JP4115676B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

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  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、低速のテスタ装置において内部を高速に動作させてテストできる半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年のマイクロプロセッサの高速化に伴い、半導体メモリ、とりわけキャッシュメモリとして使用されるSRAMはますます高速化されている。これに伴いSRAMを試験するためのテスタ装置もますます高速な試験に対応せねばならず、極めて高価なテスタ装置が必要となり、テストコストを増大させる原因となっていた。
【0003】
このような問題に対する従来の解決策としては、メモリチップ内部に高速の動作試験を自走的に行うBIST(Built In Self Test)回路を搭載することであった。図13に従来の高速動作試験用BISTの構成の一例を示す。図13において、低速のテスタ装置から供給される低周波のクロック信号(CK)に基づいて、クロック生成回路201によって高周波の内部クロック信号(CK_int)が生成され、メモリ内部の高速動作試験に使用される。同時に低速のテスタ装置から与えられるアドレス(A)、コマンド(CMD)、入力データ(D)も、高周波の内部クロック信号に同期してそれぞれチップ内部の入力データ生成回路202、コマンド生成回路203、アドレス生成回路204で高速に変化させる。これらの信号はSRAMコア205に与えられて高速のテストが行われ、テスト後にSRAMコア205から出力された高周波のテスト結果(Q_int)は、比較回路206において期待値生成回路207により発生された期待値データと比較され、パス/フェイルが判定され、判定結果は圧縮回路208により圧縮されて低周波の信号として外部に出力される。
【0004】
このような従来のBIST回路では、低速のテスタ装置によっても高速な動作試験が可能となるが、テスト結果としてトータルでのパス/フェイルが判明するのみであった。このため、フェイルが発生した場合にフェイルが発生したアドレス等の詳細な情報を得ることはできないという問題があった。
【0005】
また、従来のBIST回路におけるクロック生成回路は、例えば図14に示すように、フェーズ・ロックド・ループ(PLL)212を用いて構成されていた。図14において、通常動作時には外部から入力されてバッファ回路211により増幅されたクロック信号がマルチプレクサ(MUX)213で選択され内部クロック(CK_int)として使用され、テスト時には外部クロック(CK)に同期してPLL212により周波数がN倍に倍周された内部クロック(CK_int)をMUX213で選択することで、低速のテスタ装置で高周波の内部クロック(CK_int)を生成することが可能となっていた。
【0006】
しかしながら、このような構成においてPLLは回路面積が大きく、このようなPLLを備えたBIST回路を被テストメモリに搭載すると、被テストメモリのチップ面積が増大するなどの問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明したように、半導体記憶装置に組み込まれて半導体記憶装置のテストを高速に実施する従来のBIST回路においては、高速な動作テストにおけるトータル的なパス/フェールを判別できるが、テスト結果の詳細な情報を得ることができないといった不具合を招いていた。また、記憶装置を高速にテスト動作させるために必要となる高速なクロック信号をPLLを用いて生成していたので、構成の大型化ならびに複雑化を招き、さらには精度の高いクロック周波数を得るのが困難であった。
【0008】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、詳細なテスト結果を得ることが可能となり、あるいは小型で簡単な構成で高精度の周波数のクロックを生成する構成を備えることにより小型な構成で高精度なテスト動作が可能となり、低速なテスタ装置において高速な動作テストを達成し得る半導体記憶装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、課題を解決する第1の手段は、外部クロック信号に同期して動作する同期型の半導体記憶装置において、前記半導体記憶装置の通常動作又はテスト動作を選択する選択回路と、前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストするテスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられる前記外部クロック信号よりも高周波の内部クロック信号を発生するクロック生成回路と、前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストするテスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられる外部アドレス信号よりも高周波で、前記内部クロック信号に同期して変化する内部アドレス信号を発生するアドレス生成回路と、前記クロック生成回路によって発生された内部クロック信号ならびに前記アドレス生成回路によって発生された内部アドレス信号に基づいてテスト動作が行われ、前記内部クロック信号に同期して前記半導体記憶装置からテスト結果として出力されたデータの一部を外部アドレス信号に基づいて順次選択し、順次選択したデータを前記外部クロック信号に同期して前記テスタ装置に出力する出力データ生成回路とを有することを特徴とする。
【0010】
