JP4006163B2 - Touch panel - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明な導電膜を有する抵抗膜式のタッチパネルとその製造方法に関し、特にタッチパネル基板における導電膜のパターン形成の技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
抵抗膜式のタッチパネルは、例えば、極薄ガラス(下側面状部材)と可撓性の透明樹脂フィルム(上側面状部材)の両基材の各対向面に透明な導電膜のパターンを形成すると共に、双方の面状部材をスペーサを介して一定の間隔で対向配置して構成される。
【0003】
こうした基材に形成される透明導電膜のパターン形成(以下、「パターニング」という。)の従来の方法を図11(a)(b)を参照しながら説明する。
まず、基材500の表面に導電膜501を形成する。この導電膜としてスパッタ法によりITO(indium tin oxide:インジウム−すず酸化物)が形成されるのが一般的である。
【0004】
その後、フォトレジスト法やスクリーン印刷法により、パターンとして残しておきたいところにマスク502を形成し、酸性のエッチング液を使用してマスク502以外の個所(図11(a)の斜線以外の部分)の導電膜を除去する。そして、アルカリ性の剥離液によりマスクを溶解して除去し、銀ペーストなどの導電性インクをスクリーン印刷して一対の電極503とリード部504,505を形成している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のパターニングの方法には、以下のような問題があった。
すなわち、マスクを除去する際における剥離液の影響により導電膜の表面が浸食されたり汚れが付着し、あるいは傷が発生して透明性が劣化するという問題がある。
【0006】
また、エッチング液の管理や取り扱い、更には、エッチング廃液の処理という作業上、環境上の問題がある。加えてITO膜は、スパッタ法により形成されることが多いが、スパッタリング用の電源が交流か直流かの違い、あるいは、スパッタ電力やガス圧、ガスの種類、フィルム温度、ターゲットの状態などにより導電膜の性質が変わりやすく、エッチング条件の設定が難しいという問題もある。さらに、耐摩擦傷性を上げるために導電膜の結晶性を上げたものについては、エッチングが十分行われず、パターン不良が発生するという問題も生じる。
【0007】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、エッチング処理による様々な弊害を除去し、導電膜の透明性の低下や耐久性の劣化がもたらされることなくパターニングされたタッチパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係るタッチパネルは、第1と第2の面状部材が一定間隔をおいて対設されると共に、両部材の対向面に透明の導電膜のパターンが形成されてなるタッチパネルにおいて、第1および第2の面状部材の少なくとも一方における前記導電膜のパターンは、当該面状部材の一表面のほぼ全面に形成された導電膜が、線状の剥離部によって、押圧位置検出用の面状パターン部と当該面状パターン部に外部から通電するための配線パターン部とに区画されると共に、その少なくとも一部の周縁部に沿って線状の剥離部が形成され、前記面状パターン部および配線パターン部が当該周縁部から電気的に絶縁されてなることを特徴とする。
【0009】
また、本発明に係るタッチパネルは、前記配線パターン部の表面に、当該パターンに沿って導電性インクの層が形成されていることを特徴とする。
さらに、本発明に係るタッチパネルは、前記第1の面状部材が、ガラス板であって、その一表面に形成された導電膜は、スズ酸化膜もしくはスズを含む金属膜であることを特徴とする。
【0010】
また、さらに、本発明に係るタッチパネルは、前記導電膜が、複数の薄膜を積層して構成され、そのうち第1の金属層と絶縁層と第2の金属層をこの順に形成してなる積層体を含むことを特徴としている。
【0011】
さらに、また、本発明に係るタッチパネルは、前記導電膜における線状の剥離部は、レーザを照射して該当する部分の導電膜を物理的に除去することにより形成されていることを特徴とする。
また、本発明は、第1の面状部材と第2の面状部材の対向面のそれぞれに透明の導電膜のパターンを形成する第1の工程と、導電膜の形成された第1と第2の面状部材に電極を形成する第2の工程と、これらの第1と第2の面状部材をスペーサ部材を介して貼り合わせる第3の工程を含むタッチパネルの製造方法において、前記第1の工程は、第1および第2の面状部材の少なくとも一方の対向面にほぼ一面に導電膜を形成する導電膜形成工程と、前記導電膜の一部を、レーザを照射して線状に剥離し、押圧位置検出用の面状パターン部と当該面状パターン部に外部から通電するための配線パターン部に区画すると共に、前記導電膜をその少なくとも一部の周縁部に沿って線状に剥離し、前記面状パターン部および配線パターン部が当該周縁部から電気的に絶縁されるように加工するパターン作成工程とを含むことを特徴とする。
【0012】
ここで、前記パターン作成工程において、前記導電膜の剥離にはYAGレーザが使用されることが望ましい。
【0013】
【実施の形態】
以下、本発明のタッチパネルに係る実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
(タッチパネルの全体構成)
図1は、本実施の形態に係るタッチパネルの斜視図である。
【0014】
同図に示すようにタッチパネル100は、上側面状部材110と下側面状部材130をスペーサ140を介して積層することにより構成される。
上側面状部材110は、タッチパネル100において操作者からの指や入力ペンを用いた入力を受け付ける側の透明かつ可撓性を有する面状部材であり、主にポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂フィルムにより構成され、厚さは20μm〜500μm程度に設定される。
【0015】
また、下側面状部材130は、厚さ1mm前後のガラス板で形成される。上側面状部材110と下側面状部材130の各対向面には、ITO(indium tin oxide:インジウム−すず酸化物)で形成される導電膜のパターンが後述する方法により形成されると共に、コネクタ部120を介して、外部のコントローラより当該導電膜に押圧位置検出用の電流が供給される。
【0016】
図2は、図1のタッチパネル100の分解図である。
同図に示すようにスペーサ140は、コネクタ部120を装着する部分と、これと反対側のコーナの切除部141を除いて連続したフレーム状に形成されており、その素材として、通常、PETフィルムなどが使用される。このスペーサ140の両面に接着剤が塗布され、上側面状部材110と下側面状部材130がその周縁部において貼着される。なお、切除部141では、スペーサ部材が介在しないため、上側面状部材110と下側面状部材130間に隙間ができることになるが、これは内部の空気抜き穴として作用するものである。
【0017】
スペーサ140より内側の上側面状部材110と下側面状部材130の隙間には、ドット状スペーサ160が、所定の間隔をおいて設けられており、上記フレーム状のスペーサ140と協働して、上下面状部材110、130の対向面の間隔がほぼ均一に100μm程度に保たれるようになっている。
下側面状部材130の上側面状部材110に対向する側の主表面には、導電膜131のパターンが形成される(図3参照。図2では、簡略化のためパターンの図示を省略している。)。この、導電膜131の対向する2側辺には、一対の電極132、132が形成されると共に、前記主表面の残余の領域には、コネクタ部120側の一対の接続電極123、123と接続する一対の電極端部134、134が形成され、この電極端部134、134と前記導電膜131の2側辺に設けられた電極132、132とを接続する配線パターン133,135が形成される。また、上側面状部材110の下側面状部材130に対向する側の主表面にも、下側面状部材130と同じく導電膜111のパターンやコネクタ部120の接続電極122に接続される電極端部114などが形成されている。上記上側面状部材110と下側面状部材130の導電膜のパターンについては後に詳述する。
