JP4097037B2 - Partition wall forming process of preparation and pdp of the partition transfer intaglio-original type - Google Patents

Partition wall forming process of preparation and pdp of the partition transfer intaglio-original type Download PDF

Info

Publication number
JP4097037B2
JP4097037B2 JP2004279807A JP2004279807A JP4097037B2 JP 4097037 B2 JP4097037 B2 JP 4097037B2 JP 2004279807 A JP2004279807 A JP 2004279807A JP 2004279807 A JP2004279807 A JP 2004279807A JP 4097037 B2 JP4097037 B2 JP 4097037B2
Authority
JP
Grant status
Grant
Patent type
Prior art keywords
partition wall
photosensitive material
material layer
substrate
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004279807A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005166636A (en )
Inventor
圭一 別井
章博 大塚
章 渡海
治 豊田
Original Assignee
株式会社日立プラズマパテントライセンシング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Grant date

Links

Images

Description

この発明は、隔壁転写凹版用の元型及びそれを用いたプラズマディスプレイパネル(PDP)の隔壁形成方法に関し、さらに詳しくは、隔壁形状の凸部が形成された隔壁転写凹版用の元型、及びその元型で作製した転写用凹版を用いたプラズマディスプレイパネル(PDP)の隔壁形成方法に関する。 This invention relates to a partition wall forming process of the original type and a plasma display panel using the same of the barrier rib transfer intaglio (PDP), and more particularly, the original-type barrier rib transfer intaglio convex portion of the partition wall shape is formed, and It relates partition wall forming method of a plasma display panel (PDP) using the intaglio plate for transfer produced in its original form.

PDPは、視認性に優れた表示パネル(薄型表示デバイス)として注目されており、日本におけるハイビジョン分野などへの用途拡大に向けて高精細化および大画面化が進められている。 PDP has excellent visibility display panel has been attracting attention as a (flat-panel display device), towards expanding applications to such as high-definition field high-definition and large screen has been developed in Japan.

PDPは、一対の基板(通常はガラス基板)を微小間隔で対向配置し、周囲を封止することによって内部に放電空間を形成した自己発光型の表示パネルである。 PDP is (usually glass substrate) a pair of substrates were opposed with minute intervals, a display panel of self-luminous type forming the inside discharge space by sealing the periphery.

一般に、PDPには、放電空間を仕切るように、高さ100〜200μm程度の隔壁(バリヤリブとも呼ばれている)が周期的に設けられている。 Generally, the PDP, so as to divide the discharge space, the height 100~200μm about septum (also called barrier ribs) are provided periodically. 例えば、蛍光体によるカラー表示に適した面放電型PDPには、平面視直線状の隔壁がデータ電極ラインに沿って等間隔に設けられている。 For example, the surface discharge type PDP that is suitable for color display by the phosphor, are provided at regular intervals viewed straight partition walls along the data electrode lines. この隔壁によって、放電の干渉や色のクロストークを防止している。 This partition wall prevents crosstalk interference and color discharge.

このような隔壁の形成方法としては、さまざまな方法が提案され実施されているが、代表的なものとしては、積層印刷法、サンドブラスト法、アディテブ法(リフトオフ法)、フォトリソ法などがある。 As a method of forming such a partition wall have been conducted various methods have been proposed, as a representative and lamination printing method, sand blasting method, Aditebu method (lift-off method), and the like photolithography method.

積層印刷法は、ガラスペーストをスクリーン印刷によって所定の高さに積み重ね、その後に焼成して隔壁を形成する方法である。 Lamination printing method, stacked to a predetermined height a glass paste by screen printing, and then firing method of forming the partition wall.

サンドブラスト法は、まず隔壁材料をベタ膜として基板全面に形成した後、所望の部分に耐サンドブラスト性のあるマスクを形成して、その上から研磨材を吹き付け、マスク以外の部分を切削する。 Sandblasting, after formed on the entire surface of the substrate a first partition wall material as a solid film, a mask is formed with a sandblast resistance to a desired portion, blowing abrasive thereon, cutting the portion other than the mask. 切削完了後、マスクを除去して焼成することにより隔壁を形成する方法である。 After cutting completion is a method of forming the partition wall by firing to remove the mask.

アディテブ法は、別名『埋め込み法』とも呼ばれている。 Aditebu method is also referred to as alias "embedded method". まず基板上の所望の位置に感光性レジスト(一般的にドライフィルムを用いる)により隔壁の陰像となるパターンを形成した後に、パターンとパターンの間のギャップ内にスクリーン印刷法等を用いて隔壁材料を埋め込む。 First, after forming a pattern of a Kagezo partition wall by photoresist to a desired position on the substrate (typically using a dry film), the barrier ribs by screen printing or the like into the gap between the pattern and the pattern embed the material. 隔壁材料を埋め込んだ後に、感光性レジストパターンのみを剥離し、焼成工程を経て隔壁を形成する方法である。 After embedding the partition wall material, and peeling only the photoresist pattern, a method of forming the partition wall through the firing step.

フォトリソ法は、隔壁材料に感光性樹脂を混入した感光性隔壁ペーストを基板全面に塗布形成した後、隔壁のパターンを露光し、現像によって隔壁を形成する方法である。 Photolithography method, after applying and forming a photosensitive barrier rib paste a photosensitive resin mixed in the partition wall material over the entire surface of the substrate, exposing a pattern of the partition wall, a method of forming the partition wall by development. 現在、この方法では、一度に露光できる膜厚が20〜30μm程度であり、所望の隔壁高さを得るためには、露光と現像を数回繰り返す必要がある。 Currently, this method is about 20~30μm film thickness can be exposed at a time, in order to obtain the desired partition wall height, it must be repeated several times exposure and development.

上記のような様々な製造方法で基板を作製した後、対向基板と組み合わせ、基板の周辺部をシール材により封着し、パネル内に放電ガスを封じ込め、PDPが完成する。 After producing the substrate in a variety of manufacturing methods as described above, the counter substrate combination, the peripheral portion of the substrate is sealed by a sealing material, containment discharge gas in the panel, PDP is completed.

このように、隔壁の形成には現在様々な方法が提案され実施されているが、どの方法においても、最終的に隔壁となる直接材料以外の製造工程上で生じる間接材料(ドライフィルム、捨てられる隔壁材料)、および、消耗品(印刷版など)のコスト比率が高く、低コスト化の障害となっている。 Thus, although the formation of the partition walls are currently various methods proposed embodiment, in any way, ultimately indirectly material occurring on the manufacturing process other than direct material for the partition wall (dry film and discarded rib material), and the cost ratio of consumables (such as printing) is high, which is an obstacle in cost reduction.

そこで、このような低コスト化の対策として、近年では、転写によって隔壁を形成する方法が考えられている。 Therefore, as a countermeasure for such a low cost, in recent years, a method of forming the partition wall is considered by the transfer. これは、隔壁のモデル型を作製し、そのモデル型を元型として隔壁の凹版を作製し、その凹版に隔壁材料を埋め込んで基板に転写することにより隔壁を形成する方法である。 This will produce a model type of the partition, to produce intaglio partition wall that model type as the original type, a method of forming barrier ribs by transferring the substrate by embedding a barrier rib material on the intaglio.

しかしながら、これを従来の金型技術で実現しようとすると、PDPのような薄型表示デバイスに要求される隔壁(幅10〜50μm、高さ100〜200μm、ピッチ100〜400μm、領域0.05〜0.5m 2 、隔壁の配列:パラレル配列あるいはクロス配列、その他)を作製するための元型を、機械加工技術を用いて加工することは非常にむずかしく、隔壁の側壁形状や配列によっては、現状の技術では極めて困難な場合がある。 However, if this is to be realized by conventional molding techniques, the partition wall (width 10~50μm required for thin display devices such as PDP, height 100-200 [mu] m, pitch 100-400, region 0.05 to 0 .5M 2, the partition wall arrangement of: parallel array or cross sequence, the original type for making other), be processed using machining techniques is very difficult, by the side wall shape and arrangement of the partition wall, the current it may be extremely difficult in the technology.

したがって、隔壁の凹版作製のための隔壁の元型を、機械加工技術を用いず容易に作製する方法が望まれていた。 Thus, the original type of the partition walls for the intaglio Preparation of the partition wall, a method of easily manufacturing without using machining techniques has been desired.

本発明の発明者らは、感光性材料を用いて隔壁の元型を作製し、その元型を用いて転写用凹版(ネガ凹版)を作製し、その転写用凹版でPDPの基板上に隔壁材料を転写成形する、もしくは、このネガ凹版をプレス版として使用し、隔壁材料をプレスして隔壁を形成することにより、前述の問題を容易に解決できることを見い出した。 The inventors of the present invention is to prepare the original form of the partition wall by using a photosensitive material, to prepare the intaglio (negative intaglio) for transfer using the original type, the partition wall at its intaglio plate for transfer to the substrate of the PDP transfer molding the material, or the negative intaglio used as a press plate, by forming a partition wall of the partition wall material is pressed and found to be able to easily solve the aforementioned problems.

そして、隔壁の元型の作製の際に、背面露光や多段露光を用いれば、隔壁のテーパー角(基板と隔壁側面とのなす角度)の制御や、感光性材料と基板との密着性が確保され、より形状制御性の高い元型を、歩留まり良く、かつ、容易に作製することができることを見い出した。 Then, during the fabrication of the original type of the partition wall, by using the back exposure or multistage exposure, control of the taper angle of the partition wall (the angle between the substrate and the partition wall side), to secure adhesion between the photosensitive material and the substrate is, the more shape control highly original type, high yield, and found that it is possible to easily produce.

