JP4121830B2 - 混成抵抗性交点メモリセルアレイおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、抵抗性交点メモリセルアレイおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)エレメント、相変化メモリエレメント、抵抗性重合体メモリエレメント、ポリシリコンメモリエレメント、追記型(ライトワンス)(例えば、ヒューズまたはアンチヒューズ(anti-fuse)を利用した)抵抗性メモリエレメントを有する抵抗性交点メモリセルアレイを含む、様々な抵抗性交点メモリセルアレイが提案されてきている。
【0003】
代表的なMRAM記憶デバイスは、例えば、メモリセルのアレイを含む。ワード線がメモリセルの行に沿って延在し、ビット線がメモリセルの列に沿って延在できる。各メモリセルは、ワード線とビット線の交点にある。各MRAMメモリセルは、情報のビットを磁化の向きとして記憶する。特に、各メモリセルの磁化は、任意の所定時間において2つの安定した向きの一方を呈する。そのような平行と反平行の2つの安定した向きは、0と1の論理値を表す。磁化の向きは、メモリセルの抵抗に影響を及ぼす。例えば、メモリセルの抵抗は、磁化の向きが平行の場合に第1の値Rであり、磁化の向きが平行から反平行に変化した場合に、メモリセルの抵抗は、第2の値R+ΔRに増大できる。
【0004】
一般に、抵抗性交点メモリセルの論理状態は、選択されたメモリセルの抵抗状態をセンシングすることによって読み取ることができる。しかしながら、抵抗性交点メモリセルアレイ内のすべてのメモリセルは、多数の平行経路によって相互接続されているため、一般に、アレイ内の1つのメモリセルの抵抗状態のセンシングは困難である。したがって、1つの交点に見られる抵抗は、他のワード線とビット線のメモリセルの抵抗と並列のその交点におけるメモリセルの抵抗と等しい。さらに、センシングされるターゲットメモリセルが、蓄積された磁化のために異なる抵抗状態を有する場合は、小さい電圧差が生じることがある。この小さい電圧差によって、ターゲットメモリセルの抵抗状態のセンシングを妨げることがある寄生電流または「スニークパス」電流が生じることがある。
【0005】
【特許文献1】
米国特許第5,793,697号明細書
【特許文献2】
米国特許第6,259,644号明細書
【特許文献3】
米国特許第6,256,247号明細書
【特許文献4】
米国特許出願第2001/0012228号明細書
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、高密度で高速アクセスの抵抗性交点メモリを開発する前に乗り越えなければならない1つのハードルは、選択されたメモリセルに記憶されたデータをセンシングしている間、選択された抵抗性交点メモリセルを確実に分離することである。一般に、そのようなメモリセルを分離するための従来の技術は、選択トランジスタ分離技術、ダイオード分離技術、および等電位分離技術の3つのメモリセル分離カテゴリのうちの1つに入る。
【0007】
一般に、選択トランジスタ分離技術は、それぞれの抵抗性交点メモリセルと直列に選択トランジスタを挿入する必要がある。このアーキテクチャは、一般に、読み取りアクセス時間が速いことに特徴がある。残念ながら、抵抗性交点メモリセルアレイの下の領域が、一般に、直列トランジスタ用に確保されており、したがって支援回路に利用できないので、そのような直列トランジスタアーキテクチャは、一般にシリコン領域の利用率が比較的低いという特徴もある。さらに、この分離技術は、メモリセルを基板内の直列トランジスタに接続するビアのために各メモリセル内に領域を割り当てなければならないので、メモリセルの配置密度が比較的低くなりやすい。また、この分離技術は、一般に、読み取り回路と並列に書き込み回路を設けるために、分離された書き込み導体をメモリセルに追加しなければならず、書き込み導体の配置により、必要な書き込み電界を生成するための書き込み電流が多くなるので、比較的大きい書き込み電流を必要とする。一般的に、この手法は、直列トランジスタを基板内に配置しなければならず、また直列トランジスタを基板からメモリセル平面に入れる実用的な方法がないので、1つのメモリ平面に制限される。
【0008】
ダイオード分離技術は、一般に、それぞれの抵抗性交点メモリエレメントと直列にダイオードを挿入する必要がある。このメモリセルアレイアーキテクチャは、多重層(multi-level)の抵抗性交点メモリアレイの構成を可能にする薄膜ダイオードによって実施され得る(例えば、特許文献1を参照)。このアーキテクチャは、高速動作の可能性を有する。このアーキテクチャに関連してしばしば起こる問題には、メモリセルアレイの電位密度に適合する最小プロセス構成サイズを有する適切な薄膜ダイオードを提供することが含まれる。さらに、この手法は、1つのメモリエレメントにつき1つのダイオードを使用し、現在では実用的なMRAM構成とパラメータを使用し、例えば、各ダイオードは、5〜15kA/cm2を伝える必要がある。そのような高い電流密度は、高密度MRAMアレイ内に薄膜ダイオードを実装するには概して実際的でない。
【0009】
等電位分離技術は、一般に、直列ダイオードやトランジスタを使用せずに抵抗性交点メモリセルをセンシングする必要がある(例えば、特許文献2を参照)。この手法は、製造が比較的単純なメモリエレメントの交点アレイによって実現され得る。この交点メモリセルアレイアーキテクチャは、一般に、最小構成サイズの回路実装技術のみにより限定される密度を有し、一般に、比較的少ない書き込み電流を必要とする。さらに、この手法を、多重層の抵抗性交点メモリセルアレイに拡張して、きわめて高密度のメモリを達成することは比較的簡単である。しかしながら、等電位分離技術は、大きなアレイで実現するには困難なことが多い。自動較正および3倍サンプル読み取り技術は、等電位分離技術を使用して大きなMRAMアレイのデータをセンシングするために使用されてきたが、これらのセンシングプロセスは、一般に、読み取りセンス時間を5μs〜20μsの範囲に制限する。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、実用的な寸法と電流密度特性を有する分離ダイオードにより高密度の製造と高速動作を可能にする新規の抵抗性交点メモリセルアレイを含むデータ記憶デバイスを特徴とする。さらに、本発明のデータ記憶デバイスは、メモリセルの抵抗状態のセンシングを妨げる可能性のある寄生電流を実質的に回避する新規の等電位分離回路を含む。
