel, the conductivity-variable layer 103 of the display panel 120, the first transparent electrode layer 102, the organic EL layer 110, the second transparent electrode layer 104, substrate 101, respectively it can be formed by uniformly deposited throughout. このため、表示パネル120の製造工程においてパターニングが不要であることから、TFT素子を設ける場合に比較して、表示パネル120の製造が容易である。 Accordingly, since the patterning is not required in the manufacturing process of the display panel 120, in comparison with the case of providing the TFT elements, it is easy to manufacture the display panel 120. また、制御光Lを走査させる構成によって画素ごとのアクセスが可能であるから、画素ごとに電気的にアクセスする必要もない。 Further, since it is possible to access each pixel by the configuration for scanning the control light L, it is not necessary to electrically access each pixel. 画素ごとに電気的にアクセスする必要がないことから、画素ごとに電気的な配線を施すことも不要である。 It is not necessary to electrically access each pixel, it is not necessary to apply an electrical wiring for each pixel. このため、本実施例の表示パネル120は、従来のELディスプレイより簡易な構成とすることができる。 Therefore, the display panel 120 of this embodiment can be a simple structure than the conventional EL display. 表示パネル120を簡易な構成とするうえ、製造が容易であることにより、歩留まりを向上し、製造コストを削減することも可能である。 Terms of the simple configuration of the display panel 120, by manufacturing is easy, and improve the yield, it is also possible to reduce manufacturing costs.

表示パネル120は、各層の材料を基板101一面に一様に成膜することによって製造可能であることから、表示パネル120を大型にする場合も製造が容易である。 Display panel 120, the layers of material since it can be produced by uniformly formed on the substrate 101 one surface, it is easy to manufacture even if the display panel 120 large. また、TFT素子を用いると、画面の大型化に伴いTFT素子を電気的に接続するための配線も増加する。 Further, when using a TFT element, a wiring for electrically connecting the TFT elements due to the size of the screen also increases. このため、TFT素子を用いると、画面の大型化に伴って電気的な抵抗が増加するという問題がある。 Therefore, when using a TFT element, there is a problem that electrical resistance increases with increase in the size of the screen. これに対して、本実施例の表示パネル120は、画素ごとの電気的なアクセスを不要とするため、画素数を増加させても電気的な抵抗が増加することはない。 In contrast, the display panel 120 of this embodiment, in order to eliminate the need for electrical access for each pixel, the electrical resistance by increasing the number of pixels is not increased. 電気的な抵抗が増加しないことから、制御光用光学系140によって表示パネル120の全体に制御光Lを入射させることが可能であれば、大型な表示パネル120も容易に駆動を制御することができる。 Since the electrical resistance does not increase, thereby entering the control light L on the entire display panel 120 by the control light optical system 140 is possible, that the large-sized display panel 120 also controls the easily driven it can. また、例えば、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)は、大型化に伴い、消費電力が多くなる。 Further, for example, PDP (plasma display panel) along with the size, becomes large power consumption. これに比較して、表示パネル120を大型にする場合であっても、有機EL層110は低消費電力である。 In comparison, even in the case where the display panel 120 on a large, organic EL layer 110 is a low power consumption. このように、電気的な抵抗が増加しないうえ、有機EL層110自体の消費電力が少ないことから、表示パネル120を大型とする場合であっても、表示装置100の消費電力を低減することができる。 Thus, upon an electrical resistance does not increase, since the power consumption of the organic EL layer 110 itself is small, even in the case where the display panel 120 and large, it is possible to reduce the power consumption of the display device 100 it can. これにより、大型化が容易な表示パネル120を得られるという効果を奏する。 Thus, an effect that size can be obtained easily display panel 120.

次に、本実施例の表示装置100による画像表示について具体的に説明する。 Next, specifically described image display by the display device 100 of this embodiment. 表示装置100の表示パネル120は、有機EL層110が画素ごとに分割されておらず、有機EL層110は、表示パネル120の一面に一様に設けられている。 Display panel 120 of the display device 100, the organic EL layer 110 is not divided for each pixel, an organic EL layer 110 is provided uniformly on one surface of the display panel 120. 制御光用光学系140を用いて光アドレッシングすると、表示パネル120は、有機発光層114で励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに発生するエネルギーに応じた波長の光によって、同一色のモノクロ画像を表示する。 When light addressing with the control light optical system 140, a display panel 120, the light of a wavelength corresponding to energy generated when the fluorescent substance excited by the organic light emitting layer 114 is returned to the ground state, the same color monochrome to display the image. 表示パネル120は、このように制御光用光学系140を用いて画像を表示する表示装置100に使用するほか、他の画像表示装置のディスプレイの画像を表示パネル120に読み込ませて表示するために使用することもできる。 Display panel 120 will only be used to the display device 100 for displaying an image using this control light optical system 140, for display by loading a display image of another image display device on the display panel 120 It can also be used.

図2−1は、表示装置100により、他の画像表示装置のディスプレイ210の画像を表示する概略構成を示す。 Figure 2-1, the display device 100 shows a schematic configuration of displaying an image on the display 210 of another image display apparatus. ディスプレイ210としては、例えば、CRTディスプレイを用いることができる。 The display 210, for example, can be used a CRT display. 表示パネル120と、ディスプレイ210とは、ディスプレイ210の表示面と表示パネル120の基板101(図1参照)の側とを対向させ、互いに略全面が重なり合うように配置する。 A display panel 120, the display 210, are opposed to the side of the substrate 101 of the display surface and the display panel 120 of the display 210 (see FIG. 1), arranged to be substantially entirely overlap each other. ディスプレイ210は、画像を表示する光を射出する。 Display 210 emits light for displaying an image. ここで、ディスプレイ210の画像を構成する1つの画素に対応する光を表示パネル120に入射させる場合を考える。 Here, a case where light is incident corresponding to one of pixels constituting the image of the display 210 on the display panel 120. ディスプレイ210からの光を制御光として表示パネル120に入射させると、制御光Lをガルバノミラー144によって走査させる場合と同様に、導電率可変層103(図1参照)の導電率が変化する。 When is incident on the display panel 120 with light as the control light from the display 210, similarly to the case of scanning the control light L by the galvano mirror 144, the conductivity of the variable conductivity layer 103 (see FIG. 1) is changed. 導電率可変層103は、ディスプレイ210の画素に対応する位置において、第1の透明電極層102を透過したディスプレイ210からの光の光量に応じて電気的な導電率が変化する。 Variable conductivity layer 103 is, at a position corresponding to a pixel of the display 210, the electrical conductivity changes according to the amount of light from the display 210 which has passed through the first transparent electrode layer 102.

有機EL層110(図1参照)には、導電率可変層103の導電率が変化し、所定の電圧のうち導電率可変層103の導電率に応じた電圧が印加される。 The organic EL layer 110 (see FIG. 1), the conductivity changes in the conductivity-variable layer 103, a voltage corresponding to the conductivity of the conductivity-variable layer 103 of the predetermined voltage is applied. このため、有機EL層110は、ディスプレイ210の画素に対応する位置において、第1の透明電極層102を透過したディスプレイ210からの光の光量に応じて発光する。 Therefore, the organic EL layer 110, at a position corresponding to the pixels of the display 210 emits light according to the amount of light from the display 210 which has passed through the first transparent electrode layer 102. ディスプレイ210の各画素からの光を表示パネル120に入射させて読み込ませると、有機EL層110は、ディスプレイ210からの各画素の位置及び光の光量に対応して発光する。 When the read is made incident on the display panel 120 with light from each pixel of the display 210, the organic EL layer 110 emits light corresponding to the quantity of the position and the light of each pixel of the display 210. ディスプレイ210からの各画素の位置及び光の光量に対応して有機EL層110が発光することによって、表示パネル120にディスプレイ210の画像を表示することができる。 By organic EL layer 110 emits light corresponding to the quantity of the position and the light of each pixel of the display 210 can display an image on the display 210 to the display panel 120. これにより、簡易な構成で、他の画像表示装置のディスプレイ210の画像を表示することができるという効果を奏する。 Thus, an effect that it is possible to display an image on the display 210 in a simple configuration, another image display apparatus.

図2−2に示すように、表示パネル120の、ディスプレイ210からの光の入射側と、表示パネル120の発光光の射出側とにカラーフィルタを設けることとしても良い。 As shown in Figure 2-2, the display panel 120, the incident side of light from the display 210, may be provided a color filter on the exit side of the luminescent light of the display panel 120. 例えば、表示パネル120の基板101面と、保護層105面とのそれぞれに、R光透過カラーフィルタ221、231、G光透過カラーフィルタ222、232、B光透過カラーフィルタ223、233をアレイ状に配列する。 For example, the substrate 101 side of the display panel 120, to each of the protective layer 105 side, R light transmitted through the color filters 221, 231, G light transmitted through the color filters 222, 232, the B light transmitted through the color filters 223 and 233 in an array sequences. R光透過カラーフィルタ221を施した部分は、ディスプレイ210から射出された光のうち、R成分の光が透過する。 Portions subjected to R light transmitting color filter 221, of the light exiting from the display 210, the light of the R component is transmitted. これに対して、R光透過カラーフィルタ221に入射したG成分及びB成分の光は、R光透過カラーフィルタ221を透過せず、吸収される。 In contrast, the light of G component and B component entering the R light transmitting color filter 221 does not transmit the R light transmitting color filter 221, it is absorbed. R光透過カラーフィルタ221を施した部分の有機発光層114(図1参照)は、R光透過カラーフィルタ221を透過したR成分の光の光量に応じて発光する。 The organic light emitting layer 114 of the portion subjected to the R light transmitting color filter 221 (see FIG. 1) emits light according to the amount of light of R component transmitted through the R light transmitting color filter 221.

このとき、表示パネル120における発光光は、有機発光層114で励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに発生するエネルギーに応じた色の光である。 At this time, the emitted light in the display panel 120 is a color of light corresponding to the energy generated when the fluorescent substance excited by the organic light emitting layer 114 is returned to the ground state. また、R光透過カラーフィルタ231は、R光透過カラーフィルタ221に対応する位置に設けられている。 Also, R light transmitting color filter 231 is provided at a position corresponding to the R light transmitting color filter 221. このため、R光透過カラーフィルタ221が施された部分における発光光のうち、R成分の光のみがR光透過カラーフィルタ231を透過する。 Therefore, among the light-emitting light in the portion where R light transmitting color filter 221 is applied, only the light of the R component is transmitted through the R light transmitting color filter 231. G成分の光及びB成分の光は、R光透過カラーフィルタ231を透過せず、吸収される。 Light of the light and the B component of the G component, does not transmit R light transmitting color filter 231, it is absorbed. このようにして、R光透過カラーフィルタ231が施された部分から、R光透過カラーフィルタ221に入射したR成分の光の光量に応じてR光が発生する。 In this manner, the portion R light transmitting color filter 231 is applied, R light is generated in accordance with the amount of light of R component entering the R light transmitting color filter 221.

