JP3834103B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に、活性化するバンクに供給するための内部電圧を供給する内部電圧供給回路を有する半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図26は、特開平1−276486号公報に示されている従来の半導体記憶装置における内部電圧生成回路2600の構成を示す図である。
【0003】
図26において、行アドレスストローブ信号/RAS(/はバーを表わす)信号がH(論理ハイ)レベルになって、非選択状態のときにはノードNA の電圧VA は、第1の基板バイアス電圧発生回路10におけるリングオシレータ11が発振して第1の基板バイアス電圧が半導体基板に与えられる。行アドレスストローブ信号/RAS信号がL(論理ロー)レベルになると、第2の基板バイアス電圧発生回路20におけるリングオシレータ21は基板電圧が所定のレベルに達するまでは発振動作を行ない、所定のレベルに達した後、非選択状態になったときに発振を停止する。すなわち、半導体記憶装置がアクティブ状態のときのみ動作する構成になっており、半導体記憶装置が(スタンバイ状態)非選択状態のときにおける消費電力を低減することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、複数のバンクを有する半導体記憶装置の場合、動作するバンク数によって、動作するメモリアレイの範囲が変化する。そして、動作するバンク数が多くなると消費電流が増加するので、基板電圧(Vbb)供給回路などのような内部電圧供給回路の内部電圧の供給能力を大きくする必要がある。反対に、動作するバンク数が少なければ、内部電圧供給回路の内部電圧供給能力は必要以上に強くする必要はない。
【0005】
したがって、このような従来の半導体記憶装置では、内部電圧供給回路が、動作するバンク数によって内部電圧の供給能力が変化しないので、動作するバンク数によって、供給能力が不十分となることがあり、動作時に電位レベルが変動しやすくなるという問題点があった。
【0006】
本発明は、以上のような問題点を解決するためになされたもので、動作するバンク数によらず、安定した内部電圧を供給することが可能な半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
この発明の第1の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号の活性化に応じて、内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部から与えられる第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号の活性化に応じて、内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路とを含む。
第1の内部降圧回路は、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極とこの外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含む。第2の内部降圧回路は、外部電源電圧が入力される一方の電極と内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含む。
この発明の第1の観点に係る半導体記憶装置は、さらに、第1と第2のメモリセルアレイの領域外から第1のメモリセルアレイの領域内に伸び、第1のメモリセルアレイの領域内に配線され、内部電源電圧を第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに供給し、少なくとも第1の外部バンクアドレス信号の活性化もしくは第2のバンクアドレス信号の活性化のいずれが活性化がされる場合であっても、この活性化に応じて、内部電源電圧が供給される第1の配線と、第1と第2のメモリセルアレイの領域外から第2のメモリセルアレイの領域内に伸び、第2のメモリセルアレイの領域内に配線され、内部電源電圧を第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに供給し、少なくとも第1の外部バンクアドレス信号の活性化もしくは第2のバンクアドレス信号の活性化のいずれが活性される場合であっても、この活性化に応じて内部電源電圧が供給される第2の配線とを有し、第1のPMOSトランジスタの他方の電極および第2のPMOSトランジスタの他方の電極と第1の配線および第2の配線とを接続する第3の配線とを備える
【0008】
この発明の第2の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータを増幅する複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータを増幅する複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部から与えられる第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、第2の内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路とを含む。
第1の内部降圧回路は、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した第1の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、第1の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、第1の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含む。第2の内部降圧回路は、外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した第2の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、第2の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、第2の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含む。
この発明の第2の観点に係る半導体記憶装置は、さらに、第1のメモリセルアレイの領域内に伸びて配線され、第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、第1の外部バンクアドレス信号に応じて第1の内部降圧回路から内部電源電圧が供給され第2の外部バンクアドレス信号に応じて第2の内部降圧回路から内部電源電圧が供給される第1の配線と、第2のメモリセルアレイの領域内に伸びて配線され、第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され第1の外部バンクアドレス信号に応じて第1の内部降圧回路から内部電源電圧が供給され、第2の外部バンクアドレス信号に凹っじて第2の内部降圧回路から内部電源電圧が供給される第2の配線と、第1のPMOSトランジスタの他方の電極および第2のPMOSトランジスタの他方の電極と第1の配線および第2の配線とを接続する第3の配線とを備える
【0009】
この発明の第3の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、複数のメモリセルとメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、外部から与えられる第1のバンクを選択する第1の外部バンクアドレス信号に応じて、第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部から与えられる第2のバンクを選択する第2の外部バンクアドレス信号に応じて、第2の内部電源電圧を供給する第2の内部降圧回路とを含む。
第1の内部降圧回路は、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの比較結果に応じて第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含む。第2の内部降圧回路は、外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの比較結果に応じて第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含む。
この発明の第3の観点に係る半導体記憶装置は、さらに、第1のメモリセルアレイの領域内に伸び、第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能である第1の配線部と、第2のメモリセルアレイの領域内に伸び、第2のメモリセルアレイのセンスアンプに沿って配線され、第2のメモリセルアレイのセンスアンプに電気的に接続可能である第2の配線部と、第1のPMOSトランジスタの他方の電極と第2のPMOSトランジスタの他方の電極とを第1の配線部と第2の配線部とを接続する第3の配線部とを有する配線を含む。この配線においては、第1の外部バンクアドレス信号に応じて第1の内部電源電圧が第1ないし第3の配線部に供給され、第2の外部バンクアドレス信号に応じて第2の内部電源電圧が第1ないし第3の配線部に供給される
この発明の第4の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータを増幅する複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータを増幅する複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、第1のメモリセルアレイの領域内を横切って配線され、第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合される第1の配線と、第2のメモリセルアレイの領域内を横切って配線され、第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合される第2の配線と、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第1のバンクを選択する第1の外部バンクアドレス信号に応じて活性化され、第1の配線と第2の配線に内部電源電圧を供給する第1の内部降圧回路と、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、この2つの入力した電圧が等しくなるように第2のPMOSトランジスタのゲート電極へ電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第2のバンクを選択する第2の外部バンクアドレス信号に応じて活性化され、第1の配線と第2の配線に内部電源電圧を供給する第2の内部降圧回路と、第1のPMOSトランジスタの他方の電極と第2のPMOSトランジスタの他方の電極と第1の配線および第2の配線とを接続する第3の配線とを含む
【0010】
この発明の第5の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、外部から供給される外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部から与えられる第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、第1の内部降圧回路が内部電源電圧を出力しているとき第1の内部降圧回路から内部電源電圧が供給され、第2の内部降圧回路が内部電源電圧を出力しているとき第2の内部降圧回路から内部電源電圧が供給される、第1のメモリセルアレイの領域内に配線された第1の配線と、第2のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、第1
の内部降圧回路が内部電源電圧を出力しているとき第1の内部降圧回路から内部電源電圧が供給され、第2の内部降圧回路が内部電源電圧を出力しているとき第2の内部降圧回路から内部電源電圧が供給される、第2のメモリセルアレイの領域内に配線された第2の配線と、第1の内部降圧回路の出力および第2の内部降圧回路の出力と第1の配線および第2の配線とを接続する第3の配線とを備える。
この発明の第6の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、外部から供給される外部電源電圧を降圧した第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部から与えられる第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、外部電源電圧を降圧した第2の内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、第1のメモリセルアレイの複数のメモリセルと複数のセンスアンプが配列された領域内に伸びて配線され、第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、第1の外部バンクアドレス信号に応じて第1の内部電源電圧に電気的に結合され、第2の外部バンクアドレス信号に応じて第2の内部電源電圧に電気的に結合される第1の配線と、第2のメモリセルアレイの複数のメモリセルと複数のセンスアンプが配列された領域内に伸びて配線され、第2のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、第1の外部バンクアドレス信号に応じて第1の内部電源電圧に電気的に結合され、第2の外部バンクアドレス信号に応じて第2の内部電源電圧に電気的に結合される第2の配線と、第1の内部降圧回路の出力および第2の内部降圧回路の出力と第1の配線および第2の配線とを接続する第3の配線とを備える
の発明の第の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第2のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第2のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第3のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第3のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第4のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第4のバンクと、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、これらの内部電源電圧および内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極へ電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第1のバンクを選択する第1の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる第2のバンクを選択する第2の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じてカレントミラー型増幅回路が活性化され、第1のPMOSトランジスタから内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、これらの内部電源電圧および内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第3のバンクを選択する第3の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる第4のバンクを選択する第4の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて、第2のカレントミラー型増幅回路が活性化され、第2のPMOSトランジスタから内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、第1のPMOSトランジスタの他方の電極と第2のPMOSトランジスタの他方の電極と第1のバンクの回路と第2のバンクの回路と第3のバンクの回路と第4のバンクの回路とを接続する配線を含む。
この発明の第の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回
路が設けられた第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第2のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第2のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第3のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第3のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第4のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第4のバンクと、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した第1の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、第1の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、第1の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧の比較結果に応じて第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて活性化される信号により、第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した第2の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、第2の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、第2の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧の比較結果に応じて第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第3のバンクの選択を示す第3の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる第4のバンクの選択を示す第4の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて活性化される信号により、第2の内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、第1のPMOSトランジスタの他方の電極と第2のPMOSトランジスタの他方の電極と第1のバンクの回路と第2のバンクの回路と第3のバンクの回路と第4のバンクの回路とを接続する配線とを備える。
この発明の第の観点に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第1のバンクと、複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第2のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第2のバンクと、外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、外部電源電圧が入力される一方の電極と内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、第1のPMOSトランジスタの他方の電極と第2のPMOSトランジスタの他方の電極と第1のバンクの回路と第2のバンクの回路とを接続する配線とを有する。
外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応答して第1のバンクが活性化されると共に第1の内部降圧回路が部電源電圧を出力し、第1のバンクが活性化されている間に外部から第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号が入力されると、この第2の外部バンクアドレスに応答して第2のバンクが活性化されると共に第2の内部降圧回路が内部電源電圧を出力する。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【0024】
また、図において同一の符号は同一または相当部分を示す。
(1) 実施の形態1
図1は、本発明の実施の形態1の半導体記憶装置100の構成を示すブロック図である。
【0025】
図1では、簡易化のために、メモリセルアレイ内のバンク数が2つの場合について示している。
【0026】
ここで、バンクを示すバンクアドレス信号は、バンクに対応して互いに異なっていればよいので、さらに簡易化のため、これら2つのバンクB1,B2のうちの一方のバンクB1は、外部バンクアドレス信号ext.BA(以下、ext.BAと略す)がH(論理ハイ)レベルのとき活性化され、他方のバンクB2は、ext.BAの反転信号である外部バンクアドレス信号ext./BA(以下、ext./BAと略す)がHレベルのとき活性化されるようにする。
【0027】
図1を参照して、半導体記憶装置100は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、外部ロウアドレスストロ−ブ信号(以下、ext./RASと略す)を内部ロウアドレスストローブ信号(以下、int./RASと略す)int./RASに変換するRASバッファ回路103と、int./RASに同期したクロック信号CLK1を生成するクロック生成回路105と、ext.BAの入力によりint.BA,int./BAを出力するアドレスバッファ107と、基板電圧Vbbを供給するVbbポンプ109,111とを含む。
【0028】
RASバッファ回路103の出力ノードはクロック生成回路105の入力ノードに接続され、クロック生成回路105の出力ノードはVbbポンプ109,111に接続されている。アドレスバッファ107の2つの出力ノードのうちint.BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB1とVbbポンプ109とに、int./BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB2とVbbポンプ111とに接続されている。Vbbポンプ109,111の各々のVbbを出力するためのVbb出力ノードN1は、共にバンクB1,B2に接続されている。
【0029】
バンクが複数ある場合には、アドレスバッファ107の出力ノードの各々は、それが出力する内部バンクアドレスに対応するバンクに接続される。
【0030】
図1において、RASバッファ回路103は、外部から入力されたext./RASをint./RASに変換し、クロック生成回路105に出力する。クロック生成回路105は、RASバッファ回路103から入力されたint./RASをもとに、int./RASに同期したクロック信号CLK1を生成し、Vbbポンプ109,111に入力する。
【0031】
一方、バンクを活性化するためのext.BAが入力されると、アドレスバッファ107は、int.BAをVbbポンプ109に、int./BAをVbbポンプ111に出力する。これらint.BA,int./BAに応答してVbbポンプ109または111が動作する。
【0032】
図2は、図1のVbbポンプ109(,111)の一例を示す回路図である。図2を参照して、Vbbポンプ109(,111)は、NANDゲート201と、コンデンサCpと、PチャネルMOSトランジスタ(以下、PMOSトランジスタと略す)205,207とを含む。
【0033】
NANDゲート201の出力ノードはコンデンサCpの一方電極に接続されている。PMOSトランジスタ207のソース電極とゲート電極とは接地電位(以下、GNDと称す)に接続されている。PMOSトランジスタ205のソース電極とゲート電極とは、PMOSトランジスタ207のドレイン電極とコンデンサCpの他方電極とに接続されている。そして、PMOSトランジスタ205のドレイン電極は基板電圧Vbbを出力するためのVbb出力ノードN1に接続されている。
【0034】
NANDゲート201には、クロック生成回路105で生成されたクロック信号CLK1と、アドレスバッファ107からの上記内部バンクアドレス信号(Vbbポンプ109においてはint.BA、Vbbポンプ111においてはint.BA)が入力される。
【0035】
Hレベルの内部バンクアドレス信号(int.BAまたはint./BA)がNANDゲート201に入力され、int./RASに同期してクロック信号CLK1がL(論理ロー)レベルからHレベルになると、NANDゲート201の出力はHレベルからLレベルになり、コンデンサCpの他方電極の電圧が−Vthpから−Vcc−Vthp(=Vbb)の負電圧に引抜かれ、基板電圧Vbbが生成される。ここで、VthpはPMOSトランジスタ205,207のしきい値電圧である。
【0036】
すなわち、バンクB1が活性化されるときは、ext.BAがHレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からHレベルのint.BAがVbbポンプ109に、Lレベルのint./BAがVbbポンプ111に出力される。そして、このint.BAとint./RASとに同期したクロック信号CLK1とによりVbbポンプ109が動作し、バンクB1に基板電圧Vbbが供給される。
【0037】
また、バンクB2が活性化されるときは、ext.BAがLレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からLレベルのint.BAがVbbポンプ109に、Hレベルのint./BAがVbbポンプ111に出力される。そして、このint./RASに同期したクロック信号CLK1により、Vbbポンプ111が動作し、バンクB2に基板電圧Vbbが供給される。
【0038】
以上のように、バンクごとにVbbポンプを有しているので、バンクから他のバンクへの切換がVbbポンプの応答時間より短くなっても、動作するバンク数によらず安定したVbbレベルの電圧を、ロウアドレス信号の入力に基づいて、バンクに供給することが可能な内部電圧供給回路を提供することができる。
【0039】
(2) 実施の形態2
図3は、本発明の実施の形態2の半導体記憶装置300の構成を示すブロック図である。
【0040】
実施の形態1ではext.RAS(int./RAS)にVbbポンプの動作を同期させていたが、本実施の形態では、外部コラムアドレスストローブ信号ext./CAS(内部コラムアドレスストローブ信号int./CAS)に同期してVbbポンプが動作する。
【0041】
図3を参照して、半導体記憶装置300は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、外部コラムアドレスストローブ信号ext./CAS(以下、ext.CASと略す)を内部コラムアドレスストローブ信号int./CAS(以下、int.CASと略す)に変換するCASバッファ回路303と、int./CASに同期したクロック信号CLK2を生成するクロック生成回路305と、ext.BAの入力によりint.BA,int./BAを出力するアドレスバッファ107と、基板電圧Vbbを生成するVbbポンプ109,111とを含む。
【0042】
CASバッファ回路303の出力ノードはクロック生成回路305の入力ノードに接続され、クロック生成回路305の出力ノードはVbbポンプ109,111に接続されている。アドレスバッファ107の2つの出力ノードのうちint.BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB1とVbbポンプ109とに、int./BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB2とVbbポンプ111とに接続されている。Vbbポンプ109,111の各々のVbbを出力するためのVbb出力ノードN1は、共にバンクB1,B2に接続されている。
【0043】
バンクが複数ある場合には、アドレスバッファ107の出力ノードの各々は、それが出力する内部バンクアドレス信号に対応するバンクに接続されている。
【0044】
図3において、CASバッファ回路303で、外部から入力された.ext/CASがint./CASに変換され、int./CASがクロック生成回路305に出力される。クロック生成回路305で、CASバッファ回路303から入力されたint./CASをもとに、int./CASに同期したクロック信号CLK2が生成され、Vbbポンプ109,111に入力される。
【0045】
一方、バンクを活性化するためのext.BAが入力されると、アドレスバッファ107から、int.BAをVbbポンプ109に、int./BAをVbbポンプ111に出される。これらint.BA,int./BAに応答して、Vbbポンプ109または111が動作する。
【0046】
Vbbポンプ109(,111)は図2に示したものと同様のものであるので説明を省略する。
【0047】
int.BA,int./BAがNANDゲート201に入力されている場合に、int./CASに同期してクロック信号CLK2がLレベルからHレベルになると、NANDゲート201の出力はHレベルからLレベルになり、コンデンサCpの他方電極の電圧が−Vthpから−Vcc−Vthp(=Vbb)の負電圧に引抜かれ、基板電圧Vbbが生成される。
【0048】
すなわち、バンクB1が活性化されるときは、ext.BAがHレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からHレベルのint.BAがVbbポンプ109に、Lレベルのint./BAがVbbポンプ111に出力される。そして、このHレベルのint.BAとint./CASに同期したクロック信号CLK2とによりVbbポンプ109が動作し、バンクB1に基板電圧Vbbが供給される。
【0049】
また、バンクB2が活性化されるとき、ext.BAがLレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からLレベルのint.BAがVbbポンプ109に、Hレベルのint./BAがVbbポンプ111に出力される。そして、このHレベルのint./BAとint./CASに同期したクロック信号CLK2とにより、Vbbポンプ111が動作し、バンクB2に基板電圧Vbbが供給される。
【0050】
以上のように、バンクごとにVbbポンプを有しているので、バンクから他のバンクへの切換わりがVbbポンプの応答時間より短くなっても、動作するバンク数によらず安定したVbbレベルの電圧を、コラムアドレス信号の入力に基づいて、バンクに供給することが可能な内部電圧供給回路を提供することができる。
【0051】
(3) 実施の形態3
図4は、本発明の実施の形態3の半導体記憶装置400の構成を示すブロック図である。
【0052】
図4を参照して、半導体記憶装置400は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、ext./RASをint./RASに変換するRASバッファ回路103と、RASバッファ回路103と、int./RASに同期したクロック信号CLK2を生成するクロック生成回路105と、ext.BAの入力によりint.BA,int./BAを出力するアドレスバッファ107と、昇圧電圧Vppを生成するVppポンプ409,411とを含む。
【0053】
RASバッファ回路103の出力ノードはクロック生成回路105の入力ノードに接続され、クロック生成回路105の出力ノードはVppポンプ409,411に接続されている。アドレスバッファ107の2つの出力ノードのうちint.BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB1とVppポンプ409とに、int./BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB2とVppポンプと411に接続されている。Vppポンプ209,411の各々のVbbを出力するためのVpp出力ノードN2は、共にバンクB1,B2に接続されている。
【0054】
バンクが複数ある場合には、アドレスバッファ107の出力ノードの各々は、それが出力する内部バンクアドレス信号に対応するバンクに接続されている。
【0055】
図4において、RASバッファ回路103で、外部から入力されたext./RASをint./RASに変換され、クロック生成回路105に出力される。クロック生成回路105で、RASバッファ回路103から入力されたint./RASをもとに、int./RASに同期したクロック信号CLK1が生成される。このクロック信号CLK1はVppポンプ409,411に入力される。
【0056】
一方、バンクを活性化するためのext.BAが入力されると、アドレスバッファ107から、int.BAをVppポンプ409に、int./BAがVppポンプ411に出力される。これらint.BA,int./BAに応答してVppポンプ409または411が動作する。
【0057】
図5は、図4のVppポンプ409(,411)の一例を示す回路図である。図5を参照して、Vppポンプ409(,411)は、ANDゲート501と、コンデンサCpと、NMOSトランジスタ505,507とを含む。
【0058】
ANDゲート501の出力ノードはコンデンサCpの一方電極に接続されている。NMOSトランジスタ507のソース電極とゲート電極とはVcc電源に接続されている。NMOSトランジスタ505のソース電極とゲート電極とは、NMOSトランジスタ507のドレイン電極とコンデンサCpの他方電極とに接続されている。そして、NMOSトランジスタ505のドレイン電極は昇圧電圧Vppを出力するためのVpp出力ノードN2に接続されている。
【0059】
ANDゲート501には、クロック生成回路105で生成されたクロック信号CLK1と、アドレスバッファ107からの上記内部バンクアドレス信号(Vppポンプ409においてはint.BA、Vppポンプ411においてはint./BA)が入力される。
【0060】
内部バンクアドレス信号(int.BAまたはint./BA)がANDゲート501に入力され、int./RASに同期してクロック信号CLK1がLレベルからHレベルになると、ANDゲート501の出力はLレベルからHレベルになり、コンデンサCpの他方電極の電圧がVcc−Vthnから2Vcc−Vthn(=Vpp)に昇圧され、昇圧電圧Vppが生成される。ここで、Vccは電源電圧レベル、VthnはNMOSトランジスタのしきい値電圧である。
【0061】
すなわち、バンクB1が活性化されるときは、ext.BAがHレベルとなり、アドレスバッファ103に入力される。アドレスバッファ107からHレベルのint.BAがVppポンプ409に、Lレベルのint./BAがVppポンプ411に出力される。そして、int./RASに同期したクロック信号CLK1によりVppポンプ409が動作し、バンクB1に昇圧電圧Vppが供給される。
【0062】
また、バンクB2が活性化されるときは、ext.BAがLレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からLレベルのint.BAがVppポンプ409に、Hレベルのint./BAがVppポンプ411に出力される。そして、int./RASに同期したクロック信号CLK1によりVppポンプ411が動作し、バンクB2に昇圧電圧Vppが供給される。
【0063】
以上のように、バンクごとにVppポンプを有しているので、バンクから他のバンクへの切換わりがVppポンプの応答時間より短くなっても、動作するバンク数によらず安定したVppレベルの電圧を、ロウアドレス信号の入力に基づいて、バンクに供給することが可能な内部電圧供給回路を提供することができる。
【0064】
(4) 実施の形態4
図6は、本発明の実施の形態4の半導体記憶装置900の構成を示すブロック図である。
【0065】
実施の形態3ではext.RAS(int./RAS)にVppポンプの動作を同期させていたが、本実施の形態では、ext./CAS(int./CAS)に同期してVppポンプが動作する。
【0066】
図6を参照して、半導体記憶装置900は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、CASバッファ回路303と、int./CASに同期したクロック信号CLK2を発生するクロック生成回路305と、ext.BAの入力によりint.BA,int./BAを出力するアドレスバッファ107と、基板電圧Vppを生成するVppポンプ409,411とを含む。
【0067】
CASバッファ回路303の出力ノードはクロック生成回路305の入力ノードに接続され、クロック生成回路305の出力ノードはVppポンプ409,411に接続されている。アドレスバッファ107の2つの出力ノードのうちint.BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB1とVppポンプ409とに、int./BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB2とVppポンプ411とに接続されている。Vppポンプ409,411の各々のVppを出力するためのVpp出力ノードN2は、共にバンクB1,B2に接続されている。
【0068】
バンクが複数ある場合には、アドレスバッファ107の出力ノードの各々は、それが出力する内部バンクアドレスに対応するバンクに接続されている。
【0069】
図6において、CASバッファ回路303で、外部から入力された.ext/CASがint./CASに変換され、int./CASがクロック生成回路305に出力される。クロック生成回路305で、CASバッファ回路303から入力されたint./CASをもとに、int./CASに同期したクロック信号CLK2が生成され、Vppポンプ409,411に入力される。
【0070】
一方、バンクを活性化するためのext.BAが入力されると、アドレスバッファ107から、int.BAをVppポンプ409に、int./BAをVppポンプ411に出される。これらint.BA,信号int./BAに応答して、Vppポンプ409または111が動作する。
【0071】
Vppポンプ409(,411)は図4に示したものと同様のものであるので説明を省略する。
【0072】
int.BA,int./BAがNANDゲート201に入力されている場合に、int./CASに同期してクロック信号CLK2がLレベルからHレベルになると、NANDゲート201の出力はHレベルからLレベルになり、コンデンサCpの他方電極の電圧がVcc−Vthnから2Vcc−Vthn(=Vpp)に昇圧され、昇圧電圧Vppが生成される。
【0073】
すなわち、バンクB1が活性化されるときは、ext.BAがHレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からHレベルのint.BAがVppポンプ409に、Lレベルのint./BAがVppポンプ411に出力される。そして、このHレベルのint.BAとint./CASに同期したクロック信号CLK2とによりVppポンプ409が動作し、バンクB1に昇圧電圧Vppが供給される。
【0074】
また、バンクB1が活性化されるとき、ext.BAがLレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からLレベルのint.BAがVppポンプ409に、Hレベルのint./BAがVppポンプ411に出力される。そして、このHレベルのint./BAとint./CASに同期したクロック信号CLK2とにより、Vppポンプ411が動作し、バンクB2に昇圧電圧Vppが供給される。
【0075】
以上のように、バンクごとにVbbポンプを有しているので、バンクから他のバンクへの切換わりがVbbポンプの応答時間より短くなっても、動作するバンク数によらず安定したVbbレベルの電圧を、コラムアドレス信号の入力に基づいて、バンクに供給することが可能な内部電圧供給回路を提供することができる。
【0076】
(5) 実施の形態5
図7は、本発明の実施の形態4の半導体記憶装置600の構成を示すブロック図である。
【0077】
図7を参照して、半導体記憶装置600は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、ext./RASをint./RASに変換するRASバッファ回路103と、int./RASに同期したクロック信号CLK1を生成するクロック生成回路105と、ext.BAの入力によりint.BA,int./BAを出力するアドレスバッファ107と、内部電源電圧int.Vccを生成するVDC(電圧ダウンコンバータ)回路609,611とを含む。
【0078】
RASバッファ回路103の出力ノードはクロック生成回路105の入力ノードに接続され、クロック生成回路105の出力ノードはVDC回路609,611に接続されている。アドレスバッファ107の2つの出力ノードのうちint.BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB1とVDC回路609とに、int./BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB2とVDC回路611とに接続されている。VDC回路609,611の各々のint.Vccを出力するためのint.Vcc出力ノードN3は、共にバンクB1,B2に接続されている。
【0079】
バンクが複数ある場合には、アドレスバッファ107の出力ノードの各々は、それが出力する内部バンクアドレスに対応するバンクに接続されている。
【0080】
図7において、RASバッファ回路103で、外部から入力されたext./RASがint./RASに変換され、クロック生成回路105に出力される。クロック生成回路105で、RASバッファ回路103から入力された、int./RASに同期したクロック信号CLK1が生成される。このクロック信号CLK1は、VDC回路609,611に入力される。
【0081】
一方、バンクを活性化するためのext.BAが入力されると、アドレスバッファ107は、int.BAをVDC回路609に、int./BAをVDC回路611に出力する。これらint.BA,int./BAに応答してVDC回路609,611が動作する。
【0082】
図8は、図7のVDC回路609(,611)の一例を示す図である。
図8を参照して、VDC回路609(,611)は、ANDゲート501と、カレントミラー型の幅回路701と、PMOSトランジスタ703とを含む。
【0083】
差動幅回路701は、さらに、NMOSトランジスタ1000,1001,1002と、PMOSトランジスタ1003,1004を備える。
【0084】
VDC回路609(,611)において、PMOSトランジスタ703のソ−ス電極はext.Vccに接続され、ドレイン電極はint.Vcc出力ノ−ドN3に接続され、ゲ−ト電極は差動増幅器701の出力ノ−ドに接続されている。
【0085】
ANDゲ−ト501にはクロック生成回路105から出力されたクロック信号CLK1とアドレスバッファ107から出力された内部バンクアドレス信号(int.BAまたはint.BA)とが入力され、その出力ノ−ドは差動増幅回路701内のNMOSトランジスタ1000のゲート電極に接続されている。
【0086】
NMOSトランジスタ1001のゲート電極には予め設定された基準電圧ルVrefが入力されている。差動増幅回路701の出力ノードはPMOSトランジスタ703のゲート電極に接続され、Lレベルの電圧が印加されると、PMOSトランジスタ703のソース電極に与えられる外部電源電圧ext.Vccをもとに内部降圧された内部電源電圧int.Vccが、PMOSトランジスタ703のドレイン電極からint.Vcc出力ノ−ドN3に供給される。この内部電源電圧int.Vccは差動増幅回路701内のNMOSトランジスタ1002にフィ−ドバックされ、基準電圧Vrefと同電位になろうとする。NMOSトランジスタ1000は、ANDゲート501に入力されるクロック信号CLK1と内部バンクアドレス信号とがともにHレベルのときオンする。したがって、VDC回路609(,611)は、NMOSトランジスタ1000がオンしたとき活性化され動作する。
【0087】
すなわち、バンクB1が活性化されるときは、ext.BAがHレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からHレベルのint.BAがVDC回路609に、Lレベルのint./BAがVDC回路611に出力される。そして、このHレベルのint.BAとint./RASに同期したクロック信号CLK1とによりVDC回路609が動作し、バンクB1に内部電源電圧int.Vccが供給される。
【0088】
また、バンクB2が活性化されるときは、ext.BAがLレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からLレベルのint.BAがVDC回路609に、Hレベルのint./BAがVDC回路611に出力される。そして、int./RASに同期したクロック信号CLK1によりVDC回路609が動作し、バンクB2に内部電源電圧int.Vccが供給される。
【0089】
以上のように、バンクごとにVDC回路を有しているので、バンクから他のバンクへの切換わりがVDC回路の応答時間より短くなっても、動作するバンク数によらず安定した内部電源電圧を、ロウアドレス信号の入力に基づいて、バンクに供給することが可能な内部電圧供給回路を提供することができる。
【0090】
(6) 実施の形態6
図9は、本発明の実施の形態5の半導体記憶装置800の構成を示すブロック図である。
【0091】
実施の形態4の半導体記憶装置400は、ext.RAS(int./RAS)にVDCポンプの動作を同期させていたが、本実施の形態はext.CAS((int./CAS)に同期させてVDC回路が動作する。
【0092】
図9を参照して、半導体記憶装置800は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、ext./RASをint./RASに変換するCASバッファ303と、int.CASに同期したクロック信号CLK2を生成するクロック生成回路305と、ext.BAの入力によりint.BA,int./BAを出力するアドレスバッファ107と、内部電源電圧int.Vccを生成するVDC回路609,611とを含む。
【0093】
CASバッファ回路303の出力ノードはクロック生成回路305の入力ノードに接続され、クロック生成回路305の出力ノードはVDC回路609,611に接続されている。アドレスバッファ107の2つの出力ノードのうちint.BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB1とVDC回路609とに、int./BAが出力される出力ノードはメモリセルアレイ113内のバンクB2とVDC回路611とに接続されている。VDC回路609,611の各々のint.Vccを出力するためのint.Vcc出力ノードN3は、共にバンクB1,B2に接続されている。
【0094】
VDC回路609,611は図8に示したものと同様であるので、説明を省略する。
【0095】
バンクが複数ある場合には、アドレスバッファ107の出力ノードの各々は、それが出力する内部バンクアドレスに対応するバンクに接続されている。
【0096】
図9において、CASバッファ回路303で、外部から入力されたext./CASがint./CASに変換され、クロック生成回路305に出力される。クロック生成回路305で、CASバッファ回路303から入力されたint./CASをもとに、int./RASに同期したクロック信号CLK2が生成される。このクロック信号CLK2はVppポンプ609,611に入力される。
【0097】
一方、バンクを活性化するためのext.BAが入力されると、アドレスバッファ107は、int.BAをVDC回路609に、int./BAをVDC回路611に出力する。これらint.BA,int./BAに応答してVDC回路609,611が動作する。
【0098】
すなわち、バンクB1が活性化されるときは、ext.BAがHレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からHレベルのint.BAがVDC回路609に、Lレベルのint./BAがVDC回路611に出力される。そして、int./CASに同期したクロック信号CLK2によりVDC回路609が動作し、バンクB1に内部電源電圧int.Vccが供給される。
【0099】
また、バンクB2が活性化されるときは、ext.BAがLレベルとなり、アドレスバッファ107に入力される。アドレスバッファ107からLレベルのint.BAがVDC回路609に、Hレベルのint./BAがVDC回路611に出力される。そして、int./CASに同期したクロック信号CLK2によりVDC回路611が動作し、バンクB2に内部電源電圧int.Vccが供給される。
【0100】
以上のように、バンクごとにVDC回路を有しているので、バンクから他のバンクへの切換がVDC回路の応答時間より短くなっても、動作するバンク数によらず安定した内部電源電圧を、コラムアドレス信号の入力に基づいて、バンクに供給することが可能な内部電圧供給回路を提供することができる。
【0101】
(7) 実施の形態7
図10は、本発明の実施の形態7の半導体記憶装置1000の構成を示すブロック図である。
【0102】
図10を参照して、半導体記憶装置1000は、RASバッファ103と、アドレスバッファ107と、複数のバンクに分割されたメモリセルアレイ113と、メモリセルアレイ113内のバンクにint.Vccを供給するVDC回路1001と、VDC回路1001を活性化するための活性化信号を発生する活性化信号発生回路1003と、を備える。
【0103】
以下、簡単のために、メモリセルアレイ113が、2つのバンクB1,B2に分割されている場合について説明する。バンクB1は、int.BAがLレベルのとき活性化され、バンクB2は、int.BAがHレベルのとき活性化されるものとする。
【0104】
メモリセルアレイ113はアドレスバッファ107とVDC回路1001の内部電源電圧出力ノード(以下、int.Vccノードと称す)N3とに接続されている。活性化信号発生回路1003はアドレスバッファ107とRASバッファ回路103とに接続されている。VDC回路1001は活性化信号発生回路1003に接続されている。
【0105】
活性化信号発生回路1003には、外部からクロック信号CLK3と活性化されていないバンクをプリチャージするためのプリチャージ信号/PREとが入力され、RASバッファ回路103からint./RASが入力されている。これらの信号に基いて、活性化信号発生回路1003は、VDC回路1001を活性化するための活性化信号/ACT1,/ACT2を出力する。
【0106】
図11,12は、図10の半導体記憶装置1000内の活性化信号発生回路1003が発生する活性化信号を示すタイミングチャートである。
【0107】
図11は、バンクB1,B2が別々に活性化される場合のタイミングチャートである。一方、図12は、バンクB1,B2が同時に活性化される場合のタイミングチャートである。
【0108】
まず、図11を参照して、活性化信号発生回路1003の動作を説明する。
時刻t0 のクロック信号CLK3の立上がりエッジで、RASバッファ回路103からLレベルのint./RASおよびアドレスバッファ107からLレベルのint.BAが活性化信号発生回路1003に取込まれると、活性化信号/ACT1がLレベルとなる。一方、活性化信号/ACT2はHレベルのまま一定である。
【0109】
時刻t1 のクロック信号CLK3の立上がりエッジで、RASバッファ回路103からのLレベルのint./RAS、アドレスバッファ107からのHレベルのint.BA、および外部からバンクをプリチャージするためのプリチャージ信号/PREが活性化信号発生回路103に取込まれると、バンクB1が非活性化され、また、活性化信号/ACT1がHレベルとなり、バンクB1へのアクセスが終了し、プリチャージが行なわれる。
【0110】
さらに、時刻t2 のクロック信号CLK3の立上がりエッジでRASバッファ回路103からLレベルのint./RASおよびアドレスバッファ107からのHレベルのint.BA(すなわちLレベルのint./BA)が活性化信号発生回路1003に取込まれると、活性化信号/ACT2がLレベルとなる。一方、活性化信号/ACT1はHレベルのまま一定である。
【0111】
時刻t4 のクロック信号CLK3の立上がりエッジで、RASバッファ回路103からLレベルのint./RAS、アドレスバッファ107がLレベルのint.BA、および外部からプリチャージ信号/PREが活性化信号発生回路1003に取込まれると、バンクB2が非活性化され、活性化信号/ACT2がHレベルとなり、バンクB2へのアクセスが終了し、プリチャージが行なわれる。
【0112】
次に、図12を参照して、活性化信号発生回路1003の動作を説明する。
時刻t0 のクロック信号CLK3の立下がりエッジで、RASバッファ回路103からLレベルのint./RASおよびアドレスバッファ107からLレベルのint.BAが活性化信号発生回路1003に取込まれると、バンクB1が活性化され、活性化信号/ACT1がLレベルとなる。
【0113】
続いて、時刻t1 のクロック信号CLK3の立下がりエッジでRASバッファ回路103からLレベルのint./RASおよびアドレスバッファ107からHレベルのint.BAが活性化信号発生回路1003に取込まれると、バンクB2が活性化され、活性化信号/ACT2がLレベルとなる。
【0114】
バンクB1,B2が同時に活性化される場合、メモリセルにアクセスするために動作する回路が、1つのバンクのみにおいてアクセスする場合に比べて多くなる。そこで、上記活性化信号/ACT1,/ACT2により動作する以下に示すようなVDC回路を設ける。
【0115】
図13は、図10のVDC回路1001の一例であるVDC回路1300を示す回路図である。
【0116】
図13を参照して、VDC回路1300は、活性化信号/ACT1により活性化されint.Vccを出力する内部電源電圧出力回路1301と、活性化信号/ACT2により活性化されint.Vccを出力する内部電源電圧出力回路1303とを備える。内部電源電圧出力回路1301と内部電源電圧出力回路1303とは回路構成は全く同一である。
【0117】
内部電源電圧出力回路1301は、差動増幅器1305と、PMOSトランジスタ1307,1309と、インバータ1311とを備える。
【0118】
差動増幅器1305は、さらに、PMOSトランジスタ1313,1314と、NMOSトランジスタ1315〜1317とを備える。
【0119】
差動増幅器の反転入力端子には基準電圧Vrefが与えられ、非反転端子にはint.Vcc出力ノードN3の電圧がフィードバックされ、出力端子はPMOSトランジスタ1307のゲート電極とPMOSトランジスタ1309のドレイン電極とに接続されている。PMOSトランジスタ1307のソース電極はext.Vccに接続され、ドレイン電極は内部電源電圧出力ノードN1に接続されている。
【0120】
PMOSトランジスタ1313のソース電極はext.Vccに接続され、ゲート電極はPMOSトランジスタ1314のゲート電極とドレイン電極とに接続され、ドレイン電極は出力端子に接続されている。PMOSトランジスタ1314のソース電極はext.Vccに接続されている。NMOSトランジスタ1315のゲート電極には基準電圧Vrefが入力され、ソース電極はNMOSトランジスタ1317のドレイン電極に接続されている。NMOSトランジスタ1316のゲート電極は内部電源電圧出力ノードN1に接続され、ソース電極はNMOSトランジスタ1317のドレイン電極に接続されている。NMOSトランジスタ1317のドレイン電極は接地され、ゲート電極にはインバータを介して活性化信号/ACT1が入力される。
【0121】
内部電源電圧出力回路1301の出力ノードと内部電源電圧出力回路1303の出力ノードとはint.Vcc出力ノードN3で接続され、int.Vcc出力ノードN3は、メモリセルアレイ113に接続されている。
【0122】
バンクB1が活性化されていないとき、活性化信号/ACT1はHレベルで、差動増幅器1305内のNMOSトランジスタ1317はオンしているので、差動増幅器1305は動作せず、また、PMOSトランジスタ1309がオンしているので、PMOSトランジスタ1307のゲート電極にPMOSトランジスタ1309を介してext.Vccが与えられ、PMOSトランジスタ1307はオフしているため、int.Vcc出力ノードN3にint.Vccが出されない。
【0123】
バンクB1が活性化されるとき、活性化信号/ACT1がLレベルになると、差動増幅器1305内のNMOSトランジスタ1317がオンして差動増幅器1305が動作する。また、PMOSトランジスタ1309がオフして、PMOSトランジスタ1307のゲート電極にはext.Vccが与えられず、差動増幅器1305の出力端子の電圧が与えられ、この電圧によりPMOSトランジスタ1307が制御され、ext.Vccをもとにint.Vccがint.Vcc出力ノードN3に出力される。
【0124】
内部電源電圧出力回路1303についても上記内部電源電圧出力回路1301と同様に、バンクB2が活性化されていないとき、活性化信号/ACT2はHレベルで、NMOSトランジスタ1317がオフし、PMOSトランジスタ1309がオンして、int.Vcc出力ノードN3にint.Vccが出力されず、バンクB2が活性化されるとき、活性化信号/ACT2がLレベルとなり、ext.Vccをもとにint.Vccがint.Vcc出力ノードN3に出力される。
【0125】
したがって、本発明の実施の形態7の半導体記憶装置1300は、VDC回路がバンクごとに内部電源電圧出力回路を有するので、あるバンクから他のバンクへの切換わりが内部電源電圧出力回路の応答時間より短くなっても、安定して内部電源電圧をバンクに供給することが可能である。
【0126】
また、複数のバンクが同時に活性化される場合には、各バンクに対応する内部電源電圧出力回路が各々動作するので、VDC回路の内部電源電圧供給能力が向上し、安定した内部電源電圧を供給することが可能である。
【0127】
(8) 実施の形態8
本発明の実施の形態8の半導体記憶装置は、図10の実施の形態7の半導体記憶装置1000において、VDC回路1001を、以下に示す図14のVDC回路1400に置換えたものである。
【0128】
この実施例においても、簡単のために、メモリセルアレイ113が2つのバンクB1,B2に分割されている場合について説明する。
【0129】
図14は、本発明の実施の形態8の半導体記憶装置に含まれているVDC回路1400を示す回路図である。
【0130】
図14を参照して、VDC回路1400は、カレントミラー型の差動増幅器1305と、NOR回路1406と、int.Vcc出力ノードN3に電圧を出力する電圧出力回路1415,1416とを備える。
【0131】
差動増幅器1305は、さらに、PMOSトランジスタ1413,1414と、NMOSトランジスタ1315〜1317とを備える。
【0132】
電圧出力回路1415は、さらに、PMOSトランジスタ1407,1408を備え、電圧出力回路1416は、さらに、PMOSトランジスタ1409,1410を備える。
【0133】
電圧発生回路1415はバンクB1に供給するためのint.Vccを出力するための回路であり、電圧発生回路1416はバンクB2に供給するためのint.Vccを出力するための回路である。
【0134】
差動増幅器1305において、PMOSトランジスタ1313のソース電極はext.Vccに接続され、ドレイン電極は出力端子に接続され、ゲート電極はPMOSトランジスタ1314ゲート電極とドレイン電極とに接続されている。PMOSトランジスタ1314のソース電極はext.Vccに接続されている。NMOSトランジスタ1315のドレイン電極は出力端子に接続され、ゲート電極には基準電圧Vrefが与えられる。NMOSトランジスタ1316のドレイン電極はNMOSトランジスタ1317のドレイン電極に接続され、ソース電極はNMOSトランジスタ1317のドレイン電極に接続され、ゲート電極はint.Vcc出力ノードN3に接続されている。NMOSトランジスタ1317のソース電極は接地され、ゲート電極はNOR回路1406の出力ノードに接続されている。NOR回路1406の一方の入力ノードには活性化信号/ACT1が、他方の入力ノードには活性化/ACT2が入力されている。
【0135】
電圧出力回路1415において、PMOSトランジスタ1407のソース電極はext.Vccに接続され、ドレイン電極はPMOSトランジスタ1408のソース電極に接続され、ゲート電極に活性化信号/ACT1が入力される。PMOSトランジスタ1408のドレイン電極はint.Vcc出力ノードN3に接続され、ゲート電極は差動増幅器1305の出力端子に接続されている。
【0136】
電圧出力回路1416において、PMOSトランジスタ1409のソース電極はext.Vccに接続され、ドレイン電極はPMOSトランジスタ1410のソース電極に接続され、ゲート電極には活性化信号/ACT2が入力される。PMOSトランジスタ1410のドレイン電極はint.Vcc出力ノードN3に接続され、ゲート電極き差動増幅器1305の出力端子に接続されている。
【0137】
バンクB1,B2がともに活性化されていないとき、活性化信号/ACT1,ACT2はともにHレベルであるので、NOR回路1406の出力はLレベルであり、差動増幅器1305内のNMOSトランジスタ1317がオフ状態であるので、差動増幅器1305は動作しない。また、PMOSトランジスタ1407,1409もオフ状態であるので、int.Vcc出力ノードN3にはint.Vccが出力されない。
【0138】
いずれか一方のバンク、たとえば、バンクB1のみが活性化されるとき、活性化信号/ACT1はLレベル、/ACT2はHレベルとなるので、NOR回路1406の出力はLレベルとなり、NMOSトランジスタ1317がオンして差動増幅器1305が動作する。また、PMOSトランジスタ1407がオンするので、差動増幅器1305の出力により制御されたPMOSトランジスタ1408を介して、ext.Vccをもとに、バンクB1に供給されるためのint.Vccがint.Vcc出力ノードN3に発生される。
【0139】
バンクB2のみが活性化されるときは、活性化信号/ACT2がLレベル、活性化信号/ACT1がHレベルとなり、NMOSトランジスタ1317とPMOSトランジスタ1409とがオンして、ext.Vccをもとに、差動増幅器1305の出力により制御されたPMOSトランジスタ1410を介して、バンクB2に供給されるためのint.Vccがint.Vcc出力ノードに発生される。
【0140】
さらに、バンクB1,B2の両方が活性化されるときは、活性化信号/ACT1,/ACT2とがともにLレベルとなり、NMOSトランジスタ1317と2つPMOSトランジスタ1407,1409とがオンし、差動増幅器1305の出力により制御されたPMOSトランジスタ1408,1410を介して、int.Vcc出力ノードN3にバンクB1,B2に供給するためのint.Vccが発生される。
【0141】
よって、両方のバンクが活性化されるとき、バンク1つのみが活性化されるときと比較してint.Vccの供給能力が向上するので、両方のバンクに安定したint.Vccを供給することができる。
【0142】
以上のように、本発明の実施の形態8の半導体記憶装置は、活性化されるバンクに応じてint.Vccの供給能力が変化するので、常に安定したint.Vccを供給することが可能である。
【0143】
メモリセルアレイが複数のバンクに分割されている場合は、バンクB1,B2に対応して設けられた電圧発生回路1415,1416と同様な、活性化信号と差動増幅器1305の出力とにより動作する電圧発生回路を内部電圧出力ノードN3に接続していればよい。
【0144】
図15は図14のVDC回路1400の改良例であるVDC回路1500を示す回路図である。
【0145】
図15を参照して、VDC回路1500は、図14のVDC回路1400のNOR回路1406とNMOSトランジスタ1317とを、NMOSトランジスタ1501,1502とインバータ1503,1504とに置換えたものである。
【0146】
NMOSトランジスタ1501,1502のドレイン電極はNMOSトランジスタ1315のソース電極に接続され、ソース電極は接地電圧が与えられている。インバータ1503には活性化信号/ACT1が入力され、インバータ1503の出力はNMOSトランジスタ1501のゲート電極に与えられる。インバータ1504には活性化信号/ACT2が入力され、インバータ1504の出力はNMOSトランジスタ1502のゲート電極に与えられる。
【0147】
たとえば、バンクB1が活性化されるときは、活性化信号/ACT1がLレベルとなり、NMOSトランジスタ1501がオンして、差動増幅器1305はNMOSトランジスタ1501により決定される所定の電圧利得となる。
【0148】
バンクB2が活性化されるときは、活性化信号/ACT2がLレベルとなり、NMOSトランジスタ1502がオンして差動増幅器1305はNMOSトランジスタ1502により決定される所定の電圧利得となる。
【0149】
バンクB1,B2の両方が活性化されるときは、活性化信号/ACT1,/ACT2がともにLレベルとなってNMOSトランジスタ1501,1502がオンするので、差動増幅器1305は、NMOSトランジスタ1501,1502により決定される所定の電圧利得となる。しかも、このときの電圧利得は、1つのバンクのみが活性化されるときと比較して、より大きな電圧利得となる。
【0150】
以上のように、本発明の実施の形態8の半導体記憶装置にVDC回路1500を用いれば、VDC回路1400を用いた場合の効果に加えて、活性化されるバンクに対応して差動増幅器の電圧利得を変えることができるので、活性化されるバンクに応じてint.Vccの供給能力の変化を調整することが可能となる。
【0151】
(9) 実施の形態9
次に、メモリセルアレイ内の複数のバンクをまとめていくつかのグループを作り、それらのグループに対応してVDC回路がint.Vccを供給するようにした例を以下に示す。
【0152】
ここでは、一例として、メモリセルアレイを4つのバンクに分割した場合について説明する。
【0153】
図16は、本発明の実施の形態9の半導体記憶装置の主要部分1600の構成を示すブロック図である。
【0154】
実施の形態9の半導体記憶装置は、実施の形態7の図10の半導体記憶装置1000と同様に、RASバッファ103とアドレスバッファ107と活性化信号発生回路1003とを備え(図示せず)、活性化信号/ACT1〜/ACT4は、活性化信号発生回路1003により出力される。
【0155】
図16を参照して、半導体記憶装置の主要部分1600は、4つのバンクB1〜B4に分割されたメモリセルアレイ113と、メモリセルアレイ113にint.Vccを供給するVDC回路1610と、AND回路1605,1607とを備える。
【0156】
VDC回路1610は、さらに、内部電源電圧出力回路1601,1603を備える。
【0157】
この内部電源電圧出力回路1601,1603を備えるVDC回路1610は、実施の形態7の図13の内部電圧出力回路1301,1303を備えるVDC回路1300と同様の回路である。
【0158】
バンクB1,B2をグループG1、バンクB3,B4をグループG2とする。AND回路1605の一方の入力ノードには、バンクB1が活性化されるときにLレベルとなる活性化信号/ACT1が入力され、他方の入力ノードには、バンクB2が活性化されるときにLレベルとなる活性化信号/ACT2が入力される。AND回路1607の一方の入力ノードには、バンクB3が活性化されるときにLレベルとなる活性化信号/ACT3が入力され、他方の入力ノードには、バンクB4が活性化されるときにLレベルとなる活性化信号/ACT4が入力される。
【0159】
グループG1内のバンクB1,B2の少なくとも一方が活性化されるとき、AND回路1605から出力される制御信号/ACTG1はLレベルとなる。内部電源電圧出力回路1601は、この制御信号/ACTG1が図13の内部電源電圧出力回路1301に活性化信号/ACT1の代わりに入力された回路と全く同様であるので、制御信号/ACTG1がLレベルのときint.Vccが発生し、バンクB1,B2に供給される。なお、そのときバンクB3,B4はプリチャージされる。
【0160】
また、グループG2内のバンクB3,B4の少なくとも一方が活性化されるとき、AND回路1607から出力される制御信号/ACTG2はLレベルとなる。内部電源電圧出力回路1603は、この制御信号/ACTG2が図13の内部電源電圧出力回路1301に活性化信号/ACT1の代わりに入力された回路と全く同様であるので、制御信号/ACTG2がLレベルのときint.Vccが発生し、バンクB3,B4に供給される。なお、そのときバンクB1,B2はプリチャージされる。
【0161】
したがって、本発明の実施の形態9の半導体記憶装置は、複数のバンクがいくつかのグループに分割され、グループごとに内部電圧出力回路が設けられているので、、あるグループ内のバンクから他のグループ内のバンクへの切換わりが内部電源電圧出力回路の応答時間より短くなっても、安定した内部電源電圧を供給することが可能である。
【0162】
また、メモリセルアレイ内のバンク分割数が多い場合に、アクセスされるバンクが換わっても、同一グループ内であれば、内部電源電圧出力回路を切換える必要がないので、安定した内部電源電圧を供給することが可能である。
【0163】
(10) 実施の形態10
図17は、本発明の実施の形態10の半導体記憶装置の主要部分1700の構成を示すブロック図である。
【0164】
ここでは、メモリセルアレイが8つのバンクB1〜B8に分割された場合について説明する。
【0165】
図17を参照して、実施の形態10の半導体記憶装置の主要部分1700は、8つのバンクB1〜B8に分割されメモリセルアレイ113と、VDC回路1701,1703と、AND回路1605〜1608とを備える。
【0166】
VDC回路1701,1703は、実施の形態8の図14のVDC回路1400または図15のVDC回路1500と同一の回路である。
【0167】
バンクB1〜B4をグループG1、バンクB5〜B8をグループG2とする。活性化信号/ACT1〜/ACT8は、それぞれ、バンクB1〜B8が活性化されるときLレベルとなる。
【0168】
AND回路1605の一方の入力ノードには活性化信号/ACT1が入力され、他方の入力ノードには活性化信号/ACT2が入力され、その出力ノードはVDC回路1701の一方の入力ノードに接続されている。AND回路1606の一方の入力ノードには活性化信号/ACT3が入力され、他方の入力ノードには活性化信号/ACT4が入力され、その出力ノードはVDC回路1701の他方の入力ノードに接続されている。
【0169】
AND回路1607の一方の入力ノードには活性化信号/ACT5が入力され、他方の入力ノードには活性化信号/ACT6が入力され、その出力ノードはVDC回路1703の一方の入力ノードに接続されている。AND回路1608の一方の入力ノードには活性化信号/ACT7が入力され、他方の入力ノードには活性化信号/ACT8が入力され、その出力ノードがVDC回路1703の他方の入力ノードに接続されている。
【0170】
VDC回路1701の出力ノードとVDC回路1703の出力ノードとはint.Vcc出力ノードN3で接続され、メモリセルアレイ113に接続されている。
【0171】
バンクB1,B2の少なくとも一方が活性化されるとき、AND回路1605から出力される制御信号/ACTG11はLレベルとなる。また、バンクB3,B4の少なくとも一方が活性化されるとき、AND回路1606から出力される制御信号/ACTG12はLレベルとなる。
【0172】
VDC回路1701は、この制御信号/ACTG11,/ACTG12が、実施の形態8の図14のVDC回路1400に活性化信号/ACT1,ACT2の代わりに入力された回路と全く同様であるので、制御信号/ACTG11,/ACTG12のうちの少なくとも一方がLレベルのときint.Vccが発生し、バンクB1〜B4のうち活性化されているバンクに供給される。そのときその他のバンクはプリチャージされる。また、制御信号/ACTG11と制御信号/ACTG12とがともにLレベルのとき(すなわちバンクB1,B2の少なくとも一方と、バンクB3,B4の少なくとも一方とが活性化されるとき)は、実施の形態8で述べたのと全く同様にしてint.Vccの供給能力が向上する。
【0173】
グループG2についても上記グループG1の場合と同様であり、バンクB5,B6の少なくとも一方が活性化されるときAND回路1607から出力される制御信号/ACTG21はLレベルとなり、バンクB7,B8の少なくとも一方が活性化されるとき、AND回路1608から出力される制御信号/ACTG22はLレベルとなる。
【0174】
VDC回路1703は、この制御信号/ACTG21,/ACTG22が、実施の形態8の図14のVDC回路1400に活性化信号/ACT1,/ACT2の代わりに入力された回路と全く同様であるので、制御信号/ACTG21,/ACTG22のうち少なくとも一方がLレベルのときint.Vccが発生し、バンクB5〜B8のうち活性化されているバンクに供給される。そのとき、その他のバンクはプリチャージされる。
【0175】
また、制御信号/ACTG21と制御信号/ACTG22とがともにLレベルのとき(すなわち、バンクB5,B6少なくとも一方と、バンクB7,B8の少なくとも一方とが活性化されるとき)は、実施の形態8で述べたのと全く同様にint.Vccの供給能力が向上する。
【0176】
以上のように、本発明の実施の形態10の半導体記憶装置は、あるグループ内のバンクから他のグループ内のバンクへの切換わりがVDC回路の応答時間より短くなっても、安定した内部電源電圧を供給することが可能である。また、メモリセルアレイ内のバンク分割数が多い場合に、アクセスされるバンクが換わっても、同一グループ内であれば、VDC回路を切換える必要がないので、安定した内部電源電圧を供給することが可能である。
【0177】
さらに、実施の形態8の半導体記憶装置の場合と同様に、活性化されるバンク数に応じてVDC回路の内部電源電圧供給能力を向上させることが可能である。
【0178】
ここで、VDC回路1701,1703は、図15のVDC回路1500と同様の回路を用いることもできる。
【0179】
(11) 実施の形態11
活性化されるバンク数に対応してVDC回路のint.Vcc供給能力が変化するようにした例を次に示す。
【0180】
図18は、本発明の実施の形態11の半導体記憶装置1800の構成を示すブロック図である。
【0181】
図18を参照して、半導体記憶装置1800は、4つのバンクB1〜B2に分割されたメモリセルアレイ113と、アドレスバッファ107と、活性化信号発生回路103と、活性化されるバンクの数をカウントするカウント回路1803と、VDC回路1801とを備える。
【0182】
メモリセルアレイ113は、アドレスバッファ107と、VDC回路1801のint.Vcc出力ノードN3とに接続されている。活性化信号発生回路103はアドレスバッファ107に接続されている。カウント回路1803は活性化信号発生回路103の出力ノードに接続されている。VDC回路1801はカウント回路1803の出力ノードに接続されている。
【0183】
ここで、一例として、バンクB1,B3が活性化される場合について説明する。
【0184】
実施の形態7の図10で説明したように、int./RAS,クロック信号CLK3,およびアドレスバッファ107からのint.BAとに応答して、活性化信号発生回路103で、活性化されるバンクB1,B3に対応するLレベルの活性化信号/ACT1,/ACT3と、Hレベルの活性化信号/ACT2,/ACT4とが出力される。
【0185】
カウント回路1803で、入力されたLレベルの活性化信号/ACT1,/ACT3により、活性化されるバンク数が2とカウントされる。カウント回路1803は、バンク数2に対応させて、Lレベルに立下げられた制御信号/CNT1,/CNT2をVDC回路1801に出力する活性化されるバンク数が1つである場合は制御信号/CNT1のみがLレベルに立下げられ、3つの場合は制御信号/CNT1〜/CNT3がLレベルに立下げられ、4つであれば、すべての制御信号/CNT1〜/CNT4がLレベルに立下げられる。
【0186】
VDC回路1801は、制御信号/CNT1,/CNT2により、2つのバンクに十分なint.Vccを供給できるようにint.Vccの供給能力が向上する。
【0187】
図19は、図18のVDC回路1801の一例であるVDC回路1900を示す回路図である。
【0188】
図19を参照して、VDC回路1900は、差動増幅器1305と、NOR回路1901と、ext.Vccに基づいてint.Vcc出力ノードN3に電圧を発生し供給する電圧発生回路1921〜1924とを備える。
【0189】
差動増幅器1305は、図13などに示した差動増幅器1305と同一のものであり、差動増幅器1305内のNMOSトランジスタ1317のゲート電極にはNOR回路1901の出力ノードが接続されている。
【0190】
電圧発生回路1921はPMOSトランジスタ1903,1904を、電圧発生回路1922はPMOSトランジスタ1905,1906を、電圧発生回路1923はPMOSトランジスタ1907,1908を、電圧発生回路1924はPMOSトランジスタ1909,1910を備える。
【0191】
電圧発生回路1921において、PMOSトランジスタ1903のソース電極は外部電源ノードに接続され、ドレイン電極はPMOSトランジスタ1903のソース電極に接続され、ゲート電極には制御信号/CNT1が入力されている。PMOSトランジスタ1904のドレイン電極はint.Vcc出力ノードN3に接続され、ゲート電極は差動増幅器1305の出力ノードに接続されている。
【0192】
電圧発生回路1922において、PMOSトランジスタ1905のソース電極は外部電源ノードに接続され、ドレイン電極はPMOSトランジスタ1905のソース電極に接続され、ゲート電極には制御信号/CNT2が入力されている。PMOSトランジスタ1906のドレイン電極はint.Vcc出力ノードN3に接続され、ゲート電極は差動増幅器1305の出力ノードに接続されている。
【0193】
電圧発生回路1923において、PMOSトランジスタ1907のソース電極は外部電源ノードに接続され、ドレイン電極はPMOSトランジスタ1907のソース電極に接続され、ゲート電極には制御信号/CNT3が入力されている。PMOSトランジスタ1908のドレイン電極はint.Vcc出力ノードN3に接続され、ゲート電極は差動増幅器1305の出力ノードに接続されている。
【0194】
電圧発生回路1924において、PMOSトランジスタ1909のソース電極は外部電源ノードに接続され、ドレイン電極はPMOSトランジスタ1909のソース電極に接続され、ゲート電極には制御信号/CNT4が入力されている。PMOSトランジスタ1910のドレイン電極はint.Vcc出力ノードN3に接続され、ゲート電極は差動増幅器1305の出力ノードに接続されている。
【0195】
NOR回路1901には制御信号/CNT1〜/CNT4が入力される。すなわち、いずれか1つのバンクが活性化されればNOR回路1901の出力はLレベルとなり、差動増幅器1305は動作する。
【0196】
上記の例のように活性化されたバンクが2つの場合、制御信号/CNT1,/CNT2がLレベル、/CNT3,.CNT4がHレベルであるから、電圧発生回路1921,1922においてPMOSトランジスタ1903,1905がオンし、差動増幅器1305の出力により制御されたPMOSトランジスタ1904,1906を介してint.Vccがint.Vcc出力ノードN3に供給される。電圧発生回路1923,1924においては、PMOSトランジスタ1907,1909がオフしているので、電圧発生回路1923,1924からは電圧が供給されない。
【0197】
以上のように、本発明の実施の形態11の半導体記憶装置1800は、活性化されているバンクの数に対応してint.Vccの供給能力が変化するので、アクセスされるバンク数が換わっても安定した内部電源電圧を供給することが可能である。
【0198】
上記の例のVDC回路1801は、実施の形態8の図14のVDC回路1400を4つのバンクに対応させ、活性化信号の代わりに制御信号/CNT1〜/CNT4により動作するように適用した回路であったが、同様にして、図15のVDC回路1500や実施の形態7の図13の内部電源供給回路1300を適用したり、実施の形態9の図16の半導体記憶装置1600や実施の形態10の図17の半導体記憶装置1700のように、制御信号/CNT1〜/CNT4のグループ化を利用して、バンク数の範囲に応じてVDC回路から適当なint.Vccを供給するようにすることも可能であり、上記の実施の形態11の効果に加えて、前述の各々の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0199】
(12) 実施の形態12
図20は、本発明の実施の形態12の半導体記憶装置2000の構成を示す回路図である。
【0200】
ここでは、一例として、メモリセルアレイが2つのバンクに分割された場合について説明する。
【0201】
図20を参照して、半導体記憶装置2000は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、メモリセルアレイ113内のバンクB1,B2にint.Vccを供給する内部電源電圧出力回路1301,1303と、int.Vccを供給するための内部電源線2001B1,2001B2と、メモリセルアレイに接地電圧を供給するためのグラウンド線2003B1,2003B2と、デカップリングキャパシタ2020とを備える。
【0202】
バンクB1は、さらに、複数のメモリセルMCnと、複数のワード線WLnおよび複数のビット線対BLn,/BLnと、複数のセンスアンプSAnとを備える。
【0203】
内部電源線2001B1は内部電源電圧出力回路1301のint.Vcc出力ノードN3に接続され、バンクB1において、複数のセンスアンプSAnに接続されている。2003B1は、デカップリングキャパシタ2020を介して接地電圧が与えられている。メモリセルMCnはワード線WLnおよびビット線対BLn,/BLnに接続され、ビット線対BLn,/BLnの各々はセンスアンプに接続されている。
【0204】
内部電源線2001B2も同様に、内部電源電圧出力回路1303のint.Vcc出力ノードN3に接続され、バンクB2において、複数のセンスアンプSAnに接続されている。グラウンド線2003B2は、グラウンド線2003B1とメモリセルアレイ113外部で接続され、デカップリングキャパシタ2020を介して接地電圧が与えられている。バンクB2内のメモリセルMCnもまたワード線WLnおよびビット線対BLn,/BLnに接続され、センスアンプSAnに接続されている。
【0205】
ここで、内部電源線2001B1,2001B2は、互いにメモリセルアレイ113内部および外部で電気的に非接続である。また、グラウンド線2003B1,2003B2もまた、メモリセルアレイ113部内で非接続である。
【0206】
内部電源電圧出力回路1301,1303は、実施の形態7の図13の内部電源電圧出力回路1301,1303と全く同様の回路である。
【0207】
バンクB1が活性化されるときLレベルとなる活性化信号/ACT1により、内部電源電圧出力回路1301が動作し、int.Vccが2001B1を介してバンクB1に供給される。バンクB2が活性化されるときは、Lレベルとなる活性化信号/ACT2により、内部電源電圧出力回路1303が動作し、int.Vccが2001B2を介してバンクB2に供給される。
【0208】
バンクB1において、内部電源線2001B1は複数のセンスアンプSAnに接続されており、アクセスされたメモリセルMCnからデータが読出されるとき、ビット線対BLn,/BLnにおける読出電圧はセンスアンプSAnで増幅される。このときに、センスアンプSAnで電流が消費され、内部電源線2001B1,2001B2やグラウンド線2003B1,2003B2がそれぞれメモリセルアレイ113内部で電気的に接続されていれば、データ読出電圧にノイズが載ってしまう。
【0209】
しかし、このように、メモリセルアレイ113内部で内部電源線やグラウンド線をバンクごとに完全に分離すれば、ノイズは他のバンクに伝わりにくくなる。
【0210】
したがって、本発明の実施の形態12の半導体記憶装置2000は、発生したノイズが他の活性化されているバンクに伝わって誤動作が引起こされるようなことをほぼなくすことが可能となる。
【0211】
(13) 実施の形態13
図21は、本発明の実施の形態13の半導体記憶装置2100を示す回路図である。
図21を参照して、半導体記憶装置2100は、2つのバンクB1,B2に分割されたメモリセルアレイ113と、バンクB1,B2に対応して設けられたVDC回路2101と、メモリセルアレイ113にint.Vccを供給するための内部電源線2001B1,2001B2と、メモリセルアレイ113に接地電圧を供給するためのグラウンド線2003B1,2003B2と、デカップリングキャパシタ2020,2021とを備える。
【0212】
バンクB1,B2の各々は、複数のワード線と複数のビット線対とに接続された複数のメモリセルと、それらのメモリセルにおいて読出または書込されるデータを増幅するための複数のセンスアンプSAnとをさらに備える。これらの接続関係は、実施の形態12の半導体記憶装置2000の場合と同一であるので、図示および説明は省略する。
【0213】
VDC回路2101は、前述の実施の形態7の図13のVDC回路1300、または実施の形態8の図14のVDC回路1400、または図15のVDC回路1500のいずれかと同様の回路てある。
【0214】
VDC回路2101には、バンクB1が活性化されるときLレベルとなる活性化信号/ACT1と、バンクB2が活性化されるときLレベルとなる活性化信号/ACT2とが入力され、そのint.Vcc出力ノードN3は、内部電源線2001B1,2001B2に接続されている。内部電源線2001B1,2001B2は、メモリセルアレイ113内部では互いに電気的に非接続であるが、メモリセルアレイ113外部で再び接続され、その接続ノードはデカップリングキャパシタ2021の一方の電極に接続されている。デカップリングキャパシタ2021の他方電極には接地電圧や電源電圧などの一定の電圧が与えられている。
【0215】
グラウンド線2003B1,2003B2は、実施の形態12の図20の半導体記憶装置2000の場合と同様に、メモリセルアレイ113内部では電気的に非接続であり、メモリセルアレイ113外部で接続され、その接続ノードはデカップリングキャパシタ2020の一方電極に接続されている。デカップリングキャパシタ2020の他方電極は接地電圧や電源電圧などの一定の電圧が与えられている。
【0216】
接地電圧線2001B1,2001B2は、メモリセルアレイ113外部でも分離されているのが理想的であるが、それができない場合でも、デカップリングキャパシタ2021を接続することにより、内部電源線2001B1,2001B2上の読出電圧のノイズの大部分がデカップリングキャパシタ2021により吸収されるので、ノイズを低減することが可能となる。
【0217】
グラウンド線2003B1,2003B2においても、デカップリングキャパシタ2020により線上のノイズが低減されている。
【0218】
以上のように、本発明の実施の形態13の半導体記憶装置2100は、上記実施の形態7または8の半導体記憶装置の効果に加え、内部電源線やグラウンド線がメモリセルアレイ外部で接続されていても、センスアンプ動作時などの線上のノイズが、他のアクセス中のバンクに伝わって誤動作することを防ぐことが可能である。
【0219】
(14) 実施の形態14
図22は、本発明の実施の形態14の半導体記憶装置2200を示す回路図である。
【0220】
図22を参照して、半導体記憶装置2200は、実施の形態9の図16の半導体記憶装置1600において、実施の形態13の図21の半導体記憶装置2100と同様に内部電源線およびグラウンド線にノイズ低減のためのデカップリングキャパシタを接続したものである。
【0221】
内部電源電圧出力回路1601,1603からの内部電源線は、メモリセルアレイ113内のバンクB1〜B4にint.Vccを供給するための内部電源線2001B1〜2001B4に分岐され、内部電源線2001B1〜2001B4は、メモリセルアレイ113内部で互いに電気的に非接続であり、メモリセルアレイ113外部で電気的に接続されている。メモリセルアレイ113内のバンクB1〜B4に接地電圧を供給するためのグラウンド線2003B1〜2003B4もまた、メモリセルアレイ113内部で互いに電気的に非接続であり、メモリセルアレイ113外部で電気的に接続されている。
【0222】
内部電源線2021B1〜2021B4のメモリセルアレイ113外部での接続ノードには、ノイズ低減のためのデカップリングキャパシタ2021の一方電極が接続され、また、グラウンド線2003B1〜2003B4のメモリセルアレイ113外部での接続ノードには、ノイズ低減のためのデカップリングキャパシタ2020の一方電極が接続されている。
【0223】
デカップリングキャパシタ2021の他方電極には接地電圧や電源電圧などの一定の電圧が与えられている。よって、前述の実施の形態13の半導体記憶装置の場合と同様にして、このデカップリングキャパシタ2021により内部電源線上のノイズの低減が可能である。
【0224】
また、デカップリングキャパシタ2020の他方電極には接地電圧や電源電圧などの一定の電圧が与えられている。よって、前述の実施の形態13の半導体記憶装置の場合と同様に、このデカップリングキャパシタ2021によりグラウンド線上のノイズの低減が可能である。
【0225】
たとえば、バンクB1,B2のうちどちらかのバンクが活性化されると、内部電源電圧出力回路1601が、内部電源線2001B1,2001B2のうち対応する内部電源線を介して、int.Vccを対応するバンクに供給する。あるいは、バンクB3,B4のうちどちらかのバンクが活性化されると、内部電源電圧出力回路1603が、内部電源線2001B3,2001B4のうち対応する内部電源線を介して、int.Vccを対応するバンクに供給する。このとき、内部電源線2001B1〜2001B4は互いに電気的に非接続であるので、デカップリングキャパシタ2021によりバンク同士によるノイズの低減が可能である。
【0226】
さらに、複数のバンクがある場合には、4バンクを1グループとして、1グループにつき上記の回路を1つ設けることにより、グループ同士のデータ読出電圧のノイズの干渉を低減することが可能である。
【0227】
以上のように、本発明の実施の形態14の半導体記憶装置2200は、実施の形態9の半導体記憶装置の効果に加え、センスアンプ動作時などのノイズが他のアクセス中のバンクやバンクのグループに伝わって誤動作することを防ぐことが可能である。
【0228】
(15) 実施の形態15
図23は、本発明の実施の形態15の半導体記憶装置2300を示すブロック図である。
【0229】
半導体記憶装置2300は、実施の形態10の半導体記憶装置1700に、実施の形態13の半導体記憶装置2100を適用したものである。
【0230】
すなわち、メモリセルアレイ113内部のバンクB1〜B8にint.Vccを供給するための内部電源線2001B1〜2001B8、および接地電圧を供給するためのグラウンド線2003B1〜2003B8が、メモリセルアレイ113内部で互いに電気的に非接続である。また、メモリセルアレイ113外部でグループG1のバンクB1〜B4における内部電源線2021B〜2021B4はメモリセル113外部で接続され、デカップリングキャパシタ2021G1に接続されている。グループG2のバンクB5〜B8における内部電源線2021G5〜2021G8はメモリセル113外部で接続され、デカップリングキャパシタ2021G2に接続されている。
【0231】
各グループの各バンクにおけるグラウンド線2003B1〜2003B8は、メモリセル113外部で接続され、デカップリングキャパシタ2020G1,2020G2に接続されている。
【0232】
デカップリングキャパシタ2020G1,2020G2,2021G1,2021G2の対向電極には接地電圧や電源電圧などの一定の電圧が与えられている。
【0233】
したがって、実施の形態13や実施の形態14の半導体記憶装置の場合と同様に、デカップリングキャパシタにより線上のノイズが吸収されるので、バンク同士およびグループ同士のデータ読出電圧のノイズの干渉を低減することが可能となる。
【0234】
以上のように、本発明の実施の形態14の半導体記憶装置は、実施の形態10の図17の半導体記憶装置の効果に加え、センスアンプ動作時などのノイズが他のアクセス中のバンクやバンクのグループに伝わって誤動作するようなことを防ぐことが可能である。
【0235】
(16) 実施の形態16
図24は、本発明の実施の形態16の半導体記憶装置におけるVppポンプを示す回路図である。
【0236】
図24を参照して、Vppポンプ2400は、図5のVppポンプ409において、ポンプクロック信号CLK1と内部バンクアドレス信号int.BAが入力されたAND回路501を、活性化信号/ACT(/ACT1,/ACT2などの活性化信号を総称して/ACTと称す)が入力されるインバータ2401に置換えたものである。
【0237】
このVppポンプ2400を、前述の実施の形態7の図13の内部電源電圧出力回路1301,1303、実施の形態9の図16の内部電源電圧出力回路1601,1603、実施の形態12のVDC回路1301,1303、実施の形態13のVDC回路2101、および実施の形態14の内部電源電圧出力回路1601,1603などに適用することにより、昇圧電圧Vppをメモリセルアレイ113内部の各バンクに供給する際に各実施例と同様の効果を得ることができる。ただし、実施の形態13のVDC回路2101は、Vppポンプ2400を2つ(各バンクに対応して1つ)含む。
【0238】
(17) 実施の形態17
図25は、本発明の実施の形態17の半導体記憶装置におけるVbbポンプを示す回路図である。
【0239】
図25を参照して、Vbbポンプ2500は、図2のVbbポンプ209において、ポンプクロック信号CLK1と内部バンクアドレス信号int.BAが入力されたAND回路501を削除し、キャパシタCpの一方電極に活性化信号/ACTを入力したものである。
【0240】
このVbbポンプ2500を、前述の実施の形態7の図13の内部電源電圧出力回路1301,1303、実施の形態9の図16の内部電源電圧出力回路1601,1603、実施の形態12のVDC回路1301,1303、実施の形態13のVDC回路2101、および実施の形態14の内部電源電圧出力回路1601,1603などに適用することにより、基板電圧Vbbをメモリセルアレイ113内部の各バンクに供給する際に各実施例と同様の効果を得ることができる。ただし、実施の形態13のVDC回路2101は、Vbbポンプ2500を2つ(各バンクに対応して1つ)含む。
【0244】
【発明の効果】
本発明に従う半導体記憶装置は、動作するバンク数によらず、安定した内部電源電圧を供給することが可能な半導体記憶装置を提供することができる。
【0247】
本発明の請求項1から6の半導体記憶装置は、バンクごとに内部電源電圧出力回路を有するので、あるバンクから他のバンクへの切換わりが内部電源電圧出力回路の応答時間よりも短くなっても、安定して内部電源電圧をバンクに供給することが可能である。
また、本発明の請求項1から6、15、17、21の半導体装置は、複数のバンクが同時に活性化される場合には、各バンクに対応する内部電源電圧出力回路が動作するので、内部電源電圧供給能力が向上し、安定した内部電源電圧を供給することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1の半導体記憶装置100の構成を示すブロック図である。
【図2】 図1のVbbポンプ109(,111)の一例を示す回路図である。
【図3】 本発明の実施の形態2の半導体記憶装置300の構成を示すブロック図である。
【図4】 本発明の実施の形態3の半導体記憶装置400の構成を示すブロック図である。
【図5】 図4のVppポンプ409(,411)の一例を示す回路図である。
【図6】 本発明の実施の形態4の半導体記憶装置900の構成を示すブロック図である。
【図7】 本発明の実施の形態5の半導体記憶装置600の構成を示すブロック図である。
【図8】 図7のVDC回路609(,611)の一例を示す回路図である。
【図9】 本発明の実施の形態6の半導体記憶装置800の構成を示すブロック図である。
【図10】 本発明の実施の形態7の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
【図11】 図10の半導体記憶装置内の活性化信号発生回路が発生するバンクの活性化信号を示すタイミングチャートである。
【図12】 図10の半導体記憶装置内の活性化信号発生回路が発生するバンクの活性化信号を示すタイミングチャートである。
【図13】 図10のVDC回路の一例であるVDC回路を示す回路図である。
【図14】 本発明の実施の形態8の半導体記憶装置に含まれているVDC回路を示す回路図である。
【図15】 図14のVDC回路の改良例であるVDC回路を示す回路図である。
【図16】 本発明の実施の形態9の半導体記憶装置の主要部分を示すブロック図である。
【図17】 本発明の実施の形態10の半導体記憶装置の主要部分の構成を示すブロック図である。
【図18】 本発明の実施の形態11の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
【図19】 図18のVDC回路の一例であるVDC回路を示す回路図である。
【図20】 本発明の実施の形態11の半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
【図21】 本発明の実施の形態12の半導体記憶装置を示す回路図である。
【図22】 本発明の実施の形態14の半導体記憶装置を示す回路図である。
【図23】 本発明の実施の形態15の半導体記憶装置を示す回路図である。
【図24】 本発明の実施の形態16の半導体記憶装置内のVppポンプを示す回路図である。
【図25】 本発明の実施の形態17の半導体記憶装置内のVbbポンプを示す回路図である。
【図26】 従来の半導体記憶装置における内部電圧供給回路2600の構成を示す図である。
【符号の説明】
100,300,400,600,800,900,1000,1800,2000,2100,2200,2300 半導体記憶装置、103 RASバッファ回路、303 CASバッファ回路、105,305 クロック信号生成回路、107 アドレスバッファ、109,111,2500 Vbbポンプ、409,411,2400 Vppポンプ、609、611、1001,1300,1400,1500,1610,1701,1703,1801,1900,2101 VDC回路、1301、1303、1601,1603 内部電圧出力回路、113 メモリセルアレイ、B1〜B8 バンク、N3 内部電圧出力ノード、2001B1〜2001B8 内部電源線、2003B1〜2003B8 グラウンド線、2020,2020G1,2021,2021G2 デカップリングキャパシタ。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having an internal voltage supply circuit for supplying an internal voltage to be supplied to an activated bank.
[0002]
[Prior art]
FIG. 26 is a diagram showing a configuration of an internal voltage generation circuit 2600 in the conventional semiconductor memory device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 1-276486.
[0003]
In FIG. 26, row address strobe signal / RAS (/ represents a bar) signal attains an H (logic high) level, and is in a non-selected state, node NAVoltage VAThe ring oscillator 11 in the first substrate bias voltage generation circuit 10 oscillates, and the first substrate bias voltage is applied to the semiconductor substrate. When the row address strobe signal / RAS signal becomes L (logic low) level, the ring oscillator 21 in the second substrate bias voltage generation circuit 20 performs the oscillation operation until the substrate voltage reaches a predetermined level, and reaches the predetermined level. After reaching this point, the oscillation is stopped when the non-selected state is reached. That is, the semiconductor memory device operates only when it is in an active state, and power consumption when the semiconductor memory device is in a (standby state) non-selected state can be reduced.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of a semiconductor memory device having a plurality of banks, the range of the operating memory array varies depending on the number of operating banks. Since the current consumption increases as the number of operating banks increases, it is necessary to increase the internal voltage supply capability of an internal voltage supply circuit such as a substrate voltage (Vbb) supply circuit. On the other hand, if the number of operating banks is small, the internal voltage supply capability of the internal voltage supply circuit does not need to be increased more than necessary.
[0005]
Therefore, in such a conventional semiconductor memory device, the internal voltage supply circuit does not change the supply capability of the internal voltage depending on the number of operating banks, so the supply capability may be insufficient depending on the number of operating banks. There has been a problem that the potential level tends to fluctuate during operation.
[0006]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device capable of supplying a stable internal voltage regardless of the number of operating banks. .
[0007]
[Means for Solving the Problems]
  A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention provides:A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells; a plurality of memory cells; and a plurality of memory cells for sensing data in these memory cells An internal power supply voltage is output in response to activation of a second bank having a second memory cell array including a sense amplifier and a first external bank address signal indicating selection of the first bank given from the outside. A first internal voltage down converting circuit and a second internal voltage down converting circuit outputting an internal power supply voltage in response to activation of a second external bank address signal indicating selection of a second bank given from the outside.
The first internal step-down circuit includes a first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other electrode that outputs an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage, A first current mirror type amplifier circuit that receives a power supply voltage and an internal step-down voltage and outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal. Including. The second internal step-down circuit receives a second PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage is input and the other electrode that outputs the internal power supply voltage, and an internal power supply voltage and an internal step-down voltage. And a second current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal.
The semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention further extends from outside the first and second memory cell array regions into the first memory cell array region and is wired in the first memory cell array region. The internal power supply voltage is supplied to the plurality of sense amplifiers of the first memory array, and at least either the activation of the first external bank address signal or the activation of the second bank address signal is activated. Even in this case, in response to the activation, the first wiring to which the internal power supply voltage is supplied, the region extending from the first and second memory cell arrays to the region of the second memory cell array, The internal power supply voltage is wired in the area of the memory cell array, and the internal power supply voltage is supplied to the plurality of sense amplifiers of the second memory cell array, and at least the first external bank address signal is activated or the second buffer A second wiring to which an internal power supply voltage is supplied in response to the activation, and the other electrode of the first PMOS transistor and And a third wiring that connects the other electrode of the second PMOS transistor to the first wiring and the second wiring..
[0008]
  A semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention provides:A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for amplifying data of these memory cells; a plurality of memory cells; and a plurality of amplifying data for these memory cells. A first internal power supply voltage is output in response to a second bank having a second memory cell array including a sense amplifier and a first external bank address signal indicating selection of the first bank given from the outside. A first internal voltage down converter and a second internal voltage down converter for outputting a second internal power supply voltage in response to a second external bank address signal indicating selection of a second bank given from the outside.
The first internal voltage down converter includes a first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other electrode that outputs the first internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage. The first internal power supply voltage and the internal step-down level voltage are input, and the first internal power supply voltage and the internal step-down level voltage are output to the first PMOS transistor gate electrode so that the voltage is the same. Current mirror type amplifier circuit. The second internal step-down circuit includes a second PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage is input and the other electrode that outputs a second internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; A second current mirror type amplifier that receives a power supply voltage and an internal step-down voltage and outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the second internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal. Circuit.
The semiconductor memory device according to the second aspect of the present invention is further extended and wired in the region of the first memory cell array, and electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the first memory cell array. A first wiring to which an internal power supply voltage is supplied from a first internal voltage down converter in response to an external bank address signal and an internal power supply voltage is supplied from a second internal voltage down converter in response to a second external bank address signal; An internal power supply voltage is provided extending from the first internal step-down circuit in response to the first external bank address signal, extending in the region of the second memory cell array and electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the second memory cell array. , The second wiring to which the internal power supply voltage is supplied from the second internal step-down circuit recessed in the second external bank address signal, and the other electrode of the first PMOS transistor. And a third wiring connecting the other electrode and the first wiring and the second wiring beauty second PMOS transistor.
[0009]
  A semiconductor memory device according to a third aspect of the present invention provides:A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells; and a plurality of sense amplifiers for sensing data in the plurality of memory cells and the memory cells. And a first bank that outputs a first internal power supply voltage in response to a first external bank address signal that selects a second bank having a second memory cell array including An internal voltage down converter and a second internal voltage down circuit for supplying a second internal power supply voltage in response to a second external bank address signal for selecting a second bank given from the outside are included.