【0011】
1つの態様において、本発明は、メモリセルの抵抗性交点アレイと、複数のワード線と、複数のビット線とを含むデータ記憶デバイスを特徴とする。メモリセルは、2つ以上のメモリセルの多数のグループに構成される。各グループのメモリセルは、それぞれのワード線と、ビット線に結合された共通分離ダイオードとの間に接続される。
【0012】
本発明の実施形態は、以下の1つ以上の特徴を含むことができる。
【0013】
多数の読み取り回路はそれぞれ、それぞれのビット線によってメモリセルの1つまたは複数の関連するグループに結合されることが好ましい。読み取り回路は、関連するグループのメモリセルに流れる電流をセンシングするように動作可能であることが好ましい。各読み取り回路は、差動アンプを含むことができる。差動アンプは、電流モードの差動アンプとすることができる。差動アンプは、1つまたは複数の基準セルに流れる電流を選択されたメモリセルに流れる電流と比較するように動作可能であることが好ましい。データ記憶デバイスは、さらに、それぞれが関連する読み取り回路に結合された多数の比較器回路を含むことができる。比較器回路は、アナログ差動センス電圧をデジタル出力読み取り信号に変換するように動作可能であることが好ましい。
【0014】
データ記憶デバイスは、ワード線とビット線とに結合された等電位発生器を含むことが好ましい。等電位発生器は、抵抗性交点メモリセルアレイにおける電圧レベルを、寄生電流が選択されていないメモリセルに流れるのを実質的に防止するように設定するように動作可能であることが好ましい。等電位発生器は、メモリセルの各グループの共通分離ダイオードの入力ノードと選択されていないワード線を共通アレイ電圧に設定するように動作可能である。いくつかの実施形態において、等電位発生器は、1つまたは複数の選択されていないワード線からのフィードバックに基づいて、選択されたワード線の等電位分離を確立するように動作可能である。ワード線の選択されたグループ内の選択されていないワード線を共に接続して、印加されたアレイ電圧とほぼ等しい平均フィードバック電圧を設定することができる。1つの実施形態において、各分離ダイオードの入力ノードは、それぞれの電圧フォロワトランジスタに結合され、等電位発生器は、電圧フォロワトランジスタのゲートに結合される。等電位発生器は、基準電圧に結合された第1の入力と、ワード線に結合された第2の入力と、電圧フォロワトランジスタのゲートに結合された出力とを有する演算増幅器回路を含むことができる。演算増幅器回路の第2の入力は、スイッチング回路を介してワード線に結合され得る。
【0015】
いくつかの実施形態において、各メモリセルは、磁気ランダムアクセスメモリエレメントからなることができる。
【0016】
別の態様において、本発明は、データ記憶デバイスを作成する方法を特徴とする。この発明の方法により、メモリセルの抵抗性交点アレイが形成される。また、複数のワード線と複数のビット線が形成される。メモリセルは、2つ以上のメモリセルの多数のグループに構成される。各グループのメモリセルは、それぞれのワード線と、ビット線に結合された共通分離ダイオードとの間に接続される。
【0017】
本発明の他の特徴および利点は、図面および特許請求の範囲を含む以下の説明から明らかになるであろう。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下の説明において、類似の要素を示すために同じ参照番号を使用する。さらに、図面は、例示的な実施形態の主な特徴を概略的に示すように意図されている。図面は、実際の実施形態のすべての特徴や示した要素の相対的な寸法を示すようには意図されておらず、一定の縮尺で示されていない。
【0019】
図1を参照すると、1つの実施形態において、データ記憶デバイス10は、抵抗性交点メモリセルアレイ12と、交点メモリセルアレイ12の行に沿って延在する複数のワード線14と、交点メモリセルアレイ12の列に沿って延在する複数のビット線16とを含む。メモリセルアレイ12のメモリセル18は、磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)エレメント、相変化メモリエレメント、抵抗性重合体メモリエレメント、ポリシリコンメモリエレメント、および追記型(ライトワンス)(例えば、ヒューズやアンチヒューズを利用する)抵抗性メモリエレメントを含む、様々な従来の抵抗性メモリエレメントのいずれとしても実施され得る。
【0020】
データ記憶デバイス10は、また、それぞれのビット線16によってメモリセル18の1つまたは複数の関連する組にそれぞれ結合される多数の読み取り回路20を含む。各読み取り回路20は、メモリセル18の関連するグループ(単数または複数)のメモリセルに流れる電流をセンシングするように動作できる。ステアリング回路22は、受け取ったビット線アドレス(Ay)に基づいて、関連する読み取り回路20を、選択されたビット線16に選択的に結合する。各ステアリング回路22は、各ビット線16を一定のアレイ電圧(VARRAY)の供給源または関連する読み取り回路20に接続する一組のスイッチを含む。ワード線復号回路24は、受け取ったワード線アドレス(Ax)に基づいて、特定のワード線14を選択的に活性化する。読み取り操作中、ワード線復号回路24は、各ワード線14に一定のアレイ電圧(VARRAY)または読み取り電位を選択的に印加することにより、選択されたワード線14を活性化できる。各読み取り回路20の出力は、データ記憶デバイス10のそれぞれの入力/出力(I/O)パッドの入力に結合される。
【0021】
図示された実施形態では、比較的少数のメモリセル18を有する抵抗性交点メモリセルアレイが示されている。しかしながら、他の実施形態は、多数のメモリセルを含むことができる。例えば、1つの実施形態において、抵抗性交点メモリセルアレイ12は、メモリセル18の1024×1024のアレイと、256個の読み取り回路20とを含み、各読み取り回路20は、4つのビット線16のピッチに適合する。この実施形態において、4つのビット線16のすべてが、各読み取り回路20に多重化されてもよい。いくつかの実施形態は、複数層のメモリセルアレイ12を含むことができる。そのような実施形態では、様々な層(level)からのビット線16を読み取り回路12に多重化することができる。