かくしてこの発明によれば、隔壁の元型を製造する製造方法であって、光透過性の基板の前面側の表面に遮光性の材料を用いて、形成しようとする隔壁のパターンとは逆パターンである遮光パターンを形成し、その遮光パターンの上に基板全体にわたって、光が照射された部分が硬化し形成しようとする隔壁に対応する凸部として残る第1のネガ型感光性材料層を当該隔壁全体面の土台となる部分の高さに相当する厚みだけ形成し、前記隔壁全体面の土台となる部分に相当する領域を露光可能なパターンのフォトマスクを用いて、基板の前面側から第1のネガ型感光性材料層を露光し、そのまま現像せずに第1のネガ型感光性材料層上に第2のネガ型感光性材料層を、前記隔壁全体面の土台となる部分の上に形成しようとする隔壁の高さに相 Thus, according to the present invention, there is provided a method of manufacturing the original type of the partition wall, using a light-blocking material on the front side of the surface of the optically transparent substrate, the pattern of the partition walls to be formed opposite pattern forming a light-shielding pattern is, across the substrate over the light-shielding pattern, the first negative type photosensitive material layer remaining as protrusions portion irradiated with light corresponding to the partition walls to be formed by curing formed by a thickness corresponding to the height of the base and become part of the partition wall the whole surface, by using a photomask exposable pattern an area corresponding to a portion to be the foundation of the partition wall the whole surface, the front side of the substrate 1 of the negative photosensitive material layer is exposed, as a second negative photosensitive material layer on the first negative type photosensitive material layer without developing, on a portion of the foundation of the partition wall the whole surface phase the partition wall height to be formed する厚みだけ形成し、基板の背面から露光光を照射して、第1のネガ型感光性材料層を通して第2のネガ型感光性材料層の前記遮光パターン以外の部分を露光し、その後、第1と第2のネガ型感光性材料層を現像して、基板の[前面側の]表面に形成しようとする隔壁に対応する凸部を形成することからなる隔壁転写凹版用元型の製造方法が提供される。 To form by the thickness, and irradiated with exposure light from the back side of the substrate, the portions other than the light shielding pattern of the second negative type photosensitive material layer is exposed through the first negative type photosensitive material layer, then developing the first and second negative type photosensitive material layer, producing [front side] comprises forming a convex portion corresponding to the partition walls to be formed on the surface of the partition transfer intaglio-original-type substrate a method is provided.

本発明によれば、低コスト、且つ、簡易な製造方法である隔壁の転写形成法(プレス法も含む)に使用する元型が、歩留まり良く、且つ、容易に製造でき、機械加工では極めて困難であった隔壁のテーパー角制御や、格子状などのパターン形状の作製が可能となる。 According to the present invention, low cost, and, the original type used in the transfer method of forming the partition wall is a simple manufacturing method (including press method), high yield, and can be easily manufactured, extremely difficult machining taper angle control of the partition wall was, it is possible to produce a pattern shape such as a lattice shape. そして、そのパターンはフォトリソグラフィーが基本となるため、設計変更も容易となる。 Then, the pattern for photolithography becomes basic, and easy design modification.

また、感光性材料層に対して、基板の背面から露光を行うので、感光性材料の基板との接触部位は最も光重合が進み、このため、基板の前面から露光を行った場合よりも基板と感光性材料との密着性が向上する。 Further, the photosensitive material layer, since the exposure from the back of the substrate, the contact portion with the substrate of the photosensitive material and most photopolymerization proceeds, Therefore, the substrate than was exposed from the front surface of the substrate and it improves adhesion to the photosensitive material.

この発明によれば、機械加工では極めて困難であったプラズマディスプレイパネルの隔壁転写凹版用の元型が容易に作製可能となり、また、その元型を用いて作製した転写用凹版を用いれば、プラズマディスプレイパネルの隔壁を精密かつ容易に形成することができる。 According to the present invention, very difficult was the original type of bulkhead transfer intaglio plasma display panel becomes easily fabricated by machining, also, by using the intaglio plate for transfer produced using the original type, plasma the display panel of the partition wall can be precisely and easily formed.

この発明で用いられる光透過性の基板は、露光光線に対して透過であればよく、例えば、ガラス基板や石英基板などが挙げられる。 The light transmissive substrate used in the invention may be any transparent to exposure light, for example, a glass substrate or a quartz substrate. 遮光性の材料としては、露光光線を透過させない材料であればよく、酸化クロムあるいは各種の顔料等を用いることができる。 The light-shielding material may be a material that does not transmit exposing light may be used pigments and the like chromium oxide or various. 所定のパターンの形成は、例えばマスクを介してスパッタリングを行うというような、公知の各種のパターン形成方法を適用することができる。 Forming a predetermined pattern, such as of performing sputtering through a mask, it can be applied various known pattern forming method.

感光性材料層に用いられる感光性材料としては、特に限定されず、公知の材料をいずれも使用することができる。 The photosensitive material used in the photosensitive material layer, not particularly limited, and any known material can be used. 例えば、分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物(アクリレート、メタクリレート、ウレタンジアクリレート、ウレタンジメタクリレート等)、光重合開始剤、バインダー樹脂等を含む感光性材料が挙げられる。 For example, a photopolymerizable compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule (acrylate, methacrylate, urethane diacrylate, urethane dimethacrylate), a photopolymerization initiator, light-sensitive material comprising a binder resin and the like. 感光性材料層の形成方法としては、上記感光性材料を適当な溶剤に溶解又は分散させてペースト状にしたものを基板に塗布するか、または予めシート状に形成した感光性材料(一般にドライフィルムレジスト、略してDFRと呼ばれる)を基板上に積層することにより形成することができる。 As a method for forming the photosensitive material layer, a dry film to the photosensitive material a suitable solvent to dissolve or disperse coating a composition wherein a paste on the substrate or previously sheet to form the photosensitive material (generally resist, referred to as DFR for short) can be formed by laminating on the substrate.

感光性材料の露光、現像については、従来公知のフォトリソグラフィの手法を用いることができる。 Exposure of the photosensitive material, for development, can be used a method of conventional photolithography. 例えば感光性材料がネガ型のものであれば、露光により露光部を硬化させ、現像して未露光部を除去することにより、基板上に例えば隔壁形状の凸部が形成された隔壁転写凹版用の元型を作製することができる。 For example as long as the photosensitive material is a negative type, exposure by curing the exposed area by removing the developed unexposed section, bulkhead transfer intaglio protrusion of example barrier ribs on the substrate are formed it can be manufactured in the original type. 感光性材料の露光に際しては、基板の背面から露光を行うことが重要である。 Upon exposure of the photosensitive material, it is important to perform exposure from the back of the substrate. すなわち、露光用の光が基板を通過するようにして、感光性材料を露光する。 That is, light for exposure so as to pass through the substrate, exposing the photosensitive material. 感光性材料は、光に近い部分では光重合が進むため現像液に侵されにくくなり、基板と感光性材料との強い密着強度が得られる。 Photosensitive material, hardly attacked by the developer for the photopolymerization proceeds at a portion close to the light, strong adhesion strength between the substrate and the photosensitive material is obtained. また、逆に光から遠い部分では光が減衰するため光重合がそれほど進まず、現像液に侵されやすくなり、基板に近い部分よりも硬化部分が減少するので、形成される隔壁状の凸部が山形のテーパー状となる。 Moreover, not proceed photopolymerization so the light is attenuated at a portion far from the light Conversely, easily attacked by the developer, the cured portion is smaller than the portion near the substrate, the partition wall-shaped convex portions formed but the mountain of tapered.

感光性材料層は、隔壁の高さと同じ厚みのDFRが入手不可能である場合には、複数層の感光性材料層として積層してもよい。 The photosensitive material layer, when DFR having the same thickness as the height of the partition is not available may be laminated as the photosensitive material layer of the plurality of layers. また、この場合、感度の異なる複数の感光性材料層として形成してもよい。 In this case, it may be formed as a plurality of light-sensitive material layer having different sensitivities. 例えば、上層に位置する感光性材料層ほど感光強度の弱いものを配置することにより、光の減衰による効果と、感光性材料が持っている感度特性の相乗効果により、よりテーパー角の強い元型をつくることができる。 For example, by arranging the weak photosensitivity strength as the photosensitive material layer located on the upper layer, the effect of the attenuation of the light, by the synergistic effect of the sensitivity characteristic photosensitive material has a stronger source type taper angle it can make. 感光性材料の感度は、重合開始剤やモノマーの選択、顔料分散により調整することができる。 Sensitivity of the photosensitive material, the choice of the polymerization initiator or monomer, can be adjusted by the pigment dispersion.

感光性材料層上には、さらに反射部材を配置し、それによって感光性材料層の露光時における所望部位の感光度合を調節し、感光性材料層の現像後の形状を調整するようにしてもよい。 On the photosensitive material layer, further a reflective member is disposed, thereby adjusting the photosensitive degree of desired sites at the time of exposure of the photosensitive material layer, so as to adjust the shape after development of the photosensitive material layer good.

また、別の方法として、基板の表面にあらかじめ形成した遮光性の材料からなる第1のパターン上に第1の感光性材料層を形成し、基板の背面から露光を行い、そのまま現像せずに第1の感光性材料層上に第2の感光性材料層を形成し、その第2の感光性材料層上に第1のパターンと位置的に重なり合う第2のパターンを有するフォトマスクを配置して第2の感光性材料層の露光を行い、この第2の感光性材料層の形成以降を所定回数繰り返した後、全ての感光性材料層を現像することにより、基板上に凸部を形成することも可能であり、凸部の側壁形状の調節は設計上、らくになる。 As another method, the first photosensitive material layer is formed on the first pattern on made of preformed shielding material on the surface of the substrate, exposure from the back of the substrate, without directly developing a second photosensitive material layer is formed on the first photosensitive material layer, placing a photomask having a second pattern to the second photosensitive material layer overlap positionally with the first pattern and an exposure of the second photosensitive material layer Te, after the subsequent formation of the second photosensitive material layer is repeated a predetermined number of times, by developing all of the photosensitive material layer, forming a convex portion on the substrate it is also possible to, the regulation of the side wall shape of the convex portion on the design becomes easier.