G光、B光についても、R光と同様にして、それぞれG光透過カラーフィルタ232、B光透過カラーフィルタ233が施された部分から発生する。 G light, for the B light, as in the R light, G light transmitted through the color filter 232, the B-light transmitting color filter 233, each generated from applied part. これにより、表示パネル120においてフルカラー像を得ることができる。 This makes it possible to obtain a full-color image in the display panel 120. なお、ディスプレイ210としてはCRTディスプレイに限らず、他のディスプレイ、例えば液晶パネルや微小ミラーアレイデバイスを用いたプロジェクタを用いても良い。 The present invention is not limited to the CRT display as a display 210, other displays may be used, for example a projector using a liquid crystal panel or micro mirror array device. さらに、ディスプレイ210を用いる場合に限らず、例えば、透明フィルムに描いた静止画を、光源装置を用いて表示パネル120に投影することとしても良い。 Further, not limited to the case of using the display 210, for example, a still image depicting the transparent film, may be projected on the display panel 120 using the light source device. これにより、透明フィルムに描かれた静止画を、表示パネル120で表示することができる。 Thus, a drawn on a transparent film still image can be displayed on the display panel 120.

図3は、本発明の実施例2に係る表示装置300の概略構成を示す。 Figure 3 shows a schematic configuration of a display device 300 according to the second embodiment of the present invention. 上記実施例1の表示装置100と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。 The same parts as the display device 100 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted. 本実施例の表示装置300は、筐体360に設けられた表示パネル320から射出される光を観察するものである。 Display device 300 of this embodiment is to observe the light emitted from the display panel 320 provided in the housing 360. 筐体360には、制御光用光学系340が収納されている。 The housing 360, a control light optical system 340 is housed. 表示パネル320は、有機EL層が、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなすことを特徴とする。 Display panel 320, the organic EL layer, characterized in that forming a structure divided into a plurality of regions corresponding to pixels.

第1制御光用光源部341、第2制御光用光源部342、第3制御光用光源部343は、それぞれ第1の制御光L1、第2の制御光L2、第3の制御光L3を発生させる。 The first control light source unit 341, the second control light source unit 342, a third control-light source unit 343, the first control light L1, respectively, the second control light L2, the third control light L3 generate. そして、各制御光L1、L2、L3は、それぞれガルバノミラー344、345、346で反射された後、表示パネル320に対向して設けられているミラー350の方向に進行する。 Each control light L1, L2, L3 is reflected by the galvano mirror 344,345,346 respectively, travels in the direction of the mirror 350 is provided to face the display panel 320. ミラー350の方向に進行した各制御光L1、L2、L3は、ミラー350で反射され、表示パネル320の方向に進行する。 Each control light L1, L2, L3 that has traveled in the direction of the mirror 350 is reflected by a mirror 350, it travels in the direction of the display panel 320. ガルバノミラー344、345、346が略直交する所定の2軸を中心として回動することにより、各制御光L1、L2、L3は、表示パネル320上を走査する。 By rotating about the two predetermined axes galvanometer mirror 344,345,346 are substantially orthogonal, each control light L1, L2, L3 scans the upper display panel 320. 各制御光用光源部341、342、343、各ガルバノミラー344、345、346は、それぞれ実施例1の制御光用光源部142、ガルバノミラー144と同様の構成である。 Each control-light source unit 341, 342, 343, each galvanomirror 344,345,346, the control light source unit 142 of each of Example 1, the same structure as the galvanometer mirror 144. なお、各制御光L1、L2、L3についてそれぞれガルバノミラー344、345、346で走査させる構成に限らず、例えば、各制御光L1、L2、L3を単独のガルバノミラーを用いて同時に走査させる構成としても良い。 Incidentally, each respective control light L1, L2, L3 is not limited to the configuration in which the scanning by the galvanometer mirror 344,345,346, for example, each control light L1, L2, L3 as a to scan simultaneously using a single galvanomirror it may be. 単独のガルバノミラーを用いて各制御光L1、L2、L3を走査させると、複数のガルバノミラーの回動を正確に同期させなくても良いことから、表示パネル320の制御を容易にすることができる。 When using a single galvanomirror scanning the respective control lights L1, L2, L3, since the rotation of a plurality of galvano-mirror may not cause precisely synchronized, to facilitate the control of the display panel 320 it can.

図4は、表示パネル320と、制御光用光学系340との概略構成を示す。 4 includes a display panel 320 shows a schematic configuration of a control light optical system 340. ここでは、表示パネル320と制御光用光学系340との関係について簡潔に説明するため、各制御光L1、L2、L3がミラー350で反射される構成を省略して示している。 Here, in order to briefly explain the relationship between the display panel 320 and the control light optical system 340, it is not shown the configuration in which the control light L1, L2, L3 is reflected by the mirror 350. 表示パネル320は、基板101の側を筐体360(図3参照)の内部に、保護層105を筐体360の外部に向けて設けられている。 Display panel 320, the side of the substrate 101 inside the housing 360 (see FIG. 3), is provided a protective layer 105 toward the outside of the housing 360. 表示パネル320の導電率可変層103の上には、仕切部材であるバンク425が複数設けられている。 On the conductivity-variable layer 103 of the display panel 320, the bank 425 is provided with a plurality of a partition member. バンク425は、基板101に略平行な面における領域において略直交する2方向に線状に設けられた、電気的な絶縁部材である。 Bank 425 is arranged in two directions substantially orthogonal linearly on the area in a plane substantially parallel to the substrate 101, an electrically insulating member. バンク425は、例えばポリイミドをインクジェット法、もしくはエッチング、パターニングを施すことにより形成することができる。 Bank 425 may be formed by subjecting polyimide, for example an ink jet method, or etching, patterning. 基板101に略垂直な面で切断すると、バンク425は、図4に示すように、略二等辺三角形形状を有する。 Cleavage substantially in a plane perpendicular to the substrate 101, banks 425, as shown in FIG. 4, has a substantially isosceles triangle shape.

バンク425によって仕切られた導電率可変層103上の領域には、順次インクジェット法により、反射電極411、ITO膜412、正孔輸送層413、有機発光層414、電子輸送層415が積層される。 The area on the conductivity-variable layer 103 which are partitioned by the bank 425, by sequentially ink jet method, the reflection electrode 411, ITO film 412, hole transport layer 413, organic light emitting layer 414, an electron-transporting layer 415 are stacked. 画素は、バンク425によって分割された有機EL層410によって構成されている。 Pixel is constituted by the organic EL layer 410 divided by the bank 425. そして、各画素は、基板101上に、マトリクス状に配列されている。 Then, each pixel on the substrate 101, are arranged in a matrix. このように、表示パネル320は、有機EL層410が、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなしている。 Thus, the display panel 320, the organic EL layer 410, and has a divided structure into a plurality of regions corresponding to pixels. なお、反射電極411、ITO膜412、正孔輸送層413、電子輸送層415は、バンク425によって画素に対応する複数の領域に分割されている点以外については、実施例1の反射電極111、ITO膜112、正孔輸送層113、電子輸送層115と同様の構成である。 The reflective electrode 411, ITO film 412, hole transport layer 413, an electron-transporting layer 415, except for that it is divided into a plurality of regions corresponding to pixels by the banks 425, the reflective electrode 111 in Example 1, ITO film 112, hole transport layer 113, the same configuration as the electron-transporting layer 115.

また、表示パネル320は、基板101の、制御光用光学系340の側の面に、遮光部435が設けられている。 The display panel 320 of the substrate 101, the surface on the side of the control light optical system 340, light blocking portion 435 is provided. 遮光部435には、制御光用光学系340からの各制御光L1、L2、L3が通過する位置に、開口部437が形成されている。 The light blocking portion 435, the control light L1, L2, L3 from the control light optical system 340 is in a position to pass through an opening 437 is formed. 遮光部435は、例えば、基板101に金属蒸着を施すことにより膜状に形成することができる。 Shielding portion 435, for example, can be formed into a film shape by applying a metal deposited on the substrate 101. 開口部437は、開口部437を設ける位置をマスクして遮光部435を金属蒸着することによって形成できる。 Opening 437, the light blocking portion 435 masks the position where the opening 437 can be formed by metal deposition. さらに、蒸着法を用いる以外に、開口部437を施した遮光部材を基板101に接着させることによって、遮光部435と開口部437とを形成しても良い。 Furthermore, in addition to using the deposition method, by adhering the light-shielding member which has been subjected to the opening 437 in the substrate 101 may be formed a light shielding portion 435 and the opening 437. なお、遮光部435における開口部437の位置についての詳細は、後述する。 The details of the position of the opening 437 in the light-shielding portion 435 will be described later.

有機発光層414は、バンク425によって第1色光であるR光を発生するR光用有機発光層414Rと、第2色光であるG光を発生するG光用有機発光層414Gと、第3色光であるB光を発生するB光用有機発光層414Bと、に分割されて設けられている。 The organic light emitting layer 414, and R-light organic light emitting layer 414R that generates R light as the first color light by the bank 425, the G-light organic light emitting layer 414G which generates G light as a second color light, second color light and B light organic light-emitting layer 414B which generates the B-light is, are divided are provided. R光用有機発光層414Rと、G光用有機発光層414Gと、B光用有機発光層414Bとは、実施例1の有機発光層114と同様にして、発光現象を起こす。 And R light organic light emitting layer 414R, the G-light organic light emitting layer 414G, and the B-light organic light-emitting layer 414B, in the same manner as the organic light emitting layer 114 of Embodiment 1, causes the luminous phenomenon. R光用有機発光層414Rと、G光用有機発光層414Gと、B光用有機発光層414Bとは、それぞれの蛍光物質が励起された後に基底状態に戻るときに生じるエネルギーに応じて、異なる波長領域の光が生じる。 And R light organic light emitting layer 414R, the G-light organic light emitting layer 414G, and the B-light organic light-emitting layer 414B, each of the fluorescent substance in response to the energy generated when returning to the ground state after being excited, different light in the wavelength region occurs. そして、異なる波長領域の光が発生することによって、R光用有機発光層414Rと、G光用有機発光層414Gと、B光用有機発光層414Bとは、それぞれR光、G光、B光を発生する。 Then, different by light generated in the wavelength region, and the R-light organic light emitting layer 414R, the G-light organic light emitting layer 414G, and the B-light organic light-emitting layer 414B, each of R light, G light, B light the occur. 第1色光用画素であるR光用画素420Rは、R光用有機発光層414Rによって、R光を発生する。 R light pixel 420R is for first color light pixel by the R-light organic light emitting layer 414R, generates R light. 第2色光用画素であるG光用画素420Gは、G光用有機発光層414Gによって、G光を発生する。 G light pixel 420G is for second color light pixel by the G-light organic light emitting layer 414G, generates G light. 第3色光用画素であるB光用画素420Bは、B光用有機発光層414Bによって、B光を発生する。 B light pixel 420B is a third for color light pixel by B light organic light-emitting layer 414B, generates the B light. なお、説明のために、図4では、表示パネル320のうち一つのR光用画素420Rと、一つのG光用画素420Gと、一つのB光用画素420Bとが並列された構成について示している。 Incidentally, for the sake of explanation, in FIG. 4, shows and one R light pixel 420R of the display panel 320, and one G light pixel 420G, the structure in which a single B-light pixel 420B in parallel there.

