JP3899655B2 - 食器洗い乾燥機 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄槽に収納した食器類に水を噴射して食器を洗浄し、温風を送ることにより乾燥する食器洗い乾燥機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の食器洗い乾燥機は図6に示すように構成していた。以下、その構成について説明する。
【0003】
図6に示すように、洗浄槽1は、食器類2を内部に収納し底部に洗浄水を溜め、前面は開口部となっており、内部に洗浄ノズル3を回転自在に支持し、食器類2に向け洗浄水を噴出するように構成している。洗浄ポンプ(洗浄手段)4は、洗浄水を洗浄ノズル3に送り込むもので、モータ5によって駆動される。ヒータ6は、洗浄槽1の底部に配設し、洗浄水を加熱する。
【0004】
蓋7は、洗浄槽1の開口部を開閉自在に覆うとともに、その前面には食器類2の洗浄、すすぎ、乾燥行程の一連の動作を逐次制御する制御装置8を設けている。排気ファン9は洗浄槽1の後部に設け、排気ダクト10を経由して前面の排気口11から洗浄槽1内の蒸気が排気するようにしている。また、温度検知手段12は洗浄槽1の底部に配設し、洗浄槽1内の水温および槽内温度を検知するようにしている。
【0005】
上記構成において動作を説明する。使用者が蓋7を前方に空けて食器類2を配置し、洗浄槽1に洗剤を入れた後、制御装置8に設けた操作表示部によって電源を投入し、運転コースを選択して、運転スタートすると、まず、洗浄槽1の底部に所定量の水道水が給水され、モータ5およびヒータ6に通電され、洗浄水は加熱されながら洗浄ポンプ4により食器類2に向けて洗浄ノズル3から噴出され、食器の汚れを落とす。すすぎ行程も同様の動作が行われる。
【0006】
乾燥行程では、洗浄槽1内のすすぎ水が排水された後、ヒータ6に通電し、洗浄槽1内を加熱しながら排気ファン9が動作して水蒸気を排気ダクト10から排気口11に導き外部へ排出し、食器類2の乾燥を進行する。
【0007】
乾燥行程で、洗浄槽1内の温度を調節するため、図7に示すように、制御装置8は洗浄槽1内の温度が予め決められた温度T11に達するまではヒータ6に通電しつづけ、T11に達した後は通電をオフにし、温度がT12まで低下すると、再びヒータ6に通電していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の構成において、乾燥行程の温度調節の際に、ヒータ6への通電制御が、オンまたはオフの2つの状態のみであって、洗浄槽1内の温度あるいは食器類2の温度が上がりすぎたり、また下がりすぎてしまい、最適な乾燥性能を得にくいという課題があった。
【0009】
本発明は上記従来の課題を解決するもので、乾燥行程における洗浄槽内の温度によって、ヒータのオン・オフの時限を細かく制御することにより、洗浄槽内の温度の急上昇や急降下を避け、ほぼ一定温度に保つようにし、乾燥性能を向上することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、食器類を収納する洗浄槽内の空気を加熱する加熱手段と、洗浄槽内の水蒸気を排気口を介して排出する排気ファンを設け、洗浄槽内の温度および洗浄水の水温を検知する温度検知手段で検知される温度により、制御手段は、乾燥行程において加熱手段をオン・オフ制御して洗浄槽内の温度を調節する際に、予め決められた所定の温度に達するまでの第1回目の加熱時のオン・オフのデューティ比と、前記所定の温度に達した後の温度降下時のデューティ比と、温度が降下し再び加熱する第2回目以降の加熱時のデューティ比の3つの異なるデューティ比を持ち、3つのデューティ比を、第1回目の加熱時、第2回目以降の加熱時、温度降下時の順に大から小へとなるよう設定するとともに、所定の温度よりも高い上限温度を設定し、洗浄槽内の温度が上限温度に達した場合には加熱手段を完全にオフにして、洗浄槽内の温度を所定の温度に保持するよう構成したものである。
【0011】
