JP3955932B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3955932B2
JP3955932B2 JP06949197A JP6949197A JP3955932B2 JP 3955932 B2 JP3955932 B2 JP 3955932B2 JP 06949197 A JP06949197 A JP 06949197A JP 6949197 A JP6949197 A JP 6949197A JP 3955932 B2 JP3955932 B2 JP 3955932B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
write
memory
address
circuit
ferroelectric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP06949197A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10106275A (ja
Inventor
義彦 安
寛之 酒井
マイケル・ダブリュー・イェーガー
ドナルド・ジェイ・ヴァーヘイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Publication of JPH10106275A publication Critical patent/JPH10106275A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3955932B2 publication Critical patent/JP3955932B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F12/00Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
    • G06F12/02Addressing or allocation; Relocation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/24Memory cell safety or protection circuits, e.g. arrangements for preventing inadvertent reading or writing; Status cells; Test cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置に係り、特に電気的に書き換え可能な不揮発性半導体記憶装置に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
PDA(Personal Digital Assistant)に代表される携帯情報機器のマイクロプロセッサやメモリなどのLSI(Large Scale Integrated circuit)の高性能化・低電力化が求められている。PDA用メモリとしては、OS(Operating System)やアプリケーションソフト等を格納するROM(Read Only Memory)と、表示用データ、処理に必要なワークメモリや個人データの保存等書き換えの必要なものを格納するRAM(Random Access Memory)と、RAMで保持しきれない大量のデータを格納するフラッシュカード(Flash memory card) 等の書き換え可能なROMとが使用されている。また、電源のオン/オフによってデータが消失しないように、また電源オン時に前の状態に復帰できるレジューム機能を実現するために、RAMは電池バックアップされている。一方、強誘電体メモリ(Ferroelectric Memory)は不揮発性を有しながら、RAMなみの動作速度が得られるという特徴がある。そこで、携帯情報機器に使用されているDRAM(Dynamic RAM) を強誘電体メモリに置き換えることが検討されている。これについては、株式会社サイエンスフォーラム、1995年6月30日発行、第1版「強誘電体薄膜メモリ」第8章、第337頁から第345頁に記載されている。
【0003】
強誘電体メモリを前記携帯情報機器のROM及び電池バックアップ付のSRAM(Static RAM)の代わりに使用することを本願発明者達が検討した。強誘電体メモリの一部をROMとして使用するためにはシステムの暴走時等に意図しないでROM部の書き換えが行われないような保護が必要である。
【0004】
従来の単体の不揮発性メモリの書き込み保護としては、実装時に外部から発生するノイズに起因する誤書き換えを防止するために、ソフトウェアデータプロテクション機能を設けたEEPROM(Electrically Erasable and Programmable ROM)がある。例えば、(株)日立製作所、平成7年8月発行、第17版「日立ICメモリデータブック3 EEPROM,フラッシュメモリ,EP/OTPROM,マスクROM」の第134頁から第148頁(HN58V1001シリーズ)(以下、従来技術1という。)にその概要が記載されている。特定のアドレスとデータの組合せを3回(3バイト)入力することによって、プロテクションモードに入る。特定のアドレスとデータの組合せを6回(6バイト)入力することによって、プロテクションモードが解除される。前記ソフトウェアデータプロテクションは、メモリ全体の書き込みを禁止するものである。
【0005】
強誘電体メモリをROM部とRAM部とに分割し1チップマイクロコンピュータに搭載して使用する例が、特開平7−114497号(米国出願08/295295号)(以下、従来技術1という。)に記載されている。強誘電体メモリをROM部とRAM部に分割し、ROM部については、誤ってデータが書き込まれることを防止するために、ROM部のアドレス領域に対して書き込みが行われようとした場合、書き込み制御信号が出力されないようにしている。ROM部とRAM部とを連続したアドレス空間に配置し、ROM領域とRAM領域との境界のアドレスを境界設定レジスタに設定することで、ROM領域とRAM領域の容量を可変にしたものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来技術1のEEPROMのソフトウェアデータプロテクションは、メモリ全体の書き込みを禁止/許可をするものである。すなわち、同一メモリをROM部とRAM部とに分割して使用できるものではない。従って、同一のメモリの一部をROMとして使用し、書き換えの保護が行えるものではない。なお、システム全体として複数のメモリを使用して、各メモリ毎に書き込みの禁止/許可を設定することで、同一種類のメモリをROMとしても、RAMとしても使用可能である。しかし、以下に述べるようにRAMとしての使用に課題がある。また、各メモリ毎に書き込みの禁止/許可を設定する複数のライトサイクルが必要があり、使い勝手が良くないという課題がある。
【0007】
一般的にEEPROM等の電気的に書き換え可能な不揮発性メモリのライトサイクルはリードサイクルに比べて非常に長い。また、電気的に書き換え可能な不揮発性メモリのアクセス時間は汎用のダイナッミクRAM(DRAM)に比べても遅い。例えば、従来技術1のEEPROMでは、ライトサイクル時間は最大15msで、リードサイクルのアクセス時間は最大250nsである。従って、RAMとして使用する場合アクセス時間が問題となる。
【0008】
強誘電体メモリは、高速書き換えが可能な(リードサイクルとライトサイクルとが同一又は同程度の)不揮発性メモリである。ただし、強誘電体メモリのアクセス時間は、汎用の単体SRAMより遅く、汎用のダイナッミクRAM(DRAM)又は疑似スタティックRAM(Pseuso Static RAM 、疑似SRAM)とほぼ同程度ある。従って、強誘電体メモリは不揮発性メモリでありながら、RAMとして使用可能である。そこで、強誘電体メモリのピン配置、及びリードサイクルとライトサイクルとのタイミングを汎用の単体のスタティックRAM(SRAM)又は疑似SRAMと同じにし、強誘電体メモリを従来のシステムのRAM、ROMと置き換えることを本願発明者達が検討した。
【0009】
強誘電体メモリをRAM、ROM兼用に使用できるようにするには書き換え禁止機能が必要であり、汎用の単体SRAM又は疑似SRAMと互換性のある強誘電体メモリに書き換え禁止機能を付加するためには以下の課題があることを本願発明者達が明確にした。なお、汎用の単体SRAM又は疑似SRAMで書き換え禁止機能を有するものは、現状みあたらず、汎用の単体SRAM又は疑似SRAMに書き換え禁止機能を付加する場合も同様な課題がある。
【0010】
汎用の単体SRAM又は疑似SRAMのライトサイクルは、アドレス信号が入力され、そしてチップセレクト/CSがアサート(アクティブ)され、その後ライトイネーブル/WEがアサートされる。従って、ライトイネーブル/WEがアサートされるまでは、リードサイクルとして動作する。すなわち、メモリアレイからの読み出し動作を行っている途中で、ライトイネーブル/WEに基づいて生成される書き込み許可信号を用いて、読み出し動作を中断している。強誘電体メモリを汎用の単体SRAM又は疑似SRAMと同様なタイミングのリードサイクル及びライトサイクルにするためには、強誘電体メモリは前記汎用の単体SRAM又は疑似SRAMのライトサイクルと同じ動作をする必要がある。書き換え禁止機能もこれらのサイクルと互換性を保ったものでなければならない。
【0011】
さらに、使い勝手のよい書き換え禁止機能とするためには強誘電体メモリをいくつかのブロックに分割し、ブロック単位で書き換え禁止領域を設定し、かつ書き換え領域を不連続に自由に設定できる機能を付加する。これらの設定は汎用の単体SRAM又は疑似SRAMのリードサイクル又はライトサイクルと同じ動作タイミングの範囲で行わなければならない。具体的には、外部アドレス信号と予め設定された書き換え禁止ブロックのアドレスとを比較して、書き込み許可信号の発生を禁止する。従って、書き換え禁止ブロックのアドレスを記憶する手段とアドレスを比較する手段等が必要になるため、リードサイクルやライトサイクルの制御信号の発生に遅延が生じる。なお、従来技術1の電気的に書き換え可能な不揮発性メモリでは、ライトサイクルがリードサイクルに比べて非常に長いため、遅延が発生してもライトサイクルの時間に比べて無視できるほど小さい。すなわち、リードサイクルとライトサイクルが同程度のメモリに書き換え禁止機能を付加して、RAMとROMを高速なサイクルで兼用する場合、始めて問題になるものである。
【0012】
すなわち、SRAMや疑似SRAMと同様なタイミングで書き換えの保護を行うためには、書き換えを禁止する領域と書き換えを許可する領域の判定を高速に行う必要がある。そのための一つの方法として、領域を判定するアドレスのビット数を減少させることを検討した。すなわち、メモリを複数のブロックに分割することによって、領域を判定するのに必要なアドレスのビット数は減少する。例えば、8つのブロックに分割すると、上位3ビットのアドレスのみの比較で領域の判定ができる。また、複数のブロックに分割することで、各ブロック毎に書き換え禁止/許可を設定し、ROM部とRAM部との領域を自由に設定できる。
【0013】
従来技術2の強誘電体メモリは不連続な書き換え禁止領域を有するものではない。すなわち、任意のアドレスにROM領域とRAM領域を設定することができない。また、ROM領域とRAM領域の判定のためにはアドレスの全ビットを比較する必要がある。従って、判定には時間がかかる。また、汎用の単体SRAM又は疑似SRAMのリードサイクル又はライトサイクルと同じ動作タイミングの範囲にしているものでないため、書き換えを禁止する領域と書き換えを許可する領域の判定を高速に行う必要性の認識はない。
【0014】
本発明の目的は、リードサイクルとライトサイクルが同一又は同程度の不揮発性メモリの柔軟な書き込み保護を実現することにある。
【0015】
また、本発明の他の目的は、汎用の単体SRAM又は疑似SRAMと互換性のあるメモリの書き込み保護を実現することにある。
【0016】
さらに、本発明の他の目的は、上記書き込み保護を実現するための遅延時間を最小にするような最適な回路構成を提供することにある。
【0017】
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
【0018】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
【0019】
すなわち、半導体記憶装置は、複数のブロックに分割され、リードサイクルとライトサイクルが実質的に同一にすることができる不揮発性メモリ素子を有するメモリアレイと、前記複数のブロック毎に書き込み禁止/許可情報を格納する複数の記憶素子と、前記記憶素子への書き込み禁止/許可情報の設定を行う設定手段とを具備し、前記設定手段は、所定の複数のリードサイクル後のライトサイクルで書き込み禁止情報を前記記憶素子に設定する。
【0020】
また、上記半導体記憶装置は電源投入後すべての領域の書き込みを禁止し、電源投入後、格納されていた前記書き込み禁止/許可情報を自動的に設定し、もしくは電源投入後すべての領域の書き込みを禁止し、その後の所定のアドレスの組合せの複数のリードサイクルで格納されていた許可情報の設定を行う。
【0021】
【作用】
これによって、複数のブロック単位で書き込み禁止/許可の設定が可能になり、書き換え保護のかかったROM部とRAM部とが自由に設定できる。また、書き込み禁止/許可の設定が複雑であるため、システムの暴走等による誤設定が防止できる。
【0022】
書き込みの禁止はライトサイクルの前半でアクセスされたアドレスが書き込み禁止領域にあるかどうかを高速にチェックする回路とライトサイクルの後半で書き込み信号をディスエーブルする回路とで実現する。書き込みの禁止は、外部からの書き込みのコントロール信号を内部でディスエーブルにすることによって行っているので、メモリアレイのワード線を立ち上げ、ビット線の信号を増幅するまでは書き込み禁止のライトサイクルでもリードサイクルと同じように行う。このためワード線の立ち上がり後に書き込み禁止ができるようになり、書き込み禁止領域のライトサイクルの高速性を失わずに書き込み禁止を実現できる。
【0023】
アクセスされたアドレスが書き込み禁止領域にあるかを高速にチェックし、かつ設定を不揮発にするために、プロテクトアドレス保持回路を不揮発性メモリとラッチで構成した回路とする。新規に領域設定する場合は同一ライトサイクルでデータを両方に書き込む。これにより、アクセスされたアドレスが書き込み禁止領域にあるかどうかのチェックは不揮発性メモリの情報を読まず、ラッチの出力とプロテクトブロックに対応する上位アドレスのデコード結果を比較することで行い、全アドレスのデコードより速い時間で判定が可能となる。また不揮発性メモリをメモリアレイの一部に追加することで、プロテクトアドレスの新規設定を通常のライトサイクルと同じ方法で行うことができ、書き込み禁止領域の設定情報を不揮発にすることができる。
【0024】
電源投入後は不揮発性メモリの情報をラッチに入れる必要が生じるが、ブロックプロテクトの再設定シーケンスの一部をこの不揮発性メモリセルの読み出しサイクルとすることで、電源投入後に自然にラッチに書き込み禁止領域のアドレス情報をセットすることができる。また、電源電圧検出回路を設けることにより、電源投入後に自動的に不揮発性メモリセルの読み出しサイクルを実行し、不揮発性メモリのアドレス情報をラッチにセットしてもよい。
【0025】
これによって、汎用の単体SRAMや疑似SRAMと同様な高速書き込みができ、書き込み禁止領域の可変なRAM/ROM一体のメモリが実現できる。
【0026】
【発明の実施の形態】
《全体構成》
図1は、本発明に係る強誘電体メモリのブロック図である。強誘電体メモリFMEMは、メモリアレイFMARY、行デコーダRDEC、列デコーダCDEC、I/OラッチIOL、行アドレス・ラッチRAL、列アドレス・ラッチCAL、並びに制御論理及びブロック・プロテクト回路CLBPを有し、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上に形成される。
【0027】
メモリアレイFMARYは、2進情報の1ビットを記憶するメモリセルが1024×256=256K(K=1024)個を有している。強誘電体メモリFMEMは、32Kワード×8ビット構成であるため、行アドレスは10本、列アドレスは5本である。
【0028】
図2は、本発明に係る強誘電体メモリのピン配置図である。強誘電体メモリFMEMはレジンモールド技術により、450mil の28ピン・プラスチックSOP(Small Outline Package) 等に封止される。強誘電体メモリFMEMのピン配置は、32Kワード×8ビット構成の256Kビット疑似SRAM(Pseudo Static RAM )とコンパティブルである。A0〜A14はアドレス入力、I/O0〜I/O7はデータ入出力、/WEはライト・イネーブル、/CEはチップ・イネーブル、/OEは出力イネーブル、Vccは電源( 3V) 、Vssは接地( 0V) である。なお、32Kワード×8ビット構成の256KビットSRAM(Static RAM)とは、20ピンのチップ・セレクト(/CS)信号がチップ・イネーブル(/CE)信号になっているだけで、強誘電体メモリFMEMのピン配置は32Kワード×8ビット構成の256KビットSRAM(Static RAM)とコンパティブルである。
【0029】
チップ・イネーブル(/CE)は“Low”レベルでアクティブ、“High”レベルでインアクティブとなる。チップ・イネーブル(/CE)の立ち下がり時にアドレスA0〜A14を強誘電体メモリFMEM内部に取り込む。
【0030】
アドレス(A0〜A7、A13、A14)が行アドレス、アドレス(A8〜A12)が列アドレスである。
【0031】
ライト・イネーブル(/WE)は、リード/ライトの切替信号で、“Low”レベルのときライトモードになる。チップ・イネーブル(/CE)とライト・イネーブル(/WE)のうち先に立ち上がる信号の立ち上がり時に、ライトデータは強誘電体メモリFMEM内部に取り込まれる。
【0032】
出力イネーブル(/OE)は “Low”レベルでアクティブ、“High”レベルでインアクティブとなる。
【0033】
以下にライト・イネーブル(/WE)、チップ・イネーブル(/CE)、出力イネーブル(/OE)の組合せにおける機能を示す。
【0034】
(1)(/WE、/CE、/OE)=(×、H、×)の場合
強誘電体メモリFMEMは非選択モードになり、データ入出力端子の出力バッファは高インピーダンスになる。ここで、×はH、Lのいずれかで、Hは“High”レベル、Lは“Low”レベルである。
【0035】
(2)(/WE、/CE、/OE)=(H、L、H)の場合
強誘電体メモリFMEMは出力ディスエーブル・モードになり、データ入出力端子の出力バッファは高インピーダンスになる。
【0036】
(3)(/WE、/CE、/OE)=(H、L、L)の場合
強誘電体メモリFMEMはリード・モードになり、データ入出力端子は出力可能になる。
【0037】
(4)(/WE、/CE、/OE)=(L、L、H)の場合
強誘電体メモリFMEMは出力ライト・モードになり、データ入出力端子は入力可能になる。データ入出力端子の出力バッファは高インピーダンスになる。
【0038】
(5)(/WE、/CE、/OE)=(L、L、L)の場合
強誘電体メモリFMEMはライト・モードになり、データ入出力端子は入力及び出力可能になる。
【0039】
《動作タイミング》
図3は本発明に係る強誘電体メモリのリードサイクルのタイミング図で、図4は本発明に係る強誘電体メモリのライトサイクルのタイミング図である。
【0040】
図3に示されるように、リードサイクルは、アドレス(A0〜A14)が入力され、チップ・イネーブル(/CE)が立ち下がり、出力イネーブル(/OE)が立ち下がると、読み出しデータがデータ入出力(I/O0〜I/O7)に出力される。
【0041】
リードサイクル時間(tRC)は、チップ・イネーブル(/CE)が立ち下がってから次にチップ・イネーブル(/CE)が立ち下がることができる時間で、最小時間が規定される。本実施の形態の強誘電体メモリFMEMでは、tRC=235nsである。チップ・イネーブル・パルス幅(tCA)は、最小時間と最大時間が規定される。チップ・イネーブル・プリチャージ時間(tPC)は、次のアクセスに必要なプリチャージ時間で、最小時間が規定される。アドレス・セットアップ時間(tAS)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち下がりに対するアドレスのセットアップ時間で、最小時間が規定される。アドレス・ホールド時間(tAH)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち下がりに対するアドレスのホールド時間で、最小時間が規定される。チップ・イネーブル・アクセス時間(tCE)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち下がりから有効なデータが出力されるまでの時間で、最大時間が規定される。本実施の形態の強誘電体メモリFMEMでは、tCE=150nsである。チップ・ディスエイブル出力遅延(tHZ)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち上がりから有効データが保持される時間で、最小時間と最大時間が規定される。出力イネーブル・アクセス時間(tOE)は、出力イネーブル(/OE)の立ち下がりから有効なデータが出力されるまでの時間で、最大時間が規定される。出力ディスエイブル出力遅延(tOHZ)は、出力イネーブル(/OE)の立ち上がりから有効データが保持される時間で、最大時間が規定される。
【0042】
図4に示されるように、ライトサイクルは、アドレス(A0〜A14)が入力され、ライト・イネーブル(/WE)が立ち下がり、チップ・イネーブル(/CE)が立ち下がり、書き込みデータがデータ入出力(I/O0〜I/O7)に入力されると、チップ・イネーブル(/CE)の立ち上がりで入力データが強誘電体メモリFMEMに取り込まれる。
【0043】
ライトサイクル時間(tWC)は、チップ・イネーブル(/CE)が立ち下がってから次にチップ・イネーブル(/CE)が立ち下がることができる時間で、最小時間が規定される。本実施の形態の強誘電体メモリFMEMでは、tWC=235nsである。ライト・イネーブル・セットアップ時間(tWS)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち下がりに対するライト・イネーブル(/WE)の立ち下がりのセットアップ時間で、最小時間が規定される。ライト・イネーブル・ホールド時間(tWH)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち下がりに対するライト・イネーブル(/WE)の立ち上がりのホールド時間で、最小時間が規定される。入力データセット時間(tDS)は、チップ・イネーブル(/CE)の立ち上がりに対する入力データのセットアップ時間で、最小時間が規定される。
【0044】
《レイアウト》
図5は、本発明に係る強誘電体メモリのレイアウト図である。アドレス(A3〜A14)、電源(Vcc)、ライト・イネーブル(/WE)、出力イネーブル(/OE)のボンディングパッドはチップの上辺に配置されている。アドレス(A0〜A2)、データ入出力(IO/0〜IO/7)、接地(Vss)、チップ・イネーブル(/CE)のボンディングパッドはチップの下辺に配置されている。
【0045】
メモリアレイFMARYは8つに分割されている。メモリアレイMARY0とメモリアレイMARY1の間に行デコーダX−Dec配置されている。メモリアレイMARY2とメモリアレイMARY3の間に行デコーダX−Dec配置されている。メモリアレイMARY4とメモリアレイMARY5の間に行デコーダX−Dec配置されている。メモリアレイMARY6とメモリアレイMARY7の間に行デコーダX−Dec配置されている。左側の4つのメモリアレイ(MARY0、MARY1、MARY2、MARY3)と右側の2つのメモリアレイ(MARY4、MARY5、MARY6、MARY7)との間には列デコーダY−Decが配置されている。
【0046】
《メモリアレイ及び基本動作》
図6は、本発明に係る強誘電体メモリのメモリアレイの回路図である。メモリアレイMARYは図4の各メモリアレイのうちの2つに分割された1つの一部に対応する。メモリアレイMARYは、ワード線WLと、ワード線WLと平行に配置されるプレート線PLと、ワード線WL及びプレート線PLと交差するように配置されるビット線対(BL、/BL)と、ワード線WLとプレート線PLとビット線対(BL、/BL)との交差点に配置されるメモリセルMCとがマトリックス状に複数配置されて構成される。
【0047】
メモリセルMCは、2つのトランジスタ(Q1、Q2)と2つの強誘電体コンデンサ(C1、C2)とで構成される。このようなメモリセルは、2T2C(2Transistor−2Capacitance)構造のメモリセルと呼ばれている。2T2C構造のメモリセルは、2つの強誘電体コンデンサに対して排他的なデータを保持することで、強誘電体コンデンサの劣化に対して強く、データの読み出しを安定にしている。
【0048】
図7は、強誘電体メモリのメモリアレイの動作タイミング図である。以下に基本動作を説明する。
【0049】
(1)基本書き込み動作
共通入出力線(IO、IOB)に与えられた書き込みデータにより、列デコーダY−Decによって選択されたビット線BL、ビット線/BLが排他論理に固定される。ビット線BLが“High”レベル、ビット線/BLが“Low”レベルの場合について説明する。そして、行デコーダX−Decによって選択されたプレート線PLが“Low”レベルになる。
【0050】
次に、行デコーダX−Decによって選択されたワード線WLが“High”レベルになり、Nチャネル型MOSトランジスタQ1、Q2が導通状態になる。このとき、ビット線/BLに接続される強誘電体コンデンサC2は、プレート線PLとビット線/BLとが“Low”レベルになっているため分極反転を起こさず、現状のデータをそのまま保持する。しかし、ビット線BLに接続される強誘電体コンデンサC1は、プレート線PLが“Low”レベルでビット線BLが“High”レベルであるので、その方向で分極反転を起こす。従って、強誘電体コンデンサC1に対するデータの書き込みが行われる。
【0051】
次に、プレート線PLを“Low”レベルから“High”レベルに遷移させる。この動作によって、プレート線PLとビット線BLとが“High”レベルになっているため強誘電体コンデンサC1は先程の分極状態を保持する。一方、強誘電体コンデンサC2は、プレート線PLが“High”レベルでビット線/BLが“Low”レベルであるので、その方向で分極反転を起こす。この分極反転の方向は強誘電体コンデンサC1のそれとは反対方向となる。従って、強誘電体コンデンサC1のデータと排他論理のデータが強誘電体コンデンサC2に対して書き込まれる。このように、相反する方向に書き込むことのよって、読み出し時に比較的簡単にデータを判別することができる。
【0052】
最後に、ワード線WLを“Low”レベルにして、Nチャネル型MOSトランジスタQ1、Q2を遮断状態にすることで書き込みシーケンスは終了する。
【0053】
(2)基本読み出し動作
強誘電体コンデンサC1は、上( Nチャネル型MOSトランジスタQ1側)が“High”レベル、下(プレート線PL側)が“Low”レベルで分極され、強誘電体コンデンサC2は、上( Nチャネル型MOSトランジスタQ2側)が“Low”レベル、下(プレート線PL側)が“High”レベルで分極されている場合について説明する。
【0054】
まず、ビット線BLとビット線/BLとがグランド電位(“Low”レベル)にプリチャージされる。プリチャージ後、ビット線BLとビット線/BLとはハイインピーダンス状態にされる。
【0055】
次に、行デコーダX−Decによって選択されたプレート線PLを“Low”レベルにした後、行デコーダX−Decによって選択されたワード線WLを“High”レベルにし、Nチャネル型MOSトランジスタQ1、Q2を導通状態にする。これによって、強誘電体コンデンサC1、C2は両端子が“Low”レベルになり、強誘電体コンデンサC1、C2は分極状態を保持する。
【0056】
次に、プレート線PLを“Low”レベルから“High”レベルに遷移させる。この時、強誘電体コンデンサC1、C2から電荷が放出されるが、その放出される電荷量は、元々分極を起こしていた方向によって異なる。プレート線PL側が“Low”レベルに分極された強誘電体コンデンサC1の電荷量は、プレート線PL側が“High”レベルに分極された強誘電体コンデンサC2の電荷量よりも多い。それぞれ放出された電荷はビット線BL、ビット線/BLの電圧として現われる。この場合、強誘電体コンデンサC1の方が多くの電荷を放出するので、ビット線BLの電圧がビット線/BLの電圧よりも高くなる。
【0057】
ビット線BL、ビット線/BLに電圧が発生した時点でセンスアンプ制御信号SACによって、センスアンプSAを動作させ、ビット線BLの電圧とビット線/BLの電圧との差を増幅する。従って、ビット線BLは“High”レベルに、ビット線/BLは“Low”レベルになり、それぞれ共通入出力線IO、IOBに読み出される。