第2の手段は、外部クロック信号に同期して動作する同期型の半導体記憶装置において、前記半導体装置の通常動作又はテスト動作を選択するモード選択回路と、前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストするテスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられた前記外部クロック信号よりも高周波の内部クロック信号を発生するクロック生成回路と、前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストする前記テスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられる外部アドレス信号よりも高周波で、前記内部クロック信号に同期して変化する内部アドレス信号を発生するアドレス生成回路と、前記テスタ装置から入力される前記外部アドレス信号と前記アドレス生成回路が発生する内部アドレス信号との比較結果に基づいて、または外部クロック信号に基づいて、ストローブ信号を発生するストローブ生成回路と、前記クロック生成回路によって発生された内部クロック信号ならびに前記アドレス生成回路によって発生されたアドレスに基づいてテスト動作が行われ、前記内部クロック信号に同期して前記半導体記憶装置からテスト結果として出力されるデータうち、前記ストローブ生成回路によって発生されたストローブ信号に同期したデータを選択し、選択したデータを前記外部クロック信号に同期して前記テスタ装置に出力する出力データ生成回路とを有することを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いてこの発明の実施形態を説明する。
【0013】
図1はこの発明の一実施形態に係る半導体記憶装置の簡略構成を示す図である。図1において、この実施形態の半導体記憶装置は、装置の通常動作モード又はテスト動作モードを選択して切り替えるモード選択回路10、クロック生成回路11、入力データ生成回路12、コマンド生成回路13、アドレス生成回路14、ストローブ生成回路15、出力データ生成回路16ならびにスタティック・ランダム・アクセス・メモリのSRAMコア17を備えて構成されている。
【0014】
図2は図1に示す構成において、クロック生成回路11、アドレス生成回路14、ストローブ生成回路15ならびに出力データ生成回路16の詳細な構成を、相互の接続とともに示す図である。図2において、クロック生成回路11は、発振器(Oscillator)111、パルス発生回路(Pulse Gen )112、マルチプレクサ(MUX)113を備えて構成され、アドレス生成回路14は、レジスタ(Reg )141、カウンタ(Couter)142、MUX143、144を備えて構成され、ストローブ生成回路15は、排他的論理和のゲート回路151、レジスタ(Reg )152、153、パルス発生回路(Pulse Gen )154を備えて構成され、出力データ生成回路16は、レジスタ(Reg )161、162、MUX163を備えて構成されている。
【0015】
図3は図1ならびに図2に示すクロック生成回路の詳細な構成を示す図である。図3において、クロック生成回路11は、先に述べた発振器111、パルス発生回路112に加えて、MUX113、Nビットのカウンタ(N_bit Conter)、レジスタ(Reg )を備えて構成されている。クロック生成回路11は、外部から入力されてクロックバッファ116により増幅された外部クロック信号(CK_ext)、またはチップ内部で発振器111により発生される高周波のクロック信号のいずれか一方がMUX113により選択される。通常動作時には、外部クロック信号がそのまま内部クロック信号(CK_int)として選択され、高速動作テスト時には、発振器111により生成されたクロックが内部クロック信号として選択される。
【0016】
クロック生成回路11は、高速動作の試験に先立ち、まずクロック周波数の調整を行う。クロック周波数の調整について、図4に示すクロック周波数調整時の動作タイミングチャートを参照して説明する。発振器111は、例えば外部から入力されるVcontの電位レベルにより発振周波数が変化する電圧制御型発振器(Voltage Controlled Oscillator :VCO)である。VCOの生成するクロックはNビットのカウンタ114に入力され、クロック周期毎にカウントアップを繰り返す。図3に示す動作例ではN=5である。一方、パルス発生回路112で外部クロック信号の立ち上がり毎にリセットパルス(Reset )が生成される。リセットパルスがカウンタ114に入力されると、カウンタ114のカウント値(N0〜N4)はオール“0”にリセットされる。ここで、VCOの発振周期をTint に設定したい場合には、低速のテスタ装置から入力される外部クロック信号の周期Text =Tint ×2に設定する。クロック生成回路11は、カウンタ114が外部クロック信号の周期Text の間にオール“0”からオール“1”までカウントアップが終了したか否かの情報をフラグ(flag)としてレジスタ115に保持し、適当な端子(パッド)を介してフラグ(Flag)信号としてテスタ装置に出力する。テスタ装置がフラグ“1”を検出し、すなわち2カウントが終了していた場合は、VCOの発振周波数を落とすようにVcontを制御し、逆にフラグが“0”、すなわち2カウントが終了していなかった場合は、VCOの発振周波数を上げるようにVcontを制御する。このようにして、フラグが“0”と“1”の丁度境目となるようにVcontを調整することで、発振周期Tintは正確にTextの1/2に設定することが可能となる。
【0017】
