JP4051443B2 - 光学材料の群屈折率精密計測方法及び装置 - Google Patents

光学材料の群屈折率精密計測方法及び装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学材料開発における屈折率評価装置や分散評価装置に用い、また、光学部品、光学装置の維持管理における屈折率測定装置、分散評価装置に用いられ、光学材料の厚さ情報無しで群屈折率を精密計測することができる光学材料の群屈折率精密計測方法及びその方法を実施する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より光学材料の屈折率を計測する手法は種々のものが提案されており、例えばM.D. Hopler et al., "Interferometric measurement of group and phase refractive index," Appl. Opt. 30, 735(1991)に示されているような、低コヒーレンス干渉計に試料を挿入し、干渉縞が発生する位置のずれから光学的厚さ(試料の厚さ×屈折率)を求め、試料の厚さを別の方法で求めて屈折率を計算する手法(第1の手法)が存在する。
【0003】
また、D.F. Murphy et al., "Dispersion-insensitive measurement of thickness and group refractive index by low-coherence interferometry," Appl. Opt. 39, 4607(2000)に示されているような、低コヒーレンス干渉計に試料を挿入し、試料後方に基準平面を導入し、厚さと屈折率の同時測定を行い、その際に干渉縞をフーリエ解析して屈折率の波長依存性も求める手法(第2の手法)も提案されている。
【0004】
更に、板谷他、"低コヒーレンス光干渉による屈折率と厚さの2次元プロファイル同時測定、基準面を用いた測定法と測定例、"第29回光波センシング技術研究会論文集, 119、(2002.6)に示されているように、低コヒーレンス干渉計に試料を挿入し、試料後方に基準平面を導入し、厚さと屈折率の同時測定を行う手法(第3の手法)も提案されている。
【0005】
【非特許文献1】
M.D. Hopler et al., "Interferometric measurement of group and phase refractive index," Appl. Opt. 30, 735(1991)
【非特許文献2】
D.F. Murphy et al., "Dispersion-insensitive measurement of thickness and group refractive index by low-coherence interferometry," Appl. Opt. 39, 4607(2000)
【非特許文献3】
板谷他、"低コヒーレンス光干渉による屈折率と厚さの2次元プロファイル同時測定、基準面を用いた測定法と測定例、"第29回光波センシング技術研究会論文集, 119、(2002.6)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
光学材料の屈折率は位相屈折率と群屈折率があり、二つを結びつける関係式がある。広く用いられている屈折率測定法は、位相屈折率を測定するもので、被測定試料をプリズム形状に加工して屈折角を測定する。これは試料を加工する必要があるため、非破壊性が求められる場合にはこの手法を用いることはできない。
【0007】
また、最近はブロードバンド光通信や超短パルスレーザーの応用、光医療計測など、群屈折率が求められる場合も多い。非破壊で精密に群屈折率を測定するために低コヒーレンス干渉計を利用する方法がある。ここで測定されるのは光学的厚さ(試料の厚さ×群屈折率)であり、前記第1の手法のように試料の厚さを既知として群屈折率を求める方法が多い。しかし、試料の厚さを精密に計測し、正しく光学系に配置することは困難である。また、試料が厚くなると、波長毎に群屈折率が異なるため、光学的厚さが波長によって異なる。そのため、干渉縞が拡がり、また非対称になる等により、発生位置を精密に決定することができない。
【0008】
また、前記第2の手法及び第3の手法は、試料の厚さと光学的厚さを同時に測定するため、群屈折率を求めることができる。しかし、第3の手法は試料が厚くなると干渉縞が歪み、発生位置の決定が不正確になる点は前記第1の手法と同じである。また、前記第2の手法は干渉縞をフーリエ解析することにより波長毎の発生位置を求めるため、干渉縞の歪みの影響は無視できるが、原理的に測定中に試料の出し入れが必要となるため、試料の位置や傾きの調整等の高い再現性が要求されるという問題を生じる。
【0009】
したがって本発明は、厚い試料でも精密に群屈折率を測定することができ、測定中に試料の出し入れを行わずに、且つ試料の厚さ情報を知ること無しに群屈折率を測定することができる光学材料の群屈折率精密計測方法、及びその方法を実施するための装置を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光学材料の群屈折率精密計測方法は上記課題を解決するため、低コヒーレンス光源を用い、ビームスプリッタで分離した入射光を鏡で反射させて同一光軸で出射する二つの干渉計を直列に接続し、片方の干渉計の分離した光路の一つに群屈折率を測定したい被測定試料を配置し、該分離光路の他方に該試料と同一材質の第1の補償板を配置し、他方の干渉計の分離光路の一つに第2の補償板を配置し、前記各光路を切り換えつつ干渉計の鏡を光軸方向に走査し、低コヒーレンス干渉縞の発生する位置を測定して、平行光を用いて群屈折率を計算するようにしたものである。
【0011】
また、より具体的には、入射光をビームスプリッタで2つの光路に分離し、各光路に配置した鏡からの反射光の光軸を一致させて出射する第1干渉計と、同様の構成をなす第2干渉計とを直列に接続し、低コヒーレンス光を第1干渉計に入射し、第2干渉計から出射する光を光検出器で受光する干渉計を用い、前記第1干渉計と第2干渉計の光路差をゼロにし、第1干渉計におけるビームスプリッタで分離した2つの光路に試料と該試料と同一材質の補償板を別個に配置すると共に、前記2つの光路の光路差がゼロになるように、前記補償板を配置した光路の鏡を移動して移動量dを計測し、前記第1干渉計の被測定試料を配置した光路を閉じ、該干渉計の補償板を配置した光路の鏡を閉じ、第2干渉計におけるビームスプリッタで分離した光路の1つに補償板を配置し、第1干渉計中の補償板の表面で反射し第2干渉計の補償板を配置した光路を通った光と、第1干渉計中の補償板の裏面で反射し第2干渉計の補償板を配置しない光路を通った光との光路差がゼロとなるように第2干渉計の補償板を配置した光路の鏡を移動して移動量dを計測し、第1干渉計の補償板を配置した光路を閉じ、試料を配置した光路の鏡を閉じた状態で、被測定試料の表面で反射し第2干渉計の補償板を配置した光路を通った光と、被測定試料の裏面で反射し第2干渉計の補償板を配置しない光路を通った光との光路差がゼロとなるように第2干渉計の補償板を配置した光路の鏡を移動して移動量dを計測し、群屈折率n=(d−d)/(d−d+d)の式により群屈折率を求めるようにしたものである。
【0014】
また、本発明に係る他の光学材料の群屈折率精密計測装置は、低コヒーレンス光源を用い、ビームスプリッタで分離した入射光を鏡で反射させて同一光軸で出射する二つの干渉計を直列に接続し、片方の干渉計の分離した光路の一つに群屈折率を測定したい被測定試料を配置し、該分離光路の他方に該試料と同一材質の第1の補償板を配置し、他方の干渉計の分離光路の一つに第2の補償板を配置し、前記各光路に開閉自在なシャッターと、前記干渉計の鏡を光軸方向に移動し移動量を測定する手段を備え、前記シャッターにより光路を切り換えつつ干渉計の鏡を光軸方向に走査し、低コヒーレンス干渉縞の発生する位置を測定して、平行光を用いて群屈折率を計算するようにしたものである。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1〜図4には本発明の第1実施例の原理図を示している。図1に示すように二つの干渉計を直列に接続する。つまり、第1干渉計2の出射光が第2干渉計3の入射光となるようにする。低コヒーレンス光1は干渉計の光路差がゼロ付近のとき光検出器4上で干渉し、干渉信号が観測される。最初に、二つの干渉計の光路差をそれぞれゼロにする。即ち、光路5と6、光路7と8とが同じ長さになるように鏡9と10、 鏡11と12の位置を調整する。
【0017】
次に、図2に示すように被測定試料13と、試料と同じ材質の補償板14を第1干渉計2に挿入し、補償板15は第2干渉計3に挿入する。被測定試料13と二枚の補償板14、15の群屈折率をn、幾何学的厚さをそれぞれ、L、LC1、LC2とする。図2に示すように第1干渉計2の光路51と光路61との光路差がゼロになるように鏡10の位置を調節し、このときの鏡10の移動量をdとすると、
=(n−1)(LC1−L) (1)
である。このとき、余分な光が光検出器4に到達しないよう、補償板15を入れた光路をシャッター16で閉じておく。
【0018】
次に,図3に示すように光路を制御する。即ち、第1干渉計2の、被測定試料13を入れた光路はシャッター17で閉じる。補償板14の表面で反射する光路62と裏面で反射する光路63の間の光路差は2nC1である。このとき、補償板14を透過して鏡10で反射する光は不要なのでこれを除去するため、シャッター18を閉じる。第2干渉計3では、鏡11が最初の位置からd移動したとすると、光路8と光路71との光路差は2{(n−1)LC2−d}である。これら二つの光路差が一致するとき、光路62を通って光路71を通った光と、光路63を通って光路8を通った光の光路差がゼロとなり、光検出器4上で干渉信号を生じる。このとき、
=(n−1)LC2−nC1 (2)
である。
【0019】
最後に図4のように第1干渉計の光路を切り換える。即ち、補償板14の入った光路をシャッター20で閉じる。そして被測定試料13の表面で反射する光路52を通って第2干渉計の光路71を通った光と、被測定試料13の裏面で反射する光路53を通って第2干渉計の光路8を通った光の光路差がゼロとなり、干渉縞が生じるように鏡11の位置を調節する。干渉縞が生じるときの鏡11の移動量をdとすると、
