JP3808233B2 - The liquid crystal display device - Google Patents

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正行 引場
和彦 柳川
正宏 石井
啓一郎 芦沢
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve display quality by forming projected bodies on one substrate between substrates and interposing an alignment film on the contact part of the projected bodies with the other substrate, in such a manner that the alignment film has the same initial alignment direction as that of an alignment film formed on each substrate. SOLUTION: A spacer 10 is formed on the upper face of a flattening film 8 as overlapped at almost the center of the region, where a capacitive element Cadd is formed. The spacer 10 consists of a projected body formed by photolithographic techniques, for example, from a synthetic resin film applied on the upper face of the flattening film 8. Alignment films 7, 11 which determine the initial alignment direction of a liquid crystal are formed on the upper face of a protective film PAS formed on the surface of a transparent substrate 1. Synthetic resin films are used as the material of the alignment films 7, 11, and the film surfaces to be in contact with the liquid crystal are subjected to rubbing treatment. The direction of the rubbing treatment is controlled to coincide with the initial alignment direction of the liquid crystal, and each of the alignment film 7 in a TFT substrate 1A side and the alignment film 11 in the filter substrate 1B side is subjected to rubbing treatment in the same direction.

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は液晶表示装置に係り、特に、液晶を介して互いに対向配置される透明基板の間に介在されるスペーサを備える液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device comprising a spacer interposed between the transparent substrates which are arranged to face each other via the liquid crystal.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
液晶を介して互いに対向配置される透明基板の間にスペーサを介在させることによって、液晶の層厚を一定とすることができ、表示むらの発生を防止することができる。 By through the liquid crystal is interposed a spacer between the transparent substrates which are opposed to each other, can be a thickness of the liquid crystal is constant, it is possible to prevent the occurrence of display unevenness.
このスペーサとしては、例えばビーズ状のものがあり、一方の基板の液晶側の面に該スペーサを散在させた状態で他方の基板を対向配置させるようになっている。 As the spacer, for example, there are those bead-like, so as to face each of the other substrate in a state of being interspersed the spacer on the surface of the liquid crystal side of one substrate.
しかし、このビーズ状のスペーサは、凹凸がある基板面に散在させることから、あるスペーサは凹部に他のスペーサは凸部に位置づけられてしまい、他方の基板を対向配置させても、それらの基板のギャップは所定どおりにならない場合がある。 However, this bead-like spacer, since the interspersing the substrate surface is uneven, even if some spacers another spacer recess will be positioned protrusion, is disposed opposite the other substrate, the substrates the gap may not become prescribed as expected.
これに対して、他のスペーサとして、一方の基板の液晶側の面に予め該基板の所定の個所に固定させて形成したものがある。 In contrast, as another spacer, there is formed by fixing a predetermined location of the pre-substrate liquid-crystal-side surface of one substrate.
この場合、凹凸がある基板面のうち例えば凹部に該スペーサを形成することによって、他方の基板を対向配置させた際に、それらの基板のギャップは所定どおりに設定できるようになる。 In this case, by forming the spacer in the recess example of the substrate surface is uneven, the other substrate when made to face arrangement, the gap of these substrates will be able to set a predetermined expected.
【0003】 [0003]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
しかし、後者のスペーサは、上述した長所を有するとともに、それによる不都合もいくつか顕在化してくることも否めない。 However, the latter spacer and having the advantages described above, it by undeniable also come to some manifested also disadvantages.
そして、その不都合を回避し、さらに、その配置等を改善していくことによって、より表示の品質の向上を見出すことができる。 Then, to avoid the inconvenience, further by going to improve the arrangement and the like can be found more display improved quality.
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、表示の品質の向上を図った液晶表示装置を提供することにある。 The present invention has such a was made based on the circumstances, and its object is to provide a liquid crystal display device with improved display quality.
【0004】 [0004]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下の通りである。 Among the inventions disclosed in this application will be briefly described typical ones are as follows.
すなわち、各基板の間に一方の基板側に形成された突起体を備え、この突起体の他方の基板側への当接部に各基板側に形成された配向膜が介在され、これら配向膜は同方向の初期配向方向を有することを特徴とするものである。 That is, provided with a protrusion formed on one substrate side among the respective substrates, the alignment film formed on the substrate side contact portion to the other substrate side of the protrusion is interposed, the alignment films it is characterized in that it has an initial alignment direction in the same direction.
このように構成された液晶表示装置は、スペーサの機能を有する突起体が、それが形成された基板と反対側の基板との間に、該各配向膜を介して当接することになる。 The liquid crystal display device having such a structure, the projection having the function of spacers, between the substrate on which it is formed and opposite side of the substrate, comes into contact via the respective alignment films.
そして、該上述した配向膜どおしの接着力の強度は増大しているため、該スペーサはそれが形成された基板と反対側の基板との間の固着力が増大するようになる。 Since the etc. alignment film the aforementioned strength of adhesion of press has increased, the spacer is sticking forces between the substrate to which it is formed and opposite side of the substrate is to increase.
このため、各基板の間のギャップの均一性を確保でき、表示の品質を向上させることができるようになる。 Therefore, it is possible to ensure the uniformity of the gap between the substrates, it is possible to improve the quality of display.
【0005】 [0005]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明する。 Hereinafter, an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention with reference to the drawings.
〔実施例1〕 Example 1
図1は、本発明による液晶表示装置の一実施例を示す構成図である。 Figure 1 is a block diagram showing an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.
同図(a)は、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置の各画素のうちの一つの画素を示す平面図で、同図(b)は同図(a)のb−b線における断面図を示す。 FIG (a) is a plan view showing one pixel of each pixel of the called liquid crystal display device with a so-called horizontal electric field mode, Fig. (B) is in line b-b in FIG. (A) It shows a cross-sectional view.
各画素はマトリックス状に配置されて表示部を構成している。 Each pixel constitutes a display unit are arranged in a matrix. このため、図1に示す画素の構成はその左右及び上下に隣接する画素の構成と同様となっている。 Therefore, the configuration of the pixel shown in FIG. 1 has a similar to the configuration of the pixels adjacent to the right and left, and up and down.
まず、液晶を介して対向配置される透明基板のうち、一方の透明基板1の液晶側の面において図中x方向に延在する走査信号線(ゲート線)2が例えばクロム層によって形成されている。 First, of the transparent substrate disposed to face each other through a liquid crystal, it is formed by extending the direction x in the figure in the plane of one of the liquid crystal side of the transparent substrate 1 scanning signal line (gate line) 2, for example chromium layer there. このゲート線2は、図中に示すように、例えば画素領域の下側に形成され、実質的に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるようになっている。 The gate line 2, as shown in the figure, for example, is formed on the lower side of the pixel region, and substantially so as large as possible a region functioning as a pixel.
そして、このゲート線2は表示部外からゲート信号が供給されるようになっており、後述の薄膜トランジスタTFTを駆動させるようになっている。 Then, the gate line 2 is adapted to a gate signal supplied from the display outsiders, so as to drive the thin film transistor TFT described later.
また、画素領域のほぼ中央には図中x方向に延在する対向電圧信号線4が例えばゲート線2と同じ材料によって形成されている。 Also formed of the same material as the counter voltage signal line 4 is for example a gate line 2 extending in the x direction in the drawing is approximately in the center of the pixel region.
対向電圧信号線4には対向電極4Aが一体的に形成され、この対向電極4Aは例えば対向電圧信号線4に対してその上下方向(±y方向)に沿って例えば3本延在されて形成されている。 The counter voltage signal line 4 counter electrodes 4A are formed integrally, the counter electrode 4A is being Zaisa three extending for example along the vertical direction (± y direction) with respect to the counter voltage signal line 4 for example formed It is.
この対向電極4Aは、後述する画素電極5に供給される映像信号に対して基準となる信号が該対向電圧信号線4を介して供給されるようになっており、該画素電極5との間に前記映像信号に対応した強度の電界を発生せしめるようになっている。 The counter electrode 4A is adapted to signal serving as a reference for the video signal supplied to the pixel electrode 5, which will be described later, is supplied through the counter voltage signal line 4, between the pixel electrode 5 so that the allowed to generate an electric field intensity corresponding to the video signal.
この電界は透明基板1面に対して平行な成分をもち、この成分からなる電界によって液晶の光透過率を制御するようになっている。 This field has a component parallel to the transparent substrate 1 side, and controls the light transmissivity of the liquid crystal by an electric field consisting of the components. この実施例で説明する液晶表示装置がいわゆる横電界方式と称される所以となっている。 The liquid crystal display device described in this embodiment has a reason, so called horizontal electric field type.
なお、対向電圧信号線4には表示部外から基準信号が供給されるようになっている。 Incidentally, the reference signal from the display outsiders are supplied to the counter voltage signal line 4.
そして、このようにゲート線2及び対向電圧信号線4が形成された透明基板1面には、該ゲート線2及び対向電圧信号線4をも含んで例えばシリコン窒化膜からなる絶縁膜INSが形成されている。 Then, the thus transparent substrate 1 side of the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 is formed, an insulating film INS consisting also comprise a silicon nitride film to the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 is formed It is.
この絶縁膜INSは、後述の薄膜トランジスタTFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての機能、後述の映像信号線(ドレイン線)3の形成領域においてはゲート線2及び対向電圧信号線4に対する層間絶縁膜としての機能、後述の容量素子Caddの形成領域においてはその誘電体膜としての機能を有するようになっている。 The insulating film INS, an interlayer insulating with respect to the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 is in the formation region of the function, described later of the video signal lines (drain lines) 3 as a gate insulating film in the forming region of the thin film transistor TFT described later functions as a membrane, in the formation region of the capacitor Cadd later has to have a function as the dielectric film.
このような絶縁膜INSにおいて、ゲート線2と重畳して薄膜トランジスタTFTが形成され、その部分には例えばアモルファスSiからなる半導体層6が形成されている。 In such an insulating film INS, it is formed a thin film transistor TFT so as to overlap with the gate line 2, the semiconductor layer 6 on its part consisting of, for example, amorphous Si is formed.
そして、半導体層6の上面にドレイン電極3A及びソース電極5Aが形成されることによって、前記ゲート線2の一部をゲート電極とするいわゆる逆スタガ構造の薄膜トランジスタTFTが構成される。 And by the drain electrode 3A and the source electrode 5A is formed on the upper surface of the semiconductor layer 6, the thin film transistor TFT of the so-called inverted staggered structure in which a portion of the gate line 2 and the gate electrode is formed.
ここで、半導体層6上のドレイン電極3A及びソース電極5Aは、例えばドレイン線3の形成時に、画素電極5とともに同時に形成されるようになっている。 Here, the drain electrode 3A and the source electrode 5A on the semiconductor layer 6, for example, at the time of forming the drain lines 3, and is formed simultaneously with the pixel electrode 5. すなわち、図中y方向に延在するドレイン線3が形成され、このドレイン線3に一体的に形成されるドレイン電極3Aが半導体層6上に形成されている。 That, is formed a drain line 3 extending in the y direction in the drawing, the drain electrode 3A which is integrally formed on the drain line 3 is formed on the semiconductor layer 6.