【0018】
コネクタ部120は、PETフィルムやポリイミドなどの素材に、銀を素材とする4本のフレキシブルワイヤ129を挟み込んで成る接続用ケーブル190の一方の端部であり、前記上下面状部材110,130の電極端部114、114、134、134と接続される接続電極122、122、123、123を上下表面に露出形成し、前記フレキシブルワイヤ129の終端をこの接続電極122、122、123、123と接続した構成となっている。
【0019】
4本のフレキシブルワイヤと4つの接続電極とを分割せずに1つのコネクタ部に集約するのは、材料費と工数との両面からコストを抑制するためである。
タッチパネルを組み立てた状態においては、上側接続電極122、122は上側電極端部114、114と、下側接続電極123、123は下側電極端部134、134と、それぞれ接着されている。この部分の接着は、各取り出し部の共通の素材である銀にカーボンを混練りした導電性ペーストを付着させた上で、両側から熱圧着することにより行われる。
【0020】
なお、コネクタ部120の上下接続電極122,123の間には、切れ込み121が設けられ、これにより上下面状部材110,130の膨張率の差から生じる応力を解消するようにしている。すなわち、温度上昇により面状部材の膨張が起こると、この上下二つの面状部材に膨張が生じるが、この切れ込み121を設けることにより、上側面状部材110と下側面状部材130との熱膨張量の差に基づいてコネクタ部120に作用する応力を吸収することが可能となり、広い温度範囲で使用してもこの部分で接触不良や断線を起こしにくいという効果が得られる。
【0021】
(導電膜のパターニング方法)
図3(a)(b)は、上記タッチパネル100の下側面状部材130に導電膜131のパターンを形成し、その上に電極などを形成する過程を示す図である。
まず、下側面状部材130となるガラスシートの表面にスパッタ法により一様にITOからなる導電膜131を形成する。その後、導電膜131にレーザを照射して、導電膜の一部を線状に剥離し、絶縁部1311〜1314を形成する(図3(a))。
【0022】
次にパターン印刷法により導電性インク(銀ペースト)を図3(b)のように印刷して、一対の電極132、132と、各電極132からの配線パターン133,135を形成する。
上側面状部材110に導電膜のパターンを形成する場合も同様であり、図4(a)に示すように、まず、上側面状部材110の表面にスパッタ法により一様に導電膜111を形成し、その後、導電膜111にレーザを照射して、導電膜111の一部を線状に剥離し、絶縁部1101〜1103を形成する。次にパターン印刷法により導電性インクを図4(b)のように印刷して、一対の電極112、112と、各電極112からの配線パターン113,115を形成する。
【0023】
図5は、上記線状の絶縁部を形成するためのレーザ加工装置200の一例を示す図である。加工テーブル210の内部は中空であって、その上面には、多数の吸引穴211が設けられおり、不図示の吸引装置により内部の気圧を下げることにより加工フィルムを吸引して保持する。また、加工テーブル210は、不図示の駆動機構によりX方向とY方向に移動可能になっており、その上方には、レーザヘッド221が、アーム222を介してレーザ本体220に保持されている。
【0024】
アーム222は、レーザ本体220のレール223によりZ方向に移動可能であって、内部の駆動機構により上下方向に駆動され、これによりレーザのZ方向における加工位置の調整が行われる。
下側面状部材130の導電膜131のパターニングの際には、ガラスシートを加工テーブル210上に載置して、位置ずれが生じないように吸引保持し、レーザヘッド221を所定の高さまで下降させて、加工テーブル210をX−Y方向に移動させながら、レーザヘッド221からレーザを照射して、線状の絶縁部を形成する。
【0025】
なお、レーザ加工装置として、このような構成に限定されず、加工テーブルは固定のままで、レーザヘッドのみX、Y、Z方向に移動可能なようにしてもよい。
図6は、レーザ光により下側面状部材130上の導電膜131を物理的に剥離させて、絶縁部1313を形成する様子を模式的に示す図である。レーザを導電膜131の表面に照射すると、そのエネルギーにより導電膜131が昇華もしくは飛散し、除去される。ここでは、レーザ光を連続的に発光させて照射するのではなく、間欠的に駆動してレーザパルス光を照射しながら、加工テーブル210を矢印方向に移動させることにより、ほぼ円形に剥離されたスポットが重なるようにして線状の絶縁部を形成している。
【0026】
このようにレーザを間欠駆動することにより、連続発光するときよりも低電力で所望の加工を実現することができる。レーザ装置としてYAGレーザや炭酸レーザなどが使用可能であるが、樹脂フィルムが基材の場合には、当該フィルムへの熱などによるダメージの少なく、また出力も安定しているYAGレーザを使用する方が望ましい。
【0027】
(実験例1)
本実験では、YAGレーザ装置を使用して導電膜のパターンを加工した。YAGレーザの発振波長は、1.064μmの近赤外光で、ビームが最も集光したところ(ビームウエスト)の径が、0.45mmとなる光学系を組み合わせて用いた。
【0028】
フィルム基材として、厚み188μmのPETフィルムを用い、そのフィルムにスパッタ法によりシート抵抗300Ω/□のITO膜を成膜した。パターニング加工条件は、レーザ発振出力23W、レーザ発振パルス周波数3KHz、テーブル移動速度は、1026mm/Sに設定した。
レーザの1パルス当たりの1ピッチ移動量は、上記テーブル移動速度とレーザ発振パルス周波数とから計算され、約0.342mmとなる。テーブルの移動距離を30センチとして線状の剥離部を形成したところ、照射幅の広い個所は、0.45mmから0.41mmの範囲、照射幅の狭い個所では、0.32mmから0.28mmの範囲で導電膜が連続的に剥離されていた。外観的にも下地のフィルム溶融に起因する1μmを超える盛り上がりや窪みはなく、導電膜のマイクロクラック(微小なひび割れ)の発生もなかった。電気的には、直流25Vを印加したときの絶縁抵抗は、100MΩ以上あった。温度60°C、湿度90%で120時間経過後も外観、絶縁抵抗ともに変化はなく良好であった。
【0029】
(実験例2)
フィルム基材として、厚み188μmのノンボルネン系の熱可塑性の透明樹脂からなるJRS社製のアートンフィルム(「アートン」は同社の登録商標)を用い、その表面にスパッタ法によりシート抵抗300Ω/□のITO膜を成膜した。上記レーザ発振出力を34Wとする以外は実験例1と全く同じ条件下で実験したところ当該実験例1と同様良好な結果を得られた。
【0030】
(実験例3)
フィルム基材として、厚み188μmで、表面に平均粗さ最大2μmに凹凸加工したPETフィルムを用い、その凹凸加工された方の表面にスパッタ法によりシート抵抗300Ω/□のITO膜を成膜した。レーザ発振出力を34Wとする以外は、実験例1と全く同じ条件下で実験したところ当該実験例1と同様良好な結果を得られた。
【0031】
しかし、レーザ発振出力も実験例1と同じ24Wとして、レーザ加工すると、導電膜が細線状に除去はされたものの、完全に剥離されていない部分も残り絶縁性に問題があった。このように同じPETフィルムを基材としても表面の状態により加工条件を調整する必要がある。
なお、このように凹凸加工した表面に成膜されるとITO膜の表面も粗くなり、これによりニュートンリングの発生を防止できることができるという効果を得られる。すなわち、通常のタッチパネルの表面を押圧すると、押圧部周辺の導電膜111、131間の距離も変化し、これにより外部からの入射光のうち、導電膜111、131のそれぞれの面で反射した光が相互に干渉して、いわゆるニュートンリングが発生し、画面が大変見にくくなる。しかし、上述のように導電膜111の表面に凹凸が形成されて粗くなると、当該導電膜面に入射した光が乱反射するため、導電膜131面における反射光と干渉するものがほとんどなくなり、ニュートンリングの発生を有効に防止することができるのである。
【0032】
(実験例4)
導電膜の基材として厚さ1100μmのガラス板を使用し、その表面にITO膜を成膜し、実験例1と同じ条件で加工した。但し、レーザ発振出力を160Wとし、レーザ発振パルス周波数を4KHzとした。これにより絶縁性の優れた線状の剥離部を形成できた。
