JP3794965B2 - 銅板のレジストインク密着性改善方法 - Google Patents
銅板のレジストインク密着性改善方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3794965B2 JP3794965B2 JP2002035009A JP2002035009A JP3794965B2 JP 3794965 B2 JP3794965 B2 JP 3794965B2 JP 2002035009 A JP2002035009 A JP 2002035009A JP 2002035009 A JP2002035009 A JP 2002035009A JP 3794965 B2 JP3794965 B2 JP 3794965B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper plate
- copper
- resist ink
- area ratio
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、銅板のレジストインク密着性改善方法に関する。詳しくは、セラミック基板に銅回路を形成させてなる回路基板を作製するのに有用な銅板であって、エッチングして銅回路を形成させる際、銅板に対するUV硬化型レジストインクの密着性を改善する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、銅板は、電子材料分野において様々な態様で使用されており、その1つにセラミック基板に銅回路を形成させてなるパワーモジュール用回路基板がある。この作製方法にも種々あり、中でもセラミック基板と銅板の接合体をあらかじめ製造しておき、銅板面にUV硬化型レジストインク(以下、単に「レジストインク」という。)を回路パターン状に塗布してからエッチングし、不要銅板を除去して銅回路を形成させる方法が賞用されている。この場合において、銅回路を形成させた反対面には放熱銅板を形成させた構造が一般的である。
【0003】
銅回路パターンがますます精細化されている今日、その寸法精度を高度に実現させなければならないが、その可否要因の一つに、銅板に対するレジストインクの密着性がある。密着性が不十分であると、次工程でそれが部分的に剥離することとなり、逆に強すぎると、レジストインクの剥離に支障を来す恐れがある。すなわち、回路基板の製造においては、銅板に対するレジストインクの密着性には適正値がある。
【0004】
しかしながら、従来法では目視で判断できないような微妙な酸化皮膜等が原因し、銅板に対するレジストインクの密着性が必ずしも適正化されていなかったので、寸法精度が高度でしかも精細化された銅回路パターンを形成させることができないことがあった。この問題を解消するには、レジストインクを塗布する前に、銅板表面を酸化しづらくしておくことが考えられる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、銅板に対するレジストインクの密着性を改善することであり、銅板表面を酸化しづらくする銅板の処理方法を提供することである。ひいては、過度の不良箇所が少なく、寸法精度が高度でしかも精細化された銅回路を有する回路基板を提供することである。本発明の目的は、特定の性質を持つ電解水で、レジストインク塗布前の銅板を洗浄することによって達成することができる。
【0006】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、pH10以上、酸化還元電位−800mV以下、電気伝導度10.0mS/m以上の電解水で銅板を洗浄することを特徴とする銅板のUV硬化型レジストインクに対する密着性改善方法である。この場合において、電解水の洗浄を、銅板の変色面積率が98%以上となるまで行うことが好ましい。ここで、銅板の変色面積率とは、メチレンブルー5質量%水溶液からなる色素吸着剤を銅板表面に塗布し、その青色度の色相をRGB、10進数(0〜255)で表示した場合、B値が51以上に変色した部分の面積率(%)、として定義される。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、更に詳しく本発明を説明する。
【0008】
回路基板に用いられる銅板は、純銅であることが理想であるが、多くの場合、表面に酸素がCu2Oの形で存在しており、わずかな水分によってCu(OH)2となる。このような銅板は、一般的な用途ではあまり問題となることはないが、例えばレジストインクを塗布する用途では、その密着性に敏感に影響を与え、Cu2OよりもCu(OH)2の方が好まれることもある。とくに、レジストインクと銅板表面とが化学的結合をする原理、「レジストインク中の−COOH基又は−OH基」−水素結合−「銅板表面の−OH基」、を考慮すると、銅板表面がCu(OH)2である方が望ましい。
【0009】
本発明法において、pH10以上、酸化還元電位−800mV以下、電気伝導度10.0mS/m以上の電解水を用いた理由は、次のとおりである。pHが10未満ではレジストインクとの密着性に有効なCu(OH)2の生成が不十分となる。酸化還元電位が−800mVよりも高い(プラス側)とCu2Oの生成を抑制することが困難となる。電気伝導度が10.0mS/m未満では金属イオンを含む微粒子が除去できにくくなる。電解水の不純物は、可及的に少ない方が好ましく、Cl-やSO4 2-等のマイナスイオン、Cu2+、Na+等のプラスイオン等の濃度はそれぞれ0.1mg/l以下であることが望ましい。このような電解水は、電解槽内で食塩や希塩酸を加え、目的の特性となるまで水を電解するか、超音波を照射するなどして製造することができる。
