JP3920023B2 - 加熱調理装置自動洗浄方法と加熱調理装置自動洗浄装置 - Google Patents

加熱調理装置自動洗浄方法と加熱調理装置自動洗浄装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液体を用いて加熱調理装置の少なくとも加熱調理室を自動的に洗浄するための方法と装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えばドイツ連邦共和国特許出願第19838864号明細書には、加熱調理室を洗浄するための方法と、そのめに使用される装置が記載されている。この装置の場合には、少なくとも1個の噴霧ノズルを加熱調理室内に配置可能であり、この噴霧ノズルは回転自由度3までの回転運動に加えて、回転中心において回動が可能である。従って、加熱調理室全体と場合によってその中に配置されたレール等への最適な噴霧が行われる。その際、噴霧ノズルは逆流防止部材を介して、家庭水道のような慣用の給水網に接続可能である。更に、噴霧ノズルと、洗浄液、すすぎ剤およびまたは脱灰剤のための1つまたは複数の容器との間の接続は、それぞれ1個の弁を介して行うことができる。これは水、洗浄剤、脱灰剤およびまたはすすぎ剤の多量の消費につながる。これは全世界で限りある資源の点から不利である。
【0003】
他方では、食器洗い装置の分野で、すすぎ水を循環すること、すなわち少なくとも一部を再使用することが知られている。
【0004】
特別なセンサ装置を使用して加熱調理プロセスを制御することは、最近定着してきた。インテリジェント加熱調理プロセスセンサも既に開発されている(ドイツ連邦共和国特許出願第19945021号明細書参照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、技術水準の欠点を克服し、特に水、洗浄剤、脱灰剤、すすぎ剤およびまたはその類似物の消費が減少するように、冒頭に述べた種類の方法と装置を改良することである。
【0006】
【課題を解決するための手段と発明の効果】
方法に関する課題は、洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似物を含む第1の液体およびまたは洗浄時に加熱調理室から排出される第3の液体を少なくとも部分的に浄化することによって得られる第2の液体から、液体が選択されることによって解決される。
【0007】
その際好ましくは、液体が、加熱調理室の汚染度、加熱調理室の材料、加熱調理室内の温度、加熱調理室内の気体の運動度およびまたはその類似特性のような検出された加熱調理室特性と、運転方法、運転時間、加熱調理物の種類、加熱調理物の重量、加熱調理ドア開放頻度およびまたはその類似特性のような加熱調理装置運転状態、およびまたは液体の汚染度、液体の硬度またはその類似特性のような第1,第2およびまたは第3の液体の特性によって選択される。
【0008】
装置に関する課題は本発明に従い、少なくとも1個の噴霧ヘッドを備え、少なくとも1個の第1の貯槽からの、洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似物のような第1の液体およびまたは加熱調理室の排水管に接続された、少なくとも第2の貯槽、浄化ユニットおよびポンプユニットを備えた処理装置からの第2の液体が、管路系を経て前記噴霧ヘッドに供給可能であることによって解決される。
【0009】
この場合、洗浄の際に加熱調理室から排水管を経て流出する第3の液体から第2の液体を得るための浄化ユニットが、フィルタ装置等の形をした分離ユニットを備えている。
【0010】
本発明に従って更に、第2の貯槽内に第2の液体を一時的に貯蔵可能であり、処理装置が、第3の貯槽等に通じるような、第4の液体のための出口を備え、第4の液体が第2の液体と共に第3の液体をなし、第4の液体が第2の液体よりも汚染されていることが提案される。
【0011】
本発明では更に、第1およびまたは第2の液体が、特にそれぞれ制御または調整可能な弁を介して制御または調整可能に、ポンプユニットによって噴霧ヘッドに供給可能である。
【0012】
本発明による有利な実施の形態は、処理装置がセンサユニットを備え、このセンサユニットが特にポンプユニット、弁、ファン、ヒータおよびまたは表示装置を制御または調整するためのデータを出力することを特徴とする。
【0013】
その際、センサユニットが加熱調理室の汚染度、加熱調理室の材料、加熱調理室内の温度、加熱調理室内の気体の運動度およびまたはその類似特性のような加熱調理室特性と、運転方法、運転時間、加熱調理物の種類、加熱調理物の重量、加熱調理ドア開放頻度およびまたはその類似特性のような加熱調理装置運転状態、およびまたは液体の汚染度、液体の硬度またはその類似特性のような第1、第2およびまたは第3の液体の特性を検出する。
【0014】
本発明に従って更に、センサユニットが光学的特性、コンダクタンス、臭気およびまたはpH値によって汚染度を検出することが提案される。
【0015】
本発明によって更に、センサユニットが、第1、第2およびまたは第3の貯槽の充填レベルを検出することが提案される。
【0016】
本発明の他の実施形は、噴霧ヘッドが動くことができ、噴霧ヘッドの動きがセンサユニットを介して検出、制御およびまたは調整可能であることを特徴とする。
【0017】
本発明では、センサユニットが加熱調理プロセスセンサに一体化されているかまたは加熱調理プロセスセンサに接続可能であることが提案される。
【0018】
本発明は、従来のように水道と、洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤およびまたはその類似物のための貯蔵容器に直接的に接続する代わりに、排出する洗浄水の少なくとも一部が再使用されるときに、資源を大幅に節約可能であるという認識に基づいている。その際、汚染度の高い汚染水を直接排出し、汚染度の低い汚染水を洗浄回路に改めて供給すると特に有利である。洗浄回路の制御は本発明に従い特に、特別なセンサ装置を介して自動的に行われる。
【0019】
用語“液体”は、液状の媒体によって一緒に運ばれる、特に液体を汚染する粒子、破片またはその類似物を含んでいる。
【0020】
【発明の実施の形態】
本発明の他の特徴と効果は次の記載から明らかである。次の記載では、図に基づいて、本発明による実施の形態を詳細に説明する。
【0021】
慣用の加熱調理装置1は加熱調理室2を備えている。この加熱調理室は図1と図2に示すように、空気案内板3によってファン室4から分離されている。ファン室4内にはファン5とヒータ6が配置されている。加熱調理室2内には、挿入部品等の取付け架台7が配置され、加熱調理室2は加熱調理室ドア8を介してドア取っ手9によって閉止可能である。
【0022】
加熱調理室2内には、少なくとも加熱調理室を自動洗浄するための本発明による装置の構成部品として、回転運動可能な噴霧アーム10が設けられている。この噴霧アームは一端が加熱調理室の壁に固定され、自由端には、互いに反対向きとされた2個の噴霧ヘッド11a、11bを備えている。この噴霧ヘッドは共通の回転個所の回りに回転可能である。噴霧アーム10と噴霧ヘッド11a、11bからなるこのような装置の1つが、ドイツ連邦共和国特許出願第19838864号明細書に記載されているので、これ以上の詳細についてはこの明細書の開示内容を参照されたい。噴霧ヘッド11a、11bには、供給管路系から液体継手12を経て液体が供給される。この場合、供給管路系は水道(図示せず)からの新鮮な上水のための供給管13aと、3個の貯槽14a、14b、14cの少なくとも1つから他の液体を供給するための供給管13bを備えている。その際、貯槽14a内にはすすぎ剤と脱灰剤が収容され、貯槽14b内には洗浄剤が収容され、貯槽14cには加熱調理室2からの廃水が収容される。この廃水は加熱調理室2から排水管15を経て貯槽14cに達する。貯槽14cからの廃水は所定の大きさよりも大きな汚染物質を除去するための分離(浄化)ユニット16を通過した後で、循環ポンプ17により供給管13bを経て噴霧ヘッド11a、11bに供給可能である。
【0023】
それによって本発明では、洗浄プロセスの度に新しい水、洗浄剤、すすぎ剤およびまたは脱灰剤が用いられるのではなく、既に洗浄のために使用した廃水が少なくとも部分的に再処理されて使用される、すなわちリサイクルされる。
【0024】
そのために、分離ユニット16はフィルタ装置であってもよく、貯槽14a、14b、14cから供給管13bを経て噴霧ヘッド11a、11bに至る接続部分に、制御可能な弁(図示せず)を配置してもよい。この弁は循環ポンプ17と同様に、本発明に従い好ましくはセンサユニット(図示せず)に接続されている。このセンサユニットは例えば貯槽14c内の廃水の汚染度と、貯槽14a、14b、14cの貯留レベルを検出し、洗浄方法を制御するために適切なデータを出力する。検出されたデータを処理するために、センサユニットはマイクロプロセッサ(図示せず)を備えているかまたはマイクロプロセッサに接続されている。センサユニットは検出されたデータを表示するために、表示装置(図示せず)に作用的に接続されている。更に、センサユニットはドイツ連邦共和国特許出願第19945021号明細書に記載されているような加熱調理プロセスセンサ(加熱調理プロセスプローブ)に一体化可能であるかまたはこの加熱調理プロセスセンサに接続可能である。
【0025】
センサユニットの使用に基づいて更に、洗浄プロセスの廃水のリサイクルにもかかわらず、その後の洗浄プロセスの際に所望の加熱調理室洗浄が保証されるという利点がある。その際、例えばドイツ連邦共和国特許出願第19838864号明細書に記載されているように、液体による洗浄は、特にセンサユニットを介してヒータ6の温度、ファン5の回転速度を制御することによって補助することが可能である。
【0026】
以上の記載、図面および特許請求の範囲に開示された本発明の特徴は、単独でも任意のあらゆる組み合わせでも、いろいろな実施の形態で本発明を実施するために重要である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による装置を備えた加熱調理室の断面図である。
【図2】図1のA−A線に沿った断面図である。
【符号の説明】
1 加熱調理装置
2 加熱調理室
3 空気案内板
4 ファン室
5 ファン
6 ヒータ
7 取付け架台
8 加熱調理室ドア
9 ドア取っ手
10 噴霧アーム
11a、11b 噴霧ヘッド
12 液体継手
13a、13b 供給管
14a、14b、14c 貯槽
15 排水管
16 浄化ユニット
17 ポンプユニット

Claims (10)

  1. 液体を用いて加熱調理装置の少なくとも加熱調理室を自動的に洗浄するための方法であって、
    洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似特性を含む第1の液体およびまたは洗浄時に加熱調理室から排出される第3の液体を少なくとも部分的に浄化することによって得られる第2の液体から、前記液体が選択され、
    前記液体の選択が、加熱調理室の汚染度、加熱調理室の材料、加熱調理室内の温度、加熱調理室内の気体の運動度およびまたはその類似特性を含む加熱調理室特性と、
    運転方法、運転時間、加熱調理物の種類、加熱調理物の重量、加熱調理ドア開放頻度およびまたはその類似特性を含む加熱調理装置運転状態と、
    液体の汚染度、液体の硬度またはその類似特性を含む前記第1、前記第2およびまたは前記第3の液体の特性と、の少なくとも1つを検知するセンサユニットからのデータに基づいて行われると共に、前記データに基づき加熱調理室を洗浄する噴霧ヘッドの動作を制御することを特徴とする方法。
  2. 請求項1記載の方法で、液体を用いて加熱調理装置の少なくとも加熱調理室を自動的に洗浄するための装置であって、
    少なくとも1個の噴霧ヘッドを(11a、11b)と、
    洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似物を含む第1の液体を貯留する少なくとも1個の第1の貯槽(14a、14b)と、
    加熱調理室(2)の排水管(15)に接続され、第2の貯槽(14c)、浄化ユニット(16)およびポンプユニット(17)を備え、第2の液体を供給する処理装置と、
    前記第1及び第2の液体を前記噴霧ヘッドに供給可能である管路系(12、13a、13b)と、
    少なくとも加熱調理室の状態を検知するセンサユニットと、
    を備えることを特徴とする装置。
  3. 洗浄の際に前記加熱調理室(2)から排水管(15)を経て流出する前記第3の液体から前記第2の液体を得るための浄化ユニット(16)が、フィルタ装置等の形をした分離ユニットを備えていることを特徴とする請求項記載の装置。
  4. 前記第2の貯槽内に前記第2の液体を一時的に貯蔵可能であり、前記処理装置が、第3の貯槽等に通じる第4の液体のための出口を備え、前記第4の液体が前記第2の液体と共に前記第3の液体をなし、前記第4の液体が前記第2の液体よりも汚染されていることを特徴とする請求項または記載の装置。
  5. 前記第1およびまたは前記第2の液体が、特にそれぞれ制御または調整可能な弁を介して制御または調整可能に、ポンプユニット(17)によって噴霧ヘッド(11a、11b)に供給可能であることを特徴とする請求項からのいずれか一つに記載の装置。
  6. 前記センサユニットが特にポンプユニット(17)、弁、ファン(5)、ヒータ(6)およびまたは表示装置を制御または調整するためのデータを出力することを特徴とする請求項からのいずれか一つに記載の装置。
  7. 前記センサユニットが光学的特性、コンダクタンス、臭気およびまたはpH値によって汚染度を検出することを特徴とする請求項記載の装置。
  8. 前記センサユニットが、第1、第2およびまたは第3の貯槽(14、14b、14c)の貯留度を検出することを特徴とする請求項または記載の装置。
  9. 前記センサユニットが加熱調理プロセスセンサに一体化されているかまたは加熱調理プロセスセンサに接続可能であることを特徴とする請求項6から8のいずれか一つに記載の装置。
  10. マイクロプロセッサをさらに備え、前記センサユニットからのデータに基づきマイクロプロセッサが前記第1及び第2の液体の供給及び加熱調理室の洗浄を制御することを特徴とする、請求項からのいずれか一つに記載の装置。
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