The first internal step-down circuit includes a first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other electrode that outputs an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage, and an internal power supply And a first current mirror type amplifier circuit that receives the voltage and the internal step-down voltage and outputs the voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor according to the comparison result between the internal power supply voltage and the internal step-down level. The second internal step-down circuit includes a second PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage is input and the other electrode that outputs an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage, an internal power supply voltage, and an internal step-down level. And a second current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor according to the comparison result between the internal power supply voltage and the internal step-down level.
The semiconductor memory device according to the third aspect of the present invention further extends into the region of the first memory cell array, and is wired along the plurality of sense amplifiers of the first memory cell array. A first wiring portion that can be electrically connected to the sense amplifier and a second memory cell array extending in the region of the second memory cell array and wired along the sense amplifier of the second memory cell array. A second wiring portion that can be electrically connected to the amplifier, the other electrode of the first PMOS transistor, and the other electrode of the second PMOS transistor are connected to the first wiring portion and the second wiring portion. And a wiring having a third wiring portion to be connected. In this wiring, the first internal power supply voltage is supplied to the first to third wiring sections in accordance with the first external bank address signal, and the second internal power supply voltage in response to the second external bank address signal. Is supplied to the first to third wiring portions.
  A semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention is:A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for amplifying data of these memory cells; a plurality of memory cells; and a plurality of amplifying data for these memory cells. A second bank having a second memory cell array including a sense amplifier and a second bank wired across the region of the first memory cell array and electrically coupled to a plurality of sense amplifiers of the first memory cell array 1 wiring, a second wiring wired across the region of the second memory cell array and electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the second memory cell array, and an external power supply voltage supplied from the outside A first PMOS transistor having one electrode to which is input and the other electrode that outputs an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; And a first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal to each other. A first internal step-down circuit that is activated in response to a first external bank address signal to select a given first bank and supplies an internal power supply voltage to the first wiring and the second wiring; The second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs the internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage, and the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are input. A second current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the two input voltages are equal to each other. A second internal step-down circuit that is activated in response to a second external bank address signal applied to select a second bank and supplies an internal power supply voltage to the first wiring and the second wiring; A second wiring of the second PMOS transistor, a second wiring of the second PMOS transistor, and a third wiring that connects the first wiring and the second wiring..
[0010]
  A semiconductor memory device according to a fifth aspect of the present invention includes a first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers that sense data of these memory cells, A second bank having a second memory cell array including a memory cell and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells, and a first external bank address indicating selection of the first bank given from the outside In response to the signal, a first internal step-down circuit for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down an external power supply voltage supplied from the outside, and a second external bank address signal indicating selection of a second bank given from the outside In response, the second internal voltage down converter for outputting the internal power supply voltage and the plurality of sense amplifiers of the first memory array are electrically coupled to each other, and the first internal voltage down converter is When the internal power supply voltage is output, the internal power supply voltage is supplied from the first internal voltage down converter, and when the second internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage, the internal power supply voltage is output from the second internal voltage down converter. Electrically coupled to the first wiring supplied in the region of the first memory cell array to be supplied and the plurality of sense amplifiers of the second memory array;
The internal power supply voltage is supplied from the first internal voltage down converter when the internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage, and the second internal voltage down converter when the second internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage. A second wiring wired in the region of the second memory cell array, to which an internal power supply voltage is supplied from, an output of the first internal voltage down converter, an output of the second internal voltage down converter, the first wiring, A third wiring connecting the second wiring.
  A semiconductor memory device according to a sixth aspect of the present invention includes a first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers that sense data in these memory cells, A second bank having a second memory cell array including a memory cell and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells, and a first external bank address indicating selection of the first bank given from the outside A first internal step-down circuit for outputting a first internal power supply voltage obtained by stepping down an external power supply voltage supplied from the outside according to a signal, and a second external bank indicating selection of a second bank provided from the outside In response to the address signal, a second internal voltage down converter that outputs a second internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage, and a plurality of memory cells in the first memory cell array Are connected to a plurality of sense amplifiers of the first memory array, and are electrically connected to a first internal power supply voltage in response to a first external bank address signal. A first wiring electrically coupled to a second internal power supply voltage in response to a second external bank address signal, a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers in the second memory cell array. The wiring extends in the arranged region, is electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the second memory array, and is electrically coupled to the first internal power supply voltage in response to the first external bank address signal. The second wiring electrically coupled to the second internal power supply voltage in response to the second external bank address signal, the output of the first internal voltage down converter, the output of the second internal voltage down circuit, and the first Wiring and second And a third wiring connecting the line.
  ThisNo. of invention7A semiconductor memory device according to the above aspect includes a first bank provided with a circuit including a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers that sense data of these memory cells, A second bank provided with a circuit including a second memory cell array having memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing the data of these memory cells; a plurality of memory cells; and a sense of the data of these memory cells A third bank provided with a circuit including a third memory cell array having a plurality of sense amplifiers, a fourth bank having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells. A fourth bank provided with a circuit including a memory cell array, one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input, and an external power supply The first PMOS transistor having the other electrode for outputting the internal power supply voltage obtained by stepping down the voltage, and the internal power supply voltage and the internal step-down level voltage are input, and the internal power supply voltage and the internal step-down level voltage are equalized. And a first current mirror type amplifier circuit for outputting a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor, and a first external bank address signal for selecting the first bank supplied from the outside and a signal supplied from the outside A first internal step-down circuit for activating the current mirror type amplifier circuit in response to any of the second external bank address signals for selecting the second bank and outputting an internal power supply voltage from the first PMOS transistor; One electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other power to output an internal power supply voltage by stepping down the external power supply voltage And the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are input to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal. A third current bank type amplifier circuit for outputting a third external bank address signal for selecting a third bank supplied from the outside and a fourth external bank for selecting a fourth bank supplied from the outside In response to any of the address signals, the second current mirror type amplifier circuit is activated, the second internal step-down circuit for outputting the internal power supply voltage from the second PMOS transistor, and the other of the first PMOS transistor , The other electrode of the second PMOS transistor, the circuit of the first bank, the circuit of the second bank, the circuit of the third bank, 4 includes wiring for connecting the circuits of the four banks.
  No. 1 of this invention8A semiconductor memory device according to the above aspect includes a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers that sense data in these memory cells.
A first bank provided with a path; a second bank provided with a circuit including a second memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of the memory cells; A third bank provided with a circuit including a third memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells; a plurality of memory cells; and data of these memory cells A fourth bank provided with a circuit including a fourth memory cell array having a plurality of sense amplifiers for sensing the voltage, one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input, and the external power supply voltage is stepped down A first PMOS transistor having the other electrode that outputs the first internal power supply voltage, a first internal power supply voltage, and an internal step-down voltage are input. A first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor in accordance with a comparison result between the first internal power supply voltage and the voltage at the internal step-down level. The first internal bank address signal indicating the selection of the bank and the second internal bank address signal indicating the selection of the second bank given from the outside are activated by the signal activated in accordance with the first internal bank address signal. A first internal voltage down converter for outputting a power supply voltage; a second PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage is input; and another electrode for outputting a second internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; The second internal power supply voltage and the internal step-down level voltage are input, and the second PMOS transistor gate is supplied in accordance with the comparison result between the second internal power supply voltage and the internal step-down level voltage. A third current bank type amplifier circuit for outputting a voltage to the first electrode, and a third external bank address signal indicating the selection of the third bank given from the outside and the selection of the fourth bank given from the outside. A second internal step-down circuit for outputting a second internal power supply voltage by a signal activated in response to any of the fourth external bank address signals shown, the other electrode of the first PMOS transistor, The other electrode of the two PMOS transistors, the first bank circuit, the second bank circuit, the third bank circuit, and the wiring connecting the fourth bank circuit.
  No. 1 of this invention9A semiconductor memory device according to the above aspect includes a first bank provided with a circuit including a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers that sense data of these memory cells, A second bank provided with a circuit including a second memory cell array having memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells, and an external power supply voltage supplied from outside is input And a first PMOS transistor having the other electrode for outputting the internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage, and the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are input. And a first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so as to be equal to each other. A second PMOS transistor having a first internal step-down circuit that outputs a voltage, one electrode to which an external power supply voltage is input, and the other electrode that outputs an internal power supply voltage; an internal power supply voltage and an internal step-down voltage And a second current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the internal power supply voltage is equal to the internal step-down voltage, and outputs the internal power supply voltage. A second internal step-down circuit; and a wiring connecting the other electrode of the first PMOS transistor, the other electrode of the second PMOS transistor, the circuit of the first bank, and the circuit of the second bank.
  In response to a first external bank address signal indicating the selection of the first bank given from the outside, the first bank is activated and the first internal step-down circuit outputs a partial power supply voltage. When a second external bank address signal indicating the selection of the second bank is input from the outside while the bank is activated, the second bank is activated in response to the second external bank address. At the same time, the second internal step-down circuit outputs the internal power supply voltage.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0024]
In the drawings, the same reference numerals denote the same or corresponding parts.
(1) Embodiment 1
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.
[0025]
FIG. 1 shows a case where the number of banks in the memory cell array is two for simplification.
[0026]
Here, since the bank address signals indicating the banks need only be different from each other corresponding to the banks, for further simplification, one of the two banks B1 and B2 is the external bank address signal. ext. It is activated when BA (hereinafter abbreviated as ext.BA) is at H (logic high) level, and the other bank B2 is ext. External bank address signal ext. It is activated when / BA (hereinafter abbreviated as ext./BA) is at the H level.
[0027]
Referring to FIG. 1, semiconductor memory device 100 has a memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, and an external row address strobe signal (hereinafter abbreviated as ext./RAS) as an internal row address strobe. Signal (hereinafter abbreviated as int./RAS) int. RAS buffer circuit 103 for converting to / RAS, int. / RAS generating clock signal CLK1 synchronized with RAS, ext. Int. BA, int. Address buffer 107 for outputting / BA and Vbb pumps 109 and 111 for supplying substrate voltage Vbb are included.
[0028]
The output node of the RAS buffer circuit 103 is connected to the input node of the clock generation circuit 105, and the output node of the clock generation circuit 105 is connected to the Vbb pumps 109 and 111. Of the two output nodes of the address buffer 107, int. The output node from which BA is output is sent to the bank B1 and the Vbb pump 109 in the memory cell array 113, int. The output node from which / BA is output is connected to the bank B2 and the Vbb pump 111 in the memory cell array 113. A Vbb output node N1 for outputting Vbb of each of the Vbb pumps 109 and 111 is connected to the banks B1 and B2.
[0029]
When there are a plurality of banks, each of the output nodes of the address buffer 107 is connected to a bank corresponding to the internal bank address that it outputs.
[0030]
In FIG. 1, the RAS buffer circuit 103 includes ext. / RAS int. The data is converted into / RAS and output to the clock generation circuit 105. The clock generation circuit 105 receives the int. / RAS based on int. Clock signal CLK1 synchronized with / RAS is generated and input to Vbb pumps 109 and 111.
[0031]
On the other hand, ext. When BA is input, the address buffer 107 stores int. BA is supplied to the Vbb pump 109, int. / BA is output to the Vbb pump 111. These int. BA, int. In response to / BA, Vbb pump 109 or 111 operates.