【0010】
本発明法は、レジストインクの塗布される全ての銅板に適用できるが、好適には酸素量が50ppm以下、特に30ppm以下の無酸素銅板である。銅板の洗浄は、電解水をシャワーリングする、電解水に銅板を揺動浸漬するなどによって行われる。電解水温は常温で十分である。洗浄時間は、数分から数十分であるが、銅板の変色面積率が98%以上となるまで行うこと好ましい。
【0011】
本発明法において、メチレンブルー5質量%水溶液を色素吸着剤としたのは、標準指示薬のメチルオレンジよりもメチレンブルーの方が、Cu(OH)2が存在する部分のみが青色を呈し、それ以外の部分は無色透明であるので正確な評価を行いやすいことによる。
【0012】
本発明法で処理された銅板は、レジストインクとの密着性が適正化され、高度な寸法精度で精細化された銅回路パターンを形成させることが可能となる。すなわち、銅板の電解水による洗浄の有無、銅板の変色面積率との関連について、多くの回路基板を製造し形成された銅回路の状態を詳細に調べてみると、本発明法で洗浄された銅板、特に銅板の変色面積率が98%以上になるまで洗浄された銅板を用いて作製された回路基板は、その銅回路パターン端部における不良の度合が、顕微鏡観察によって著しく少なくなる。この理由は、電解水で銅板を洗浄することによって、銅板表面が酸化しづらいものとなり、レジストインクとの密着性が適正化されたことによる。
【0013】
つぎに、本発明法を経由したモジュール用回路基板の製造方法の一例について説明する。
【0014】
酸素量50ppm以下の無酸素銅板を銅板の変色面積率が98%以上になるまで電解水で洗浄する。この銅板とセラミック基板とを、ろう材を用いて又は用いないで、10-2Pa以下の高真空中、温度700℃以上で熱処理して両者を接合した後、温度550〜650℃の間を真空度10-2〜10-3Pa下で3〜6時間保持する工程を経て冷却し、接合体を製造する。
【0015】
ろう材としては、金属成分として、銀75〜89%(質量%、以下同じ)、銅0〜23%、錫1〜5%、チタン、ジルコニウム及びハフニウムから選ばれた少なくとも1種の活性金属成分1〜6%を含んでなるものが好ましい。これらの金属成分は、それら単体又は合金の箔や粉末をそのまま用いることができるが、好ましくはペーストにして用いる。調合の一例を示せば、金属成分100質量部あたり、PIBMA等の媒体4〜10質量部である。ペーストの塗布量は、乾燥基準で9〜10mg/m2 とするのが好ましい。
【0016】
セラミック基板としては、窒化アルミニウム又は窒化珪素を主体とするものが用いられる。窒化アルミニウム基板は、強度、熱伝導率、純度がそれぞれ400MPa以上、150W/mK以上、93%以上であることが好ましく、また窒化珪素基板は、600MPa以上、50W/mK以上、93%以上であることが好ましい。これらのセラミック基板には、市販品があるのでそれを用いることができる。
【0017】
得られた接合体の銅板部分を再度電解水で洗浄してから、銅板上にレジストインクをスクリーン印刷で塗布後、塩化第2銅溶液を用いてエッチング処理を行って銅板不要部分を溶解除去し、更にエッチングレジストを5%程度の苛性ソーダ溶液で剥離する。ついで、このエッチング処理後の接合体には、銅回路パターン間に残留不要ろう材や活性金属成分とセラミック基板成分との反応物があるので、それを温度40〜60℃、10%程度のフッ化アンモニウム溶液に10〜20分間浸漬し除去する。これによって、セラミック基板に銅回路が形成された回路基板が製造される。なお、電解水による銅板の洗浄は、接合体を製造する前と、接合体を製造してからの両方で行うことを記載したが、いずれか一方でもよい。
【0018】
レジストインクとしては、アクリル系オリゴマー30〜40%、アクリル系モノマー10〜20%、無機顔料40〜50%、その他常套の重合開始剤等の添加剤が含まれているものが用いられ、特別なものである必要はない。市販品で十分である。
【0019】
【実施例】
以下、実施例をあげて更に具体的に本発明を説明する。
【0020】
実施例1〜4 比較例1〜10
銅板(60mm×36mm×0.3mm)を各種電解水にて洗浄(シャワーリング又は揺動浸漬で時間はいずれも10分)し、80℃中10分間乾燥後、メチレンブルー5質量%水溶液の10cm3をスクリーン印刷法によって塗布し、銅板の変色面積率を測定した。その後、銅板面にレジストインク(互応化学社製商品名「PLAS FINE」)をスクリーン印刷で塗布後、UVランプを照射させてレジスト膜を硬化させた後、JIS K 5400「8.4の鉛筆引っかき値」により、レジスト膜の密着性を評価した。それらの結果と条件を表1に示す。
【0021】
【表1】
【0022】
表1から、本発明法によって洗浄された銅板、特に銅板の変色面積率が98%以上に洗浄された銅板のレジストインクに対する密着性が高められていることがわかる。また、密着性評価後に、5%NaOH水溶液により、レジスト膜を溶解させ剥離したが、いずれもレジスト残りがなく剥離できたので、レジストインクに対する密着性が適正化されたことがわかる。
【0023】
実施例5〜8 比較例11〜16