【0022】
いくつかの実施形態において、データ記憶デバイス10は、抵抗性交点メモリアレイ12のメモリセル18に情報を書き込むための書き込み回路(図示せず)を含むこともできる。
【0023】
以下で詳細に説明されるように、抵抗性交点メモリセルアレイ12のアーキテクチャは、実用的な寸法と電流密度特性を有する分離ダイオードによって、高密度の製造と高速の動作を可能にする。さらに、データ記憶デバイス10は、メモリセル18の抵抗状態のセンシングを妨げる可能性がある寄生電流を実質的に防ぐ新規な等電位分離回路を含む。
【0024】
図2を参照すると、1つの実施形態において、抵抗性交点メモリセルアレイ12のメモリセル18は、2つ以上のメモリセル18の多数のグループ26に構成される。例えば、図示された実施形態において、各グループ26は、3つのメモリセル18を含む。各グループ26のメモリセル18は、それぞれのワード線14と、ビット線16に結合された共通グループ分離ダイオード28との間に接続される。抵抗性交点メモリセルアレイ12は、実用的な寸法と電流密度特性を有する分離ダイオードによって実現され得るアーキテクチャにおいて、ダイオード分離アーキテクチャと関連した高速動作の利点と、等電位分離アーキテクチャの高密度の利点を特徴とする。いくつかの実施形態において、分離ダイオード28は、従来の薄膜ダイオード製造技術を使用してメモリセル18と共に作成されることができ、それにより、多重層の多重抵抗性交点メモリアレイを構成することが可能になる。
【0025】
動作において、ターゲットメモリセルに対応するワード線14を選択し、それを低電位(ほぼアース電位)に接続するすることによって、抵抗性交点メモリセルアレイ12のターゲットセル内のデータをセンシングする。これと同時に、図3Aと関連して以下に詳細に説明されるように、ビット線16のグループが、基準/センス対で読み取り回路20に接続される。等電位発生器の出力から選択されていないビット線16にアレイ電位(VARRAY)が印加される。これについては、以下でまた説明する。等電位発生器は、選択されたビット線に結合された読み取り回路20にビット線電圧を設定するために制御電圧を印加し、その結果、選択されたメモリエレメントに印加される電圧が、アレイ電位(VARRAY)と等しくなる。また、等電位発生器は、選択されていないビット線に結合されたステアリング回路22に制御電圧を印加して、選択されていないメモリエレメントに印加される電圧がアレイ電位(VARRAY)と等くなるように、選択されていないビット線の電圧を設定する。ワード線14の選択されたグループ29内の選択されていないワード線14は、共に接続され、等電位発生器への第2の入力として平均化フィードバック電圧を生成する。等電位発生器は、印加されたアレイ電圧(VARRAY)とソースフォロワトランジスタ44へのフィードバック電圧との差から出力電圧(VG)を発生させて、選択された基準抵抗36、選択されたメモリ抵抗38、および選択されたワード線に接続された選択されていないメモリ抵抗39に印加されるVARRAYと等しい電圧を得る。このように、選択されたワード線に接続されたメモリエレメントは、それらと他のすべてのメモリエレメントの両端に約VARRAYが印加され、選択されたビット線16およびワード線14の選択されたグループ29と関連する選択されていないメモリエレメントの両端の電位はほぼゼロである。その結果、ビット線読み取り回路20は、選択されたメモリエレメントからのみセンス電流を受け取る。ワード線14の選択されていないグループは、高電位(分離ダイオード28の電圧降下の約2倍の大きさ)に接続され、逆バイアスのかかった分離ダイオード28によって関連するビット線14から分離される。選択されていないビット線16には電圧(VG)が印加され、それにより、関連するメモリエレメントおよび関連する分離ダイオード28の両端にVARRAYが印加される。その結果、読み取り操作中に選択されていないビット線に寄生ビット線電流が流れる。
【0026】
図3Aと図3Bに示されるように、1つの実施形態において、各読み取り回路20は、センスアンプ回路30、等電位発生器回路32、および比較器回路34を含む。センスアンプ30は、電流モード差動アンプとして実施され得る。図3Aの実施形態において、基準ビット線とセンスビット線のメモリセルアレイの、2つのビット線16が示される。基準ビット線とセンスビット線は、それぞれターゲット基準セルエレメント36とターゲットセンスセルエレメント38を有する等価回路の形で示され、他のセルは、抵抗40、42によって表されている。動作において、基準ビット線に生成される電流とセンスビット線に生成される電流との差を検出することによって、データ「1」またはデータ「0」がセンシングされ得る。いくつかの実施形態では、基準ビット線と関連したいくつかのメモリセルが存在することがある。他の実施形態では、1ビット当たり1つの基準ビット線が存在できる。
【0027】
読み取り操作中、等電位発生器は、それぞれ選択されたビット線に1つ、1組の電圧フォロワトランジスタ44に印加されるゲート電圧信号(VG)を発生させる。各電圧フォロワトランジスタ44は、それぞれのビット線電圧(例えばVREF,1とVSENSE,1)を狭い電圧範囲に設定し、同時にセンスアンプ回路30のセンスノードに高インピーダンスを提供する。電圧フォロワトランジスタ44に流れるセンス電流は、グループ分離ダイオード28を通り、次に選択されたメモリエレメント36、38を通る。電圧レベルVGは、メモリエレメント36、38の両端に印加される電圧VREF,2とVSENSE,2が、アレイ電圧VARRAYにきわめて近くなるように設定されるのが好ましい。電圧VREF,2とVSENSE,2がVARRAYと等しい場合、前述したように、スニークパスメモリエレメント40、42に寄生電流は流れない。選択されていないビット線には類似の作用が生じ、等電位発生器の出力(VG)によって、ゲート電圧が選択されていないビット線と関連するソースフォロワに印加され、VARRAYとほぼ等しい電圧が選択されていないメモリセル39に印加され、それにより、寄生スニークパス電流は、関連するスニークパスメモリセル43に流れない。