[0032]
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the Vbb pump 109 (, 111) of FIG. Referring to FIG. 2, Vbb pump 109 (111) includes a NAND gate 201, a capacitor Cp, and P channel MOS transistors (hereinafter abbreviated as PMOS transistors) 205 207.
[0033]
The output node of the NAND gate 201 is connected to one electrode of the capacitor Cp. The source electrode and gate electrode of the PMOS transistor 207 are connected to a ground potential (hereinafter referred to as GND). The source electrode and gate electrode of the PMOS transistor 205 are connected to the drain electrode of the PMOS transistor 207 and the other electrode of the capacitor Cp. The drain electrode of the PMOS transistor 205 is connected to the Vbb output node N1 for outputting the substrate voltage Vbb.
[0034]
The NAND gate 201 receives the clock signal CLK1 generated by the clock generation circuit 105 and the internal bank address signal (int.BA in the Vbb pump 109 and int.BA in the Vbb pump 111) from the address buffer 107. Is done.
[0035]
H level internal bank address signal (int.BA or int./BA) is input to NAND gate 201, and int. When the clock signal CLK1 changes from L (logic low) level to H level in synchronization with / RAS, the output of the NAND gate 201 changes from H level to L level, and the voltage of the other electrode of the capacitor Cp changes from -Vthp to -Vcc-. The substrate voltage Vbb is generated by extracting to a negative voltage of Vthp (= Vbb). Here, Vthp is a threshold voltage of the PMOS transistors 205 and 207.
[0036]
That is, when bank B1 is activated, ext. BA becomes H level and is input to the address buffer 107. The int. BA sends Vbb pump 109 with L level int. / BA is output to the Vbb pump 111. And this int. BA and int. The Vbb pump 109 is operated by the clock signal CLK1 synchronized with / RAS, and the substrate voltage Vbb is supplied to the bank B1.
[0037]
When bank B2 is activated, ext. BA becomes L level and is input to the address buffer 107. The int. BA sends Vbb pump 109 to H level int. / BA is output to the Vbb pump 111. And this int. The Vbb pump 111 is operated by the clock signal CLK1 synchronized with / RAS, and the substrate voltage Vbb is supplied to the bank B2.
[0038]
As described above, since each bank has a Vbb pump, even when switching from a bank to another bank is shorter than the response time of the Vbb pump, a stable voltage of Vbb level regardless of the number of operating banks. Can be supplied to the bank based on the input of the row address signal.
[0039]
(2) Embodiment 2
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device 300 according to the second embodiment of the present invention.
[0040]
In the first embodiment, ext. Although the operation of the Vbb pump is synchronized with RAS (int./RAS), in the present embodiment, the external column address strobe signal ext. The Vbb pump operates in synchronization with / CAS (internal column address strobe signal int./CAS).
[0041]
Referring to FIG. 3, semiconductor memory device 300 includes a memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, an external column address strobe signal ext. / CAS (hereinafter abbreviated as ext.CAS) to the internal column address strobe signal int. / CAS (hereinafter abbreviated as int.CAS) CAS buffer circuit 303, and int. Clock generating circuit 305 for generating a clock signal CLK2 synchronized with / CAS, ext. Int. BA, int. Address buffer 107 that outputs / BA and Vbb pumps 109 and 111 that generate substrate voltage Vbb are included.
[0042]
The output node of the CAS buffer circuit 303 is connected to the input node of the clock generation circuit 305, and the output node of the clock generation circuit 305 is connected to the Vbb pumps 109 and 111. Of the two output nodes of the address buffer 107, int. The output node from which BA is output is sent to the bank B1 and the Vbb pump 109 in the memory cell array 113, int. The output node from which / BA is output is connected to the bank B2 and the Vbb pump 111 in the memory cell array 113. A Vbb output node N1 for outputting Vbb of each of the Vbb pumps 109 and 111 is connected to the banks B1 and B2.
[0043]
When there are a plurality of banks, each of the output nodes of the address buffer 107 is connected to a bank corresponding to the internal bank address signal output from the output node.
[0044]
In FIG. 3, CAS buffer circuit 303 is inputted from the outside. ext / CAS is int. / CAS, int. / CAS is output to the clock generation circuit 305. In the clock generation circuit 305, the int. / CAS based on int. A clock signal CLK2 synchronized with / CAS is generated and input to the Vbb pumps 109 and 111.
[0045]
On the other hand, ext. When BA is input, the int. BA is supplied to the Vbb pump 109, int. / BA is sent to the Vbb pump 111. These int. BA, int. In response to / BA, Vbb pump 109 or 111 operates.
[0046]
The Vbb pump 109 (, 111) is the same as that shown in FIG.
[0047]
int. BA, int. / BA is input to the NAND gate 201, int. When the clock signal CLK2 changes from L level to H level in synchronization with / CAS, the output of the NAND gate 201 changes from H level to L level, and the voltage of the other electrode of the capacitor Cp changes from -Vthp to -Vcc-Vthp (= Vbb). ), The substrate voltage Vbb is generated.
[0048]
That is, when bank B1 is activated, ext. BA becomes H level and is input to the address buffer 107. The int. BA sends Vbb pump 109 with L level int. / BA is output to the Vbb pump 111. And this H level int. BA and int. The Vbb pump 109 is operated by the clock signal CLK2 synchronized with / CAS, and the substrate voltage Vbb is supplied to the bank B1.
[0049]
When bank B2 is activated, ext. BA becomes L level and is input to the address buffer 107. The int. BA sends Vbb pump 109 to H level int. / BA is output to the Vbb pump 111. And this H level int. / BA and int. The Vbb pump 111 is operated by the clock signal CLK2 synchronized with / CAS, and the substrate voltage Vbb is supplied to the bank B2.
[0050]
As described above, since each bank has a Vbb pump, even if the switching from the bank to another bank is shorter than the response time of the Vbb pump, the stable Vbb level is maintained regardless of the number of operating banks. An internal voltage supply circuit capable of supplying a voltage to a bank based on an input of a column address signal can be provided.
[0051]
(3) Embodiment 3
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device 400 according to the third embodiment of the present invention.
[0052]
Referring to FIG. 4, semiconductor memory device 400 includes memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, ext. / RAS int. RAS buffer circuit 103 for converting to / RAS, RAS buffer circuit 103, int. / RAS generating clock signal CLK2 synchronized with RAS, ext. Int. BA, int. Address buffer 107 for outputting / BA and Vpp pumps 409 and 411 for generating boosted voltage Vpp are included.
[0053]
The output node of the RAS buffer circuit 103 is connected to the input node of the clock generation circuit 105, and the output node of the clock generation circuit 105 is connected to the Vpp pumps 409 and 411. Of the two output nodes of the address buffer 107, int. The output node from which BA is output is sent to the bank B1 in the memory cell array 113 and the Vpp pump 409, int. The output node from which / BA is output is connected to the bank B 2 and the Vpp pump 411 in the memory cell array 113. Vpp output nodes N2 for outputting Vbb of Vpp pumps 209 and 411 are both connected to banks B1 and B2.
[0054]
When there are a plurality of banks, each of the output nodes of the address buffer 107 is connected to a bank corresponding to the internal bank address signal output from the output node.
[0055]
In FIG. 4, ext. / RAS int. The signal is converted into / RAS and output to the clock generation circuit 105. In the clock generation circuit 105, the int. / RAS based on int. A clock signal CLK1 synchronized with / RAS is generated. The clock signal CLK1 is input to the Vpp pumps 409 and 411.
[0056]
On the other hand, ext. When BA is input, the int. BA is supplied to the Vpp pump 409, int. / BA is output to the Vpp pump 411. These int. BA, int. In response to / BA, Vpp pump 409 or 411 operates.
[0057]
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of the Vpp pump 409 (, 411) of FIG. Referring to FIG. 5, Vpp pump 409 (, 411) includes an AND gate 501, a capacitor Cp, and NMOS transistors 505 and 507.
[0058]
The output node of the AND gate 501 is connected to one electrode of the capacitor Cp. The source electrode and gate electrode of the NMOS transistor 507 are connected to the Vcc power source. The source electrode and gate electrode of the NMOS transistor 505 are connected to the drain electrode of the NMOS transistor 507 and the other electrode of the capacitor Cp. The drain electrode of NMOS transistor 505 is connected to Vpp output node N2 for outputting boosted voltage Vpp.
[0059]
The AND gate 501 receives the clock signal CLK1 generated by the clock generation circuit 105 and the internal bank address signal from the address buffer 107 (int.BA for the Vpp pump 409 and int./BA for the Vpp pump 411). Entered.
[0060]
The internal bank address signal (int.BA or int./BA) is input to the AND gate 501 and int. When the clock signal CLK1 changes from L level to H level in synchronization with / RAS, the output of the AND gate 501 changes from L level to H level, and the voltage of the other electrode of the capacitor Cp changes from Vcc-Vthn to 2Vcc-Vthn (= Vpp). ) To generate a boosted voltage Vpp. Here, Vcc is the power supply voltage level, and Vthn is the threshold voltage of the NMOS transistor.
[0061]
That is, when bank B1 is activated, ext. BA becomes H level and is input to the address buffer 103. The int. BA sends Vpp pump 409 to L level int. / BA is output to the Vpp pump 411. And int. The Vpp pump 409 operates in response to the clock signal CLK1 synchronized with / RAS, and the boosted voltage Vpp is supplied to the bank B1.
[0062]
When bank B2 is activated, ext. BA becomes L level and is input to the address buffer 107. The int. BA is connected to the Vpp pump 409 at the H level int. / BA is output to the Vpp pump 411. And int. The Vpp pump 411 is operated by the clock signal CLK1 synchronized with / RAS, and the boosted voltage Vpp is supplied to the bank B2.
[0063]
As described above, since each bank has a Vpp pump, even if the switching from the bank to another bank becomes shorter than the response time of the Vpp pump, the stable Vpp level is maintained regardless of the number of operating banks. An internal voltage supply circuit capable of supplying a voltage to a bank based on an input of a row address signal can be provided.
[0064]
(4) Embodiment 4
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device 900 according to the fourth embodiment of the present invention.
[0065]
In the third embodiment, ext. Although the operation of the Vpp pump is synchronized with RAS (int./RAS), in this embodiment, ext. The Vpp pump operates in synchronization with / CAS (int./CAS).
[0066]
6, semiconductor memory device 900 includes a memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, a CAS buffer circuit 303, an int. Clock generation circuit 305 for generating a clock signal CLK2 synchronized with / CAS, ext. Int. BA, int. Address buffer 107 that outputs / BA and Vpp pumps 409 and 411 that generate substrate voltage Vpp are included.
[0067]
The output node of the CAS buffer circuit 303 is connected to the input node of the clock generation circuit 305, and the output node of the clock generation circuit 305 is connected to the Vpp pumps 409 and 411. Of the two output nodes of the address buffer 107, int. The output node from which BA is output is sent to the bank B1 in the memory cell array 113 and the Vpp pump 409, int. The output node from which / BA is output is connected to the bank B2 in the memory cell array 113 and the Vpp pump 411. A Vpp output node N2 for outputting Vpp of each of the Vpp pumps 409 and 411 is connected to the banks B1 and B2.
[0068]
When there are a plurality of banks, each of the output nodes of the address buffer 107 is connected to a bank corresponding to the internal bank address that it outputs.
[0069]
In FIG. 6, the CAS buffer circuit 303 is inputted from the outside. ext / CAS is int. / CAS, int. / CAS is output to the clock generation circuit 305. In the clock generation circuit 305, the int. / CAS based on int. A clock signal CLK2 synchronized with / CAS is generated and input to Vpp pumps 409 and 411.
[0070]
On the other hand, ext. When BA is input, the int. BA is supplied to the Vpp pump 409, int. / BA is sent to the Vpp pump 411. These int. BA, signal int. In response to / BA, Vpp pump 409 or 111 operates.
[0071]
The Vpp pump 409 (, 411) is the same as that shown in FIG.
[0072]
int. BA, int. / BA is input to the NAND gate 201, int. When the clock signal CLK2 changes from L level to H level in synchronization with / CAS, the output of the NAND gate 201 changes from H level to L level, and the voltage of the other electrode of the capacitor Cp changes from Vcc-Vthn to 2Vcc-Vthn (= Vpp). ) To generate a boosted voltage Vpp.
[0073]
That is, when bank B1 is activated, ext. BA becomes H level and is input to the address buffer 107. The int. BA sends Vpp pump 409 to L level int. / BA is output to the Vpp pump 411. And this H level int. BA and int. The Vpp pump 409 operates in response to the clock signal CLK2 synchronized with / CAS, and the boosted voltage Vpp is supplied to the bank B1.
[0074]
When bank B1 is activated, ext. BA becomes L level and is input to the address buffer 107. The int. BA is connected to the Vpp pump 409 at the H level int. / BA is output to the Vpp pump 411. And this H level int. / BA and int. The Vpp pump 411 operates in response to the clock signal CLK2 synchronized with / CAS, and the boosted voltage Vpp is supplied to the bank B2.
[0075]
As described above, since each bank has a Vbb pump, even if the switching from the bank to another bank is shorter than the response time of the Vbb pump, the stable Vbb level is maintained regardless of the number of operating banks. An internal voltage supply circuit capable of supplying a voltage to a bank based on an input of a column address signal can be provided.
[0076]
(5) Embodiment 5
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device 600 according to the fourth embodiment of the present invention.
[0077]
Referring to FIG. 7, semiconductor memory device 600 includes a memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, ext. / RAS int. RAS buffer circuit 103 for converting to / RAS, int. / RAS generating clock signal CLK1 synchronized with RAS, ext. Int. BA, int. / BA output address buffer 107, internal power supply voltage int. VDC (voltage down converter) circuits 609 and 611 for generating Vcc.
[0078]
The output node of the RAS buffer circuit 103 is connected to the input node of the clock generation circuit 105, and the output node of the clock generation circuit 105 is connected to the VDC circuits 609 and 611. Of the two output nodes of the address buffer 107, int. The output node to which BA is output is sent to the bank B1 in the memory cell array 113 and the VDC circuit 609, int. The output node from which / BA is output is connected to the bank B2 in the memory cell array 113 and the VDC circuit 611. Each of the VDC circuits 609 and 611 has an int. Int. For outputting Vcc. Vcc output node N3 is connected to banks B1 and B2.
[0079]
When there are a plurality of banks, each of the output nodes of the address buffer 107 is connected to a bank corresponding to the internal bank address that it outputs.
[0080]
In FIG. 7, the RAS buffer circuit 103 uses ext. / RAS is int. The signal is converted into / RAS and output to the clock generation circuit 105. In the clock generation circuit 105, the int. A clock signal CLK1 synchronized with / RAS is generated. The clock signal CLK1 is input to the VDC circuits 609 and 611.
[0081]
On the other hand, ext. When BA is input, the address buffer 107 stores int. BA to the VDC circuit 609, int. / BA is output to the VDC circuit 611. These int. BA, int. VDC circuits 609 and 611 operate in response to / BA.
[0082]
FIG. 8 is a diagram illustrating an example of the VDC circuit 609 (, 611) of FIG.
Referring to FIG. 8, VDC circuit 609 (611) includes an AND gate 501, a current mirror type width circuit 701, and a PMOS transistor 703.
[0083]
The differential width circuit 701 further includes NMOS transistors 1000, 1001, 1002, and PMOS transistors 1003, 1004.
[0084]
In the VDC circuit 609 (, 611), the source electrode of the PMOS transistor 703 is ext. The drain electrode is connected to int. The gate electrode is connected to the output node of the differential amplifier 701. The gate electrode is connected to the Vcc output node N3.
[0085]
The AND gate 501 receives the clock signal CLK1 output from the clock generation circuit 105 and the internal bank address signal (int.BA or int.BA) output from the address buffer 107, and its output node is The NMOS transistor 1000 in the differential amplifier circuit 701 is connected to the gate electrode.
[0086]
A preset reference voltage Vref is input to the gate electrode of the NMOS transistor 1001. The output node of the differential amplifier circuit 701 is connected to the gate electrode of the PMOS transistor 703. When an L level voltage is applied, the external power supply voltage ext. Internal power supply voltage int. Vcc is supplied from the drain electrode of the PMOS transistor 703 to int. This is supplied to the Vcc output node N3. This internal power supply voltage int. Vcc is fed back to the NMOS transistor 1002 in the differential amplifier circuit 701 and tries to have the same potential as the reference voltage Vref. The NMOS transistor 1000 is turned on when both the clock signal CLK1 input to the AND gate 501 and the internal bank address signal are at the H level. Therefore, the VDC circuit 609 (, 611) is activated and operates when the NMOS transistor 1000 is turned on.
[0087]
That is, when bank B1 is activated, ext. BA becomes H level and is input to the address buffer 107. The int. BA is in the VDC circuit 609 and the L level int. / BA is output to the VDC circuit 611. And this H level int. BA and int. VDC circuit 609 operates in response to clock signal CLK1 synchronized with / RAS, and internal power supply voltage int. Vcc is supplied.
[0088]
When bank B2 is activated, ext. BA becomes L level and is input to the address buffer 107. The int. BA is in the VDC circuit 609 and the H level int. / BA is output to the VDC circuit 611. And int. VDC circuit 609 operates in response to clock signal CLK1 synchronized with / RAS, and internal power supply voltage int. Vcc is supplied.
[0089]
As described above, since each bank has a VDC circuit, even if the switching from the bank to another bank is shorter than the response time of the VDC circuit, a stable internal power supply voltage is maintained regardless of the number of operating banks. Can be supplied to the bank based on the input of the row address signal.
[0090]
(6) Embodiment 6
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device 800 according to the fifth embodiment of the present invention.
[0091]
The semiconductor memory device 400 according to the fourth embodiment includes ext. Although the operation of the VDC pump is synchronized with RAS (int./RAS), this embodiment is ext. The VDC circuit operates in synchronization with CAS ((int./CAS).
[0092]
Referring to FIG. 9, semiconductor memory device 800 includes a memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, ext. / RAS int. CAS buffer 303 for converting to / RAS, int. A clock generation circuit 305 that generates a clock signal CLK2 synchronized with CAS; Int. BA, int. / BA output address buffer 107, internal power supply voltage int. VDC circuits 609 and 611 for generating Vcc.
[0093]
The output node of the CAS buffer circuit 303 is connected to the input node of the clock generation circuit 305, and the output node of the clock generation circuit 305 is connected to the VDC circuits 609 and 611. Of the two output nodes of the address buffer 107, int. The output node to which BA is output is sent to the bank B1 in the memory cell array 113 and the VDC circuit 609, int. The output node from which / BA is output is connected to the bank B2 in the memory cell array 113 and the VDC circuit 611. Each of the VDC circuits 609 and 611 has an int. Int. For outputting Vcc. Vcc output node N3 is connected to banks B1 and B2.
[0094]
The VDC circuits 609 and 611 are the same as those shown in FIG.
[0095]
When there are a plurality of banks, each of the output nodes of the address buffer 107 is connected to a bank corresponding to the internal bank address that it outputs.
[0096]
In FIG. 9, the CAS buffer circuit 303 uses ext. / CAS is int. / CAS and is output to the clock generation circuit 305. In the clock generation circuit 305, the int. / CAS based on int. Clock signal CLK2 synchronized with / RAS is generated. This clock signal CLK2 is input to the Vpp pumps 609 and 611.
[0097]
On the other hand, ext. When BA is input, the address buffer 107 stores int. BA to the VDC circuit 609, int. / BA is output to the VDC circuit 611. These int. BA, int. VDC circuits 609 and 611 operate in response to / BA.
[0098]
That is, when bank B1 is activated, ext. BA becomes H level and is input to the address buffer 107. The int. BA is in the VDC circuit 609 and the L level int. / BA is output to the VDC circuit 611. And int. VDC circuit 609 operates in response to clock signal CLK2 synchronized with / CAS, and internal power supply voltage int. Vcc is supplied.
[0099]
When bank B2 is activated, ext. BA becomes L level and is input to the address buffer 107. The int. BA is in the VDC circuit 609 and the H level int. / BA is output to the VDC circuit 611. And int. VDC circuit 611 operates in response to clock signal CLK2 synchronized with / CAS, and internal power supply voltage int. Vcc is supplied.
[0100]
As described above, since each bank has a VDC circuit, a stable internal power supply voltage can be obtained regardless of the number of operating banks even when switching from the bank to another bank is shorter than the response time of the VDC circuit. An internal voltage supply circuit that can supply a bank based on the input of a column address signal can be provided.
[0101]
(7) Embodiment 7
FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device 1000 according to the seventh embodiment of the present invention.
[0102]
Referring to FIG. 10, semiconductor memory device 1000 includes RAS buffer 103, address buffer 107, memory cell array 113 divided into a plurality of banks, and int. A VDC circuit 1001 for supplying Vcc and an activation signal generation circuit 1003 for generating an activation signal for activating the VDC circuit 1001 are provided.
[0103]
Hereinafter, for simplicity, the case where the memory cell array 113 is divided into two banks B1 and B2 will be described. Bank B1 is int. Activated when BA is at L level, bank B2 is int. It is activated when BA is at H level.
[0104]
Memory cell array 113 is connected to address buffer 107 and internal power supply voltage output node (hereinafter referred to as int.Vcc node) N3 of VDC circuit 1001. The activation signal generation circuit 1003 is connected to the address buffer 107 and the RAS buffer circuit 103. The VDC circuit 1001 is connected to the activation signal generation circuit 1003.
[0105]
The activation signal generation circuit 1003 receives a clock signal CLK3 and a precharge signal / PRE for precharging an inactivated bank from the outside. / RAS is input. Based on these signals, activation signal generation circuit 1003 outputs activation signals / ACT1, / ACT2 for activating VDC circuit 1001.
[0106]
11 and 12 are timing charts showing activation signals generated by the activation signal generation circuit 1003 in the semiconductor memory device 1000 of FIG.
[0107]
FIG. 11 is a timing chart when the banks B1 and B2 are activated separately. On the other hand, FIG. 12 is a timing chart when the banks B1 and B2 are simultaneously activated.
[0108]
First, the operation of the activation signal generation circuit 1003 will be described with reference to FIG.
Time t0At the rising edge of the clock signal CLK3 from the RAS buffer circuit 103. / RAS and the address buffer 107 from the L level int. When BA is taken into activation signal generation circuit 1003, activation signal / ACT1 attains an L level. On the other hand, activation signal / ACT2 remains constant at the H level.
[0109]
Time t1At the rising edge of the clock signal CLK3, the L level int. / RAS, H level int. When BA and precharge signal / PRE for precharging the bank from the outside are taken into activation signal generation circuit 103, bank B1 is deactivated, and activation signal / ACT1 becomes H level, Access to bank B1 is completed and precharging is performed.
[0110]
Furthermore, time t2At the rising edge of the clock signal CLK3 from the RAS buffer circuit 103. / RAS and H level int. When BA (that is, L level int./BA) is taken into activation signal generation circuit 1003, activation signal / ACT2 becomes L level. On the other hand, activation signal / ACT1 remains constant at the H level.
[0111]
Time tFourAt the rising edge of the clock signal CLK3 from the RAS buffer circuit 103. / RAS, address buffer 107 is at L level int. When precharge signal / PRE is taken into activation signal generation circuit 1003 from BA and the outside, bank B2 is deactivated, activation signal / ACT2 becomes H level, and access to bank B2 is completed. Precharge is performed.
[0112]
Next, the operation of the activation signal generation circuit 1003 will be described with reference to FIG.
Time t0At the falling edge of the clock signal CLK3, the int. / RAS and the address buffer 107 from the L level int. When BA is taken into activation signal generating circuit 1003, bank B1 is activated and activation signal / ACT1 attains an L level.
[0113]
Then, time t1At the falling edge of the clock signal CLK3 from the RAS buffer circuit 103. / RAS and address buffer 107 from H level int. When BA is taken into activation signal generation circuit 1003, bank B2 is activated and activation signal / ACT2 attains an L level.
[0114]
When banks B1 and B2 are activated at the same time, the number of circuits that operate to access memory cells is larger than when access is made in only one bank. Therefore, a VDC circuit as shown below that operates in accordance with the activation signals / ACT1, / ACT2 is provided.