このように、上記構成を採用したこの実施形態のクロック生成回路11によれば、従来のようにPLL回路を搭載することなく、比較的簡単で小型な構成で、高精度の高周波内部クロック信号を発生することが可能となる。また、クロック生成回路11においては、外部クロック信号のジッターや、外部クロック信号と内部クロック信号の位相差、カウンタのリセット動作にかかる時間などにより、内部クロック信号の周波数に誤差が生じるが、この誤差を小さくするにはNを大きく設定すればよい。例えば外部クロック信号のジッターがΔtであった場合は、内部クロック信号のジッターへの影響はΔt/2となる。このことは、ジッター量が大きい低速のテスタ装置を使用した場合でもNの値を大きく設定することで、内部クロック信号のジッターを抑えることが可能となり有効である。このようにして得られたVcontの値が固定されて、以降、記憶装置の高速動作のテストが行われる。
【0018】
次に、図2を参照してアドレス生成回路について説明する。図2において、アドレス生成回路14は、レジスタ(Reg )141、内部カウンタ(Counter )142、MUX143、144を備えて構成されている。図2では便宜上、アドレスを上位7ビットA<10:4>と、下位4ビットA<3:0>とに分けて図示しているが、これは一例としてアドレスの上位7ビットは外部入力を使用し、下位4ビットには内部カウンタ142で生成したアドレスが割り当てられた場合の例を示している。
【0019】
通常動作時は、全てのアドレスは外部入力がMUX143,144により選択され、内部クロック信号に同期して入力レジスタ18に入力された後SRAMコア17に与えられる。一方、テスト時には、上位アドレスについては外部クロック信号に基づいて生成されるリセットパルス(Reset )よってレジスタ141に取り込まれた外部アドレスがMUX143により選択され、下位アドレスについては発振器111により生成されるVCOが生成するクロックに同期して内部カウンタ142により生成されるアドレスがMUX144により選択されて、内部クロック信号(CK_int)に同期して入力レジスタ18に入力された後SRAMコア17に与えられる。
【0020】
次に、出力データ生成回路16について説明する。図2において、出力データ生成回路16は、レジスタ(Reg )161、162、MUX163を備えて構成されている。通常動作時は、SRAMコア17から出力されて出力レジスタ(Reg )19に保持されたデータ(Q_int)がMUX163により選択され、外部へと出力される。一方、高速動作テスト時は、出力レジスタ19に保持されたデータ(Q_int)のうち、ストローブ生成回路15によって生成された内部ストローブ信号(Strobe_int)に同期したものがレジスタ161に取り込まれて保持され、レジスタ161に保持されたデータは低速のテスタから供給される低周波の外部クロック信号(CK_ext)に同期してレジスタ162に取り込まて保持され、レジスタ162に保持されたデータは、MUX163により選択されて外部に出力される。
【0021】
次に、ストローブ生成回路15について説明する。図2においてストローブ生成回路15は、排他的論理和のゲート回路151、レジスタ(Reg )152、153、パルス発生回路(Pulse Gen.)154を備えて構成されている。ストローブ生成回路15は、高速動作テスト時に、外部から入力される下位アドレスと、内部カウンタ142によって生成される下位アドレスとをゲート回路151で比較し、両者が一致した場合には、ゲート回路151の出力が内部クロック信号に同期してレジスタ152、153に順次取り込まれてパルス発生回路154に与えられ、比較一致したアドレスに対応して出力レジスタ19に保持されたデータ(Q_int)が出力されるタイミングに内部ストローブ信号(Strobe_int)がパルス発生回路154から出力される。
【0022】
次に、図5を参照してコマンド生成回路13を説明する。図5において、コマンド生成回路13は、通常動作時は、バッファ131を介して与えられる外部コマンド(CMD)入力をMUX133により選択して内部コマンド(CMD_int)として出力し、一方高速動作テスト時には、クロック生成回路11により生成された内部クロック信号(CK_int)に同期してコマンド発生回路(CMD Gen )132によりコマンドを生成し、生成されたコマンドをMUX133により選択して内部コマンド(CMD_int)として出力する。
【0023】
次に、図6を参照して入力データ生成回路12を説明する。図6において、入力データ生成回路12は、通常動作時は、バッファ121を介して与えられる外部データ(D)入力をMUX123により選択して内部入力データ(D_int)として出力し、一方高速動作テスト時には、クロック生成回路11により生成された内部クロック信号(CK_int)に同期して入力データ発生回路(D Gen )122により入力データを生成し、生成された入力データをMUX123により選択して内部入力データ(D_int)として出力する。
【0024】
次に、上記構成における半導体記憶装置のテスト動作を、図7又は図8のタイミングチャートを参照して説明する。図7に示すテスト動作は、高速の読み出しのみを実施する最も簡単なテストを実施した例であり、コマンドはリードで固定し、データ入力は必要がないため、図中省略してある。
【0025】
低速のテスタ装置から被テスト対象の記憶装置には、低周波のクロック信号(CK)、および低周波のアドレス(A<10:4>、A<3:0>)、コマンド、データ入力信号が供給される。メモリチップ内部では、クロック生成回路11により高周波のクロック信号(CK_int)が出力され、それに同期してアドレス生成回路14も高速に内部アドレスA_int<3:0>を発生する。テスト時、出力レジスタ19には、外部アドレスA<10:4>、およびMビット(ここではM=4)の内部カウンタ142で高速に発生する内部アドレスA_int<3:0>に対応したデータ(Q_int)が、内部クロック信号(CK_int)に同期して高速に出力される。従って、外部クロック信号(CK)1サイクル中に2アドレス分のデータが順次出力される。データ(Q_int)は、ストローブ生成回路15によって生成される内部ストローブ信号(Strobe_int)によって前記2のデータ(Q_int)のうちの1つが選択、レジスタ161に保持される。