【0033】
なお、実際の生産工程においては、生産効率を上げるため、寸法の大きな基材(樹脂フィルムやガラス)に複数のパターンを形成した後、所定のサイズにカットして使用する方法が取られる。
図7は、加工テーブル210上に載置された、下側面状部材130用のガラスシートへのパターニング処理を示す図であって、大きなサイズのガラスシートの各所定位置に絶縁部1311〜1314をレーザ加工により形成してから、破線の位置でカットして、複数の下側面状部材130を形成するようになっている。
【0034】
それぞれ、1312、1313、1314の先端部が、左側のワーク部分にはみ出しているのは、加工位置の誤差を補完するためであって、予定のカット位置より少しはみ出して導電膜を除去することにより確実にこの部分での絶縁性を確保するためのものである。上側面状部材110も同様にして加工される。
<変形例>
なお、本発明の内容は、上記実施の形態に限定されないのは言うまでもなく、以下のような変形例を考えることができる。
【0035】
(1)タッチパネルが、他のディスプレ装置などに金属フレームを介して装着されるような場合には、上記実施の形態におけるパターニングでは、導電膜が端部に露出しているため、上側面状部材110と下側面状部材130のそれぞれの導電膜が短絡してしまうおそれがある。
このような事態を避けるため、上下の面状部材の少なくとも一方の導電膜のパターンについて、その中央の押圧位置検出部もしくは配線パターン部と、その周囲の周縁部とが、電気的に絶縁されている方が望ましい。
【0036】
図8(a)は、このような場合における下側面状部材130のパターンの例を示すものである。
図3の例に加えて、3辺に沿って線状の絶縁部1315、1316、1317が設けられており、これに導電性インクにより電極132,132、配線パターン133,135が形成される(図8(b))。
【0037】
これにより押圧位置を検出するための中央の領域A1や配線パターンと、周辺の領域A2〜A4が電気的に絶縁され、上述のような短絡の問題が生じない。上側面状部材110の場合も同様にしてパターニングできる。
なお、各辺に沿って、その全長にわたり絶縁部を設ける必要はなく、装置取付時に短絡の生じるおそれのあるところに限って設けるようにしてもよい。
【0038】
(2)上記実施の形態では、上側面状部材110と下側面状部材130のそれぞれに2つずつ電極を設けた4電極方式のタッチパネルにおけるパターニングの例を示した。
これらのパターンの形状は、電極の数やコネクタ部の位置などに応じて随時変更可能である。その一例として、メインの電極とは別に、導電膜の経時的な抵抗変化を補正するために設けられたキャリブレーション用の補助電極を上下の面状部材にそれぞれ2個有する8電極方式のタッチパネルの場合におけるパターニングの例を示す。
【0039】
なお、8電極方式によるキャリブレーションの方法については、本出願人の出願に係る特開平7−56673号公報に詳しく開示されているので、ここでの説明は省略する。
図9(a)に、8電極方式のタッチパネルにおける下側面状部材130のパターニングの例を示す。図8(a)の場合と比べて、線状の絶縁部1311と1312の間および、絶縁部1313と1314の間に、それぞれ絶縁部1318,1319が形成され、図9(b)のように導電性インクをスクリーン印刷することにより、上述した電極132などの外に、新たに補助電極1321、1322およびこれと一体となった配線パターンが形成される。
【0040】
図10(a)に、上記図9(b)の下側面状部材130と組み合わせされる上側面状部材110のパターニングの例を示す。なお、主に材料費の節約を目的として、上側面状部材110のサイズは、下側面状部材130のサイズより若干小さくなるように設計されており、この場合には、取付金具などに接触して短絡するおそれがあるのは下側面状部材130だけであるため、本実施の形態においては、上側面状部材110には下側面状部材130のように周縁部と絶縁するための絶縁部1315〜1317を設けてはいない。もちろん、万が一の場合に備えて上側面状部材110にも周縁部と内部のパターンを絶縁するための線状の絶縁部を設けるようにしてもよい。
【0041】
図4の場合と比べて、線状の絶縁部1105と1102との間に、1104と1105が追加され、図10(b)のように導電性インクをスクリーン印刷することにより、上述した電極112などの外に、新たに補助電極1121,1122およびこれと一体となった配線パターンが形成される。
(3)上側面状部材110の素材として、上記のPETフィルムのほか、ポリイミド(PI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネイト(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド(PA)、ポリアクリル(PAC)、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などのフィルム、あるいはそれらのフィルムの積層体などが使用される。
【0042】
積層体の場合には、偏向フィルムの層を介在させることにより、屋外における画面の視認性や防眩性(外光がタッチパネルの表面もしくは内層部で反射してぎらつかないようにすること)を向上させることができる。同様に防眩性を得るため、上側面状部材110の表面にノングレア加工されたハードコート層を設けるようにしてもよい。これにより防眩性のみならず、耐摩耗性、耐擦傷性を増すことができる。
【0043】
また、上側面状部材110の導電膜を設ける面には、レーザ加工時などに熱などによるオリゴマー発生による樹脂フィルムの劣化を防止するため、導電膜と樹脂フィルムとの間にアクリル系の樹脂コート層を設けるようにしてもよい。
(4)導電膜の形成材は、ITO膜に限定されない。例えば、スズ酸化膜、銅、アルミニウム、ニッケル、クロムなどが考えられる。このように本発明によれば従来のようにウエットエッチング方法を使用しないので、酸やアルカリに弱い金属単体でも導電膜として使用できるようになった。また、スズ酸化膜やスズを含む金属膜は、主にガラス基材に設けられ透明性に優れているにも拘わらず、エッチング処理がしにくいため従来では使用されてなかったが、本発明によるパターニング方法により使用可能となった。
【0044】
また、導電膜は、1層に限らず多層構造としてもよい、例えば、基材上に第1の金属層、絶縁層、第2の金属層を形成して、第2の金属層が導電膜として作用するようにしてもよい。ここで第1と第2の金属としては、上述した金属から選択され、絶縁層としては酸化硅素の薄膜が選択される。
このような異なる種類の薄膜を積層することにより各層の屈折率の相違により反射光が減じられ高透明性を得られることが知られている。また、1層目の薄膜として基材との密着性の高い材質を選択することにより導電膜全体として剥離しにくい構成にできる。
【0045】
さらに、透明な導電膜を形成する方法も上述のスパッタ法に限定されず、形成する導電膜の種類に応じて、真空蒸着法、イオンプレーティング法などの他のPVD法、あるいは、CVD法、塗装法、印刷法などの方法が適宜選択される。
なお、基材の表面にアクリル系樹脂によるコーティング処理を施しておけば、その上に導電膜を形成しやすく、また剥離しにくいという効果が得られる。
【0046】
(5)上記実施の形態では、パターニングにおいて導電膜を線状に剥離する方法の一例としてレーザ加工を示したが、ほかに例えば、基材となる樹脂フィルムを切断するまでに至らない程度に鋭利な金属先端部を適当な押圧力で直接導電膜表面に当ててその部分の導電膜を切り取る(剥ぎ取る)ような方法でも実現は可能である。
【0047】
(6)なお、上記実施の形態においては、下側面状部材をガラス板で形成したが、その他プラスチック板を支持体としてその表面にPETフィルムなどの樹脂フィルムを貼り合わせ、当該樹脂フィルム上に上記導電膜のパターンを形成するようにしてもよい。こうすることにより、軽量で破損しにくいタッチパネルが形成でき、特に携帯機器に装着される場合に好都合である。