この場合、基板の表面の第1のパターンが形成されていない領域に、感光性材料層の露光時の光量を調節するための半透光性のフィルター膜を形成するようにしてもよい。 In this case, the first pattern is not formed region of the surface of the substrate, it may be formed a filter membrane HanToruhikarisei for adjusting the amount of light during exposure of the photosensitive material layer. 例えば、隔壁のテーパー角を制御したい場合であれば、隔壁の露光量を少なくしたい部分に、顔料を分散させたフィルター膜を形成することにより、隔壁のテーパー角を制御することができる。 For example, when it is desired to control the taper angle of the partition wall, the portion to be reduced exposure amount of the partition wall, by forming a filter film in which a pigment is dispersed, it is possible to control the taper angle of the partition wall. このフィルター膜は、隔壁のセンター部分を薄く、エッジ部分を濃くというふうにグラデーションをかけてもよい。 The filter membrane is thinner center portion of the partition wall may be subjected to gradation in Fu that darker edges.

さらに別の方法として、基板の表面にあらかじめ形成した遮光性の材料からなる第1のパターン上に第1の感光性材料層を形成し、その第1の感光性材料層上に第1のパターンと位置的に重なり合いかつ第1のパターンよりも広い領域を露光可能な第2のパターンを有するフォトマスクを配置して第1の感光性材料層の露光を行い、そのまま現像せずに第1の感光性材料層上に第2の感光性材料層を形成し、基板の背面から第2の感光性材料層の露光を行い、全ての感光性材料層を現像することにより、基板上に凸部を形成することも可能である。 As a further alternative, the first consisting of light-shielding material which is previously formed on the surface of the substrate a first photosensitive material layer is formed on the pattern, on the first photosensitive material layer on the first pattern and positionally overlap and subjected to exposure of the first photosensitive material layer disposed a photomask having a second pattern exposable a wider area than the first pattern, the first without it development a second photosensitive material layer is formed on the photosensitive material layer, exposure of the second photosensitive material layer from the back of the substrate, by developing all of the photosensitive material layer, the convex portions on the substrate it is also possible to form the.

この発明は、また、上記の隔壁転写凹版用の元型を用いて隔壁の転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹部に隔壁材料を充填してプラズマディスプレイパネル用の基板に転写することからなるプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法である。 The present invention is also to produce the intaglio plate for transfer of the partition using the original type for said partition wall transfer intaglio, be transferred to a substrate for a plasma display panel filled with a barrier rib material in the recess of the intaglio plate for transfer a plasma display panel of the partition wall forming process comprising.

この発明においては、隔壁転写凹版用の元型を用いて隔壁の転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹部に隔壁材料を充填してプラズマディスプレイパネル用の基板に転写する。 In this invention, to prepare a intaglio for transcription of the partition using the original-type barrier ribs transfer intaglio by filling a barrier rib material in the recess of the intaglio plate for transfer is transferred to the substrate for plasma display panel. 転写用凹版の作製は、シリコーンゴムなどを用いて元型を転像することにより作製することができる。 Preparation of the intaglio plate for transfer can be made by Tenzo the original type by using a silicone rubber. プラズマディスプレイパネル用の基板への隔壁材料の転写は、シリコーンゴムの転写用凹版の凹部に、隔壁材料である絶縁性ペーストを埋め込み、本来のPDP用の基板に転写形成することにより行うことができ、これによりPDP用の基板に隔壁を形成することができる。 Transcription of the rib material to the substrate for a plasma display panel, the recess of the intaglio plate for transfer of the silicone rubber, embedding the insulating paste is rib material can be carried out by transferring formed on a substrate for the original PDP , thereby forming the partition wall on the substrate for PDP. 転写用凹版は、固い樹脂もしくは電鋳で作製してもよく、これをプレス用凸版として使用し、隔壁材料の絶縁物をプレスすることにより、隔壁を形成するようにしてもよい。 Intaglio plate for transfer may be made of cast hard resin or conductive, and used as press relief plate by the insulator partition wall material pressing, it may be formed a partition wall.

隔壁転写時の離型性の面からは、隔壁転写凹版用の元型は、その凸部が、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に隔壁の基幹部の面積よりも終端部の面積のほうが広くなるような形状に形成されることが望ましい。 In terms of the releasing property during septum transfer, the original type of the barrier rib transfer intaglio plate, the convex portion, the end portion than the area of ​​the core portion of the partition wall when the transfer of the barrier rib material using the intaglio plate for transfer it is desirable that more area is shaped to be wider.

また、隔壁転写凹版用の元型は、その凸部が、複数の感光性材料層からなり、それらの感光性材料層は下層に位置する感光性材料層よりも上層に位置する感光性材料層のほうが面積が狭くなるように形成され、それによって、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に隔壁の長手方向の終端部の高さが基幹部の高さよりも低くなるような形状に形成されていてもよい。 Also, the original type of the barrier rib transfer intaglio plate, the convex portion, a plurality of light-sensitive material layer, a photosensitive material layer thereof photosensitive material layer is positioned on the upper layer of the photosensitive material layer positioned in the lower layer better is formed such that the area becomes narrower, thereby shaped like the height of the longitudinal end portion of the partition wall when the transfer of the barrier rib material is lower than the height of the trunk portion by using the intaglio plate for transfer it may be formed.

あるいは、隔壁転写凹版用の元型は、その凸部が、複数の感光性材料層からなり、それらの感光性材料層は下層に位置する感光性材料層よりも上層に位置する感光性材料層のほうが面積が狭く、かつ下層に位置する感光性材料層については隔壁の基幹部に対応する部位の面積よりも終端部に対応する部位の面積のほうが広くなるように形成され、それによって、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に隔壁の基幹部の面積よりも終端部の面積のほうが広く、かつ隔壁の終端部の高さが基幹部の高さよりも低くなるような形状に形成されていてもよい。 Alternatively, the original type of the barrier rib transfer intaglio plate, the convex portion, a plurality of light-sensitive material layer, a photosensitive material layer thereof photosensitive material layer is positioned on the upper layer of the photosensitive material layer positioned in the lower layer more narrow area, and for the light-sensitive material layer positioned in the lower layer is formed so as towards the area of ​​the portion corresponding to the end portion than the area of ​​the portion corresponding to the core portion of the partition wall is widened, and thereby, transfer wide towards the area of ​​the end portion than the area of ​​the core portion of the partition wall when the transfer of the barrier rib material with use intaglio, and shaped to a height of the end portion of the partition wall is lower than the height of the core portion it may be.

さらに、隔壁転写凹版用の元型は、その凸部が、複数の感光性材料層からなり、それらの感光性材料層は下層に位置する感光性材料層よりも上層に位置する感光性材料層のほうが面積が狭く、かつ下層に位置する感光性材料層については隔壁の終端部に対応する部位のみが連続的につながるように形成され、それによって、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に隔壁の終端部のみが連続的につながり、かつ隔壁の終端部の高さが隔壁の基幹部の高さよりも低くなるような形状に形成されていてもよい。 Furthermore, the original type of the barrier rib transfer intaglio plate, the convex portion, a plurality of light-sensitive material layer, a photosensitive material layer thereof photosensitive material layer is positioned on the upper layer of the photosensitive material layer positioned in the lower layer more narrow the area of, and for the light-sensitive material layer positioned in the lower layer is formed so that only portions corresponding to the end portion of the partition wall leading to a continuous, thereby to transfer the partition wall material using the intaglio plate for transfer only end portion of the partition wall leads to continuous and the height of the end portion of the partition wall may be shaped to be lower than the height of the core portion of the partition wall when.

以下、図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳述する。 It will hereinafter be described in detail by the present invention with reference to embodiments shown in the drawings. なお、これによってこの発明が限定されるものではない。 It should be understood that this by this invention be limited.

図1は本発明に係るプラズマ表示装置の構成図である。 Figure 1 is a configuration diagram of a plasma display device according to the present invention.
プラズマ表示装置100は、マトリクス形式のカラー表示デバイスであるAC型のPDP1と、画面(スクリーン)SCを構成する縦横に並んだセルCを選択的に点灯させるための駆動ユニット80とから構成されており、壁掛け式テレビジョン受像機、コンピュータシステムのモニターなどとして利用される。 The plasma display device 100 includes a PDP1 AC type is a color display device of matrix type, is constituted from the screen (screen) drive unit for selectively turning on the cells C arranged in a matrix constituting the SC 80 Metropolitan cage, wall-mounted television receiver, and is used as such as a monitor of the computer system.

PDP1は、対をなす第1及び第2の主放電用電極としてのサステイン電極X,Yが平行配置され、各セルCにおいてサステイン電極X,Yと第3の電極としてのアドレス電極Aとが交差する3電極面放電構造のPDPである。 PDP1 can sustain electrode X as a first and second main discharge electrodes forming a pair, Y is arranged in parallel, in each cell C sustain electrode X, and the address electrode A as Y and the third electrode intersecting a PDP of 3-electrode surface discharge structure. サステイン電極X,Yは画面の行方向(水平方向)に延び、一方のサステイン電極Yはアドレッシングに際して行単位にセルCを選択するためのスキャン電極として用いられる。 Sustain electrodes X, Y extend in the screen in the row direction (horizontal direction), one of the sustain electrode Y is used as a scan electrode for selecting cells C row by row upon addressing. アドレス電極Aは列方向(垂直方向)に延びており、列単位にセルCを選択するためのデータ電極として用いられる。 The address electrode A extends in the column direction (vertical direction), it is used as data electrodes for selecting cells C in the column unit. サステイン電極群とアドレス電極群とが交差する領域が表示領域、すなわち画面SCである。 Region where the sustain electrode group and the address electrode group crossing the display area, that is, the screen SC.

駆動ユニット80は、コントローラ81、フレームメモリ82、データ処理回路83、サブフィールドメモリ84、電源回路85、Xドライバ87、Yドライバ88、及びアドレスドライバ89を有している。 The drive unit 80 includes a controller 81, a frame memory 82, the data processing circuit 83, the sub-field memory 84, and a power supply circuit 85, X driver 87, Y driver 88 and address driver 89,. 駆動ユニット80には、TVチューナ、コンピュータなどの外部装置からR,G,Bの各色の輝度レベル(階調レベル)を示す画素単位のフィールドデータDfが各種の同期信号とともに入力される。 The drive unit 80, TV tuner, is input from an external device such as a computer R, G, field data Df of each color pixel indicating the brightness level (gradation level) of the B together with various synchronizing signals.

フィールドデータDfは、フレームメモリ82に一旦格納された後、データ処理回路83へ送られる。 Field data Df is temporarily stored in the frame memory 82, sent to the data processing circuit 83. データ処理回路83は、階調表示を行うために1フィールドを所定数のサブフィールドに分割し、その内の点灯させるサブフィールドの組合せを設定するデータ変換手段であり、フィールドデータDfに応じたサブフィールドデータDsfを出力する。 The data processing circuit 83, one field in order to perform the gradation display is divided into sub-fields of a predetermined number, a data converting means for setting a combination of subfields to be lit among the sub in accordance with the field data Df and it outputs the field data Dsf. サブフィールドデータDsfはサブフィールドメモリ84に格納される。 Subfield data Dsf are stored in the subfields memory 84. サブフィールドデータDsfの各ビットの値は、サブフィールドにおけるセルの点灯の要否を示す情報、厳密にはアドレス放電の要否を示す情報である。 The value of each bit of the subfield data Dsf is information indicating the necessity of the lighting of the cells in the subfields, strictly information indicating the necessity of address discharge.

Xドライバ87はサステイン電極Xに駆動電圧を印加し、Yドライバ88はサステイン電極Yに駆動電圧を印加する。 X driver 87 applies a driving voltage to the sustain electrodes X, Y driver 88 applies a driving voltage to the sustain electrode Y. アドレスドライバ89は、サブフィールドデータDsfに応じてアドレス電極Aに駆動電圧を印加する。 Address driver 89 applies a driving voltage to the address electrodes A in accordance with the subfield data Dsf. これらドライバには電源回路85から所定の電力が供給される。 Predetermined power from the power supply circuit 85 to the drivers is supplied.

図2はPDPの内部構造を示す斜視図である。 Figure 2 is a perspective view showing the internal structure of the PDP.
PDP1は、前面側のガラス基板11の内面に、行L毎に一対ずつサステイン電極X,Yが配列されている。 PDP1 is on the inner surface of the glass substrate 11 on the front side, in pairs in each row L sustain electrodes X, Y are arranged. 行Lは画面における水平方向のセル列である。 Line L is horizontal row of cells in the screen. サステイン電極X,Yは、それぞれがITOからなる透明導電膜41とCr−Cu−Crからなる金属膜(バス導体)42で形成され、低融点ガラスからなる厚さ30μm程度の誘電体層17で被覆されている。 Sustain electrodes X, Y are each formed of a metal film (bus conductor) 42 made of a transparent conductive film 41 and the Cr-Cu-Cr formed of ITO, with a thickness of about 30μm consisting of low-melting glass dielectric layer 17 It is covered. 誘電体層17の表面にはマグネシア(MgO)からなる厚さ数千オングストロームの保護膜18が設けられている。 The surface of the dielectric layer 17 protective layer 18 having a thickness of several thousand angstroms consisting magnesia (MgO) is provided. アドレス電極Aは、背面側のガラス基板21の内面を覆う下地層22の上に配列されており、厚さ10μm程度の誘電体層24によって被覆されている。 Address electrodes A are arranged on the underlayer 22 covering the inner surface of the glass substrate 21 on the back surface side, it is covered with a dielectric layer 24 having a thickness of about 10 [mu] m. 誘電体層24の上には、高さ150μmの平面視直線帯状の隔壁29が、各アドレス電極Aの間に1つずつ設けられている。 On the dielectric layer 24 is a plan view linear band-like partition 29 of height 150μm is, one is provided between the respective address electrodes A. これらの隔壁29によって放電空間30が行方向にサブピクセル(単位発光領域)毎に区画され、且つ放電空間30の間隙寸法が規定されている。 Discharge space 30 by these barrier ribs 29 are partitioned in the row direction for each subpixel (unit light emitting region), which and defined gap size of the discharge space 30 is. そして、アドレス電極Aの上方及び隔壁29の側面を含めて背面側の内面を被覆するように、カラー表示のためのR,G,Bの3色の蛍光体層28R,28G,28Bが設けられている。 Then, so as to cover the inner surface of the back side including the side surfaces of the upper and the partition wall 29 of the address electrodes A, R for color display, G, 3-color phosphor layers 28R of B, 28G, 28B is provided ing. 3色の配置パターンは、1列のセルの発光色が同一で且つ隣接する列どうしの発光色が異なるストライプパターンである。 3-color arrangement pattern of the emission color of the column to each other that the emission color of a row of cells adjacent and in the same are different stripe patterns. なお、隔壁形成に際しては、コントラストを高めるために頂上部を暗色に着色し、他の部分を白色に着色して可視光の反射率を高めるのが望ましい。 Note that when the partition wall formation, color the top portion in dark to increase the contrast, increase the reflectance of visible light by coloring the other portion to white is desired. 着色は材料のガラスペーストに所定色の顔料を添加することにより行う。 Coloring is carried out by adding a predetermined color pigment to the glass paste material.

放電空間30には主成分のネオンにキセノンを混合した放電ガスが充填されており(封入圧力は500Torr)、蛍光体層28R,28G,28Bは放電時にキセノンが放つ紫外線によって局部的に励起されて発光する。 The discharge space 30 is discharged a mixed gas of xenon neon principal components are filled (filling pressure is 500 Torr), the phosphor layer 28R, 28G, 28B is being excited locally by ultraviolet rays emitted by xenon upon discharge emission to. 表示の1ピクセル(画素)は行方向に並ぶ3個のサブピクセルで構成される。 It consists of three sub-pixels arranged in one pixel (pixel) row direction of the display. 各サブピクセル内の構造体がセル(表示素子)Cである。 Structure within each subpixel is a cell (display element) C. 隔壁29の配置パターンがストライプパターンであることから、放電空間30のうちの各列に対応した部分は全ての行Lに跨がって列方向に連続している。 Since the arrangement pattern of the partition 29 is a stripe pattern, the portion corresponding to each column of the discharge space 30 is continuous in the column direction over all rows L. そのため、隣接する行Lどうしの電極間隙(逆スリットと呼称されている)の寸法は各行Lの面放電ギャップ(例えば80〜140μmの範囲内の値)より十分に大きく、列方向の放電結合を防ぐことのできる値(例えば200〜500μmの範囲内の値)に選定されている。 Therefore, the dimensions of the adjacent rows L What happened the electrode gap (which is called a reverse slit) is sufficiently larger than the surface discharge gap of each row L (for example, a value within the range of 80~140Myuemu), the column direction of the discharge coupling It is selected to a value (e.g. a value in the range of 200 to 500 [mu] m) that can be prevented. なお、逆スリットには非発光の白っぽい蛍光体層を隠す目的で、ガラス基板11の外面側又は内面側に図示しない遮光膜が設けられる。 Note that the reverse slit for the purpose of hiding the whitish phosphor layer of non-light-emitting, light-shielding film (not shown) on the outer surface side or inner surface of the glass substrate 11 is provided.

図3の(a)〜(h)は隔壁の形成用の元型作製方法の第1例を示す説明図である。 In Figure 3 (a) ~ (h) are explanatory views showing a first example of the former type manufacturing method for forming the partition wall.
本発明の隔壁形成方法では、隔壁の転写用凹版を作製するために、最初に隔壁の元型を作製する。 The partition wall forming process of the present invention, in order to produce the intaglio plate for transfer of the partition wall, first to prepare the original form of the partition wall.

この元型の作製にあたっては、まず、ガラスからなる基板51上に、遮光性材料(例えばクロム薄膜)52で隔壁のネガパターンを形成しておく(図3(a)参照)。 In manufacturing this original type, first, on a substrate 51 made of glass, (see FIG. 3 (a)) of light blocking material (e.g., a thin chromium film) 52 previously formed a negative pattern of the partition wall. 基板51は光を透過させるものであれば他の材料のものであってもよく、例えば石英基板等であってもよい。 Substrate 51 as long as it can transmit light may be of other materials, may be, for example, a quartz substrate, or the like. 隔壁のネガパターンの形成は、例えばスパッタリングにて行う。 Formation of a negative pattern of the partition is performed, for example by sputtering.

その遮光性材料52のパターンの上に、光が照射された部分が硬化して残るネガ型の感光性材料(例えばドライフィルムレジスト、以下DFRと記す)53を形成する(図3(b)参照)。 On the pattern of the light-shielding material 52, the light sensitive material of the negative left by curing irradiated portion (for example, dry film resist, hereinafter referred to as DFR) 53 is formed (see FIG. 3 (b) ). 感光性材料53としてDFRを用いる場合、DFRの厚みが50〜100μm程度であるため所望の隔壁の高さまでDFRを積層する。 When using the DFR as the photosensitive material 53, the thickness of the DFR is laminated DFR to a desired height of the partition wall for of the order of 50 to 100 [mu] m.

次に、この基板51の背面から露光を行い(図3(c)参照)、遮光性材料52のネガパターンを介して感光性材料53を感光させて、現像する(図3(d)参照)。 Next, the exposure from the rear surface of the substrate 51 (see FIG. 3 (c)), by sensitizing a photosensitive material 53 through the negative pattern of the light shielding material 52 and developed (see FIG. 3 (d)) . こうすることで、光に近い部分の感光性材料53は光重合がよく進むので、感光性材料53と基板51の密着性を飛躍的に増大させることができ、製造安定性が確保できる。 By so doing, the photosensitive material 53 close to the light portion of the photopolymerization progresses well, the adhesion of the photosensitive material 53 and the substrate 51 can be dramatically increased, production stability can be ensured. また、照射された光は先に進むに従い減衰してゆくため、最終的に隔壁のトップとなる部分は、光重合度が実効的に低下し、現像時には幅が狭くなり、隔壁のテーパー角を意図的に制御することかできる。 Moreover, since the light emitted is slide into attenuated in accordance with proceeding eventually top and become part of the partition wall, the light degree of polymerization is effectively reduced, the width is narrowed at the time of development, the taper angle of the partition wall It can either intentionally controlled to be. なお、この型のテーパー制御や、製造安定性の程度は、必要となる隔壁のスペックに依存するため、必ずしも背面からの露光を必要とするものではなく、前面から露光してもよい場合もある。 There should be noted that the tapered control of this type, the degree of production stability is dependent on the partition wall of the specifications required are not necessarily require exposure from the back, even if it may be exposed from the front surface .

上述のようにして得られた隔壁の元型をシリコーンゴムなどを用いて転像することにより、転写用凹版54を作製し(図3(e)参照)、その凹部に隔壁材料の絶縁性ペースト55を埋め込み(図3(f)参照)、本来のPDP用の基板56に転写形成し(図3(g)参照)、これにより所望の隔壁57を得る(図3(h)参照)。 By rolling image of the original type of the obtained partition walls as described above by using a silicone rubber, to prepare a transfer intaglio 54 (FIG. 3 (e) refer), insulating paste of the rib material in the recess 55 embedded (FIG. 3 (f) refer), transferred formed on a substrate 56 for the original PDP (see FIG. 3 (g)), thereby obtaining a desired partition wall 57 (see FIG. 3 (h)).

また、別の方法としては、先の転写用凹版54を固い樹脂もしくは電鋳で作製し、これをプレス用凸版として使用し、隔壁材料の絶縁物をプレスすることにより、所望の隔壁を得ることもできる。 It alternatively may be prepared ahead of the intaglio plate for transfer 54 with cast rigid resin or conductive, and used as press relief plate by the insulator partition wall material pressing, to obtain a desired partition wall It can also be. なお、感光性材料で隔壁を作製した基板はそのまま元型として用いても良いし、他の樹脂による転写を繰返したり、電鋳による型をつくったりする中間型として用いてもよい。 The substrate produced a septum photosensitive material to it may be used as the source type, or repeated transfer by other resins, it may be used as an intermediate type or make a mold by electroforming.

なお、はじめに形成した遮光性材料52のネガパターンとして、PDPの電極パターン(図2で示したアドレス電極Aのパターン)そのものを利用し、感光性材料53として感光性の隔壁材料を用いれば、転写法を使用せずとも電極と隔壁が自己整合(位置合わせ不要)した隔壁を形成することができる。 As negative pattern of the light-shielding material 52 formed initially, using itself (pattern of the address electrodes A shown in FIG. 2) PDP electrode pattern, using a photosensitive rib material as the photosensitive material 53, the transfer without using the law can electrode and the partition wall to form a the septum self-aligned (alignment not required).

この時、感光性隔壁材料の光減衰率が問題となる場合は、感光性隔壁材料層の形成毎に感光性隔壁材料層を露光し、後でまとめて全ての感光性隔壁材料層を現像するようにしてもよい。 At this time, if the optical attenuation factor of the photosensitive barrier rib material is a problem, a photosensitive barrier rib material layer exposed to every form of photosensitive barrier rib material layer is developed all the photosensitive barrier rib material layer together later it may be so.

具体的には、まず、基板上に隔壁のネガパターンを形成し、第1層目の感光性隔壁材料層を形成した後、背面露光によりその感光性隔壁材料層を感光させて、感光性隔壁材料層と基板との密着性を高めておく。 Specifically, first, a negative pattern of the barrier ribs on the substrate, after forming the first layer of photosensitive barrier rib material layer, and then exposed the photosensitive barrier rib material layer by backside exposure, the photosensitive barrier rib keep improving the adhesion between the material layer and the substrate. 次に、そのまま現像せずに、第1層目の感光性隔壁材料層の上に第2層目の感光性隔壁材料層を形成し、その上に隔壁のネガパターンを形成し、そのネガパターンを介して第2層目の感光性隔壁材料層を前面露光する。 Then, without directly developed, the second layer of photosensitive barrier rib material layer is formed on the first layer of the photosensitive barrier rib material layer to form a negative pattern of the barrier ribs formed thereon, the negative pattern the second layer of photosensitive barrier rib material layer through to the front exposure. そして、第2層目の感光性隔壁材料層の上に第3層目の感光性隔壁材料層を形成し、同様にして第3層目の感光性隔壁材料層を前面露光する、という工程を繰返した後、全ての感光性隔壁材料層を現像して、隔壁を形成するようにしてもよい。 Then, a third layer of photosensitive barrier rib material layer is formed on the second layer of photosensitive barrier rib material layer to the front surface exposed to the third layer of photosensitive barrier rib material layer in the same manner, the steps of after repeated and developed all the photosensitive barrier rib material layer, may be formed a partition wall.

図4の(a)〜(f)は隔壁の形成用の元型作製方法の第2例を示す説明図であり、(a)、(c)、(e)は平面図、(b)は(a)の側面図、(d)は(c)の側面図、(f)は(e)の側面図である。 Figure 4 (a) ~ (f) are explanatory views showing a second example of the former type manufacturing method for forming the partition wall, (a), (c), (e) is a plan view, (b) is side view of (a), a side view of (d) are (c), a side view of (f) is (e).

本例では、隔壁のテーパー制御を積極的に行うために、感光性材料層の形成を数回にわけ、そのたびごとに前の露光パターンよりも小さいパターン(相似形パターン)の重ね合わせ露光を行ってゆく。 In this example, in order to perform taper control of the partition actively, in several portions forming the photosensitive material layer, the overlay exposure of small patterns (similar figure pattern) than the previous exposure pattern on each occasion Yuku go.

例えば、感光性材料層の形成を3回に分け、基板51上に第1層目の感光性材料層53aを形成し、その上に隔壁のネガパターンを形成して前面露光し(図4の(a)および(b)参照)、そのまま現像せずに、第2層目の感光性材料層53bを形成し、前よりも細いパターンを前面露光する(図4の(c)および(d)参照)。 For example, three portions forming the photosensitive material layer, the first layer of photosensitive material layer 53a is formed on the substrate 51, and the front exposed to form a negative pattern of the barrier ribs on it (in Fig. 4 see (a) and (b)), without directly developed, the second layer of the photosensitive material layer 53b is formed, a thin pattern than prior to the front surface exposed (shown in FIG. 4 (c) and (d) reference). 次に、そのまま現像せずに、第3層目の感光性材料層53cを形成し、さらに細いパターンを前面露光する(図4の(e)および(f)参照)。 Then, without directly developing the third layer of the photosensitive material layer 53c is formed, further the fine pattern to the front face exposure (see shown in FIG. 4 (e) and (f)). なお、第1層目の感光性材料層53aは前面露光としたが、基板51に光透過性のものを用い、この基板51上に先に隔壁のネガパターンを形成しておいて、背面露光するようにしてもよい。 The first layer of the photosensitive material layer 53a is set to the front exposed, used as the light transmitting substrate 51, and allowed to form a negative pattern of the partition wall above on the substrate 51, back exposure it may be.

そして、全感光性材料層の露光が完了した後に現像をすることにより、先細りした隔壁の元型が形成できる。 Then, by the development after the exposure of all the photosensitive material layer is completed, the original type of tapered partition walls can be formed. なお、各感光性材料層53a,53b,53cの露光パターン太さの違いにより生じる段差は、露光後のベーキング(PEB)である程度緩和することもできる。 Incidentally, the step caused by the difference of the photosensitive material layer 53a, 53b, 53c of the exposure pattern thickness can be alleviated to some extent by baking after exposure (PEB).

このようにして得た隔壁の元型から、第1例と同様にして転写用凹版を作製し、その凹部に隔壁材料の絶縁性ペーストを埋め込み、PDP用の基板に転写形成することにより、所望の隔壁を得る。 Thus the original type-obtained partition walls in the, by the same manner as the first embodiment to prepare a transfer for intaglio, buried insulating paste of the partition material in the recess, is transferred and formed on the substrate for PDP, the desired obtain a partition wall.

図5の(a)〜(f)は隔壁の形成用の元型作製方法の第3例を示す説明図であり、(a)、(c)、(e)は平面図、(b)は(a)の側面図、(d)は(c)の側面図、(f)は(e)の側面図である。 Figure 5 (a) ~ (f) are explanatory views showing a third example of the former type manufacturing method for forming the partition wall, (a), (c), (e) is a plan view, (b) is side view of (a), a side view of (d) are (c), a side view of (f) is (e). 各図は前述の図4で示した内容に対応している。 Each figure corresponds to the contents shown in FIG. 4 above.