質量基準で、窒化アルミニウム粉末96部、焼結助剤(イットリア)4部、表面処理剤(オレイン酸)2部を振動ミルで予備混合した後、有機結合材(エチルセルロース)8部、可塑剤(グリセリントリオレート)3部及び水12部を配合しミキサーで混合し押出成型した。それを120℃×5分間乾燥してから、480℃で10時間空気中で脱脂を行い、1860℃×2時間の焼成を行った。得られた窒化アルミニウム焼結体を60mm×36mm×0.65mmのサイズに加工し、表面をホーニング処理して窒化アルミニウム基板とした。
【0024】
銀粉末90部、銅粉末10部、ジルコニウム粉末3部、チタン粉末3部及びテルピネオール15部と有機結合剤(ポリイソブチルメタアクリレートのトルエン溶液)を固形分で全体に対し5%加えてよく混練し、ろう材ペーストを調製した。このろう材ペーストを上記窒化アルミニウム基板の両面にスクリーン印刷によって全面に塗布した。その際の塗布量(乾燥後)を9mg/cm2 とした。
【0025】
ろう材ペーストの塗布された窒化アルミニウム基板の片面に銅板(60mm×36mm×0.3mm)を、また反対面には銅板(60mm×36mm×0.15mm)をそれぞれ接触配置して積層体とした。これの20個を横方向に配列し、両端部をカーボン製支持部材で支え、積層体の端部とカーボン製支持部材との間に板バネ材を配置し、真空中、800℃、保持時間15分にて接合体を製造し、接合体銅板のメチレンブルー変色面積率を上記と同様にして測定した。それらの結果を表1に示す。その後、電解水で銅板部分を洗浄した。
【0026】
得られた接合体の銅板面に、レジストインク(互応化学社製商品名「PLASFINE」)をスクリーン印刷で塗布後、UVランプを照射させてレジスト膜を硬化させ、塩化第2銅溶液を用いてエッチング処理を行って銅板不要部分を溶解除去し、更にレジストを5%苛性ソーダ溶液で剥離した。このエッチング処理後の接合体には、銅回路パターン間に残留不要ろう材や活性金属成分と窒化アルミニウム基板成分との反応物があるので、温度60℃、10%フッ化アンモニウム溶液に10分間浸漬してそれを除去し回路基板を製造した。
【0027】
この回路基板の銅回路パターンの端部を顕微鏡によって観察し、レジストインクの密着不良による銅回路パターンの過度の不良個所を数えた。それらの結果と条件を表2に示す。
【0028】
【表2】
【0029】
表2から、本発明法を経て製造された回路基板は、その銅回路パターンには過度の不良が少なく、酸素量が少ない銅板を用いたものほど顕著であることが分かった。
【0030】
【発明の効果】
本発明法によれば、銅板に対するレジストインクの密着性が改善される。その結果、本発明法を経由して製造された回路基板の銅回路パターンは、過度の不良箇所が少なく、寸法精度が高度でしかも精細化されたものとなる。
Claims (2)
- 酸素量50ppm以下の無酸素銅板を、pH10以上、酸化還元電位−800mV以下、電気伝導度10.0mS/m以上の電解水で洗浄し、この銅板とセラミック基板とを、金属成分として、銀75〜89%(質量%、以下同じ)、銅0〜23%、錫1〜5%、チタン、ジルコニウム及びハフニウムから選ばれた少なくとも1種の活性金属成分1〜6%を含んでなるろう材を用いて、10 -2 Pa以下の高真空中、温度700℃以上で熱処理して両者を接合した後、温度550〜650℃の間を真空度10 -2 〜10 -3 Pa下で3〜6時間保持する工程を経て冷却することを特徴とする接合体の製造方法。
- 電解水による洗浄を、本発明で定義される銅板の変色面積率が98%以上となるまで行うことを特徴とする請求項1記載の接合体の製造方法。
定義:銅板の変色面積率
メチレンブルー5質量%水溶液からなる色素吸着剤を銅板表面に塗布し、その青色度の色相をRGB、10進数(0〜255)で表示した場合、B値が51以上に変色した部分の面積率(%)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002035009A JP3794965B2 (ja) | 2002-02-13 | 2002-02-13 | 銅板のレジストインク密着性改善方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002035009A JP3794965B2 (ja) | 2002-02-13 | 2002-02-13 | 銅板のレジストインク密着性改善方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003231999A JP2003231999A (ja) | 2003-08-19 |
JP3794965B2 true JP3794965B2 (ja) | 2006-07-12 |
Family
ID=27777323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002035009A Expired - Lifetime JP3794965B2 (ja) | 2002-02-13 | 2002-02-13 | 銅板のレジストインク密着性改善方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3794965B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4919501B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2012-04-18 | メック株式会社 | シランカップリング剤皮膜の分析方法 |
JP5862427B2 (ja) * | 2012-04-04 | 2016-02-16 | 日本ゼオン株式会社 | シランカップリング剤皮膜の有無の判定方法 |
CN110678006B (zh) * | 2019-11-14 | 2021-05-18 | 江苏上达电子有限公司 | 一种变色油墨应用于线路板的设计方法 |
-
2002
- 2002-02-13 JP JP2002035009A patent/JP3794965B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003231999A (ja) | 2003-08-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10104783B2 (en) | Method for producing ceramic circuit board | |
JP2009235438A (ja) | エッチング液、該エッチング液を用いたエッチング方法および被エッチング基板 | |
WO2015022748A1 (ja) | セラミックス回路基板の製造方法及びセラミックス回路基板 | |
WO2011104944A1 (ja) | アルミニウムの表面粗化剤及びそれを用いる表面粗化方法 | |
JP2014222619A (ja) | 導電膜 | |
TW201728783A (zh) | 用於銅及銅合金表面之表面處理劑及處理銅或銅合金表面之方法 | |
JP3794965B2 (ja) | 銅板のレジストインク密着性改善方法 | |
JP2017183247A (ja) | 導電性金属粉ペースト | |
JP2005310703A (ja) | 導電性インクおよびそれを用いた導電性被膜 | |
TW200404919A (en) | Method of making oxide film by anodizing magnesium material | |
JP2001348684A (ja) | アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面粗化剤およびそれを用いる表面粗化法 | |
KR101759400B1 (ko) | 회로 인쇄용 및 전도성 접착제용 페이스트에 적용 가능한 구리분말의 은코팅 방법 | |
JP2007059499A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP3797917B2 (ja) | Uv硬化型レジストインクの密着性評価方法、uv硬化型レジストインク塗布用銅板及びその用途 | |
JP4918342B2 (ja) | 銅箔の粗面化処理方法 | |
JP2005213526A (ja) | 銅及び銅合金の表面粗化処理液 | |
JP5758483B2 (ja) | 銀含有組成物用洗浄剤、銀含有組成物の除去方法、および銀の回収方法 | |
JP2010126739A (ja) | 真空機器用表面処理アルミニウム材 | |
JP4344632B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法 | |
JP5965235B2 (ja) | 金属めっき皮膜を有する半導体基材およびその製造方法 | |
KR102575657B1 (ko) | 고분자 필름 기판상에 표면처리 및 금속패턴 형성방법 | |
JP7340179B2 (ja) | 導体の製造方法、配線基板の製造方法及び導体形成用組成物 | |
JP7450932B2 (ja) | 電解銅箔及びその製造方法 | |
JP3701038B2 (ja) | 厚膜銅導体ペースト組成物及びそれを用いた回路基板の製造方法 | |
TW403923B (en) | The etch method of cathode foil in the aluminum electrolysis capacitor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060411 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3794965 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090421 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100421 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100421 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110421 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130421 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130421 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140421 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |