New! View global litigation for patent families

JP3915851B2 - The method for marking with a laser beam, and a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of the display panel - Google Patents

The method for marking with a laser beam, and a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of the display panel

Info

Publication number
JP3915851B2
JP3915851B2 JP23026197A JP23026197A JP3915851B2 JP 3915851 B2 JP3915851 B2 JP 3915851B2 JP 23026197 A JP23026197 A JP 23026197A JP 23026197 A JP23026197 A JP 23026197A JP 3915851 B2 JP3915851 B2 JP 3915851B2
Authority
JP
Grant status
Grant
Patent type
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP23026197A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH10235480A (en )
Inventor
達也 中野
千春 田中
満男 米盛
正行 阿部
Original Assignee
オムロン株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Grant date

Links

Images

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、レーザビームを用いてマーキングをするための方法、並びに、表示パネル(例えば、プラズマディスプレイパネル等)の製造工程においてガラス基板に識別情報をマーキングするための方法に係り、特に、マーキング対象物体に傷を付けることなく、レーザビームを用いてマーキングを行うことを可能とした方法に関する。 The present invention relates to a method for marking with a laser beam, and a display panel (e.g., a plasma display panel, etc.) relates to a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of, in particular, it is marked without damaging the object, it relates to a method which enables to perform marking by using a laser beam.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
従来、液晶表示パネルの製造工程に搬送されるガラス基板(以下、単にガラス基板という)には、工程管理等のために必要とされる各種の識別情報が付されている。 Conventionally, liquid crystal display panel of a glass substrate to be transported to a manufacturing process (hereinafter, simply glass that substrate), the various identification information required for the process control and the like are given. 例えば、特開平5−309552号公報に示されるように、識別情報を付すための手段としては、バーコードラベル等の識別用ラベルを張り付ける方法(以下、第1の方法という)、ガラス基板側端縁に識別情報を表す小さな切込みを入れ、その切込みに識別情報を持たせる方法(以下、第2の方法という)、或いは、ガラス基板にレーザ加工で識別情報を直接に記録する方法(以下、第3の方法という)が知られている。 For example, as shown in JP-A-5-309552, as the means for subjecting the identification information, a method of pasting the identification label of a bar code label or the like (hereinafter, referred to as first method), a glass substrate edge put a small incision that represent identification information, how to provide the identification information to the notches (hereinafter, referred to as second method), or a method of recording identification information directly into the laser machining a glass substrate (hereinafter, ) referred to as a third of methods are known.
【0003】 [0003]
しかしながら、上述の第1の方法にあっては、製造工程によってはバーコードラベルを張り付けることが困難である。 However, in the first method described above, the manufacturing process it is difficult to stick a bar code label. 又、第2の方法にあっては、ガラス基板側端縁は平面度が低く、読取装置や目視による読取りが困難であることに加えて、記録時に粉塵が発生するため、高いクリーン度が要求される製造工程には使用が困難である。 Further, in the second method, the glass substrate side edge has low flatness, in addition to reading by the reading device and visually it is difficult, since the dust generated during recording, a high cleanness requirements it is difficult to use for the manufacturing process to be. 更に、第3の方法にあっては、明瞭な情報を記録することが困難であり、加えてガラス面に傷を付けるため後工程に加熱処理があるとその際に傷が成長して割れやすくなる。 Furthermore, in the third method, it is difficult to record a clear information, if there is a heat treatment in a later step for scratch the glass surface scratches during its easily cracked grown by adding Become.
【0004】 [0004]
一方、ガラス等の透明部材に傷を付けることなくマーキングを行う方法としては、例えば特開昭60−224588号公報に記載された、レーザを用いたマーキング方法が知られている。 On the other hand, as a method to mark without damaging the transparent member such as glass, for example, described in JP 60-224588 and JP-marking method is known using a laser. このマーキング方法は、着色素材となる金属板(或いは金属箔)の上に、マーキング対象物であるガラス板を重ね、この2層体をマーキング対象物であるガラス板の背後からYAGレーザビームで照射しつつ、マーキング対象物を透過したレーザビームにより着色素材となる金属板(或いは金属箔)を加熱し、いわゆるレーザスパッタリングの原理で蒸発乃至昇華した金属をマーキング対象となるガラス表面に跳ね返り付着させて、所望形状のマーキングを行うようにしたものである。 This marking method on a metal plate with a colored material (or metal foil), irradiated superimposed glass plates are marking object, the two-layer body from the back of the glass plate is a marking object in YAG laser beam and while heating a metal plate with a colored material (or metal foil) by a laser beam transmitted through the marking object, evaporated to sublimated by metal deposited rebound on the glass surface to be marked target on the principle of so-called laser sputtering , in which to perform the marking of a desired shape.
【0005】 [0005]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
しかしながら、このような従来のレーザビームを用いたマーキング方法には次のような問題点がある。 However, the marking method using such a conventional laser beam has the following problems.
【0006】 [0006]
第1には、マーキング対象物それ自体を透過したレーザビームを着色素材となる金属板(或いは金属箔)に照射しつつ、レーザスパッタリングによりマーキングを行うことから、(1)レーザビームを透過させない若しくは透過させ難い、レーザビームに対して半透明乃至不透明なマーキング対象物には適用できないこと、(2)レーザビームに対して透明であっても、肉厚や歪みのあまり大きなマーキング対象物、或いは最近のプラズマディスプレイパネル等のような表面に蛍光灯障害防止のためのSiO2被膜を有するマーキング対象物では、レーザビームの屈折やそれに伴う焦点ズレの影響で精細なマーキングが困難となり、特に、昨今普及しつつある二次元バーコードをマーキングする用途には不向きであること、(3)レーザビー The first, while irradiating the laser beam transmitted through the marking object itself on a metal plate serving as the coloring material (or metal foil), not from doing the marking by laser sputtering, it is transmitted through (1) a laser beam or difficult not transmit, it is not applicable to a translucent or opaque marking object relative to the laser beam, (2) be transparent to the laser beam, the thickness and too large marking object distortion, or recently the marking objects having SiO2 coatings for surfaces of the fluorescent lamp failure prevention, such as a plasma display panel, fine markings in refraction and impact of defocus associated therewith a laser beam is difficult, especially popular these days it is not suitable for an application for marking a two-dimensional bar code that is being, (3) Rezabi に対して透明であっても、例えばブラウン管のパネル側面にマーキングする場合等のように、マーキング面の背後からレーザビームを照射することが困難なマーキング対象物には適用できないこと、等の様々な問題点がある。 Also a transparent against, for example, as in such case the marking panel side of the cathode ray tube, it is not applicable to a hard marking object to be irradiated with a laser beam from behind the marking surface, a variety of equal there is a problem.
【0007】 [0007]
第2には、レーザスパッタリングのメカニズムとして、着色素材となる金属板へのレーザビーム照射により瞬時に加熱昇華されて立ち上る金属蒸気を、レーザビームの進行方向とは逆方向に位置するマーキング面に付着させると言う構成(換言すれば、床面の水たまりに石を落下させたときの天井への水の跳ね返りを連想させるような構成)を採用しているため、(1)レーザビーム照射により加熱昇華されて立ち上る金属蒸気は拡散する傾向が認められ、その結果、如何にレーザビーム径を細く絞ろうとも、それによりマーキングされる線幅には限界があり、精細なマーキングには適しないこと、(2)レーザビーム照射により加熱昇華されて立ち上る金属蒸気はマーキング対象面に到達するまでに酸化される傾向が認められ、マーキング The second, attachment as a mechanism of the laser sputtering, a laser beam metal vapor rises is heated sublimated instantaneously by irradiation of the metal plate with a colored material, the marking surface to the traveling direction of the laser beam positioned in the opposite direction (in other words, configuration reminiscent rebound of water to the ceiling when fallen stones puddles on the floor) configuration called to order that employ, (1) heating a sublimation by a laser beam irradiation are metal vapor rises and is tended to spread, so that no matter Shiboro how thin the laser beam diameter, whereby there is a limit to the line width to be marked, it not suitable for fine marking, ( 2) the laser beam metal vapor rises is heated sublimated by irradiation tended to be oxidized before reaching the marking target surface, marking 象面にはマーキングされた線のほかにかなりの量の煤が付着するため、不要な煤を拭き取るための後工程が不可欠であること、等の問題点がある。 Because the elephants surface to adhere a significant amount of soot in addition to the marked line, that subsequent steps to wipe unwanted soot is essential, there are problems like.
【0008】 [0008]
この発明は、上述の問題点に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、マーキング対象物の厚さや材質による制限を緩和し、その表面に傷を付けることなく、レーザビームを用いて精細なマーキングを行うことにある。 The present invention has been made in view of the above problems, it is an object to relax the restrictions thickness and material of the marking object, without damaging the surface thereof, using a laser beam there is to making a fine marking.
【0009】 [0009]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
この出願の第1の発明は、レーザビームに対して透明な性質を有する基板の片面に有色被膜を被着させてなる転写板を提供する転写板提供ステップと、 The first invention of this application, a transfer plate providing step of providing a transfer plate a colored coating on one surface of a substrate having a transparent property against the laser beam becomes are adhered,
前記提供される転写板をマーキング対象となる面の所望位置に前記有色被膜が対面するように重ね合わせる転写板重ね合わせステップと、 A step superimposed transfer plate superposing as the colored coating facing the desired position of the surface to be marked target transfer plate, wherein is provided,
前記転写板と前記マーキング対象との間に空気が入った間隙が存在するように、両者間の微細間隙の大きさを適切に制御しながら、前記重ね合わされた転写板をその背後からレーザビームで所望のマーキング形状に対応して照射しつつ、前記基板を透過するレーザビームにより前記有色被膜を加熱することにより、前記転写板上の有色被膜をマーキング対象となる面上に所望のマーキング形状で転写する被膜転写ステップと、 The so that there is a gap containing air between the transfer plate and the marking target, while appropriately controlling the size of the fine gap therebetween, the superimposed transfer plate with a laser beam from behind while illuminating in response to the desired marking shape, by heating the colored film by a laser beam passing through the substrate, transferring a desired marking shape on a surface of the colored film becomes marked target on the transfer plate and a film transfer step of,
前記転写板をマーキング対象となる面から取り除く転写板除去ステップと、 A transfer plate removal step of removing the transfer plate from the surface to be the marking target,
を具備することを特徴とするレーザビームを用いてマーキングするための方法にある。 The in methods for marking with a laser beam, characterized by comprising.
【0010】 [0010]
この第1の発明は、転写板提供ステップと、転写板重ね合わせステップと、被膜転写ステップと、転写板除去ステップとからなる4つのステップから構成されている。 The first invention comprises a transfer plate providing step includes the steps superimposing transfer plate, and a coating transfer step, is composed of four steps consisting of the transfer plate removal step.
【0011】 [0011]