=(n−1)LC2−n (3)
である。このとき、被測定試料13を透過し、鏡9で反射する光を除去するためシャッター19を閉じる。
式(2)から式(3)を引くと、
−d=n(L−LC1) (4)
となり、式(4)に式(1)を足すと、
−d+d=L−LC1 (5)
となる。式(4)を式(5)で割ると、
(d−d)/(d−d+d)=n (6)
となり、群屈折率nが求められる。
なお、上記のように群屈折率nはd、d、dを求めることにより得られるので、これらの計測順は任意に行うことができる。
【0020】
ここで、式(6)のnの計算に必要なのは、鏡の移動量d、d、dだけであり、試料等の幾何学的厚さの値は不要である。また、式(1)〜(3)では、群屈折率nの係数が、幾何学的厚さの差であるので、これを小さくすれば、試料の厚さそのものは厚くても干渉縞は歪まない。幾何学的厚さの差の値も計算には不要である。
【0021】
さらに、第1干渉計中の試料13と補償板14の群屈折率が同じであれば、第2干渉計中の補償板15の群屈折率は少々違っていても計算値に影響はないという利点もある。以下でこれを証明する。
【0022】
第1干渉計中の被測定試料13と補償板14の群屈折率をng1、第2干渉計中の補償板15の群屈折率をng2とすると、式(1)〜(3)は、
=(ng1−1)(LC1−L) (7)
=(ng2−1)LC2−ng1C1 (8)
=(ng2−1)LC2−ng1 (9)
となり、式(8)から式(9)を引くと、
−d=ng1(L−LC1) (10)
となり、式(10)に式(7)を足すと、
−d+d=L−LC1 (11)
となる。式(10)を式(11)で割ると、
(d−d)/(d−d+d)=ng1 (12)
となり、被測定試料の群屈折率ng1が求められる。群屈折率の値は、履歴や温度によってわずかに異なる可能性もあるが、本手法では、第1干渉計中の被測定試料と補償板の群屈折率が同じであれば良い。
【0023】
次に、図5および図6は本発明の第2実施例の原理図である。被測定試料104も補償板105も配置されていないとき、三角光路干渉計を一周する光路長をDとする。また、ビームスプリッター103から右回り、左回りの光路が等しくなる場所を干渉計の原点とする。図5のように三角光路干渉計中に被測定試料104と補償板105を配置する。光路を詳しく示したものが図6である。被測定試料104の幾何学的厚さをL、補償板105の幾何学的厚さをL、被測定試料と補償板の群屈折率をnとする。また、被測定試料と補償板は平行に配置されているとし、それらの間の距離をΔとする。被測定試料の中心位置が三角光路干渉計の原点から光軸に沿ってdだけ移動したときの、光路106から111の光路長は、
光路106:D−L+2d (13)
光路107:D−L+2n+2d (14)
光路108:D+L+2Δ+2d (15)
光路109:D−L−2d (16)
光路110:D−L−2Δ−2L+2n−2d (17)
光路111:D−L−2Δ−2L−2d (18)
となる。光路106を通った光と光路111を通った光が干渉するときの、被測定試料の中心位置をdとすると、式(13)と式(18)が等しくなるときなので、
=(−Δ−L)/2 (19)
となる。光路107を通った光と光路110を通った光が干渉するときの、被測定試料の中心位置をdとすると、式(14)と式(17)が等しくなるときなので、
={−Δ−L−n(L−L)}/2 (20)
となる。光路108を通った光と光路109を通った光が干渉するときの、被測定試料の中心位置をdとすると、式(15)と式(16)が等しくなるときなので、
=(−Δ−L)/2 (21)
となる。式(19)から式(20)を引くと、
−d=n(L−L)/2 (22)
となる。式(19)から式(21)を引くと、
−d=(L−L)/2 (23)
となる。式(22)を式(23)で割ると、
(d−d)/(d−d)=n (24)
となり、群屈折率nが求められる。
【0024】
ここで、式(24)のnの計算に必要なのは、被測定試料と補償板の移動量d、d、dだけであり、試料等の幾何学的厚さの値は不要である。また、式(22)の群屈折率nの係数は、厚さの差なのでこれを小さくすれば、試料の厚さそのものは厚くても干渉縞は歪まない。幾何学的厚さの差の値も計算には不要である。
【0025】
上記のような本発明による群屈折率計測手法について、前記のように数式によって解析的に証明することができるものであるが、計算機シミュレーションによっても原理確認を行った。光源は中心波長680nm、スペクトル幅10nmとした。材料はBK7とし、メーカーのカタログ記載の位相屈折率の波長依存性の近似式を用いた。位相屈折率の値から群屈折率の定義式を用いて群屈折率を計算した。
【0026】
上記手法で、試料厚さが1mm、補償板厚さが0.9mm、0.8mmから、試料厚さが11mm、補償板厚さが6、1mmの組み合わせまで数通りの組み合わせを計算したが、いずれも元の屈折率の近似式の精度の範囲内で理論値と一致し、本発明による手法が正しいものであることがわかった。
なお、前記の各記載において特に明記していないが、各数式、図面及び明細書記載内容から、全て平行光を用いることを前提としていることは当然である。
【0027】
【発明の効果】
従来の群屈折率測定手法においては試料の厚さを事前に知る必要があるが、本発明の手法では必要とせず、容易に、且つ正確に群屈折率を測定することができる。また、従来より提案されている、厚さと屈折率を同時に測定する技術は、厚さを事前に知る必要はないものの、試料が厚くなると干渉縞が歪むため測定が不正確になるのに対して、本発明においてはこのようなことが無くなる。
【0028】
更に、厚さの限界は光源のスペクトル幅に依存するが、従来の技術では10mm厚の試料が精密に測定できる方法がほとんど存在しない。本発明による手法は補償板を用いることによって、それらの厚さの差が影響するのみであるため、試料の厚さそのものはどれだけ厚くても良い。且つ、厚さの差の値も知る必要もない。また、フーリエ解析によって波長毎に群屈折率を求める従来技術においては、試料の出し入れが必要で位置や傾きの再現性が必要であるが、本発明の手法によれば一度全体の機器を設定すると、後はシャッターによる光路の開閉のみで計測できるので、試料の出し入れは必要なく、再現性向上や短時間測定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第1実施例の干渉計において、第1の状態を示す光路図である。
【図2】同実施例の干渉計において、第2の状態を示す光路図である。
【図3】同実施例の干渉計において、第3の状態を示す光路図である。
【図4】同実施例の干渉計において、第4の状態を示す光路図である。
【図5】本発明による第2実施例の干渉計の光路図である。
【図6】同実施例の干渉計において、被測定試料と補償板部分の詳細な光路図である。
【符号の説明】
1 低コヒーレンス光
2 第1干渉計
3 第2干渉計
4 光検出器
5 光路
6 光路
7 光路
8 光路
9 鏡
10 鏡
11 鏡
12 鏡
13 被測定試料
14 補償板
15 補償板
16 シャッター
17 シャッター
18 シャッター
19 シャッター
20 シャッター
51 光路
52 光路
53 光路
61 光路
62 光路
63 光路
71 光路
101 低コヒーレンス光
102 光検出器
103 ビームスプリッター
104 被測定試料
105 補償板
106 光路
107 光路
108 光路
109 光路
110 光路
111 光路

Claims (3)

  1. 低コヒーレンス光源を用い、ビームスプリッタで分離した入射光を鏡で反射させて同一光軸で出射する二つの干渉計を直列に接続し、
    片方の干渉計の分離した光路の一つに群屈折率を測定したい被測定試料を配置し、該分離光路の他方に該試料と同一材質の第1の補償板を配置し、
    他方の干渉計の分離光路の一つに第2の補償板を配置し、
    前記各光路を切り換えつつ干渉計の鏡を光軸方向に走査し、低コヒーレンス干渉縞の発生する位置を測定して、平行光を用いて群屈折率を計算することを特徴とする光学材料の群屈折率精密計測方法。
  2. 入射光をビームスプリッタで2つの光路に分離し、各光路に配置した鏡からの反射光の光軸を一致させて出射する第1干渉計と、同様の構成をなす第2干渉計とを直列に接続し、低コヒーレンス光を第1干渉計に入射し、第2干渉計から出射する光を光検出器で受光する干渉計を用い、
    前記第1干渉計と第2干渉計の光路差をゼロにし、
    第1干渉計におけるビームスプリッタで分離した2つの光路に試料と該試料と同一材質の補償板を別個に配置すると共に、前記2つの光路の光路差がゼロになるように、前記補償板を配置した光路の鏡を移動して移動量d1を計測し、
    前記第1干渉計の被測定試料を配置した光路を閉じ、該干渉計の補償板を配置した光路の鏡を閉じ、第2干渉計におけるビームスプリッタで分離した光路の1つに補償板を配置し、第1干渉計中の補償板の表面で反射し第2干渉計の補償板を配置した光路を通った光と、第1干渉計中の補償板の裏面で反射し第2干渉計の補償板を配置しない光路を通った光との光路差がゼロとなるように第2干渉計の補償板を配置した光路の鏡を移動して移動量d2を計測し、
    第1干渉計の補償板を配置した光路を閉じ、試料を配置した光路の鏡を閉じた状態で、被測定試料の表面で反射し第2干渉計の補償板を配置した光路の鏡を、被測定試料の表面で反射し第2干渉計の補償板を配置した光路を通った光と、被測定試料の裏面で反射し第2干渉計の補償板を配置しない光路を通った光との光路差がゼロとなるように第2干渉計の補償板を配置した鏡を移動して移動量d3を計測し、
    群屈折率ng=(d2−d3)/(d2−d3+d1)
    の式により群屈折率を求めることを特徴とする光学材料の群屈折率精密計測方法。
  3. 低コヒーレンス光源を用い、ビームスプリッタで分離した入射光を鏡で反射させて同一光軸で出射する二つの干渉計を直列に接続し、
    片方の干渉計の分離した光路の一つに群屈折率を測定したい被測定試料を配置し、該分離光路の他方に該試料と同一材質の第1の補償板を配置し、
    他方の干渉計の分離光路の一つに第2の補償板を配置し、
    前記各光路に開閉自在なシャッターと、前記干渉計の鏡を光軸方向に移動し移動量を測定する手段を備え、
    前記シャッターにより光路を切り換えつつ干渉計の鏡を光軸方向に走査し、低コヒーレンス干渉縞の発生する位置を測定して、平行光を用いて群屈折率を計算することを特徴とする光学材料の群屈折率精密計測装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103983610A (zh) * 2014-05-12 2014-08-13 复旦大学 基于光谱干涉的微量液体折射率测量装置和测量方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4947301B2 (ja) * 2007-06-14 2012-06-06 独立行政法人産業技術総合研究所 寸法測定装置及び寸法測定方法
JP2009115486A (ja) * 2007-11-02 2009-05-28 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 低コヒーレンス干渉の合致法による長さ測定方法
CN105445225B (zh) * 2015-12-21 2018-01-23 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种气体群折射率的测量装置及测量方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5374477A (en) * 1976-12-15 1978-07-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Measurement method of complex group refractive indices
JPS5887447A (ja) * 1981-11-20 1983-05-25 Agency Of Ind Science & Technol 群屈折率の高精度測定法
JPS58169004A (ja) * 1982-03-31 1983-10-05 Agency Of Ind Science & Technol 大気中での高精度干渉測長法
JPH0660814B2 (ja) * 1989-03-01 1994-08-10 工業技術院長 固体表面の高精度レーザ計測方法及び装置
JPH06229922A (ja) * 1993-02-02 1994-08-19 Agency Of Ind Science & Technol 高精度空気屈折率計
JP2705752B2 (ja) * 1994-03-31 1998-01-28 工業技術院長 屈折率の測定方法および性状特性の測定方法
CA2169506A1 (en) * 1995-03-22 1996-09-23 Michael Alan Marcus Associated dual interferometric measurement apparatus and method
US5646734A (en) * 1995-08-28 1997-07-08 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for independently measuring the thickness and index of refraction of films using low coherence reflectometry
JPH09113240A (ja) * 1995-10-16 1997-05-02 Agency Of Ind Science & Technol 光透過物質の三次元情報の検出方法及び装置
JP3602925B2 (ja) * 1995-12-08 2004-12-15 独立行政法人科学技術振興機構 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定装置
JP3459327B2 (ja) * 1996-06-17 2003-10-20 理化学研究所 積層構造体の層厚および屈折率の測定方法およびその測定装置
JP3457548B2 (ja) * 1998-09-25 2003-10-20 日本電信電話株式会社 偏波無依存リフレクトメトリー及び偏波無依存リフレクトメータ
JP3642996B2 (ja) * 1999-11-18 2005-04-27 独立行政法人科学技術振興機構 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置
JP3520327B2 (ja) * 2000-10-03 2004-04-19 独立行政法人産業技術総合研究所 長さ情報伝送方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103983610A (zh) * 2014-05-12 2014-08-13 复旦大学 基于光谱干涉的微量液体折射率测量装置和测量方法
CN103983610B (zh) * 2014-05-12 2016-09-28 复旦大学 基于光谱干涉的微量液体折射率测量装置和测量方法

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