これにより、乾燥行程における洗浄槽内の温度によって、ヒータのオン・オフの時限を細かく制御することにより、洗浄槽内の温度の急上昇や急降下を避け、ほぼ一定温度に保つことができ、乾燥性能を向上することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1に記載の発明は、食器類を収納する洗浄槽と、洗浄水を食器類に向けて噴出する洗浄ノズルと、前記洗浄槽に溜められた洗浄水を洗浄ノズルに送り込む洗浄手段と、洗浄水及び洗浄槽内の空気を加熱する加熱手段と、前記洗浄槽内の水蒸気を排気口を介して排出する排気ファンと、洗浄槽内の温度および洗浄水の水温を検知する温度検知手段と、前記食器類の洗浄、すすぎ、乾燥行程の一連の動作を逐次制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、乾燥行程において前記加熱手段をオン・オフ制御して洗浄槽内の温度を調節し、予め決められた所定の温度に達するまでの第1回目の加熱時のオン・オフのデューティ比と、前記所定の温度に達した後の温度降下時のデューティ比と、温度が降下し再び加熱する第2回目以降の加熱時のデューティ比の3つの異なるデューティ比を持ち、前記3つのデューティ比を、第1回目の加熱時、第2回目以降の加熱時、温度降下時の順に大から小へとなるよう設定するとともに、前記所定の温度よりも高い上限温度を設定し、洗浄槽内の温度が前記上限温度に達した場合には前記加熱手段を完全にオフにして、洗浄槽内の温度を前記所定の温度に保持するよう構成したものであり、第1回目の加熱時に最も大きなパワーを加熱手段に与え、温度降下時には最小のパワーを与え、第2回目以降の加熱時には中間のパワーを与えて、ほぼ一定の温度に洗浄槽内を保つことができ、乾燥性能を向上することができるとともに、所定の温度に達した後、加熱手段のパワーを最小にしても温度が上昇しつづけた場合でも、食器類にダメージを与えることなく乾燥を制御することができる。
【0013】
請求項2に記載の発明は、上記請求項1に記載の発明において、制御手段は、3つの異なるデューティ比の設定を、オンからつぎのオンまでの周期を一定とし、デューティ比のみを変化させるようにしたものであり、オンオフ周期を一定にすることにより、制御手段をマイクロコンピュータで構成したときのプログラムの構成が簡単になり、また、加熱手段の通電を入り切りするリレーのオンオフ回数を一定にでき、乾燥性能を向上するとともに、制御手段の信頼性を向上することができる。
【0014】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。なお各構成部位の配置は図5に示すものと同様のため、ここでの説明は省略する。
【0015】
(実施例1)
図1に示すように、制御装置(制御手段)13は、乾燥行程において、ヒータ(加熱手段)をオン・オフ制御して洗浄槽1内の温度を調節し、予め決められた所定の温度(温度調節温度)に達するまでの第1回目の加熱時のオン・オフのデューティ比(オン時間の割合)と、所定の温度に達した後の温度降下時のデューティ比と、温度が降下し再び加熱する第2回目以降の加熱時のデューティ比の3つの異なるデューティ比を持ち、これら3つのデューティ比を、第1回目の加熱時、第2回目以降の加熱時、温度降下時の順に大から小へとなるよう設定している。他の構成は従来例と同じである。
【0016】
上記構成において動作を説明する。図2は、乾燥行程の洗浄槽1内の温度変化を示すもので、T1、T2は予め決められた所定の温度(温度調節温度)であり、乾燥行程に入ると、第1の温度勾配△T1でできるだけ短時間で温度を上げる。ただし、連続通電ではヒータ6の寿命にも悪影響があるため、図3(a)に示す第1のデューティ比でヒータ6に通電する。
【0017】
温度が所定の温度T1に達すると、それ以上の温度上昇を防ぐため、図3(b)に示すように、オン時間の比率を大きく下げて、第2のデューティ比でヒータ6に通電する。このため、図2の温度勾配△T2に示す挙動となる。このとき、完全にオフにしてしまうと、温度が下がりすぎ乾燥性能を劣化させるおそれがあるため、デューティ比を下げている。
【0018】
温度がT2に下がると、再び温度を上昇させるため、図3(c)に示すように、オン時間の比率を上げて、第3のデューティ比でヒータ6に通電すると、図2の温度勾配△T3のように温度は上昇に転ずる。このときのオン時間のデューティ比は、洗浄槽1内の温度がすでにある程度高くなっているため、第1のデューティ比よりも小さく、第2のデューティ比よりも大きくなるよう設定する。
【0019】
その理由は、第1のデューティ比と同じデューティ比であれば、すぐに所定の温度T1に達してデューティ比が下がってしまうため、これを避けて、できるだけ長い時間加熱状態を保って、洗浄槽1内の温度をできるだけ一定に保持するためである。
【0020】
図2の温度勾配△T3で温度が上昇し、再び所定の温度T1に達した後は、図3(b)の第2のデューティ比と、図3(c)の第3のデューティ比とを繰り返すことにより、図2の温度勾配△T2と△T3を繰り返し、所定の温度T1とT2の間のほぼ一定の温度を保持することができ、乾燥性能を最適化することができる。
【0021】
(実施例2)
図1の制御装置(制御手段)13は、予め決められた所定の温度よりも高い温度に上限温度を設定し、洗浄槽1内の温度が上限温度に達した場合にはヒータ6完全にオフにするよう構成している。他の構成は上記実施例1と同じである。
【0022】
上記構成において動作を説明する。図4は、乾燥行程の洗浄槽1内の温度変化を示すもので、T1、T2は予め決められた所定の温度(温度調節温度)であり、温度が所定の温度T1に達した後、オン時間のデューティ比を下げても、周囲温度が高いなどの理由で、洗浄槽1内の温度が図2の場合のように低下しないことある。
【0023】
この場合、温度勾配を図4の△T4にし、所定の温度T1よりもさらに高い温度T3を設定しておき、この温度T3に達してしまった場合には、ヒータ6への通電を完全にオフにする。このことにより、温度は図4の温度勾配△T5で急激に低下し、T1を通り越してT2まで低下した後は、上記実施例1の場合と同じ制御を行う。
【0024】
これにより、周囲温度などの条件が変動しても、洗浄槽1内の温度および食器類2の温度が上がりすぎるのを防止でき、安全性を確保した上で乾燥性能を向上することができる。
【0025】
(実施例3)
図1の制御装置(制御手段)13は、3つの異なるデューティ比の設定を、オンからつぎのオンまでの周期を一定とし、デューティ比のみを変化させるようにしている。他の構成は上記実施例1または2と同じである。
【0026】
上記構成において動作を説明する。図5は、ヒータ6への通電のオン時間のデューティ比を示したもので、図5(a)に示す第1のデューティ比は第1回目の加熱時であり、図5(b)に示す第2のデューティ比は温度降下時であり、図5(c)に示す第3のデューティ比は第2回目以降の加熱時である。
【0027】
これらのデューティ比はすべてが同じ周期(この場合60秒)で設定してあり、第1のデューティ比ではオン25秒、オフ35秒、第2のデューティ比ではオン14秒、オフ46秒、第3のデューティ比ではオン20秒、オフ40秒である。
【0028】
このように周期を同じにすることにより、マイクロコンピュータによる制御の場合のプログラムを簡便にすることができ、また、ヒータ6をオンオフ制御するリレーのオンオフ回数を一定に保つことにより、制御装置13の信頼性の向上をはかり、なおかつ乾燥性能の向上をはかることができる。
【0029】
【発明の効果】
以上のように本発明の請求項1に記載の発明によれば、食器類を収納する洗浄槽と、洗浄水を食器類に向けて噴出する洗浄ノズルと、前記洗浄槽に溜められた洗浄水を洗浄ノズルに送り込む洗浄手段と、洗浄水及び洗浄槽内の空気を加熱する加熱手段と、前記洗浄槽内の水蒸気を排気口を介して排出する排気ファンと、洗浄槽内の温度および洗浄水の水温を検知する温度検知手段と、前記食器類の洗浄、すすぎ、乾燥行程の一連の動作を逐次制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、乾燥行程において前記加熱手段をオン・オフ制御して洗浄槽内の温度を調節し、予め決められた所定の温度に達するまでの第1回目の加熱時のオン・オフのデューティ比と、前記所定の温度に達した後の温度降下時のデューティ比と、温度が降下し再び加熱する第2回目以降の加熱時のデューティ比の3つの異なるデューティ比を持ち、前記3つのデューティ比を、第1回目の加熱時、第2回目以降の加熱時、温度降下時の順に大から小へとなるよう設定するとともに、前記所定の温度よりも高い上限温度を設定し、洗浄槽内の温度が前記上限温度に達した場合には前記加熱手段を完全にオフにして、洗浄槽内の温度を前記所定の温度に保持するよう構成したから、第1回目の加熱時に最も大きなパワーを加熱手段に与え、温度降下時には最小のパワーを与え、第2回目以降の加熱時には中間のパワーを与えて、ほぼ一定の温度に洗浄槽内を保つことができ、乾燥性能を向上することができるとともに、所定の温度に達した後、加熱手段のパワーを最小にしても温度が上昇しつづけた場合でも、食器類にダメージを与えることなく乾燥を制御することができる。
【0030】
また、請求項2に記載の発明によれば、制御手段は、3つの異なるデューティ比の設定を、オンからつぎのオンまでの周期を一定とし、デューティ比のみを変化させるようにしたから、オンオフ周期を一定にすることにより、制御手段をマイクロコンピュータで構成したときのプログラムの構成が簡単になり、また、加熱手段の通電を入り切りするリレーのオンオフ回数を一定にでき、乾燥性能を向上するとともに、制御手段の信頼性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例の食器洗い乾燥機の断面図
【図2】 同食器洗い乾燥機の洗浄槽内温度を変化を示すタイムチャート
【図3】 同食器洗い乾燥機のヒータ通電のデューティ比を示すタイムチャート
【図4】 本発明の第2の実施例の食器洗い乾燥機の洗浄槽内温度を変化を示すタイムチャート
【図5】 本発明の第3の実施例の食器洗い乾燥機のヒータ通電のデューティ比を示すタイムチャート
【図6】 従来の食器洗い乾燥機の断面図
【図7】 同食器洗い乾燥機の洗浄槽内温度を変化を示すタイムチャート
【符号の説明】
1 洗浄槽
2 食器類
3 洗浄ノズル
4 洗浄ポンプ(洗浄手段)
6 ヒータ(加熱手段)
9 排気ファン
11 排気口
12 温度検知手段
13 制御装置(制御手段)
Claims (2)
- 食器類を収納する洗浄槽と、洗浄水を食器類に向けて噴出する洗浄ノズルと、前記洗浄槽に溜められた洗浄水を洗浄ノズルに送り込む洗浄手段と、洗浄水及び洗浄槽内の空気を加熱する加熱手段と、前記洗浄槽内の水蒸気を排気口を介して排出する排気ファンと、洗浄槽内の温度および洗浄水の水温を検知する温度検知手段と、前記食器類の洗浄、すすぎ、乾燥行程の一連の動作を逐次制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、乾燥行程において前記加熱手段をオン・オフ制御して洗浄槽内の温度を調節し、予め決められた所定の温度に達するまでの第1回目の加熱時のオン・オフのデューティ比と、前記所定の温度に達した後の温度降下時のデューティ比と、温度が降下し再び加熱する第2回目以降の加熱時のデューティ比の3つの異なるデューティ比を持ち、前記3つのデューティ比を、第1回目の加熱時、第2回目以降の加熱時、温度降下時の順に大から小へとなるよう設定するとともに、前記所定の温度よりも高い上限温度を設定し、洗浄槽内の温度が前記上限温度に達した場合には前記加熱手段を完全にオフにして、洗浄槽内の温度を前記所定の温度に保持するよう構成した食器洗い乾燥機。
- 制御手段は、3つの異なるデューティ比の設定を、オンからつぎのオンまでの周期を一定とし、デューティ比のみを変化させるようにした請求項1記載の食器洗い乾燥機。
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1998
- 1998-03-31 JP JP08571698A patent/JP3899655B2/ja not_active Expired - Fee Related
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