本例では、光透過性のある基板51上に、遮光性材料52で隔壁のネガパターンを形成しておく際、特に光を減衰させたい部分(この例では隔壁の部分)に顔料を分散させたフィルター部52aを形成し、それ以外の部分は通常の遮光性材料52とし、隔壁のテーパー角をさらに制御する。 In this embodiment, on the optical transparency is the substrate 51, when the previously formed a negative pattern of the partition walls in shielding material 52, a pigment is dispersed (part of the partition wall in this example) portion to particularly attenuates the light filter portion 52a is formed, the other part is an ordinary light-shielding material 52, to further control the taper angle of the partition wall. このフィルター部52aについては、隔壁のセンター部分を薄く、エッジ部分を濃くというふうにグラデーションをかけてもよい。 This filter portion 52a is thinner center portion of the partition wall may be subjected to gradation in Fu that darker edges. このフィルターの効果は、背面露光にのみ効くことなので、前述の第2例と組み合わせて使用するとより効果的である。 The effect of this filter, so that the effective against only the back exposure, it is more effective when used in combination with the second example described above.
隔壁の元型を用いた転写用凹版の作製、および転写用凹版による隔壁の転写形成は第1例および第2例と同様に行う。 Preparation of the intaglio plate for transfer with the original type of the partition, and transfer formation of the partition walls by the intaglio plate for transfer is performed in the same manner as the first and second examples.

図6の(a)〜(e)は隔壁の形成用の元型作製方法の第4例を示す説明図である。 (A) ~ (e) of FIG. 6 is an explanatory diagram showing a fourth example of the former type manufacturing method for forming the partition wall.
本例では、感度が異なる感光性材料を使用することにより、隔壁のテーパー角を制御する。 In this example, by using a photosensitive material different sensitivities, to control the taper angle of the partition wall. 例えば、遮光性材料52でパターニングされている基板51の上に(図6(a)参照)、感度が強い感光性材料53d、感度が中間的な感光性材料53e、感度が弱い感光性材料53fの順に形成し(図6(b)参照)、背面から露光し(図6(c)参照)、現像する(図6(d)参照)。 For example, (see FIG. 6 (a)) on a substrate 51 which is patterned with a light-shielding material 52, the sensitivity is a strong photosensitive material 53d, sensitivity is intermediate the photosensitive material 53e, the sensitivity is weak photosensitive material 53f of are sequentially formed (FIG. 6 (b) see), and exposed from the back (Fig. 6 (c) refer) and developed (see FIG. 6 (d)). このようにすることにより、光の減衰による効果と、もともと感光性材料53d,53e,53fが持っている感度特性の相乗効果により、よりテーパー角の強い元型をつくることができる。 By doing so, the effect of the attenuation of the light originally photosensitive material 53d, 53e, by the synergistic effect of the sensitivity characteristic 53f has, can be made stronger original type of taper angle. なお、感光性材料の感度は、重合開始剤やモノマーの選択、顔料分散により実現できる。 Incidentally, the sensitivity of the photosensitive material, the choice of the polymerization initiator or monomer, can be realized by the pigment dispersion.

上述のようにして得られた隔壁の元型を、第1例〜第3例と同様に、シリコーンゴムなどを用いて転像することにより、転写用凹版54を作製し(図6(e)参照)、その凹部に隔壁材料の絶縁性ペーストを埋め込み、本来のPDP用の基板に転写形成することにより、所望の隔壁を得る。 The original type of the partition wall obtained as described above, similarly to the first to third examples, by rolling image by using a silicone rubber, to prepare a transfer intaglio 54 (FIG. 6 (e) see), buried insulating paste of the partition material in the recess, by transferring formed on a substrate for the original PDP, obtain a desired partition wall.

また、別の方法として、図3で示した例のように、転写用凹版54を固い樹脂もしくは電鋳で作製し、これをプレス用凸版として使用し、隔壁材料の絶縁物をプレスすることにより、所望の隔壁を得ることもできる。 Another method, as in the example shown in FIG. 3, to prepare a transfer intaglio 54 with cast rigid resin or conductive, and used as press relief plate by the insulator partition wall material to the press , it is also possible to obtain a desired partition wall. この場合にも、前述したように、感光性材料で隔壁を作製した基板はそのまま元型として用いても良いし、他の樹脂による転写を繰返したり、電鋳による型をつくったりする中間型として用いてもよい。 In this case, as described above, the substrate to produce a partition wall to it may be used as a source-type photosensitive material, or repeated transcription by other resins, as an intermediate type or make a mold by electroforming it may be used.

なお、本例でも、図3の例で説明したように、遮光性材料52のネガパターンとしてPDPの電極パターンそのものを利用し、感光性材料53として感光性の隔壁材料を用いれば、転写法を使用せずとも電極と隔壁が自己整合した隔壁を形成することができる。 Also in the present embodiment, as described in the example of FIG. 3, by using the PDP electrode pattern itself as a negative pattern of the light-shielding material 52, by using a photosensitive rib material as the photosensitive material 53, a transfer method can without using forming the partition wall of the electrode and the partition wall are self-aligned.

図7は隔壁の形成用の元型作製方法の第5例を示す説明図である。 Figure 7 is an explanatory view showing a fifth example of the former type manufacturing method for forming the partition wall.
本例は、背面露光を使用する第1例および第4例に応用できる例である。 This is an example that can be applied to the first and fourth embodiments use the back exposure. 本例では、背面から露光する際、感光性材料層53の上に反射率調整部材として所望の光吸収材58を配置する。 In this example, when exposing from the back, placing the desired light-absorbing material 58 as the reflectance adjusting member on the photosensitive material layer 53. すなわち、感光性材料層53の上に所望の反射率の物質を置くか、あるいはコーティングしておくことにより、光の反射率を調整し、これにより感光性材料53の表面の光重合を調節して、パターン形状を制御する。 That is, by previously desired place the material reflectance, or coating on the photosensitive material layer 53, to adjust the reflectance of the light, thereby adjusting the photopolymerization of the surface of the photosensitive material 53 Te, and controls the pattern shape. 例えば、光吸収材58が黒色であれば吸光するので、感光性材料53の重合度は低下し、頂部の細い隔壁パターンとなる。 For example, since the light absorbing material 58 absorbs If black, the degree of polymerization of the photosensitive material 53 is reduced, the thin partition wall pattern with the top. あるいは、光吸収材58が白色散乱体であれば、ハレーションがおこるので、感光性材料53の重合度は高まり、頂部の太い隔壁パターンとなる。 Alternatively, if the light absorbing material 58 is a white scatterer, because halation occurs, the degree of polymerization of the photosensitive material 53 is increased, a thick rib pattern of the top.
隔壁の元型を用いた転写用凹版の作製、および転写用凹版による隔壁の転写形成は、第1例〜第4例と同様に行う。 Preparation of the intaglio plate for transfer with the original type of the partition, and transfer formation of the partition walls by the intaglio plate for transfer is performed similarly to the first to fourth examples.

図8は感光性材料層の積層方法を示す説明図である。 Figure 8 is an explanatory diagram showing a method of laminating a photosensitive material layer.
以上述べた第1〜第5例の隔壁形成方法は、最終的に転写法により隔壁を形成するものである。 The first to the partition wall forming process of the fifth example described above is to form a barrier rib by finally transfer method. したがって、その場合、根本的に転写用凹版からの離型性が問題となる。 Therefore, in that case, releasability from fundamentally intaglio plate for transfer becomes a problem. この離型性は、隔壁のテーパー角に依存するところが大きいが、パターンの終端部のテーパーがもっとも重要となってくる。 The releasing property is largely dependent on the taper angle of the partition wall, the tapered end portion of the pattern becomes the most important. このパターンの終端部は、転写のきっかけとなる部分であるため、そのテーパーは大きければ大きいほどよいが、きっかけとなる部分が転写し易いように薄い方がさらに望ましい。 End of the pattern are the parts that trigger the transfer, but its tapered good larger, thinner so as to facilitate transfer portion that triggers more desirable.

そこで、まず、基板51上に第1層目の感光性材料層53aを基板51と同じ大きさに形成して露光し(図8(a)参照)、次に、その上に第2層目の感光性材料層53bを隔壁の延びる方向に対して両端が短くなるように形成して露光し(図8(b)参照)、次に、その上に第3層目の感光性材料層53cを第2層目の感光性材料層53bと同じ大きさに形成して露光する(図8(c)参照)。 Therefore, first, a first layer of photosensitive material layer 53a is exposed to form the same size as the substrate 51 on the substrate 51 (see FIG. 8 (a)), then, a second layer thereon of the photosensitive material layer 53b exposed to form such ends is shortened with respect to the direction of extension of the partition wall (see FIG. 8 (b)), then, the photosensitive material layer of the third layer thereon 53c the formed to the same size as the second layer of the photosensitive material layer 53b exposed (see FIG. 8 (c)). すなわち、第1層目の感光性材料層53aのみ大きい範囲に形成し、それ以降の第2、第3層目の感光性材料層53b,53cの形成領域を小さくする。 That is, formed in a large range, only the first layer of the photosensitive material layer 53a, a second later, the third layer of the photosensitive material layer 53b, to reduce the formation region of 53c.

このように、パターンの終端部の型が浅くなるようにその部分の感光性材料だけ薄く形成しておくことにより、パターンの終端部の型だけが浅くなる元型の形成が可能となる。 Thus, by the type of the terminal portion of the pattern is kept only thin photosensitive material of the part to be shallow, it is possible to form the original type only type of end portion of the pattern becomes shallow.

図9、図10および図11は感光性材料によって形成された隔壁パターンの終端部形状の例を示す説明図である。 9, 10 and 11 are explanatory views showing an example of the end portion shape of the barrier rib pattern formed by the photosensitive material.

図9も転写性を向上させる隔壁パターンの例である。 Figure 9 also shows an example of a barrier rib pattern to improve the transferability. 図に示すように、感光性材料53によって形成された隔壁パターンの終端部が基幹部よりも太くなっていれば、接地面積も増大し、転写性も向上する。 As shown, end portion of the partition wall pattern formed by the light-sensitive material 53 if thicker than trunk portion, also increases the contact area, also improves transferability.