次に、図4、図5を用いて、制御光L1、L2、L3による表示パネル320の制御について説明する。 Next, FIG. 4, with reference to FIG. 5, the control of the display panel 320 will be described by the control light L1, L2, L3. 図4に示すように、制御光用光学系340は、R光用画素420R、G光用画素420G、B光用画素420Bに対応する第1の透明電極層102の位置に、それぞれ第1の制御光L1、第2の制御光L2、第3の制御光L3を入射させる。 4, the control light optical system 340, R-light pixels 420R, G light pixel 420G, the position of the first transparent electrode layer 102 corresponding to the B-light pixel 420B, a first respectively control light L1, second control light L2, is incident on the third control light L3. ガルバノミラー344で反射された第1の制御光L1は、開口部437を通過して、R光用画素420Rの第1の透明電極層102にのみ入射する。 The first control light L1 reflected by the galvano mirror 344, passes through the opening 437, is incident only on the first transparent electrode layer 102 of the R-light pixels 420R. 開口部437は、ガルバノミラー344で反射された第1の制御光L1を、開口部437を通過して第1の透明電極層102にのみ入射させることができるような位置に設けられている。 Opening 437, the first control light L1 reflected by the galvano mirror 344 is provided in a position such that only can be incident on the first transparent electrode layer 102 through the opening 437. 言い換えると、第1の制御光L1の進行方向に開口部437を見ると、R光用画素420Rの第1の透明電極層102のみが確認できる。 In other words, looking at the opening 437 in the traveling direction of the first control light L1, only the first transparent electrode layer 102 of the R-light pixels 420R can be confirmed.

第1の制御光L1は、R光用画素420Rの第1の透明電極層102以外の方向に進行する場合は、遮光部435で遮光される。 The first control light L1, when traveling in a first direction other than the transparent electrode layer 102 of the R light pixel 420R is blocked by the light shielding portion 435. 遮光部435で遮光されるため、第1の制御光L1が、誤って、G光用画素420G、及びB光用画素420Bに入射することがない。 Because it is shielded by the shielding portion 435, the first control light L1, accidentally, never entering G light pixel 420G, and the B light pixel 420B. 第2の制御光L2と、第3の制御光L3とについても、第1の制御光L1と同様にして、それぞれG光用画素420G、B光用画素420Bの第1の透明電極層102にのみ入射する。 A second control light L2, for even a third control light L3, similarly to the first control light L1, G light pixel 420G, respectively, to the first transparent electrode layer 102 of the B light pixel 420B only incident. なお、遮光部435の位置は、各画素に正確に各制御光L1、L2、L3を入射させることが可能な位置であれば、基板101の表面の位置に限られない。 The position of the light blocking portion 435, if capable of accurately incident each control light L1, L2, L3 located at each pixel is not limited to the position of the surface of the substrate 101. 例えば、遮光部435は、第1の透明電極102の近傍であれば、基板101とは所定の空間的間隔を置いた位置や、基板101の表面以外の内部の位置等に配置することとしても良い。 For example, the light blocking portion 435, if the vicinity of the first transparent electrode 102 and the substrate 101 position and that at a predetermined spatial interval, also possible to arrange the positions of the interior of the other surface of the substrate 101 good.

図4に示すように、制御光用光学系340は、一組の各色光用画素420R、420G、420Bに対応して設けられている開口部437の近傍で進行方向が交わるようにして各制御光L1、L2、L3を表示パネル320の方向に射出させる。 4, the control light optical system 340, a set of the color light pixels 420R, 420G, each controlled as the traveling direction intersect in the vicinity of the opening 437 is provided corresponding to 420B emit light L1, L2, L3 in the direction of the display panel 320. このようにして開口部437と、制御光用光学系340とを配置することにより、各制御光L1、L2、L3をそれぞれ各色光用画素420R、420G、420Bに正確に入射させることができる。 The opening 437 this way, by arranging the control light optical system 340, the control light L1, L2, L3 pixels for the color lights respectively 420R, 420G, can be accurately incident on the 420B. そして、第1の制御光L1を、R光用画素420Rに対応する第1の透明電極層102に入射させることにより、R光用有機EL層414Rは、第1の制御光L1の光量に応じた光量のR光を発生させる。 Then, the first control light L1, by entering the first transparent electrode layer 102 corresponding to the R-light pixels 420R, R-light organic EL layer 414R is, according to the amount of the first control light L1 and generating an R light quantity. このようにして、R光用画素420Rは、画像信号に応じてR光を保護層105面から射出する。 In this manner, R-light pixels 420R emits the R light from the protective layer 105 side in accordance with an image signal. G光用画素420G、B光用画素420Bについても、R光用画素420Rと同様にして、保護層105からG光、B光を射出する。 G light pixel 420G, for the B-light pixels 420B, similarly to the R-light pixels 420R, emits G light, and B light from the protective layer 105.

図5は、各制御光L1、L2、L3が、それぞれ複数のR光用画素420R、G光用画素420G、B光用画素420Bに入射する構成を示している。 5, each control light L1, L2, L3 have shown a plurality of R light pixels 420R, G light pixel 420G, a configuration that is incident on the B light pixel 420B. ここでは、表示パネル320の複数の画素のうち、5組の各色光用画素420R、420G、420Bを図示して説明を行う。 Here, a among the plurality of pixels of the display panel 320, five sets of the color light pixels 420R, 420G, description illustrates 420B. 図5に示すように、開口部437は、各色光用画素420R、420G、420Bの各組に対応して設けられている。 As shown in FIG. 5, the opening 437 for the respective color lights pixels 420R, 420G, provided corresponding to each set of 420B. 遮光部435に開口部437を設け、開口部437に各制御光L1、L2、L3を通過させる。 An opening 437 formed in a light blocking portion 435, to pass the control light L1, L2, L3 to the opening 437. 各制御光L1、L2、L3は、それぞれ異なる位置から開口部437を通過し、選択的に、各色光用画素420R、420G、420Bに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に入射する。 Each control light L1, L2, L3 passes through the opening 437 from different positions, respectively, selectively, the color light pixels 420R, 420G, a first transparent electrode layer 102 (see FIG. 4) corresponding to 420B incident. このようにして、各制御光L1、L2、L3は、それぞれR光用画素420R、G光用画素420G、B光用画素420Bにのみ入射することができる。 In this way, each control light L1, L2, L3 can be respectively incident R-light pixels 420R, G light pixel 420G, the B-light pixel 420B only. なお、表示パネル320は、一組の各色光用画素420R、420G、420Bに対して、一つの開口部437を設ける構成に限られない。 The display panel 320 includes a set of color light pixels 420R, 420G, relative 420B, not limited to the configuration provided one opening 437. 各色光用画素420R、420G、420Bに対して正確に各制御光L1〜L3を入射させることが可能であれば、画素に対する開口部437の位置、数量について適宜変更可能である。 Each color light pixels 420R, 420G, if it is possible to accurately incident each control light L1~L3 respect 420B, the position of the opening 437 for the pixel can be appropriately changed for quantity.

例えば、遮光部435を設けない構成とすると、制御光用光学系340は、各色光用画素420R、420G、420Bの位置のみに対応して正確に各制御光L1、L2、L3を入射させなければならない。 For example, when a structure without the light shielding portion 435, a control light optical system 340, the color light pixels 420R, 420G, have to be precisely incident on each control light L1, L2, L3 corresponds only to the position of 420B shall. これに対して、遮光部435に開口部437を設ける構成とすると、制御光用光学系340は、各色光用画素420R、420G、420Bに対応して設けられている開口部437に各制御光L1、L2、L3を入射させることが可能であれば、表示装置300に使用することができる。 In contrast, when a configuration in which an opening 437 in the light shielding portion 435, a control light optical system 340, the color light pixels 420R, 420G, each control light to the opening 437 provided corresponding to 420B L1, L2, L3 if it is possible to incident, it can be used in the display device 300. これにより、制御光用光学系340は、各画素の位置レベルまで高精度に各制御光L1、L2、L3を入射させる必要がなく、各開口部437の位置レベルまでの精度で各制御光L1、L2、L3を入射させれば良い。 Thus, the control light optical system 340, to a position level of each pixel is not necessary to enter the respective control lights L1, L2, L3 with high precision, the control light L1 with a precision of up to a position level of each opening 437 , it is sufficient to enter the L2, L3. 各制御光L1、L2、L3は、照射したまま画像信号に応じて変調させて走査させることも可能となる。 Each control light L1, L2, L3 is also possible to scan by modulated according to image signals while irradiating.

このように、制御光用光学系340からの各制御光L1、L2、L3の入射位置レベルのオーダーが大きくなること、各制御光L1、L2、L3を照射したまま画像信号に応じて変調させることにより、表示パネル320の制御が容易となる。 Thus, the order of the incident position level of the control light L1, L2, L3 from the control light optical system 340 that increases, thereby modulated in accordance with image signals while irradiating each control light L1, L2, L3 by, it is easy to control the display panel 320. また、各制御光L1、L2、L3のスキャン速度を遅くしなくても、正確に光アドレッシングを行うことができる。 Moreover, even without slowing down the scanning speed of the control light L1, L2, L3, it is possible to accurately perform optical addressing. このため、高品質な画像を表示するために必要な速度で各制御光L1、L2、L3をスキャンしても、各色光用画素420R、420G、420Bに、正確に各制御光L1、L2、L3を入射させることができる。 Therefore, the control light L1 at a speed required to display a high quality image, L2, also scans the L3, the color light pixels 420R, 420G, the 420B, precisely the control light L1, L2, L3 can be incident. さらに、大型な表示パネル320についても、正確な制御を容易に行うことができる。 Further, for the large-sized display panel 320, it is possible to perform accurate control easily. これにより、画像の品質を低下することなく正確な制御を容易に行うことができるという効果を奏する。 Thus, an effect that accurate control can be easily performed without degrading the quality of the image.

電子線を用いる場合と異なり、制御光L1、L2、L3は、表示装置300のようにミラー350で進行方向を屈折させることや、レンズにより絞ることが可能である。 Unlike the case of using an electron beam, the control light L1, L2, L3 are or be refracted the traveling direction by the mirror 350 as the display device 300, it is possible to narrow the lens. ミラー350で制御光L1、L2、L3の進行方向を折り曲げることが可能であると、表示装置300を薄型としても、大型な表示パネル320全体に各制御光L1、L2、L3をスキャンすることができる。 When the mirror 350 is capable of bending the traveling direction of the control light L1, L2, L3, but also as a thin display device 300, scan each control light L1, L2, L3 on the entire large-sized display panel 320 it can. ミラー350を設けない場合、表示パネル320の入射面に対して、略垂直な方向の位置に制御光用光学系340を設ける必要が生じる。 Case without the mirror 350, with respect to the incident surface of the display panel 320, it is necessary to provide a control light optical system 340 in a direction substantially perpendicular position. ミラー350で各制御光L1、L2、L3を屈折させて表示パネル320に入射させる構成とすると、制御光用光学系340を、表示パネルの入射面に対して略垂直な方向の位置に設ける必要がなく、筐体360の内部のいずれの位置にも配置することができる。 When refract the control light L1, L2, L3 by the mirror 350 is configured to be incident on the display panel 320, necessary to provide a control light optical system 340, in a substantially perpendicular direction position with respect to the incident surface of the display panel it can be without, arranged at any position within the housing 360. このため、筐体360を薄型にすることができる。 Therefore, it is possible to make the housing 360 thin.