[0115]
FIG. 13 is a circuit diagram showing a VDC circuit 1300 which is an example of the VDC circuit 1001 of FIG.
[0116]
Referring to FIG. 13, VDC circuit 1300 is activated by an activation signal / ACT1 and int. The internal power supply voltage output circuit 1301 for outputting Vcc and the activation signal / ACT2 are activated by int. And an internal power supply voltage output circuit 1303 for outputting Vcc. The internal power supply voltage output circuit 1301 and the internal power supply voltage output circuit 1303 have the same circuit configuration.
[0117]
The internal power supply voltage output circuit 1301 includes a differential amplifier 1305, PMOS transistors 1307 and 1309, and an inverter 1311.
[0118]
The differential amplifier 1305 further includes PMOS transistors 1313 and 1314 and NMOS transistors 1315 to 1317.
[0119]
The reference voltage Vref is applied to the inverting input terminal of the differential amplifier, and the int. The voltage of the Vcc output node N3 is fed back, and the output terminal is connected to the gate electrode of the PMOS transistor 1307 and the drain electrode of the PMOS transistor 1309. The source electrode of the PMOS transistor 1307 is ext. The drain electrode is connected to the internal power supply voltage output node N1.
[0120]
The source electrode of the PMOS transistor 1313 is ext. Connected to Vcc, the gate electrode is connected to the gate electrode and drain electrode of the PMOS transistor 1314, and the drain electrode is connected to the output terminal. The source electrode of the PMOS transistor 1314 is ext. Connected to Vcc. The reference voltage Vref is input to the gate electrode of the NMOS transistor 1315, and the source electrode is connected to the drain electrode of the NMOS transistor 1317. The gate electrode of the NMOS transistor 1316 is connected to the internal power supply voltage output node N 1, and the source electrode is connected to the drain electrode of the NMOS transistor 1317. The drain electrode of the NMOS transistor 1317 is grounded, and the activation signal / ACT1 is input to the gate electrode via the inverter.
[0121]
The output node of internal power supply voltage output circuit 1301 and the output node of internal power supply voltage output circuit 1303 are int. Vcc output node N3 and int. The Vcc output node N3 is connected to the memory cell array 113.
[0122]
When the bank B1 is not activated, the activation signal / ACT1 is at the H level, and the NMOS transistor 1317 in the differential amplifier 1305 is on. Therefore, the differential amplifier 1305 does not operate, and the PMOS transistor 1309 Is turned on, the ext .. through the PMOS transistor 1309 is connected to the gate electrode of the PMOS transistor 1307. Since Vcc is applied and the PMOS transistor 1307 is off, int. Vcc output node N3 receives int. Vcc is not issued.
[0123]
When the bank B1 is activated and the activation signal / ACT1 becomes L level, the NMOS transistor 1317 in the differential amplifier 1305 is turned on and the differential amplifier 1305 operates. Further, the PMOS transistor 1309 is turned off, and the gate electrode of the PMOS transistor 1307 is ext. Vcc is not applied, and the voltage of the output terminal of the differential amplifier 1305 is applied. The PMOS transistor 1307 is controlled by this voltage, and ext. Based on Vcc, int. Vcc is int. Output to Vcc output node N3.
[0124]
Similarly to the internal power supply voltage output circuit 1301, the internal power supply voltage output circuit 1303 has the activation signal / ACT2 at the H level, the NMOS transistor 1317 is turned off, and the PMOS transistor 1309 is turned on when the bank B2 is not activated. On, int. Vcc output node N3 receives int. When Vcc is not output and bank B2 is activated, activation signal / ACT2 becomes L level, and ext. Based on Vcc, int. Vcc is int. Output to Vcc output node N3.
[0125]
Therefore, in semiconductor memory device 1300 according to the seventh embodiment of the present invention, since the VDC circuit has an internal power supply voltage output circuit for each bank, switching from one bank to another bank is the response time of the internal power supply voltage output circuit. Even if it becomes shorter, it is possible to stably supply the internal power supply voltage to the bank.
[0126]
When a plurality of banks are activated simultaneously, the internal power supply voltage output circuit corresponding to each bank operates, so that the internal power supply voltage supply capability of the VDC circuit is improved and a stable internal power supply voltage is supplied. Is possible.
[0127]
(8) Embodiment 8
The semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention is obtained by replacing the VDC circuit 1001 in the semiconductor memory device 1000 according to the seventh embodiment shown in FIG. 10 with a VDC circuit 1400 shown in FIG.
[0128]
Also in this embodiment, for simplicity, the case where the memory cell array 113 is divided into two banks B1 and B2 will be described.
[0129]
FIG. 14 is a circuit diagram showing a VDC circuit 1400 included in the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention.
[0130]
Referring to FIG. 14, VDC circuit 1400 includes a current mirror type differential amplifier 1305, a NOR circuit 1406, an int. Voltage output circuits 1415 and 1416 for outputting a voltage to the Vcc output node N3.
[0131]
The differential amplifier 1305 further includes PMOS transistors 1413 and 1414 and NMOS transistors 1315 to 1317.
[0132]
The voltage output circuit 1415 further includes PMOS transistors 1407 and 1408, and the voltage output circuit 1416 further includes PMOS transistors 1409 and 1410.
[0133]
The voltage generation circuit 1415 supplies int. Vcc is a circuit for outputting Vcc, and the voltage generation circuit 1416 supplies int. This is a circuit for outputting Vcc.
[0134]
In the differential amplifier 1305, the source electrode of the PMOS transistor 1313 is ext. The drain electrode is connected to the output terminal, and the gate electrode is connected to the gate electrode and the drain electrode of the PMOS transistor 1314. The source electrode of the PMOS transistor 1314 is ext. Connected to Vcc. The drain electrode of the NMOS transistor 1315 is connected to the output terminal, and the reference voltage Vref is applied to the gate electrode. The drain electrode of the NMOS transistor 1316 is connected to the drain electrode of the NMOS transistor 1317, the source electrode is connected to the drain electrode of the NMOS transistor 1317, and the gate electrode is int. Vcc output node N3 is connected. The source electrode of the NMOS transistor 1317 is grounded, and the gate electrode is connected to the output node of the NOR circuit 1406. An activation signal / ACT1 is input to one input node of the NOR circuit 1406, and an activation / ACT2 is input to the other input node.
[0135]
In the voltage output circuit 1415, the source electrode of the PMOS transistor 1407 is ext. The drain electrode is connected to the Vcc, the drain electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 1408, and the activation signal / ACT1 is input to the gate electrode. The drain electrode of the PMOS transistor 1408 is int. Connected to the Vcc output node N3, the gate electrode is connected to the output terminal of the differential amplifier 1305.
[0136]
In the voltage output circuit 1416, the source electrode of the PMOS transistor 1409 is ext. Connected to Vcc, the drain electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 1410, and the activation signal / ACT2 is input to the gate electrode. The drain electrode of the PMOS transistor 1410 is int. It is connected to the Vcc output node N3 and is connected to the output terminal of the gate electrode differential amplifier 1305.
[0137]
When both banks B1 and B2 are not activated, activation signals / ACT1 and ACT2 are both at H level, so that the output of NOR circuit 1406 is at L level, and NMOS transistor 1317 in differential amplifier 1305 is off. In this state, the differential amplifier 1305 does not operate. Since the PMOS transistors 1407 and 1409 are also off, int. Vcc output node N3 has int. Vcc is not output.
[0138]
When only one bank, for example, bank B1, is activated, activation signal / ACT1 is at L level and / ACT2 is at H level, so that the output of NOR circuit 1406 is at L level, and NMOS transistor 1317 has The differential amplifier 1305 is turned on and operates. Further, since the PMOS transistor 1407 is turned on, ext .. is transmitted via the PMOS transistor 1408 controlled by the output of the differential amplifier 1305. Int. For supplying to the bank B1 based on Vcc. Vcc is int. Generated at Vcc output node N3.
[0139]
When only bank B2 is activated, activation signal / ACT2 becomes L level and activation signal / ACT1 becomes H level, NMOS transistor 1317 and PMOS transistor 1409 are turned on, and ext. Int. For supplying to the bank B2 via the PMOS transistor 1410 controlled by the output of the differential amplifier 1305 based on Vcc. Vcc is int. Generated at the Vcc output node.
[0140]
Further, when both banks B1 and B2 are activated, activation signals / ACT1 and / ACT2 both become L level, NMOS transistor 1317 and two PMOS transistors 1407 and 1409 are turned on, and the differential amplifier Through the PMOS transistors 1408 and 1410 controlled by the output of 1305. Int. For supplying the banks B1 and B2 to the Vcc output node N3. Vcc is generated.
[0141]
Therefore, when both banks are activated, int. Is compared to when only one bank is activated. Since the supply capacity of Vcc is improved, stable int. Vcc can be supplied.
[0142]
As described above, the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention is int. Since the Vcc supply capacity changes, the int. Vcc can be supplied.
[0143]
In the case where the memory cell array is divided into a plurality of banks, the voltage operated by the activation signal and the output of the differential amplifier 1305 is the same as the voltage generation circuits 1415 and 1416 provided corresponding to the banks B1 and B2. The generation circuit may be connected to the internal voltage output node N3.
[0144]
FIG. 15 is a circuit diagram showing a VDC circuit 1500 which is an improved example of the VDC circuit 1400 of FIG.
[0145]
Referring to FIG. 15, VDC circuit 1500 is obtained by replacing NOR circuit 1406 and NMOS transistor 1317 of VDC circuit 1400 of FIG. 14 with NMOS transistors 1501 and 1502 and inverters 1503 and 1504.
[0146]
The drain electrodes of the NMOS transistors 1501 and 1502 are connected to the source electrode of the NMOS transistor 1315, and a ground voltage is applied to the source electrodes. An activation signal / ACT1 is input to the inverter 1503, and the output of the inverter 1503 is applied to the gate electrode of the NMOS transistor 1501. The activation signal / ACT2 is input to the inverter 1504, and the output of the inverter 1504 is applied to the gate electrode of the NMOS transistor 1502.
[0147]
For example, when bank B1 is activated, activation signal / ACT1 becomes L level, NMOS transistor 1501 is turned on, and differential amplifier 1305 has a predetermined voltage gain determined by NMOS transistor 1501.
[0148]
When bank B2 is activated, activation signal / ACT2 becomes L level, NMOS transistor 1502 is turned on, and differential amplifier 1305 has a predetermined voltage gain determined by NMOS transistor 1502.
[0149]
When both banks B1 and B2 are activated, activation signals / ACT1 and / ACT2 both become L level and NMOS transistors 1501 and 1502 are turned on, so that differential amplifier 1305 includes NMOS transistors 1501 and 1502. Is a predetermined voltage gain determined by. In addition, the voltage gain at this time is larger than that when only one bank is activated.
[0150]
As described above, if VDC circuit 1500 is used in the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention, in addition to the effect of using VDC circuit 1400, the differential amplifier corresponding to the activated bank is used. Since the voltage gain can be changed, int. It becomes possible to adjust the change in the supply capacity of Vcc.
[0151]
(9) Embodiment 9
Next, a plurality of banks in the memory cell array are grouped to form several groups, and VDC circuits corresponding to these groups are int. An example in which Vcc is supplied is shown below.
[0152]
Here, a case where the memory cell array is divided into four banks will be described as an example.
[0153]
FIG. 16 is a block diagram showing a configuration of main part 1600 of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention.
[0154]
The semiconductor memory device according to the ninth embodiment includes the RAS buffer 103, the address buffer 107, and the activation signal generation circuit 1003 (not shown) as in the semiconductor memory device 1000 of FIG. 10 according to the seventh embodiment. Activation signals / ACT1 to / ACT4 are output by activation signal generation circuit 1003.
[0155]
Referring to FIG. 16, main portion 1600 of the semiconductor memory device includes memory cell array 113 divided into four banks B1 to B4, and int. A VDC circuit 1610 for supplying Vcc and AND circuits 1605 and 1607 are provided.
[0156]
VDC circuit 1610 further includes internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603.
[0157]
VDC circuit 1610 provided with internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603 is a circuit similar to VDC circuit 1300 provided with internal voltage output circuits 1301 and 1303 in FIG. 13 of the seventh embodiment.
[0158]
Banks B1 and B2 are group G1, and banks B3 and B4 are group G2. One input node of AND circuit 1605 receives activation signal / ACT1 that is at L level when bank B1 is activated, and the other input node receives L when bank B2 is activated. The activation signal / ACT2 to be level is input. One input node of AND circuit 1607 receives activation signal / ACT3 that is at L level when bank B3 is activated, and the other input node receives L when bank B4 is activated. The activation signal / ACT4 to be level is input.
[0159]
When at least one of the banks B1 and B2 in the group G1 is activated, the control signal / ACTG1 output from the AND circuit 1605 becomes L level. Internal power supply voltage output circuit 1601 is exactly the same as the circuit in which this control signal / ACTG1 is input to internal power supply voltage output circuit 1301 in FIG. 13 instead of activation signal / ACT1, so that control signal / ACTG1 is at the L level. At int. Vcc is generated and supplied to banks B1 and B2. At that time, the banks B3 and B4 are precharged.
[0160]
When at least one of the banks B3 and B4 in the group G2 is activated, the control signal / ACTG2 output from the AND circuit 1607 becomes L level. Internal power supply voltage output circuit 1603 is exactly the same as the circuit in which this control signal / ACTG2 is input to internal power supply voltage output circuit 1301 of FIG. 13 instead of activation signal / ACT1, so that control signal / ACTG2 is at the L level. At int. Vcc is generated and supplied to banks B3 and B4. At that time, the banks B1 and B2 are precharged.
[0161]
Therefore, in the semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention, a plurality of banks are divided into several groups, and an internal voltage output circuit is provided for each group. Even when the switching to the bank in the group is shorter than the response time of the internal power supply voltage output circuit, it is possible to supply a stable internal power supply voltage.
[0162]
Further, when the number of bank divisions in the memory cell array is large, even if the bank to be accessed is changed, it is not necessary to switch the internal power supply voltage output circuit within the same group, so that a stable internal power supply voltage is supplied. It is possible.
[0163]
(10) Embodiment 10
FIG. 17 is a block diagram showing a configuration of main part 1700 of the semiconductor memory device according to the tenth embodiment of the present invention.
[0164]
Here, a case where the memory cell array is divided into eight banks B1 to B8 will be described.
[0165]
Referring to FIG. 17, main portion 1700 of the semiconductor memory device of the tenth embodiment is divided into eight banks B1 to B8, and includes memory cell array 113, VDC circuits 1701 and 1703, and AND circuits 1605 to 1608. .
[0166]
VDC circuits 1701 and 1703 are the same circuits as VDC circuit 1400 of FIG. 14 or VDC circuit 1500 of FIG.
[0167]
Banks B1 to B4 are group G1, and banks B5 to B8 are group G2. Activation signals / ACT1- / ACT8 are at L level when banks B1-B8 are activated, respectively.
[0168]
The activation signal / ACT1 is input to one input node of the AND circuit 1605, the activation signal / ACT2 is input to the other input node, and its output node is connected to one input node of the VDC circuit 1701. Yes. An activation signal / ACT3 is input to one input node of AND circuit 1606, activation signal / ACT4 is input to the other input node, and its output node is connected to the other input node of VDC circuit 1701. Yes.
[0169]
The activation signal / ACT5 is input to one input node of the AND circuit 1607, the activation signal / ACT6 is input to the other input node, and its output node is connected to one input node of the VDC circuit 1703. Yes. An activation signal / ACT7 is input to one input node of AND circuit 1608, activation signal / ACT8 is input to the other input node, and its output node is connected to the other input node of VDC circuit 1703. Yes.
[0170]
The output node of the VDC circuit 1701 and the output node of the VDC circuit 1703 are int. Connected to the Vcc output node N3 and connected to the memory cell array 113.
[0171]
When at least one of the banks B1 and B2 is activated, the control signal / ACTG11 output from the AND circuit 1605 becomes L level. When at least one of banks B3 and B4 is activated, control signal / ACTG12 output from AND circuit 1606 is at L level.
[0172]
VDC circuit 1701 has the same control signals / ACTG11 and / ACTG12 as the circuit input in place of activation signals / ACT1 and ACT2 to VDC circuit 1400 of FIG. When at least one of / ACTG11 and / ACTG12 is at L level, int. Vcc is generated and supplied to the activated bank among the banks B1 to B4. At that time, the other banks are precharged. Further, when both control signal / ACTG11 and control signal / ACTG12 are at the L level (that is, when at least one of banks B1 and B2 and at least one of banks B3 and B4 are activated), the eighth embodiment. Int. Vcc supply capability is improved.
[0173]
The group G2 is the same as in the case of the group G1, and when at least one of the banks B5 and B6 is activated, the control signal / ACTG21 output from the AND circuit 1607 becomes L level, and at least one of the banks B7 and B8 Is activated, the control signal / ACTG22 output from the AND circuit 1608 is at the L level.
[0174]
The VDC circuit 1703 controls the control signals / ACTG21 and / ACTG22 because they are exactly the same as the circuits input in place of the activation signals / ACT1 and / ACT2 to the VDC circuit 1400 of FIG. When at least one of the signals / ACTG21 and / ACTG22 is at L level, int. Vcc is generated and supplied to the activated bank among the banks B5 to B8. At that time, the other banks are precharged.
[0175]
Further, when both control signal / ACTG21 and control signal / ACTG22 are at the L level (that is, when at least one of banks B5 and B6 and at least one of banks B7 and B8 is activated), the eighth embodiment. Int. Vcc supply capability is improved.
[0176]
As described above, the semiconductor memory device according to the tenth embodiment of the present invention has a stable internal power supply even when switching from a bank in one group to a bank in another group is shorter than the response time of the VDC circuit. It is possible to supply a voltage. Further, when the number of bank divisions in the memory cell array is large, even if the bank to be accessed is changed, it is not necessary to switch the VDC circuit within the same group, so it is possible to supply a stable internal power supply voltage. It is.
[0177]
Furthermore, as in the case of the semiconductor memory device of the eighth embodiment, the internal power supply voltage supply capability of the VDC circuit can be improved according to the number of activated banks.
[0178]
Here, as the VDC circuits 1701 and 1703, a circuit similar to the VDC circuit 1500 in FIG. 15 can be used.
[0179]
(11) Embodiment 11
The int. Of the VDC circuit corresponds to the number of activated banks. An example in which the Vcc supply capability is changed will be described below.
[0180]
FIG. 18 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 1800 according to the eleventh embodiment of the present invention.
[0181]
Referring to FIG. 18, semiconductor memory device 1800 counts memory cell array 113 divided into four banks B1 and B2, address buffer 107, activation signal generation circuit 103, and the number of activated banks. Counting circuit 1803 and a VDC circuit 1801.
[0182]
The memory cell array 113 includes the address buffer 107 and the int. Connected to Vcc output node N3. The activation signal generation circuit 103 is connected to the address buffer 107. Count circuit 1803 is connected to the output node of activation signal generation circuit 103. The VDC circuit 1801 is connected to the output node of the count circuit 1803.
[0183]
Here, as an example, a case where the banks B1 and B3 are activated will be described.
[0184]
As described in FIG. 10 of the seventh embodiment, int. / RAS, clock signal CLK3, and int. In response to BA, in activation signal generation circuit 103, L level activation signals / ACT1, / ACT3 corresponding to banks B1, B3 activated, and H level activation signals / ACT2, / ACT4 Are output.
[0185]
The count circuit 1803 counts 2 as the number of banks to be activated by the input L level activation signals / ACT1, / ACT3. Count circuit 1803 outputs control signals / CNT1, / CNT2 lowered to L level in correspondence with the number of banks 2 to VDC circuit 1801, and when the number of activated banks is 1, Only CNT1 falls to L level, control signals / CNT1- / CNT3 fall to L level in the case of three, and all control signals / CNT1- / CNT4 fall to L level in the case of four It is done.
[0186]
The VDC circuit 1801 has a sufficient number of int. So that Vcc can be supplied. Vcc supply capability is improved.
[0187]
FIG. 19 is a circuit diagram showing a VDC circuit 1900 which is an example of the VDC circuit 1801 in FIG.
[0188]
Referring to FIG. 19, VDC circuit 1900 includes differential amplifier 1305, NOR circuit 1901, ext. Based on Vcc. Voltage generating circuits 1921 to 1924 for generating and supplying a voltage to Vcc output node N3 are provided.
[0189]
The differential amplifier 1305 is the same as the differential amplifier 1305 shown in FIG. 13 and the like, and the output node of the NOR circuit 1901 is connected to the gate electrode of the NMOS transistor 1317 in the differential amplifier 1305.
[0190]
The voltage generation circuit 1921 includes PMOS transistors 1903 and 1904, the voltage generation circuit 1922 includes PMOS transistors 1905 and 1906, the voltage generation circuit 1923 includes PMOS transistors 1907 and 1908, and the voltage generation circuit 1924 includes PMOS transistors 1909 and 1910.
[0191]
In the voltage generation circuit 1921, the source electrode of the PMOS transistor 1903 is connected to the external power supply node, the drain electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 1903, and the control signal / CNT1 is input to the gate electrode. The drain electrode of the PMOS transistor 1904 is int. Connected to the Vcc output node N3, the gate electrode is connected to the output node of the differential amplifier 1305.
[0192]
In the voltage generation circuit 1922, the source electrode of the PMOS transistor 1905 is connected to the external power supply node, the drain electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 1905, and the control signal / CNT2 is input to the gate electrode. The drain electrode of the PMOS transistor 1906 is int. Connected to the Vcc output node N3, the gate electrode is connected to the output node of the differential amplifier 1305.
[0193]
In the voltage generation circuit 1923, the source electrode of the PMOS transistor 1907 is connected to the external power supply node, the drain electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 1907, and the control signal / CNT3 is input to the gate electrode. The drain electrode of the PMOS transistor 1908 is int. Connected to the Vcc output node N3, the gate electrode is connected to the output node of the differential amplifier 1305.
[0194]
In the voltage generation circuit 1924, the source electrode of the PMOS transistor 1909 is connected to the external power supply node, the drain electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 1909, and the control signal / CNT4 is input to the gate electrode. The drain electrode of the PMOS transistor 1910 is int. Connected to the Vcc output node N3, the gate electrode is connected to the output node of the differential amplifier 1305.
[0195]
Control signals / CNT1 to / CNT4 are input to the NOR circuit 1901. That is, if any one of the banks is activated, the output of the NOR circuit 1901 becomes L level, and the differential amplifier 1305 operates.
[0196]
When there are two activated banks as in the above example, the control signals / CNT1, / CNT2 are at L level, / CNT3,. Since CNT4 is at the H level, the PMOS transistors 1903 and 1905 are turned on in the voltage generating circuits 1921 and 1922, and the int. Vcc is int. This is supplied to Vcc output node N3. In the voltage generation circuits 1923 and 1924, since the PMOS transistors 1907 and 1909 are off, no voltage is supplied from the voltage generation circuits 1923 and 1924.
[0197]
As described above, the semiconductor memory device 1800 according to the eleventh embodiment of the present invention corresponds to the number of int. Since the supply capability of Vcc changes, a stable internal power supply voltage can be supplied even if the number of banks to be accessed is changed.
[0198]
The VDC circuit 1801 in the above example is a circuit applied so that the VDC circuit 1400 of FIG. 14 in the eighth embodiment corresponds to four banks and is operated by the control signals / CNT1 to / CNT4 instead of the activation signals. Similarly, the VDC circuit 1500 of FIG. 15 and the internal power supply circuit 1300 of FIG. 13 of the seventh embodiment are applied, or the semiconductor memory device 1600 of FIG. 16 of the ninth embodiment and the tenth embodiment. 17 using the grouping of the control signals / CNT1 to / CNT4, a suitable int. From the VDC circuit according to the range of the number of banks. It is also possible to supply Vcc, and in addition to the effects of the above-described eleventh embodiment, the same effects as those of the above-described embodiments can be obtained.
[0199]
(12) Embodiment 12
FIG. 20 is a circuit diagram showing a configuration of semiconductor memory device 2000 according to the twelfth embodiment of the present invention.