転写板提供ステップにおいて、『レーザビームに対して透明な性質を有する基板』とあるのは、主として、レーザビームの波長と基板の材質との相関関係を規定したものである。 In the transfer plate providing step, the term "substrate having a transparent property against the laser beam" is mainly that defines the correlation between the wavelength and the material of the substrate of the laser beam. 良く知られているように、レーザビームとして波長1.06μmのYAGレーザ光が使用される場合には、基板の材質としてはYAGレーザ光を透過させる性質を有するガラスを用いることができる。 As is well known, when a YAG laser beam having a wavelength of 1.06μm as a laser beam is used as the material of the substrate can be a glass having a property of transmitting the YAG laser beam. なお、この場合に、ガラスはYAGレーザビームで溶融されることはない。 In this case, the glass will not be melted by YAG laser beam. このように、基板の材質は使用されるレーザビームの波長に応じて適宜に選択することができ、必ずしもガラスに限られるものではない。 Thus, the material of the substrate can be suitably selected according to the wavelength of the laser beam used is not necessarily limited to glass. もっとも、後述する有色被膜の加熱時に溶融しない程度の耐熱性は要求される。 However, the heat resistance so as not to melt during heating of the colored film to be described later is required.
【0012】 [0012]
また、基板の片面に被着される『有色被膜』は、上述の基板を透過して照射されるレーザビームにより加熱されて瞬時に蒸発乃至昇華され、スパッタリングの原理でマーキング対象面に転写されるものである。 Moreover, the the "colored coat" is applied to one surface of the substrate, evaporated or sublimated instantaneously heated by the laser beam irradiated is transmitted through the substrate described above, is transferred to the marking target surface on the principle of sputtering it is intended. その材質の選択は、(1)レーザビームの照射により加熱されて瞬時に蒸発乃至昇華する温度特性を有すること、(2)必要なマーキングの色彩を有すること、(3)基板に対して均一な厚さの被膜を形成できること、(4)マーキング対象物の処理温度等に対する耐熱性を有すること、(5)比較的に低コストで提供できること、等を考慮して決定されるであろう。 Selection of the material is (1) having a temperature characteristic that evaporates or sublimes instantaneously heated by laser beam irradiation, it has a color of (2) the required marking, a uniform relative (3) substrate It can form a thickness of the coating, (4) it has heat resistance against the treatment temperature of the marking object, (5) relatively to be provided at low cost, and the like will be determined in consideration of.
【0013】 [0013]
マーキング対象物として、例えばプラズマディスプレイパネル(PDP)のガラス基板や各種モニタ用のプラウン管等を想定し、かつレーザビームとしてYAGレーザビームを又基板としてガラス板を想定するのであれば、有色被膜の材質としては例えば(1)クロム、(2)タンタル、(3)ニッケルと銅の合金、等のいずれかを選択的に採用することができるであろう。 As the marking object, for example, assuming a cathode-ray tube glass substrate, various monitors, and the like of the plasma display panel (PDP), and if to assume a glass plate YAG laser beam or a substrate as a laser beam, a colored film the material for example (1) chromium, (2) tantalum, could be employed (3) nickel-copper alloy, selective one of equal to. すなわち、これらの物質であれば、真空蒸着技術やスパッタリング技術でガラス板の表面に均一な厚さの被膜を形成することができると共に、YAGレーザビームの照射により瞬時に蒸発乃至昇華して、スパッタリング原理でマーキング対象面であるガラス表面に明瞭なマーキングを行うことができ、加えて、それらマーキング対象物に加えられる熱処理温度にも耐えることができ(融点はガラスよりも高いため)、しかも比較的に安価に提供することができる。 That is, if these substances, it is possible to form a uniform thickness of the coating on the surface of the glass plate by vacuum deposition techniques or sputtering techniques, and evaporated to sublimate immediately by irradiation of a YAG laser beam, sputtering can make a clear marking on the glass surface a marking target surface in principle, in addition, also be able to withstand the heat treatment temperature applied to their marking object (since the melting point is higher than the glass), yet relatively it can be provided at a low cost to. 因みに、PDPのガラス基板はマーキングに続くその後の製造工程において、摂氏500度以上の加熱炉に少なくとも5回以上に亘り装入されて加熱処理される。 Incidentally, the glass substrate of the PDP in the subsequent manufacturing process subsequent to the marking, are heated is charged for more than at least 5 times in a heating furnace at 500 degrees Celsius. これは、いわゆるリブ形成処理や蛍光体定着処理等のためである。 This is because such a so-called rib forming process or phosphor fixing. また、各種モニタ用のプラウン管も同様であって、マーキングに続くその後の製造工程において1若しくは2以上の回数の熱処理が加えられる。 Further, a same cathode-ray tube for various monitors, heat treatment of one or two or more times in the subsequent manufacturing process subsequent to the marking is applied. これは、プラウン管を構成するガラスは比較的に厚いためにその歪みを除去する等の必要のためである。 This glass constituting the cathode-ray tube is for required such as to remove the distortion due to relatively thick. そして、以上(1)〜(3)の材質の有色被膜であれば、それらの加熱処理に際しても溶融や脱落の虞がない。 The above (1) If the material of the colored coating to (3), there is no possibility of the molten or omissions even when their heat treatment.
【0014】 [0014]
さらに、『有色被膜』は必ずしも単層構造である必要はない。 Furthermore, "colored coat" is not necessarily a single-layer structure. 例えば、基板を構成するガラス板の上に、酸化クロムによる黒色の第1層(下層)とクロムによる金属色の第2層(上層)とを順に重ねた二層構造による有色被膜とすれば、酸化クロム層(下層)の存在によりクロム層(上層)の反射を抑制すると同時にレーザビームの吸収効率を高めて、低光強度レーザビームによる明瞭なマーキングを可能ならしめることができる。 For example, on a glass plate constituting the substrate, if the first layer of black due to oxidation of chromium (lower layer) a second layer of metallic color by chromium (upper layer) and a colored film by two-layer structure of repeated sequentially, to increase the absorption efficiency at the same time the laser beam when suppress reflection of the chromium layer (upper layer) by the presence of chromium oxide layer (lower layer), can makes it possible to clear marking with low light intensity laser beam. すなわち、本発明で大切な点は、レーザビームに対して透明な性質を有する基板の片面に有色被膜を被着させる一方、これをその背後からレーザビーム照射して、基板透過レーザで有色被膜を蒸発乃至昇華させる点にあり、それが蒸発乃至昇華される限りにおいては、有色被膜としては単層構造であろうが二層構造であろうが、差し支えないのである。 That is, in important respects present invention, while depositing a colored coating on one surface of a substrate having a transparent property against the laser beam, and a laser beam irradiating it from behind, a colored coating with a substrate transparent laser There in that evaporation or sublimation, in so far as it is evaporated or sublimated, as the colored film, but would be if it two-layer structure of a single layer structure, it is not permissible.
【0015】 [0015]
次に、転写板重ね合わせステップにおいて、『前記有色被膜が対面するように重ね合わせる』とあるのは、当該有色被膜の表面とマーキング対象となる面とが対面する状態で両者が重ね合わされることを意味している。 Then, the transfer plate overlay step, the phrase that "the colored coating superposed to face" means that the surface and the marking target surface of the colored coating both are superposed in a state facing it means. もっとも、ここで言う『重ね合わされる』の意味は、勿論、被膜面並びにマーキング対象面の通常の面精度を考慮した意味での重なり状態であり、両者間に1μmの隙間も存在しない空気も入らないような完全密着状態を意味するものではない。 However, the meaning of Here, the "superimposed", of course, a state overlap in the sense in consideration of the conventional surface accuracy of the coating surface and the marking target surface, also fall even air absence 1μm gap therebetween It does not mean a complete contact state, such as no. すなわち、レーザビームを着色素材に照射してこれを蒸発乃至昇華させ、その飛散された物質をマーキング対象面に付着させてマーキングを行うとする本発明のスパッタリング原理からすれば、有色被膜とマーキング対象面との間には少なくとも1μm程度の間隙の存在は不可欠であろう。 That is, it evaporated to sublime by irradiating a laser beam on the colored material, from the sputtering principles of the present invention to carry out the marking by attaching the scattering substance to the marking target surface, the colored coating and the marking target the presence of at least 1μm about gap between the surface would be essential. 先程のPDPのガラス基板を例にとれば、納入時に既に洗浄処理が行われているとは言え、実際にその面精度は40μm程度であり、如何に有色被膜の表面が平坦であったとしても、それらを重ね合わせた場合には、両者間にはスパッタリングには十分な間隙が存在するはずである。 Taking the glass substrate of the previous PDP as an example, although already cleaning process is being performed at the time of delivery, actually its surface accuracy is about 40 [mu] m, even surface of how the colored coating has a flat , if superimposed them, is between them should sufficient clearance exists to sputtering.
【0016】 [0016]
また、被膜転写ステップにおいて、『レーザビームで所望のマーキング形状に対応して照射しつつ』とあるのは、いわゆる一筆書き方式の走査とラスタスキャン方式による走査との双方を含むことを意味している。 Further, in the coating transfer step, the term "while irradiating corresponding to the desired marking shape the laser beam" is meant to include both the scanning by the scanning and raster scanning method of a so-called one-stroke writing formula there. 一筆書き方式とラスタスキャン方式とのいずれを採用すべきかは、レーザビーム強度との関係により選択すれば良いであろう。 The stroke should be adopted any of the writing type raster scan method will be selected by the relation between the laser beam intensity. 一般に、レーザビーム強度がさほど高くない場合には、ビームエネルギを集中できる一筆書き方式が好ましいであろう。 In general, when the laser beam intensity is not so high, one stroke writing expression that can focus the beam energy may be preferable. 当業者には良く知られているように、この一筆書き方式には、徐々に中心をずらしつつ円を描くようにビームを振りながら規定の領域を埋めてゆくワブリング方式と僅かにピッチをずらせつつ多数の平行線で規定の領域を埋めてゆく塗りつぶし方式とが存在する。 As is well known to those skilled in the art, this stroke writing type, a wobbling method Yuku filling the area defined waving beam so as to draw a circle while gradually shifting the center while shifting slightly pitch and a fill method Yuku to fill the area defined by the number of parallel lines are present.
【0017】 [0017]
そして、この第1の発明によれば、マーキング対象となる面が、ガラスやセラミックス等のように比較的耐熱性のある平坦面であれば、これに傷を付けることなく明瞭なマーキングを行うことができる。 Then, according to the first invention, the surface to be marked target, if the flat surface relatively a heat resistance as such as glass or ceramics, carrying out the clear marking without damaging the this can. 従って、マーキングに際して粉塵を発生することがないため、高いクリーン度が要求される製造工程にも容易に採用することができる他、マーキング対象となる面に傷を付けないことから、対象物体の強度を損ねることもない。 Therefore, since there is not generated dust during marking, addition can be adopted easily to the production process of a high cleanliness is required, because it does not scratch the surface to be the marking target, the intensity of the target object it does not damage. 更に、レーザビームを用いた照射においては、任意のマーキング形状に沿った描線処理を高い自由度をもって即座に行うことができるため、任意の識別情報に合わせて対応するマーキングを迅速に行うことが可能となる。 Further, the irradiation using a laser beam, it is possible to perform the drawn line process along any marking shape immediately with a high degree of freedom, it can be carried out quickly marking corresponding to suit any identification information to become.
【0018】 [0018]
また、転写板上に形成された有色被膜をその背後から照射されるレーザビームで加熱しこれを瞬時に蒸発乃至昇華させて、マーキング対象面上に転写するという手法を採用しているため、(1)肉厚や歪みの大きな透明なマーキング対象物、或いは最近のプラズマディスプレイパネル等のような表面に蛍光灯障害防止のためのSiO2被膜を有するマーキング対象物に適用できることは勿論のこと、(2)レーザビームを透過させない若しくは透過させ難い、レーザビームに対して半透明乃至不透明なマーキング対象物にも適用できること、(3)例えばブラウン管のパネル側面にマーキングする場合等のように、マーキング面の背後からレーザビームを照射することが困難なマーキング対象物にも適用できること、(4)有色被膜の厚さを Further, this was heated with a laser beam to be irradiated a colored film formed on the transfer board from behind evaporated or sublimated instantaneously, because it uses the technique of transferring onto the marking target surface, ( 1) thickness and large clear marking object distortion, or of course it is applicable to the marking object having a SiO2 film for the surface of the fluorescent lamp failure prevention such as recent plasma display panel, (2 ) laser beam is difficult to cause no or transmit transmits, can be applied to a semi-transparent or opaque marking object relative to the laser beam, as such case the marking (3) eg a cathode ray tube of the panel side, behind the marking surface it can also be applied to a hard marking object to be irradiated with a laser beam from, a thickness of (4) a colored film 整することにより、マーキングの品質を制御することができること、等の従来のレーザマーキング方法にはない格別の効果を有するものである。 By integer, that can control the quality of the marking, and has a conventional special effects not found in the laser marking method and the like.
【0019】 [0019]
加えて、蒸発乃至昇華された有色被膜成分は、レーザビームの光圧に押されつつさほど拡散することなく直進して、レーザビーム進行方向前方に置かれたマーキング対象物表面に衝突付着するため、(1)レーザビームの径を細く絞ることにより、精細かつ明瞭なマーキングを容易に形成することができること、(2)有色被膜としてクロム等の金属を使用する場合にも酸化され難く、煤の発生が少なくて拭き取りの手間が不要であること、等の従来のレーザマーキングにはない格別の効果を有するものである。 In addition, the colored coating components are evaporated or sublimated, since straight ahead without much diffused while being pushed by the light pressure of a laser beam, impinges adhere to the marking target surface placed in the laser beam traveling forward, (1) by throttling reduce the diameter of the laser beam, it is possible to easily form the fine and clear marking, (2) difficult also oxidized when using metal such as chromium as a colored coating, the soot generation it is troublesome wiping less is required, and has a conventional special effects not found in the laser marking and the like.
【0020】 [0020]
ここで、前記基板の材質はレーザビームの照射により溶融されない物質であり、かつ、前記有色被膜の材質は基板を透過したレーザビームを吸収して瞬時に蒸発乃至昇華される物質であってもよい。 Here, the material of the substrate is a substance not melted by laser beam irradiation, and the material of the colored coating may be a substance that is vaporized or sublimated instantaneously absorbs the laser beam transmitted through the substrate . 転写板を構成する基板並びに有色被膜の材質は、次のように規定することができる。 The material of the substrate and the colored coating constituting the transfer plate may be defined as follows. 先に説明したように、基板としてガラスを使用しかつレーザビームとしてYAGレーザを使用する場合には、有色被膜の材質としてはCrを使用することができる。 As described above, when using the YAG laser as was and the laser beam using glass as the substrate, as the material for the colored coating can be used Cr. なお、被膜形成技術としてスパッタリングを利用する場合には、ガラス若しくはプラスチックに被着できる物質としては、Au,Pd,Ag,Cu,Cr,Al,Ta,Ni−Cr,TIN,TIC,ITO,SiO2,Si3N4,Nb−Ti,Mo,Mo−Si,Co−Cr,Co−P等が挙げられる。 In the case of a sputtering as a film formation technique, the substance that can be deposited on glass or plastic, Au, Pd, Ag, Cu, Cr, Al, Ta, Ni-Cr, TIN, TIC, ITO, SiO2 , Si3N4, Nb-Ti, Mo, Mo-Si, Co-Cr, Co-P, and the like. 従って、これらの候補物質の中から、条件(1)〜(5)((1)レーザビームの照射により加熱されて瞬時に蒸発乃至昇華する温度特性を有すること、(2)必要なマーキングの色彩を有すること、(3)基板に対して均一な厚さの被膜を形成できること、(4)マーキング対象物の処理温度等に対する耐熱性を有すること、(5)比較的に低コストで提供できること、)に合致する物質を有色被膜の材料として選択することができる。 Therefore, from these candidate materials, conditions (1) to (5) ((1) having a laser beam temperature characteristic of evaporating or sublimating instantaneously heated by irradiation, (2) the required marking colors to have, (3) it is possible to form a uniform thickness of the coating to the substrate, (4) it has heat resistance against the treatment temperature of the marking object, can be provided with (5) relatively low cost, the material that matches the) can be selected as the material of the colored coating.
【0021】 [0021]
この出願の第2の発明は、前記第1の発明において、前記有色被膜は、融点がガラスより高い材質であり、前記マーキング対象は表示パネル製造工程におけるガラス基板もしくはブラウン管であることを特徴とする。 The second invention of this application, in the first invention, the colored coating has a melting point of higher than the glass material, the marking target is characterized by a glass substrate or a cathode ray tube in the display panel manufacturing process .
【0022】 [0022]
この出願の第3の発明は、前記第1の発明において、前記有色被膜は、Ag,Au,Cu,Cr,Al,Ta,Ni−Cr,Moのいずれかであることを特徴とする。 The third invention of this application, in the first invention, the colored coating, characterized Ag, Au, Cu, Cr, Al, Ta, Ni-Cr, that is either Mo.
【0023】 [0023]
この出願の第4の発明は、前記第1の発明において、前記有色被膜は、前記基板上に下層と上層とを順に重ねた二層構造であり、下層の存在により上層の反射を抑制すると同時にレーザビームの吸収効率を高めたことを特徴とする。 A fourth invention of this application, in the first aspect of the present invention, the colored coating, the a two-layer structure of repeating the lower layer and the upper layer in this order on a substrate, suppressing reflection of the upper due to the presence of the lower layer at the same time wherein the enhanced absorption efficiency of the laser beam.
【0024】 [0024]
更にここで、前記被膜転写ステップは、前記転写板をマーキング対象となる面に押し付け、両者間に形成される微細間隙の大きさを適切に制御しながら行われてもよい。 Further, where the coating transfer step, pressing the surface to be the transfer plate and the marking target may be performed while appropriately controlling the size of the fine gap formed therebetween. 先に説明したように、本発明のマーキング方法はスパッタリング原理を利用していることから、有色被膜とマーキング対象面との間には某かの間隙の存在が必要とされる。 As previously described, the marking method of the present invention since it utilizes a sputtering principle, the presence of a certain one of the gap is required between the colored film and the marking target surface. この間隙の大きさは、本発明者等の鋭意研究によれば、例えばクロム被膜付きガラス基板とPDPガラス基板との組み合わせでYAGレーザを使用する場合には、1μm乃至30μm程度が必要とされ、好ましくは、1μm乃至5μm程度が最適であると考えられる。 The size of the gap, according to the intensive studies of the present inventors, for example when using YAG laser in combination with chrome coating a glass substrate and a PDP glass substrate, is required about 1μm to 30 [mu] m, preferably, about 1μm to 5μm is considered optimal. これに対して、ガラスメーカーから納入されるマーキング対象となるPDPガラス基板の面精度は40μm程度であり、PDPガラス基板上に転写板を載置しただけでは、両者間の間隙が大き過ぎることが確認された。 In contrast, surface accuracy of the PDP glass substrate to be marked object to be delivered from the glass manufacturer is about 40 [mu] m, only by placing the transfer plate onto a PDP glass substrate, that the gap between them is too large confirmed.
【0025】 [0025]
そこで、転写板をマーキング対象となる面に押し付け、両者間に形成される微細間隙の大きさを適当に狭めることにより、マーキング品質を高めようとするものである。 Therefore, pressing the surface to be a transfer plate and be marked, by narrowing the size of the fine gap formed therebetween suitably, it is intended to increase the marking quality. なお、本発明者等が行った押圧例では、20〜30gf/cm 2程度の圧力にて転写板をPDPガラス基板に押し付けることが行われた。 In the pressing example the present inventors have made were made to press the transfer plate to the PDP glass substrate at 20~30gf / cm 2 pressure of about. こうすることにより、転写板に被着された有色被膜をマーキング対象となる面に押し付けることにより、一層確実な転写を行うことができる。 By doing so, by pressing the surface to be a deposited been colored coating transfer plate and be marked, it is possible to perform a more reliable transfer.
【0026】 [0026]
また本願においては、ガラス基板に識別情報をマーキングする際に、表示パネルに用いられるガラス基板が所定のカセットに収容されて搬送される搬送ラインの途中に、マーキング加工用のステーションを設けると共に、 In the present application, when marking identification information on a glass substrate, in the middle of the conveying line glass substrate used for a display panel is conveyed housed in a predetermined cassette, provided with a station for marking,
前記マーキング加工用のステーションには、カセットローダ部と、識別情報記録部と、識別情報読取部と、カセットアンローダ部とが設けられており、 Wherein the station for marking, a cassette loader, and the identification information recording unit, and the identification information reading unit, is provided with a cassette unloader unit,
前記カセットローダ部では、上流側搬送路からカセットを取り込んだのち、それに収容されたガラス基板を取り出して前記識別情報記録部へと送り出すと共に、空のカセットについては前記カセットアンローダ部へと送り出す処理が行われ、 In the cassette loader unit, after incorporating cassette from the upstream side conveying path, along with sending to the identification information recording unit is taken out glass substrate accommodated in it, the process for sending to said cassette unloader unit for empty cassettes It is carried out,
前記識別情報記録部では、前記カセットローダ部から送られてくるガラス基板に、識別情報入力用通信ポートから受信された識別情報を記録したのち、識別情報の記録が完了したガラス基板を前記識別情報読取部へと送り出す処理が行われ、 In the identification information recording unit, in the glass substrate sent from the cassette loader unit, after recording the identification information received from the communication port identification information input, the identification information of the glass substrate in which the recording of the identification information is completed processing for sending to the reading unit is performed,
前記識別情報読取部では、前記識別情報記録部から送られてくるガラス基板に記録された識別情報を読み取ると共に、それが正常に記録されていると判定される場合に限り、そのガラス基板を前記カセットアンローダ部へと送り出す処理が行われ、 Wherein the identification information reading unit, the reading identification information recorded on the glass substrate transmitted from the identification information recording unit, only when it is determined to be normally recorded, the the glass substrate processing to feed into the cassette unloader part is performed,
前記カセットアンローダ部では、前記識別情報読取部から送られてくるガラス基板を、前記カセットローダ部から送られてくる空のカセットに再度収容して、下流側搬送路へと送り出す処理が行われ、 Wherein the cassette unloader unit, a glass substrate which is come transmitted from said identification information reading unit, said re-housed in the empty cassette is come transmitted from the cassette loader unit, processing for sending to the downstream-side transport path is performed,
さらに、前記識別情報記録部における識別情報の記録は、 The recording of the identification information in the identification information recording unit,
レーザビームに対して透明な性質を有する基板の片面に有色被膜を被着させてなる転写板を提供する転写板提供ステップと、 A transfer plate providing step of providing a transfer plate a colored coating comprising by depositing on one surface of a substrate having a transparent property against the laser beam,
前記提供される転写板をマーキング対象となるガラス基板の所望位置に前記有色被膜が対面するように重ね合わせる転写板重ね合わせステップと、 A step superimposed transfer plate superposing as the colored coating facing the desired location of the glass substrate the transfer plate becomes a marking target the provided,
前記ガラス基板上に重ね合わせられた転写板をその背後からレーザビームで前記識別情報を表すマーキング形状に対応して照射しつつ、基板を透過するレーザビームにより前記有色被膜を加熱することにより、前記転写板上の有色被膜をマーキング対象となるガラス基板上に所望のマーキング形状で転写する被膜転写ステップと、 While illuminating in response to the marking shape representing the identification information with a laser beam a transfer plate which is superposed on the glass substrate from behind, by heating the colored film by a laser beam passing through the substrate, the and a film transfer step of transferring a desired marking shape on a glass substrate made of a colored coating on the transfer plate and be marked,