図10の(a)および(b)は図9の発展型であり、隔壁パターンの終端が太く、かつ、その部分の高さが基幹部よりも低い形状を有しており、このような元型にすれば、転写性がさらに向上する。 (A) and in FIG. 10 (b) is a development of the Figure 9, thicker end of the barrier rib pattern, and the height of that portion has a lower shape than trunk portion, such original if the mold, transfer is further improved.

この作製方法は、第2例または第3例で示した、複数の感光性材料層を積層し露光を複数回に分ける多段露光による方法で、感光性材料層53a,53b,53cを形成し、その際、図8で示した積層方法を適用する。 This manufacturing method is shown in the second example or the third example, in the method according to the multi-stage exposure separating the laminating a plurality of photosensitive material layer exposed a plurality of times, the photosensitive material layer 53a, 53b, and 53c are formed, at this time, applying the lamination method illustrated in FIG.

例えば、感光性材料層の形成を3回に分けたとして、第1層目の感光性材料層53aの形成後に隔壁の根元となる部分、すなわち、基幹部およびその終端部が太いパターンを露光し(図10(a)参照)、そのまま現像せずに、第2層目の感光性材料層53bを形成し、今度は終端部の無い短いパターンを重ね合わせて露光し、そのまま現像せずに、第3層目の感光性材料層53cを形成し、第2層目の感光性材料層53bのパターンよりも細いパターンを重ね合わせて露光する(図10(b)参照)。 For example, though three portions forming the photosensitive material layer, the base and become part of the partition wall after the formation of the first layer of photosensitive material layer 53a, i.e., the backbone portion and its end portion is exposed to the thick pattern (see FIG. 10 (a)), without directly developed, the second layer of the photosensitive material layer 53b is formed, exposed to light turn superimposed short pattern without termination, without it development, forming a third layer of photosensitive material layer 53c, to expose superposed thin pattern than the pattern of the second layer of the photosensitive material layer 53b (see Figure 10 (b)). そして、全感光性材料層の露光が完了した後に現像をすることにより、所望の隔壁の元型を作製することができる。 Then, by the development after the exposure of all the photosensitive material layer is complete, it is possible to produce the original type of desired partition wall.

図11の(a)および(b)は図10の(a)および(b)の変形例であり、隔壁パターンの終端部がつながった形状のものである。 Figure 11 (a) and (b) is a modification of the (a) and (b) of FIG. 10 is a shape that the end portion of the barrier rib pattern led. このように、感光性材料層の層厚や層数、露光してゆくパターンの組み合せにより、さまざまな終端形状を実現することができる。 Thus, the layer thicknesses and number of layers of the photosensitive material layer, by a combination of the pattern slide into the exposure, it is possible to realize a variety of end shapes.

また、最下層の感光性材料層を前面から全面露光した後、その上から他の感光性材料を積層し、その感光材料層を背面から隔壁パターンを介して露光し現像することにより元型を作製し、その元型で転写用凹版を作製することにより、転写性を向上させることができる。 Further, after the overall exposure the lowest layer of the photosensitive material layer from the front side, the original type by its other photosensitive material is laminated over, the photosensitive material layer is exposed from the back through the barrier rib pattern is developed was prepared, by making the intaglio plate for transfer in its original form, it is possible to improve the transferability.

すなわち、図12に示すように、まず、ガラスからなる基板51上に、遮光性材料52で隔壁のネガパターンを形成しておき(図12(a)参照)、その上に第1層目のDFR59をラミネートする(図12(b)参照)。 That is, as shown in FIG. 12, first, on a substrate 51 made of glass, previously formed a barrier rib of a negative pattern with a light-shielding material 52 (see FIG. 12 (a)), the first layer thereon laminating the DFR59 (see FIG. 12 (b)). 次に、隔壁全体面の土台となるパターンを有するフォトマスク60を介してDFR59を露光し(図12(c)参照)、そのまま現像せずにその上から3層のDFR61をラミネートし(図12(d)参照)、基板51の背面から露光を行い(図12(e)参照)、遮光性材料52のパターンを介して上3層のDFR61を感光させて、現像する(図12(f)参照)。 Then, by exposing the DFR59 through a photomask 60 having a pattern of the base of the partition walls the whole face (see FIG. 12 (c)), was laminated DFR61 three layers thereon without directly developing (Figure 12 see (d)), exposure from the back of the substrate 51 reference (FIG. 12 (e)), by sensitizing a DFR61 above three layers through a pattern of light-shielding material 52, is developed (FIG. 12 (f) reference).

そして、得られた隔壁の元型をシリコーンゴムなどを用いて転像することにより、転写用凹版54を作製し(図12(e)参照)、図13に示すような形状の元型を得、この元型を用いることにより、転写性は以下の理由によりさらに向上する。 Then, obtained by rolling image of the original type of the obtained partition walls by using a silicone rubber, to prepare a transfer intaglio plate 54 (see FIG. 12 (e)), the original shape as shown in FIG. 13 by using this source type, transferability is further improved by the following reasons.

すなわち、転写時の転写面は基板とほぼ同じ面積で基板と接触するため、接触面積は最大となり転写確率は増大する。 That is, since the transfer surface at the time of transfer is in contact with the substrate at approximately the same area as the substrate, the contact area becomes maximum transfer probability increases. また、底面を形成する土台の厚みは、第1層目のDFRの膜厚によって決定できるため、転写材料の底面部の膜厚均一性も向上し、確実に基板に接触できるようになる。 The thickness of the base forming the bottom surface, it is possible to determine the thickness of the first layer of DFR, also improves the film thickness uniformity of the bottom surface portion of the transfer material, it is possible to reliably contact with the substrate.

この方法で、転写時における凸部の抜け性をさらに向上させるには、図14に示すような形状の元型としてもよい。 In this way, the further improve the release properties of the convex portion during the transfer may be based on shape as shown in FIG. 14. また、第1層目のDFR59上に形成される3層のDFR61の形状が、図10あるいは図11で示したような形状の元型としてもよい。 The shape of the DFR61 three layers formed on the first layer DFR59 may be a source-like shape as shown in FIG. 10 or 11.

本発明に係るプラズマ表示装置の構成図である。 It is a configuration diagram of a plasma display device according to the present invention. PDPの内部構造を示す斜視図である。 Is a perspective view showing the internal structure of the PDP. 隔壁の形成用の元型作製方法の第1例を示す説明図である。 It is an explanatory view showing a first example of the former type manufacturing method for forming the partition wall. 隔壁の形成用の元型作製方法の第2例を示す説明図である。 It is an explanatory view showing a second example of the former type manufacturing method for forming the partition wall. 隔壁の形成用の元型作製方法の第3例を示す説明図である。 It is an explanatory view showing a third example of the former type manufacturing method for forming the partition wall. 隔壁の形成用の元型作製方法の第4例を示す説明図である。 It is an explanatory view showing a fourth example of the former type manufacturing method for forming the partition wall. 隔壁の形成用の元型作製方法の第5例を示す説明図である。 It is an explanatory view showing a fifth example of the former type manufacturing method for forming the partition wall. 感光性材料層の積層方法を示す説明図である。 It is an explanatory view showing a method of laminating a photosensitive material layer. 感光性材料によって形成された隔壁パターンの終端部形状の例を示す説明図である。 Is an explanatory diagram showing an example of a terminal end shape of the barrier rib pattern formed by the photosensitive material. 感光性材料によって形成された隔壁パターンの終端部形状の例を示す説明図である。 Is an explanatory diagram showing an example of a terminal end shape of the barrier rib pattern formed by the photosensitive material. 感光性材料によって形成された隔壁パターンの終端部形状の例を示す説明図である。 Is an explanatory diagram showing an example of a terminal end shape of the barrier rib pattern formed by the photosensitive material. 転写性を向上させた元型作製方法を示す説明図である。 Is an explanatory view showing an original-type manufacturing method with improved transferability. 転写性を向上させた元型の例を示す説明図である。 It is an explanatory diagram showing an example of the original type with improved transferability. 転写性を向上させた元型の例を示す説明図である。 It is an explanatory diagram showing an example of the original type with improved transferability.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 AC型のPDP 1 AC type of PDP
11 前面側のガラス基板 17 誘電体層 18 保護膜 21 背面側のガラス基板 22 下地層 24 誘電体層 28R,28G,28B 蛍光体層 29 隔壁 30 放電空間 41 透明導電膜 42 金属膜 51 基板 52 遮光性材料 52a フィルター部 53 感光性材料 53a 第1層目の感光性材料層 53b 第2層目の感光性材料層 53c 第3層目の感光性材料層 53d 感度が強い感光性材料 53e 感度が中間的な感光性材料 53f 感度が弱い感光性材料 54 転写用凹版 55 絶縁性ペースト 56 PDP用の基板 57 隔壁 58 光吸収材 59 第1層目のDFR 11 Front side of the glass substrate 17 dielectric layer 18 protective layer 21 rear side of the glass substrate 22 underlying layer 24 dielectric layer 28R, 28G, 28B phosphor layer 29 barrier rib 30 discharge space 41 transparent conductive film 42 a metal film 51 substrate 52 light-blocking sex material 52a filter unit 53 the photosensitive material 53a first layer of the photosensitive material layer 53b photosensitive material layer 53d sensitivity of the second layer of the photosensitive material layer 53c third layer is strong photosensitive material 53e sensitivity intermediate specific photosensitive material 53f sensitivity is weak photosensitive material 54 substrate 57 partition wall 58 light-absorbing material 59 of the intaglio 55 insulating paste 56 for PDP for transferring the first layer of DFR
60 フォトマスク 61 3層のDFR 60 DFR of photo mask 61 3-layer
80 駆動ユニット 81 コントローラ 82 フレームメモリ 83 データ処理回路 84 サブフィールドメモリ 85 電源回路 87 Xドライバ 88 Yドライバ 89 アドレスドライバ 100 プラズマ表示装置 A アドレス電極 C セル L 行 SC 画面 X,Y サステイン電極 80 drive unit 81 controller 82 frame memory 83 data processing circuit 84 subfields memory 85 power supply circuit 87 X driver 88 Y driver 89 address driver 100 plasma display device A address electrodes C cell L line SC screen X, Y sustain electrode