さらに、各制御光L1、L2、L3をミラー350で屈折させると、各ガルバノミラー344、345、346から表示パネル320の入射面の略中央部分までの光路をより長くすることができる。 Further, when the refracting the respective control lights L1, L2, L3 by the mirror 350, it is possible to further lengthen the optical path from the galvanomirror 344,345,346 to approximately the center portion of the incident surface of the display panel 320. 表示パネル320までの光路がより長くなることにより、筐体360の小型化を維持したまま、各ガルバノミラー344、345、346による走査角度をより小さくすることができる。 By the optical path to the display panel 320 becomes longer, while maintaining the size of the housing 360 can be a scanning angle by the galvanometer mirror 344,345,346 smaller. このため、各制御光L1、L2、L3を容易に表示パネル320の入射面の全面に走査させることができる。 Therefore, it is possible to scan the entire surface of the incident surface of the control light L1, L2, L3 and easily display panel 320. 特に、大型な表示パネル320についても、各制御光L1、L2、L3を容易に走査させることができる。 In particular, for the large-sized display panel 320 can be easily scanned each control light L1, L2, L3. これにより、表示パネル320を容易に大型化できるという効果を奏する。 Thus, an effect that can be easily size of the display panel 320.

次に、図6−1、図6−2、図6−3を用いて、R光用画素420Rと、G光用画素420Gと、B光用画素420Bとの配置について説明する。 Next, Figure 6-1, Figure 6-2, with reference to Figure 6-3, and R light pixel 420R, the G light pixel 420G, the arrangement of the B light pixel 420B will be described. 図6−1、図6−2、図6−3は、表示パネル320(図4参照)を保護層105の側から確認したときの、各画素の配列を示している。 Figure 6-1 Figure 6-2, Figure 6-3, when confirming the display panel 320 (see FIG. 4) from the side of the protective layer 105, illustrates the arrangement of pixels. 図6−1は、それぞれ長方形形状のR光用画素610Rと、G光用画素610Gと、B光用画素610Bとが略正方形形状に配列された例を示す。 Figure 6-1 respectively and R light pixel 610R rectangular, and G light pixel 610G, the example arranged in a B-light pixel 610B Togaryaku square shape. R光用画素610Rと、G光用画素610Gと、B光用画素610Bとは、略正方形形状をなす画素集合体650を構成している。 And R light pixel 610R, the G light pixel 610G, and the B-light pixels 610B, constitute a pixel array 650 having a substantially square shape. そして、複数の画素集合体650は、基板101(図4参照)に略平行な面である所定の2次元方向に、略等間隔で配置されている。 The plurality of the pixel array 650 is predetermined in the two-dimensional direction approximately parallel plane to the substrate 101 (see FIG. 4), it is arranged at substantially equal intervals.

略正方形形状の画素集合体650を構成するように各画素が配列されているため、各画素を密に配列できる。 For each pixel so as to form a pixel array 650 of substantially square shape are arranged, each pixel can be densely arranged. 各画素が密に配列されていると、表示パネル320の開口率を向上させ、明るい画像を得ることができる。 As each pixel are densely arranged to improve the aperture ratio of the display panel 320, a bright image can be obtained. さらに、画素集合体650を略正方形形状として2次元方向に略等間隔で配列することにより、画像のひずみを低減し、画像信号に正確に対応して画像を表示することができる。 Moreover, by arranging at substantially equal intervals in two dimensions the pixel array 650 as substantially square shape, to reduce the distortion of the image, the image can be displayed accurately corresponds to the image signal. これにより、フルカラー像を明るく正確に表示できるという効果を奏する。 Thus, an effect that a full-color image bright can be accurately displayed. また、図6−2に示すように、図6−1に示した各画素の配列と、画素集合体650の配置を画素一つ分シフトさせても良い。 Further, as shown in Figure 6-2, the arrangement of the pixels shown in Figure 6-1, may be pixel one shifted arrangement of pixel array 650. さらに、図6−3に示すように、各画素を円形状として、略正三角形形状の画素集合体660を構成するように各画素を配列しても良い。 Furthermore, as shown in Figure 6-3, each pixel as a circular shape, it may be arranged to each pixel so as to constitute a pixel array 660 of substantially equilateral triangle shape. 画素集合体660の向きを交互に変化させて配列することにより、図6−1に示す各画素の配列と同様に、各画素を密に配列することができる。 By arranging by changing the orientation of the pixel array 660 alternately, similar to the arrangement of the pixels shown in Figure 6-1, it is possible to densely arrange the respective pixels. このため、フルカラー像を明るく正確に表示できる。 Therefore, it bright accurately display the full color image.

次に、本実施例の表示パネル320の第1の製造方法と、第2の製造方法とについて説明する。 Next, the first manufacturing method of the display panel 320 of this embodiment, the second manufacturing method will be described. 図7−1、図7−2、図7−3は、表示パネル320の第1の製造方法の手順を示す。 Figure 7-1, Figure 7-2, Figure 7-3 shows a procedure of a first manufacturing method of the display panel 320. まず、第1の透明電極層形成工程である工程aにおいて、基板101上に、第1の透明電極層102を形成する。 First, in step a is a first transparent electrode layer forming step, on the substrate 101, forming a first transparent electrode layer 102. 次に、導電率可変層形成工程である工程bにおいて、工程aにおいて形成された第1の透明電極層102上に、導電率可変層103を形成する。 Next, in step b is a variable conductivity layer forming step, on the first transparent electrode layer 102 formed in step a, to form a variable conductivity layer 103. 第1の透明電極層102と、導電率可変層103とは、基板101の全面に、一様に成膜することにより形成できる。 A first transparent electrode layer 102, the conductivity-variable layer 103, the entire surface of the substrate 101 can be formed by uniformly deposited. 次に、仕切部材形成工程である工程cにおいて、工程bで形成された導電率可変層103の上に、所定のパターンでバンク425を形成する。 Then, in step c is a partition member forming step, on the conductivity-variable layer 103 formed in step b, forming a bank 425 in a predetermined pattern. バンク425は、例えば、インクジェット法、もしくはエッチング、パターニングを施すことにより形成することができる。 Bank 425 is, for example, can be formed by applying an ink-jet method, or etching, patterning. 表示パネル320上の各画素は、バンク425で分割されることにより構成される。 Each pixel on the display panel 320 is constructed by being divided by the bank 425. このため、バンク425のパターンは、各画素の形状に応じて変更することができる。 Therefore, the pattern of the banks 425 may be changed according to the shape of each pixel.

次に、EL層形成工程において、工程cで形成されたバンク425どうしの間に有機EL層410を形成する。 Next, the EL layer forming step, forming an organic EL layer 410 between and what bank 425 formed in step c. EL層形成工程では、まず、工程dにおいて、反射電極411が設けられる。 The EL layer forming process, first, in step d, the reflection electrode 411 is provided. 反射電極411は、アルミニュウム等の金属を蒸着して形成できる。 Reflective electrode 411 may be formed by depositing a metal such as aluminum. 次に、工程dにおいて設けられた反射電極411の上に、順次、工程eにおいてITO膜412、工程fにおいて正孔輸送層413、工程gにおいて有機発光層414を積層する。 Next, on the reflective electrode 411 provided in step d, successively, ITO film 412 in step e, a hole transport layer 413 in the step f, laminating the organic light emitting layer 414 in step g. 反射電極411、ITO膜412、正孔輸送層413、有機発光層414の各層は、インクジェット技術を用いて積層することができる。 Each layer of the reflective electrode 411, ITO film 412, hole transport layer 413, organic light emitting layer 414 can be laminated using the inkjet technique. 特に、工程gにおいて、インクジェット技術により、R光用有機発光層414Rと、G光用有機発光層414Gと、B光用有機発光層414Bと(図4参照)を、所望の位置に選択的に成膜することができる。 In particular, in step g, the ink jet technology, and R-light organic light emitting layer 414R, the G-light organic light emitting layer 414G, B light organic light-emitting layer 414B and a (see FIG. 4), selectively to a desired position it can be deposited. そして、工程hにおいて、工程cで形成されたバンク425と、工程gで形成された有機発光層414との上に、電子輸送層415を成膜する。 Then, in step h, a bank 425 formed in step c, on the organic light emitting layer 414 formed in step g, the formation of the electron-transporting layer 415. このようにして、工程d〜工程hにおいて、有機EL層410が形成される。 Thus, in step d~ step h, the organic EL layer 410 is formed.

反射電極411、ITO膜412、正孔輸送層413、有機発光層414の各層は、インクジェット法によらず、転写による印刷技術や、フォトプロセス等により作成しても良い。 Reflective electrode 411, ITO film 412, hole transport layer 413, the layers of the organic light emitting layer 414, regardless of the ink-jet method, a printing technique or by a transfer may be made by photo process or the like. 例えば、パターニングされた正孔輸送層413、有機発光層414等を金属蒸着により積層することもできる。 For example, a hole transport layer 413 is patterned, an organic light emitting layer 414 and the like may be laminated by metal deposition. また、一様に成膜されている導電率可変層103の上に、画素に対応して逆テーパ状のパターンを作成し、作成された逆テーパ状のレジスト上に有機EL層410の各層を一様に成膜することとしても良い。 Further, uniformly over the conductivity-variable layer 103 which is deposited, forms an inverse tapered pattern corresponding to the pixels, each layer of the organic EL layer 410 on the reverse tapered resist created it is also possible to uniformly deposited. 逆テーパ状のレジスト上に成膜された各層は、レジストごとに電気的に分離された構造となるため、バンク425を設けなくても画素ごとに対応して有機EL層410を設けることができる。 Each layer which is formed in a reverse tapered shape of the resist on, since the electrically isolated structure for each resist can be provided an organic EL layer 410 to correspond to each pixel without providing a bank 425 .