ここで、ドレイン線3は、図中に示すように、例えば画素領域の左側に形成され、実質的に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるようになっている。 Here, the drain line 3, as shown in the figure, for example, is formed on the left side of the pixel region, and substantially so as large as possible a region functioning as a pixel.
また、ソース電極5Aは、ドレイン線3と同時に形成され、この際、画素電極5と一体的に形成されるようになっている。 The source electrode 5A, the drain lines 3 at the same time is formed, this time, and is integrally formed with the pixel electrode 5.
この画素電極5は、前述した対向電極4Aの間を走行するようにして図中y方向に延在するようにして形成されている。 The pixel electrode 5 is formed so as to extend in the drawing direction y so as to travel between the counter electrodes 4A described above. 換言すれば、画素電極5の両脇にほぼ等間隔に対向電極4Aが配置されるようになっており、該画素電極5と対向電極4Aとの間に電界を発生せしめるようになっている。 In other words, being adapted to the counter electrode 4A are arranged at substantially equal intervals on both sides of the pixel electrode 5, so that allowed to generate an electric field between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A.
そして、前記画素電極5において、その対向電圧信号線4に重畳する部分はその面積を大ならしめるように形成され、該対向電圧信号線4との間に容量素子Caddが形成されている。 Then, in the pixel electrode 5, the portion overlapping the counter voltage signal line 4 is formed so as to occupy become large and its area, capacitor Cadd is formed between the counter voltage signal line 4. この場合の誘電体膜は前述した絶縁膜INSとなっている。 The dielectric film in this case has a insulating film INS described above.
この容量素子Caddは例えば画素電極5に供給される映像信号を比較的長く蓄積させるために形成されるようになっている。 The capacitor Cadd is configured to be formed in order to relatively long accumulating the video signal supplied to the pixel electrode 5, for example. すなわち、ゲート線2から走査信号が供給されることによって薄膜トランジスタTFTがオンし、ドレイン線3からの映像信号がこの薄膜トランジスタTFTを介して画素電極5に供給される。 That is, the thin film transistor TFT is turned on by a scanning signal from the gate line 2 is supplied, the video signal from the drain line 3 is supplied to the pixel electrode 5 through the thin film transistor TFT. その後、薄膜トランジスタTFTがオフした場合でも、画素電極5に供給された映像信号は該容量素子Caddによって蓄積されるようになっている。 Thereafter, even when the thin film transistor TFT is turned off, the video signal supplied to the pixel electrode 5 is configured to be stored by the capacitive element Cadd.
そして、このように形成された透明基板1の表面の全域には、例えばシリコン窒化膜からなる保護膜PASが形成され、例えば薄膜トランジスタTFTの液晶への直接の接触を回避できるようになっている。 And thus the entire region of the formed transparent substrate 1 of the surface is, for example, silicon nitride consists film protective film PAS is formed, for example, to be able to avoid direct contact with the liquid crystal of the thin-film transistor TFT.
さらに、この保護膜PASの上面には、液晶の初期配向方向を決定づける配向膜7が形成されている。 Further, on the upper surface of the protective film PAS, the orientation film 7 that determine the initial alignment direction of the liquid crystal is formed.
このようにして表面加工がなされた透明基板はいわゆるTFT基板1Aと称され、その配向膜7が形成された面に液晶を介在させていわゆるフィルタ基板1Bと称される透明基板を対向配置させることによって液晶表示パネルが完成されることになる。 Thus the transparent substrate surface processing is made in referred to as a so-called TFT substrate 1A, it is disposed opposite the transparent substrate, it referred to as so-called filter substrate 1B by interposing a liquid crystal on a surface the alignment film 7 is formed so that the liquid crystal display panel is completed by.
フィルタ基板1Bには、その液晶側の面に画素領域の輪郭を画するブラックマトリックス(その外輪郭を図1に示している)BM、このブラックマトリックスBMの開口部(画素領域の周辺を除く中央部に相当する)に形成されたカラーフィルタFIL、及び該ブラックマトリックスBM及びカラーフィルタFILをも被って平坦膜8が形成されている。 The filter substrate 1B, the center excluding the black matrix demarcating the liquid-crystal-side surface of the contour of the pixel area (which shows the outer contour in FIG. 1) BM, the periphery of the opening (pixel region of the black matrix BM the color filter FIL formed corresponding), and the flat film 8 also covers the black matrix BM and color filters FIL are formed in parts.
そして、この平坦膜8の上面には前記容量素子Caddが形成された領域のほぼ中央部に重畳されるようにしてスペーサ10が形成されている。 Then, the spacer 10 so as to be superimposed on the substantially central portion of a region where the capacitor Cadd is formed is formed on the upper surface of the flat film 8.
このスペーサ10は、平坦膜8の上面に塗布された例えば合成樹脂膜をフォトリソグラフィ技術(必要に応じて選択エッチングもなされる)によって形成された突起体からなり、液晶を介して配置されるTFT基板1A及びフィルタ基板1Bの間のギャップを該突起体の高さによって制御するようになっている。 The spacer 10 is made of a protrusion formed by coated on the upper surface of the flat film 8 was, for example, a synthetic resin film photolithography (also made selective etching if necessary), TFT disposed through the liquid crystal so as to control the gap between the substrate 1A and the filter substrate 1B by the height of the protruding Okoshitai.
このスペーサ10を前記容量素子Caddに重畳するように配置させたのは、その下層に位置づけられる対向電圧信号線4の線幅が他の信号線よりも比較的太く形成され、後述の配向膜11の該スペーサ10に起因する配向乱れの部分を該対向電圧信号線4によって遮光することができるからである。 The spacers 10 were then positioned to overlap the capacitor Cadd is relatively formed thicker line width of the counter voltage signal line 4 positioned thereunder is than the other signal line, the orientation of the later film 11 the portion of the alignment disorder due to the spacer 10 of is because it is possible to shield the counter voltage signal line 4.
また、他の理由としては、スペーサ10がブラックマトリックスBMによって囲まれた画素領域のほぼ中央に位置づけられ、該画素における液晶の層厚(各基板のギャップ)の制御がし易いからである。 As another reason, the spacer 10 is positioned substantially at the center of the pixel region surrounded by the black matrix BM, because easily control the liquid crystal layer thickness (gap of the substrates) in the pixel.
そして、このスペーサ10が形成されたフィルタ基板1Bには、該スペーサ10をも被って配向膜11が形成されている。 Then, this filter substrate 1B which spacer 10 is formed, the alignment film 11 also covers the spacers 10 are formed.
ここで、この配向膜11は、例えば合成樹脂からなる膜の表面にラビング処理を施すことによって形成されるが、このラビンング処理の際に該スペーサの周辺において配向乱れが発生することが否めない。 Here, the alignment film 11 is, for example, is formed by applying a rubbing treatment on the surface of the film made of synthetic resin, it is undeniable that the alignment disorder occurs in the vicinity of the spacer during the Rabin'ngu process. しかし、この配向乱れは、上述したように、遮光機能を有する前記対向電圧信号線4によって充分な遮光が図れるという効果を奏する。 However, the alignment disturbance, as described above, an effect that attained sufficient shielding by the counter voltage signal line 4 having a light-shielding function.
なお、上述した実施例では、スペーサ10が容量素子Caddの形成された部分に重畳されて形成されたものであるが、必ずしもこの構成に限定されないことはいうまでもない。 In the embodiment described above, the spacer 10 but which has been formed by superimposing a portion formed of the capacitor Cadd, it is needless to say that is not limited to this structure.
容量素子Caddが比較的小さく形成され、この領域を回避して対向電圧信号線4に重畳させて形成する場合もあるからである。 A relatively small form the capacitor Cadd, because there is a case to form superimposed on the counter voltage signal line 4 to avoid this area.
また、この場合において、対向電圧信号線4に限定されることはなく、例えば他の信号線であって、画素領域を横切って形成される信号線にスペーサを重畳させるようにしてもよいことはもちろんである。 Further, in this case, is not limited to the counter voltage signal line 4, for example, an other signal lines, it may be to superimpose a spacer lines formed across the pixel region as a matter of course.
さらに、上述した実施例では、スペーサ10をフィルタ基板1Bの側に形成したものであるが、他の実施例としてTFT基板1Aの側に形成してもよいことはいうまでもない。 Furthermore, in the embodiment described above, but is obtained by forming the spacer 10 on the side of the filter substrate 1B, it may of course be formed on the side of the TFT substrate 1A as another embodiment. この場合、対向電圧信号線4に対してスペーサを位置ずれなく形成できるという効果を奏するようになる。 In this case, so there is an effect that it is formed without positional displacement of the spacer with respect to the counter voltage signal line 4.
【0006】 [0006]
〔実施例2〕 Example 2
ここで、上述した液晶表示装置における配向膜7、11は、その材料として合成樹脂膜を用い、その液晶を接触する面にラビング処理を施すことは上述した通りである。 Here, alignment films 7 and 11 in the liquid crystal display device described above, the synthetic resin film is used as the material, it is as described above is subjected to a rubbing treatment to the surface contacting the liquid crystal.
この場合のラビング処理の方向は、液晶の初期配向方向に一致づけて行われ、TFT基板1Aの側の配向膜7及びフィルタ基板1B側の配向膜11は、それぞれ同方向のラビング処理がなされている。 The rubbing direction in this case is done by correlating matches the initial orientation direction of the liquid crystal, the alignment film 7 and the alignment layer 11 of the filter substrate 1B side of the side of the TFT substrate 1A is rubbed in the same direction it is made, respectively there. 換言すれば、各配向膜7、11の初期配向方向は平行となっている。 In other words, the initial alignment direction of the alignment films 7 and 11 are parallel.
この結果、前記スペーサ10が形成されている部分において、該スペーサ10の頂面に形成された配向膜11とフィルタ基板1Aの側に形成された配向膜7とが互いに接触し、その接触部における固着に要する力が増大していることが確認されている。 As a result, in the portion wherein the spacer 10 is formed, the alignment film 11 and an alignment film 7 formed on the side of the filter substrate 1A formed on the top surface of the spacer 10 are in contact with each other, at the contact portion it has been confirmed that the force required for fixing is increasing.
ラビング処理前の合成樹脂膜は、例えば図2に示すように、その材料の主鎖はランダム状態となっているが、上述した方向にラビング処理をすることによって、図3に示すように、一方向に揃い、各配向膜7、11どおしが分子間力によって固着されやすくなるからである。 Synthetic resin film before rubbing treatment, for example as shown in FIG. 2, although the main chain of the material is in a random state by a rubbing treatment in the direction described above, as shown in FIG. 3, one aligned in a direction, because the alignment films 7 and 11 Dooshi is likely to be fixed by an intermolecular force.