【0048】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明に係るタッチパネルは、対向して配置された第1および第2の面状部材の少なくとも一方における導電膜のパターンが、当該面状部材の一表面のほぼ全面に形成された導電膜を、線状の剥離部によって、押圧位置検出用の面状パターン部と当該面状パターン部に外部から通電するための配線パターン部とに区画するように構成される。当該線状の剥離部は、レーザ光の照射により導電膜を物理的に除去することによって容易に形成することができるので、従来のエッチング加工における複雑な工程や条件設定などが一切不要となり、廃液問題なども生じない。
【0049】
また、これによりパターニングの工程が極めて簡易になり、タッチパネルの生産の効率化および低コスト化に資すると共に、従来エッチング加工における主にマスクの剥離工程で生じていた導電膜の耐久性の低下や透明性の劣化などが一切発生しない優れたタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るタッチパネルの斜視図である。
【図2】上記タッチパネルの構造を示す分解図である。
【図3】上記タッチパネルの下側面状部材の導電膜のパターンの例とこれに導電性インクにより電極と配線パターンを形成した例を示す図である。
【図4】上記タッチパネルの上側面状部材の導電膜のパターンの例とこれに導電性インクにより電極と配線パターンを形成した例を示す図である。
【図5】レーザ加工装置の一例を示す斜視図である。
【図6】レーザ加工により導電膜を線状に剥離する様子を示す部分斜視図である。
【図7】 実際のパターニング工程でおけるレーザ加工のパターンを示す図である。
【図8】図3の下側面状部材の導電膜のパターンにおいて、さらに周縁部に沿って線状の絶縁部を形成したパターンの一例を示す図である。
【図9】8電極型のタッチパネルの下側面状部材の導電膜のパターンの例とこれに導電性インクにより電極と配線パターンを形成した例を示す図である。
【図10】8電極型のタッチパネルの上側面状部材の導電膜のパターンの例とこれに導電性インクにより電極と配線パターンを形成した例を示す図である。
【図11】従来のタッチパネルの下側面状部材の導電膜のパターンの例とこれに導電性インクにより電極と配線パターンを形成する様子を示す図である。
【符号の説明】
100 タッチパネル
110 上側面状部材
1101〜1105、1311〜1319 絶縁部
111 導電膜
112,132 電極
1121,1122,1321,1322 補助電極
113,115,133,135 配線パターン
130 下側面状部材
131 導電膜
1315〜1317 絶縁部
200 レーザ加工装置
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a resistive film type touch panel having a transparent conductive film and a manufacturing method thereof, and more particularly to a technique for forming a conductive film pattern on a touch panel substrate.
[0002]
[Prior art]
A resistive film type touch panel, for example, forms a transparent conductive film pattern on each facing surface of both substrates of ultra-thin glass (lower side member) and a flexible transparent resin film (upper side member). At the same time, both planar members are arranged to face each other at regular intervals with a spacer interposed therebetween.
[0003]
A conventional method of pattern formation (hereinafter referred to as “patterning”) of a transparent conductive film formed on such a substrate will be described with reference to FIGS.
First, the conductive film 501 is formed on the surface of the substrate 500. As the conductive film, ITO (indium tin oxide) is generally formed by sputtering.
[0004]
Thereafter, a mask 502 is formed where it is desired to leave as a pattern by a photoresist method or a screen printing method, and a portion other than the mask 502 (portion other than the hatched portion in FIG. 11A) is formed using an acidic etching solution. The conductive film is removed. Then, the mask is dissolved and removed with an alkaline stripping solution, and conductive ink such as silver paste is screen-printed to form a pair of electrodes 503 and lead portions 504 and 505.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional patterning method has the following problems.
That is, there is a problem that the surface of the conductive film is eroded or soiled due to the influence of the stripping solution when the mask is removed, or the transparency is deteriorated due to scratches.
[0006]
In addition, there are environmental problems in terms of management and handling of the etching solution, and further, processing of the etching waste solution. In addition, ITO film is often formed by sputtering, but it is conductive depending on whether the power source for sputtering is AC or DC, or depending on sputtering power, gas pressure, gas type, film temperature, target condition, etc. There is also a problem that the properties of the film are easily changed and it is difficult to set etching conditions. Further, with respect to the conductive film whose crystallinity has been increased in order to increase the resistance to frictional scratches, there is a problem that the etching is not sufficiently performed and a pattern defect occurs.