【0058】
以上が読み出しシーケンスであるが、このままでは強誘電体コンデンサC1、C2に蓄えられたデータが破壊されたままになるので、データを書き込む必要がある。
【0059】
これまでのシーケンスで、ビット線BLは“High”レベルに、ビット線/BLは“Low”レベルに、プレート線PLは“Low”レベルに、Nチャネル型MOSトランジスタQ1、Q2が導通状態になっている。従って、この状態で、強誘電体コンデンサC1に再書き込みが行われている。
【0060】
次に、プレート線PLを“Low”レベルから“High”レベルに遷移させる。これによって、強誘電体コンデンサC2のビット線/BL側は“Low”レベルに、プレート線PL側が“High”レベルになり、再書き込みが行われる。この時、強誘電体コンデンサC1は、プレート線PL側及びビット線BL側が“High”レベルになり、先程の分極状態を保持する。
【0061】
最後に、ワード線WLを“Low”レベルにして、 Nチャネル型MOSトランジスタQ1、Q2を遮断状態にすることで読み出しシーケンスは終了する。
【0062】
《ライトプロテクトの設定/解除方法》
図8〜図10は、本発明に係る強誘電体メモリのライトプロテクトの設定/解除方法の一実施の形態を示すシーケンス図である。
【0063】
図8は、チップ全体のライトプロテクトのシーケンスを示している。所定のアドレス($1823、$1820、$1822、$0418、$041B、$0419、$040A)への7サイクルのリードサイクルの実行で、ライトプロテクトの設定を行う。また、所定のアドレス($1823、$1820、$1822、$0418、$041B、$0419、$041A)への7サイクルのリードサイクルの実行で、ライトプロテクトの解除を行う。設定と解除は7サイクル目のアドレスのみが異なる。
【0064】
図9は、ブロックプロテクトの設定シーケンスを示している。所定のアドレス($1823、$1820、$1822、$0418、$041B、$0419、$041A)への7サイクルのリードサイクルの実行後、8サイクル目の所定のアドレス($040F)へのライトサイクルの実行で、ライトプロテクトの設定を行う。8サイクル目のライトサイクルのデータ入出力(I/O0〜I/O7)の入力データによって、ライトプロテクト設定ブロックが設定される。
【0065】
図10は、ブロックプロテクトの再設定シーケンスを示している。所定のアドレス($1823、$1820、$1822、$0418、$041B、$0419、$041A)への7サイクルのリードサイクルの実行後、8サイクル目の所定のアドレス($040F)へのリードサイクルの実行で、ライトプロテクトの再設定を行う。8サイクル目のリードサイクルよって、ライトプロテクト再設定ブロックが設定される。すなわち、先のライトプロテクト設定シーケンスによってメモリアレイFMARYに記憶されているブロックプロテクトデータがラッチに読み出されて、再設定される。
【0066】
強誘電体メモリFMEMは、8つのブロックに分割されている。図11は、ブロック番号と上位3ビットアドレス(A14、A13、A12)との関係及びブロック番号とデータ入出力I/Oの番号との関係を示している。8サイクル目のライトサイクルの8ビットのデータのそれぞれが8つのブロックのライトプロテクトの設定/解除に対応する。データ入出力I/O0〜I/O7がそれぞれブロック0〜ブロック7に対応する。“1”がライトプロテクトの設定を表わし、“0”がライトプロテクトの解除を表わす。
【0067】
図12は、本発明に係る強誘電体メモリのメモリアドレス空間を示している。ブロック0が下位アドレス側で、ブロック7が上位アドレス側である。各ブロックは4KBの容量である。図13は、ブロックプロテクトの設定シーケンスの8サイクル目にデータ入出力I/Oに入力されたデータの例を示す。I/O0、I/O1、I/O7が“1”になっている。これに対応して、図12のメモリアドレス空間のブロック0、ブロック1、ブロック7がライトプロテクトされる。
【0068】
図8〜図10のライトプロテクトの設定/解除のシーケンスに必要なリードサイクル又はライトサイクルは、CPUが所定のプログラムを実行することによって行われる。前記プログラムは、システム立ち上げ用のブートプログラムの一部に入っている。図14は、ブートプログラムが強誘電体メモリFMEMとは別のブートROMに格納される場合のシステムを示している。図15は、ブートプログラムが強誘電体メモリFMEM内に別のシステム(パーソナルコンピュータ等)で書き込まれた後、本システムに強誘電体メモリFMEM挿入した場合のシステムを示している。
【0069】
《ライトプロテクトの全体構成》
図16は、本願発明に係るライトプロテクトのブロック図である。図16に示されるように、強誘電体メモリFMEMの全体(全ビット)をライトプロテクトするのか、一部だけのブロックプロテクトなのか、プロテクト無しかを検出するコマンド検出回路CDCと、コマンド検出回路CDCの出力に従って動作状態を決める動作状態保持回路OSHCと、プロテクトする領域を記憶しておくプロテクトアドレス保持回路PAHCと、アクセスされたアドレスをデコードするアドレスデコーダADECと、アクセスされたアドレスがプロテクトされている領域にあるかどうかを判定するアドレス比較回路ACCと、アドレスがプロテクトされている領域でプロテクト状態にある場合に書き込みを禁止するライトプロテクト回路WPCからなる。
【0070】
コマンド検出回路CDCはコマンドを検出した場合出力S1を出し、動作状態保持回路OSHCの状態を変える。アドレス比較回路ACCはプロテクトアドレスの情報S3とアドレスデコーダADECの出力S4とを比較して、比較結果S5を出力する。ライトプロテクト回路WPCは動作状態保持回路OSHCの出力S2に従い、比較結果S5が“High”レベルの場合書き込みを制御する。
【0071】
《コマンド検出回路及び動作状態保持回路》
図17は、コマンド検出回路CDC及び動作状態保持回路OSHCの詳細ブロック図である。図17に示すように、コマンド検出回路CDCは入力アドレスをデコードするコマンドアドレスデコーダCDECと、強誘電体メモリFMEMの外部仕様で決められた固定アドレス($1823、$1820、$1822、$0418、$041B、$0419、$041A等)を保持する固定アドレス保持回路FAHCと、コマンドアドレスデコーダCDECの出力と固定アドレス保持回路の出力を比較するアドレス比較回路CMPと、コマンドアドレスの入力順番を検査するコマンドシーケンス検出回路CSDCとで構成される。固定アドレスと入力アドレスを比較し一致した場合は、アドレス比較回路CMPは信号SQ1、SQ2、SQ3、SQ4、SQ5、SQ6、SQ7E、SQ7D、SQ8のうちの1つを“High”レベルにする。信号SQ1は、入力アドレスが$1823の場合“High”レベルになる。信号SQ2は入力アドレスが$1820の場合“High”レベルになる。信号SQ3は、入力アドレスが$1822の場合“High”レベルになる。信号SQ4は、入力アドレスが$0418の場合“High”レベルになる。信号SQ5は、入力アドレスが$041Bの場合“High”レベルになる。信号SQ6は、入力アドレスが$0419の場合“High”レベルになる。信号SQ7Eは、入力アドレスが$041Aの場合“High”レベルになる。信号SQ7Dは、入力アドレスが$040Aの場合“High”レベルになる。信号SQ8は、入力アドレスが$040Fの場合“High”レベルになる。
【0072】
これらの信号はコマンドシーケンス検出回路CSDCの8段のシフトレジスタの入力信号となる。シフトレジスタSR1の出力と信号SRQ2とが論理積をとられてシフトレジスタSR2に入力される。シフトレジスタSR2の出力と信号SRQ3とが論理積をとられてシフトレジスタSR3に入力される。シフトレジスタSR3の出力と信号SRQ4とが論理積をとられてシフトレジスタSR4に入力される。シフトレジスタSR4の出力と信号SRQ5とが論理積をとられてシフトレジスタSR5に入力される。シフトレジスタSR5の出力と信号SRQ6とが論理積をとられてシフトレジスタSR6に入力される。シフトレジスタSR6の出力と信号SR7Eとが論理積をとられてシフトレジスタSR7Eに入力される。シフトレジスタSR6の出力と信号SR7Dとが論理積をられてシフトレジスタSR7Dに入力される。シフトレジスタSR7Dの出力と信号SR8とが論理積をとられてシフトレジスタSR8に入力される。これらのシフトレジスタによって入力されたアドレスのシークエンスがチェックされる。入力されたアドレスのシークエンスがすべて一致した場合そのシークエンスに従って、出力であるライトプロテクトイネーブル信号SQE、ディスエーブル信号SQD、ブロックプロテクト信号SQBを出力する。
【0073】
動作状態保持回路OSHCは2つのラッチL1、L2より構成され、ライトプロテクトイネーブル信号SQE、ディスエーブル信号SQD、ブロックプロテクト信号SQBによりラッチL1、L2の状態を変える。このラッチは次のコマンドが入力されるまで、ライトプロテクトの動作のモードを保持する。現在の動作モードはラッチL1の出力WPEとラッチL2の出力WPBとで表わされる。WPEが“High”レベルの場合は強誘電体メモリFMEM全体がライトプロテクトされる状態を示す。WPBが“High”レベルの場合は強誘電体メモリFMEMの一部のブロックがライトプロテクトされうる状態を示す。電源投入時は図20に示される電源検出回路VDCからの信号PORによりラッチL1がセットされ、全ビットプロテクト状態にされ、書き込みを禁止した状態にされる。
【0074】
《プロテクトアドレス保持回路及びライトプロテクト回路》
図18は、プロテクトアドレス保持回路PAHC、アドレスデコーダADEC、アドレス比較回路ACC、ライトプロテクト回路WPC等の回路図である。図18には、前記回路以外に、共通入出力線IO、IOB、センスアンプSA、メモリアレイMARY、行デコーダX−Dec、列デコーダY−Dec、メインアンプMA、出力回路OC、入力回路ICが示されている。強誘電体メモリFMEMの入出力データは8ビット構成であるので、共通入出力線IO、IOB、メインアンプMA、出力回路OC、入力回路IC等はそれぞれ8つある。また、メモリアレイMARYも複数有り、各メモリアレイMARYは、複数のビット線対を有し、それに対応してセンスアンプSA及びカラムスイッチYSWが接続される。しかし、図面が複雑になるのを避けるため、図18では、1ビットのみを示している。
【0075】
プロテクトアドレス保持回路PAHCは、8つの不揮発性メモリ(強誘電体メモリ)と8つのラッチPALとからなっている。不揮発性メモリはチップ内部で特殊なアドレスを持っており、ブロックプロテクトのコマンドアドレスシークエンスで8サイクル目になると、信号SQBにより通常の行デコーダY−Decからこのアドレスへの切り替えが行われる。この8サイクル目がリードサイクルである場合(図10のブロックプロテクトの再設定シーケンス)は、この特別な番地のメモリセルがアクセスされ、このメモリセルの情報が読み出され、共通入出力線IO、IOBを通して、ラッチ制御信号LACのタイミングでラッチPALへ情報がコピーされる。
【0076】
また、ブロックプロテクトのシークエンスで8サイクル目がライトサイクルの場合(図9のブロックプロテクトの設定シーケンスの場合)はデータ入出力端子(InputData)から通常のライトサイクルと同じように新規のデータがこの特別番地のメモリセルへ書き込まれる。また、このサイクル終了時にラッチ制御信号LACにより同じデータがラッチPALにも書き込まれる。書き込まれる8ビットのデータは各ビットが8つの領域(ブロック)に対応しており、“1”(“High”レベル)の場合は対応するブロックがライトプロテクトされることを意味する。なお、電源投入後は、8つのラッチPALは“High”レベルにセットされ、全ブロックがライトプロテクトされる。従って、電源投入後は図10に示すようなブロックプロテクトの再設定シーケンスが必要である。また、8つの不揮発性メモリ(強誘電体メモリ)は、半導体メーカから出荷される時は、“0”にクリアされている。
【0077】
プロテクトアドレス保持回路PAHCの8ビットの出力S3は、3ビットのアドレスA12−A14をデコードするアドレスデコーダADECの出力S4とアドレス比較回路ACCにより比較され、一致したアドレスがある場合は1ビットの出力結果S5が“High”レベルになる。このアドレス比較回路ACCによる比較は、デコード済みのラッチPALの出力信号S3とアドレス(A12−A14)のデコード信号の比較であるため、高速に行うことができる。
【0078】
ライトプロテクト回路WPCでは、内部書き込み信号WE0と動作状態保持回路OSHCの出力S2(WPE、WPB)とコマンド検出回路CDCの出力S1(SQB)より書き込みデータの入力を制御するスイッチ回路SW1のコントロール信号である書き込み許可信号WE1を生成する。書き込み許可信号WE1は“High”レベルの場合、スイッチ回路SW1は導通状態になり、入力回路ICからの入力データが共通入出力線IO、IOBに入力される。
【0079】
書き込み制御回路WCは、チップ・イネーブル信号/CEとライト・イネーブル信号/WEに基づいて内部書き込み信号WE0を生成する。チップ・イネーブル信号/CEとライト・イネーブル信号/WEが共に“Low”レベルで、かつ書き込み禁止の判定結果Fが出力されるタイミングより遅いタイミングで内部書き込み信号WE0が“High”レベルになるようにしている。WPBとアドレス比較回路の出力がS5とが“High”レベルでの場合、Fが“High”レベルになり、内部書き込み信号WE0はディスエーブルされる。また、WPEが“High”レベルでの場合も、内部書き込み信号WE0はディスエーブルされる。その結果、書き込み許可信号WE1は“Low”レベルに保たれる。このため外部からの入力データ(InputData)はスイッチ回路SW1でカットされ、内部はリード動作と同じ状態を保つ。なお、スイッチ回路SW1の代わりにカラムスイッチYSWを制御することによっても入力データ(InputData)はカットされる。すなわち、書き込み許可信号WE1をWE1´に接続することによって、制御信号DECを“Low”レベルにし、入力データ(InputData)をメモリアレイに入力することを禁止することができる。このため、外部からは書き込みが禁止されているように働く。この方法によりメモリアレイをリード動作に保ちながら書き込みを禁止でき、リードによるデータの再書き込みでデータが保証される。
【0080】
なお、ブロックプロテクトのシーケンスの8サイクル目がライトサイクルの場合は、SQBが“High”レベルになり、書き込み許可信号WE1が“High”レベルなる。また、 SQBが“High”レベルになると、プロテクトアドレス保持回路PAHCの不揮発性メモリセルと共通入出力線IO、IOBとが接続され、書き込みができるようになる。
【0081】
コマンド検出回路CDCと動作状態保持回路OSHCとは、図5に示したレイアウト図のチップの上辺に側(メモリアレイMARY0、MARY4の上)に配置される。また、プロテクトアドレス保持回路PAHC、アドレスデコーダADEC、アドレス比較回路ACC及びライトプロテクト回路WPCは、図5に示したレイアウト図のチップの下辺に側(メモリアレイMARY3、MARY8の下)に配置される。なお、プロテクトアドレス保持回路PAHCの不揮発性メモリはメモリアレイ(MARY0、MARY1、MARY2、MARY3、MARY4、MARY5、MARY6、MARY7)内に配置される。これは、通常のメモリアレイと行デコーダX−Dec等が共通に使用できるからである。
【0082】
また、プロテクトアドレス保持回路PAHCのラッチPALとアドレス比較回路ACCとアドレスデコーダADECとがチップの下辺側に配置することで、ライトプロテクトのアドレス領域のアクセスか否かの判定が最小の遅延時間で行える。
【0083】
さらに、チップの下側にはデータ入出力端子が配置されるため、メインアンプMA及び出力回路OCもチップの下側に配置する。従って、共通入出力線I0、IOBがチップの下辺に配置されるので、ラッチPALをチップの下辺に配置すると、チップの上辺に配置するより配線本数が削減できる。これは、チップの上辺にはアドレスの配線が多数配置されるため、共通入出力線I0、IOBをチップの上辺に引き出すとその分配線数が増大する。また、アドレス(A0、A1、A2)の端子周辺では、メインアンプMA及び出力回路OCのような比較的大きな回路がないため、空きスペースができる。そこに、プロテクトアドレス保持回路PAHCのラッチPALとアドレス比較回路ACCとアドレスデコーダADECとを配置することで、チップ面積の増大を最小限に抑えて、ライトプロテクト機能が付加できる。
【0084】
図19は、ブロックプロテクトが設定されたブロックへのライトサイクルが実行された場合の図18に示される各信号の波形を示している。
【0085】
チップ・イネーブル信号/CEが“Low”レベルになると、内部チップ・イネーブル信号CE0が“High”レベルになる。その結果、アドレス比較回路ACCの出力S5が有効になる(“High”レベルになる)。ブロックプロテクト状態であるので、WPBが“High”レベルに固定されている。従って、アドレス比較回路ACCの出力S5が“High”レベルになると、信号Fは“Low”レベルから“High”レベルに遷移する。その結果、内部書き込み信号WE0が“High”レベルになっても、書き込み許可信号WE1は“Low”レベルを保つ。なお、図19の書き込み許可信号WE1、共通入出力線IO、IOB及びビット線BL、BKBのタイミング波形の点線で示してある部分は、信号Fが“Low”レベルであれば、このタイミングでそれぞれ信号が変化することを示している。
【0086】
一方、行デコーダX−Decで選択されたワード線WL及びプレート線PLが“High”レベルなり、メモリセルMCの内容がビット線BL、BLBに読み出される。センスアンプ制御信号SACが“High”レベルになって、ビット線BL、BLBの信号がセンスアンプSAで増幅される。このとき、メモリセルMC内容は破壊される。しかし、センスアンプSAによって、再書き込みが行われる。プレート線PLが“High”レベルのとき、一方の強有電体コンデンサに再書き込みが行われ、プレート線PLが“Low”レベルのとき、他方の強有電体コンデンサに再書き込みが行われる。
【0087】
書き込み許可信号WE1が“Low”レベルであるので、入力データ(Input Data)は、スイッチSW1で共通入出力線IO、IOBに入力されることを阻止される。従って、共通入出力線IO、IOBは、メモリアレイMARYから読み出されたレベルを保持する。
【0088】
チップ・イネーブル信号/CEが“High”レベルになると、内部チップ・イネーブル信号CE0が“Low”レベルになる。その結果、アドレス比較回路ACCの出力S5が無効になる(“Low”レベルになる)。また、内部書き込み信号WE0も“Low”レベルになる。従って、アドレス比較回路ACCの出力S5が“Low”レベルになると、信号Fは“Low”レベルになる。
【0089】
《電源電圧検出回路》
図20は、電源電圧検出回路の一実施の形態を示す図である。電源電圧検出回路VDCは、電圧検出回路VDとパルス発生回路PGとで構成される。図21に示すように、電圧検出回路VDは、電源電圧が所定の電圧(Threshold Voltage)より高い場合、信号PDを“High”レベルにする。また、パルス発生回路PGは、インバータ回路と遅延回路(Delay )及び論理積回路とで構成され、信号PDが“Low”レベルから“High”レベルに変化したとき、一定幅のパルスPORを発生する。すなわち、電源電圧検出回路VDCは、電源投入を検出する回路である。
【0090】
《変形例》
図22は、本発明に係る強誘電体メモリのライトプロテクト回路の変形例の回路図である。電源投入後ブロックライトプロテクトの再設定シーケンスを実行することなく、ブロックプロテクトデータがプロテクトアドレス保持回路PAHCの不揮発性メモリからラッチPALに設定することができる回路である。すなわち、ブロックライトプロテクトの再設定シーケンスの8サイクル目のリードサイクルを電源投入後強誘電体メモリFMEM内部で自動的に行うものである。
【0091】
電源電圧検出回路VDCは、図20と同一のものである。疑似内部チップイネーブル生成回路CEPORGは、電源投入を知らせるパルス信号PORを受けて、内部チップイネーブル信号CEOを生成するたの信号CEPORBを生成する。図23及び図24に示すように、パルス信号PORが“High”レベルになるとフリップフロップFFがセットされ、信号CEPORBが“Low”レベルになる。2つの遅延回路(Delay)、インバータ回路及び論理和回路によって、信号CEPORBの“High”レベルから“Low”レベルに変化する立ち下がりエッジ検出回路を形成して、所定の時間遅れたパルス信号EOCBを生成する。パルス信号EOCBが“Low”レベルになると、フリップフロップFFをリセットされ、信号CEPORBが“High”レベルになる。チップ・イネーブル信号/CEと電圧検出回路の出力PDの反転信号とで論理和をとられ信号と、信号CEPORBとはNAND回路に入力され、内部チップイネーブル信号CE0を生成する。
【0092】
信号CEPORBは、チップ制御回路(Chip Control)に入力され、疑似的にリードサイクルに必要な制御信号(Read Cycle Controls)を生成する。すなわち、図18のプロテクトアドレス保持回路PAHCの不揮発性メモリを読み出すのに必要なアドレス及び制御信号を発生する。また、信号CERORBの反転信号は、図17の信号SQBと論理和をとって信号SQB´を生成する。信号SQB´は図18の信号SQBの代わりに使用される。
【0093】
これによって、電源投入後ブロックライトプロテクトの再設定シーケンスを外部から実行することなく、ブロックライトプロテクトの再設定ができるので強誘電体メモリFMEMの使い勝ってがよくなる。
【0094】
本実施の形態では、書き込みを禁止するのはライト・イネーブル信号/WEを内部でディスエーブルにすることによって行い、メモリアレイMARYが選択されてからワード線WLを立ち上げ、ビット線BL、BLBの信号を増幅するまでは書き込み禁止のライトサイクルでもリードサイクルと同じように行う。このためワード線PLの立ち上がり後に書き込み禁止ができるようになり、書き込み禁止領域のライトサイクルの高速性を失わず図4のタイミング規定でも書き込み禁止を実現できる。
【0095】
本実施の形態では、プロテクトアドレス保持回路PAHCを不揮発性メモリとラッチPALで構成した回路としている。新規にライトプロテクトするのブロックを設定する場合は同一ライトサイクルでデータを不揮発性メモリとラッチPALの両方に書き込む。これにより、アクセスされたアドレスが書き込み禁止領域にあるかどうかのチェックは不揮発性メモリの情報を読まず、ラッチPALの出力とプロテクトブロックに対応する上位アドレスのデコード結果を比較することで行い、全アドレスのデコードより速い時間で判定が可能となる。また不揮発性メモリをメモリアレイMARYの一部に追加することで、プロテクトアドレスの新規設定を通常のライトサイクルと同じ方法で行うことができ、書き込み禁止領域の設定情報を不揮発にすることができる。
【0096】
電源投入後は不揮発性メモリの情報をラッチPALに入れる必要が生じるが、本実施の形態ではブロックプロテクトのシーケンスの8サイクル目でアドレスを内部で切り替え、この不揮発性メモリセルの読み出しサイクルとすることで、電源投入後に自然にラッチPALに書き込み禁止領域のアドレス情報をセットすることができる。
【0097】
これによって、汎用の単体SRAMや疑似SRAMと同様な高速書き込みができ、書き込み禁止領域の可変なRAM/ROM一体のメモリが実現できる。
【0098】
以上本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、メモリセルは、2T2C構造でなく、ダイナミックRAMと同様な1T 1C 構造のものであっても良い。1T 1C 構造のメモリセルを使用した場合、汎用DRAMと同様に大容量化が可能になる。ライトプロテクトするブロックの指定は、データ入出力I/Oから入力されるデータに1対1対応して指定したが、データ入出力I/Oから入力されるデータをデコードして対応させてもよい。この場合、分割ブロック数がデータ入出力I/Oの数より多くなっても指定が可能になる。特定のアドレスの組合せでリードサイクルを実施することで、プロテクトシーケンスを行ったが、従来技術1のEEPROMのように特定のアドレスとデータの組合せを3回(3バイト)入力することによって、プロテクションモードに入り、特定のアドレスとデータの組合せを6回(6バイト)入力することによって、プロテクションモードが解除されるようにしてもよい。この場合、入力端子を1本増加させ、この端子が所定の状態の場合は、解除シーケンスの次に新規にブロックプロテクトを設定するか、ブロックプロテクトの再設定を行う。この場合、EEPROMとピン配置を合わせるとよい。
【0099】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
【0100】
すなわち、複数のブロック単位で書き込み禁止/許可の設定が可能になり、書き換え保護のかかったROM部とRAM部とが自由に設定できる。また、書き込み禁止/許可の設定が複雑であるため、システムの暴走等による誤設定が防止できる。
【0101】
ワード線の立ち上がり後に書き込み禁止ができるようになり、書き込み禁止領域のライトサイクルの高速性を失わずに書き込み禁止を実現できる。
【0102】
アクセスされたアドレスが書き込み禁止領域にあるかどうかのチェックは不揮発性メモリの情報を読まず、ラッチの出力とプロテクトブロックに対応する上位アドレスのデコード結果を比較することで行い、全アドレスのデコードより速い時間で判定が可能となる。また不揮発性メモリをメモリアレイの一部に追加することで、プロテクトアドレスの新規設定を通常のライトサイクルと同じ方法で行うことができ、書き込み禁止領域の設定情報を不揮発にすることができる。
【0103】
電源投入後は不揮発性メモリの情報をラッチに入れる必要が生じるが、ブロックプロテクトの再設定シーケンスの一部をこの不揮発性メモリセルの読み出しサイクルとすることで、電源投入後に自然にラッチに書き込み禁止領域のアドレス情報をセットすることができる。
【0104】
汎用の単体SRAMや疑似SRAMと同様な高速書き込みができ、書き込み禁止領域の可変なRAM/ROM一体のメモリが実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】強誘電体メモリのブロック図である。
【図2】強誘電体メモリのピン配置図である。
【図3】強誘電体メモリのリードサイクルのタイミング図である。
【図4】強誘電体メモリのライトサイクルのタイミング図である。
【図5】強誘電体メモリのレイアウト図である。
【図6】強誘電体メモリのメモリアレイの回路図である。
【図7】強誘電体メモリのメモリアレイの動作タイミング図である。
【図8】強誘電体メモリのライトプロテクションの設定/解除方法の一部を示すシーケンス図である。
【図9】強誘電体メモリのブロックプロテクトの設定方法を示すシーケンス図である。
【図10】強誘電体メモリのブロックプロテクトの再設定方法を示すシーケンス図である。
【図11】強誘電体メモリの書き換え禁止領域の設定方法を示す図である。
【図12】強誘電体メモリのメモリアドレス空間を示す図である。
【図13】強誘電体メモリの図12に対応する書き換え禁止の設定方法を示す図である。
【図14】強誘電体メモリのライトプロテクトの設定/解除を行うためのプログラムが格納される場所を示す図である。
【図15】強誘電体メモリのライトプロテクトの設定/解除を行うためのプログラムが格納される場所の他の例を示す図である。
【図16】強誘電体メモリのライトプロテクト回路のブロック図である。
【図17】強誘電体メモリのライトプロテクト回路の一部の回路図である。
【図18】強誘電体メモリのライトプロテクト回路の他の一部の回路図である。
【図19】強誘電体メモリのライトプロテクト回路のタイミング図である。
【図20】強誘電体メモリの電源検出回路の回路図である。
【図21】図20の電源検出回路のタイミング波形を示す図である。
【図22】強誘電体メモリのライトプロテクト回路の変形例の回路図である。
【図23】図22の疑似内部チップイネーブル発生回路の回路図である。
【図24】図22及び図23の回路図のタイミング波形を示す図である。
【符号の説明】
FMEM 強誘電体メモリ
FMARY メモリアレイ
RDEC 行デコーダ
CDEC 列デコーダ
IOL I/Oラッチ
RAL 行アドレス・ラッチ
CAL 列アドレス・ラッチ
CLBP 制御論理及びブロック・プロテクト回路
MARY0 メモリアレイ
MARY1 メモリアレイ
MARY2 メモリアレイ
MARY3 メモリアレイ
MARY4 メモリアレイ
MARY5 メモリアレイ
MARY6 メモリアレイ
MARY7 メモリアレイ
X−Dec 行デコーダ
Y−Dec 列デコーダ
MARY メモリアレイ
WL ワード線
PL プレート線
(BL、/BL) ビット線対
MC メモリセル
Q1 トランジスタ
Q2 トランジスタ
C1 強誘電体コンデンサ
C2 強誘電体コンデンサ
SA センスアンプ
SAC センスアンプ制御信号
IO 共通入出力線
IOB 共通入出力線