前記転写板をガラス基板の上から取り除く転写板除去ステップと、 A transfer plate removal step of removing the transfer plate from the top of the glass substrate,
からなる手順で行われるようにしてもよい。 It may be performed in the procedure consisting of.
【0027】 [0027]
このような構成を採用することにより、プラズマディスプレイパネルや液晶ディスプレイパネル等の表示パネルの製造工程において、搬送される個々のガラス基板の上に、傷を付けることなく明瞭かつ固有のマーキングを迅速に行うことができる。 By adopting such a configuration, in the manufacturing process of a display panel such as a plasma display panel or a liquid crystal display panel, on the individual glass substrates are conveyed, a clear and specific markings without damaging rapidly it can be carried out.
【0028】 [0028]
またここで、前記転写板を構成する基板の材質はYAGレーザ光に対して透明な性質を有するガラスであり、かつ、前記有色被膜の材質はガラスを透過したYAGレーザ光を吸収して瞬時に蒸発乃至昇華されかつその融点が基板ガラスの融点よりも高いクロム等の物質であってもよい。 Also here, the material of the substrate constituting the transfer plate is a glass having a transparent property against YAG laser light and the material of the colored coating instantly absorbs YAG laser light transmitted through the glass evaporated to be sublimated and the melting point may be a substance of higher chromium than the melting point of the substrate glass.
【0029】 [0029]
このような構成を採用することにより、特に、プラズマディスプレイの製造工程において、ガラス基板上に識別情報をマーキングする場合に好適なものとなる。 By adopting such a configuration, in particular, in the manufacturing process of a plasma display, it becomes suitable when marking identification information on a glass substrate. 先に説明したように、プラズマディスプレイ用のガラス基板は、かなり分厚いガラス板(例えば、2.8mm厚)が使用されることに加え、その表面には蛍光灯障害防止のためのシリカコート(SiO2被膜)が施されていることが多い。 As described above, a glass substrate for plasma display, rather thick glass plates (e.g., 2.8 mm thick) in addition to the use of silica coated (SiO2 for on the surface of the fluorescent lamp failure Prevention often the coating) is applied. そのため、特開昭60−224588号に記載のような、マーキング対象物それ自体にレーザビームを透過させる方法では、レーザビームの屈折等による影響で精細なマーキングを行うことが困難である。 Therefore, as described in JP-A-60-224588, the method for transmitting the laser beam to the marking object itself, it is difficult to perform fine marking effect of refraction or the like of the laser beam. しかも、この種のガラス基板は、マーキング工程に続いて、少なくとも5回以上は摂氏500度以上の焼成炉に装入されるため、マーキングに際して傷が付くとそれが加熱の際に成長して、ガラスが割れる虞がある。 Moreover, the glass substrate of this type, followed by the marking process, because more than at least five times is charged to the sintering furnace at 500 degrees Celsius, the scratches during the marking stick it to grow upon heating, there is a possibility that the glass is broken. これに対して、レーザビームとしてYAGレーザビームを採用したこと、転写板を構成する基板並びに有色被膜の材質として、ガラス並びにクロム等の耐熱物質を採用したことにより、PDPガラス基板の表面に傷を付けずに明瞭かつ耐熱性のマーキング(例えば、一次元又は二次元のバーコード等)を施すことができ、しかも傷を付けないため熱処理に際してガラスの割れる虞がないこと、熱処理に際してマークが消失しないこと、酸・アルカリ溶液に浸漬するエッチング剥離工程でもマークが消失しないこと、等の格別の効果を有するものである。 In contrast, due to its use of YAG laser beam as the laser beam, as the material of the substrate and the colored coating constituting the transfer plate, by employing a glass and heat-resistant material such as chromium, to scratch the surface of the PDP glass substrate Used without clear and heat resistance of the marking (e.g., a bar code or the like of one or two dimensions) it can be subjected to, yet there is no fear that broken glass during the heat treatment not to damage mark is not lost during heat treatment it, the mark in etching peeling step of immersion in acid or alkali solution is not lost, and has a significant effect and the like.
【0030】 [0030]
更に本発明においては、前記被膜転写ステップは、前記転写板を対象となるガラス基板に押し付け、両者間に形成される微細間隙の大きさを適切に制御しながら行われてもよい。 Furthermore, in the present invention, the coating transfer step, pressed against the glass substrate to be the transfer plate, may be performed while appropriately controlling the size of the fine gap formed therebetween.
【0031】 [0031]
このような構成を採用することにより、転写板に被着された有色被膜をマーキング対象となる面に押し付けることにより、一層確実な転写を行うことができる。 By adopting such a configuration, by pressing the surface to be a deposited been colored coating transfer plate and be marked, it is possible to perform a more reliable transfer.
【0032】 [0032]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、この発明の好ましい実施の形態につき、添付図面を参照して詳細に説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
【0033】 [0033]
先に説明したように、本発明のレーザビームを用いてマーキングをするための方法にあっては、レーザビームに対して透明な性質を有する基板の片面に有色被膜を被着させてなる転写板を提供する転写板提供ステップと、前記提供される転写板をマーキング対象となる面の所望位置に前記有色被膜が対面するように重ね合わせる転写板重ね合わせステップと、前記重ね合わされた転写板をその背後からレーザビームで所望のマーキング形状に対応して照射しつつ、前記基板を透過するレーザビームにより前記有色被膜を加熱することにより、前記転写板上の有色被膜をマーキング対象となる面上に所望のマーキング形状で転写する被膜転写ステップと、前記転写板をマーキング対象となる面から取り除く転写板除去ステップと、を具備するも As described above, in the method for marking with a laser beam of the present invention, the transfer plate comprising the colored coating on one surface of a substrate having a transparent property against laser beams are adhered as the transfer plate providing step of providing the steps superimposing transfer plate, wherein the colored coating of the transfer plate to the desired position of the surface to be marked target superposed to face said provided, the superimposed transfer plate while illuminating in response to the desired marking shape with a laser beam from behind, by heating the colored film by a laser beam passing through the substrate, optionally a colored coating on the transfer plate onto a surface to be marked target and a film transfer step of transferring in the marking shape, also anda transfer plate removal step of removing the transfer plate from the surface to be the marking target である。 It is.
【0034】 [0034]
このようなレーザビームを用いてマーキングするための方法は、様々な用途に用いられるが、ここでは表示パネル、中でも、プラズマディスプレイパネルの製造工程において、ガラス基板に識別情報をマーキングするために応用した場合を説明する。 The method for marking with such a laser beam is used in various applications, wherein the display panel, among others, in the manufacturing process of the plasma display panel, is applied for marking identification information on a glass substrate the case will be described.
【0035】 [0035]
周知の如く、この種のプラズマディスプレイパネルの製造工程においては、ガラス基板は所定のカセットに収容されて搬送される。 As is well known, in the manufacturing process of such a plasma display panel, a glass substrate is conveyed are accommodated in a predetermined cassette. この搬送ラインの途中には、マーキング加工用のステーションが設けられる。 The middle of the transport line, the station for marking is provided. このようにして設けられたマーキング加工用のステーションが図1に概略的に示されている。 Such stations for marking which is provided on is shown schematically in Figure 1.
【0036】 [0036]
同図に示されるように、このマーキング加工用のステーション1には、カセットローダ部2と、識別情報記録部3と、識別情報読取部4と、カセットアンローダ部5とが設けられている。 As shown in the figure, the station 1 for the marking, a cassette loader section 2, an identification information recording unit 3, the identification information reading section 4, is provided a cassette unloader unit 5.
【0037】 [0037]
そして、カセットローダ部2では、上流コンベア(上流側搬送路)よりカセット6を取り込んだのち、それに収容されるガラス基板7を取り出して前記識別情報記録部3へと送り出すと共に、空のカセット6については前記カセットアンローダ部5へと送り出す処理が行われる。 Then, the cassette loader section 2, after incorporating cassette 6 from the upstream conveyor (upstream transport path), the feeds to the identification information recording section 3 is taken out glass substrate 7 which is accommodated in it, the empty cassette 6 processing is performed to send out to the cassette unloader unit 5.
【0038】 [0038]
識別情報記録部3では、前記カセットローダ部2から送られてくるガラス基板7に、識別情報入力用通信ポート8から受信された識別情報を記録したのち、識別情報の記録が完了したガラス基板7を前記識別情報読取部4へと送り出す処理が行われる。 In the identification information recording section 3, the glass substrate 7 which is sent from the cassette loader section 2, after recording the identification information received from the identification information input communication port 8, a glass substrate 7 in which the recording of the identification information is completed processing for sending to the identification information reading unit 4 is performed.
【0039】 [0039]
識別情報読取部4では、前記識別情報記録部3から送られてくるガラス基板7に記録された識別情報をバーコードリーダ等の識別情報読取器9を用いて読み取ると共に、それが正常に記録されていると判定される場合に限り、そのガラス基板7を前記カセットアンローダ部5へと送り出す処理が行われる。 The identification information reading section 4, together with the read identification information recorded on the glass substrate 7 transmitted from the identification information recording section 3 by using the identification information reader 9 such as a bar code reader, it is normally recorded only when it is determined that the processing is performed to feed and their glass substrate 7 to the cassette unloader unit 5.
【0040】 [0040]
カセットアンローダ部5では、前記識別情報読取部4から送られてくるガラス基板7を、前記カセットローダ部2から送られてくる空のカセット6に再度収容して、下流コンベア(下流側搬送路)へと送り出す処理が行われる。 In the cassette unloader unit 5, the glass substrate 7 sent from the identification information reading section 4, and again housed in the empty cassette 6 sent from the cassette loader unit 2, downstream conveyor (the downstream transport path) send to the processing is carried out.
【0041】 [0041]
尚、図1において17はステーション全体の機器を制御するための操作盤、18は転写板13の供給口である。 The operation panel for 17 to control the device overall station in FIG. 1, 18 is a supply port of the transfer plate 13.
【0042】 [0042]
次に、本発明の要部である識別情報記録部3における識別情報記録工程を、図2並びに図3を参照して詳細に説明する。 Next, the identification information recording step in a main part of the identification information recording unit 3 of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3.
【0043】 [0043]
この識別情報記録工程においては、まず、図2(a)並びに図3(a)に示されるように、YAGレーザビームに対して透明な性質を有する基板である0.7mm厚のガラス板(例えば、ソーダライムガラス)11を用意し、その片面に耐熱性有色被膜(融点摂氏1600度)であるクロム被膜12を、真空蒸着やスパッタリング技術により、180nm程度の均一な厚さに被着させることにより、転写板13を提供する。 In the identification information recording step, first, as shown in FIG. 2 (a) and FIG. 3 (a), a glass plate of 0.7mm thickness which is a substrate having a transparent property against YAG laser beam (e.g. , prepared soda-lime glass) 11, a chromium film 12 is a heat-resistant colored film (melting point Celsius 1600 degrees) on one side, by vacuum deposition or sputtering technique, by depositing a uniform thickness of about 180nm It provides a transfer plate 13. 図2並びに図3においては、この転写板13はその下面側にクロム被膜12が被着されている。 In FIGS. 2 and 3, the chromium film 12 is adhered to the transfer plate 13 is the lower surface.
【0044】 [0044]
なお、転写板13を構成するガラス板11としては、通常の材質のガラス板(例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、抗歪みガラス等)を使用することができる。 As the glass plate 11 constituting the transfer plate 13, a glass plate of normal material (e.g., soda lime glass, alkali-free glass, anti-strain glass) can be used. また、転写板13を構成するガラス板11の厚さは、レーザビームの屈折の影響等を考慮すれば薄い方が好ましいが、あまりに薄すぎるとクロム被膜12が蒸発乃至昇華するときの熱で割れる虞があるため、0.5mm〜2.0mm程度の範囲が好ましいと考えられる。 The thickness of the glass plate 11 constituting the transfer plate 13 is better thin considering the influence of refraction of the laser beam is preferable, divided by the heat when the chromium film 12 is evaporated or sublimated when too thin because there is a possibility, the range of about 0.5mm~2.0mm is considered preferable. また、クロム被膜12の厚さはマーキング品質に応じて適宜に設定すればよいのであるが、実用的には100nm〜200nmの範囲が好ましいと考えられる。 The thickness of the chromium layer 12 although the may be set appropriately in accordance with the marking quality, is practically considered is the preferred range of 100 nm to 200 nm.
【0045】 [0045]
次に、このようにして提供された転写板13を、マーキング対象となるPDPガラス基板(例えば、2.8mm厚)7の所望位置に、前記クロム被膜12が対面するように重ね合わせて載置する。 Then, such a transfer plate 13 which is provided in the, PDP glass substrate to be a marking target (e.g., 2.8 mm thick) to a desired position of 7, and superimposed so that the chromium layer 12 is facing placed to. このとき、必要に応じて、図2(a)に示されるように、適当な圧力Pをもって、転写板13をPDPガラス基板7上に押し付けるようにしてもよい。 At this time, if necessary, as shown in FIG. 2 (a), with a suitable pressure P, it may be pressed against the transfer plate 13 onto the PDP glass substrate 7.
【0046】 [0046]
すなわち、先に説明したように、本発明のマーキング方法はスパッタリング原理を利用していることから、有色被膜とマーキング対象面との間には某かの間隙の存在が必要とされる。 That is, as described above, the marking method of the present invention since it utilizes a sputtering principle, the presence of a certain one of the gap is required between the colored film and the marking target surface. この間隙の大きさは、本発明者等の鋭意研究によれば、例えばクロム被膜付きガラス基板とPDPガラス基板との組み合わせでYAGレーザを使用する場合には、1μm乃至30μm程度が必要とされ、好ましくは、1μm乃至5μm程度が最適であることが知見された。 The size of the gap, according to the intensive studies of the present inventors, for example when using YAG laser in combination with chrome coating a glass substrate and a PDP glass substrate, is required about 1μm to 30 [mu] m, preferably, it has been found about 1μm to 5μm is optimal. これに対して、ガラスメーカーから納入されるマーキング対象となるPDPガラス基板の面精度は、納入時点で実際に40μm程度であり、PDPガラス基板7上に転写板13を単に載置しただけでは、両者間の間隙が大き過ぎることが確認された。 In contrast, surface accuracy of the PDP glass substrate to be marked object to be delivered from the glass manufacturer is actually about 40μm in delivery time, than mere placing the transfer plate 13 onto the PDP glass substrate 7, it was confirmed that the gap between them is too large.
【0047】 [0047]
そこで、この実施形態では、転写板13をマーキング対象となるPDPガラス面に押し付け、両者間に形成される微細間隙の大きさを適当に狭めることにより、マーキング品質を高めようとするものである。 Therefore, in this embodiment, pressing the PDP glass surface comprising a transfer plate 13 and be marked, by narrowing the size of the fine gap formed therebetween suitably, it is intended to increase the marking quality. なお、本発明者等が行った押圧例では、20〜30gf/cm 2程度の圧力にて転写板をPDPガラス基板に押し付けることが行われた。 In the pressing example the present inventors have made were made to press the transfer plate to the PDP glass substrate at 20~30gf / cm 2 pressure of about.
【0048】 [0048]
次いで、図2(a)並びに図3(a)に示されるように、転写板13の上方に配置されたYAGレーザマーカ装置10を用いて、レンズ系10aを通してYAGレーザビーム(波長約1.06μm)14を出射させ、PDPガラス基板7に重ね合わせられた転写板13をその背後から(すなわち、クロム被膜12の存在しないガラスの露出した面側から)レーザビーム14で前記識別情報を表すマーキング形状に対応して照射しつつ、ガラス板11を透過したレーザビーム14により前記クロム被膜12を加熱し、これを瞬時に蒸発乃至昇華させることにより、いわゆるレーザスパッタリングの原理で、転写板13上のクロム被膜12をマーキング対象となるPDPガラス基板7の表面に所望のマーキング形状で転写させる。 Then, as shown in FIG. 2 (a) and FIG. 3 (a), by using the YAG laser marker device 10 disposed above the transfer plate 13, YAG laser beam through a lens system 10a (wavelength of about 1.06 .mu.m) 14 is emitted, and the transfer plate 13 that is superimposed on the PDP glass substrate 7 from behind (i.e., from the exposed surface side of the glass in the absence of chrome coating 12) to the marking shape with a laser beam 14 representing the identification information while illuminating correspondingly, the laser beam 14 that has passed through the glass plate 11 by heating the chromium film 12, by evaporating or sublimating it instantaneously, the principle of so-called laser sputtering, chrome coating on the transfer plate 13 12 is transferred at a desired marking shape on the surface of the PDP glass substrate 7 to be marked target.
【0049】 [0049]
ここで、良く知られているように(例えば、特開平6−8634号公報参照)、レーザマーカ装置10は、細く絞られたレーザビーム14を任意の軌跡を描いて首振り照射可能になされており、このビーム照射軌跡は、与えられた識別情報により任意に制御される。 Here, as is well known (e.g., see Japanese Patent Laid-Open No. 6-8634), laser marker device 10 is a laser beam 14 which is narrowed been swingably irradiation draw any locus the beam irradiation trajectory is optionally controlled by a given identification information.
【0050】 [0050]
レーザビーム14の照射軌跡としては、いわゆる一筆書き方式とラスタスキャン方式とが考えられる。 The irradiation trajectory of the laser beam 14, a so-called stroke writing type and the raster scanning method is considered. 一筆書き方式とラスタスキャン方式とのいずれを採用すべきかは、レーザビーム強度との関係により選択すれば良いであろう。 The stroke should be adopted any of the writing type raster scan method will be selected by the relation between the laser beam intensity. 一般に、レーザビーム強度がさほど高くない場合には、ビームエネルギを集中できる一筆書き方式が好ましいであろう。 In general, when the laser beam intensity is not so high, one stroke writing expression that can focus the beam energy may be preferable. 当業者には良く知られているように、この一筆書き方式には、徐々に中心をずらしつつ円を描くようにビームを振りながら規定の領域を埋めてゆくワブリング方式(図4(a)参照)と僅かにピッチをずらせつつ多数の平行線で規定の領域を埋めてゆく塗りつぶし方式(図4(b),(c)参照)とが存在する。 As is well known to those skilled in the art, this stroke writing type, gradually wobbling method Yuku filling the area defined waving beam so as to draw a circle while shifting the center (refer to FIG. 4 (a) ) and fill Yuku fill the area defined by a number of parallel lines while shifting slightly pitch system (FIG. 4 (b), there is (c) a reference). なお、一般に、図4(a)の方式は太字の描線に、図4(b)の方式はバーコードの描線に、図4(c)の方式は通常の文字の描線に使用される。 In general, the drawn lines scheme bold in FIG. 4 (a), the line draw method of bar code of FIG. 4 (b), method of FIG. 4 (c) are used in the normal characters of the drawn lines. 一方、ラスタスキャン方式が採用される場合には、レーザビーム14を適当に点滅させながら、転写板13の長手方向に沿ってこれを幅方向へ微小単位ずつシフトさせながら、何本もの平行な走査軌跡を形成する。 On the other hand, when the raster scanning method is adopted, while suitably blink the laser beam 14, while shifting little by little units which in the width direction along the longitudinal direction of the transfer plate 13, parallel nothing scanning to form a locus. これにより、PDPガラス基板7の図中上面側には、このレーザビーム14の照射により瞬時に蒸発乃至昇華したクロム被膜12が、レーザスパッタリングの原理で、そのまま転写されることとなる。 Thus, in the drawing the upper surface of the PDP glass substrate 7, chrome coating 12 evaporated or sublimated instantaneously by irradiation of the laser beam 14, the principle of laser sputtering, and be directly transcribed.
【0051】 [0051]
次に、図2(b)に示されるように、PDPガラス基板7上に重ね合わせられた転写板13を持ち上げて除去すると、PDPガラス基板7上の所定位置には、転写クロム被膜12aが残される。 Next, as shown in FIG. 2 (b), it is removed by lifting the transfer plate 13 which is superimposed on PDP glass substrate 7, a predetermined position on the PDP glass substrate 7, leaving a transfer chrome coating 12a It is. もしも、所望のマーキング形状が、図3(b)に示されるように、バーコードマーク16であれば、転写板13が取り除かれたガラス基板7の上面側には、転写クロム被膜12aをもって描かれたバーコードマーク16が残される。 If desired marking shape, as shown in FIG. 3 (b), if the bar code mark 16, on the upper surface side of the glass substrate 7 the transfer plate 13 has been removed, it is drawn with a transfer chrome coating 12a bar code marks 16 are left.
【0052】 [0052]
以上の識別情報記憶工程においては、YAGレーザマーカ装置10から出射されるレーザビーム14を適宜な軌跡を描いて指向制御しつつ、PDPガラス基板7上に重ね合わせられた転写板13をその背後から照射し、これによりクロム被膜12を瞬時に蒸発乃至昇華させて、ガラス基板7上に転写させるという構成を採用しているため、レーザビーム14を使用しつつも、PDPガラス基板7の表面を損傷させることなく、その表面に明瞭なマーキングを迅速に行うことができるのである。 Or in the identification information storing step, while pointing control drawing a proper trajectory of the laser beam 14 emitted from the YAG laser marker device 10, irradiating the transfer plate 13 which is superimposed on PDP glass substrate 7 from behind and, thereby evaporated or sublimated chromium coating 12 instantaneously, because it uses a structure that is transferred onto the glass substrate 7, while still using the laser beam 14, thereby damaging the surface of the PDP glass substrate 7 it not, it is possible to rapidly perform a clear marking on the surface thereof. 従って、この方法によれば、マーキング作業に際して粉塵が発生しないため、高いクリーン度が要求されるプラズマディスプレイパネルの製造工程においても、何等支障なくマーキング作業を行うことができる他、ガラス基板7の表面に傷を付けないことから、その後の蛍光体定着工程やリブ製作工程に伴う加熱処理に際して傷が成長してPDPガラス基板が割れてしまう等の虞もないのである。 Therefore, according to this method, since the dust during the marking operation is not generated, high in the manufacturing process of the plasma display panel cleanliness is required, other can be performed without any problem marking operations, the surface of the glass substrate 7 from the not damaged, is the is no fear of the like PDP glass substrate cracked grown scratches during heat treatment due to the subsequent phosphor fixing step or rib fabrication process.
【0053】 [0053]
さらに、レーザマーカ装置10を用いたレーザビーム14の指向制御は、公知の機構により、極めて自由度が高いため、製造工程上において受信された任意の識別情報を、直ちにPDPガラス基板7の表面にマーキングすることができ、工程管理の自由度を向上させることができる。 Furthermore, marking the directivity control of the laser beam 14 with a laser marker device 10, by a known mechanism, for extremely high degree of freedom, any identification information received in the manufacturing process, immediately on the surface of the PDP glass substrate 7 it can be, it is possible to improve the flexibility of the process control.
【0054】 [0054]
加えて、ガラス基板7の表面に形成されるマーキングは、転写クロム膜12aによりなるものであるため、このままPDPガラス基板7を化学処理乃至熱処理工程へ移行したとしても、転写クロム膜12aは剥がれたり脱落したりすることもなく、従来のバーコードラベルを用いる場合のように、その使用に何等制約を受けることもないほか、転写クロム膜12aはガラス基板7の表面において目視での読取認識率が非常に高く、機械読取りのみならず人間の目による読取にも適する等の効果を有するものである。 In addition, the marking formed on the surface of the glass substrate 7, because it is made by a transfer chromium film 12a, even when migrating this state the PDP glass substrate 7 to chemical treatment to a heat treatment step, or peeling the transfer chromium film 12a without or to fall off, as in the case of using a conventional bar code label, other never receive anything like restrictions on its use, transfer chromium film 12a is the reading recognition rate visually the surface of the glass substrate 7 very high, those having the effect of such are also suitable for reading by the human eye as well as machine reading only.