そして、実験の結果、配向膜の分子構造にベンゼン環を備えている場合には、上述した固着力がさらに強力になることが確かめられている。 The result of the experiment, when provided with a benzene ring in the molecular structure of the alignment layer is fixed force described above it has been confirmed that becomes more powerful.
また、配向膜の材料として側鎖よりも主鎖を多くもつものを選択することによって上述した固着力がさらに強力になることも確かめられている。 Moreover, adhesive force as described above is also confirmed that become more powerful by selecting those with a lot of main chain of the side chain as a material of the alignment film.
このような条件を備える配向膜の材料としては次に示したようなものが挙げられる。 Include those as shown below as the material of the alignment film comprising such a condition.
すなわち、2、2−ビス[4−(p−アミノフェノキン)フェニルプロパン]とピロメリット酸二水物からなるポリイミド配向膜が選択される。 That is, 2,2-bis [4-(p-aminophenoxy down) phenylpropane] to consist of pyromellitic acid dihydrate polyimide alignment film is selected. その膜厚は50nmである。 The film thickness is 50nm.
この他の配向膜材料としては、テトラカルボン酸二水物と共重合させるアミンとして、フェニレンジアミン、ジフェニレンジアミン、トリフェニレンジアミン、式【0007】 As other alignment film material, as the amine to be copolymerized with tetracarboxylic acid anhydride, phenylene diamine, di-phenylenediamine, tri-phenylenediamine of the formula [0007]
【化1】 [Formula 1]
【0008】 [0008]
(式1中、Xは直接結合、−O−,−CH2 −,−SO2 −,−CO−,−CO2 −,−CONH−を示す)で表される化合物、もしくは、例えば、下記一般式【0009】 (In the formula 1, X is a direct bond, -O -, - CH2 -, - SO2 -, - CO -, - CO2 -, - CONH- shown) a compound represented by or, for example, the following general formula [ 0009]
【化2】 ## STR2 ##
【0010】 [0010]
(式1中、Xは直接結合)で表される構造を持つ化合物、例えば、ビス(アミノフェノキン)ジフェニル化合物等が用いられる。 (In the formula 1, X is a direct bond) compound having a structure represented by, for example, bis (aminophenoxy down) diphenyl compounds and the like.
具体的には、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノターフェニル、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルベンゾエート、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、2,2'−(4,4'−ジアミノジフェニル)プロパン、4,4'−ビス(p−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4'−ビス(m−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4'−ビス(p−アミノフェノキシ)ジフェニルエーテル、4,4'−ビス(P−アミノフェノキシ)ジフェニルケトン、4,4'−ビス(P−アミノフェノキシ)ジフェニルメタン、2,2'−[4,4'−ビス(p−アミノフェノキシ)ジフェニル]プロパンまた、式【0011】 Specifically, p- phenylenediamine, m- phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl terphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl benzoate , 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2 '- (4,4'-diaminodiphenyl) propane, 4,4'-bis (p- aminophenoxy) diphenyl sulfone, 4,4'-bis (m-amino phenoxy) diphenyl sulfone, 4,4'-bis (p- aminophenoxy) diphenyl ether, 4,4'-bis (P- aminophenoxy) diphenyl ketone, 4,4'-bis (P- aminophenoxy) diphenylmethane, 2, 2 '- [4,4'-bis (p- aminophenoxy) diphenyl] propane addition, the formula [0011]
【化3】 [Formula 3]
【0012】 [0012]
で表される4,4'−ジアミノ−3−カルバモイルジフェニルエーテル、また下記式のジアミノシロキサン化合物がある。 In represented by 4,4'-diamino-3-carbamoyl diphenyl ether, also there is a diamino siloxane compounds of the following formula.
【0013】 [0013]
【化4】 [Of 4]
【0014】 [0014]
また、上記と共重合されることが可能なハロゲン基を含まないジアミンとしては、例えば、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル−3−カルボンアミド、3−3'ジアミノジフェニルスルホン、3−3'ジメチル−4−4'ジアミノジフェニルエーテル、1,6−ジアミノヘキサン、2−2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ジフェニル]プロパン、2−2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、2−2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2−2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、2−2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ビフェニル、2−2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]シクロヘキサン、2−2'−ビス[4−(4−アミノフ As the diamine not containing halogen groups which can be the co-polymerization, for example, 4,4'-diaminodiphenyl ether-3- carbonamide, 3-3 'diaminodiphenyl sulfone, 3-3' dimethyl - 4-4 'diaminodiphenyl ether, 1,6-diaminohexane, 2-2'-bis [4- (4-aminophenoxy) diphenyl] propane, 2-2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2-2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, 2,2'-bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] biphenyl, 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] cyclohexane, 2-2'-bis [4- (4-Aminofu ノキシ)フェニル]メチルシクロヘキサン、ビス[4−(4−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸]プロパン、ビス[4−(4−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸]シクロヘキサン、ビス[4−(4−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸]メチルシクロヘキサン、ビス[4−(4−アミノメチルベンゾイルオキシ)安息香酸]プロパン、ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)プロパン、ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,4,5−トリメチルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5,6−トリメチルフェニル]メタン、ビ Phenoxy) phenyl] cyclohexane, bis [4- (4-aminobenzoyl) benzoic acid] propane, bis [4- (4-aminobenzoyl) benzoic acid], bis [4- (4-amino-benzoyloxy) benzoate] methyl cyclohexane, bis [4- (4-aminomethyl-benzoyloxy) benzoic acid] propane, bis (4-benzoyloxy) propane, bis (4-benzoyloxy) methane, bis [2- (4- aminophenoxy) phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3,4,5-trimethylphenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3,5,6-trimethylphenyl] methane, bi ス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジエチルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−n−プロピルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−イソプロピルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチル−3−イソプロピルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−n−ブチルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−イソブチルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3−メチル−5−t−ブチルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−シクロヘキシルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3−メチル−5−シクロヘキシルフェニル]メタン、ビス The [2- (4-aminophenoxy) -3,5-diethyl-phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -5-n-propyl phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) 5-isopropyl-phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -5-methyl-3-isopropyl-phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -5-n-butyl-phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -5-isobutyl-phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3-methyl -5-t-butylphenyl] methane, bis [2- (4-amino phenoxy) -5-cyclohexyl phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3-methyl-5-phenyl] methane, bis 2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチル−3−シクロヘキシルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−フェニルフェニル]メタン、ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3−メチル−5−フェニルフェニル]メタン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチルフェニル]メタン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−ジメチルフェニル]エタン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチルフェニル]プロパン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]プロパン、 2- (4-aminophenoxy) -5-methyl-3-cyclohexyl phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -5-phenyl-phenyl] methane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3 - methyl-5-phenyl-phenyl] methane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -5-methylphenyl] methane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -5-dimethyl phenyl] ethane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -5-methylphenyl] propane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] propane, 2,2-bis [2- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [2- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] propane, ,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチルフェニル]ブタン、2,2−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]ブタン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチルフェニル]−3−メチルプロパン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]シクロヘキサン、1,1−ビス[2−(4−アミノフェノキシ)−5−メチルフェニル]−3−3−5−トリメチルシクロヘキサン等のジアミン、更に、ジアミノシロキサンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 , 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -5-methylphenyl] butane, 2,2-bis [2- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] butane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -5-methylphenyl] -3-methyl-propane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] cyclohexane, 1,1-bis [2- (4-aminophenoxy) -5-methylphenyl] -3-3-5- diamines such trimethylcyclohexane, further, although such diamino siloxane, but are not limited thereto.
【0015】 [0015]
一方、長鎖アルキレン基を有する酸成分の化合物及びその他共重合可能な化合物は、例えば、オクチルコハク酸二無水物、ドデシルコハク酸二無水物、オクチルマロン酸二無水物、デカメチレンビストリメリテート酸二無水物、デカメチレンビストリメリテート二無水物、2,2−ビス[4−(3、4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]オクチルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス[4−(3、4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フェニル]トリデカンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス[4−(3、4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]トリデカンテトラカルボン酸二無水物、ステアリン酸、ステアリン酸クロライド、ピロメリット酸二無水物、メチルピロメリット酸二無水物、3、3'、4、4'−ビフェニルテト On the other hand, compounds and other copolymerizable compounds of acid components having long-chain alkylene group, for example, octyl succinic dianhydride, dodecyl succinic dianhydride, octyl malonic dianhydride, decamethylene bistrimellitate acid dianhydride, decamethylene bistrimellitate dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] octyl dianhydride, 2,2-bis [4- (3 , 4-dicarboxylate benzoyloxy) phenyl] tridecane-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] tridecane-tetracarboxylic dianhydride, stearic acid, stearic acid chloride, pyromellitic dianhydride, methyl pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyl Tet カルボン酸二無水物、ジメチレントリメリテート酸二無水物、3、3'、4、4'−ビスシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3、3'、4、4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3、3'、4、4'−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、3、3'、4、4'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3、3'、4、4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2、3、6、7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3、3'、4、4'−ジフェニルプロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス[4−(3、4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス[4−(3、4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸 Dianhydride, dimethylene trimellitate dianhydride, 3,3 ', 4,4'-bis-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride anhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylmethane tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyl-propane dianhydride, 2,2-bis [4 - (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane-tetracarboxylic acid 二無水物、2,2−ビス[4−(3、4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロパンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1、2、3、4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ(2、2、2)オクタ−7−エン−2、3、5、6−テトラカルボン酸二無水物、1、2、3、4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1、2、3、4−ブタンテトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。 Dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-carboxymethyl benzoyloxy) phenyl] propanoic dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, bicyclo (2,2,2) oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride anhydrides, such as 1,2,3,4-butane tetracarboxylic acid dianhydride and the like.
【0016】 [0016]
〔実施例3〕 Example 3
図4は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す図で、図1と対応した図となっている。 Figure 4 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, and corresponds to FIG.
図1と異なる構成は、スペーサ10が形成されたフィルタ基板側において、該スペーサ10の形成領域の下層にブラックマトリックスBMと同一の材料からなる遮光膜15が形成され、この遮光膜15は該スペーサ10を中心にして該スペーサ10よりも広い範囲にわたって形成されている。 1 in that structure, the filter substrate of the spacer 10 is formed, the light shielding film 15 made of the same material as the black matrix BM in the lower layer of the formation region of the spacer 10 is formed, the light-shielding film 15 is the spacer 10 around the is formed over a range wider than the spacer 10.