Claims (18)

  1. 複数のブロックに分割され、リードサイクルとライトサイクルのアドレスアクセス時間が互いに実質的に同一である不揮発性メモリ素子を有するメモリアレイと、
    前記複数のブロック毎に書き込み禁止/許可情報を格納する複数の記憶素子と、
    前記記憶素子への書き込み禁止/許可情報の設定を行う設定手段とを具備する半導体記憶装置であって、
    前記設定手段は、所定の複数のリードサイクル後のライトサイクルで書き込み禁止情報を前記記憶素子に設定することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 請求項1に記載の半導体記憶装置は、さらに前記記憶素子の情報を記憶し、電源投入後は第1の状態になる第2の記憶素子を有し、
    電源投入後、前記第2の記憶素子の内容に基づいて複数のブロックのすべてを書き込み禁止し、前記記憶素子に格納されていた前記書き込み禁止/許可情報を自動的に前記第2の記憶素子に設定することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 請求項1に記載の半導体記憶装置は、さらに前記記憶素子の情報を記憶し、電源投入後は第1の状態になる第2の記憶素子を有し、
    電源投入後、前記第2の記憶素子の内容に基づいて複数のブロックのすべてを書き込み禁止し、その後書き込み禁止/許可情報を設定するために所定のアドレスが入力される所定の複数のリードサイクルを実行することで前記記憶素子に格納されていた前記書き込み禁止/許可情報を前記第2の記憶素子に設定することを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 請求項2又は請求項3に記載の半導体記憶装置であって、前記記憶素子は不揮発性メモリ素子であり、前記第2の記憶素子はラッチ回路であることを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 請求項4に記載の半導体記憶装置であって、前記記憶素子は前記メモリアレイの中にあることを特徴とする半導体記憶装置。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の半導体記憶装置は、さらにライトコマンド信号においてアクセスされたアドレスと前記複数の記憶素子に格納された書き込み禁止/許可情報とを比較する比較手段と、前記比較手段が前記アクセスされたアドレスが書き込み禁止であると表示した場合、前記アクセスされたアドレスにおいて書き込みを禁止する書き込み禁止手段とを有するライトプロテクト回路を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  7. 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の半導体記憶装置であって、前記リードサイクルと前記ライトサイクルの少なくとも初期の段階は互いに同一であることを特徴とする半導体記憶装置。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の半導体記憶装置であって、前記不揮発性メモリ素子は強誘電体メモリを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  9. 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の半導体記憶装置であって、前記不揮発性メモリ素子の一部はROMであり、前記不揮発性メモリ素子の他の一部はRAMであることを特徴とする半導体記憶装置。
  10. 複数のブロックに分割された複数の強誘電体メモリを具備する不揮発性強誘電体メモリアレイと、
    リードサイクルとライトサイクルのアドレスアクセス時間が互いに実質的に同一であり、前記リードサイクルと前記ライトサイクルの少なくとも初期の段階が互いに同一であり、前記リードサイクルと前記ライトサイクルの間、前記強誘電体メモリにアクセスするアドレス手段と、
    前記強誘電体メモリの前記ブロックの全体をライトプロテクトするのか、一部だけのプロテクトなのか、プロテクト無しかを検出する検出手段と、ライトプロテクトされる前記強誘電体メモリのいくつかのブロックのアドレスを格納する記憶手段と、ライトコマンド信号からアクセスされたアドレスとライトプロテクトされる前記格納されたアドレスとを比較する比較手段と、前記比較手段が前記アクセスされたアドレスが書き込み禁止であると表示した場合、前記アクセスされたアドレスにおいて書き込みを禁止する書き込み禁止手段とを具備するライトプロテクト回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  11. 請求項10に記載の半導体記憶装置であって、前記強誘電体メモリの前記ブロックの少なくとも一つはROM部分であり、前記不揮発性メモリの前記ブロックの他の一つはRAM部分であることを特徴とする半導体記憶装置。
  12. 複数のメモリブロックを具備し、その各々が強誘電体キャパシタンスを有する複数のメモリセルを有する強誘電体メモリアレイと、
    前記メモリブロックの各々に対応する書き込み禁止情報を格納する第1の回路と、
    前記強誘電体メモリアレイの所定のリードサイクル後の前記強誘電体メモリアレイのライトサイクルで前記書き込み禁止情報を前記第1の回路内に設定する第2の回路とを含むことを特徴とする半導体記憶装置。
  13. 請求項12に記載の半導体記憶装置において、
    前記強誘電体メモリアレイの所定のアドレスに7サイクルのリードサイクルが行われた後、8サイクルで前記第1の回路の所定のアドレスへのライトサイクル実行で、前記第1の回路内に前記書き込み禁止情報が設定されることを特徴とする半導体記憶装置。
  14. 請求項13に記載の半導体記憶装置において、
    前記第1の回路内に格納された前記書き込み禁止情報は、前記ライトサイクルの入力データに対応することを特徴とする半導体記憶装置。
  15. 請求項14に記載の半導体記憶装置において、
    前記第1の回路は、前記書き込み禁止情報を格納する強誘電体キャパシタンスを含むことを特徴とする半導体記憶装置。
  16. 複数のメモリブロックを具備し、その各々が強誘電体キャパシタンスを有する複数のメモリセルを有し、リードサイクルとライトサイクルのアドレスアクセス時間が互いに実質的に同一である強誘電体メモリアレイと、
    前記メモリブロックの各々に対応する書き込み禁止情報を格納する第1の回路と、
    前記第1の回路から読み出された前記書き込み禁止情報を格納するラッチ回路とを含み、
    前記強誘電体メモリアレイの所定のアドレスに2以上のリードサイクルが行われた後、前記第1の回路の所定のアドレスへのライトサイクルが行われる間、前記ラッチ回路に前記書き込み禁止情報が設定されることを特徴とする半導体記憶装置。
  17. 複数のメモリブロックを具備し、その各々が強誘電体キャパシタンスを有する複数のメモリセルを有し、リードサイクルとライトサイクルのアドレスアクセス時間が互いに実質的に同一である強誘電体メモリアレイと、
    前記メモリブロックの各々に対応する書き込み禁止情報を格納する第1の回路と、
    前記第1の回路から読み出された前記書き込み禁止情報を格納するラッチ回路とを含み、
    前記強誘電体メモリアレイの所定のアドレスに7サイクルのリードサイクルが行われた後、8サイクルで前記第1の回路の所定のアドレスへのライトサイクルが行われる間、前記ラッチ回路に前記書き込み禁止情報が設定されることを特徴とする半導体記憶装置。
  18. 請求項17に記載の半導体記憶装置において、
    前記第1の回路は、前記書き込み禁止情報を格納する強誘電体キャパシタンスを含むことを特徴とする半導体記憶装置。
JP06949197A 1996-09-30 1997-03-24 半導体記憶装置 Expired - Lifetime JP3955932B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/723,367 1996-09-30
US08/723,367 US5818771A (en) 1996-09-30 1996-09-30 Semiconductor memory device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10106275A JPH10106275A (ja) 1998-04-24
JP3955932B2 true JP3955932B2 (ja) 2007-08-08

Family

ID=24905930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06949197A Expired - Lifetime JP3955932B2 (ja) 1996-09-30 1997-03-24 半導体記憶装置

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5818771A (ja)
JP (1) JP3955932B2 (ja)
KR (1) KR100475264B1 (ja)
TW (1) TW365675B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11264083B2 (en) * 2018-11-09 2022-03-01 HKC Corporation Limited Data protection system and protection method of display apparatus

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3542002B2 (ja) 1996-09-24 2004-07-14 株式会社ルネサステクノロジ システム
JP3489708B2 (ja) * 1996-10-23 2004-01-26 シャープ株式会社 不揮発性半導体記憶装置
JP4000654B2 (ja) * 1997-02-27 2007-10-31 セイコーエプソン株式会社 半導体装置及び電子機器
FR2771839B1 (fr) * 1997-11-28 2000-01-28 Sgs Thomson Microelectronics Memoire non volatile programmable et effacable electriquement
JP3905204B2 (ja) * 1998-01-27 2007-04-18 富士通株式会社 半導体記憶装置
JP3544859B2 (ja) * 1998-05-11 2004-07-21 富士通株式会社 不揮発性半導体メモリを使用した2次記憶装置
JP3749789B2 (ja) * 1998-06-08 2006-03-01 株式会社東芝 半導体記憶装置
US6321332B1 (en) * 1998-06-17 2001-11-20 Intel Corporation Flexible control of access to basic input/output system memory
KR100291182B1 (ko) * 1998-10-28 2001-07-12 박종섭 강유전체메모리장치
JP2000268581A (ja) * 1999-03-17 2000-09-29 Fujitsu Ltd Romデータを保持する強誘電体メモリ装置
DE19911794B4 (de) * 1999-03-17 2005-10-06 Robert Bosch Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Absicherung bei Veränderung des Speicherinhalts von Steuergeräten
JP4621314B2 (ja) * 1999-06-16 2011-01-26 株式会社東芝 記憶媒体
JP2001084754A (ja) * 1999-09-16 2001-03-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路および当該半導体集積回路を備えるメモリモジュール
US6292874B1 (en) * 1999-10-19 2001-09-18 Advanced Technology Materials, Inc. Memory management method and apparatus for partitioning homogeneous memory and restricting access of installed applications to predetermined memory ranges
US6331950B1 (en) * 1999-10-19 2001-12-18 Fujitsu Limited Write protect input implementation for a simultaneous operation flash memory device
US6850914B1 (en) * 1999-11-08 2005-02-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Revocation information updating method, revocation informaton updating apparatus and storage medium
DE10016719A1 (de) * 2000-04-04 2001-10-11 Infineon Technologies Ag Integrierter Speicher und Verfahren zur Funktionsprüfung von Speicherzellen eines integrierten Speichers
JP4463378B2 (ja) * 2000-05-02 2010-05-19 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 不揮発性半導体記憶装置
FR2810152A1 (fr) * 2000-06-13 2001-12-14 St Microelectronics Sa Memoire eeprom securisee comprenant un circuit de correction d'erreur
JP3891539B2 (ja) * 2000-06-15 2007-03-14 シャープ株式会社 半導体装置およびその制御装置
US7089427B1 (en) * 2000-11-28 2006-08-08 Nintendo Co., Ltd. Security system method and apparatus for preventing application program unauthorized use
US6996721B2 (en) * 2001-03-27 2006-02-07 Micron Technology, Inc. Flash device security method utilizing a check register
US7137893B2 (en) * 2001-05-09 2006-11-21 Wms Gaming Inc. Method and apparatus for write protecting a gaming storage medium
JP4064703B2 (ja) * 2001-05-31 2008-03-19 セイコーインスツル株式会社 半導体記憶装置
JP2003233534A (ja) * 2002-02-07 2003-08-22 Hitachi Ltd メモリシステム
JP2003240652A (ja) * 2002-02-15 2003-08-27 Denso Corp 出力補正回路内蔵型半導体センサ及びトーションバー式トルクセンサ
US6798711B2 (en) * 2002-03-19 2004-09-28 Micron Technology, Inc. Memory with address management
US7330954B2 (en) * 2002-04-18 2008-02-12 Intel Corporation Storing information in one of at least two storage devices based on a storage parameter and an attribute of the storage devices
US20030233562A1 (en) * 2002-06-12 2003-12-18 Sachin Chheda Data-protection circuit and method
KR100482998B1 (ko) * 2002-08-30 2005-04-15 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 강유전체 메모리 제어 장치
KR100492773B1 (ko) * 2002-12-02 2005-06-07 주식회사 하이닉스반도체 확장 메모리 부를 구비한 강유전체 메모리 장치
KR100492774B1 (ko) * 2002-12-24 2005-06-07 주식회사 하이닉스반도체 라이트 보호 영역을 구비한 비휘발성 메모리 장치
JP2004303092A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Fujitsu Ltd メモリ装置、メモリアクセス制限システムおよびメモリアクセス方法
US7523320B2 (en) * 2003-04-22 2009-04-21 Seiko Epson Corporation Fiscal data recorder with protection circuit and tamper-proof seal
KR100614639B1 (ko) * 2003-07-24 2006-08-22 삼성전자주식회사 쓰기 방지 가능한 버퍼 메모리를 갖는 메모리 장치 및그것을 포함하는 정보 처리 시스템
JP2005108273A (ja) 2003-09-26 2005-04-21 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
US7178015B2 (en) * 2004-01-12 2007-02-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Security measures in a partitionable computing system
KR100532510B1 (ko) * 2004-05-04 2005-11-30 삼성전자주식회사 기입 동작시 메모리 셀 어레이의 일부 영역에 기입되는데이터를 마스킹하는 반도체 메모리 장치 및 그 마스킹 방법
JP4117683B2 (ja) * 2004-07-20 2008-07-16 セイコーエプソン株式会社 強誘電体メモリ装置及びその駆動方法
CN101002276B (zh) * 2004-07-29 2010-09-01 斯班逊有限公司 在非易失性存储装置中信息设定之方法及设备
US7212431B2 (en) * 2004-12-29 2007-05-01 Hynix Semiconductor Inc. Nonvolatile ferroelectric memory device and control method thereof
JP4843222B2 (ja) * 2005-01-11 2011-12-21 株式会社東芝 半導体記憶装置の制御方法、メモリカード、及びホスト機器
GB2436272B (en) 2005-01-27 2011-01-19 Spansion Llc Semiconductor device, address assignment method, and verify method
JP4667888B2 (ja) 2005-02-01 2011-04-13 パナソニック株式会社 半導体記憶装置
JP4688584B2 (ja) * 2005-06-21 2011-05-25 株式会社日立製作所 ストレージ装置
JP2007058557A (ja) * 2005-08-24 2007-03-08 Fujitsu Ltd 半導体集積回路装置
KR20070074232A (ko) * 2006-01-09 2007-07-12 삼성전자주식회사 램 영역과 롬 영역을 동시에 가지는 반도체 메모리 장치
WO2007104092A1 (en) * 2006-03-15 2007-09-20 Stargames Corporation Pty Limited A method and arrangement for providing write protection for a storage device
US7746686B2 (en) * 2006-04-21 2010-06-29 Honeywell International Inc. Partitioned random access and read only memory
US20090182977A1 (en) * 2008-01-16 2009-07-16 S. Aqua Semiconductor Llc Cascaded memory arrangement
JP2008226442A (ja) * 2008-04-17 2008-09-25 Spansion Llc 半導体記憶装置
JP2010171772A (ja) * 2009-01-23 2010-08-05 Rohm Co Ltd 携帯電話
JP2010086407A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Rohm Co Ltd 電子機器
CN102171675A (zh) * 2008-10-01 2011-08-31 罗姆股份有限公司 电子设备
JP5381895B2 (ja) * 2010-05-21 2014-01-08 株式会社デンソー 制御装置、保護装置および保護方法
KR20110131721A (ko) * 2010-05-31 2011-12-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US9472252B2 (en) * 2013-03-15 2016-10-18 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for improving retention performance of hierarchical digit lines
JP2017045415A (ja) 2015-08-28 2017-03-02 株式会社東芝 メモリシステム
JP6980006B2 (ja) * 2016-08-31 2021-12-15 マイクロン テクノロジー,インク. 強誘電体メモリセル
TWI761915B (zh) * 2017-02-02 2022-04-21 慧榮科技股份有限公司 資料儲存裝置以及參數改寫方法
CN108389600B (zh) * 2017-02-02 2021-02-26 慧荣科技股份有限公司 数据储存装置以及参数改写方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0535601A (ja) * 1991-07-30 1993-02-12 Fuji Xerox Co Ltd メモリプロテクト方式
DE4205567A1 (de) * 1992-02-22 1993-08-26 Philips Patentverwaltung Verfahren zum steuern des zugriffs auf einen speicher sowie anordnung zur durchfuehrung des verfahrens
JP3594626B2 (ja) * 1993-03-04 2004-12-02 株式会社ルネサステクノロジ 不揮発性メモリ装置
JP2885600B2 (ja) * 1993-03-29 1999-04-26 株式会社東芝 半導体集積回路
US5363334A (en) * 1993-04-10 1994-11-08 Microchip Technology Incorporated Write protection security for memory device
US5513136A (en) * 1993-09-27 1996-04-30 Intel Corporation Nonvolatile memory with blocks and circuitry for selectively protecting the blocks for memory operations
US5488587A (en) * 1993-10-20 1996-01-30 Sharp Kabushiki Kaisha Non-volatile dynamic random access memory
US5668760A (en) * 1996-04-23 1997-09-16 Intel Corporation Nonvolatile memory with a write protection circuit
US5802583A (en) * 1996-10-30 1998-09-01 Ramtron International Corporation Sysyem and method providing selective write protection for individual blocks of memory in a non-volatile memory device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11264083B2 (en) * 2018-11-09 2022-03-01 HKC Corporation Limited Data protection system and protection method of display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10106275A (ja) 1998-04-24
US5912849A (en) 1999-06-15
US5818771A (en) 1998-10-06
TW365675B (en) 1999-08-01
KR19980023980A (ko) 1998-07-06
KR100475264B1 (ko) 2005-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3955932B2 (ja) 半導体記憶装置
KR100395732B1 (ko) 반도체 기억장치
US7292480B2 (en) Memory card having buffer memory for storing testing instruction
US8832522B2 (en) Memory system and method using partial ECC to achieve low power refresh and fast access to data
US6731562B2 (en) Power validation for memory devices on power up
US6246626B1 (en) Protection after brown out in a synchronous memory
US7010643B2 (en) Status register to improve initialization of a synchronous memory
US6456542B1 (en) Synchronous memory status register
GB2431025A (en) Method for initializing non-volatile storage device, and non-volatile storage device
US7177976B2 (en) Top/bottom symmetrical protection scheme for flash
KR100305994B1 (ko) 강유전체메모리를구비한시스템
US6798712B2 (en) Wordline latching in semiconductor memories
JP2002015584A (ja) 不揮発性メモリのリードプロテクト回路
JP4822620B2 (ja) 半導体集積回路
US6697907B1 (en) Hardware initialization of a synchronous memory
US6675255B1 (en) Device initialize command for a synchronous memory
JPH03296986A (ja) 半導体記憶装置
JP2000250665A (ja) 半導体集積回路及びメモリカード
JPWO2003042837A1 (ja) 半導体集積回路
WO2005013282A1 (en) Wordline latching in semiconductor memories
KR0180117B1 (ko) 불휘발성 반도체 메모리
JPH04263198A (ja) メモリ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060307

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060815

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061003

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070110

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070313

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070411

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110518

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110518

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110518

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120518

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120518

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130518

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140518

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term