[0007]
The present invention has been made in view of the above problems, and removes various adverse effects due to the etching process, and the touch panel patterned without causing deterioration of the transparency or durability of the conductive film and its touch panel An object is to provide a manufacturing method.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, the touch panel according to the present invention includes a first conductive sheet and a second planar member arranged at regular intervals, and a transparent conductive film pattern formed on the opposing surfaces of both members. In the touch panel, the conductive film pattern in at least one of the first and second planar members is such that the conductive film formed on almost the entire surface of the planar member is formed by a linear peeling portion. It is divided into a planar pattern portion for detecting the pressed position and a wiring pattern portion for energizing the planar pattern portion from the outside. In addition, a linear peeling portion is formed along at least a part of the peripheral portion, and the planar pattern portion and the wiring pattern portion are electrically insulated from the peripheral portion. It is characterized by that.
[0009]
In the touch panel according to the present invention, a conductive ink layer is formed on the surface of the wiring pattern portion along the pattern.
Furthermore, in the touch panel according to the present invention, the first planar member is a glass plate, and the conductive film formed on one surface thereof is a tin oxide film or a metal film containing tin. To do.
[0010]
Furthermore, in the touch panel according to the present invention, the conductive film is formed by laminating a plurality of thin films, among which a first metal layer, an insulating layer, and a second metal layer are formed in this order. It is characterized by including.
[0011]
Furthermore, in the touch panel according to the present invention, the linear peeling portion in the conductive film is formed by irradiating a laser to physically remove the corresponding conductive film. .
In addition, the present invention provides a first step of forming a transparent conductive film pattern on each of the opposing surfaces of the first planar member and the second planar member, and the first and first conductive layer formed thereon. In the method for manufacturing a touch panel, the method includes: a second step of forming electrodes on the two planar members; and a third step of bonding the first and second planar members through a spacer member. The step includes forming a conductive film on substantially one surface of at least one of the first and second planar members, and linearly irradiating a part of the conductive film with laser irradiation. Peeling and partitioning into a planar pattern part for detecting the pressed position and a wiring pattern part for energizing the planar pattern part from the outside At the same time, the conductive film is linearly peeled along at least a part of the peripheral portion thereof, and processed so that the planar pattern portion and the wiring pattern portion are electrically insulated from the peripheral portion. And a pattern creating step.
[0012]
Here, it is preferable that a YAG laser is used for peeling of the conductive film in the pattern forming step.
[0013]
[Embodiment]
Hereinafter, embodiments of the touch panel of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Overall configuration of touch panel)
FIG. 1 is a perspective view of a touch panel according to the present embodiment.
[0014]
As shown in the figure, the touch panel 100 is configured by laminating an upper side surface member 110 and a lower side surface member 130 via a spacer 140.
The upper side surface member 110 is a transparent and flexible surface member on the touch panel 100 that receives an input from the operator using a finger or an input pen, and is mainly a resin film such as polyethylene terephthalate (PET). The thickness is set to about 20 μm to 500 μm.
[0015]
The lower side surface member 130 is formed of a glass plate having a thickness of about 1 mm. A conductive film pattern made of ITO (indium tin oxide) is formed on the opposing surfaces of the upper side member 110 and the lower side member 130 by a method described later, and the connector portion. A current for detecting the pressed position is supplied to the conductive film from an external controller via 120.
[0016]
FIG. 2 is an exploded view of the touch panel 100 of FIG.
As shown in the figure, the spacer 140 is formed in a continuous frame shape except for the part where the connector part 120 is mounted and the cutout part 141 on the opposite side of the connector part. Etc. are used. An adhesive is applied to both surfaces of the spacer 140, and the upper side surface member 110 and the lower side surface member 130 are adhered to the periphery thereof. In the excision part 141, since no spacer member is interposed, a gap is formed between the upper side surface member 110 and the lower side surface member 130. This acts as an internal air vent hole.
[0017]
In the gap between the upper side member 110 and the lower side member 130 inside the spacer 140, dot-like spacers 160 are provided at predetermined intervals, and in cooperation with the frame-like spacer 140, The distance between the opposing surfaces of the upper and lower surface members 110 and 130 is maintained approximately uniformly at about 100 μm.
A pattern of the conductive film 131 is formed on the main surface on the side facing the upper side member 110 of the lower side member 130 (see FIG. 3. In FIG. 2, illustration of the pattern is omitted for simplification. Yes.) A pair of electrodes 132 and 132 are formed on the two opposite sides of the conductive film 131, and the remaining region of the main surface is connected to the pair of connection electrodes 123 and 123 on the connector part 120 side. A pair of electrode end portions 134 and 134 are formed, and wiring patterns 133 and 135 connecting the electrode end portions 134 and 134 to the electrodes 132 and 132 provided on the two sides of the conductive film 131 are formed. . Similarly to the lower side member 130, the electrode end connected to the pattern of the conductive film 111 and the connection electrode 122 of the connector part 120 is also provided on the main surface facing the lower side member 130 of the upper side member 110. 114 and the like are formed. The conductive film pattern of the upper side member 110 and the lower side member 130 will be described in detail later.
[0018]
The connector portion 120 is one end portion of a connection cable 190 formed by sandwiching four flexible wires 129 made of silver with a material such as PET film or polyimide. The connection electrodes 122, 122, 123, 123 connected to the electrode end portions 114, 114, 134, 134 are exposed on the upper and lower surfaces, and the terminal ends of the flexible wires 129 are connected to the connection electrodes 122, 122, 123, 123. It has become the composition.
[0019]
The reason why the four flexible wires and the four connection electrodes are collected in one connector portion without being divided is to reduce costs in terms of both material costs and man-hours.
In the assembled state of the touch panel, the upper connection electrodes 122 and 122 are bonded to the upper electrode ends 114 and 114, and the lower connection electrodes 123 and 123 are bonded to the lower electrode ends 134 and 134, respectively. Adhesion of this part is performed by attaching a conductive paste obtained by kneading carbon to silver, which is a common material of each extraction part, and then thermocompression bonding from both sides.
[0020]
In addition, a notch 121 is provided between the upper and lower connection electrodes 122 and 123 of the connector portion 120, thereby eliminating the stress caused by the difference in expansion coefficient between the upper and lower planar members 110 and 130. That is, when expansion of the planar member occurs due to temperature rise, expansion occurs in the two upper and lower planar members. By providing this notch 121, thermal expansion between the upper lateral member 110 and the lower lateral member 130 occurs. It is possible to absorb the stress acting on the connector part 120 based on the difference in amount, and even if used in a wide temperature range, it is possible to obtain an effect that it is difficult to cause contact failure or disconnection in this part.
[0021]
(Method for patterning conductive film)
3A and 3B are views showing a process of forming a pattern of the conductive film 131 on the lower surface member 130 of the touch panel 100 and forming an electrode or the like thereon.
First, the conductive film 131 made of ITO is uniformly formed on the surface of the glass sheet to be the lower side member 130 by sputtering. After that, the conductive film 131 is irradiated with laser, and a part of the conductive film is linearly peeled to form insulating portions 1311 to 1314 (FIG. 3A).