図1に示した実施例では、スペーサ10に起因する配向膜11の配向乱れは対向電圧信号線4によって遮光できることを説明したが、該配向乱れはどのくらいの範囲にわたって及ぶかは確定できない場合もあることから、画素の開口率に影響がない範囲でスペーサ10の周囲の遮光領域を拡大させ、その効果を確実に図らんとする趣旨である。 In the embodiment shown in FIG. 1, alignment disorder of the alignment film 11 due to the spacer 10 it has been described that can be shielded by the counter voltage signal line 4, whether the orientation disturbance extends over how much range may not be determined since, to expand the light-blocking region around the spacer 10 in a range does not affect the aperture ratio of the pixel, which is intended to and does achieved its effect reliably.
また、上述した構成とすることによって、該遮光膜15はブラックマトリックスBMの形成時に同時に形成できることから、製造工程の増大をもたらさないという効果を奏する。 Further, by the configuration described above, the light shielding film 15 because it can simultaneously formed during formation of the black matrix BM, there is an effect that does not result in an increase of the manufacturing process.
しかし、必ずしも該遮光膜15をブラックマトリックスBMの材料とする必要のないことはいうまでもない。 However, necessarily no need to light shielding film 15 and the material of the black matrix BM of course.
【0017】 [0017]
〔実施例4〕 Example 4
図5は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す図で、図1に対応した図となっている。 Figure 5 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG.
図1と異なる構成は、前記スペーサ10が、ゲート線2とドレイン線3との交差部に位置づけられ、しかも、該交差部を被うようにして設けられている。 1 in that configuration, the spacer 10 is positioned at the intersection of the gate line 2 and drain line 3, moreover, are provided so as to cover the the crossing portion.
このようにしてスペーサ10をゲート線2とドレイン線3との交差部に位置づけるのは、その部分における液晶を排除し、該液晶を電解質とした電気化学反応によるドレイン線3の金属成分溶出を防止せんがためである。 Position the spacer 10 in this manner at the intersection between the gate line 2 and drain line 3, eliminates the liquid crystal in that portion, preventing the metal components eluted in the drain line 3 by electrochemical reaction of the liquid crystal was the electrolyte is Sengatame.
すなわち、図6(a)に示すように、絶縁膜INSを介して互いに交差するゲート線2とドレイン線3との交差部の図中b−b線における断面図である同図(b)に示すように、その上面に保護膜PASを形成する場合において、該保護膜PASの形成の際における成長が各信号線の辺の交差する部分(角の部分)において干渉しあい、充分な保護膜PASの形成ができず、この部分に液晶が侵入し前記絶縁膜INS上のドレイン線3と接触してしまうことが往々にしてある。 That is, as shown in FIG. 6 (a), FIG. (B) is a sectional view in the figure line b-b of intersection between the gate line 2 and the drain lines 3 intersect with each other through an insulating film INS as shown, in the case of forming a protective film PAS on its upper surface, growth in the formation of the protective film PAS is interfere in the portion (the corners) intersecting edges of each signal line, a sufficient protective film PAS can not be formed of, you are then often to come into contact with the drain wire 3 on the liquid crystal may penetrate the insulating film INS in this portion.
このようになった場合、該ドレイン線3はいわゆる電食によって金属成分溶出を免れ得なくなる。 When this occurs, the drain line 3 will not give a real metal components eluted by the so-called galvanic corrosion.
このことから、上記実施例では、ゲート線2とドレイン線3との交差部を被うようにしてスペーサ10を設け、液晶の侵入を回避したものである。 Therefore, in the above embodiment, the spacer 10 is provided so as to cover the intersection of the gate line 2 and drain line 3 is obtained by avoiding the liquid crystal intrusion.
しかし、上述した理由から、必ずしも該交差部を完全に被う必要はなく、該ゲート線2とドレイン線3の少なくともそれぞれの辺の交差部を被うようにしてスペーサを設けるようにしてもよいことはいうまでもない。 However, for the reasons described above, it is not always necessary to cover the the crossing portion completely, may be provided a spacer so as to cover the intersection of at least each side of the gate line 2 and drain line 3 it goes without saying.
【0018】 [0018]
〔実施例5〕 [Example 5]
図7は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す図で、図5に対応した図となっている。 Figure 7 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG.
図5と異なる構成は、前記スペーサ10が、薄膜トランジスタTFTの形成領域に位置づけられ、しかも、この薄膜トランジスタTFTを被うようにして設けられている。 Figure 5 differs configuration, the spacer 10 is positioned in the forming region of the thin-film transistor TFT, moreover, it is provided so as to cover the thin film transistor TFT.
この場合、スペーサ10は、少なくとも薄膜トランジスタTFTのドレイン電極3Aあるいはソース電極5Aの角の部分を被う目的で該薄膜トランジスタTFTを被うようにしている。 In this case, the spacer 10 is so as to cover the thin film transistor TFT in order to cover the part of the corners of at least the thin film transistor drain electrode 3A or the source electrode 5A of the TFT.
すなわち、図8(a)の薄膜トランジスタTFTの平面図の例えばb−b線における断面図である同図(b)に示すように、ドレイン電極3Aの上面に保護膜PASが形成される場合において、該保護膜PASの形成の際における成長がドレイン電極3Aの角の部分において干渉しあい、充分な保護膜PASの形成ができず、この部分に液晶が侵入しドレイン電極3Aと接触してしまうことが往々にしてある。 That is, as shown in FIG. 3 (b) is a sectional view of example line b-b of the top view of the thin film transistor TFT of FIG. 8 (a), when the protective film PAS on the upper surface of the drain electrode 3A is formed, interfere in the corners of the growth drain electrode 3A at the time of formation of the protective film PAS, can not form a sufficient protective film PAS, that liquid in this portion comes into contact with the invading drain electrode 3A are you often.
このようになった場合、該ドレイン電極3Aもいわゆる電食によって金属成分溶出を免れ得なくなる。 When this occurs, also the drain electrode 3A not give a real metal components eluted by the so-called galvanic corrosion.
ドレイン電極3Aあるいはソース電極5Aの電食は薄膜トランジスタTFTのチャネル幅を変更させることから、これを回避できることは有効となる。 Since galvanic corrosion of the drain electrode 3A or the source electrode 5A is for changing the channel width of the thin-film transistor TFT, it is effective to be able to avoid this.
なお、薄膜トランジスタTFTを構成する半導体層6も導電層の一つとして考えた場合、ゲート線2との関係で上述した実施例4に示した不都合が生じることもあることから、薄膜トランジスタTFTの形成領域を被うようにしてスペーサ10を設けることは極めて効果的となる。 In the case where the semiconductor layer 6 constituting the thin film transistor TFT is also considered as one of the conductive layers, since also sometimes to occur a disadvantage that shown in Example 4 described above in relation to the gate line 2, the formation of the thin film transistor TFT region providing the spacer 10 so as to cover the is extremely effective.
【0019】 [0019]
〔実施例6〕 Example 6
図9は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す図で、図5に対応した図となっている。 Figure 9 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG.
図5と異なる構成は、スペーサ10が対向電圧信号線4とドレイン線3との交差部に位置づけられ、しかも、該交差部を被うようにして形成されている。 Figure 5 a different structure, the spacer 10 is positioned at the intersection of the counter voltage signal line 4 and the drain lines 3, moreover, are formed so as to cover the crossing portion.
このように形成された液晶表示装置は、実施例4の場合と同様の理由で、ドレイン線3の電食を防止できるようになる。 The liquid crystal display device formed as described above, for the same reason as in Example 4, it becomes possible to prevent the electrolytic corrosion of the drain lines 3. そして、画素のy方向におけるほぼ中央にスペーサが位置づけられていることから、画素における液晶の層厚(各基板のギャップ)を制御し易いという効果を奏する。 Then, from the fact that the spacer is positioned substantially at the center in the y direction of the pixel, an effect of easily controlling the liquid crystal layer thickness (gap of the substrates) in the pixel.
【0020】 [0020]
〔実施例7〕 [Example 7]
図10は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す図で、図5に対応した図となっている。 Figure 10 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG.
図5と異なる構成は、スペーサ10が容量素子Caddを構成する一方の電極(対向電極5を延在させた電極)を被うようにして形成され、これにより、該スペーサ10は比較的面積の大きなものとして形成されるようになっている。 5 and different configurations may be formed so as to cover the one electrode spacer 10 in the capacitor Cadd (electrodes extended the counter electrode 5), thereby, the spacer 10 is of relatively area and it is formed as large.
図9に示したと同様に、該電極の液晶による電食を回避できる構成となっている。 Similar to that shown in FIG. 9, has a configuration that can avoid the liquid crystal due to electric corrosion of the electrodes.
この場合、該スペーサ10は画素の開口率を全く損なうことなく面積を大きくでき、スペーサ10としての信頼性を向上させることができるようになる。 In this case, the spacer 10 can increase the area without sacrificing the aperture ratio of the pixel at all, it is possible to improve the reliability of the spacer 10.
また、画素のy方向におけるほぼ中央にスペーサ10が位置づけられ、該画素における液晶の層厚(各透明基板のギャップ)を制御し易いという効果を奏する。 Further, substantially central spacer 10 is positioned in the y direction of the pixel, an effect of easily controlling the liquid crystal layer thickness (gap of each transparent substrate) in the pixel.
【0021】 [0021]
〔実施例8〕 [Example 8]
図11は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図である。 Figure 11 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
同図(a)は、いわゆる縦電界方式と称される液晶表示装置の各画素のうちの一つの画素を示す平面図、同図(b)は同図(a)のb−b線における断面図である。 FIG (a) is a plan view showing one pixel of each pixel of the called liquid crystal display device with a so-called vertical electric field type, cross section taken along line b-b in FIG. (B) the figure (a) it is a diagram.
各画素はマトリックス状に配置されて表示部を構成している。 Each pixel constitutes a display unit are arranged in a matrix. このため、同図に示す画素の構成はその左右及び上下に隣接する画素の構成と同様となっている。 Therefore, the structure of the pixel shown in the figure is the same as that of the structure of the pixel adjacent to the right and left, and up and down.
この縦電界方式の液晶表示装置は、それに形成されるゲート線2、ドレイン線3、薄膜トランジスタTFTの構成は上述した横電界方式の液晶表示装置のそれとほぼ同様の構成となっている。 The liquid crystal display device of the vertical electric field type, the gate line 2 formed thereto, the drain wire 3, the structure of the thin film transistor TFT has substantially the same structure as that of the liquid crystal display device of IPS mode described above.
異なる構成は、薄膜トランジスタTFTのソース電極に接続される画素電極5は例えばITO(Indium-Tin-Oxide)からなる透明電極から構成され、実質的な画素領域となる部分(少なくともブラックマトリックスBMで囲まれる部分)の全域にわたって形成されている。 Different configurations, the pixel electrode 5 connected to the source electrode of the thin film transistor TFT is composed of a transparent electrode made of, for example, ITO (Indium-Tin-Oxide), surrounded by a substantial pixel area portion (at least the black matrix BM is formed over the entire area of ​​the portion).