【0026】
レジスタ161に保持されたデータは外部クロック信号(CK_ext)に同期して、テスタ装置へと出力される。ここで、ストローブ生成回路15は外部から入力される下位アドレスと、内部カウンタ142によって生成される下位アドレスとを比較し、両者が一致した場合に対応するデータ(Q_int)が出力されるタイミングに内部ストローブ信号(Strobe_int)を発生するため、そのときの外部アドレスに対応するデータが外部クロック信号(CK_ext)に同期して次のサイクルに出力されることになる。これはテスタ装置から見ると、外部クロック信号に同期して低速に通常の動作をしているのと何ら変わらないことになる。従って、出力データ(Q)は通常の低速試験と同様、テスタ装置側で解析することができ、詳細な情報を得ることが可能となる。
【0027】
図8は上記構成の半導体記憶装置のさらに複雑な高速動作試験のタイミングチャートを示す図である。図8に示すタイミングチャートは、高速でコマンドを切り替えながら動作するようなテストを実施した例であり、具的には、リード(R)、ノップ(ノンオペレーション:N)、ライト(W)動作を繰り返しながらアドレスを進めていく、いわゆるマーチパターンテストを高速で実施している例である。このような場合でも、データ(Q_int)は高速で出力され、ストローブ生成回路15によって外部アドレスと内部アドレスとが比較され、両者が一致したアドレスに対応したデータ(Q_int)に対して内部ストローブ信号を発生する。データは内部ストローブ信号によりレジスタ161に取り込まれたデータ(Q_int)は、低速のテスタ装置が供給する低周波の外部クロック信号(CK_ext)に同期して、外部のテスタ装置へと出力される。従って、テスタ装置から見ると、外部クロック信号(CK_ext)に同期して低速の読み出し動作を連続しているのと何ら変わらず、低速のテスタ装置での詳細な解析が可能となる。
【0028】
このように、上記実施形態においては、低速のテスタ装置においてメモリチップ内部を高速に動作させることができ、しかも出力として外部に出力されるデータは、外部アドレスに対応した低周波であるため、低速のテスタ装置からみると被テスト対象のメモリは通常の低速動作と同様であり、低速のテスタ装置での詳細な解析が可能となる。また、上記構成のクロック生成回路11によれば、PLL等の同期回路を用いることなく、所望の周波数の高周波の内部クロック信号を高精度に生成することができ、かつ小型で簡単な構成となり、チップ面積の増加を抑えることが可能となる。
【0029】
図9はこの発明の他の実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示す図であり、図10は図9に示す構成におけるリードのテスト動作のタイミングチャートを示す図である。この実施形態の特徴とするところは、図2に示す構成のストローブ信号発生回路15に代えて、低周波数の外部クロック信号(CK_ext)を基準にして一定の位相で内部ストローブ信号を生成するパルス発生回路155を設け、更にアドレス生成回路14の内部カウンタ142のリセット時に外部の下位アドレス<3:0>を初期値として設定したことにある。内部カウンタ142のリセット時には、外部の下位アドレス<3:0>が内部カウンタ142に取り込まれ、取り込まれた初期値から順にカウントアップが開始される。図10に示すタイミングチャートの例では、内部カウンタ142の初期値(“0”)から8番目のアドレスA_int<3:0>に対応したデータ(Q_int)の位置で内部ストローブ信号が発生されるようにパルス発生回路155が調整されている。内部ストローブ信号が発生する位置は、任意に適宜設定される。
【0030】
このような実施形態においても、テスタ側装置で受け取るデータの順番を正確に処理することで、先の実施形態と同様に記憶装置の全アドレス空間に対して、テスト結果を詳細に解析することができる。
【0031】
図11はこの発明の他の実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示す図であり、図12は図11に示す構成におけるリードのテスト動作のタイミングチャートを示する。この実施形態の特徴とするところは、図2に示す構成のストローブ信号発生回路15に代えて、外部クロック信号(CK_ext)に同期したカウンタ157と、カウンタ157のカウント値に応じてストローブ信号を発生するパルス発生回路158を備えたストローブ信号発生回路156を設けたことにある。
図12に示すタイミングチャートの例では、カウンタ157は4ビットのカウンタであり、例えばカウンタ157のカウント値がオール“0”の時は、内部の下位アドレスA_int<3:0>が“0”に対応したデータ(Q_int)の位置で内部ストローブ信号が出力され、カウンタ157のカウント値が“0001”の時は、内部の下位アドレスA_int<3:0>が“1”に対応したデータ(Q_int)の位置で内部ストローブ信号が出力される。
【0032】
このような実施形態においても、図9ならびに図10で説明した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【0033】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、低速のテスタ装置において半導体記憶装置内部を高速に動作させることができ、しかもテスト結果として外部に出力されるデータは、外部アドレスに対応した低周波であるため、低速のテスタ装置からみると被テスト対象の半導体記憶装置は通常の低速動作と同様であり、低速のテスタ装置でテスト結果を詳細に解析することが可能となる。
【0034】
一方、クロック生成回路は、PLL等の同期回路を用いることなく、所望の周波数の高周波内部クロック信号を高精度に生成することができ、かつ小型で簡単な構成となり、チップ面積の増加を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置の構成概略を示すブロック図である。
【図2】 図1に示す半導体記憶装置の構成の詳細を示す図である。
【図3】 図1又は図2に示すクロック生成回路の構成を示す図である。
【図4】 図3に示すクロック生成回路の動作タイミングチャートを示す図である。
【図5】 図1に示すコマンド生成回路の構成を示す図である。
【図6】 図1に示す入力データ生成回路の構成を示す図である。
【図7】 図1に示す半導体記憶装置の高速動作テスト時の動作タイミングチャートを示す図である。
【図8】 図1に示す半導体記憶装置の高速動作テスト時の他の動作タイミングチャートを示す図である。
【図9】 この発明の他の実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す図である。
【図10】 図9に示す半導体記憶装置の高速動作テスト時の動作タイミングチャートを示す図である。
【図11】 この発明の他の実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す図である。
【図12】 図11に示す半導体記憶装置の高速動作テスト時の動作タイミングチャートを示す図である。
【図13】 従来のBIST回路を搭載した半導体記憶装置の概略構成を示す図である。
【図14】 従来のBIST回路のクロック生成回路の構成を示す図である。
【符号の説明】
10 モード制御回路
11 クロック生成回路
12 入力データ生成回路
13 コマンド生成回路
14 アドレス生成回路
15,156 ストローブ生成回路
16 出力データ生成回路
17 SRAMコア
18,19,,115,141,152,153,161,162 レジスタ 111 発振器
112,154,155,158 パルス発生回路
113,123,133,143,144,163 マルチプレクサ
114,157 カウンタ
116,131,121 バッファ
122 入力データ発生回路
132 コマンド発生回路
142 内部カウンタ
151 論理ゲート

Claims (6)

  1. 外部クロック信号に同期して動作する同期型の半導体記憶装置において、
    前記半導体記憶装置の通常動作又はテスト動作を選択する選択回路と、
    前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストするテスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられる前記外部クロック信号よりも高周波の内部クロック信号を発生するクロック生成回路と、
    前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストするテスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられる外部アドレス信号よりも高周波で、前記内部クロック信号に同期して変化する内部アドレス信号を発生するアドレス生成回路と、
    前記クロック生成回路によって発生された内部クロック信号ならびに前記アドレス生成回路によって発生された内部アドレス信号に基づいてテスト動作が行われ、前記内部クロック信号に同期して前記半導体記憶装置からテスト結果として出力されたデータの一部を外部アドレス信号に基づいて順次選択し、順次選択したデータを前記外部クロック信号に同期して前記テスタ装置に出力する出力データ生成回路と
    を有することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 外部クロック信号に同期して動作する同期型の半導体記憶装置において、
    前記半導体装置の通常動作又はテスト動作を選択するモード選択回路と、
    前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストするテスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられた前記外部クロック信号よりも高周波の内部クロック信号を発生するクロック生成回路と、
    前記モード選択回路によりテスト動作が選択されて前記半導体記憶装置がテストされる際には、前記半導体記憶装置をテストする前記テスタ装置から前記半導体記憶装置に与えられる外部アドレス信号よりも高周波で、前記内部クロック信号に同期して変化する内部アドレス信号を発生するアドレス生成回路と、
    前記テスタ装置から入力される前記外部アドレス信号と前記アドレス生成回路が発生する内部アドレス信号との比較結果に基づいて、または外部クロック信号に基づいて、ストローブ信号を発生するストローブ生成回路と、
    前記クロック生成回路によって発生された内部クロック信号ならびに前記アドレス生成回路によって発生されたアドレスに基づいてテスト動作が行われ、前記内部クロック信号に同期して前記半導体記憶装置からテスト結果として出力されるデータうち、前記ストローブ生成回路によって発生されたストローブ信号に同期したデータを選択し、選択したデータを前記外部クロック信号に同期して前記テスタ装置に出力する出力データ生成回路と
    を有することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 前記ストローブ生成回路は、
    前記テスタ装置から入力される前記外部アドレス信号と、前記アドレス生成回路が発生する内部アドレス信号を比較し、両者が一致した場合に、一致したアドレスに対応するデータが出力されるタイミングにストローブ信号を発生する
    ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。
  4. 前記ストローブ生成回路は、前記外部クロック信号を基準にして一定の位相のストローブ信号を発生する
    ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。
  5. 前記ストローブ生成回路は、前記外部クロック信号をカウントした値に応じて発生タイミングを変化させたストローブ信号を発生する
    ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。
  6. 前記クロック生成回路は、
    外部から与えられる調整信号に基づいて発振周波数が可変調整され、前記内部クロック信号を発生する発振器と、
    前記外部クロック信号に同期してリセットされ、前記発振器によって発生される前記内部クロック信号に基づいてカウント動作を行い、所定のカウント値でフラグ信号を発生するカウンタ回路と、
    前記外部クロック信号に同期して前記カウンタ回路が発生するフラグ信号を取り込み保持するレジスタとを備えた
    ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
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Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8286046B2 (en) 2001-09-28 2012-10-09 Rambus Inc. Integrated circuit testing module including signal shaping interface
US8166361B2 (en) 2001-09-28 2012-04-24 Rambus Inc. Integrated circuit testing module configured for set-up and hold time testing
US7159145B2 (en) * 2003-05-12 2007-01-02 Infineon Technologies Ag Built-in self test system and method
KR100618828B1 (ko) * 2003-06-04 2006-08-31 삼성전자주식회사 테스트 모드에서 더 낮은 율로 데이터 비트들을 출력하는반도체 메모리장치 및 동작방법
WO2005006005A1 (en) * 2003-07-09 2005-01-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Ic with on-board characterization unit
KR100505706B1 (ko) * 2003-08-25 2005-08-02 삼성전자주식회사 테스트 패턴 신호의 주파수를 선택적으로 가변시키는반도체 메모리 장치의 테스트 장치 및 그 테스트 방법
US7444564B2 (en) * 2003-11-19 2008-10-28 International Business Machines Corporation Automatic bit fail mapping for embedded memories with clock multipliers
US7178048B2 (en) * 2003-12-23 2007-02-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System and method for signal synchronization based on plural clock signals
US7631236B2 (en) * 2004-01-29 2009-12-08 International Business Machines Corporation Hybrid built-in self test (BIST) architecture for embedded memory arrays and an associated method
US7401281B2 (en) * 2004-01-29 2008-07-15 International Business Machines Corporation Remote BIST high speed test and redundancy calculation
KR100618825B1 (ko) * 2004-05-12 2006-09-08 삼성전자주식회사 지연 동기 루프를 이용하여 내부 신호를 측정하는집적회로 장치 및 그 방법
KR100612034B1 (ko) * 2004-11-01 2006-08-11 삼성전자주식회사 내부 테스트 모드 진입방법 및 이를 위한 내부 테스트모드 진입회로
US7336558B2 (en) * 2004-11-02 2008-02-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory device with reduced number of pads
JP5068739B2 (ja) * 2005-03-18 2012-11-07 ラムバス・インコーポレーテッド 集積回路試験モジュール
CN101151545A (zh) * 2005-03-30 2008-03-26 Nxp股份有限公司 测试准备rf集成电路
KR100663362B1 (ko) * 2005-05-24 2007-01-02 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 데이터 라이트 및 리드방법
JP2007066026A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Renesas Technology Corp 半導体装置とその試験方法及び製造方法
US20070080697A1 (en) * 2005-09-27 2007-04-12 Sony Corporation Semiconductor device tester pin contact resistance measurement
US8542050B2 (en) 2005-10-28 2013-09-24 Sony Corporation Minimized line skew generator
TWI307038B (en) * 2005-12-27 2009-03-01 Ind Tech Res Inst Random number generator for radio frequency identifciation tag and seed number generator for generating a seed number for operation of the random number generator
KR100745402B1 (ko) * 2006-02-24 2007-08-02 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 입력회로 및 그 제어 방법
US7596730B2 (en) * 2006-03-31 2009-09-29 Advantest Corporation Test method, test system and assist board
US7516385B2 (en) * 2006-04-28 2009-04-07 Sony Corporation Test semiconductor device in full frequency with half frequency tester
KR100891326B1 (ko) * 2006-07-31 2009-03-31 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 내부 클럭 신호를 데이터 스트로브신호로서 이용하는 반도체 메모리 장치의 테스트 방법 및테스트 시스템
JP4939870B2 (ja) * 2006-08-16 2012-05-30 株式会社東芝 半導体記憶装置およびそのテスト方法
US8407395B2 (en) 2006-08-22 2013-03-26 Mosaid Technologies Incorporated Scalable memory system
US7904639B2 (en) 2006-08-22 2011-03-08 Mosaid Technologies Incorporated Modular command structure for memory and memory system
KR100845135B1 (ko) * 2006-12-22 2008-07-09 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치에서의 프로그램 방법 및 이를 위한불휘발성 메모리 장치
WO2008101316A1 (en) 2007-02-22 2008-08-28 Mosaid Technologies Incorporated Apparatus and method for using a page buffer of a memory device as a temporary cache
US8086785B2 (en) 2007-02-22 2011-12-27 Mosaid Technologies Incorporated System and method of page buffer operation for memory devices
JP2008217947A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置
WO2009062280A1 (en) * 2007-11-15 2009-05-22 Mosaid Technologies Incorporated Methods and systems for failure isolation and data recovery in a configuration of series-connected semiconductor devices
US7913128B2 (en) 2007-11-23 2011-03-22 Mosaid Technologies Incorporated Data channel test apparatus and method thereof
JP5169597B2 (ja) * 2008-08-01 2013-03-27 富士通セミコンダクター株式会社 集積回路および試験方法
US7805645B2 (en) * 2008-01-11 2010-09-28 Arm Limited Data processing apparatus and method for testing stability of memory cells in a memory device
US7930601B2 (en) * 2008-02-22 2011-04-19 International Business Machines Corporation AC ABIST diagnostic method, apparatus and program product
JP2009301612A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置
