JP3936479B2 - Thin film electroluminescent material - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、電界の印加によって発光する薄膜エレクトロルミネッセンス(EL)材料に関するものであり、特に薄膜発光層に用いられる材料に関する。
【0002】
【従来技術】
薄膜ELパネルのフルカラー化のために、高輝度で色純度のよい青色を呈するEL発光層材料の研究が進められている。現在までのところ、SrS:Ceが実用化の域に達したほとんど唯一の材料といえる。SrS:Ceの成膜方法にはスパッタ法、EB蒸着法、ALE法等種々の方法があるが、それらのうちの工業的に優れた方法では、Sr、S、Ce等をそれぞれ異なったソースから得るのではなく、SrS:Ce自体をソースとして使用するものが多い。この場合には成膜ソースの物性は膜の物性に特に大きな影響を及ぼすと考えられ、高品質の膜を得るためにはソースの高品質化が欠かせない。
【0003】
従来SrS:Ceは、SrCO3 をCe化合物の添加・混合の前後に900−1180℃の温度でH2 S中で数回焼成することによって得ていた。この方法によって得られたSrS:Ceは、波長280nmで励起した場合に図1の曲線aに示すような発光スペクトルを呈することが多く、ピークの位置が青色蛍光材料として望ましくない。また、励起波長を457nmにしたときには、ピーク位置が図1の曲線bに示すように10nm以上短波長よりにシフトしているが、これは発光がCe3+のみに起因しているとすれば考えられない現象であり、従来法で合成したサンプル中に不純物の混入等により、Ce3+に直接起因すると考えられる発光準位以外の準位が存在することを示唆している。図2に従来法で合成したSrS:Ceの反射スペクトルを示す。320nm付近にCe3+に起因と見られる吸収ピークが見られるが、その他に可視域全域にわたって反射率が落ちている。即ち、この状態ではCe3+が発光したとしても、自己吸収作用により効率良く外部に取り出せない。SrSのバンドギャップの値から可視域には本来吸収は存在しないと考えられ、この点からもCe3+以外の発光中心の存在が推察される。上記の如く、従来の薄膜EL材料では、該材料を発光層としたときに、良好な薄膜EL素子を得ることができなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、色純度、色座標に優れた高効率な青色蛍光体が得られる薄膜EL材料及び、該材料を発光層とする薄膜EL素子を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、次に示す薄膜EL材料によって達成される。即ち、本発明は、セリウムを添加した硫化ストロンチウムであって、波長420nmにおける反射率をA、波長320nmにおける反射率をBとしたときに、次式:A/B>1.5を満たし、かつ波長1000nmにおける反射率が0.8を超えること、あるいは、波長280nmの光で励起した時と、波長450nmの光で励起した時とで発光スペククトルのピーク位置が10nm以上変化しないこと、の少なくとも一方を満たすことを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセンス材料である。
【0006】
発光イオンとしてSrS中に含有されるセリウムの濃度は0.01〜10モル%、好ましくは、0.1〜1モル%である。10モル%以上であると、濃度消光による輝度低下が著しくなり、0.01モル%以下では充分な輝度が得られない。また、A/B≦1.5であるような場合は、SrS中に固溶している光学的に活性なCe3+の濃度が充分でないと考えられ、薄膜化してEL素子として使用する場合に充分な輝度が得られない。また、1000nmにおける反射率が0.9よりも小さい場合にはCe3+以外の光学中心が多く、Ce3+の発光を吸収してしまい、発光効率が低下する。本発明におけるSrS:Ceは例えば次のような方法で得られる。即ち、SrCO3 をCe化合物の添加前後に、1000〜1200℃程度の温度で、H2 S中で数回焼成した後、Arまたは窒素ガス中で1200℃程度の温度で最終焼成することによって得られる。この最終焼成を行うことにより、色純度に優れ、発光効率の高いSrS:Ceが得られる。なお、最終焼成の雰囲気はAr・窒素ガスに限らず、その他の不活性気体を用いても良い。また、本発明は、前記記載の薄膜エレクトロルミネッセンス材料を発光層に用いた薄膜エレクトロルミネッセンス素子である。
【0007】
本発明の薄膜EL素子は、上記した薄膜材料を発光層として用いるものである。このような薄膜EL素子の構成を示す一例を図3に示す。同図において、1はAl等の上部電極(背面電極)、2は上部絶縁層、3はバッファ層、4は発光層、5は下部絶縁層、6はITO等の下部電極(透明電極)、7はガラス基板である。上部絶縁層2はSiO2 層21、Si3 N4 層22からなり、下部絶縁層5はSi3 N4 層51、SiO2 層52からなる。
【0008】
【実施例】
実施例1
SrCO3 を出発原料としてH2 S中で800℃で3時間焼成した後篩い分けし、この篩い分け品を更にH2 S中で1000℃で6時間焼成した後篩い分けする。これにCe2 S3 を0.1mol%、KClを0.2mol%添加し良く混合した後、H2 S中で1180℃で4時間焼成した後篩い分けする。この篩い分け品を更にH2 S中で1180℃で4時間焼成した後、篩い分けする。この篩い分け品を更にH2 S中で1180℃で4時間焼成した後篩い分けする。この篩い分け品を更にAr中で1200℃で5時間焼成する。図4に3次〜5次硫化後の各段階における発光スペクトルを示す。硫化回数が増すにつれて発光強度は増加するが、同時にピ−ク位置が長波長に移動し、ピーク形状もダブルピークからシングルピークに変化している。
図5の曲線aに5次硫化後にAr処理を施したサンプルの発光スペクトルを示す。発光強度が増大し、ピ−ク位置が短波長に移動し、ピーク形状がダブルピークに変化している。図6にこのサンプルの反射スペクトルを示す。Ar処理後のサンプルでは、発光スペクトルの形状がCe3+の発光スペクトルの形状と一致し、また反射スペクトルも可視域においてCe3+のピーク以外の吸収が見られず、高い反射率を保っていることから欠陥等の非常に少ないSrS:Ceであると考えられる。
また、Ar処理後のサンプルを再度H2 S中で1180℃で4時間焼成したサンプルの発光スペクトルを図5の曲線bに示す。再びピーク位置が長波長に移動し、発光強度が低下し、ピーク形状がシングルピークになることがわかる。
【0009】
実施例2
SrCO3 を出発原料としてH2 S中で800℃で3時間焼成した後篩い分けし、この篩い分け品を更にH2 S中で1000℃で6時間焼成した後篩い分けする。これにCe2 S3 を0.1mol%、KClを0.2mol%添加し良く混合した後、H2 S中で1180℃で4時間焼成した後篩い分けする。この篩い分け品を更にH2 S中で1180℃で4時間焼成した後、篩い分けする。この篩い分け品を更にH2 S中で1180℃で4時間焼成した後篩い分けする。この篩い分け品を更にN2 中で1200℃で5時間焼成する。このようにして得られたSrS:Ceの発光スペクトルを図7に、反射スペクトルを図8に示す。N2 処理後には発光スペクトルの形状がCe3+の発光スペクトルの形状と一致し、また反射スペクトルも可視域においてCe3+のピーク以外の吸収が見られず、高い反射率を保っていることから欠陥等の非常に少ないSrS:Ceであると考えられる。
【0010】
比較例1
SrCO3 を出発原料としてH2 S中で800℃で3時間焼成した後篩い分けし、この篩い分け品を更にH2 S中で1000℃で6時間焼成した後篩い分けする。次に、H2 S中で1180℃で4時間焼成した後篩い分けする。この篩い分け品を更にH2 S中で1180℃で4時間焼成した後、篩い分けする。この篩い分け品を更にH2 S中で1180℃で4時間焼成した後篩い分けする。3次、4次、5次硫化後の各段階におけるサンプルの発光スペクトルを図9に示す。セリウムを添加していないにもかかわらず、4次硫化後には540nmにピークを持つ発光スペクトルが得られた。
【0011】
実施例1、2より過剰なS分が、発光ピークの長波長移動の原因となっていることが推察される。これは比較例1で、セリウム無添加でも540nmのピークの発光が観察されることからも裏付けられる。高次硫化後にAr中またはN2 中での焼成により、発光スペクトルの形状、位置、強度が変化したのはSrSX (x>1)のような組成部からSが脱離してストイキオメトリに近付き、光学活性なセリウムが増加したためと考えられる。また実施例では、セリウムの他に電荷補償のために、KClを添加しているが、他に1価の陽イオンとなるリチウム、ナトリウム、ルビジウム等も使用できる。また、全く添加しないことも可能である。
【0012】
【発明の効果】
本発明の薄膜EL材料を発光層とする薄膜EL素子を用いると、色純度、色座標に優れた高効率な青色蛍光体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 発光スペクトル
【図2】 反射スペクトル
【図3】 薄膜EL素子の構造を示す概略図。
【図4】 発光スペクトル
【図5】 発光スペクトル
【図6】 反射スペクトル
【図7】 発光スペクトル
【図8】 発光スペクトル
【図9】 発光スペクトル
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a thin film electroluminescence (EL) material that emits light when an electric field is applied, and particularly to a material used for a thin film light emitting layer.
[0002]
[Prior art]
For full colorization of a thin-film EL panel, research on an EL light emitting layer material exhibiting blue with high luminance and good color purity is underway. To date, it can be said that SrS: Ce is almost the only material that has reached the point of practical use. There are various SrS: Ce film forming methods such as sputtering, EB vapor deposition, and ALE, but industrially superior methods among them include Sr, S, Ce, etc. from different sources. In many cases, SrS: Ce itself is used as a source. In this case, it is considered that the physical properties of the film forming source have a great influence on the physical properties of the film, and in order to obtain a high quality film, it is indispensable to improve the quality of the source.
[0003]
Conventionally, SrS: Ce has been obtained by firing SrCO3 several times in H2 S at a temperature of 900-1180 DEG C. before and after addition and mixing of the Ce compound. SrS: Ce obtained by this method often exhibits an emission spectrum as shown by curve a in FIG. 1 when excited at a wavelength of 280 nm, and the peak position is not desirable as a blue fluorescent material. In addition, when the excitation wavelength is 457 nm, the peak position is shifted from 10 nm or more to a shorter wavelength as shown by the curve b in FIG. 1. This is considered to be due to the fact that the emission is caused only by Ce3 +. This indicates that there is a level other than the emission level that is considered to be directly attributable to Ce3 + due to contamination of impurities in the sample synthesized by the conventional method. FIG. 2 shows the reflection spectrum of SrS: Ce synthesized by the conventional method. An absorption peak that appears to be caused by Ce3 + is observed near 320 nm, but the reflectance is reduced over the entire visible range. That is, in this state, even if Ce3 + emits light, it cannot be taken out efficiently due to self-absorption. From the value of the band gap of SrS, it is considered that there is essentially no absorption in the visible region, and from this point, the existence of emission centers other than Ce3 + is inferred. As described above, in the conventional thin film EL material, when the material is used as the light emitting layer, a good thin film EL element cannot be obtained.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a thin film EL material from which a highly efficient blue phosphor excellent in color purity and color coordinates can be obtained, and a thin film EL element using the material as a light emitting layer.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The above object is achieved by the following thin film EL material. That is, the present invention is strontium sulfide to which cerium is added, and when the reflectance at a wavelength of 420 nm is A and the reflectance at a wavelength of 320 nm is B, the following formula: A / B> 1.5 is satisfied, and At least one of the reflectance at a wavelength of 1000 nm exceeding 0.8, or the peak position of the emission spectrum does not change by 10 nm or more when excited with light having a wavelength of 280 nm and when excited with light having a wavelength of 450 nm. It is a thin film electroluminescent material characterized by satisfy | filling.