[0022]
Next, conductive ink (silver paste) is printed as shown in FIG. 3B by a pattern printing method to form a pair of electrodes 132 and 132 and wiring patterns 133 and 135 from each electrode 132.
The same applies to the case where the conductive film pattern is formed on the upper side surface member 110. As shown in FIG. 4A, first, the conductive film 111 is uniformly formed on the surface of the upper side surface member 110 by sputtering. After that, the conductive film 111 is irradiated with a laser so that a part of the conductive film 111 is linearly peeled to form the insulating portions 1101 to 1103. Next, conductive ink is printed as shown in FIG. 4B by a pattern printing method to form a pair of electrodes 112 and 112 and wiring patterns 113 and 115 from each electrode 112.
[0023]
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a laser processing apparatus 200 for forming the linear insulating portion. The inside of the processing table 210 is hollow, and a plurality of suction holes 211 are provided on the upper surface thereof, and the processing film is sucked and held by lowering the internal pressure by a suction device (not shown). The processing table 210 can be moved in the X direction and the Y direction by a drive mechanism (not shown), and a laser head 221 is held by the laser main body 220 via the arm 222 above the processing table 210.
[0024]
The arm 222 is movable in the Z direction by the rail 223 of the laser main body 220 and is driven in the vertical direction by an internal driving mechanism, thereby adjusting the machining position of the laser in the Z direction.
When patterning the conductive film 131 of the lower side surface member 130, a glass sheet is placed on the processing table 210, and is sucked and held so as not to be displaced, and the laser head 221 is lowered to a predetermined height. Then, while moving the processing table 210 in the XY direction, a laser is irradiated from the laser head 221 to form a linear insulating portion.
[0025]
The laser processing apparatus is not limited to such a configuration, and only the laser head may be movable in the X, Y, and Z directions while the processing table remains fixed.
FIG. 6 is a diagram schematically showing a state in which the insulating portion 1313 is formed by physically peeling the conductive film 131 on the lower side surface member 130 with a laser beam. When the surface of the conductive film 131 is irradiated with laser, the conductive film 131 is sublimated or scattered by the energy and removed. Here, instead of continuously emitting laser light and irradiating it, the processing table 210 was moved in the direction of the arrow while being intermittently driven and irradiated with laser pulse light. A linear insulating portion is formed so that the spots overlap.
[0026]
By intermittently driving the laser in this way, desired processing can be realized with lower power than when continuous light emission is performed. A YAG laser or carbonic acid laser can be used as the laser device. However, when the resin film is a base material, a YAG laser that has little damage due to heat to the film and has a stable output is used. Is desirable.
[0027]
(Experimental example 1)
In this experiment, a conductive film pattern was processed using a YAG laser device. The oscillation wavelength of the YAG laser was 1.064 μm near-infrared light, and was used in combination with an optical system having a diameter of 0.45 mm when the beam was most condensed (beam waist).
[0028]
A PET film having a thickness of 188 μm was used as the film substrate, and an ITO film having a sheet resistance of 300Ω / □ was formed on the film by sputtering. The patterning processing conditions were set such that the laser oscillation output was 23 W, the laser oscillation pulse frequency was 3 KHz, and the table moving speed was 1026 mm / S.
The amount of movement of one pitch per pulse of the laser is calculated from the table moving speed and the laser oscillation pulse frequency, and is about 0.342 mm. When the linear separation part was formed with the table moving distance of 30 cm, the wide irradiation width range was 0.45 mm to 0.41 mm, and the narrow irradiation width range was 0.32 mm to 0.28 mm. The conductive film was continuously peeled in the range. In terms of appearance, there were no bulges or depressions exceeding 1 μm due to the melting of the underlying film, and there were no microcracks (microcracks) in the conductive film. Electrically, the insulation resistance when DC 25 V was applied was 100 MΩ or more. Even after 120 hours had passed at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90%, both the appearance and insulation resistance did not change and were good.
[0029]
(Experimental example 2)
As a film substrate, an Arton film made by JRS (“Arton” is a registered trademark of the company) made of a non-bornene thermoplastic transparent resin with a thickness of 188 μm is used, and ITO having a sheet resistance of 300Ω / □ is formed on the surface by sputtering. A film was formed. An experiment was performed under exactly the same conditions as in Experimental Example 1 except that the laser oscillation output was set to 34 W. As a result, good results were obtained as in Experimental Example 1.
[0030]
(Experimental example 3)
As a film substrate, a PET film having a thickness of 188 μm and an uneven surface with an average roughness of 2 μm at the maximum was used, and an ITO film having a sheet resistance of 300Ω / □ was formed on the surface of the uneven surface by sputtering. Except for setting the laser oscillation output to 34 W, an experiment was performed under exactly the same conditions as in Experimental Example 1. As a result, good results were obtained as in Experimental Example 1.
[0031]
However, when laser processing was performed with the laser oscillation output of 24 W, which was the same as in Experimental Example 1, the conductive film was removed in a thin line shape, but the portion that was not completely peeled remained and there was a problem in insulation. Thus, even if the same PET film is used as a base material, it is necessary to adjust the processing conditions depending on the surface state.
In addition, when the film is formed on the uneven surface as described above, the surface of the ITO film is also roughened, thereby obtaining the effect that Newton's ring can be prevented from occurring. That is, when the surface of a normal touch panel is pressed, the distance between the conductive films 111 and 131 around the pressing portion also changes, and thus light reflected from the respective surfaces of the conductive films 111 and 131 among the incident light from the outside. Interfere with each other to generate a so-called Newton ring, making the screen very difficult to see. However, when unevenness is formed on the surface of the conductive film 111 and becomes rough as described above, light incident on the surface of the conductive film is irregularly reflected, so that there is almost no interference with the reflected light on the surface of the conductive film 131, and the Newton ring. Can be effectively prevented.
[0032]
(Experimental example 4)
A glass plate having a thickness of 1100 μm was used as the base material of the conductive film, an ITO film was formed on the surface thereof, and processed under the same conditions as in Experimental Example 1. However, the laser oscillation output was 160 W, and the laser oscillation pulse frequency was 4 KHz. Thereby, the linear peeling part excellent in insulation was able to be formed.
[0033]
In an actual production process, in order to increase production efficiency, a method is used in which a plurality of patterns are formed on a substrate (resin film or glass) having a large size and then cut into a predetermined size for use.
FIG. 7 is a diagram showing a patterning process to the glass sheet for the lower side surface member 130 placed on the processing table 210, and the insulating portions 1311 to 1314 are provided at predetermined positions of the large-sized glass sheet. After forming by laser processing, it cuts in the position of a broken line, and forms the several lower side surface-shaped member 130. FIG.
[0034]
The reason why the tip portions of 1312, 1313, and 1314 protrude to the left work part is to compensate for errors in the machining position, by removing the conductive film slightly beyond the intended cutting position. This is to ensure insulation at this portion. The upper side surface member 110 is similarly processed.
<Modification>
Needless to say, the content of the present invention is not limited to the above embodiment, and the following modifications can be considered.
[0035]
(1) When the touch panel is mounted on another display device or the like via a metal frame, the conductive film is exposed at the end in the patterning in the above embodiment. There is a possibility that the conductive films of 110 and the lower side surface member 130 may be short-circuited.
In order to avoid such a situation, with respect to the pattern of at least one conductive film of the upper and lower planar members, the central pressing position detection part or the wiring pattern part and the peripheral edge part thereof are electrically insulated. It is better to be.
[0036]
FIG. 8A shows an example of the pattern of the lower side surface member 130 in such a case.
In addition to the example of FIG. 3, linear insulating portions 1315, 1316, and 1317 are provided along the three sides, and electrodes 132 and 132 and wiring patterns 133 and 135 are formed on the conductive insulating ink. FIG. 8B).
[0037]
As a result, the central area A1 and the wiring pattern for detecting the pressed position are electrically insulated from the peripheral areas A2 to A4, and the above-described short circuit problem does not occur. In the case of the upper side surface member 110, patterning can be performed in the same manner.
In addition, it is not necessary to provide an insulation part over the whole length along each side, and you may make it provide only in the place which may produce a short circuit at the time of apparatus attachment.
[0038]
(2) In the said embodiment, the example of the patterning in the touch panel of the 4 electrode system which provided two electrodes in each of the upper side surface member 110 and the lower side surface member 130 was shown.
The shape of these patterns can be changed at any time according to the number of electrodes, the position of the connector portion, and the like. As an example of this, an 8-electrode touch panel that has two auxiliary electrodes for calibration on each of the upper and lower planar members, separately from the main electrode, is provided for correcting resistance changes with time of the conductive film. The example of the patterning in a case is shown.
[0039]
The calibration method using the 8-electrode method is disclosed in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-56673, which is filed by the present applicant, and will not be described here.
FIG. 9A shows an example of patterning of the lower side surface member 130 in the 8-electrode touch panel. Compared with the case of FIG. 8A, insulating portions 1318 and 1319 are formed between the linear insulating portions 1311 and 1312 and between the insulating portions 1313 and 1314, respectively, as shown in FIG. 9B. By screen-printing the conductive ink, auxiliary electrodes 1321 and 1322 and a wiring pattern integrated with the auxiliary electrodes 1321 and 1322 are newly formed in addition to the above-described electrode 132 and the like.
[0040]
FIG. 10A shows an example of patterning of the upper side member 110 combined with the lower side member 130 of FIG. 9B. Note that the size of the upper side surface member 110 is designed to be slightly smaller than the size of the lower side surface member 130 mainly for the purpose of saving material costs. In this embodiment, only the lower side surface member 130 is likely to be short-circuited. Therefore, in the present embodiment, the upper side surface member 110 is insulated from the peripheral portion like the lower side surface member 130. ˜1317 is not provided. Of course, in the event of an emergency, the upper side surface member 110 may also be provided with a linear insulating portion for insulating the peripheral portion from the internal pattern.
[0041]
Compared to the case of FIG. 4, 1104 and 1105 are added between the linear insulating portions 1105 and 1102, and conductive ink is screen-printed as shown in FIG. In addition, the auxiliary electrodes 1121 and 1122 and a wiring pattern integrated with the auxiliary electrodes 1121 and 1122 are newly formed.
(3) In addition to the above PET film, the upper side member 110 is made of polyimide (PI), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), A film made of polyamide (PA), polyacrylic (PAC), norbornene-based thermoplastic transparent resin, or a laminate of these films is used.
[0042]
In the case of laminates, the visibility of the screen and anti-glare properties (to prevent external light from being reflected on the surface of the touch panel or the inner layer part and glaring) by interposing a deflecting film layer are improved. Can be made. Similarly, in order to obtain anti-glare properties, a hard coat layer that is non-glare processed may be provided on the surface of the upper side surface member 110. As a result, not only antiglare properties but also abrasion resistance and scratch resistance can be increased.
[0043]
In addition, an acrylic resin coating is provided between the conductive film and the resin film on the surface of the upper side member 110 on which the conductive film is provided in order to prevent deterioration of the resin film due to generation of oligomers due to heat during laser processing. A layer may be provided.
(4) The conductive film forming material is not limited to the ITO film. For example, a tin oxide film, copper, aluminum, nickel, chromium, etc. can be considered. As described above, according to the present invention, since a wet etching method is not used as in the prior art, a simple metal that is weak against acid or alkali can be used as a conductive film. In addition, a tin oxide film or a metal film containing tin is mainly used on a glass substrate and has not been conventionally used because it is difficult to perform an etching process despite being excellent in transparency. It became possible to use by the patterning method.
[0044]
The conductive film is not limited to a single layer, and may have a multilayer structure. For example, a first metal layer, an insulating layer, and a second metal layer are formed on a base material, and the second metal layer is a conductive film. You may make it act as. Here, the first and second metals are selected from the metals described above, and a silicon oxide thin film is selected as the insulating layer.
It is known that by laminating such different types of thin films, the reflected light is reduced due to the difference in refractive index of each layer, and high transparency can be obtained. Moreover, it can be set as the structure which is hard to peel as the whole electrically conductive film by selecting a material with high adhesiveness with a base material as a 1st thin film.
[0045]
Furthermore, the method for forming the transparent conductive film is not limited to the above-described sputtering method, and depending on the type of the conductive film to be formed, other PVD methods such as a vacuum deposition method and an ion plating method, or a CVD method, A method such as a coating method or a printing method is appropriately selected.
In addition, if the surface of the base material is subjected to a coating treatment with an acrylic resin, it is possible to obtain an effect that a conductive film can be easily formed on the surface of the base material and is not easily peeled off.
[0046]
(5) In the above embodiment, laser processing has been shown as an example of a method for stripping the conductive film in patterning. However, for example, the processing is not so sharp as to cut the resin film as the base material. It can also be realized by a method in which an appropriate metal tip is directly applied to the surface of the conductive film with an appropriate pressing force and the conductive film in that portion is cut off.
[0047]
(6) In the above embodiment, the lower side surface member is formed of a glass plate. However, a resin film such as a PET film is bonded to the surface of the other plastic plate as a support, and the above resin film is placed on the resin film. A conductive film pattern may be formed. By doing this, a touch panel that is lightweight and difficult to break can be formed, which is particularly advantageous when it is mounted on a portable device.
[0048]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, the touch panel according to the present invention has a conductive film pattern on at least one of the first and second planar members arranged so as to be substantially the same as one surface of the planar member. The conductive film formed on the entire surface is divided by a linear peeling portion into a planar pattern portion for detecting a pressed position and a wiring pattern portion for energizing the planar pattern portion from the outside. . Since the linear peeling portion can be easily formed by physically removing the conductive film by laser light irradiation, no complicated process or condition setting in the conventional etching process is required, and the waste liquid There is no problem.
[0049]
In addition, this greatly simplifies the patterning process, contributes to the efficiency and cost reduction of touch panel production, and lowers the durability and transparency of the conductive film that has been generated mainly in the mask peeling process in the conventional etching process. It is possible to provide an excellent touch panel that does not cause any deterioration in performance.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an exploded view showing a structure of the touch panel.
FIG. 3 is a view showing an example of a conductive film pattern on a lower side surface member of the touch panel and an example in which electrodes and a wiring pattern are formed using a conductive ink.
FIG. 4 is a diagram showing an example of a conductive film pattern on the upper side surface member of the touch panel and an example in which electrodes and a wiring pattern are formed using a conductive ink.
FIG. 5 is a perspective view showing an example of a laser processing apparatus.
FIG. 6 is a partial perspective view showing a state where a conductive film is stripped linearly by laser processing.
FIG. 7 is a diagram showing a laser processing pattern in an actual patterning step.
8 is a diagram showing an example of a pattern in which a linear insulating portion is further formed along the peripheral edge in the conductive film pattern of the lower side surface member in FIG. 3; FIG.
FIG. 9 is a diagram showing an example of a conductive film pattern on a lower surface member of an 8-electrode touch panel and an example in which electrodes and a wiring pattern are formed using a conductive ink.
FIG. 10 is a diagram showing an example of a conductive film pattern on an upper surface member of an 8-electrode touch panel and an example in which electrodes and a wiring pattern are formed using a conductive ink.
FIG. 11 is a diagram showing an example of a conductive film pattern of a lower side surface member of a conventional touch panel and a state in which electrodes and a wiring pattern are formed using a conductive ink.
[Explanation of symbols]
100 touch panel
110 Upper side surface member
1101-1105, 1311-1319 Insulating part
111 conductive film
112,132 electrodes
1121, 1122, 1321, 1322 Auxiliary electrode
113, 115, 133, 135 Wiring pattern
130 Lower side member
131 conductive film
1315-1317 Insulation part
200 Laser processing equipment

Claims (7)

第1と第2の面状部材が一定間隔をおいて対設されると共に、両部材の対向面に透明の導電膜のパターンが形成されてなるタッチパネルにおいて、
第1および第2の面状部材の少なくとも一方における前記導電膜のパターンは、
当該面状部材の一表面のほぼ全面に形成された導電膜が、線状の剥離部によって、押圧位置検出用の面状パターン部と当該面状パターン部に外部から通電するための配線パターン部とに区画されると共に、
その少なくとも一部の周縁部に沿って線状の剥離部が形成され、前記面状パターン部および配線パターン部が当該周縁部から電気的に絶縁されてなる
ことを特徴とするタッチパネル。
In the touch panel in which the first and second planar members are opposed to each other at a constant interval, and a transparent conductive film pattern is formed on the opposing surfaces of both members,
The pattern of the conductive film in at least one of the first and second planar members is
The conductive film formed on almost the entire surface of the planar member has a linear pattern for detecting the pressed position and a wiring pattern for externally energizing the planar pattern by a linear peeling portion. Rutotomoni is divided into the door,
A touch panel , wherein a linear peeling portion is formed along at least a part of the peripheral portion, and the planar pattern portion and the wiring pattern portion are electrically insulated from the peripheral portion .
前記配線パターン部の表面には、当該パターンに沿って導電性インクの層が形成されていることを特徴とする請求項1記載のタッチパネル。The touch panel according to claim 1, wherein a layer of conductive ink is formed on the surface of the wiring pattern portion along the pattern. 前記第1の面状部材は、ガラス板であって、その一表面に形成された導電膜は、スズ酸化膜もしくはスズを含む金属膜であることを特徴とする請求項1または2記載のタッチパネル。3. The touch panel according to claim 1, wherein the first planar member is a glass plate, and the conductive film formed on one surface thereof is a tin oxide film or a metal film containing tin. . 前記導電膜は、複数の薄膜を積層して構成され、そのうち第1の金属層と絶縁層と第2の金属層をこの順に形成してなる積層体を含むことを特徴とする請求項1または2に記載のタッチパネル。The said electrically conductive film is comprised by laminating | stacking a some thin film, The laminated body formed by forming the 1st metal layer, the insulating layer, and the 2nd metal layer in this order among these is characterized by the above-mentioned. 2. The touch panel according to 2. 前記導電膜における線状の剥離部は、レーザを照射して該当する部分の導電膜を物理的に除去することにより形成されていることを特徴とする請求項1からのいずれかに記載のタッチパネル。The linear peeling part in the said electrically conductive film is formed by irradiating a laser and removing the electrically conductive part of the applicable part physically, The one in any one of Claim 1 to 4 characterized by the above-mentioned. Touch panel. 第1の面状部材と第2の面状部材の対向面のそれぞれに透明の導電膜のパターンを形成する第1の工程と、導電膜の形成された第1と第2の面状部材に電極を形成する第2の工程と、これらの第1と第2の面状部材をスペーサ部材を介して貼り合わせる第3の工程を含むタッチパネルの製造方法において、
前記第1の工程は、
第1および第2の面状部材の少なくとも一方の対向面にほぼ一面に導電膜を形成する導電膜形成工程と、
前記導電膜の一部を、レーザを照射して線状に剥離し、押圧位置検出用の面状パターン部と当該面状パターン部に外部から通電するための配線パターン部に区画すると共に、
前記導電膜をその少なくとも一部の周縁部に沿って線状に剥離し、前記面状パターン部および配線パターン部が当該周縁部から電気的に絶縁されるように加工するパターン作成工程と
を含むことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
A first step of forming a transparent conductive film pattern on each of the opposing surfaces of the first planar member and the second planar member; and the first and second planar members on which the conductive film is formed. In a method for manufacturing a touch panel, including a second step of forming an electrode, and a third step of bonding the first and second planar members through a spacer member,
The first step includes
A conductive film forming step of forming a conductive film on almost one surface of at least one of the first and second planar members;
A part of the conductive film is linearly peeled by irradiating a laser, and is divided into a planar pattern part for detecting a pressed position and a wiring pattern part for energizing the planar pattern part from the outside ,
Pattern forming step of peeling the conductive film linearly along at least a part of the peripheral portion thereof, and processing the planar pattern portion and the wiring pattern portion so as to be electrically insulated from the peripheral portion. A manufacturing method of a touch panel characterized by the above.
前記パターン作成工程において、前記導電膜の剥離にはYAGレーザが使用されることを特徴とする請求項記載のタッチパネルの製造方法。7. The touch panel manufacturing method according to claim 6 , wherein a YAG laser is used for peeling the conductive film in the pattern creating step.
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