US8139390B2 (en) * 2008-07-08 2012-03-20 Mosaid Technologies Incorporated Mixed data rates in memory devices and systems
US9111645B2 (en) * 2008-08-08 2015-08-18 Rambus Inc. Request-command encoding for reduced-data-rate testing
US8194481B2 (en) 2008-12-18 2012-06-05 Mosaid Technologies Incorporated Semiconductor device with main memory unit and auxiliary memory unit requiring preset operation
US8037235B2 (en) * 2008-12-18 2011-10-11 Mosaid Technologies Incorporated Device and method for transferring data to a non-volatile memory device
WO2012004834A1 (ja) * 2010-07-07 2012-01-12 株式会社アドバンテスト 試験装置および試験方法
CN102831927B (zh) * 2011-06-14 2015-04-01 芯成半导体(上海)有限公司 进入asram芯片内部测试模式的电路
US9437328B2 (en) * 2012-11-30 2016-09-06 Silicon Motion Inc. Apparatus and method for applying at-speed functional test with lower-speed tester
CN106297889B (zh) * 2015-05-19 2019-08-27 华邦电子股份有限公司 存储器测试系统及其测试方法
US9892024B2 (en) * 2015-11-02 2018-02-13 Sony Interactive Entertainment America Llc Backward compatibility testing of software in a mode that disrupts timing
CN105974299B (zh) * 2016-05-30 2019-08-09 珠海市一微半导体有限公司 芯片测试控制电路及其方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0172423B1 (ko) * 1995-11-16 1999-03-30 김광호 고주파수 동작을 하는 반도체 메모리 장치의 테스트회로 및 테스트 방법
JPH10283777A (ja) * 1997-04-04 1998-10-23 Mitsubishi Electric Corp Sdramコアと論理回路を単一チップ上に混載した半導体集積回路装置およびsdramコアのテスト方法
US5875153A (en) * 1997-04-30 1999-02-23 Texas Instruments Incorporated Internal/external clock option for built-in self test
KR19990053199A (ko) * 1997-12-23 1999-07-15 김영환 테스트를 위한 고속 싱크로너스 메모리 소자
TW413810B (en) * 1998-02-24 2000-12-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor integrated circuit
JPH11265599A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Sanyo Electric Co Ltd 不揮発性メモリ及びそれを内蔵するマイクロコンピュータ
US6058056A (en) * 1998-04-30 2000-05-02 Micron Technology, Inc. Data compression circuit and method for testing memory devices
US6253340B1 (en) * 1998-06-08 2001-06-26 Micron Technology, Inc. Integrated circuit implementing internally generated commands
US6069829A (en) * 1998-09-29 2000-05-30 Texas Instruments Incorporated Internal clock multiplication for test time reduction
JP2000215688A (ja) * 1999-01-25 2000-08-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体試験装置及び半導体試験方法
US6467053B1 (en) * 1999-06-28 2002-10-15 International Business Machines Corporation Captured synchronous DRAM fails in a working environment
US6493647B1 (en) * 1999-12-29 2002-12-10 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for exercising external memory with a memory built-in self-test

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