JP4124154B2 - 音響変換器およびその製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施の形態1における音響変換器およびその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の実施の形態2における音響変換器およびその製造方法について、図面を用いて説明する。
2 溝
3 第一の開口部
4 第二の開口部
5 第二の基板
6 第一の導電層
7 第二の導電層
8 圧電体
9 アクチュエータ
10 ポンプ室
14 レジストマスク
15 レジストマスク
16 レジストマスク
18 第一の基板
19 上部シリコン層
20 二酸化珪素層
21 下部シリコン層
22 第一の導電層
23 圧電体
24 第二の導電層
25 アクチュエータ
26 溝
29 第2の基板
30 レジストマスク
31 レジストマスク
32 レジストマスク
Claims (19)
- 少なくとも一面に溝を有する第一の基板と、
この第一の基板の前記溝側に接合された第二の基板と、
この第二の基板と前記溝とで構成された空洞とを備え、
この空洞は、前記第一の基板の側面において、外方へ通じる少なくとも二つ以上の開口部と、前記溝の一部で形成されたポンプ室とを有し、
このポンプ室の上部であって、前記第一の基板上には、第一の導電層と圧電体と第二の導電層とから構成されたアクチュエータが設けられている音響変換器。 - 少なくとも一つの開口部の断面積を溝の断面積よりも大きくした請求項1に記載の音響変換器。
- 一方の開口部の断面積を他方の開口部の断面積よりも小さくし、且つアクチュエータを一方の開口部に接近して設けた請求項1に記載の音響変換器。
- 溝の長さをアクチュエータの長さの2倍以上とした請求項1に記載の音響変換器。
- アクチュエータの下方に位置する前記ポンプ室の断面積を2つ以上の開口部に接続する溝の断面積よりも大きくした請求項1に記載の音響変換器。
- 第一の基板をシリコンとした請求項1に記載の音響変換器。
- 第二の基板をガラスとした請求項1に記載の音響変換器。
- 第一の基板をシリコンとし、第二の基板をガラスとした請求項1に記載の音響変換器。
- 前記アクチュエータの駆動により、前記ポンプ室内の体積は膨張あるいは圧縮する請求項1に記載の音響変換器。
- 前記第一、第二の導電層を白金、チタン、イリジウム、金、クロムのいずれか一つを含む電極とした請求項9に記載の音響変換器。
- 圧電体をチタン酸ジルコン酸鉛とした請求項9に記載の音響変換器。
- 前記第一、第二の導電層を白金、チタン、イリジウム、金、クロムのいずれか一つを含む電極とし、圧電体をチタン酸ジルコン酸鉛とした請求項1に記載の音響変換器。
- 第一の基板をシリコンと、二酸化珪素または二酸化珪素を含むガラスと、シリコンとからなる積層基板とした請求項1に記載の音響変換器。
- 第一の基板をシリコンと、二酸化珪素または二酸化珪素を含むガラスと、シリコンとからなる積層基板とし、第二の基板をガラスとした請求項1に記載の音響変換器。
- 第一の基板と第二の基板を直接接合もしくは陽極接合で接着した請求項8または11に記載の音響変換器。
- 第一の基板の上面に第一の導電層と圧電体と第二の導電層を順番に形成する工程と、
前記第一の導電層と前記圧電体と前記第二の導電層をエッチングしてアクチュエータを形成する工程と、
前記第一の基板の下面をエッチングして溝を形成し、前記アクチュエータの下方に位置する前記溝をポンプ室とする工程と、
前記第一の基板の下面に第二の基板を接合し、
この第二の基板と前記溝とで形成され、前記第一の基板の側面において、外方へ通じる少なくとも二つ以上の開口部を有する空洞とを形成する工程とからなる音響変換器の製造方法。 - 第一の基板に溝を形成する工程がエッチングを抑制するガスとエッチングを促進するガスの2種類を交互に用いてエッチングを行うドライエッチングからなる請求項16に記載の音響変換器の製造方法。
- 第一の基板に溝を形成する工程がエッチングを抑制するガスとエッチングを促進するガスの2種類を混合して行うドライエッチングからなる請求項16に記載の音響変換器の製造方法。
- 第一の基板に第二の基板を接合する方法が直接接合あるいは陽極接合からなる請求項16に記載の音響変換器の製造方法。
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