[0006]
The density | concentration of the cerium contained in SrS as a luminescent ion is 0.01-10 mol%, Preferably, it is 0.1-1 mol%. When the amount is 10 mol% or more, the luminance is significantly lowered due to concentration quenching, and when the amount is 0.01 mol% or less, sufficient luminance cannot be obtained. Further, when A / B ≦ 1.5, it is considered that the concentration of optically active Ce3 + dissolved in SrS is not sufficient, which is sufficient when the film is used as an EL device with a thin film. High brightness cannot be obtained. Further, when the reflectance at 1000 nm is smaller than 0.9, there are many optical centers other than Ce3 +, and the light emission of Ce3 + is absorbed, resulting in a decrease in luminous efficiency. SrS: Ce in the present invention can be obtained, for example, by the following method. That is, SrCO3 is obtained by firing several times in H2 S at a temperature of about 1000 to 1200 DEG C. before and after the addition of the Ce compound, and then finally firing at a temperature of about 1200 DEG C. in Ar or nitrogen gas. By performing this final baking, SrS: Ce having excellent color purity and high luminous efficiency can be obtained. The final firing atmosphere is not limited to Ar / nitrogen gas, and other inert gases may be used. Moreover, this invention is a thin film electroluminescent element using the thin film electroluminescent material of the said description for the light emitting layer.
[0007]
The thin film EL element of the present invention uses the above-described thin film material as a light emitting layer. An example showing the structure of such a thin film EL element is shown in FIG. In the figure, 1 is an upper electrode (back electrode) such as Al, 2 is an upper insulating layer, 3 is a buffer layer, 4 is a light emitting layer, 5 is a lower insulating layer, 6 is a lower electrode (transparent electrode) such as ITO, 7 is a glass substrate. The upper insulating layer 2 comprises a SiO2 layer 21 and a Si3 N4 layer 22, and the lower insulating layer 5 comprises a Si3 N4 layer 51 and a SiO2 layer 52.
[0008]
【Example】
Example 1
SrCO3 is used as a starting material and calcined in H2 S at 800 ° C. for 3 hours and then sieved. The sieved product is further calcined in H2 S at 1000 ° C. for 6 hours and sieved. To this, 0.1 mol% of Ce2 S3 and 0.2 mol% of KCl are added and mixed well, followed by baking in H2 S at 1180 ° C. for 4 hours and then sieving. The sieved product is further baked at 1180 ° C. for 4 hours in H 2 S and then sieved. The sieved product is further baked in H2 S at 1180 ° C. for 4 hours and then sieved. The sieved product is further fired at 1200 ° C. for 5 hours in Ar. FIG. 4 shows emission spectra at each stage after the third to fifth sulfurization. The emission intensity increases as the number of times of sulfiding increases, but at the same time, the peak position shifts to a longer wavelength, and the peak shape also changes from a double peak to a single peak.
A curve a in FIG. 5 shows an emission spectrum of a sample subjected to Ar treatment after the fifth sulfurization. The emission intensity increases, the peak position shifts to a short wavelength, and the peak shape changes to a double peak. FIG. 6 shows the reflection spectrum of this sample. In the sample after Ar treatment, the shape of the emission spectrum coincides with the shape of the emission spectrum of Ce3 +, and the reflection spectrum does not show any absorption other than the peak of Ce3 + in the visible range. It is considered that SrS: Ce is very little.
Further, the emission spectrum of a sample obtained by baking the Ar-treated sample again at 1180 ° C. in H 2 S for 4 hours is shown by a curve b in FIG. It can be seen that the peak position again moves to the long wavelength, the emission intensity decreases, and the peak shape becomes a single peak.
[0009]
Example 2
SrCO3 is used as a starting material and calcined in H2 S at 800 ° C. for 3 hours and then sieved. The sieved product is further calcined in H2 S at 1000 ° C. for 6 hours and sieved. To this, 0.1 mol% of Ce2 S3 and 0.2 mol% of KCl are added and mixed well, followed by baking in H2 S at 1180 ° C. for 4 hours and then sieving. The sieved product is further baked at 1180 ° C. for 4 hours in H 2 S and then sieved. The sieved product is further baked in H2 S at 1180 ° C. for 4 hours and then sieved. The sieved product is further calcined at 1200 ° C. for 5 hours in N2. The emission spectrum of SrS: Ce thus obtained is shown in FIG. 7, and the reflection spectrum is shown in FIG. After N2 treatment, the shape of the emission spectrum coincides with the shape of the emission spectrum of Ce3 +, and the reflection spectrum shows no absorption other than the peak of Ce3 + in the visible range. Is considered to be less SrS: Ce.
[0010]
Comparative Example 1
SrCO3 is used as a starting material and calcined in H2 S at 800 ° C. for 3 hours and then sieved. The sieved product is further calcined in H2 S at 1000 ° C. for 6 hours and sieved. Next, after baking at 1180 ° C. for 4 hours in H 2 S, sieving. The sieved product is further baked at 1180 ° C. for 4 hours in H 2 S and then sieved. The sieved product is further baked in H2 S at 1180 ° C. for 4 hours and then sieved. FIG. 9 shows the emission spectrum of the sample at each stage after the third, fourth and fifth sulfurization. In spite of no addition of cerium, an emission spectrum having a peak at 540 nm was obtained after the fourth sulfurization.
[0011]
It is surmised that the excessive S component in Examples 1 and 2 causes the long wavelength shift of the emission peak. This is supported by the fact that, in Comparative Example 1, emission of a peak at 540 nm is observed even without addition of cerium. The shape, position, and intensity of the emission spectrum changed by firing in Ar or N2 after high-order sulfidation, and S was desorbed from the composition part such as SrSX (x> 1), approaching stoichiometry. This is probably because optically active cerium increased. In the embodiment, KCl is added for charge compensation in addition to cerium, but lithium, sodium, rubidium, etc., which are monovalent cations, can also be used. It is also possible not to add at all.
[0012]
【The invention's effect】
When a thin film EL element using the thin film EL material of the present invention as a light emitting layer is used, a highly efficient blue phosphor excellent in color purity and color coordinates can be obtained.
[Brief description of the drawings]
1 is an emission spectrum; FIG. 2 is a reflection spectrum; and FIG. 3 is a schematic diagram showing the structure of a thin film EL element.
[Figure 4] Emission spectrum [Figure 5] Emission spectrum [Figure 6] Reflection spectrum [Figure 7] Emission spectrum [Figure 8] Emission spectrum [Figure 9] Emission spectrum

Claims (3)

セリウムを添加した硫化ストロンチウムであって、波長420nmにおける反射率をA、波長320nmにおける反射率をBとしたときに、次式:A/B>1.5を満たし、かつ波長1000nmにおける反射率が0.8を超えること、あるいは、波長280nmの光で励起した時と、波長450nmの光で励起した時とで発光スペククトルのピーク位置が10nm以上変化しないこと、の少なくとも一方を満たすことを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセンス材料。Strontium sulfide added with cerium, where the reflectance at a wavelength of 420 nm is A and the reflectance at a wavelength of 320 nm is B, the following formula is satisfied: A / B> 1.5, and the reflectance at a wavelength of 1000 nm is It is characterized by satisfying at least one of exceeding 0.8, or when the peak position of the emission spectrum does not change by 10 nm or more when excited with light with a wavelength of 280 nm and when excited with light with a wavelength of 450 nm Thin film electroluminescent material. セリウムの添加量が0.01〜10モル%であることを特徴とする請求項1記載の薄膜エレクトロルミネッセンス材料。The thin film electroluminescent material according to claim 1, wherein the amount of cerium added is 0.01 to 10 mol%. 請求項1記載の薄膜エレクトロルミネッセンス材料を発光層に用いた薄膜エレクトロルミネッセンス素子。A thin film electroluminescent device using the thin film electroluminescent material according to claim 1 as a light emitting layer.
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