[0200]
Here, a case where the memory cell array is divided into two banks will be described as an example.
[0201]
Referring to FIG. 20, semiconductor memory device 2000 includes memory cell array 113 divided into two banks B 1 and B 2, and banks B 1 and B 2 in memory cell array 113 with int. Internal power supply voltage output circuits 1301 and 1303 for supplying Vcc, int. Internal power supply lines 2001B1 and 2001B2 for supplying Vcc, ground lines 2003B1 and 2003B2 for supplying a ground voltage to the memory cell array, and a decoupling capacitor 2020 are provided.
[0202]
Bank B1 further includes a plurality of memory cells MCn, a plurality of word lines WLn and a plurality of bit line pairs BLn, / BLn, and a plurality of sense amplifiers SAn.
[0203]
Internal power supply line 2001B1 is connected to int. Connected to the Vcc output node N3 and connected to a plurality of sense amplifiers SAn in the bank B1. A ground voltage is applied to the 2003B1 through the decoupling capacitor 2020. Memory cell MCn is connected to word line WLn and bit line pair BLn, / BLn, and each of bit line pair BLn, / BLn is connected to a sense amplifier.
[0204]
Similarly, the internal power supply line 2001B2 includes the int. Connected to the Vcc output node N3 and connected to a plurality of sense amplifiers SAn in the bank B2. The ground line 2003B2 is connected to the ground line 2003B1 outside the memory cell array 113, and a ground voltage is applied via the decoupling capacitor 2020. Memory cell MCn in bank B2 is also connected to word line WLn and bit line pair BLn, / BLn, and is connected to sense amplifier SAn.
[0205]
Here, the internal power supply lines 2001B1 and 2001B2 are not electrically connected to each other inside and outside the memory cell array 113. The ground lines 2003B1 and 2003B2 are also not connected in the memory cell array 113.
[0206]
Internal power supply voltage output circuits 1301 and 1303 are exactly the same as internal power supply voltage output circuits 1301 and 1303 of FIG. 13 of the seventh embodiment.
[0207]
The internal power supply voltage output circuit 1301 operates in response to the activation signal / ACT1 that becomes L level when the bank B1 is activated. Vcc is supplied to bank B1 via 2001B1. When the bank B2 is activated, the internal power supply voltage output circuit 1303 is operated by the activation signal / ACT2 which becomes L level, and the int. Vcc is supplied to bank B2 via 2001B2.
[0208]
In bank B1, internal power supply line 2001B1 is connected to a plurality of sense amplifiers SAn. When data is read from accessed memory cell MCn, the read voltage on bit line pair BLn, / BLn is amplified by sense amplifier SAn. Is done. At this time, current is consumed by the sense amplifier SAn, and if the internal power supply lines 2001B1 and 2001B2 and the ground lines 2003B1 and 2003B2 are electrically connected inside the memory cell array 113, noise will appear in the data read voltage. .
[0209]
However, if the internal power supply line and the ground line are completely separated for each bank in the memory cell array 113 as described above, noise is not easily transmitted to other banks.
[0210]
Therefore, the semiconductor memory device 2000 according to the twelfth embodiment of the present invention can almost eliminate the occurrence of malfunction caused by the generated noise being transmitted to other activated banks.
[0211]
(13) Embodiment 13
FIG. 21 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device 2100 according to the thirteenth embodiment of the present invention.
Referring to FIG. 21, semiconductor memory device 2100 includes memory cell array 113 divided into two banks B1 and B2, VDC circuit 2101 provided corresponding to banks B1 and B2, and int. Internal power supply lines 2001B1 and 2001B2 for supplying Vcc, ground lines 2003B1 and 2003B2 for supplying a ground voltage to the memory cell array 113, and decoupling capacitors 2020 and 2021 are provided.
[0212]
Each of banks B1 and B2 includes a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs, and a plurality of sense amplifiers for amplifying data read or written in these memory cells. And SAn. Since these connection relationships are the same as those of the semiconductor memory device 2000 of the twelfth embodiment, illustration and description thereof are omitted.
[0213]
The VDC circuit 2101 is a circuit similar to the VDC circuit 1300 of FIG. 13 of the seventh embodiment, the VDC circuit 1400 of FIG. 14 of the eighth embodiment, or the VDC circuit 1500 of FIG.
[0214]
The VDC circuit 2101 receives an activation signal / ACT1 that becomes L level when the bank B1 is activated and an activation signal / ACT2 that becomes L level when the bank B2 is activated. Vcc output node N3 is connected to internal power supply lines 2001B1 and 2001B2. Internal power supply lines 2001B1 and 2001B2 are not electrically connected to each other inside memory cell array 113, but are connected again outside memory cell array 113, and the connection node is connected to one electrode of decoupling capacitor 2021. A constant voltage such as a ground voltage or a power supply voltage is applied to the other electrode of the decoupling capacitor 2021.
[0215]
The ground lines 2003B1 and 2003B2 are electrically disconnected inside the memory cell array 113 and connected outside the memory cell array 113, as in the case of the semiconductor memory device 2000 of FIG. The decoupling capacitor 2020 is connected to one electrode. The other electrode of the decoupling capacitor 2020 is given a constant voltage such as a ground voltage or a power supply voltage.
[0216]
The ground voltage lines 2001B1 and 2001B2 are ideally separated outside the memory cell array 113, but even when this is not possible, the read on the internal power supply lines 2001B1 and 2001B2 can be performed by connecting the decoupling capacitor 2021. Since most of the voltage noise is absorbed by the decoupling capacitor 2021, it is possible to reduce the noise.
[0217]
Also in the ground lines 2003B1 and 2003B2, noise on the line is reduced by the decoupling capacitor 2020.
[0218]
As described above, in the semiconductor memory device 2100 of the thirteenth embodiment of the present invention, in addition to the effects of the semiconductor memory device of the seventh or eighth embodiment, the internal power supply line and the ground line are connected outside the memory cell array. However, it is possible to prevent the noise on the line during the operation of the sense amplifier or the like from being transmitted to other accessing banks and malfunctioning.
[0219]
(14) Embodiment 14
FIG. 22 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device 2200 according to the fourteenth embodiment of the present invention.
[0220]
Referring to FIG. 22, semiconductor memory device 2200 is similar to semiconductor memory device 1600 of FIG. 16 of the ninth embodiment, in the same manner as semiconductor memory device 2100 of FIG. 21 of the thirteenth embodiment. A decoupling capacitor for reduction is connected.
[0221]
Internal power supply lines from the internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603 are connected to the banks B1 to B4 in the memory cell array 113 int. The internal power supply lines 2001B1 to 2001B4 for supplying Vcc are branched, and the internal power supply lines 2001B1 to 2001B4 are not electrically connected to each other inside the memory cell array 113 and are electrically connected outside the memory cell array 113. . The ground lines 2003B1 to 2003B4 for supplying a ground voltage to the banks B1 to B4 in the memory cell array 113 are also electrically disconnected from each other inside the memory cell array 113 and electrically connected outside the memory cell array 113. Yes.
[0222]
One electrode of a decoupling capacitor 2021 for reducing noise is connected to a connection node outside the memory cell array 113 for the internal power supply lines 2021B1 to 2021B4, and a connection node outside the memory cell array 113 for the ground lines 2003B1 to 2003B4. Is connected to one electrode of a decoupling capacitor 2020 for noise reduction.
[0223]
A constant voltage such as a ground voltage or a power supply voltage is applied to the other electrode of the decoupling capacitor 2021. Therefore, similarly to the semiconductor memory device of the thirteenth embodiment, noise on the internal power supply line can be reduced by this decoupling capacitor 2021.
[0224]
A constant voltage such as a ground voltage or a power supply voltage is applied to the other electrode of the decoupling capacitor 2020. Therefore, as in the case of the semiconductor memory device of the thirteenth embodiment, the decoupling capacitor 2021 can reduce noise on the ground line.
[0225]
For example, when one of the banks B1 and B2 is activated, the internal power supply voltage output circuit 1601 is connected via the corresponding internal power supply line among the internal power supply lines 2001B1 and 2001B2. Vcc is supplied to the corresponding bank. Alternatively, when one of the banks B3 and B4 is activated, the internal power supply voltage output circuit 1603 causes the internal power supply lines 2001B3 and 2001B4 to int. Vcc is supplied to the corresponding bank. At this time, since the internal power supply lines 2001B1 to 2001B4 are not electrically connected to each other, the decoupling capacitor 2021 can reduce noise due to the banks.
[0226]
Further, when there are a plurality of banks, it is possible to reduce noise interference of data read voltages between groups by providing four banks as one group and providing one circuit per group.
[0227]
As described above, in the semiconductor memory device 2200 according to the fourteenth embodiment of the present invention, in addition to the effects of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment, the bank or group of banks in which noise such as when the sense amplifier operates is being accessed It is possible to prevent malfunctions from being transmitted.
[0228]
(15) Embodiment 15
FIG. 23 is a block diagram showing a semiconductor memory device 2300 according to the fifteenth embodiment of the present invention.
[0229]
The semiconductor memory device 2300 is obtained by applying the semiconductor memory device 2100 of the thirteenth embodiment to the semiconductor memory device 1700 of the tenth embodiment.
[0230]
That is, int. Internal power supply lines 2001B1 to 2001B8 for supplying Vcc and ground lines 2003B1 to 2003B8 for supplying ground voltage are not electrically connected to each other inside memory cell array 113. Further, the internal power supply lines 2021B to 2021B4 in the banks B1 to B4 of the group G1 outside the memory cell array 113 are connected outside the memory cell 113 and connected to the decoupling capacitor 2021G1. Internal power supply lines 2021G5 to 2021G8 in the banks B5 to B8 of the group G2 are connected outside the memory cell 113 and connected to the decoupling capacitor 2021G2.
[0231]
The ground lines 2003B1 to 2003B8 in each bank of each group are connected outside the memory cell 113 and connected to the decoupling capacitors 2020G1 and 2020G2.
[0232]
A constant voltage such as a ground voltage or a power supply voltage is applied to the counter electrodes of the decoupling capacitors 2020G1, 2020G2, 2021G1, and 2021G2.
[0233]
Therefore, as in the case of the semiconductor memory device of the thirteenth or fourteenth embodiment, noise on the line is absorbed by the decoupling capacitor, so that interference of data read voltage noise between banks and between groups is reduced. It becomes possible.
[0234]
As described above, in the semiconductor memory device according to the fourteenth embodiment of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor memory device of FIG. It is possible to prevent malfunctions from being transmitted to the group.
[0235]
(16) Embodiment 16
FIG. 24 is a circuit diagram showing a Vpp pump in the semiconductor memory device according to the sixteenth embodiment of the present invention.
[0236]
Referring to FIG. 24, Vpp pump 2400 includes pump clock signal CLK1 and internal bank address signal int. The AND circuit 501 to which BA is input is replaced with an inverter 2401 to which an activation signal / ACT (activation signals such as / ACT1, / ACT2 are collectively referred to as / ACT) is input.
[0237]
The Vpp pump 2400 includes the internal power supply voltage output circuits 1301 and 1303 of FIG. 13 of the seventh embodiment, the internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603 of FIG. 16 of the ninth embodiment, and the VDC circuit 1301 of the twelfth embodiment. , 1303, the VDC circuit 2101 of the thirteenth embodiment, the internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603 of the fourteenth embodiment, and the like when the boosted voltage Vpp is supplied to each bank in the memory cell array 113. The same effect as the embodiment can be obtained. However, VDC circuit 2101 of the thirteenth embodiment includes two Vpp pumps 2400 (one corresponding to each bank).
[0238]
(17) Embodiment 17
FIG. 25 is a circuit diagram showing a Vbb pump in the semiconductor memory device according to the seventeenth embodiment of the present invention.
[0239]
Referring to FIG. 25, Vbb pump 2500 is similar to Vbb pump 209 in FIG. 2 except that pump clock signal CLK1 and internal bank address signal int. The AND circuit 501 to which BA is input is deleted, and the activation signal / ACT is input to one electrode of the capacitor Cp.
[0240]
The Vbb pump 2500 includes the internal power supply voltage output circuits 1301 and 1303 of FIG. 13 of the seventh embodiment, the internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603 of FIG. 16 of the ninth embodiment, and the VDC circuit 1301 of the twelfth embodiment. , 1303, the VDC circuit 2101 of the thirteenth embodiment, the internal power supply voltage output circuits 1601 and 1603 of the fourteenth embodiment, and the like when the substrate voltage Vbb is supplied to each bank in the memory cell array 113. The same effect as the embodiment can be obtained. However, VDC circuit 2101 of the thirteenth embodiment includes two Vbb pumps 2500 (one corresponding to each bank).
[0244]
【The invention's effect】
  The present inventionFollowThe semiconductor memory device can provide a semiconductor memory device capable of supplying a stable internal power supply voltage regardless of the number of operating banks.
[0247]
  Since the semiconductor memory device according to the first to sixth aspects of the present invention has an internal power supply voltage output circuit for each bank, switching from one bank to another bank becomes shorter than the response time of the internal power supply voltage output circuit. However, it is possible to stably supply the internal power supply voltage to the bank.
  Further, claims 1 to 6 of the present invention,15, 17, 21In this semiconductor device, when a plurality of banks are simultaneously activated, the internal power supply voltage output circuit corresponding to each bank operates, so that the internal power supply voltage supply capability is improved and a stable internal power supply voltage is supplied. It is possible.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of a Vbb pump 109 (, 111) in FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 300 according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 400 according to a third embodiment of the present invention.
5 is a circuit diagram showing an example of a Vpp pump 409 (, 411) in FIG. 4;
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor storage device 900 according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 600 according to a fifth embodiment of the present invention.
8 is a circuit diagram showing an example of a VDC circuit 609 (, 611) in FIG. 7;
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device 800 according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.
11 is a timing chart showing bank activation signals generated by an activation signal generation circuit in the semiconductor memory device of FIG. 10;
12 is a timing chart showing bank activation signals generated by an activation signal generation circuit in the semiconductor memory device of FIG. 10;
13 is a circuit diagram showing a VDC circuit which is an example of the VDC circuit of FIG. 10;
FIG. 14 is a circuit diagram showing a VDC circuit included in a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention.
15 is a circuit diagram showing a VDC circuit which is an improved example of the VDC circuit of FIG. 14;
FIG. 16 is a block diagram showing main parts of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a block diagram showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to a tenth embodiment of the present invention.
FIG. 18 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention.
19 is a circuit diagram showing a VDC circuit which is an example of the VDC circuit of FIG. 18;
FIG. 20 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention.
FIG. 21 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a twelfth embodiment of the present invention.
FIG. 22 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a fourteenth embodiment of the present invention.
FIG. 23 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a fifteenth embodiment of the present invention.
FIG. 24 is a circuit diagram showing a Vpp pump in a semiconductor memory device according to a sixteenth embodiment of the present invention.
FIG. 25 is a circuit diagram showing a Vbb pump in the semiconductor memory device according to the seventeenth embodiment of the present invention.
FIG. 26 shows a structure of an internal voltage supply circuit 2600 in a conventional semiconductor memory device.
[Explanation of symbols]
100, 300, 400, 600, 800, 900, 1000, 1800, 2000, 2100, 2200, 2300 Semiconductor memory device, 103 RAS buffer circuit, 303 CAS buffer circuit, 105, 305 clock signal generation circuit, 107 address buffer, 109 , 111, 2500 Vbb pump, 409, 411, 2400 Vpp pump, 609, 611, 1001, 1300, 1400, 1500, 1610, 1701, 1703, 1801, 1900, 2101 VDC circuit, 1301, 1303, 1601, 1603 Internal voltage Output circuit, 113 memory cell array, B1 to B8 bank, N3 internal voltage output node, 2001B1 to 2001B8 internal power supply line, 2003B1 to 2003B8 ground line, 2020, 2 020G1, 2021, 2021G2 Decoupling capacitors.

Claims (22)

複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号の活性化に応じて、前記内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
前記外部電源電圧が入力される一方の電極と前記内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号の活性化に応じて、前記内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1と第2のメモリセルアレイの領域外から前記第1のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第1のメモリセルアレイの領域内に配線され、前記内部電源電圧を前記第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに供給し、少なくとも前記第1の外部バンクアドレス信号の活性化もしくは前記第2のバンクアドレス信号の活性化のいずれが活性化される場合であっても、この活性化に応じて、前記内部電源電圧が供給される第1の配線と、
前記第1と第2のメモリセルアレイの領域外から前記第2のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第2のメモリセルアレイの領域内に配線され、前記内部電源電圧を前記第2のメモリアレイの複数のセンスアンプに供給し、少なくとも前記第1の外部バンクアドレス信号の活性化もしくは前記第2のバンクアドレス信号の活性化のいずれが活性化される場合であっても、この活性化に応じて、前記内部電源電圧が供給される第2の配線と、
前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極および前記第2のPMOSトランジスタ
の他方の電極と前記第1の配線および前記第2の配線とを接続する第3の配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank having a second memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from outside is input and another electrode for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; and the internal power supply voltage and the internal step-down level And a first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal to each other. A first internal step-down voltage circuit for outputting the internal power supply voltage in response to activation of a first external bank address signal indicating selection of the first bank,
A second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs the internal power supply voltage; the internal power supply voltage and the voltage at the internal step-down level are input; A second current mirror type amplifier circuit for outputting a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the voltage and the voltage at the internal step-down level are equal, and selecting the second bank given from the outside A second internal step-down circuit for outputting the internal power supply voltage in response to activation of a second external bank address signal indicating
Extending from outside the first and second memory cell arrays into the first memory cell array, wired into the first memory cell array, and supplying the internal power supply voltage to the first memory array. Even if at least one of the activation of the first external bank address signal and the activation of the second bank address signal is supplied to a plurality of sense amplifiers, A first wiring to which the internal power supply voltage is supplied;
Extending from outside the first and second memory cell arrays into the second memory cell array, wired into the second memory cell array, and supplying the internal power supply voltage to the second memory array Even if at least one of the activation of the first external bank address signal and the activation of the second bank address signal is supplied to a plurality of sense amplifiers, A second wiring to which the internal power supply voltage is supplied;
A semiconductor memory device, comprising: the other electrode of the first PMOS transistor and the other electrode of the second PMOS transistor; and a third wiring that connects the first wiring and the second wiring.
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、前記内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
前記外部電源電圧が入力される一方の電極と前記内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、前記内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のメモリセルアレイの領域内に伸びて配線され、前記第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給され、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給される第1の配線と、
前記第2のメモリセルアレイの領域内に伸びて配線され、前記第2のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給され、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給される第2の配線と、
前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極および前記第2のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第1の配線および前記第2の配線とを接続する第3の配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank having a second memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from outside is input and another electrode for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; and the internal power supply voltage and the internal step-down level And a first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal to each other. A first internal step-down voltage circuit for outputting the internal power supply voltage in response to a first external bank address signal indicating selection of the first bank,
A second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs the internal power supply voltage; the internal power supply voltage and the voltage at the internal step-down level are input; A second current mirror type amplifier circuit for outputting a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the voltage and the voltage at the internal step-down level are equal, and selecting the second bank given from the outside A second internal step-down circuit for outputting the internal power supply voltage in response to a second external bank address signal indicating
The first memory cell array extends in the region of the first memory cell array, is electrically coupled to a plurality of sense amplifiers of the first memory array, and the first internal step-down voltage according to the first external bank address signal A first wiring to which the internal power supply voltage is supplied from a circuit and the internal power supply voltage is supplied from the second internal voltage down converter in response to the second external bank address signal;
The first internal step-down circuit is extended in the region of the second memory cell array, is electrically coupled to a plurality of sense amplifiers of the second memory array, and the first internal step-down voltage according to the first external bank address signal A second wiring to which the internal power supply voltage is supplied from a circuit and the internal power supply voltage is supplied from the second internal voltage down converter in response to the second external bank address signal;
A semiconductor memory device, comprising: the other electrode of the first PMOS transistor and the other electrode of the second PMOS transistor; and a third wiring that connects the first wiring and the second wiring.
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータを増幅する複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータを増幅する複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した第1の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記第1の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記第1の内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧の比較結果に応じて前記第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、前記第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
前記外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した第2の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記第2の内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記第2の内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧の比較結果に応じて前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、前記第2の内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、前記第1のメモリセルアレイのセンスアンプに電気的に接続可能である第1の配線部、および前記第2のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、前記第2のメモリセルアレイのセンスアンプに電気的に接続可能である第2の配線部、さらに前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第2のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第1の配線部および前記第2の配線部とを接続する第3の配線部を有し、前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部電源電圧が前記第1ないし第3の配線部に供給され、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部電源電圧が前記第1ないし第3の配線部に供給される配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for amplifying data in the memory cells;
A second bank having a second memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for amplifying data of the memory cells;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other electrode that outputs a first internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; and the first internal power supply And a first current that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor in accordance with a comparison result between the first internal power supply voltage and the internal step-down voltage. A first internal step-down circuit that outputs the first internal power supply voltage in response to a first external bank address signal indicating the selection of the first bank given from the outside;
A second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs a second internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; the second internal power supply voltage; A second current mirror type amplifier that receives a step-down voltage and outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor in accordance with a comparison result between the second internal power supply voltage and the internal step-down voltage. A second internal step-down voltage circuit that outputs the second internal power supply voltage in response to a second external bank address signal indicating the selection of the second bank given from the outside,
First wiring extending into the region of the first memory cell array, wired along a plurality of sense amplifiers of the first memory cell array, and electrically connectable to the sense amplifiers of the first memory cell array And extending in the region of the second memory cell array, wired along a plurality of sense amplifiers of the second memory cell array, and electrically connectable to the sense amplifiers of the second memory cell array And a third wiring portion that connects the other electrode of the first PMOS transistor, the other electrode of the second PMOS transistor, and the first wiring portion and the second wiring portion. And the first internal power supply voltage is supplied to the first to third wiring sections in response to the first external bank address signal, and the second external bank address is supplied. The semiconductor memory device and a wiring to which the second internal power supply voltage is supplied to the wiring portions of the first to third according to the signal.
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、
前記第1のメモリセルアレイの領域内を横切って配線され、前記第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合される第1の配線と、
前記第2のメモリセルアレイの領域内を横切って配線され、前記第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合される第2の配線と、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第1のバンクを選択する第1の外部バンクアドレス信号に応じて活性化され、前記第1の配線と前記第2の配線に前記内部電源電圧を供給する第1の内部降圧回路と、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第2のバンクを選択する第2の外部バンクアドレス信号に応じて活性化され、前記第1の配線と前記第2の配線に前記内部電源電圧を供給する第2の内部降圧回路と、
前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極および前記第2のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第1の配線および前記第2の配線とを接続する第3の配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank having a second memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells;
A first wiring routed across a region of the first memory cell array and electrically coupled to a plurality of sense amplifiers of the first memory cell array;
A second wiring routed across the area of the second memory cell array and electrically coupled to a plurality of sense amplifiers of the second memory cell array;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from outside is input and another electrode for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; and the internal power supply voltage and the internal step-down level And a first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal to each other. A first internal step-down circuit that is activated in response to a given first external bank address signal for selecting the first bank and supplies the internal power supply voltage to the first wiring and the second wiring; ,
A second PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and another electrode for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; the internal power supply voltage and the internal step-down level; And a second current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal. A second internal step-down circuit which is activated in response to a second external bank address signal to select the second bank and supplies the internal power supply voltage to the first wiring and the second wiring. When,
A semiconductor memory device, comprising: the other electrode of the first PMOS transistor and the other electrode of the second PMOS transistor; and a third wiring that connects the first wiring and the second wiring.
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、
外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、外部から供給される外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、前記内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、前記第1の内部降圧回路が前記内部電源電圧を出力しているとき前記第1の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給され、前記第2の内部降圧回路が前記内部電源電圧を出力しているとき前記第2の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給される、前記第1のメモリセルアレイの領
域内に配線された第1の配線と、
前記第2のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、前記第1の内部降圧回路が前記内部電源電圧を出力しているとき前記第1の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給され、前記第2の内部降圧回路が前記内部電源電圧を出力しているとき前記第2の内部降圧回路から前記内部電源電圧が供給される、前記第2のメモリセルアレイの領域内に配線された第2の配線と、
前記第1の内部降圧回路の出力および前記第2の内部降圧回路の出力と前記第1の配線および前記第2の配線とを接続する第3の配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank having a second memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells;
A first internal step-down circuit for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down an external power supply voltage supplied from the outside in response to a first external bank address signal indicating selection of the first bank given from the outside;
A second internal step-down circuit for outputting the internal power supply voltage in response to a second external bank address signal indicating the selection of the second bank given from the outside;
The internal power supply voltage is supplied from the first internal voltage down converter when electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the first memory array and the first internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage. When the second internal step-down circuit outputs the internal power supply voltage, the internal power supply voltage is supplied from the second internal step-down circuit, and is wired in the region of the first memory cell array. A first wiring;
The internal power supply voltage is supplied from the first internal voltage down converter when electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the second memory array and the first internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage. When the second internal step-down circuit outputs the internal power supply voltage, the internal power supply voltage is supplied from the second internal step-down circuit, and is wired in the region of the second memory cell array. A second wiring;
A semiconductor memory device comprising: an output of the first internal step-down circuit, an output of the second internal step-down circuit, and a third wiring that connects the first wiring and the second wiring.
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第1のメモリセルアレイを有する第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを含む第2のメモリセルアレイを有する第2のバンクと、
外部から与えられる第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応じて、外部から供給される外部電源電圧を降圧した第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号に応じて、前記外部電源電圧を降圧した第2の内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のメモリセルアレイの前記複数のメモリセルと前記複数のセンスアンプが配列された領域内に伸びて配線され、前記第1のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部電源電圧に電気的に結合され、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部電源電圧に電気的に結合される第1の配線と、
前記第2のメモリセルアレイの前記複数のメモリセルと前記複数のセンスアンプが配列された領域内に伸びて配線され、前記第2のメモリアレイの複数のセンスアンプに電気的に結合され、前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部電源電圧に電気的に結合され、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部電源電圧に電気的に結合される第2の配線と、
前記第1の内部降圧回路の出力および前記第2の内部降圧回路の出力と前記第1の配線および前記第2の配線とを接続する第3の配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank having a first memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank having a second memory cell array including a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data of these memory cells;
A first internal step-down circuit for outputting a first internal power supply voltage obtained by stepping down an external power supply voltage supplied from the outside in response to a first external bank address signal indicating selection of a first bank provided from the outside; ,
A second internal step-down circuit for outputting a second internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage in response to a second external bank address signal indicating the selection of the second bank provided from the outside;
The plurality of memory cells of the first memory cell array and the plurality of sense amplifiers extend in a region where the plurality of sense amplifiers are arranged, are electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the first memory array, and First electrically coupled to the first internal power supply voltage in response to one external bank address signal and electrically coupled to the second internal power supply voltage in response to the second external bank address signal Wiring and
The plurality of memory cells of the second memory cell array and the plurality of sense amplifiers are extended and wired in a region where the plurality of sense amplifiers are arranged, and are electrically coupled to the plurality of sense amplifiers of the second memory array, Second electrically coupled to the first internal power supply voltage in response to one external bank address signal and electrically coupled to the second internal power supply voltage in response to the second external bank address signal. Wiring and
A semiconductor memory device comprising: an output of the first internal step-down circuit, an output of the second internal step-down circuit, and a third wiring that connects the first wiring and the second wiring.
前記第1と第2のメモリセルアレイの領域は、それぞれ四角形形状を有し、
前記第1の配線と第2の配線は、それぞれ前記四角形の一方辺から対となる他方辺へ伸び、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記四角形の一方辺側で前記第3の配線により接続され、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記四角形の他方辺側で第4の配線により接続される、請求項1、2、4、5または6のいずれかに記載の半導体記憶装置。
The regions of the first and second memory cell arrays each have a rectangular shape,
Each of the first wiring and the second wiring extends from one side of the quadrangle to the other side of the pair, and the third wiring is located on one side of the quadrangle outside the area of the first and second memory arrays. 7, and is connected by a fourth wiring on the other side of the square outside the areas of the first and second memory arrays. The semiconductor memory device described.
前記第1と第2のメモリセルアレイの領域は、それぞれ四角形形状を有し、
前記第1の配線部は、前記第1のメモリセルアレイの領域の前記四角形の一方辺から対となる他方辺へ伸び、
前記第2の配線部は、前記第2のメモリセルアレイの領域の前記四角形の一方辺から対となる他方辺へ伸び、
前記第3の配線部は、前記第1と第2のメモリセルアレイの領域外の前記四角形の一方辺側に設けられ、
前記配線は、前記第1と第2のメモリセルアレイの領域外の前記四角形の他方辺側に、前記第1の配線部と前記第2の配線部とを接続する第4の配線部を有する、請求項3に記載の半導体記憶装置。
The regions of the first and second memory cell arrays each have a rectangular shape,
The first wiring portion extends from one side of the square of the region of the first memory cell array to the other side of the pair,
The second wiring portion extends from one side of the quadrilateral of the region of the second memory cell array to the other side of the pair,
The third wiring portion is provided on one side of the square outside the areas of the first and second memory cell arrays,
The wiring has a fourth wiring portion that connects the first wiring portion and the second wiring portion on the other side of the square outside the areas of the first and second memory cell arrays. The semiconductor memory device according to claim 3.
前記第1と第2のメモリセルアレイの領域は、それぞれ四角形形状を有し、
前記第1の配線と第2の配線は、それぞれ前記四角形の一方辺から対となる他方辺へ伸び、
前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記四角形の一方辺側に前記第1と第2の内部降圧回路が設けられ、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記四角形の他方辺側に前記第1の配線に接続されるデカップリングキャパシタが設けられた、請求項1、2、4、5または6のいずれかに記載の半導体記憶装置。
The regions of the first and second memory cell arrays each have a rectangular shape,
The first wiring and the second wiring each extend from one side of the square to the other side of the pair,
The first and second internal step-down circuits are provided on one side of the square outside the areas of the first and second memory arrays, and the square of the square outside the areas of the first and second memory arrays is provided. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a decoupling capacitor connected to the first wiring is provided on the other side.
前記第1と第2のメモリセルアレイの領域は、それぞれ四角形形状を有し、
前記第1の配線部は、前記第1のメモリセルアレイの領域の前記四角形の一方辺から対となる他方辺へ伸び、
前記第2の配線部は、前記第2のメモリセルアレイの領域の前記四角形の一方辺から対となる他方辺へ伸び、
前記第3の配線部は、前記第1と第2のメモリセルアレイの領域外の前記四角形の一方辺側に設けられ、
前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記四角形の一方辺側に前記第1と第2の内部降圧回路が設けられ、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記四角形の他方辺側に前記配線に接続されるデカップリングキャパシタが設けられた、請求項3に記載の半導体記憶装置。
The regions of the first and second memory cell arrays each have a rectangular shape,
The first wiring portion extends from one side of the square of the region of the first memory cell array to the other side of the pair,
The second wiring portion extends from one side of the quadrilateral of the region of the second memory cell array to the other side of the pair,
The third wiring portion is provided on one side of the square outside the areas of the first and second memory cell arrays,
The first and second internal step-down circuits are provided on one side of the square outside the areas of the first and second memory arrays, and the square of the square outside the areas of the first and second memory arrays is provided. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein a decoupling capacitor connected to the wiring is provided on the other side.
前記第1のメモリセルアレイの領域は、第1の対をなす第1と第2の辺と、第2の対をなす第3と第4の辺とを有し、前記第1の辺、前記第4の辺、前記第2の辺、前記第3の辺の順で囲まれた領域であり、
前記第1のメモリセルアレイの領域に並列して配置された前記第2のメモリセルアレイの領域は、第1の対をなす第5と第6の辺と、第2の対をなす第7と第8の辺とを有し、前記第5の辺、前記第8の辺、前記第6の辺、前記第7の辺の順で囲まれた領域であり、
前記第2と第5の辺は、前記第1と第6の辺の間に設けられるものであって、
前記第1の配線は、前記第3の辺から前記第4の辺へ伸び、
前記第2の配線は、前記第7の辺から前記第8の辺へ伸び、
前記第1と第2の配線は、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記第3および前記第7の辺側で前記第3の配線により接続されるとともに、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記第4および前記第8の辺側で第4の配線により接続されるものであり、
前記第3もしくは前記第4の配線を経由しなくても、前記第1の配線と第2の配線とを接続する前記第2および第5の辺を横切る配線を有しない、請求項1、2、4、5または6のいずれかに記載の半導体記憶装置。
The region of the first memory cell array has first and second sides forming a first pair, and third and fourth sides forming a second pair, and the first side, A region surrounded in the order of the fourth side, the second side, and the third side;
The region of the second memory cell array arranged in parallel to the region of the first memory cell array includes the fifth and sixth sides forming the first pair, and the seventh and seventh forming the second pair. 8 sides, and is an area surrounded by the fifth side, the eighth side, the sixth side, and the seventh side in this order,
The second and fifth sides are provided between the first and sixth sides, and
The first wiring extends from the third side to the fourth side,
The second wiring extends from the seventh side to the eighth side,
The first and second wirings are connected by the third wiring on the third and seventh sides outside the areas of the first and second memory arrays, and the first and second wirings are connected. Connected to the fourth and eighth sides outside the area of the memory array 2 by a fourth wiring,
The wiring does not cross the second and fifth sides that connect the first wiring and the second wiring without passing through the third wiring or the fourth wiring. The semiconductor memory device according to any one of 4, 5, and 6.
前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記第3および前記第7の辺側に前記第1と第2の内部降圧回路が設けられ、前記第1と第2のメモリアレイの領域外の前記第4および前記第8の辺側に前記第4の配線に接続されるデカップリングキャパシタが設けられた、請求項11に記載の半導体記憶装置。  The first and second internal step-down circuits are provided on the third and seventh sides outside the areas of the first and second memory arrays, and are outside the areas of the first and second memory arrays. The semiconductor memory device according to claim 11, wherein a decoupling capacitor connected to the fourth wiring is provided on the fourth and eighth sides of the semiconductor memory device. 前記第1の外部バンクアドレス信号の入力後、前記第1のバンクをプリチャージするプリチャージ信号の入力前に、前記第2の外部バンクアドレス信号が入力されることで、並行して第1と第2のバンクの活性化が指示される、請求項1から12のいずれかに記載の半導体記憶装置。Since the second external bank address signal is input after the input of the first external bank address signal and before the input of the precharge signal for precharging the first bank, activation of the second bank is instructed, the semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 12. 前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部降圧回路を活性化する第1の活性化信号を前記第1の内部降圧回路に出力し、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路を活性化する第2の活性化信号を前記第2の内部降圧回路に出力し、前記第1の内部降圧回路の活性化期間中に、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路を非活性から活性化させることが可能な活性化信号発生回路を備える、請求項1から12のいずれかに記載の半導体記装置。A first activation signal for activating the first internal voltage down converter in response to the first external bank address signal is output to the first internal voltage down circuit, and in response to the second external bank address signal. A second activation signal for activating the second internal step-down circuit is output to the second internal step-down circuit, and the second external bank is activated during the activation period of the first internal step-down circuit. comprises an activation signal generating circuit capable of activating the second internal step-down circuit from the non-active in response to the address signal, the semiconductor apparatuses according to any one of claims 1 to 12. 複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第2のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第2のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第3のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第3のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第4のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第4のバンクと、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて前記第1のカレントミラー型増幅回路が活性化され、前記第1のPMOSトランジスタから前記内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
前記外部電源電圧が入力される一方の電極と前記内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第3のバンクの選択を示す第3の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる前記第4のバンクの選択を示す第4の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて前記第2のカレントミラー型増幅回路が活性化され、前記第2のPMOSトランジスタから前記内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第2のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第1のバンクの回路と前記第2のバンクの回路と前記第3のバンクの回路と前記第4のバンクの回路とを接続する配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank provided with a circuit including a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank provided with a circuit including a second memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A third bank provided with a circuit including a third memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A fourth bank provided with a circuit including a fourth memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from outside is input and another electrode for outputting an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; and the internal power supply voltage and the internal step-down level A first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal to each other. The first external bank address signal indicating the selection of the first bank to be applied and the second external bank address signal indicating the selection of the second bank to be applied from the outside. A first internal step-down circuit that activates a current mirror type amplifier circuit and outputs the internal power supply voltage from the first PMOS transistor;
A second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs the internal power supply voltage; and the internal power supply voltage and the voltage at the internal step-down level are input; A second current mirror type amplifier circuit for outputting a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the voltage and the voltage at the internal step-down level are equal, and selecting the third bank given from the outside The second current mirror type amplifying circuit is activated in response to both the third external bank address signal indicating the selection and the fourth external bank address signal indicating the selection of the fourth bank given from the outside. A second internal step-down circuit for outputting the internal power supply voltage from the second PMOS transistor;
The other electrode of the first PMOS transistor, the other electrode of the second PMOS transistor, the circuit of the first bank, the circuit of the second bank, the circuit of the third bank, and the circuit of the fourth bank A semiconductor memory device comprising: a wiring that connects a bank circuit.
前記配線は、
前記第1の領域内に配線され、前記第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能であり、少なくとも前記第1から第4の外部バンクアドレス信号のいずれにも応じて、前記内部電源電圧が供給される第1の配線部と、
前記第2の領域内に配線され、前記第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能であり、少なくとも前記第1から第4の外部バンクアドレス信号のいずれにも応じて、前記内部電源電圧が供給される第2の配線部と、
前記第3のメモリセルアレイの領域内に配線され、前記第3のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能であり、少なくとも前記第1から第4の外部バンクアドレス信号のいずれにも応じて、前記内部電源電圧が供給される第3の配線部と、
前記第4のメモリセルアレイの領域内に配線され、前記第4のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能であり、少なくとも前記第1から第4の外部バンクアドレス信号のいずれにも応じて、前記内部電源電圧が供給される第4の配線部とを備える、請求項15記載の半導体記憶装置。
The wiring is
Wired in the first region and electrically connectable to a plurality of sense amplifiers of the first memory cell array, and at least according to any of the first to fourth external bank address signals, A first wiring portion to which an internal power supply voltage is supplied;
Wired in the second region, electrically connectable to a plurality of sense amplifiers of the second memory cell array, and at least according to any of the first to fourth external bank address signals, A second wiring portion to which an internal power supply voltage is supplied;
Wired in the region of the third memory cell array, electrically connectable to a plurality of sense amplifiers of the third memory cell array, and at least according to any of the first to fourth external bank address signals A third wiring portion to which the internal power supply voltage is supplied;
Wired in the region of the fourth memory cell array, electrically connectable to a plurality of sense amplifiers of the fourth memory cell array, and at least according to any of the first to fourth external bank address signals The semiconductor memory device according to claim 15 , further comprising a fourth wiring portion to which the internal power supply voltage is supplied.
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第2のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第2のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第3のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第3のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第4のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第4のバンクと、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した第1の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記第1の内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記第1の内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧の比較結果に応じて前記第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて活性化される信号により、前記第1の内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
前記外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した第2の内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記第2の内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記第2の内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧の比較結果に応じて前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、外部から与えられる前記第3のバンクの選択を示す第3の外部バンクアドレス信号と外部から与えられる前記第4のバンクの選択を示す第4の外部バンクアドレス信号とのいずれにも応じて活性化される信号により、前記第2の内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第2のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第1のバンクの回路と前記第2のバンクの回路と前記第3のバンクの回路と前記第4のバンクの回路とを接続する配線と、を備える半導体記憶装置。
A first bank provided with a circuit including a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank provided with a circuit including a second memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A third bank provided with a circuit including a third memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A fourth bank provided with a circuit including a fourth memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other electrode that outputs a first internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; and the first internal power supply A first current that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor in accordance with a comparison result between the first internal power supply voltage and the internal step-down voltage. A first external bank address signal indicating the selection of the first bank provided from the outside, and a second external bank address signal indicating the selection of the second bank provided from the outside A first internal step-down circuit that outputs the first internal power supply voltage by a signal activated in accordance with
A second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs a second internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; the second internal power supply voltage; A second current mirror type amplifier that receives a step-down voltage and outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor in accordance with a comparison result between the second internal power supply voltage and the internal step-down voltage. A third external bank address signal indicating the selection of the third bank supplied from the outside and a fourth external bank address signal indicating the selection of the fourth bank supplied from the outside. A second internal step-down voltage circuit for outputting the second internal power supply voltage by a signal activated in response thereto,
The other electrode of the first PMOS transistor, the other electrode of the second PMOS transistor, the circuit of the first bank, the circuit of the second bank, the circuit of the third bank, and the circuit of the fourth bank A semiconductor memory device comprising: a wiring that connects a bank circuit.
前記配線は、
前記第1のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、前記第2のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、前記第3のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第3のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、前記第4のメモリセルアレイの領域内に伸び、前記第4のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに沿って配線され、
少なくとも前記第1の外部バンクアドレス信号もしくは前記第2の外部バンクアドレス
信号のいずれの活性化にも応じて前記第1の内部電源電圧が供給され、また、少なくとも前記第3の外部バンクアドレス信号もしくは前記第4の外部バンクアドレス信号のいずれの活性化にも応じて前記第2の内部電源電圧が供給され、
前記第1から第4のバンクの複数のセンスアンプは、
前記配線に電気的に結合される、請求項17に記載の半導体記憶装置。
The wiring is
Extending into the region of the first memory cell array, wired along a plurality of sense amplifiers of the first memory cell array, extending into the region of the second memory cell array, and extending into the region of the second memory cell array Wired along the sense amplifier, extending into the region of the third memory cell array, routed along the plurality of sense amplifiers of the third memory cell array, extending into the region of the fourth memory cell array, Wired along the plurality of sense amplifiers of the fourth memory cell array,
The first internal power supply voltage is supplied in response to activation of at least the first external bank address signal or the second external bank address signal, and at least the third external bank address signal or In response to any activation of the fourth external bank address signal, the second internal power supply voltage is supplied,
The plurality of sense amplifiers in the first to fourth banks are
The semiconductor memory device according to claim 17 , wherein the semiconductor memory device is electrically coupled to the wiring.
前記第1と第2の外部バンクアドレス信号のいずれかに応じて活性化されている前記第1の内部降圧回路の活性化期間中に、前記第3と第4の外部バンクアドレス信号のいずれかに応じて前記第2の内部降圧回路を非活性から活性化させることが可能な、請求項15から18のいずれかに記載の半導体記憶装置。One of the third and fourth external bank address signals during the activation period of the first internal voltage down converter activated in response to one of the first and second external bank address signals It said second internal step-down circuit capable of activating the non-active, the semiconductor memory device according to any of claims 15 18 in response to. 前記第1の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部降圧回路を活性化する第1の活性化信号を前記第1の内部降圧回路に出力し、前記第2の外部バンクアドレス信号に応じて前記第1の内部降圧回路を活性化する第2の活性化信号を前記第1の内部降圧回路に出力し、前記第3の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路を活性化する第3の活性化信号を前記第3の内部降圧回路に出力し、前記第4の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路を活性化する第4の活性化信号を前記第1の内部降圧回路に出力し、前記第1の内部降圧回路の活性化期間中に、前記第3および第4の外部バンクアドレス信号に応じて前記第2の内部降圧回路を非活性から活性化させることが可能な活性化信号発生回路を備える、請求項15から18のいずれかに記載の半導体記憶装置。A first activation signal for activating the first internal voltage down converter in response to the first external bank address signal is output to the first internal voltage down circuit, and in response to the second external bank address signal. The second activation signal for activating the first internal voltage down converter is output to the first internal voltage down circuit, and the second internal voltage down circuit is activated in response to the third external bank address signal. A third activation signal to be activated is output to the third internal voltage down converter, and a fourth activation signal for activating the second internal voltage down circuit in response to the fourth external bank address signal Output to the first internal step-down circuit, and activate the second internal step-down circuit from inactive according to the third and fourth external bank address signals during the activation period of the first internal step-down circuit An activation signal generation circuit that can be activated That, the semiconductor memory device according to any of claims 15 18. 複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第1のバンクと、
複数のメモリセルとこれらのメモリセルのデータをセンスする複数のセンスアンプとを有する第1のメモリセルアレイを含む回路が設けられた第2のバンクと、
外部から供給される外部電源電圧が入力される一方の電極と前記外部電源電圧を降圧した内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第1のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように第1のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第1のカレントミラー型増幅回路とを含み、前記内部電源電圧を出力する第1の内部降圧回路と、
前記外部電源電圧が入力される一方の電極と前記内部電源電圧を出力する他方電極とを有する第2のPMOSトランジスタと、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧とが入力され、前記内部電源電圧と前記内部降圧レベルの電圧が等しくなるように前記第2のPMOSトランジスタのゲート電極に電圧を出力する第2のカレントミラー型増幅回路とを含み、前記内部電源電圧を出力する第2の内部降圧回路と、
前記第1のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第2のPMOSトランジスタの他方の電極と前記第1のバンクの回路と前記第2のバンクの回路とを接続する配線とを有するものであり、
外部から与えられる前記第1のバンクの選択を示す第1の外部バンクアドレス信号に応答して前記第1のバンクが活性化されると共に前記第1の内部降圧回路が前記内部電源電圧を出力し、前記第1のバンクが活性化されている間に外部から前記第2のバンクの選択を示す第2の外部バンクアドレス信号が入力されると、この第2の外部バンクアドレスに応答して前記第2のバンクが活性化されると共に前記第2の内部降圧回路が前記内部電源電圧を出力する、半導体記憶装置。
A first bank provided with a circuit including a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A second bank provided with a circuit including a first memory cell array having a plurality of memory cells and a plurality of sense amplifiers for sensing data in these memory cells;
A first PMOS transistor having one electrode to which an external power supply voltage supplied from the outside is input and the other electrode that outputs an internal power supply voltage obtained by stepping down the external power supply voltage; And a first current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the first PMOS transistor so that the internal power supply voltage and the internal step-down voltage are equal to each other. A first internal voltage down converter for outputting a voltage;
A second PMOS transistor having one electrode to which the external power supply voltage is input and the other electrode that outputs the internal power supply voltage; the internal power supply voltage and the voltage at the internal step-down level are input; A second current mirror type amplifier circuit that outputs a voltage to the gate electrode of the second PMOS transistor so that the voltage is equal to the voltage of the internal step-down level, and outputs the internal power supply voltage. A step-down circuit;
The other electrode of the first PMOS transistor, the other electrode of the second PMOS transistor, and the wiring connecting the circuit of the first bank and the circuit of the second bank,
In response to a first external bank address signal indicating the selection of the first bank given from the outside, the first bank is activated and the first internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage. When a second external bank address signal indicating the selection of the second bank is input from the outside while the first bank is activated, the second bank address is responsive to the second external bank address. A semiconductor memory device in which a second bank is activated and the second internal voltage down converter outputs the internal power supply voltage.
前記配線は、
前記第1のメモリセルアレイの領域内に配線され、前記第1のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能であり、少なくとも前記第1もしくは第2の外部バン
クアドレス信号のいずれにも応答して、前記内部電源電圧が供給される第1の配線部と、
前記第2のメモリセルアレイの領域内に配線され、前記第2のメモリセルアレイの複数のセンスアンプに電気的に接続可能であり、少なくとも前記第1もしくは第2の外部バンクアドレス信号のいずれにも応答して、前記内部電源電圧が供給される第2の配線部とを備える、請求項21に記載の半導体記憶装置。
The wiring is
Wired in the region of the first memory cell array, electrically connectable to a plurality of sense amplifiers of the first memory cell array, and responding to at least either the first or second external bank address signal A first wiring portion to which the internal power supply voltage is supplied;
Wired within the region of the second memory cell array, electrically connectable to a plurality of sense amplifiers of the second memory cell array, and responsive to at least either the first or second external bank address signal The semiconductor memory device according to claim 21 , further comprising: a second wiring portion to which the internal power supply voltage is supplied.
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