【0055】 [0055]
尚、以上の実施の形態においては、表示パネルとしてプラズマディスプレイパネルを例に取りそのガラス基板にマーキングを行う場合で説明したが、液晶表示パネル等のガラス基板を有するその他の表示パネルでも同様である。 Incidentally, in the above embodiments have been described in the case of marking on the glass substrate as an example of the plasma display panel as a display panel, the same applies in the other display panel having a glass substrate of the liquid crystal display panel or the like . また、レーザビームに対して透明な基板としてガラス板を用いたが、その他耐熱性の高いプラスチック等でも良いと思われる。 Although a glass plate as a substrate transparent to the laser beam appears to other may be a highly heat-resistant plastic. また、有色被膜の材質としてはクロムに限らず、その他タンタル、銅とニッケルの合金等を採用することができる。 The material for the colored coating is not limited to chromium, it is possible to adopt other tantalum, copper and nickel alloy. 更に、以上の実施の形態では、本発明をガラスの上にマーキングを行う場合で説明したが、その他セラミック板や金属板等のような比較的に耐熱性がありかつ平坦度のある任意の平面をマーキング対象として選択することができる。 Further, in the above embodiment, the present invention has been described in the case of marking on the glass, relatively it has heat resistance and any plane with flatness, such as other ceramic plate or a metal plate it can be selected as a marking target.
【0056】 [0056]
【発明の効果】 Effect of the Invention]
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、マーキング対象となる面が、ガラスやセラミックス等のように比較的耐熱性のある平坦面であれば、これに傷を付けることなく明瞭なマーキングを行うことができる。 As apparent from the above description, according to the present invention, the surface to be marked target, if the flat surface relatively a heat resistance as such as glass or ceramic, clear without damaging the this it is possible to carry out the marking. 従って、マーキングに際して粉塵を発生することがないため、高いクリーン度が要求される製造工程にも容易に採用することができる他、マーキング対象となる面に傷を付けないことから、対象物体の強度を損ねることもない。 Therefore, since there is not generated dust during marking, addition can be adopted easily to the production process of a high cleanliness is required, because it does not scratch the surface to be the marking target, the intensity of the target object it does not damage. 更に、レーザビームを用いた照射においては、任意のマーキング形状に沿った描線処理を高い自由度をもって即座に行うことができるため、任意の識別情報に合わせて対応するマーキングを迅速に行うことが可能となる。 Further, the irradiation using a laser beam, it is possible to perform the drawn line process along any marking shape immediately with a high degree of freedom, it can be carried out quickly marking corresponding to suit any identification information to become.
【0057】 [0057]
また、転写板上に形成された有色被膜をその背後から照射されるレーザビームで加熱しこれを瞬時に蒸発乃至昇華させて、マーキング対象面上に転写するという手法を採用しているため、(1)肉厚や歪みの大きな透明なマーキング対象物、或いは最近のプラズマディスプレイパネル等のような表面に蛍光灯障害防止のためのSiO2被膜を有するマーキング対象物に適用できることは勿論のこと、(2)レーザビームを透過させない若しくは透過させ難い、レーザビームに対して半透明乃至不透明なマーキング対象物にも適用できること、(3)例えばブラウン管の表面にマーキングする場合等のように、マーキング面の背後からレーザビームを照射することが困難なマーキング対象物にも適用できること、(4)有色被膜の厚さを調整す Further, this was heated with a laser beam to be irradiated a colored film formed on the transfer board from behind evaporated or sublimated instantaneously, because it uses the technique of transferring onto the marking target surface, ( 1) thickness and large clear marking object distortion, or of course it is applicable to the marking object having a SiO2 film for the surface of the fluorescent lamp failure prevention such as recent plasma display panel, (2 ) laser beam is difficult to cause no or transmit transmits, can be applied to a semi-transparent or opaque marking object relative to the laser beam, as such case the marking (3) eg a cathode ray tube surface, from behind the marking surface also it can be applied to hard marking object to be irradiated with a laser beam, to adjust the thickness of the (4) color coating ことにより、マーキングの品質を制御することができること、等の従来のレーザマーキング方法にはない格別の効果を有するものである。 It makes it capable of controlling the quality of the marking, and has a conventional special effects not found in the laser marking method and the like.
【0058】 [0058]
加えて、蒸発乃至昇華された有色被膜成分は、レーザビームの光圧に押されつつさほど拡散することなく直進して、レーザビーム進行方向前方に置かれたマーキング対象物表面に衝突付着するため、(1)レーザビームの径を細く絞ることにより、精細かつ明瞭なマーキングを容易に形成することができること、(2)有色被膜としてクロム等の金属を使用する場合にも酸化され難く、煤の発生が少なくて拭き取りの手間が不要であること、等の従来のレーザマーキングにはない格別の効果を有するものである。 In addition, the colored coating components are evaporated or sublimated, since straight ahead without much diffused while being pushed by the light pressure of a laser beam, impinges adhere to the marking target surface placed in the laser beam traveling forward, (1) by throttling reduce the diameter of the laser beam, it is possible to easily form the fine and clear marking, (2) difficult also oxidized when using metal such as chromium as a colored coating, the soot generation it is troublesome wiping less is required, and has a conventional special effects not found in the laser marking and the like.
【0059】 [0059]
この点をさらに図解して説明する。 In this respect further illustrated to explaining. 特開昭60−224588号公報に記載された従来のレーザマーキング方法が図5(a)に、また本発明のレーザマーキング方法が図5(b)にそれぞれ示されている。 The conventional laser marking method described in JP 60-224588 Patent Publication No. FIG. 5 (a), the addition laser marking method of the present invention is shown respectively in Figure 5 (b). なお、これらの図は、マーキング対象面と転写材料面との間隙部分を拡大乃至誇張して示すものである。 These figures are those showing an enlarged or exaggerated gap portion between the marking target surface and the transfer material surface. これらの図から明らかなように、従来のレーザマーキング方法にあっては、同図(a)に示されるように、レーザスパッタリングのメカニズムとして、着色素材となる金属板19へのレーザビーム20の照射により瞬時に加熱昇華されて立ち上る金属蒸気21を、レーザビームの進行方向とは逆方向に位置するマーキング対象物22の表面22aに付着させると言う構成(換言すれば、床面の水たまりに石を落下させたときの天井への水の跳ね返りを連想させるような構成)を採用しているため、(1)レーザビーム照射により加熱昇華されて立ち上る金属蒸気は拡散する傾向が認められ、その結果、如何にレーザビーム径を細く絞ろうとも、それによりマーキングされる線幅には限界があり、精細なマーキングには適しないこと、(2)レ As is apparent from these figures, in the conventional laser marking method, as shown in FIG. 6 (a), as a mechanism of the laser sputtering, irradiation of the laser beam 20 to the metal plate 19 made of a colored material the metal vapor 21 rises is heated sublimated instantaneously, if the position structure (in other words to say adhere to the surface 22a of the marking object 22 in a direction opposite to the traveling direction of the laser beam, the stone puddle on the floor since it uses the configuration) reminiscent rebound of water to the ceiling when fallen, (1) laser beam metal vapor rises is heated sublimated by irradiation tended to diffuse, resulting, no matter Shiboro how thin the laser beam diameter, whereby there is a limit to the line width to be marked, it not suitable for fine marking, (2) Les ザビーム照射により加熱昇華されて立ち上る金属蒸気はマーキング対象面に到達するまでに酸化される傾向が認められ、マーキング対象面にはマーキングされた線のほかにかなりの量の煤が付着するため、不要な煤を拭き取るための後行程が不可欠であること、等の問題点がある。 Metal vapor rises is heated sublimated by Zabimu irradiation tended to be oxidized before reaching the marking target surface, since the soot significant amount of addition of the marked line on the marking target surface is attached, unnecessary it stroke after for wiping the soot that is essential, there are problems like.
【0060】 [0060]
これに対して、本発明のレーザマーキング方法にあっては、同図(b)に示されるように、蒸発乃至昇華された有色被膜成分23である蒸気21は、レーザビーム20の光圧に押されつつさほど拡散することなく直進して、レーザビーム進行方向前方に置かれたマーキング対象物22の表面22aに衝突付着するため、(1)レーザビームの径を細く絞ることにより、精細かつ明瞭なマーキングを容易に形成することができること、(2)有色被膜としてクロム等の金属を使用する場合にも酸化され難く、煤の発生が少なくて拭き取りの手間が不要であること、等の従来のレーザマーキングにはない格別の効果を有するものである。 In contrast, in the laser marking method of the present invention, as shown in FIG. (B), the steam 21 is colored coating components 23 that are evaporated or sublimated is pressed to the light pressure of the laser beam 20 straight ahead without much diffusion being, for impinging attached to the surface 22a of the laser beam traveling direction forward placed the marking object 22, (1) by throttling reduce the diameter of the laser beam, definition and clear to be able to easily form a marking (2) difficult also oxidized when using metal such as chromium as a colored coating, it troublesome wiping less occurrence of soot is not required, conventional laser etc. and it has a significant effect not found in the marking. なお、24は転写板を構成するガラス板である。 Incidentally, 24 is a glass plate constituting the transfer plate.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】 プラズマディスプレイパネルの製造工程において、識別情報をマーキングするためのマーキング加工用ステーションのレイアウトを示す模式図である。 [1] In the manufacturing process of the plasma display panel is a schematic diagram showing a layout of a marking for the stations for marking the identification information.
【図2】 識別情報記録部における識別情報記録工程を説明するための模式的工程図である。 2 is a schematic process diagram for explaining the identification information recording step in the identification information recording unit.
【図3】 被膜転写ステップと転写されたマーキング形状との関係を示す説明図である。 3 is an explanatory diagram showing the relationship between the marking shape is transferred film transfer step.
【図4】 マーキングの際のレーザビームの照射軌跡の一例(いわゆる一筆書き方式)を示す図である。 4 is a diagram showing an example (so-called one-stroke writing type) of the irradiation trajectory of the laser beam during the marking.
【図5】 特開昭60−224588号公報に記載された従来のレーザマーキング方法と本発明のレーザマーキング方法とを、マーキング対象面と転写材料面との間隙部分について拡大乃至誇張して示す図である。 5 is a diagram showing the laser marking method of a conventional laser marking method and the present invention described in JP 60-224588 Laid-expanding or exaggerated for the gap portion between the marking target surface and the transfer material surface it is.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
1 マーキング加工用のステーション 2 カセットローダ部 3 識別情報記録部 4 識別情報読取部 5 カセットアンローダ部 6 カセット 7 PDPガラス基板 8 識別情報入力用通信ポート 9 識別情報読取き 10 レーザマーカ装置 11 ガラス板 12 クロム膜 12a 転写クロム膜 13 転写板 14 レーザビーム 15 搬送ローラ 16 バーコードマーク 17 操作盤 18 転写板供給口 19 着色素材である金属板 20 レーザビーム 21 着色素材の蒸気 22 マーキング対象物 22a マーキング対象物の表面 23 着色素材である有色被膜 24 転写板を構成するガラス板 1 station 2 cassette loader unit 3 the identification information recording section 4 identification information reading unit 5 cassette unloader unit 6 cassette 7 PDP glass substrate 8 identification information input communication port 9 identification information reading Ki 10 laser marker device 11 the glass plate 12 chromium for marking membrane 12a transfer the chromium film 13 transfer plate 14 the laser beam 15 conveying rollers 16 bar code mark 17 operating panel 18 transfer plate metal plate 20 the laser beam 21 steam 22 marking object 22a marking object coloring material is a supply port 19 colored material glass plate constituting the colored film 24 transfer plate which is the surface 23 colored material

Claims (4)

  1. レーザビームに対して透明な性質を有する基板の片面に有色被膜を被着させてなる転写板を提供する転写板提供ステップと、 A transfer plate providing step of providing a transfer plate a colored coating comprising by depositing on one surface of a substrate having a transparent property against the laser beam,
    前記提供される転写板をマーキング対象となる面の所望位置に前記有色被膜が対面するように重ね合わせる転写板重ね合わせステップと、 A step superimposed transfer plate superposing as the colored coating facing the desired position of the surface to be marked target transfer plate, wherein is provided,
    前記転写板と前記マーキング対象との間に空気が入った間隙が存在するように、両者間の微細間隙の大きさを適切に制御しながら、前記重ね合わされた転写板をその背後からレーザビームで所望のマーキング形状に対応して照射しつつ、前記基板を透過するレーザビームにより前記有色被膜を加熱することにより、前記転写板上の有色被膜をマーキング対象となる面上に所望のマーキング形状で転写する被膜転写ステップと、 The so that there is a gap containing air between the transfer plate and the marking target, while appropriately controlling the size of the fine gap therebetween, the superimposed transfer plate with a laser beam from behind while illuminating in response to the desired marking shape, by heating the colored film by a laser beam passing through the substrate, transferring a desired marking shape on a surface of the colored film becomes marked target on the transfer plate and a film transfer step of,
    前記転写板をマーキング対象となる面から取り除く転写板除去ステップと、 A transfer plate removal step of removing the transfer plate from the surface to be the marking target,
    を具備することを特徴とするレーザビームを用いてマーキングするための方法。 The method for marking with a laser beam, characterized by comprising.
  2. 前記有色被膜は、融点がガラスより高い材質であり、 The colored coating has a melting point higher than the glass material,
    前記マーキング対象は、表示パネル製造工程におけるガラス基板もしくはブラウン管であることを特徴とする請求項1に記載のレーザビームを用いてマーキングするための方法。 The marking target, a method for marking with a laser beam according to claim 1, which is a glass substrate or a cathode ray tube in the display panel manufacturing process.
  3. 前記有色被膜は、Ag,Au,Cu,Cr,Al,Ta,Ni−Cr,Moのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載のレーザビームを用いてマーキングするための方法。 The colored coating, Ag, Au, Cu, Cr , Al, Ta, Ni-Cr, a method for marking with a laser beam according to claim 1, characterized in that either Mo.
  4. 前記有色被膜は、前記基板上に下層と上層とを順に重ねた二層構造であり、下層の存在により上層の反射を抑制すると同時にレーザビームの吸収効率を高めたことを特徴とする請求項1に記載のレーザビームを用いてマーキングするための方法。 The colored coating is a two-layer structure of repeating the lower layer and the upper layer in this order on the substrate, according to claim 1, characterized in that the presence of the lower layer enhanced the absorption efficiency at the same time the laser beam when suppress reflection of the upper layer the method for marking with a laser beam according to.
JP23026197A 1996-12-27 1997-08-12 The method for marking with a laser beam, and a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of the display panel Expired - Lifetime JP3915851B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-357725 1996-12-27
JP35772596 1996-12-27
JP23026197A JP3915851B2 (en) 1996-12-27 1997-08-12 The method for marking with a laser beam, and a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of the display panel

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23026197A JP3915851B2 (en) 1996-12-27 1997-08-12 The method for marking with a laser beam, and a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of the display panel
EP19970122869 EP0850779B1 (en) 1996-12-27 1997-12-24 Method of marking an object with a laser beam
DE1997604698 DE69704698D1 (en) 1996-12-27 1997-12-24 A method for labeling an object that a laser beam used
DE1997604698 DE69704698T2 (en) 1996-12-27 1997-12-24 A method for labeling an object that a laser beam used
CN 97125991 CN1089655C (en) 1996-12-27 1997-12-26 Method using laser beam as mark
KR19970073889A KR100258301B1 (en) 1996-12-27 1997-12-26 Method of marking an object with a laser beam
US08999395 US6132818A (en) 1996-12-27 1997-12-29 Method of marking with laser beam

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10235480A true JPH10235480A (en) 1998-09-08
JP3915851B2 true JP3915851B2 (en) 2007-05-16

Family

ID=26529242

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23026197A Expired - Lifetime JP3915851B2 (en) 1996-12-27 1997-08-12 The method for marking with a laser beam, and a method for marking identification information on a glass substrate in a manufacturing process of the display panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3915851B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2360031T3 (en) 1999-09-28 2011-05-31 Kaneka Corporation Method of process control fabricacioón a photoelectric conversion apparatus.
US6287184B1 (en) * 1999-10-01 2001-09-11 3M Innovative Properties Company Marked abrasive article
JP4533874B2 (en) 2005-11-04 2010-09-01 株式会社オーク製作所 Laser beam exposure device
JP5245607B2 (en) * 2008-07-23 2013-07-24 株式会社デンソー Display device
JP6041145B2 (en) * 2013-03-12 2016-12-07 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Method for manufacturing an oxide dot pattern

Also Published As

Publication number Publication date Type
JPH10235480A (en) 1998-09-08 application

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6602790B2 (en) Method for patterning a multilayered conductor/substrate structure
US3911444A (en) Metal film recording media for laser writing
US5972233A (en) Method of manufacturing a decorative article
US4194022A (en) Transparent, colorless, electrically conductive coating
US6762124B2 (en) Method for patterning a multilayered conductor/substrate structure
US6255775B1 (en) Shadow mask, a method of manufacturing a color thin film electroluminescent display apparatus using the shadow mask, and a color thin film electroluminescent display apparatus
US5599590A (en) Texture treatment for carbon substrate and for carbon overcoat layer of magnetic disks
US6078377A (en) Electrode plate, process for producing the plate, liquid crystal device including the plate and process for producing the device
US6268058B1 (en) Security card comprising a thin glass layer
US4000492A (en) Metal film recording media for laser writing
US6008144A (en) Window shutter for laser annealing
US6313436B1 (en) High contrast surface marking using metal oxides
US20120202030A1 (en) Glass laminate, display device panel with supporting body, display device panel, display device, method for producing glass laminate, method for producing display device panel with supporting body, and method for producing display device panel
US6238847B1 (en) Laser marking method and apparatus
US4743463A (en) Method for forming patterns on a substrate or support
US20110293818A1 (en) Method and Apparatus for Depositing A Film Using A Rotating Source
US5072236A (en) Thick film type thermal head
JP2000195665A (en) Forming method for organic film
Zergioti et al. Microdeposition of metals by femtosecond excimer laser
US5292559A (en) Laser transfer process
US6709720B2 (en) Marking method and marking material
Fitz-Gerald et al. Laser direct writing of phosphor screens for high-definition displays
JP2004103406A (en) Device and method for forming thin film pattern, and method of manufacturing organic el display device
JP2006002226A (en) Vapor deposition apparatus
US7704683B2 (en) Process for producing patterned optical filter layers on substrates

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040716

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20041027

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20041027

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060830

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061030

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070130

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110216

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110216

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120216

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120216

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140216

Year of fee payment: 7

EXPY Cancellation because of completion of term