Claims (6)

  1. 隔壁の元型を製造する製造方法であって、 A method of manufacturing the original type of the partition,
    光透過性の基板の前面側の表面に遮光性の材料を用いて、形成しようとする隔壁のパターンとは逆パターンである遮光パターンを形成し、 Using a light transmitting material of the light-shielding on the front side of the surface of the substrate, thereby forming a light-shielding pattern is opposite pattern to the pattern of the partition walls to be formed,
    その遮光パターンの上に基板全体にわたって、光が照射された部分が硬化し形成しようとする隔壁に対応する凸部として残る第1のネガ型感光性材料層を当該隔壁全体面の土台となる部分の高さに相当する厚みだけ形成し、 Parts throughout the substrate, comprising a first negative photosensitive material layer remaining as protrusions portion irradiated with light corresponding to the partition wall to be cured to form the basis for the partition walls the whole surface on the light-shielding pattern formed by a thickness corresponding to the height,
    前記隔壁全体面の土台となる部分に相当する領域を露光可能なパターンのフォトマスクを用いて、基板の前面側から第1のネガ型感光性材料層を露光し、 By using a photomask of exposable pattern corresponding region in a portion serving as a base of the partition wall the whole surface, exposing the first negative type photosensitive material layer from the front side of the substrate,
    そのまま現像せずに第1のネガ型感光性材料層上に第2のネガ型感光性材料層を、前記隔壁全体面の土台となる部分の上に形成しようとする隔壁の高さに相当する厚みだけ形成し、 As a second negative photosensitive material layer on the first negative type photosensitive material layer without developing, corresponds to the height of the partition walls to be formed on a portion of the foundation of the partition wall the whole surface It was formed by the thickness,
    基板の背面から露光光を照射して、第1のネガ型感光性材料層を通して第2のネガ型感光性材料層の前記遮光パターン以外の部分を露光し、 From the back side of the substrate by radiating an exposure light beam, a portion other than the light shielding pattern of the second negative type photosensitive material layer is exposed through the first negative type photosensitive material layer,
    その後、第1と第2のネガ型感光性材料層を現像して、基板の前面側の表面に形成しようとする隔壁に対応する凸部を形成することからなる隔壁転写凹版用元型の製造方法。 Then, by developing the first and second negative type photosensitive material layer, the production of the partition wall transfer intaglio-original type consisting in forming a convex portion corresponding to the partition walls to be formed on the front surface side of the surface of the substrate Method.
  2. 請求項1記載の製造方法によって製造された元型を用いて隔壁の転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹部に隔壁材料を充填してプラズマディスプレイパネル用の基板に転写することからなるプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。 Consists prepared intaglio for transcription of the partition wall, is transferred to a substrate for a plasma display panel filled with a barrier rib material in the recess of the intaglio plate for transfer using the original type manufactured by the manufacturing method according to claim 1, wherein partition wall forming method of the plasma display panel.
  3. 請求項1記載の製造方法によって製造された元型は、その隔壁に対応する凸部が、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に、隔壁の長軸方向に直交する方向の幅が、隔壁の長軸方向における中央部よりも終端部近傍のほうが広くなるような形状に形成されてなることを特徴とする請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。 Former type produced by the production method according to claim 1, wherein the convex portions corresponding to the partition walls, when the transfer of the barrier rib material using the intaglio plate for transfer, the width in the direction perpendicular to the long axis direction of the partition wall , the partition wall forming method of the plasma display panel according to claim 2, characterized by being formed in a shape such that towards the neighboring terminal end than the central portion is wider in the axial direction of the partition wall.
  4. 請求項1記載の製造方法によって製造された元型は、その隔壁に対応する凸部が、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に、隔壁の高さが、隔壁の長軸方向における中央部よりも終端部近傍のほうが低くなるような形状に形成されてなることを特徴とする請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。 Former type produced by the production method according to claim 1, wherein the convex portions corresponding to the partition walls, when the transfer of the barrier rib material using the intaglio plate for transfer, the height of the partition wall, in the major axis direction of the partition wall partition walls forming method as claimed in claim 2, wherein the better the vicinity of the end portion than the central portion, characterized in that formed by shaped to be lower.
  5. 請求項1記載の製造方法によって製造された元型は、その隔壁に対応する凸部が、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に、隔壁の高さが、隔壁の長軸方向における中央部よりも終端部近傍のほうが低く、かつ隔壁の長軸方向に直交する方向の幅が、隔壁の長軸方向における中央部よりも終端部近傍のほうが広くなるような形状に形成されてなることを特徴とする請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。 Former type produced by the production method according to claim 1, wherein the convex portions corresponding to the partition walls, when the transfer of the barrier rib material using the intaglio plate for transfer, the height of the partition wall, in the major axis direction of the partition wall lower in the vicinity of the end portion than the central portion, and the width in the direction perpendicular to the long axis direction of the partition walls, formed by shaped to better near the end portion than the central portion is wider in the major axis direction of the partition wall partition walls forming method as claimed in claim 2, wherein a.
  6. 請求項1記載の製造方法によって製造された元型は、その隔壁に対応する凸部が、転写用凹版を用いて隔壁材料を転写した際に、隔壁の高さが、隔壁の長軸方向における中央部よりも終端部近傍のほうが低く、かつ隣接する隔壁の長軸方向における終端部同士がつながって隔壁の長軸方向と直交する方向に一体的に形成されるような形状に形成されてなることを特徴とする請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。 Former type produced by the production method according to claim 1, wherein the convex portions corresponding to the partition walls, when the transfer of the barrier rib material using the intaglio plate for transfer, the height of the partition wall, in the major axis direction of the partition wall formed by shaped to be integrally formed in the direction perpendicular to the axial direction of the partition wall towards the near end portion than the central portion low and by terminating portions in the major axis direction of the adjacent partition walls is connected partition walls forming method as claimed in claim 2, wherein a.
JP2004279807A 2004-09-27 2004-09-27 Partition wall forming process of preparation and pdp of the partition transfer intaglio-original type Expired - Fee Related JP4097037B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004279807A JP4097037B2 (en) 2004-09-27 2004-09-27 Partition wall forming process of preparation and pdp of the partition transfer intaglio-original type

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004279807A JP4097037B2 (en) 2004-09-27 2004-09-27 Partition wall forming process of preparation and pdp of the partition transfer intaglio-original type

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10177305 Division

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005166636A true JP2005166636A (en) 2005-06-23
JP4097037B2 true JP4097037B2 (en) 2008-06-04

Family

ID=34737366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004279807A Expired - Fee Related JP4097037B2 (en) 2004-09-27 2004-09-27 Partition wall forming process of preparation and pdp of the partition transfer intaglio-original type

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4097037B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100735702B1 (en) * 2005-09-06 2007-07-06 엘지전자 주식회사 Master mold for offset process and the method using the same
US20080157667A1 (en) * 2006-12-29 2008-07-03 Samsung Sdi Co., Ltd. Method of manufacturing soft mold to shape barrier rib, method of manufacturing barrier rib and lower panel, and plasma display panel
JP5126122B2 (en) * 2009-03-06 2013-01-23 コニカミノルタエムジー株式会社 The method for production of a resist pattern

Also Published As

Publication number Publication date Type
JP2005166636A (en) 2005-06-23 application

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20040000873A1 (en) Plasma display panel including barrier ribs and method for manufacturing barrier ribs
US20010017520A1 (en) Plasma display panel and method of manufacturing the same
US20010008825A1 (en) Method of manufacturing panel assembly used to assemble display panel and transfer material sheet
US6713959B1 (en) Plasma display panel and method for producing the same
US20020042025A1 (en) Method of preparing barrier rib master pattern for barrier rib transfer and method of forming barrier ribs
US6891331B2 (en) Plasma display unit and production method thereof
EP1596410A1 (en) Plasma display panel and manufacture method thereof
JPH11191377A (en) Barrier of plasma display panel and its manufacture
JP2003051258A (en) Plasma display panel and manufacturing method therefor
US20010052753A1 (en) Method of manufacturing plasma-display-panel-substrate, plasma-display-panel-substrate, and plasma display panel
US6113449A (en) Method of fabricating a front plate for a plasma display panel
US6853137B2 (en) Plasma display panel, back plate of plasma display panel, and method for forming phosphor screen for plasma display panel
CN1154528A (en) Surface discharge plasma display panel and manufacturing method therefor
JP2004164885A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
JPH07161298A (en) Manufacture of plasma display panel and plasma display panel
US6560997B2 (en) Method of making glass structures for flat panel displays
JP2000011865A (en) Original form for barrier rib transfer engraving press and plasma display panel barrier rib formation method using the same
JPH08212918A (en) Manufacture of plasma display panel
US20060038955A1 (en) Sheet for manufacturing plasma display apparatus and method for manufacturing plasma display
US20060175949A1 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
JP2001236892A (en) Electrode, its manufacturing method, plasma display and its manufacturing method
KR20050099716A (en) Plasma display panel and the fabrication method the such
US20070285012A1 (en) Plasma display apparatus
JP2001256894A (en) Plasma display panel and its production
JP2010225362A (en) Barrier rib forming material for organic el, photosensitive resin composition for barrier rib forming material for organic el, and color filter for organic el

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Effective date: 20050720

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050720

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050915

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051206

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20051207

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070710

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070903

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20071016

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080226

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20080304

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110321

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees