JP4066440B2 - ダイヤモンド様薄膜を備えた医療器具及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の実施例に係る医療器具はステントであり、ステント本体は以下のように形成した。まず、Co−Cr合金素材を冷間加工と熱処理によりチューブ状に成型加工した。成形加工したチューブは、遺伝的アルゴリズムに基づく独自の形状設計ソフトを応用して、ステントのラジアルフォース、柔軟性、ショートニング及び応力ひずみ等の物性及び形状の最適化を図った後に、レーザ微細加工によりメッシュ状に加工する。レーザーでメッシュ状に加工したステントは加工面のバリ取りをするために、電解研磨を行う。本実施例においてステント本体は、長さが19mm、径が1.5mm、セルの厚みが75μmのCo−Cr合金製のステントを製作した。
以下に、本発明の第2の実施例について説明する。第2の実施例に係る医療器具は、経皮的冠動脈形成術(PTCA)用カテーテルのガイドワイヤである。
以下に、本発明の第3の実施例について説明する。第3の実施例に係る医療器具は真空採血管である。
22 ターゲット
Claims (20)
- 医療器具本体と、
前記医療器具本体を覆い且つ硅素を含むダイヤモンド様薄膜とを備え、
前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面における硅素の濃度が前記医療器具本体との界面と比べて低いととともに前記表面においても前記硅素が存在しており、且つ硅素の濃度が連続的に変化し、
前記医療器具本体は、ステント、カテーテルおよびガイドワイヤのいずれか1つであることを特徴とする医療器具。 - 前記ダイヤモンド様薄膜は、硅素濃度が最も高い部分における硅素の原子百分率濃度が50%以下であることを特徴とする請求項1に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、前記医療器具本体との界面において硅素の濃度が最も高いことを特徴とする請求項2に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面における硅素の濃度が、前記硅素濃度が最も高い部分における硅素の濃度の90%以下であることを特徴とする請求項2又は3に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面における弾性係数が、前記医療器具本体との界面における弾性係数よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面における弾性係数が50GPa以上且つ400GPa以下であることを特徴とする請求項5に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、グラファイト結合及びダイヤモンド結合を有し且つ前記ダイヤモンド様薄膜の表面におけるグラファイト結合のダイヤモンド結合に対する存在比が、前記医療器具本体との界面におけるグラファイト結合のダイヤモンド結合に対する存在比よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、フッ素を含み、前記ダイヤモンド様薄膜の表面におけるフッ素の濃度が、前記医療器具本体との界面と比べて高く且つフッ素の濃度が連続的に変化していることを特徴とする請求項1に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面におけるフッ素の原子百分率濃度が1%以上且つ20%以下であることを特徴とする請求項8に記載の医療器具。
- 前記ダイヤモンド様薄膜は、膜厚が5nm以上且つ300nm以下であることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の医療器具。
- 前記医療器具本体は、その表面における算術平均表面粗度が0.1nm以上且つ300nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の医療器具。
- 前記医療器具本体は、金属材料、セラミックス材料及び高分子材料のうちの1つ又は2つ以上からなる複合体であることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載の医療器具。
- 前記金属材料は、ステンレス、コバルトクロム系合金、チタン系合金又はコバルト系合金であることを特徴とする請求項12に記載の医療器具。
- 医療器具本体を準備する工程(a)と、
前記医療器具本体の表面に硅素を含むダイヤモンド様薄膜を形成する工程(b)とを備え、
前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜を、その表面における硅素の濃度が前記医療器具本体との界面と比べて低いとともに前記表面においても前記硅素が存在するように、且つ硅素の濃度が連続的に変化するように形成し、
前記工程(a)において、ステント、カテーテルおよびガイドワイヤのいずれか1つを医療器具本体として準備することを特徴とする医療器具の製造方法。 - 前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜は、硅素濃度が最も高い部分における硅素の原子百分率濃度が50%以下となるように形成することを特徴とする請求項14に記載の医療器具の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜は、前記医療器具本体との界面において硅素の濃度が最も高くなるように形成することを特徴とする請求項15に記載の医療器具の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面における硅素の濃度が、前記硅素濃度が最も高い部分における硅素の濃度の90%以下となるように形成することを特徴とする請求項15又は16に記載の医療器具の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜は、その表面における弾性係数が、前記医療器具本体との界面における弾性係数よりも大きくなるように形成することを特徴とする請求項14に記載の医療器具の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜は、グラファイト結合及びダイヤモンド結合を有し且つ前記ダイヤモンド様薄膜の表面におけるグラファイト結合のダイヤモンド結合に対する存在比が、前記医療器具本体との界面におけるグラファイト結合のダイヤモンド結合に対する存在比よりも小さくなるように形成することを特徴とする請求項14に記載の医療器具の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記ダイヤモンド様薄膜はフッ素を含み、前記ダイヤモンド様薄膜の表面におけるフッ素の濃度が、前記医療器具本体との界面と比べて高く且つフッ素の濃度が連続的に変化するように形成することを特徴とする請求項14に記載の医療器具の製造方法。
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