次に、第2の透明電極層形成工程である工程iにおいて、工程hで形成された電子輸送層415の上に、第2の透明電極層104を形成する。 Next, in step i a second transparent electrode layer forming step, on the electron transport layer 415 formed in step h, to form the second transparent electrode layer 104. 工程hにおける電子輸送層415と、工程iにおける第2の透明電極層104とは、基板101の全面に対して一様に成膜することによって形成できる。 An electron transport layer 415 in the step h, and the second transparent electrode layer 104 in the step i, can be formed by uniformly deposited on the entire surface of the substrate 101. 最後に、保護層形成工程である工程jにおいて、工程iで成膜した第2の透明電極層104の上面を、保護層105により封止する。 Finally, in step j is a protective layer forming step, the upper surface of the second transparent electrode layer 104 was deposited in step i, is sealed with the protective layer 105. 以上により、本実施例の表示パネル320を製造することができる。 Thus, it is possible to manufacture a display panel 320 of the present embodiment. また、表示パネル320はTFT素子が不要である。 The display panel 320 is a TFT element is not required. TFTを不要とするため、画素を構成するためのバンク425や、画素に対応して設けられている有機EL層410以外の部分の層を、基板101に対して全面に成膜することによって形成できる。 To the TFT unnecessary, formed by deposition or bank 425 for forming a pixel, the layer in the portion other than the organic EL layer 410 is provided corresponding to the pixel, on the entire surface to the substrate 101 it can. このため、表示パネル320を容易に製造することができる。 Therefore, it is possible to easily manufacture the display panel 320.

図8−1、図8−2、図8−3は、表示パネル320の第2の製造方法の手順を示す。 Figure 8-1, Figure 8-2, Figure 8-3 shows a procedure of a second manufacturing method of the display panel 320. 表示パネル320の第2の製造方法は、第1の層状構造体と、第2の層状構造体と別体として製造した後に、第1の層状構造体と、第2の層状構造体とを貼り合せる点が、第1の製造方法と異なる。 The second manufacturing method of the display panel 320, attached to the first layered structure, after producing the second layered structure and the other body, a first layered structure and a second layered structure match point is different from the first manufacturing method. 第1の層状構造体は、第1の基板である基板101と、第1の透明電極層102と、導電率可変層103とから構成される。 First laminar structure includes a substrate 101 which is a first substrate, a first transparent electrode layer 102, and a variable conductivity layer 103. まず、工程aと、工程bとからなる第1の層状構造体形成工程において、基板101と、第1の透明電極層102と、導電率可変層103とからなる第1の層状構造体を形成する。 First, a step a, the first layered structure forming step comprising the step b, or substrate 101, a first transparent electrode layer 102, a first layered structure consisting of variable conductivity layer 103 formed to. 第1の透明電極層形成工程である工程aと、導電率可変層形成工程である工程bとは、上述の第1の製造方法の工程a、工程bと同様である。 A step a which is a first transparent electrode layer forming step, the step b is variable conductivity layer formation step, step a first manufacturing method described above, it is similar to the steps b. 第1の層状構造体形成工程では、基板101の全面に対して、各層を一様に成膜することができる。 In the first layered structure forming step, the entire surface of the substrate 101, can be uniformly deposited layers.

次に、工程c〜工程iからなる第2の層状構造体形成工程において、第2の基板である保護層105と、第2の透明電極層104と、仕切部材であるバンク425と、有機EL層410とからなる第2の層状構造体を形成する。 Then, in the second layered structure forming step comprises the step c~ step i, the protective layer 105 is a second substrate, a second transparent electrode layer 104, a bank 425 is the partition member, the organic EL forming a second layered structure comprising a layer 410.. 第2の層状構造体形成工程では、第1の製造方法の手順における工程d〜工程jとは逆に、保護層105から順次、各層を積層していく。 In a second layered structure forming step, the step d~ step j in the procedure of the first manufacturing method Conversely, sequentially from the protective layer 105, continue to stacking the layers. 第2の透明電極層形成工程である工程cにおいて、保護層105の上に第2の透明電極層104を成膜する。 In step c as the second transparent electrode layer forming step, forming a second transparent electrode layer 104 on the protective layer 105. 保護層105は、基板101と同様、光学的に透明な部材からなる平行平板である。 Protective layer 105 is similar to the substrate 101, a parallel plate made of optically transparent member. そして、工程dにおいて、工程cで形成した第2の透明電極層104の上に、電子輸送層415が設けられる。 Then, in step d, above the second transparent electrode layer 104 formed in step c, it is provided an electron-transporting layer 415. 工程cにおける第2の透明電極層104と、工程dにおける電子輸送層415とは、保護層105の全面に対して、一様に成膜することができる。 A second transparent electrode layer 104 in the step c, the electron transport layer 415 in the step d, the entire surface of the protective layer 105 can be uniformly deposited.

次に、仕切部材形成工程である工程eにおいて、工程dで設けられた電子輸送層415の上に、所定のパターンでバンク425を設ける。 Next, in step e is a partition member forming step, on the electron transport layer 415 provided in step d, providing a bank 425 in a predetermined pattern. バンク425の形成については、第1の製造方法と同様である。 The formation of the bank 425 is the same as in the first manufacturing method. そして、EL層形成工程である工程f〜工程iにおいて、工程eで形成されたバンク425どうしの間に、順次、有機発光層414、正孔輸送層413、ITO膜412、反射電極411を積層する。 The lamination in step f~ step i an EL layer forming step, between and what bank 425 formed in step e, successively, the organic light emitting layer 414, hole transport layer 413, ITO film 412, the reflective electrode 411 to. このようにして、工程dで形成した電子輸送層415、工程f〜工程iで形成した、有機発光層414、正孔輸送層413、ITO膜412、反射電極411によって、有機EL層410が構成される。 In this manner, the electron-transporting layer 415 was formed in step d, formed in step f~ step i, the organic light emitting layer 414, hole transport layer 413, ITO film 412, the reflective electrode 411, the organic EL layer 410 is configured It is. 第2の層状構造体形成工程においては、有機EL層410の各層を保護層105の側から順次積層する。 In the second layered structure forming step, sequentially laminated layers of the organic EL layer 410 from the side of the protective layer 105. 各層の積層順序が逆となる点以外の、有機EL層410の各層の積層についての詳細は、第1の製造方法の手順における工程d〜jと同様である。 Except that each layer stacking sequence of the reverse, for more information on lamination of the layers of the organic EL layer 410 is similar to the process d~j in the procedure of the first manufacturing method. このようにして、第2の層状構造体形成工程では、画素に対応した第2の層状構造体を形成することができる。 In this way, the second layered structure forming step, it is possible to form a second layered structure corresponding to pixels.

次に、工程jにおいて、工程iで形成された反射電極411の上に、導電性の接着層850を設ける。 Next, in step j, on the reflective electrode 411 formed in step i, providing an adhesive layer 850 of the conductivity. そして、貼り合せ工程である工程kにおいて、第2の層状構造体形成工程において形成した第2の層状構造体を、第1の層状構造体形成工程において形成した第1の層状構造体に貼り合せて一体とし、表示パネル320とする。 Then, in step k is the bonding step, bonding the second layered structure formed in the second layered structure forming step, the first layered structure formed in the first layered structure forming step an integral Te, a display panel 320. このとき、第1の層状構造体の導電率可変層103と、第2の層状構造体のバンク425及び接着層850とが、重なり合うように貼り合せる。 In this case, the conductivity-variable layer 103 of the first layered structure, and the banks 425 and the adhesive layer 850 of the second layered structure is bonded to overlap. 工程kにおいて、バンク425と導電率可変層103との間に接着層850が入り込むと、入り込んだ接着層850によって隣り合う画素に対応する反射電極411どうしが電気的に接続されてしまう。 In step k, the adhesive layer 850 is inserted between the bank 425 and the conductivity-variable layer 103, if the reflective electrode 411 corresponding to the neighboring pixels by an adhesive layer 850 that has entered and from being electrically connected. 隣り合う画素に対応する反射電極111どうしが電気的に接続されてしまうと、表示パネル320の駆動を画像信号に応じて制御することが困難となる。 If what the reflection electrode 111 corresponding to the adjacent pixels from being electrically connected, it is difficult to control in accordance with driving of the display panel 320 to the image signal. 従って、工程kにおいて、バンク425と、導電率可変層103との間に接着層850が入り込まないことを要する。 Thus, in step k, it required a bank 425, that the adhesive layer 850 does not enter between the variable conductivity layer 103. さらに、工程jにおいて、インクジェット法を用いて、バンク425で囲まれた領域内のみに接着層850を設けることとするのが望ましい。 Further, in step j, using an ink jet method, it is desirable to be provided with adhesive layer 850 only in a region surrounded by the bank 425. このようにして接着層850がバンク425と導電率可変層103との間に入り込むことを防止し、画像信号に応じて正確に制御することができる表示パネル320を得られる。 In this way, the adhesive layer 850 is prevented from entering between the bank 425 and the conductivity-variable layer 103, obtain a display panel 320 which can be accurately controlled in accordance with an image signal.

有機ELディスプレイにTFT素子を設ける場合、TFT素子の電極の位置と、画素に対応させる有機EL層の位置とを整合させるようにして製造する必要がある。 If the organic EL display is provided a TFT element, and the position of the electrode of the TFT elements, it is necessary to be manufactured so as to align the position of the organic EL layer to correspond to the pixel. これに対して、表示パネル320は、TFT素子を不要とする。 In contrast, the display panel 320, eliminates the need for TFT elements. 有機EL層410は、TFT素子を設ける場合のように位置を整合させる必要がなく、基板101に対して全面に成膜されている導電率可変層103上に、画素に対応させて構成すれば良い。 The organic EL layer 410, the position is not necessary to align the like in the case of providing the TFT elements, on the conductivity-variable layer 103 is formed over the entire surface to the substrate 101, if configured to correspond to the pixel good. このため、基板101に対して全面に成膜可能な第1の層状構造体と、画素に対応した構造の第2の層状構造体とを、それぞれ別体として形成することができる。 Therefore, it is possible to form the first and the layered structure can be formed on the entire surface on the substrate 101, and a second layered structure having a structure corresponding to the pixel, as separate bodies, respectively. そして、第1の層状構造体と、第2の層状構造体とを貼り合せて一体とすることにより、表示パネル320を製造することができる。 By the integrally bonded with the first layered structure and a second layered structure, it is possible to manufacture a display panel 320.

第2の層状構造体が第1の層状構造体とは別体として形成可能であると、第2の層状構造体は、保護層105の上に、順次第2の透明電極層104、有機EL層410を積層させて形成することができる。 When the second layered structure and the first layered structure can be formed as separate bodies, the second layered structure on the protective layer 105, the order-order second transparent electrode layer 104, the organic EL it can be formed by stacking layers 410. 第2の層状構造体を、保護層105の上に順次各層を積層させて形成できると、画素に対応した層状構造の上に保護層105を形成する場合より、保護層105を強固な部材とすることができる。 The second layered structure and can be formed sequentially laminating each layer on the protective layer 105, than the case of forming the protective layer 105 on a layered structure corresponding to pixels, a rigid member the protective layer 105 can do. このため、本製造方法によると、表示パネル320の保護層105を強固にでき、製造された表示パネル320を長期間使用できるという効果がある。 Therefore, according to this manufacturing method, can firmly the protective layer 105 of the display panel 320, there is an effect that the display panel 320 manufactured can use for long time. なお、大型な表示パネル320を製造する方法として、ユニット化された表示パネルをタイル状に複数配列する方法をとることとしても良い。 As a method for producing a large-sized display panel 320, it is also possible to adopt a method in which a plurality of display panels unitized tiled. これにより、大型かつ高精細な表示パネル320を容易に製造することができる。 Thus, a large and high definition display panel 320 can be easily manufactured.

図9は、本発明の実施例3に係る表示パネル920の概略構成を示す。 Figure 9 shows a schematic configuration of a display panel 920 according to a third embodiment of the present invention. 上記実施例2の表示装置300と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。 The same parts as the display device 300 of Example 2 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted. 本実施例の表示パネル920は、画素ごとの反射電極911の領域が、バンク925で仕切られている有機EL層910の部分の領域より大きいことを特徴とする。 Display panel 920 of this embodiment, the area of ​​the reflective electrode 911 for each pixel, being greater than the area of ​​the portion of the organic EL layer 910 are partitioned by the banks 925. 有機EL層910は、反射電極911と、ITO膜412と、正孔輸送層413と、有機発光層414と、電子輸送層415とからなる。 The organic EL layer 910, the reflective electrode 911, an ITO film 412, a hole transport layer 413, an organic light emitting layer 414, an electron-transporting layer 415 Prefecture. 反射電極911は、実施例1の反射電極111と同様、金属、例えば、アルミニュウム(Al)を蒸着することによって構成することができる。 Reflective electrode 911, similar to the reflective electrode 111 in Example 1, a metal, for example, can be constructed by depositing aluminum (Al). バンク925は、実施例2のバンク425と同様、基板101に略平行な面における領域において略直交する2方向に線状に設けられた、電気的な絶縁部材である。 Bank 925 is similar to the bank 425 of Example 2, provided in two directions substantially orthogonal linearly on the area in a plane substantially parallel to the substrate 101, an electrically insulating member. バンク925は、例えばポリイミドをインクジェット法、もしくはエッチング、パターニングを施すことにより形成することができる。 Bank 925 may be formed by subjecting polyimide, for example an ink jet method, or etching, patterning.

基板101に略垂直な面で切断すると、バンク925は、図9に示すように、略二等辺三角形形状の底辺近傍の2箇所に反射電極911の周辺部911aが入り込んだような形状を有する。 Cleavage substantially in a plane perpendicular to the substrate 101, banks 925, as shown in FIG. 9, has a shape such that enters the peripheral portion 911a of the reflective electrode 911 at two positions of the base near the substantially isosceles triangle shape. 有機EL層910のうち、反射電極911以外の部分であるITO膜412、正孔輸送層413、有機発光層414、電子輸送層415は、バンク925の略二等辺三角形形状の斜面の部分によって、複数の画素に対応する領域に分割されている。 Among the organic EL layer 910, ITO film 412 is a portion other than the reflection electrode 911, a hole transport layer 413, organic light emitting layer 414, an electron-transporting layer 415, the inclined surface portion of the substantially isosceles triangle shape of the bank 925, It is divided into regions corresponding to the plurality of pixels. これに対して、反射電極911は、反射電極911の周辺部911aがバンク925と導電率可変層103の領域903aとに挟まれるように設けられている。 In contrast, the reflection electrode 911, the peripheral portion 911a of the reflection electrode 911 is provided so as to be sandwiched between the region 903a of the bank 925 and the conductivity-variable layer 103. このため、保護層105の側から見ると、反射電極911は、バンク925の斜面部分で分割されている有機EL層910の領域より大きい領域を有する。 Therefore, when viewed from the side of the protective layer 105, the reflective electrode 911 has an area greater than the area of ​​the organic EL layer 910 is divided by the ramp portion of the bank 925.

例えば、制御光Lが、図9に示すように、導電率可変層103の領域903aに入射したとする。 For example, the control light L, as shown in FIG. 9, and is incident on the area 903a of the conductivity-variable layer 103. 周辺部911aの位置をバンク925の領域が占めているとすると、制御光Lによって領域903aの導電率が変化した場合であっても、反射電極911に十分電圧を印加することができない。 When the position of the peripheral portion 911a region of the bank 925 occupies, even when the conductivity of the region 903a is changed by the control light L, it is impossible to apply a sufficient voltage to the reflective electrode 911. このため、制御光Lは、表示パネル920の駆動に十分に寄与することができない。 Therefore, the control light L can not contribute sufficiently to drive the display panel 920. これに対して、反射電極911の領域を周辺部911aの領域の分大きくすることにより、制御光Lによって領域903aの導電率が変化した場合、反射電極911に十分電圧を印加することができる。 In contrast, by partial large area of ​​the peripheral portion 911a of the area of ​​the reflective electrode 911, if the conductivity of the region 903a is changed by the control light L, it is possible to apply a sufficient voltage to the reflective electrode 911. 従って、領域903aに入射した制御光Lを表示パネル920の駆動に十分寄与させることができる。 Therefore, it is possible to sufficiently contribute to the control light L incident on the area 903a for driving the display panel 920.

このように、画素に対応して設けられている反射電極911の領域を大きくすることにより、反射電極911が有機EL層910と同一の大きさの領域に分割されている場合より、広い範囲に入射した制御光Lを利用でき、制御光Lの利用効率が向上する。 Thus, by increasing the area of ​​the reflective electrode 911 provided corresponding to the pixel, compared with the case where the reflection electrode 911 is divided into regions of the same size and the organic EL layer 910, a wide range available incident control light L, thereby improving the utilization efficiency of the control light L. また、広い範囲に入射した制御光Lを利用することができるため、制御光Lの入射位置を高い精度で制御することが困難であっても、表示パネル920の制御を十分に行うことができる。 Further, it is possible to utilize the control light L incident on the wide range, even if it is difficult to control the incident position of the control light L with high accuracy can be performed sufficiently control the display panel 920 . これにより、効率良く有機EL層910を発光させることができるという効果を奏する。 Thus, an effect that can emit light efficiently organic EL layer 910.

なお、隣り合う画素に対応する反射電極911どうしが接触すると、反射電極911どうしが電気的に接続されることとなる。 Note that when is how the reflection electrode 911 corresponding to the adjacent pixels come into contact, if the reflective electrode 911 is to be electrically connected. 反射電極911どうしが電気的に接続されると、画素ごとに画像信号に応じて有機発光層414を発光させることが困難となる。 If what the reflective electrode 911 is electrically connected, it is difficult to emit the organic light-emitting layer 414 in accordance with an image signal for each pixel. このため、反射電極911の領域の大きさは、隣り合う画素に対応する反射電極911どうしが接触することがない程度であることを要する。 Therefore, the size of the area of ​​the reflective electrode 911 requires that is how the reflection electrode 911 corresponding to the adjacent pixels of the order does not contact. 本実施例のように、隣り合う反射電極911どうしの間の空間にバンク925が設けられていることにより、隣り合う画素に対応する反射電極911どうしが電気的に接続されることを防止できる。 As in this embodiment, by the bank 925 in the space between and if the reflective electrode 911 adjacent are provided, it is possible to prevent what reflection electrode 911 corresponding to the adjacent pixels are electrically connected. これにより、表示パネル920を画像信号に応じて正確に制御することができる。 This makes it possible to accurately control in accordance with the display panel 920 to the image signal.

図10は、本発明の実施例4に係る表示パネル1020の概略構成を示す。 Figure 10 shows a schematic configuration of a display panel 1020 according to a fourth embodiment of the present invention. 上記実施例2の表示装置300と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。 The same parts as the display device 300 of Example 2 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted. 表示パネル1020は、導電率可変層1003が、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなすことを特徴とする。 Display panel 1020, variable conductivity layer 1003 is characterized by forming a structure divided into a plurality of regions corresponding to pixels. 導電率可変層1003が、有機EL層410と同様にバンク425によって画素に対応して分割されている点以外の詳細については、上記実施例2と同様である。 Variable conductivity layer 1003, for details other than that they are divided corresponding to the pixels by the banks 425 in the same manner as the organic EL layer 410, is the same as in Example 2. 表示パネル1020の製造方法としては、第1の透明電極層102の上にバンク425を設け、バンクによって仕切られた第1の透明電極層102の上に導電率可変層1003を積層する点以外は、上記の表示パネル320の製造方法と同様である。 As a manufacturing method of the display panel 1020, the bank 425 provided on the first transparent electrode layer 102, except for laminating the variable conductivity layer 1003 over the first transparent electrode layer 102 which are partitioned by the bank is the same as the manufacturing method of the display panel 320.

導電率可変層1003は、制御光Lの照射位置を中心として制御光Lの強度とその照射時間とに比例して、導電率が変化する領域を周辺に拡げる傾向がある。 Variable conductivity layer 1003 tends to spread in proportion to the intensity of the control light L and its irradiation time around the irradiation position of control light L, an area where the conductivity changes in the peripheral. 導電率可変層1003を、有機EL層410と同様に画素に対応して複数の領域に分割することにより、制御光Lによって、所定の画素に対応する有機発光層414を正確に発光させることができる。 The variable conductivity layer 1003, by dividing into a plurality of regions corresponding to the pixels in the same manner as the organic EL layer 410, the control light L, is possible to accurately emit the organic light emitting layer 414 corresponding to a predetermined pixel it can. また、制御光Lの入射位置を高い精度で制御することが困難であっても、表示パネル1020の制御を十分に行うことができる。 Moreover, even if it is difficult to control the incident position of the control light L with high accuracy can be performed sufficiently control the display panel 1020. これにより、表示パネル1020の駆動を正確に制御することができるという効果を奏する。 Thus, an effect that it is possible to accurately control the drive of the display panel 1020.

図11は、本発明の実施例5に係る表示装置1100の概略構成を示す。 Figure 11 shows a schematic configuration of a display device 1100 according to Example 5 of the present invention. 上記実施例2の表示装置300と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。 The same parts as the display device 300 of Example 2 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted. 表示装置1100の制御光用光学系1140は、2つの制御光用光源ユニット1150、1160を有することを特徴とする。 Control light optical system 1140 of the display device 1100 is characterized by having two control-light light source unit 1150, 1160. 制御光用光源ユニット1150は、第1制御光用光源部1151と、第2制御光用光源部1152と、第3制御光用光源部1153とを有する。 Control light source unit 1150 includes a first control light source unit 1151, and the second control light source 1152, and a third control-light source unit 1153. 第1制御光用光源部1151は、R光用画素420Rに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に第1の制御光L4を供給する。 The first control light source 1151 supplies a first control light L4 to the first transparent electrode layer 102 corresponding to the R light pixel 420R (see FIG. 4). 第2制御光用光源部1152は、G光用画素420Gに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に第2の制御光L5を供給する。 The second control light source 1152 supplies a second control light L5 to the first transparent electrode layer 102 corresponding to the G light pixel 420G (see FIG. 4). 第3制御光用光源部1153は、B光用画素420Bに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に第3の制御光L6を供給する。 Third control light source unit 1153 supplies the third control light L6 to the first transparent electrode layer 102 corresponding to the B-light pixel 420B (see FIG. 4). 各制御光L4、L5、L6は、各制御光用光源部1151、1152、1153に対応して設けられているガルバノミラー1154、1155、1156により、表示パネル1120の第1の領域1121を走査する。 Each control light L4, L5, L6, due galvanomirror 1154,1155,1156 provided corresponding to the respective control light source unit 1151,1152,1153, scans the first region 1121 of the display panel 1120 .

制御光用光源ユニット1160は、第1制御光用光源部1161と、第2制御光用光源部1162と、第3制御光用光源部1163とを有する。 Control light source unit 1160 includes a first control light source unit 1161, and the second control light source unit 1162, and a third control-light source unit 1163. 第1制御光用光源部1161は、R光用画素420Rに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に第1の制御光L7を供給する。 The first control light source unit 1161 supplies a first control light L7 to the first transparent electrode layer 102 corresponding to the R light pixel 420R (see FIG. 4). 第2制御光用光源部1162は、G光用画素420Gに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に第2の制御光L8を供給する。 The second control light source unit 1162 supplies a second control light L8 to the first transparent electrode layer 102 corresponding to the G light pixel 420G (see FIG. 4). 第3制御光用光源部1163は、B光用画素420Bに対応する第1の透明電極層102(図4参照)に第3の制御光L9を供給する。 Third control light source unit 1163 supplies the third control light L9 to the first transparent electrode layer 102 corresponding to the B-light pixel 420B (see FIG. 4). 各制御光L7、L8、L9は、各制御光用光源部1161、1162、1163に対応して設けられているガルバノミラー1164、1165、1166により、表示パネル1120の第2の領域1122を走査する。 Each control light L7, L8, L9, due galvanomirror 1164,1165,1166 provided corresponding to the respective control light source unit 1161,1162,1163, scanning the second region 1122 of the display panel 1120 . このように、各制御光用光源ユニット1150、1160は、それぞれ表示パネル1120の異なる領域である第1の領域1121と第2の領域1122とに、それぞれ各制御光L4〜L6、L7〜L9を供給する。 Thus, the control light source unit 1150, 1160, the first region 1121 is different regions of each display panel 1120 and the second region 1122, each of the control light L4 to L6, a L7~L9 supplies.

各制御光用光源ユニット1150、1160は、表示パネル1120の領域を分担して各制御光L4〜L6、L7〜L9を供給する。 Each control light source unit 1150, 1160, each of control light L4~L6 by sharing a region of the display panel 1120, and supplies the L7~L9. このため、各ガルバノミラー1154、1155、1156、1164、1165、1166から表示パネル1120までの距離を短くできる。 Thus, possible to shorten the distance to the display panel 1120 from the galvanomirror 1154,1155,1156,1164,1165,1166. また、表示パネル1120の領域を分担して各制御光L4〜L9を供給することにより、各制御光L4〜L9の走査角度を小さくすることもできる。 Further, by supplying the respective control light L4~L9 by sharing a region of the display panel 1120, it is possible to reduce the scanning angle of the control light L4~L9. 各制御光L4〜L9の走査距離を小さくするため、各制御光L4〜L9の走査速度を小さくしても、画像表示を十分に行うことができる。 To reduce the scanning distance of the control light L4~L9, also to reduce the scanning speed of the control light L4~L9, the image display can be sufficiently performed. これにより、表示装置1120を小型化できるうえ、制御光L4〜L9を容易に走査することができるという効果を奏する。 Thus, upon which it can be miniaturized display device 1120, an effect that the control light L4~L9 can be easily scanned. なお、本実施例の表示装置1100は、2つの制御光用光源ユニット1150、1160を用いることとしたが、3つ以上の制御光用光源ユニットを設け、表示パネル1100を3つ以上に分割して制御光を供給することとしても良い。 The display device 1100 of this embodiment, it is assumed that use of the two control-light light source unit 1150, 1160, three or more control light source unit provided to divide the display panel 1100 into three or more it is also possible to supply the control light Te.

図12は、本実施例の表示装置1100の変形例である表示装置1200の概略構成を示す。 Figure 12 shows a schematic configuration of a display device 1200 which is a modification of the display device 1100 of this embodiment. ここでは、表示装置1100と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。 Here, the same symbols are attached to the same parts as the display device 1100, description thereof is omitted. 表示装置1200は、3つのガルバノミラー1254、1255、1256を設けることを特徴としている。 Display device 1200 is characterized in the provision of three galvanomirror 1254,1255,1256. 各制御光用光源ユニット1150、1160の第1制御光用光源部1151、1161からの第1の制御光L4、L7は、ガルバノミラー1254によって、それぞれ第1の領域1121、第2の領域1122を走査する。 The first control light L4, L7 from the first control light source unit 1151,1161 of each control-light light source unit 1150, 1160, by the galvano mirror 1254, the first region 1121, respectively, the second region 1122 scanning. 第2制御光用光源部1152、1162からの第2の制御光L5、L8は、ガルバノミラー1255によって、それぞれ第1の領域1121、第2の領域1122を走査する。 Second control light L5, L8 from the second control light source unit 1152,1162, depending galvanometer mirror 1255, the first region 1121, respectively, to scan the second region 1122. 第3制御光用光源部1153、1163からの第3の制御光L6、L9は、ガルバノミラー1256によって、それぞれ第1の領域1121、第2の領域1122を走査する。 The third control light L6, L9 from third control light source unit 1153,1163, by the galvano mirror 1256, the first region 1121, respectively, to scan the second region 1122. このように、単独のガルバノミラーが複数の制御光を走査させる構成とすることにより、部品点数を減らすことができる。 Thus, with the configuration in which single galvanomirror to scan the plurality of control light, the number of parts can be reduced.

なお、上記各実施例の表示パネルには有機EL層を用いているが、電圧を印加することにより発光するものであれば、これに限られない。 Incidentally, the display panel of the above embodiment is an organic EL layer, but as long as it emits light by applying a voltage is not limited thereto. 例えば、有機EL層に代えて無機EL層を用いることとしても良い。 For example, it is also possible to use inorganic EL layer in place of the organic EL layer. また、上記実施例において表示装置は、画像信号に応じて変調された制御光Lによって連続的な変化量を表示するアナログ制御を行うこととしている。 Further, the display device in the above embodiment is directed to performing the analog control to display a continuous variation by the control light L modulated according to an image signal. これに限らず、制御光Lを用いてディジタル制御を行うこととしても良い。 Not limited thereto, it is also possible to perform digital control using the control light L. 例えば、制御光LのON、OFFに応じて不連続な2値のみをとることとし、サブフレーム駆動を用いて階調表現をしても良い。 For example, ON of the control light L, and to take only two discontinuous values ​​according to OFF, it may be the gradation expression by using a subframe drive.

以上のように、本発明に係る表示装置は、プレゼンテーションや動画を表示する場合に有用であり、特に、投写像を表示する場合に適している。 As described above, the display device according to the present invention are useful for displaying presentations and video, in particular, suitable to display the projected image.

本発明の実施例1に係る表示装置の概略構成図。 Schematic diagram of a display device according to a first embodiment of the present invention. 表示パネルの使用例の説明図。 Illustration of use of the display panel. ディスプレイの画像を表示パネルに表示する構成の説明図。 Illustration of a structure for displaying an image of the display on the display panel. 本発明の実施例2に係る表示装置の概略構成図。 Schematic diagram of a display device according to a second embodiment of the present invention. 表示パネルと制御光用光学系との概略構成図。 Schematic diagram of a display panel and the control light optical system. 開口部と制御光用光学系との関係の説明図。 Illustration of the relationship of the opening and the control light optical system. 各色光用画素の配置例の説明図。 Illustration of the arrangement example of the pixel for each color light. 各色光用画素の配置例の説明図。 Illustration of the arrangement example of the pixel for each color light. 各色光用画素の配置例の説明図。 Illustration of the arrangement example of the pixel for each color light. 表示パネルの第1の製造方法の手順の説明図。 Illustration of the procedure of the first manufacturing method of the display panel. 表示パネルの第1の製造方法の手順の説明図。 Illustration of the procedure of the first manufacturing method of the display panel. 表示パネルの第1の製造方法の手順の説明図。 Illustration of the procedure of the first manufacturing method of the display panel. 表示パネルの第2の製造方法の手順の説明図。 Illustration of steps of a second manufacturing method of the display panel. 表示パネルの第2の製造方法の手順の説明図。 Illustration of steps of a second manufacturing method of the display panel. 表示パネルの第2の製造方法の手順の説明図。 Illustration of steps of a second manufacturing method of the display panel. 本発明の実施例3に係る表示パネルの概略構成図。 Schematic diagram of a display panel according to a third embodiment of the present invention. 本発明の実施例4に係る表示パネルの概略構成図。 Schematic diagram of a display panel according to Example 4 of the present invention. 本発明の実施例5に係る表示装置の概略構成図。 Schematic diagram of a display device according to a fifth embodiment of the present invention. 実施例5の変形例に係る表示装置の概略構成図。 Schematic diagram of a display device according to a modification of the fifth embodiment.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

100 表示装置、101 基板、102 第1の透明電極層、103 導電率可変層、104 第2の透明電極層、105 保護層、110 有機EL層、111 反射電極、112 ITO膜、113 正孔輸送層、114 有機発光層、115 電子輸送層、120 表示パネル、130 電源、140 制御光用光学系、142 制御光用光源部、144 ガルバノミラー、148 制御部、210 ディスプレイ、221、231 R光透過カラーフィルタ、222、232 G光透過カラーフィルタ、223、233 B光透過カラーフィルタ、300 表示装置、320 表示パネル、340 制御光用光学系、341 第1制御光用光源部、342 第2制御光用光源部、343 第3制御光用光源部、344、345、346 ガルバノミラー、350 ミラー、3 100 display device, 101 substrate, 102 a first transparent electrode layer, 103 the variable conductivity layer, 104 second transparent electrode layer, 105 a protective layer, 110 an organic EL layer, 111 the reflective electrodes, 112 ITO film, 113 a hole transport layer 114 organic light-emitting layer, 115 an electron transport layer, 120 display panel, 130 a power supply, 140 a control light optical system, 142 control light source unit, 144 galvanomirror 148 control unit, 210 display, 221, 231 R-light transmission color filters, 222, 232 G light transmitted through the color filters, 223, 233 B light transmitting color filter, 300 display, 320 display panel, 340 a control light optical system, 341 a first control light source unit, 342 second control light use the light source unit, 343 third control light source unit, 344,345,346 galvanomirror 350 mirror, 3 0 筐体、410 有機EL層、411 反射電極、412 ITO膜、413 正孔輸送層、414 有機発光層、414R R光用有機発光層、414G G光用有機発光層、414B B光用有機発光層、415 電子輸送層、420R R光用画素、420G G光用画素、420B B光用画素、425 バンク、435 遮光部、437 開口部、610R、630R R光用画素、610G、630G G光用画素、610B、630B B光用画素、650、660 画素集合体、850 接着層、903a 領域、910 有機EL層、911 反射電極、911a 周辺部、920 表示パネル、925 バンク、1003 導電率可変層、1020 表示パネル、1100 表示装置、1120 表示パネル、1121 第1の領域、1122 第2の領域、11 0 casing, 410 organic EL layer, 411 the reflective electrodes, 412 ITO film, 413 a hole transport layer, 414 the organic light-emitting layer, 414R R light organic light-emitting layer, 414G G light organic light-emitting layer, 414B B-light OLED layer 415 electron-transporting layer, 420R R light pixel, 420G G light pixel, 420B B-light pixels, 425 banks, 435 light-shielding portion, 437 opening, 610R, 630R R light pixel, 610G, for 630G G light pixel, 610B, 630B B-light pixels, 650, 660 pixel array, 850 adhesive layer, 903a region 910 organic EL layer, 911 the reflective electrodes, 911a peripheral portion, 920 display panel, 925 banks, 1003 variable conductivity layer, 1020 display panel, 1100 a display device, 1120 a display panel, 1121 a first region, 1122 the second region, 11 0 制御光用光学系、1150、1160 制御光用光源ユニット、1151、1161 第1制御光用光源部、1152、1162 第2制御光用光源部、1153、1163 第3制御光用光源部、1154、1155、1156、1164、1165、1166 ガルバノミラー、1200 表示装置、1254、1255、1256 ガルバノミラー、L、L1、L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9 制御光 0 control light optical system, 1150, 1160 control light source unit, the first control light source unit 1151,1161, 1152,1162 second control light source unit, 1153,1163 third control light source unit, 1154 , 1155,1156,1164,1165,1166 galvanomirror 1200 display, 1254,1255,1256 galvanometer mirror, L, L1, L2, L3, L4, L5, L6, L7, L8, L9 control light

Claims (8)

  1. 光学的に透明な第1の透明電極層、及び第2の透明電極層と、 Optically transparent first transparent electrode layer, and a second transparent electrode layer,
    前記第1の透明電極層の上に設けられた導電率可変層と、 And conductivity-variable layer provided on said first transparent electrode layer,
    前記導電率可変層と前記第2の透明電極層との間に設けられ、電圧が印加されることにより発光するエレクトロ・ルミネッセンス層と、を有する表示パネルであって、 The electrically conductivities variable layer disposed between the second transparent electrode layer, a display panel having a electroluminescence layer that emits light when a voltage is applied,
    前記第1の透明電極層と前記第2の透明電極層との間に、所定の電圧が印加され、 Between the second transparent electrode layer and the first transparent electrode layer, a predetermined voltage is applied,
    前記導電率可変層は、前記第1の透明電極層を透過した前記表示パネルの駆動を制御する制御光の光量に応じて電気的な導電率が変化し、 The electrically conductivities variable layer is electrically conductivity changes according to the amount of control light for controlling the driving of the display panel that has passed through the first transparent electrode layer,
    前記エレクトロ・ルミネッセンス層は、前記第1の透明電極層を透過した前記制御光の光量に応じて前記導電率可変層の前記導電率が変化し、前記所定の電圧のうち前記導電率可変層の前記導電率に応じた電圧が印加されることによって発光し、 Said electroluminescence layer, the conductivity of the electrically conductivities variable layer changes in accordance with the light amount of the first of the control light transmitted through the transparent electrode layer, of said electrically conductivities variable layer of the predetermined voltage emitted by the voltage corresponding to the conductivity is applied,
    前記エレクトロ・ルミネッセンス層は、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなし、 Said electroluminescence layer, without a split structure in a plurality of regions corresponding to the pixels,
    前記第1の透明電極層の、前記制御光を入射させる面側に設けられ、前記画素に対応して開口部が形成された遮光部を有し、 Said first transparent electrode layer, provided on the cause side incident said control light has a light shielding portion having an opening formed to correspond to the pixel,
    前記開口部は、所定の前記画素に対応する前記第1の透明電極層に前記制御光を入射させる位置に配置され、 The opening is disposed in a position for entering the control light into the first transparent electrode layer corresponding to predetermined pixels;
    前記エレクトロ・ルミネッセンス層は、前記開口部を通過した前記制御光を前記所定の画素に対応する前記第1の透明電極層のみに入射させることにより、前記画素ごとに発光することを特徴とする表示パネル。 Display the electroluminescence layer by incident said control light passing through the opening only in the first transparent electrode layer corresponding to the predetermined pixel, which is characterized in that emission for each of the pixel panel.
  2. 光学的に透明な第1の透明電極層、及び第2の透明電極層と、 Optically transparent first transparent electrode layer, and a second transparent electrode layer,
    前記第1の透明電極層の上に設けられた導電率可変層と、 And conductivity-variable layer provided on said first transparent electrode layer,
    前記導電率可変層と前記第2の透明電極層との間に設けられ、電圧が印加されることにより発光するエレクトロ・ルミネッセンス層と、を有する表示パネルであって、 The electrically conductivities variable layer disposed between the second transparent electrode layer, a display panel having a electroluminescence layer that emits light when a voltage is applied,
    前記第1の透明電極層と前記第2の透明電極層との間に、所定の電圧が印加され、 Between the second transparent electrode layer and the first transparent electrode layer, a predetermined voltage is applied,
    前記導電率可変層は、前記第1の透明電極層を透過した前記表示パネルの駆動を制御する制御光の光量に応じて電気的な導電率が変化し、 The electrically conductivities variable layer is electrically conductivity changes according to the amount of control light for controlling the driving of the display panel that has passed through the first transparent electrode layer,
    前記エレクトロ・ルミネッセンス層は、前記第1の透明電極層を透過した前記制御光の光量に応じて前記導電率可変層の前記導電率が変化し、前記所定の電圧のうち前記導電率可変層の前記導電率に応じた電圧が印加されることによって発光し、 Said electroluminescence layer, the conductivity of the electrically conductivities variable layer changes in accordance with the light amount of the first of the control light transmitted through the transparent electrode layer, of said electrically conductivities variable layer of the predetermined voltage emitted by the voltage corresponding to the conductivity is applied,
    前記エレクトロ・ルミネッセンス層は、画素に対応する複数の領域に分割された構造をなし、 Said electroluminescence layer, without a split structure in a plurality of regions corresponding to the pixels,
    前記エレクトロ・ルミネッセンス層は、少なくとも、前記導電率可変層と接する側の面に前記画素に対応して設けられた反射電極と、光を発光する発光層と、を有し、前記導電率可変層の上に設けられた複数の仕切部材によって、前記反射電極および前記発光層を分割することで前記画素に対応する複数の領域に分割された構造をなし、 The electro-luminescence layer, at least, has a reflective electrode provided in correspondence with the pixels on the surface of the side in contact with the electrically conductivities variable layer, a light emitting layer that emits light, wherein the conductive conductivities variable layer of a plurality of partition members provided on said reflective electrode and the light emitting layer without the structure divided into a plurality of regions corresponding to the pixels by dividing the,
    前記画素ごとの反射電極が前記仕切部材によって仕切られている前記エレクトロ・ルミネッセンス層と同一の大きさの領域に分割されている場合よりも広い範囲に入射した前記制御光を利用するために、前記画素ごとの反射電極の領域は、前記仕切部材によって仕切られている前記エレクトロ・ルミネッセンス層の部分の領域より大きいことを特徴とする表示パネル。 To use the control light reflective electrode is incident on the wider range than the case where the the same as the are partitioned by the partition member electroluminescence layer is divided into the size of the area of ​​each of the pixels, the areas of the reflective electrode of each pixel is a display panel, wherein the greater than the area of ​​the portion of the electroluminescence layer is partitioned by the partition member.
  3. 前記導電率可変層は、前記画素に対応する複数の領域に分割された構造をなすことを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。 The electrically conductivities variable layer display panel according to claim 1, wherein the forming the divided structure into a plurality of regions corresponding to the pixel.
  4. 前記エレクトロ・ルミネッセンス層の前記複数の領域は、第1色光用画素と、第2色光用画素と、第3色光用画素と、に対応して設けられ、 Said plurality of regions of the electroluminescence layer, and a pixel for the first color light, a pixel second color light, and a third for color light pixels, provided in correspondence with,
    画素集合体は、1つの前記第1色光用画素と、1つの前記第2色光用画素と、1つの前記第3色光用画素とから構成され、 Pixel aggregate is composed of one of the for first color light pixel, and one of said for the second color light pixels, and one said for the third color light pixels,
    複数の前記画素集合体が、所定の略直交する2方向に略等間隔で設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の表示パネル。 A plurality of said pixel aggregate, display panel according to claim 1, characterized in that provided at substantially equal intervals in two directions given substantially orthogonal.
  5. 表示パネルと、 And the display panel,
    前記表示パネルに電圧を印加する電源と、 A power source for applying a voltage to the display panel,
    前記表示パネルに制御光を供給する制御光用光学系と、を有し、 And a control light optical system that supplies a control light to the display panel,
    前記表示パネルは、請求項1〜4のいずれか一項に記載の表示パネルであって、 The display panel is a display panel according to claim 1,
    前記電源は、前記表示パネルの前記第1の透明電極層と前記第2の透明電極層との間に電圧を印加し、 Wherein the power source, a voltage is applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer of said display panel,
    前記制御光用光学系は、前記制御光を前記表示パネルの前記第1の透明電極層に入射させることを特徴とする表示装置。 The control light optical system, a display device for causing incident said control light to said first transparent electrode layer of the display panel.
  6. 前記制御光用光学系は、前記開口部に前記制御光を通過させることにより、所定の前記画素に対応する前記第1の透明電極層の位置のみに入射させることを特徴とする請求項5に記載の表示装置。 The control light optical system, by passing said control light to the opening, to claim 5, characterized in that is incident only on the position of the first transparent electrode layer corresponding to predetermined said pixel the display device according.
  7. 前記制御光用光学系は、複数の制御光用光源ユニットを有し、 The control light optical system has a plurality of control light source unit,
    前記制御光用光源ユニットは、前記第1色光用画素に対応する前記第1の透明電極層に第1の制御光を供給する第1制御光用光源部と、前記第2色光用画素に対応する前記第1の透明電極層に第2の制御光を供給する第2制御光用光源部と、前記第3色光用画素に対応する前記第1の透明電極層に第3の制御光を供給する第3制御光用光源部と、からなり、 The control light source unit may correspond to the first and the first control light source unit supplies a control light, the for the second color light pixels to said first transparent electrode layer corresponding to the for first color light pixel supplying a second control light source unit for supplying a second control light to the first transparent electrode layer, the third control light to the first transparent electrode layer corresponding to the for the third color light pixels a third control light source unit which consists,
    複数の前記制御光用光源ユニットは、それぞれ前記表示パネルの異なる領域に、前記第1の制御光と、前記第2の制御光と、前記第3の制御光とを供給することを特徴とする請求項5又は6に記載の表示装置。 A plurality of said control light source unit, in different regions of each of the display panel, and said first control light, and the second control light, and supplying a third control light the display device according to claim 5 or 6.
  8. 少なくとも前記制御光用光学系を収納する筐体を有し、 Having a housing for accommodating at least the control light optical system,
    前記表示パネルは、前記筐体に設けられていることを特徴とする請求項5〜7のいずれか一項に記載の表示装置。 The display panel display device according to any one of claims 5-7, characterized in that provided on the housing.
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