【0022】 [0022]
一方、この画素電極5に対向する対向電極4Aは、フィルタ基板1Bの側において各画素に共通な電極として(このため共通電極と称される場合がある)例えばITOからなる透明電極から構成されている。 On the other hand, the counter electrode 4A facing the pixel electrode 5, a common electrode in each pixel on the side of the filter substrate 1B (sometimes Thus referred to the common electrode), for example, is composed of a transparent electrode consisting of ITO there.
液晶の光透過率を制御するのに、該液晶を間にして形成される各電極間5、4Aの基板にほぼ垂直方向に発生する電界によって行うことから縦電界方式と称される所以である。 To control the light transmittance of the liquid crystal, it is called reason a vertical electric field mode from doing by an electric field generated in a direction substantially perpendicular to the substrate of each electrode between 5,4A formed by between the liquid crystal .
そして、このような液晶表示装置において、画素電極5のほぼ中央にフィルタ基板1Bの側に形成されたスペーサ10が配置されている。 Then, in such a liquid crystal display device, a spacer 10 formed on the side of the filter substrate 1B substantially at the center of the pixel electrode 5 is disposed.
このスペーサ10は、同図に示すように、平坦膜8の表面に形成され、この平坦膜8上に塗布された合成樹脂材をフォトリソグラフィ技術(必要に応じて選択エッチングも施す)によって一部残存させた矩形をなし、その各側面はテーパを有して末広がり状となっている。 The spacer 10, as shown in the figure, is formed on the surface of the flat film 8, in part by the flat film 8 coated synthetic resin material photolithography on (optionally subjected also selective etching) None were allowed to remain square, each side has a flared shape having a taper.
そして、前記平坦膜8の表面に前記スペーサ10をも被って、対向電極4A及び配向膜11が順次積層された構成となっている。 Then, the also covers the spacers 10 on the surface of the flat film 8, the counter electrode 4A and the alignment film 11 is in the order stacked configuration.
このことから、スペーサ10の側面に形成された配向膜11は、TFT基板1Aの側に形成された配向膜7に対して角度を有した状態で形成される。 Therefore, the alignment film 11 formed on the side surface of the spacer 10 is formed in a state of having an angle with respect to the alignment film 7 formed on the side of the TFT substrate 1A.
換言すれば、画素領域において、その大部分が基板に垂直な方向に電界が発生するのに対して、該スペーサ10の近傍には、同図11(b)に示すように、該垂直な方向に対して角度を有した電界が発生するようになっている。 In other words, in the pixel region, its whereas most electric field is generated in the direction perpendicular to the substrate, in the vicinity of the spacer 10, as shown in FIG. 11 (b), the said perpendicular direction electric field is adapted to generate with an angle to.
これにより、いわゆるマルチドメイン効果を備えた液晶表示装置を得ることができるようになる。 Thus, it is possible to obtain a liquid crystal display device having a so-called multi-domain effect. すなわち、液晶表示パネルの主視角方向に対して視点を斜めに傾けると輝度の逆転現象を引き起こすという視角依存性による不都合を解消できるようになる。 That is, as Tilting the viewpoint with respect to the main viewing direction of the liquid crystal display panel at an angle can eliminate a disadvantage due to the viewing angle dependence of causing reversals luminance.
そして、このような効果は該スペーサ10を実質的に機能する画素領域(ブラックマトリックスBMで囲まれた領域)内に形成することによって、他の製造工程を増大させることなく達成することができる。 Then, by such an effect of forming on the spacer 10 within the substantially functioning pixel region (region surrounded by the black matrix BM), it can be achieved without increasing the other manufacturing processes.
なお、上述した実施例では、画素に一つのスペーサを配置させたものであるが、これに限定されないことはいうまでもない、例えば同図に対応して描かれた図12に示すように、画素の長手方向に沿って3個配置させるようにしてもよいことはいうまでもない。 Incidentally, as in the embodiment described above, but in which was placed one of the spacers on the pixel, of course, not limited thereto, illustrated in FIG. 12 depicted in correspondence with FIG example, it goes without saying that may be caused to three arranged along the longitudinal direction of the pixel.
なお、液晶としては負の誘電率を用いることによって上述した効果を向上させることができる。 As the liquid crystal can improve the effects described above by using the negative dielectric constant.
【0023】 [0023]
〔実施例9〕 Example 9
図13は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図で、図11と対応した図となっている。 Figure 13 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG. 11.
同図において、図11と異なる構成は、スペーサ10が形成された側の基板と反対の基板側に形成された画素電極5は、該スペーサ10と対向する部分において開口5hが形成されるようになっている。 In the figure, the configuration differs from FIG. 11, the pixel electrode 5 formed on the substrate side opposite to the side of the substrate where the spacer 10 is formed, as openings 5h are formed in the portion facing the said spacer 10 going on.
この画素電極5の開口5hは、該スペーサ10の頂面を中心に位置づけて該頂面よりも大きな面積を有するもので、これによって、例えそれらの間に配向膜11、7が介在されていようとも画素電極5と対向電極4Aとの予期しないショートを未然に防止する構成となっている。 Opening 5h of the pixel electrode 5, those having an area larger than said top surface positioned around the top surface of the spacer 10, whereby, for example the orientation film 11, 7 between them, whether being interposed both has a configuration to prevent unexpected short-circuit between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A in advance.
このことは、要するに画素電極5がスペーサ10と対向する部分を回避するようにして形成されていればよいことを意味し、従って、回避を行う手段として上述した開口に限定されることはなく、例えば切欠き等であってもよいことはいうまでもない。 This short means that the pixel electrode 5 may be formed so as to avoid the portion facing the spacer 10, therefore, is not limited to the above-mentioned opening as a means for performing avoidance, it goes without saying may be, for example, notches or the like.
このような構成は、スペーサ10が複数個配置されていても同様の構成を採用することができる。 Such a configuration can spacer 10 is configured in the same manner be plural arranged.
例えば、図12と対応する図14に示すように、3個の各スペーサに対向する部分の画素電極5にはそれぞれ開口が設けられている。 For example, as shown in FIG. 14 corresponding to FIG. 12, an opening is respectively provided in the pixel electrode 5 of the portion opposed to three of each spacer.
【0024】 [0024]
〔実施例10〕 Example 10
図15は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図である。 Figure 15 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
同図は、いわゆるマルチドメインのさらなる効果を狙った構成となっており、画素領域内に形成されるスペーサ10は、画素領域の長手方向に沿って延在された部分と、短手方向に沿って延在された部分とを備えるパターンとなっている。 This figure has a configuration which aims to further effect of the so-called multi-domain, is a spacer 10 which is formed in the pixel region, and the extended portion along the longitudinal direction of the pixel region, along the transverse direction has a pattern and a the extended portion Te. このように構成されたスペーサは、それが一方向に延在された形状を有することによって、マルチドメインの形成される領域が増加することから、その効果を向上させることができる。 The thus constructed spacer it by having the extended shape in one direction, since the region formed of the multi-domain is increased, thereby improving its effects.
この場合、同図あるいは図16に示すように、x方向及びy方向に2分割する各領域において対称な形状とすることによって、マルチドメインの形成される領域が画素の全体において均一に分布されることから、表示の品質を向上させることができるようになる。 In this case, as shown in FIG. Or FIG 16, by a symmetrical shape in the respective regions divided into two in the x and y directions, area formed of a multi-domain is uniformly distributed in the entire pixel since, it is possible to improve the quality of display.
このような趣旨から、必ずしもx方向及びy方向に2分割する各領域において対称な形状とすることはなく、x方向あるいはy方向のうちいずれかの方向に2分割する各領域において対称な形状とするようにしてもよいことはいうまでもない。 From this purpose, it is not necessarily be a symmetric shape in each region bisected in the x and y directions, and symmetrical shapes in each region bisected in either direction of the x direction or y-direction it goes without saying that be.
そして、上述したそれぞれのスペーサは画素領域のほぼ中心部を通るようにして延在部を設けることによって、画素の液晶の層厚を制御し易くなるという効果を奏する。 Then, each of the spacers described above by providing the extending portion so as to pass through substantially the center of the pixel region, an effect that is easy to control the thickness of the liquid crystal pixel.
【0025】 [0025]
〔実施例11〕 Example 11
図17は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図で、図11と対応した図となっている。 Figure 17 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG. 11.
図11の場合には、いわゆるマルチドメイン効果を採用する構成となっているものであったが、この実施例の場合は、該ドメインを積極的に遮光するようにした構成となっている。 In the case of FIG. 11, but in a thing which has a configuration which employs a so-called multi-domain effects in the case of this embodiment has a configuration so as to shield positively the domain.
すなわち、スペーサ10が形成されているフィルタ基板1Bにおいて、該スペーサ10の底面の中心とほぼ一致づけられ、しかも、該底面よりも大きな面積を有する遮光膜15が形成されている。 That is, the filter substrate 1B which spacer 10 is formed substantially coincides associated with the center of the bottom surface of the spacer 10, moreover, the light shielding film 15 having a larger area than the bottom surface is formed.
そして、この遮光膜15は、ブラックマトリックスBMと同材料からなるとともに、該ブラックマトリックスBMと同時に形成されるようになっている。 Then, the light shielding film 15, it becomes a black matrix BM and the same material, and is formed simultaneously with the black matrix BM.
【0026】 [0026]
さらに、図18は、スペーサの周囲に発生するドメインをTFT基板1Aの側にも設けた遮光膜17によっても遮光せんとし、信頼性を確保した構成となっている。 Further, FIG. 18, a domain that generated around the spacer also shielded St. by the light-shielding film 17 also provided on the side of the TFT substrate 1A, which is that to ensure reliable construction.
TFT基板1Aの側に設けた遮光膜17は、この実施例の場合、金属層から形成され、例えばゲート線2と同材料で同時に形成されるようになっている。 Shielding film 17 provided on the side of the TFT substrate 1A is, in this embodiment, is formed from a metal layer, and is formed at the same time for example the gate line 2 in the same material.
また、この遮光膜17は、この実施例の場合、スペーサ10の側面からの光を遮光するために環状となっているが、必ずしも、このような形状に限定されることはなく、上述した遮光膜15と同様な形状となっていてもよい。 Further, the light shielding film 17, the light shielding case in this embodiment, has a circular to block light from the side surface of the spacer 10, it is not always limited to such a shape, the above-mentioned it may become a same shape as the film 15.
上述した趣旨から、スペーサに起因するドメインの遮光膜は、TFT基板1Aの側にのみ設けてもよいことはいうまでもない。 From the spirit described above, the light-shielding film of domains due to spacers, may of course be provided only on the side of the TFT substrate 1A.
【0027】 [0027]
〔実施例12〕 Example 12
図19は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示した図で、スペーサ10の構成を示した平面図である。 Figure 19 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, is a plan view showing the configuration of the spacer 10.
なお、この実施例は上述した液晶表示装置のスペーサに適用できることはもちろんのこと、他の構成の液晶表示装置のスペーサにも適用できるものである。 In this embodiment as well it can be applied to the spacer of the liquid crystal display device described above, and can be applied to the spacers of the liquid crystal display device having another structure.
同図において、スペーサ10は矩形状をなし、その基板側は大きな面積をもつとともに頂面10において小さな面積を有している。 In the figure, the spacer 10 is a rectangular shape, its substrate side has a smaller area at the top surface 10 with having a large area. すなわち、末広がり状の突起体として構成され、その側面にはテーパを備えている。 That, is configured as a divergent-like projections, and a taper on its side.
そして、このような構成からなるスペーサ10は切欠き10Cを有し、この切欠き10Cは例えば該スペーサ10の頂面10Aから底面にかけて、該頂面10Aの周辺部を除く中央部から一辺にまで及んでいる。 Then, a spacer 10 is notched 10C having such a configuration, the bottom surface toward the top surface 10A of the notch 10C is for example the spacer 10, to the one side from the central portion excluding the peripheral portion of said top surface 10A and extend.
【0028】 [0028]
このようにする理由は以下の通りである。 The reason for this is as follows.
すなわち、スペーサ10は、図20に示すように、その頂面10Aの中央部に凹み10Dが形成される場合がある。 That is, the spacer 10, as shown in FIG. 20, there is a case where 10D dent in the central portion of its top surface 10A is formed. 該スペーサ10の形成の際における硬化収縮が原因する場合もあるし、スペーサの形成する基板側に予め凹みが形成されていることが原因する場合もあるからである。 It is sometimes the cause cure shrinkage at the time of formation of the spacer 10, because in some cases it may cause pre-dent on the substrate side to form the spacer is formed.
このような場合に、該スペーサはそれが形成されていない側の基板に当接して配置される際に該凹み10Dに空気が封止され、液晶封入の際に該空気を抜き難い状態となってしまう。 In such a case, the spacer is sealed air seal the concave seen 10D when placed in contact with the side of the substrate to which it is not formed, a hard state disconnect the air upon the liquid crystal sealing and will.
このことは、液晶封入の後に、振動あるいは衝撃によって、該空気が液晶中に気泡となって残存し該液晶の比抵抗値を変動させることになる。 This means that, after the liquid crystal filling, by vibration or shock, the air is varying the specific resistance of the liquid crystal remains as bubbles in the liquid crystal.
このため、本実施例では、上述のように、該スペーサ10に積極的に切欠き10Cを設け、図20に示すように、その頂面10Aと当接する他の基板側との間に蓄積され易い空気を積極的に抜こうとしたものである。 Therefore, in the present embodiment, as described above, provided actively notch 10C to the spacer 10, as shown in FIG. 20, are accumulated between the other substrate side abutting on the top surface thereof 10A those that tried to overtake aggressively easy air. すなわち、該切欠き10Cは空気抜き手段として機能するとともに、液晶が侵入できる通路として機能することになる。 That is, the notch 10C functions as an air vent means, will function as a passage for the liquid crystal can penetrate.
このため、このような空気抜き手段は、必ずしも上述した構成からなる切欠き10Cである必要はなく、例えばスペーサ10の頂面10Aに形成される溝あるいは凹みであってもよく、また、それらは該頂面10Aを横断するようにしてもよい。 Therefore, such air vent means are not necessarily a cutout 10C having the configuration described above, may be for example a groove or a recess is formed on the top surface 10A of the spacer 10, and they are the the top surface 10A may be traversed.
また、スペーサ10の形状も限定されることはなく、円形状あるいは他の形状であってもよいことはいうまでもない。 The shape of the spacer 10 may not be limited, it is needless to say may be circular or other shapes.
【0029】 [0029]
〔実施例13〕 Example 13
図21は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図で、上述した実施例のように、スペーサ10が圧接される基板との間の空気を抜くことを目的とするものである。 Figure 21 is a constitutional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, as in the aforementioned embodiment, in which the spacer 10 is intended to remove air between the substrate to be pressed is there.
本実施例の場合は、スペーサ10に対向する基板側に工夫を施した構成となっている。 The case of the present embodiment has a configuration in which devised on the substrate side opposite to the spacer 10.
すなわち、同図に示すように、該基板側に形成された保護膜PASにおいて、該スペーサ10と当接される部分に、該当接部の外側にまで及ぶ溝あるいは凹み15が形成された構成となっている。 That is, as shown in the figure, in the protective film PAS formed on the substrate side, the portion that contacts with the spacer 10, the configuration in which the groove or recess 15 which extends to the outside of the abutting portion is formed with going on.
この場合においても、該溝あるいは凹み15が、スペーサ10の頂面10Aとこの頂面10Aに当接する基板側との間に封止される空気を抜くための手段として機能できることになる。 In this case, the groove or recess 15, so that it functions as a means for venting air to be sealed between the top surface 10A of the spacer 10 abutting against the substrate side to the top surface 10A.
【0030】 [0030]
〔実施例14〕 EXAMPLE 14
図22は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図である。 Figure 22 is a plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
同図において、各基板1A、1Bの間に液晶を封止するシール材20には液晶封入口21が設けられ、該シール材20に囲まれた領域に存在するスペーサ10、あるいはこのスペーサ10に圧接させる基板側には、上述した実施例に示した空気抜き手段が設けられている。 In the figure, the substrate 1A, the liquid crystal filling port 21 is provided in the sealing member 20 for sealing the liquid crystal between 1B, the spacer 10 or the spacer 10, present in a region surrounded by the said sealing member 20 the substrate side for pressing the venting means is provided as shown in the embodiments described above.
そして、例えば切欠き10cからなる空気抜き手段の空気が抜ける側を該液晶封入口21に指向させていることにある。 Then, for example, a side air vent means comprising a notch 10c comes off in that it is directed to the liquid crystal filling port 21.
このような構成にすることによって、スペーサの基板に対する圧接部に蓄積される空気を前記空気抜き手段を介して効率よく抜くことができるようになる。 With such a configuration, the air accumulated in the pressure contact portion with respect to the substrate of the spacer can be pulled out efficiently through the air vent means.
すなわち、液晶封入口21は、基板間に液晶を封入する入り口であると同時に、該基板間から空気を抜くための出口として機能することから、スペーサ10の部分に蓄積される空気は該スペーサ10を廻り込むことなく直接に液晶封入口に導かれるようにできるからである。 That is, the liquid crystal filling port 21, and at the same time an entrance to a liquid crystal is sealed between the substrates, from functioning as an outlet for venting air from between the substrates, air accumulated in the portions of the spacer 10 is the spacer 10 directly without sneaks a is because it to be guided to the liquid crystal filling port.
【0031】 [0031]
〔実施例15〕 Example 15
図23は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す図で、スペーサ10を示した構成図である。 Figure 23 is a view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, it is a block diagram showing a spacer 10.
同図において、スペーサ10は、その頂面側は分割された複数のスペーサ片によって構成されている。 In the figure, the spacer 10 has its top side is constituted by a plurality of spacers pieces divided.
換言すれば、該スペーサ10は、分割されたスペーサ群から構成されるようになっている。 In other words, the spacer 10 is designed to be composed of split spacer group.
このように構成されたスペーサ10は、上述の実施例と同様に、空気を抜くための機能を有するとともに、スペーサ10自体に弾力的特性を付加できることになる。 The thus constructed spacer 10, as in the embodiment described above has a function for removing the air, so that can be added elastic properties to the spacer 10 itself.
このことは、基板からの圧力によってスペーサ10には大きな力が加わることを免れないが、該スペーサ10に弾力性を備えさせることによって、その破損を防止することができるようになる。 This is inevitable to join a large force to the spacer 10 by the pressure from the substrate, by creating comprises resilient to the spacer 10, it is possible to prevent its breakage.
このことから、分割されたスペーサ群は、図24に示すように、スペーサ10の少なくとも頂面側に形成されていてもよいことはいうまでもない。 Therefore, divided spacer group, as shown in FIG. 24, it is needless to say that may be formed at least on the top side of the spacer 10.
【0032】 [0032]
〔実施例16〕 Example 16
図25は、本発明による液晶表示装置のうち横電界方式における他の実施例を示す図である。 Figure 25 is a diagram showing another embodiment of the transverse electric field type of liquid crystal display device according to the present invention.
同図は、液晶表示装置の各ゲート線のうちの一つに沿って切断された断面図であり、TFT基板1Aに対向するフィルタ基板1Bの側に固定されたスペーサ10が備えられている。 The figure is one cross-sectional view taken along one of the gate lines of the liquid crystal display device, a spacer 10 secured to the side of the filter substrate 1B which faces the TFT substrate 1A is provided.
そして、前記スペーサ10は、各基板のギャップを保持するスペーサ(第1スペーサ10Bと称す:図中領域Bに存在する)と、特に、各ゲート線の両端にそれぞれ重畳されて配置されるスペーサ(第2スペーサ10Aと称す:図中領域Aに存在する)からなっている。 Then, the spacer 10, the spacer for holding the gap of the substrates: spacers and (referred to as first spacer 10B present in the drawing area B), which is particularly arranged to be superimposed respectively on both ends of the gate lines ( It referred to as a second spacer 10A: consist present in the figure region a).
さらに、フィルタ基板1Bの液晶側の面には、TFT基板1A側の各ゲート線2にそれぞれ重畳するようにしてそれぞれ導電層21が形成されている。 Furthermore, the liquid-crystal-side surface of the filter substrate 1B, respectively conductive layer 21 so as to overlap to each gate line 2 of the TFT substrate 1A side.
この場合、これら各導電層21は、必然的に第2スペーサ10Aを被服する状態で形成されることになり、この第2スペーサ10Aの個所で対向配置されるゲート線2と電気的な接続がなされるようになる。 In this case, each of these conductive layers 21, inevitably the second spacers 10A will be formed in a garment to state an electrical connection with the gate line 2 disposed opposite at the point of the second spacer 10A so it is made.
このことから、ゲート線2は、それ本来の信号線とは別に迂回回路を備えることになり、例えゲート線2に断線が発生したとしても、その断線は該迂回回路によって保護される効果を奏するようになる。 Therefore, the gate line 2, will be provided with a separate bypass circuit that the original signal lines, even break the gate line 2 even has occurred, the disconnection the effect that is protected by detour circuit so as to.
そして、上述した実施例は、ゲート線2の保護回路について説明したものであるが、ドレイン線3を保護する場合にもそのまま適用できることはいうまでもない。 Then, the above-mentioned embodiment, although those described for the protection circuit of the gate line 2, it is needless to say that the directly applicable in the case of protecting the drain lines 3. この場合、図中のゲート線2がドレイン線3に置き換えられることとなる。 In this case, a gate line 2 in the figure are replaced with the drain line 3.
なお、この実施例は、上述した各実施例のうち横電界方式の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。 In this embodiment, it may of course be applied in configuration of the liquid crystal display device of IPS mode of the embodiments described above.
【0033】 [0033]
〔実施例17〕 [Example 17]
図26は、本発明による液晶表示装置のうち縦電界方式のものの他の実施例を示す図である。 Figure 26 is a diagram showing another embodiment of one of the vertical electric field method of the liquid crystal display device according to the present invention.
同図は、液晶表示装置の各ゲート線2のうちの一つに沿って切断された断面図であり、TFT基板1Aに対向するフィルタ基板1Bの側に固定されたスペーサ10が備えられている。 The figure is a sectional view taken along one of the gate lines 2 of the liquid crystal display device, a spacer 10 secured to the side of the filter substrate 1B which faces the TFT substrate 1A is provided .
前記スペーサ10は、各基板のギャップを保持するスペーサ(第1スペーサと称す:図中領域Bに存在する)10Bと、特に、各基板をシールするシール材24の近傍に配置されたスペーサ(第3スペーサと称す:図中領域Aに存在する)10Aからなっている。 The spacer 10, the spacer for holding the gap of each substrate (referred to as first spacer: present in the region B in FIG.) 10B and, in particular, a spacer (first disposed in the vicinity of the sealing material 24 for sealing the substrates 3 referred to as spacer: present in the region a in the drawing) is made from 10A.
この第3スペーサ10Aは、その形成時において第1スペーサ10Bと同時に形成されるようになっている。 The third spacer 10A is adapted to be formed simultaneously with the first spacer 10B at the time of its formation.
そして、フィルタ基板1Bの液晶側の面には、前記各スペーサをも被って各画素に共通な共通電極(透明電極)22が形成されている。 Then, the liquid-crystal-side surface of the filter substrate 1B, the common common electrode to each pixel also covers each spacer (transparent electrode) 22 is formed.
また、前記各スペーサのうち第3スペーサ10Aと当接するTFT基板1A面に、該第3スペーサ10Aを被う共通電極22と電気的に接続される導電層23が形成されている。 Furthermore, the Third spacer 10A and the TFT substrate 1A surface abutting one of the spacers, the common electrode 22 electrically connected to the conductive layer 23 covering the third spacer 10A is formed.
この導電層23はTFT基板1A上でシール材20を超えて延在され、前記共通電極22に基準信号を供給するための端子に接続されるようになっている。 The conductive layer 23 are extended beyond the seal material 20 on the TFT substrate 1A, it is adapted to be connected to a terminal for supplying a reference signal to the common electrode 22.
従って、TFT基板1A上の該端子に基準信号を供給した場合に、この基準信号は、第3スペーサ10Aの部分を介してフィルタ基板1B側の共通電極4Aに供給されるようになる。 Therefore, when providing a reference signal to the terminal on the TFT substrate 1A, the reference signal will be supplied to the common electrode 4A of the filter substrate 1B side via the portion of the third spacer 10A.
このように構成した液晶表示装置は、共通電極4AをTFT基板1A面に引き出すための導電手段を特に設ける必要がなくなるという効果を奏するようになる。 The liquid crystal display device thus constructed, so there is an effect that it is not necessary to provide particularly a conducting means for extracting the common electrode 4A on the TFT substrate 1A plane. なお、この実施例は、上述した各実施例のうち縦電界方式の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。 In this embodiment, it may of course be applied in configuration of the liquid crystal display device of vertical electric field method of the embodiments described above.
【0034】 [0034]
〔実施例18〕 [Example 18]
上述した各実施例では、TFT基板側にスペーサを固定させたもの、あるいはフィルタ基板側にスペーサを固定させたものを説明した。 In the embodiments described above, those obtained by fixing the spacers to the TFT substrate side, or have been described herein what was fixed spacers filter substrate.
しかし、薄膜トランジスタの特性劣化を特に防止する必要がある場合には、フィルタ基板側にスペーサを固定させることが好ましい。 However, if there is a particular need to prevent deterioration of characteristics of the thin film transistor, it is preferable to fix the spacer to the filter substrate.
TFT基板側にスペーサを固定させる場合、そのスペーサを形成するためのフォトリソグラフィ技術による選択エッチング工程の増加をもたらし、それに用いる薬剤等によって薄膜トランジスタの劣化をもたらすことになるからである。 When fixing the spacer to the TFT substrate side, it resulted in an increase in selective etching process using a photolithography technique to form the spacer, because will result the deterioration of the thin film transistor by an agent or the like used therefor.
また、TFT基板に対してスペーサを位置的に精度よく配置させる必要がある場合には、TFT基板側にスペーサを固定させることが好ましい。 Further, when it is necessary to positionally accurately position the spacer against the TFT substrate, it is preferable to fix the spacer to the TFT substrate side.
フィルタ基板側にスペーサを固定させる場合、そのフィルタ基板をTFT基板に対して対向配置させる際に位置づれが生じて、スペーサをTFT基板に対して位置的に精度よく配置させることができない場合があるからである。 When fixing the spacer to the filter substrate, the filter substrate positioned Families when causing disposed opposite occurs with respect to the TFT substrate, positionally in some cases it can not be arranged accurately with respect to the TFT substrate spacer it is from.
【0035】 [0035]
〔実施例19〕 [Example 19]
図27は、フィルタ基板1B側に固定して形成されるスペーサ10の詳細を示した断面図である。 Figure 27 is a cross-sectional view showing the details of the spacer 10 which is formed by fixing the filter substrate 1B side.
フィルタ基板1Bの液晶側の面には、ブラックマトリックスBM、カラーフィルタ7が形成され、それらの上面に表面を平坦にするため、熱硬化性の樹脂膜からなる平坦膜8が形成されている。 The liquid-crystal-side surface of the filter substrate 1B, a black matrix BM, color filter 7 is formed to flatten the surface thereof the upper surface, the flat film 8 made of a thermosetting resin film is formed.
そして、この平坦膜8の所定の個所にスペーサ10が形成されているが、このスペーサ10は、光硬化性の樹脂膜から構成されている。 Then, this spacer 10 to a predetermined point of the flat film 8 is formed, the spacer 10 is formed of a photocurable resin films.
光硬化性の樹脂膜によってスペーサ10を構成することによって、選択エッチングの工程を行う必要がなくなることから、製造工程の低減を図れるようになる。 By configuring the spacer 10 by light-curing resin film consists of eliminating the need to perform the steps of selective etching, so attained a reduction in manufacturing process. なお、この実施例は、上述した各実施例の構成においてそれぞれ適用してもよいことはいうまでもない。 In this embodiment, it may of course be applied each in the configuration of the embodiments described above.
また、必ずしもフィルタ基板1B側に限定する必要はなく、TFT基板1A側に形成する場合にも適用することができる。 Also, not necessarily limited to the filter substrate 1B side, it can be applied to a case of forming the TFT substrate 1A side.
【0036】 [0036]
〔実施例20〕 Example 20
図28(a)は、表示部において、各画素の輪郭を画するブラックマトリックスBMに重畳するようにして配置されたスペーサ10を示した図である。 FIG. 28 (a) in the display unit is a diagram showing a spacer 10 disposed so as to overlap the black matrix BM demarcating the contour of each pixel.
このようにして配置されるスペーサ10は表示部全体として均一に配置されているが、互いに隣接されたほぼ同数の画素に対して一つのスペーサ10が配置されるようになっている。 This way, the spacer 10 which is arranged are uniformly arranged as main display unit, so that one spacer 10 is positioned relative to approximately the same number of pixels that are adjacent to each other.
表示部におけるスペーサ10の数を減らし、これにともない該スペーサに起因する配向乱れを少なくしている。 Reduce the number of the spacers 10 in the display unit, and reducing the alignment disorder due to the spacer accordingly.
これにより、光漏れ(特に黒表示の場合)によるコントラストの防止が図れる効果を奏する。 Thus, an effect of preventing the contrast due to light leakage (especially black display) can be achieved.
【0037】 [0037]
〔実施例21〕 Example 21
図28(b)は、実施例12と同様に、示部におけるスペーサ10の数を減らしているとともに、その配置が均一でなく、ランダム(均一性なく)になっている点が実施例12と異なっている。 FIG. 28 (b), in the same manner as in Example 12, with which to reduce the number of the spacers 10 in the radical 113, the arrangement is not uniform, a point that is a random (uniformity without) of Example 12 It is different.
人間の視覚の特性として、光漏れの部分が繰り返しパターンで発生している場合それを認識し易いことから、スペーサを均一性なく配置させることによって、その不都合を解消している。 The characteristics of human vision, since it is easy to recognize it when the portion of the light leakage occurs in a repeating pattern, by placement uniformity without a spacer, which eliminates the disadvantage.
【0038】 [0038]
〔実施例22〕 Example 22
図29は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す説明図で、図1(a)等に対応した図となっている。 Figure 29 is an explanatory view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIGS. 1 (a) or the like.
同図において、スペーサ10が固定された側の透明基板と対向する他の透明基板との間の該スペーサ10の当接部に接着剤30が介在されている。 In the drawing, the adhesive 30 is interposed abutment of the spacer 10 between the other transparent substrate spacer 10 faces the transparent substrate of a fixed side.
該スペーサ10の当接部は配向膜同士の接触部であり、これらは同材料であることから固着力が弱いという不都合が生じる。 Abutment of the spacer 10 is a contact portion of the alignment film between, they disadvantageously force secured since it is the same material is weak it occurs.
それ故、該接着剤として例えばSiカップリング剤を用いることにより、各透明基板の間のギャップの保持の信頼性を確保することができるようになる。 Thus, for example, by using Si coupling agent as adhesive, it is possible to ensure the reliability of holding the gap between the transparent substrates.
【0039】 [0039]
次に、このような構成からなる液晶表示装置の製造方法の一実施例を図30を用いて説明する。 Next, an embodiment of the manufacturing method of a liquid crystal display device having such a configuration will be described with reference to FIG. 30.
工程1. Step 1.
一方の基板にスペーサ10を形成し、そのスペーサ10をも被って配向膜が形成されたものを用意する(同図(a))。 The spacer 10 is formed on one substrate, it is prepared as the alignment film is formed to cover also the spacer 10 (FIG. (A)).
工程2. Step 2.
接着剤が満たされた容器に、前記基板を近接させ、そのスペーサ10の頂部に該接着剤30の表面を接触させる(同図(b))。 A container the adhesive has been met, the substrate is brought close to, contacting the surface of the adhesive 30 on top of the spacer 10 (FIG. (B)).
工程3. Step 3.
これにより、スペーサ10の頂部に接着剤30が塗布されるようになる(同図(c))。 Thus, the adhesive 30 on top of the spacer 10 is to be applied (Fig. (C)).
工程4. Step 4.
上記基板を他の基板と対向配置させる(同図(d))。 The substrate is another substrate disposed facing (figure (d)).
工程5. Step 5.
熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化させる。 By heat treatment to cure the adhesive 30. これにより、スペーサ10は各基板のそれぞれに固着された状態となる(同図(e))。 Accordingly, the spacer 10 is in a state of being fixed to each of the substrate (FIG. (E)).
【0040】 [0040]
また、上述した構成からなる液晶表示装置の製造方法の他の実施例を図31を用いて説明する。 Also, it will be described with reference to FIG. 31 another embodiment of a manufacturing method of a liquid crystal display device having the structure described above.
工程1. Step 1.
一方の基板にスペーサ10を形成し、そのスペーサ10をも被って配向膜が形成されたものを用意する(同図(a))。 The spacer 10 is formed on one substrate, it is prepared as the alignment film is formed to cover also the spacer 10 (FIG. (A)).
工程2. Step 2.
接着剤30が満たされた容器でローラ31を備える装置を用意し、該ローラ31の回転によってその表面に付着する接着剤を前記スペーサの頂部に塗布させる(同図(b))。 With adhesive 30 is filled containers provided with rollers 31 device available, it is coated with an adhesive that adheres to the surface by the rotation of the roller 31 on top of the spacer (figure (b)).
工程3. Step 3.
これにより、スペーサ10の頂部に接着剤30が塗布されるようになる(同図(c))。 Thus, the adhesive 30 on top of the spacer 10 is to be applied (Fig. (C)).
工程4. Step 4.
上記基板を他の基板と対向配置させる(同図(d))。 The substrate is another substrate disposed facing (figure (d)).
工程5. Step 5.
熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化させる。 By heat treatment to cure the adhesive 30. これにより、スペーサ10は各基板のそれぞれに固着された状態となる(同図(e))。 Accordingly, the spacer 10 is in a state of being fixed to each of the substrate (FIG. (E)).
なお、この実施例は、上述した各実施例の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。 In this embodiment, it may of course be applied in configuration of the liquid crystal display device of the embodiments described above.
【0041】 [0041]
〔実施例23〕 [Example 23]
図32は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す説明図である。 Figure 32 is an explanatory view showing another embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.
同図は、スペーサ10が固定された基板に対向する他の基板側に、該スペーサの頂部が嵌め込まれる凹陥部40を備えている。 This figure, in addition to the substrate side opposite the substrate where the spacer 10 is fixed, and a recessed portion 40 in which the top portion of the spacer is fitted.
そして、この凹陥部40は例えばTFT基板1Aの側の保護膜PASに形成されており、その表面に対して底面側において面積の大きないわゆる逆テーパ状となっている。 Then, the recess 40 is made for example is formed on the protective film PAS side of the TFT substrate 1A, a large so-called reverse tapered shape of the area at the bottom side to its surface.
このように構成した場合、スペーサ10は、その頂部が該凹陥部40に食い込んで配置され、TFT基板1Aに対して接着された状態と同様になる。 In such a configuration, the spacer 10, its top is located bite into the recessed portion 40, becomes similar to a state of being adhered to the TFT substrate 1A.
【0042】 [0042]
また、図33は、同様の趣旨で構成された他の実施例であり、前記凹陥部40と同様の機能を有する手段を一対の信号線(配線)42の間の溝で構成したものである。 Further, FIG. 33 is another embodiment constructed in a similar vein, is obtained by a means having the same function as the recess 40 in the groove between the pair of signal lines (lines) 42 .
そして、この場合、各信号線の互いに対向する辺部が互いに逆テーパ状となっている。 In this case, the side portions facing each other of the signal lines is in the inversely tapered to each other.
なお、この実施例では、前記凹陥部においてスペーサ10の頂部が食い込むようにして構成されているが、必ずしも、このような構成に限定されることはなく、例えば比較的ゆとりのある状態でスペーサ10が嵌め込まれるように構成してもよい。 In this embodiment, the recessed portion is configured as the top of the spacer 10 bites in, but not necessarily, the spacer 10 in a state such is the fact there is no limitation on the arrangement, for example, with a relatively clear it may be configured to be fitted.
このようにした場合、各基板の離間する方向に対してはその移動を規制できない(しかし、この機能はシール材が担当する)が、各基板の水平方向の移動を規制できるようになるからである。 In such a case, because can not regulate its movement relative to a direction separating each substrate (however, this function sealant is responsible) may be able to restrict the horizontal movement of the substrate is there.
また、この場合、スペーサ10と前記凹陥部とで、各基板を対向配置させる際の位置決め手段として用いることもできるようになる。 In this case, in the spacer 10 and the recessed portion, so it is also possible to use the substrate as a positioning means at the time of oppositely disposed.
【0043】 [0043]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
以上説明したことから明らかなように、本発明による液晶表示装置によれば、表示の品質の向上を図ることができるようになる。 As apparent from the above description, according to the liquid crystal display device according to the present invention, it is possible to improve the quality of the display.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 [1] is a block diagram showing one embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図2】本発明による液晶表示装置に用いられる配向膜のラビング前の主鎖の配列状態を示した図である。 It is a diagram showing a main chain arrangement of the prior rubbing of the alignment film used in a liquid crystal display device according to the invention, FIG.
【図3】本発明による液晶表示装置に用いられる配向膜のラビング後の主鎖の配列状態を示した図である。 It is a diagram showing a main chain arrangement of after rubbing of the alignment film used in a liquid crystal display device according to the invention, FIG.
【図4】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 [Figure 4] is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図5】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。 It is a plan view showing another embodiment of the pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図6】液晶表示装置の絶縁膜を介して交差する信号線の不都合を示す説明図である。 6 is an explanatory diagram showing the disadvantages of signal lines crossing through the insulating film of the liquid crystal display device.
【図7】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。 7 is a plan view showing another embodiment of the pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.
【図8】液晶表示装置の薄膜トランジスタの不都合を示す説明図である。 8 is an explanatory diagram showing the disadvantages of thin film transistor liquid crystal display device.
【図9】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。 It is a plan view showing another embodiment of the pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図10】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。 Is a plan view showing another embodiment of the pixel of the liquid crystal display device according to the invention; FIG.
【図11】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 11 is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図12】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 [Figure 12] is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図13】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 13 is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図14】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 [Figure 14] is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図15】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。 It is a plan view showing another embodiment of the pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図16】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。 It is a plan view showing another embodiment of the pixel of the liquid crystal display device according to [16] the present invention.
【図17】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 [Figure 17] is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図18】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図であり、その画素の構成を示す図である。 [Figure 18] is a block diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing the configuration of the pixel.
【図19】本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの一実施例を示す平面図である。 It is a plan view showing one embodiment of a spacer used in a liquid crystal display device according to [19] the present invention.
【図20】本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの効果を示す説明図である。 It is an explanatory diagram showing the effect of the spacers used in the liquid crystal display device according to [20] the present invention.
【図21】本発明による液晶表示装置のスペーサに関する一実施例を示す平面図である。 Is a plan view showing an embodiment relating to a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 21 the present invention.
【図22】本発明による液晶表示装置のスペーサと液晶封入口との関係を示した平面図である。 It is a plan view showing the relationship between the spacer and the liquid crystal filling port of a liquid crystal display device according to Figure 22 the present invention.
【図23】本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの一実施例を示す斜視図である。 Is a perspective view showing an embodiment of a spacer used in a liquid crystal display device according to [23] the present invention.
【図24】本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの一実施例を示す斜視図である。 Is a perspective view showing an embodiment of a spacer used in a liquid crystal display device according to [24] the present invention.
【図25】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to Figure 25 the present invention.
【図26】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to Figure 26 the present invention.
【図27】本発明による液晶表示装置のスペーサの他の実施例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another embodiment of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 27 the present invention.
【図28】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to Figure 28 the present invention.
【図29】本発明による液晶表示装置のスペーサの他の実施例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another embodiment of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 29 the present invention.
【図30】図29に示すスペーサの製造方法の一実施例を示す工程図である。 It is a process diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the spacer shown in Figure 30 Figure 29.
【図31】図29に示すスペーサの製造方法の他の実施例を示す工程図である。 Figure 31 is a process diagram showing another embodiment of a method of manufacturing the spacer shown in FIG. 29.
【図32】本発明による液晶表示装置のスペーサに関する他の実施例を示す断面図である。 32 is a cross-sectional view illustrating another embodiment of the present invention relates to a spacer of a liquid crystal display device according to the present invention.
【図33】本発明による液晶表示装置のスペーサに関する他の実施例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another embodiment relating to a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 33 the present invention.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
2…ゲート線、3…ドレイン線、4…対向電圧信号線、4A…対向電極、5…画素電極、10…スペーサ。 2 ... gate line, 3 ... drain line, 4 ... counter voltage signal line, 4A ... counter electrode, 5 ... pixel electrode, 10 ... spacer.

Claims (1)

  1. TFT基板とフィルタ基板が液晶を介して対向配置され、 TFT substrate and the filter substrate are oppositely arranged with an LCD,
    前記TFT基板にはゲート線と、映像信号線と、薄膜トランジスタを介して映像信号線からの信号が供給される画素電極と、該画素電極との間に前記TF T基板に対して平行な成分を持つ電界を発生される対向電極とを有し、 Component parallel to the TF T board between the gate lines in the TFT substrate, and the video signal line, a pixel electrode to which a signal from the video signal line is supplied through the thin film transistor, a pixel electrode and a counter electrode generating an electric field with,
    前記フィルタ基板に形成されたブラックマトリックスの輪郭の開口として定まる画素領域を有し、 A pixel region defined as the contour opening in the black matrix formed on the filter substrate,
    前記画素領域の中央を延在し前記映像信号線からの信号に対して基準となる信号を前記対向電極に供給する前記TFT基板に形成された対向電圧信号線と、 And the counter voltage signal line serving as a reference signal is formed on the TFT substrate is supplied to the counter electrode with respect to the signal from the video signal lines extend the center of the pixel region,
    前記画素領域内の該対向電圧信号線に重なって前記フィルタ基板側に形成され、前記画素領域の中央に位置付けられた突起体からなるスペーサと、この突起体からなるスペーサを中心にして該突起体からなるスペーサより広い範囲にわたるように、前記フィルタ基板に該突起体からなるスペーサの周囲に形成された遮光膜と、を有することを特徴とする液晶表示装置。 The overlaps the counter voltage signal lines in the pixel region is formed on the filter substrate, and a spacer composed of the positioned protrusion in the center of the pixel region, protruding Okoshitai around the spacer made of the protrusions as a wide range from the spacer made of a liquid crystal display device characterized by having a light-shielding film which is formed around the spacer made of protruding Okoshitai to the filter substrate.
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JP5217154B2 (en) * 2006-11-16 2013-06-19 凸版印刷株式会社 The production method and the color filter of the color filter

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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