この実施形態において、グループ26内のすべての選択されていないワード線は、ノードAで共に結合され、等電位発生器回路32への第2の入力としてフィードバック電圧を作成するために平均電圧VAを発生させる。選択されていないワード線を共に接続することにより、選択されたメモリセルに印加される電圧をサンプリングする分圧器回路が構成される。これらの電圧はほぼ等しく、選択されていないメモリエレメントの分圧器の出力は、選択されたメモリセルに印加されるわずかに異なる電圧の平均を表す。1つの実施形態において、等電位発生器回路32は、VARRAYのソースに結合された第1の入力と、行選択復号回路(図3Aに示していない)を介して選択されていないワード線14(VA)に結合された第2の入力と、電圧フォロワトランジスタ44のゲートに結合された出力とを有する演算増幅器制御回路として実施される。一定のアレイ電圧は、外部回路(図示せず)から提供されてもよい。VAがVARRAYと等しいとき、VGは、VREF,2、VSENSE,2およびVAがすべてほぼ同じ大きさを有し、それにより、ノードAにわずかな電流が流れるように設定される。この技術は、また、多数のセンスアンプが使用されるとき(すなわち、複数のビット対を同時にセンシングするとき)にも良好に動作する。
【0028】
電流ミラーセンスアンプ回路30は、既知の電流ミラー回路の動作と同じように動作する(例えば、特許文献3と特許文献4を参照)。この回路は、2つのほぼ等しいセンス電流から大きなセンス電圧信号(VOUT)を発生させることができる。
【0029】
図3Bに示したように、比較器回路34は、クロックト比較器/ラッチとして実施され得る。この回路は、アナログ差分センス電圧データを信頼性の高いフルスイングデジタルデータに変換するための既知のクロックト比較器/ラッチ回路の動作と同じように動作する。データ記憶デバイス10の他の構成要素と組み合わせたとき、比較器/ラッチ回路34は、センス動作を完成させるための信頼性が高くかつ効率的な回路である。
【0030】
図4を参照すると、1つの実施形態において、抵抗性交点メモリセルアレイ12のメモリセル18は、以下のように読み出され得る。最初に、ワード線およびビット線のアドレス(AXおよびAY)を、選択されるメモリセルと選択される基準セルのアドレスに設定することによって、センシングされるべきメモリセルが選択される(ステップ50)。各ビットごとに基準ビット線とセンスビット線がある場合、2つのビット線は、「ビット」−「ビットバー」ビット線対と呼ばれることがある。最初にワード線グループ29を選択し、次にワード線グループ29から1つのワード線14を選択することによって、1つのワード線14を選択することができる。センシングされるべき選択されたメモリセルは、選択されたワード線14と選択されたビット線16の交点にある。次に、選択されたワード線16上で1組のメモリセル18内の等電位分離をもたらす動作条件を確立するために、等電位発生器32に制御電圧VGが生成される(ステップ52)。制御電圧VGは、選択されたメモリエレメントに流れるセンス電流を最大にし、スニークパスエレメントに電流が流れるのを実質的に防ぐ。電流ミラーセンスアンプ回路30にセンス電流が流れる。基準ビット線のセンス電流によって、ミラートランジスタ53のゲート上にミラー電圧が設定される(図3A)(ステップ54)。センスビット線のセンス電流が、基準センス電流より大きい場合は、出力ノード電圧(V0UT)が基準ノード電圧VREF,1より低くなり、論理状態1を示す。代案として、センスビット線のセンス電流が、基準センス電流より小さい場合は、出力ノード電圧(VOUT)が基準ノード電圧VREF,1よりも高くなり、別の論理状態を示す。電流ミラーセンスアンプ回路30に有効なデータを発生させることができるように、外部から遅延期間が設定される(ステップ56)。適切な遅延期間の後、アナログ電流センス回路電圧は、比較器/ラッチ回路34に接続される。比較器/ラッチ回路34は、クロック信号(CLK)がハイのときに小さいアナログ差分信号から完全な論理信号を生成し(ステップ58)、出力が、緩衝増幅器60を介して比較器/ラッチ回路34から取り出される(図3B)(ステップ62)。
【0031】
他の実施形態も特許請求の範囲内にある。
【0032】
以下においては、本発明の種々の構成要件の組み合わせからなる例示的な実施形態を示す。
1.データ記憶デバイス(10)であって、
メモリセル(18)の抵抗性交点アレイ(12)と、
複数のワード線(14)と、及び
複数のビット線(16)とを含み、
メモリセル(18)が、2つ以上のメモリセル(18)の多数のグループ(26)に構成され、各グループ(26)の前記メモリセル(18)が、それぞれのワード線(14)と、ビット線(16)に結合された共通分離ダイオード(28)との間に接続された、データ記憶デバイス(10)。
2.それぞれのビット線(16)によってメモリセル(18)の1つまたは複数の関連するグループ(26)にそれぞれ結合され、その関連するグループ(26)のメモリセル(18)に流れる電流をセンシングするように動作する多数の読み取り回路(20)をさらに含む、上記1のデータ記憶デバイス。
3.前記ワード線(14)と前記ビット線(16)に結合され、選択されていないメモリセル(18)に寄生電流が流れるのを実質的に防ぐために抵抗性交点メモリセルアレイ(12)の電圧レベルを設定するように動作可能な等電位発生器(32)をさらに含む、上記1のデータ記憶デバイス。
4.前記等電位発生器(32)が、メモリセル(18)の各グループ(26)の前記共通分離ダイオード(28)の入力ノードを、選択されていないワード線(14)からのフィードバックによって設定するように動作可能である、上記3のデータ記憶デバイス。
5.ワード線(14)の選択されたグループ内の選択されていないワード線(14)が、印加されたアレイ電圧とほぼ等しい平均フィードバック電圧を設定するように共に接続される、上記4のデータ記憶デバイス。
6.前記等電位発生器(32)が、選択されたワード線(14)の等電位分離を、1つまたは複数の選択されていないワード線(14)からのフィードバックに基づいて確立するように動作可能である、上記5のデータ記憶デバイス。
7.各分離ダイオード(28)の前記入力ノードが、それぞれの電圧フォロワトランジスタ(44)に結合され、前記等電位発生器(32)が、前記電圧フォロワトランジスタ(44)のゲートに結合された、上記5のデータ記憶デバイス。
8.前記等電位発生器(32)が、基準電圧に結合された第1の入力と、選択されていないワード線(14)に結合された第2の入力と、前記電圧フォロワトランジスタ(44)の前記ゲートに結合された出力とを有する演算増幅器回路を含む、上記7のデータ記憶デバイス。
9.前記演算増幅器回路の前記第2の入力が、スイッチング回路を介して前記選択されていないワード線(32)に結合される、上記8のデータ記憶デバイス。
10.データ記憶デバイス(10)を作成する方法であって、
メモリセル(18)の抵抗性交点アレイ(12)を形成するステップと、
複数のワード線(14)を形成するステップと、及び
複数のビット線(16)を形成するステップとからなり、
メモリセル(18)が、2つ以上のメモリセル(18)の多数のグループ(26)に構成され、各グループ(26)の前記メモリセル(18)が、それぞれのワード線(14)と、ビット線(16)に結合された共通分離ダイオード(28)との間に接続されている、方法。
【0033】
【発明の効果】
本発明によれば、実用的な寸法と電流密度特性を有する分離ダイオードにより高密度の製造と高速動作を可能にする抵抗性交点メモリセルアレイを含むデータ記憶デバイスが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】メモリセルの抵抗性交点アレイと、多数の読み取り回路および関連するステアリング回路と、ワード線復号回路とを含むデータ記憶デバイスの回路図である。
【図2】それぞれのワード線と共通グループ分離ダイオードとの間にそれぞれ接続された3つのメモリセルの多数のグループを含む、図1の抵抗性交点メモリセルアレイの一部分の回路図である。
【図3A】メモリセルの1つ以上の関連するグループのメモリセルに流れる電流をセンシングするように動作可能なセンスアンプ回路と、図1の抵抗性交点メモリセルアレイにおける電圧レベルを、選択されていないメモリセルに寄生電流が流れるのを実質的に防ぐように設定するように動作可能な等電位発生器の回路との図である。
【図3B】図3Aの読み取り回路によって生成されたアナログ差分センス電圧をデジタル出力読取信号に変換するように動作可能な比較器回路の回路図である。
【図4】図1の抵抗性交点メモリセルアレイのメモリセルを読み取る方法の流れ図である。
【符号の説明】
10 データ記憶デバイス
12 抵抗性交点アレイ
14 ワード線
16 ビット線
18 メモリセル
26 グループ
28 共通分離ダイオード
32 等電位発生器
44 電圧フォロワトランジスタ
Claims (9)
- データ記憶デバイス(10)であって、
メモリセル(18)の抵抗性交点アレイ(12)と、
複数のワード線(14)と、
複数のビット線(16)と、
前記ワード線( 14 )と前記ビット線( 16 )に結合され、選択されていないメモリセル( 18 )に寄生電流が流れるのを実質的に防ぐために前記抵抗性交点アレイ( 12 )の電圧レベルを設定するように動作可能な等電位発生器( 32 )とを含み、
メモリセル(18)が、2つまたはそれより多いメモリセル(18)の多数のグループ(26)に構成され、各グループ(26)の前記メモリセル(18)が、それぞれのワード線(14)と、ビット線(16)に結合された共通分離ダイオード(28)との間に接続された、データ記憶デバイス(10)。 - それぞれのビット線(16)によってメモリセル(18)の1つまたは複数の関連するグループ(26)にそれぞれ結合され、その関連するグループ(26)のメモリセル(18)に流れる電流をセンシングするように動作する多数の読み取り回路(20)をさらに含む、請求項1のデータ記憶デバイス。
- 前記等電位発生器(32)が、メモリセル(18)の各グループ(26)の前記共通分離ダイオード(28)の入力ノードを、選択されていないワード線(14)からのフィードバックによって設定するように動作可能である、請求項1のデータ記憶デバイス。
- ワード線(14)の選択されたグループ内の選択されていないワード線(14)が、印加されたアレイ電圧とほぼ等しい平均フィードバック電圧を設定するように共に接続される、請求項3のデータ記憶デバイス。
- 前記等電位発生器(32)が、選択されたワード線(14)の等電位分離を、1つまたは複数の選択されていないワード線(14)からのフィードバックに基づいて確立するように動作可能である、請求項4のデータ記憶デバイス。
- 各分離ダイオード(28)の前記入力ノードが、それぞれの電圧フォロワトランジスタ(44)に結合され、前記等電位発生器(32)が、前記電圧フォロワトランジスタ(44)のゲートに結合されている、請求項4のデータ記憶デバイス。
- 前記等電位発生器(32)が、基準電圧に結合された第1の入力と、選択されていないワード線(14)に結合された第2の入力と、前記電圧フォロワトランジスタ(44)の前記ゲートに結合された出力とを有する演算増幅器回路を含む、請求項6のデータ記憶デバイス。
- 前記演算増幅器回路の前記第2の入力が、スイッチング回路を介して前記選択されていないワード線(32)に結合される、請求項7のデータ記憶デバイス。
- データ記憶デバイス(10)を作成する方法であって、
メモリセル(18)の抵抗性交点アレイ(12)を形成するステップと、
複数のワード線(14)を形成するステップと、
複数のビット線(16)を形成するステップと、
前記ワード線( 14 )と前記ビット線( 16 )に結合され、選択されていないメモリセル( 18 )に寄生電流が流れるのを実質的に防ぐために前記抵抗性交点アレイ( 12 )の電圧レベルを設定するように動作可能な等電位発生器( 32 )を形成するステップとを含み、
メモリセル(18)が、2つまたはそれより多いメモリセル(18)の多数のグループ(26)に構成され、各グループ(26)の前記メモリセル(18)が、それぞれのワード線(14)とビット線(16)に結合された共通分離ダイオード(28)との間に接続されている、方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9047946B2 (en) | 2011-08-31 | 2015-06-02 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Read circuit and non-volatile memory using the read circuit |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6791859B2 (en) * | 2001-11-20 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Complementary bit PCRAM sense amplifier and method of operation |
US6791885B2 (en) * | 2002-02-19 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor random access memory and method for sensing same |
US6885573B2 (en) * | 2002-03-15 | 2005-04-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Diode for use in MRAM devices and method of manufacture |
US6798685B2 (en) * | 2002-08-02 | 2004-09-28 | Unity Semiconductor Corporation | Multi-output multiplexor |
US6538940B1 (en) * | 2002-09-26 | 2003-03-25 | Motorola, Inc. | Method and circuitry for identifying weak bits in an MRAM |
JP3766380B2 (ja) * | 2002-12-25 | 2006-04-12 | 株式会社東芝 | 磁気ランダムアクセスメモリ及びその磁気ランダムアクセスメモリのデータ読み出し方法 |
US6885577B2 (en) * | 2003-06-18 | 2005-04-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Magnetic RAM cell device and array architecture |
US7240275B2 (en) * | 2003-08-05 | 2007-07-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Logical data block, magnetic random access memory, memory module, computer system and method |
US6826086B1 (en) | 2003-08-05 | 2004-11-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method, apparatus and system for erasing and writing a magnetic random access memory |
US6751147B1 (en) | 2003-08-05 | 2004-06-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method for adaptively writing a magnetic random access memory |
JP3836823B2 (ja) * | 2003-08-25 | 2006-10-25 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置 |
US6937509B2 (en) * | 2003-09-08 | 2005-08-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Data storage device and method of forming the same |
KR100541816B1 (ko) * | 2003-09-19 | 2006-01-10 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리에서의 데이터 리드 회로 및 데이터 리드 방법 |
US6985383B2 (en) * | 2003-10-20 | 2006-01-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Reference generator for multilevel nonlinear resistivity memory storage elements |
DE60333199D1 (de) * | 2003-11-12 | 2010-08-12 | St Microelectronics Srl | Phasenänderungsspeicher mit Überspannungsschutz und Schutzverfahren für Phasenänderungsspeicher mit Überspannungsschutz |
US20050138012A1 (en) * | 2003-12-23 | 2005-06-23 | Royer Robert J.Jr. | Meta-data storage and access techniques |
US7879037B2 (en) | 2004-02-11 | 2011-02-01 | Medtronic Xomed, Inc. | High speed surgical cutting instrument |
DE102004041907B3 (de) * | 2004-08-30 | 2006-03-23 | Infineon Technologies Ag | Resistive Speicheranordnung, insbesondere CBRAM-Speicher |
WO2006041430A1 (en) * | 2004-09-17 | 2006-04-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Data storage device and method of forming the same |
KR100682908B1 (ko) * | 2004-12-21 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 두개의 저항체를 지닌 비휘발성 메모리 소자 |
KR100688540B1 (ko) * | 2005-03-24 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | 메모리 셀의 집적도를 향상시킨 반도체 메모리 장치 |
US7388273B2 (en) * | 2005-06-14 | 2008-06-17 | International Business Machines Corporation | Reprogrammable fuse structure and method |
US7453755B2 (en) * | 2005-07-01 | 2008-11-18 | Sandisk 3D Llc | Memory cell with high-K antifuse for reverse bias programming |
US7403413B2 (en) * | 2006-06-28 | 2008-07-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Multiple port resistive memory cell |
US7397689B2 (en) * | 2006-08-09 | 2008-07-08 | Micron Technology, Inc. | Resistive memory device |
US7684227B2 (en) * | 2007-05-31 | 2010-03-23 | Micron Technology, Inc. | Resistive memory architectures with multiple memory cells per access device |
US8335100B2 (en) * | 2007-06-14 | 2012-12-18 | Micron Technology, Inc. | Circuit, biasing scheme and fabrication method for diode accessed cross-point resistive memory array |
TWI367485B (en) * | 2007-09-21 | 2012-07-01 | Higgs Opl Capital Llc | Device controlling phase change storage element and method of increasing reliability of phase change storage element |
US20090086521A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Herner S Brad | Multiple antifuse memory cells and methods to form, program, and sense the same |
US7961506B2 (en) * | 2008-02-05 | 2011-06-14 | Micron Technology, Inc. | Multiple memory cells with rectifying device |
US7936597B2 (en) * | 2008-03-25 | 2011-05-03 | Seagate Technology Llc | Multilevel magnetic storage device |
US7974117B2 (en) * | 2008-10-30 | 2011-07-05 | Seagate Technology Llc | Non-volatile memory cell with programmable unipolar switching element |
US8514637B2 (en) * | 2009-07-13 | 2013-08-20 | Seagate Technology Llc | Systems and methods of cell selection in three-dimensional cross-point array memory devices |
US8248836B2 (en) * | 2009-07-13 | 2012-08-21 | Seagate Technology Llc | Non-volatile memory cell stack with dual resistive elements |
US9025365B2 (en) | 2010-05-24 | 2015-05-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Reading memory elements within a crossbar array |
US8467253B2 (en) | 2010-05-24 | 2013-06-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Reading memory elements within a crossbar array |
GB2482666B (en) * | 2010-08-03 | 2012-06-20 | Dna Electronics Ltd | Chemical sensor |
US8866121B2 (en) | 2011-07-29 | 2014-10-21 | Sandisk 3D Llc | Current-limiting layer and a current-reducing layer in a memory device |
US8659001B2 (en) | 2011-09-01 | 2014-02-25 | Sandisk 3D Llc | Defect gradient to boost nonvolatile memory performance |
US8637413B2 (en) | 2011-12-02 | 2014-01-28 | Sandisk 3D Llc | Nonvolatile resistive memory element with a passivated switching layer |
US8698119B2 (en) | 2012-01-19 | 2014-04-15 | Sandisk 3D Llc | Nonvolatile memory device using a tunnel oxide as a current limiter element |
US8686386B2 (en) | 2012-02-17 | 2014-04-01 | Sandisk 3D Llc | Nonvolatile memory device using a varistor as a current limiter element |
US20140241031A1 (en) | 2013-02-28 | 2014-08-28 | Sandisk 3D Llc | Dielectric-based memory cells having multi-level one-time programmable and bi-level rewriteable operating modes and methods of forming the same |
JP2015046211A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-12 | マイクロン テクノロジー, インク. | 半導体装置 |
KR20170106343A (ko) * | 2015-01-23 | 2017-09-20 | 휴렛 팩커드 엔터프라이즈 디벨롭먼트 엘피 | 크로스바 어레이 내의 출력 신호 감지 |
US9767896B2 (en) * | 2016-01-21 | 2017-09-19 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for accessing memory cells in semiconductor memories |
CN117396961A (zh) * | 2021-06-17 | 2024-01-12 | 华为技术有限公司 | 读操作电路、芯片及电子设备 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4569121A (en) * | 1983-03-07 | 1986-02-11 | Signetics Corporation | Method of fabricating a programmable read-only memory cell incorporating an antifuse utilizing deposition of amorphous semiconductor layer |
KR100193101B1 (ko) * | 1994-07-22 | 1999-06-15 | 모리시다 요이치 | 비휘발성 반도체 기억장치 및 그 구동방법 |
US5848002A (en) * | 1994-12-27 | 1998-12-08 | Nkk Corporation | Information storage apparatus and method for operating the same |
US5982659A (en) * | 1996-12-23 | 1999-11-09 | Lsi Logic Corporation | Memory cell capable of storing more than two logic states by using different via resistances |
US6259644B1 (en) * | 1997-11-20 | 2001-07-10 | Hewlett-Packard Co | Equipotential sense methods for resistive cross point memory cell arrays |
JP3344331B2 (ja) * | 1998-09-30 | 2002-11-11 | 日本電気株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US6188615B1 (en) * | 1999-10-29 | 2001-02-13 | Hewlett-Packard Company | MRAM device including digital sense amplifiers |
US6473336B2 (en) * | 1999-12-16 | 2002-10-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic memory device |
US6185143B1 (en) | 2000-02-04 | 2001-02-06 | Hewlett-Packard Company | Magnetic random access memory (MRAM) device including differential sense amplifiers |
US6356477B1 (en) * | 2001-01-29 | 2002-03-12 | Hewlett Packard Company | Cross point memory array including shared devices for blocking sneak path currents |
-
2001
- 2001-10-31 US US10/000,636 patent/US6456524B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9047946B2 (en) | 2011-08-31 | 2015-06-02 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Read circuit and non-volatile memory using the read circuit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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