JP3792579B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射用画素電極と透過用画素電極とを備えるアクティブマトリックス型の液晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置は、薄型で低消費電力であるという特徴を生かして、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータなどのOA機器や、電子手帳等の携帯情報機器、あるいは、液晶モニターを備えたカメラ一体型VTR等に広く用いられている。また、直視型の液晶表示装置には、画素電極にITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電性薄膜を用いた透過型液晶表示装置と、画素電極に金属などの反射電極を用いた反射型液晶表示装置とがある。
【0003】
上記反射型表示装置に用いられる表示モードには、現在透過型で広く用いられているTN(ツイステッドネマティック)モード、STN(スーパーツイステッドネマティック)モードといった偏光板を利用するモードや、偏光板を用いないため明るい表示が実現できる相転移ゲストホストモードも近年盛んに開発が行われている。
【0004】
また、上記液晶表示装置の液晶パネルは、CRT(ブラウン管)やEL(エレクトロルミネッセンス)表示装置とは異なり、自らは発光しない。そこで、透過型液晶表示装置の場合には、バックライトと呼ばれる蛍光管を備えた装置を背後に設置して、バックライトからの光の透過により表示を行っている。また、反射型液晶表示装置の場合には、周囲からの入射光を上記反射電極により反射させることで表示を行っている。
【0005】
なお、上記透過型液晶表示装置は、上述したとおり、バックライトを用いて表示を行うために、周囲の明るさにさほど影響されることなく、明るくてコントラストの高い表示を行うことができる。しかし、通常、バックライトは透過型液晶表示装置の全消費電力のうち50%以上を占めるため、バックライトを設けることにより消費電力が多くなってしまう。さらに、周囲光が非常に明るい場合、例えば晴天下においては、周囲光に比べて表示光が暗く見え、視認性が低下してしまうという問題を有している。
【0006】
一方、上記反射型液晶表示装置は、バックライトを必要としないため消費電力を少なくすることができるが、周囲の明るさなどの使用環境等により表示の明るさやコントラストが左右され、特に周囲光が暗い場合には視認性が極端に低下するという問題点を有している。
【0007】
そこで、上記の問題点を解消するために、特開平7−333598号公報には、入射光をある反射率と透過率とで反射および透過させる半透過反射膜を用いることにより、透過型表示と反射型表示との両方の表示を1つの液晶パネルで実現する構成が開示されている。
【0008】
しかしながら、上記半透過反射膜を金属薄膜により形成する場合には、吸収係数の大きな材料を用いる必要があり、そのため入射光の内部吸収が大きくなり、表示に利用されない散乱光が生じてしまうため、光の利用効率が悪くなる。また、1画素の反射率と透過率とを制御して半透明膜と同じ効果を得るために、上記金属薄膜に微細な穴を形成する場合には、該金属薄膜の構造があまりにも微細なために制御が難しく、均一な特性を有する膜の生産が困難であるという問題点を有する。
【0009】
そこで、上記の問題点を解消するために、特開平11−101992号公報には、図13に示すように、同一画素内に金属膜からなる反射領域26と透明導電膜からなる透過領域28とを形成することにより光を効率的に利用し、かつ生産性に優れた液晶表示装置が開示されている。また、この液晶表示装置では、反射領域と透過領域との液晶の厚みを変えることにより、反射領域と透過領域との光路長を揃え、光の利用効率を高めている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の同一画素内に金属膜からなる反射領域 (反射用画素電極)26と透明導電膜からなる透過領域 (透過用画素電極)28とを形成した液晶表示装置では、後述するように、反射領域26の最適対向電圧と透過領域28の最適対向電圧とが互いに異なるために、各々の最適対向電圧からのずれ分だけ常に液晶層にDCバイアス電圧が印加されることになる。なお、上記最適対向電圧とは、DC電圧の印加による液晶の劣化を防止するために、液晶層に印加されるプラス電位とマイナス電位との絶対値が等しくなるように、対向電極の電圧を補正したときの対向電極電圧をいう。ここで、上記最適対向電圧が互いに異なる理由について説明する。
【0011】
上記各領域26・28の画素電極に印加されるドレイン電圧は、ソース電圧とは一致せず、ゲートを閉じた瞬間にソース電圧から、例えば、以下の式(1)により求められるΔVdだけシフトする。
【0012】
ΔVd=(ΔVg×Cgd/(Cgd+Clc+Ccs)) … (1)
なお、ゲート電極−ドレイン電極間の寄生容量をCgd、液晶層の容量をClc、補助容量素子の容量 (補助容量)をCcs、および、ゲート電位差をΔVgとする。
【0013】
また、上記従来の液晶表示装置では、反射領域と透過領域との液晶の厚みを異なるように変えているため、液晶層の容量Clcは互いに異なる値となる。また、上記液晶表示装置では、該液晶装置の構成上、ゲート電極−ドレイン電極間の寄生容量Cgd、補助容量Ccs、および、ゲート電位差ΔVgは、各領域26・28とも同一である。したがって、反射領域26と透過領域28とにおける各電圧のシフト値は相違する。それゆえ、反射領域26の最適対向電圧と透過領域28の最適対向電圧とは異なることになる。
【0014】
つまり、図14(a)〜(e)に示すように、反射用画素電極26のゲート電位差ΔVg(r)と透過用画素電極28のゲート電位差ΔVg(t)とが同一となるゲート信号を入力しても、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量(反射用画素電極26のシフト量)ΔVd(r)と透過用画素電極電位の該ソース信号電圧からの電圧シフト量 (透過用画素電極28のシフト量)ΔVd(t)とが異なるために、反射用画素電極26の最適対向電圧Vo(r)と透過用画素電極28の最適対向電圧Vo(t)とが相違することとなる。なお、各ゲート電位差ΔVg(r)・ΔVg(t)は、それぞれ、各ゲート信号の高レベル電圧Vgh(r)・Vgh(t)と各ゲート信号の低レベル電圧Vgl(r)・Vgl(t)との差とする。
【0015】
一方、対向電極(図示せず)の電圧は部分的に電位を変えることはできないため、対向電極の電圧と、反射領域26の最適対向電圧と、透過領域28の最適対向電圧との各電圧を同時に一致させることはできない。したがって、対向電極の電圧と反射領域26の最適対向電圧とのずれ、および/または、対向電極の電圧と透過領域28の最適対向電圧とのずれが、常に液晶層にDCバイアス電圧として印加されることになる。
【0016】
このため、長期間使用した場合には、ムラやかすみといった表示不良の原因となる。また、特にモバイル表示用デバイスとして用いられる液晶表示装置では、消費電力を抑えるために低周波駆動する方法が提案されているが、上記反射領域と透過領域との各最適対向電圧からのずれがフリッカー(ちらつき)としてより認知されやすくなり、表示品位を低下させる原因ともなっている。
【0017】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、周囲光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示を可能とし得るアクティブマトリックス基板を備える液晶表示装置を提供することにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は、上記の課題を解決するために、反射表示を行うための反射用画素電極と透過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリックス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の電位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給するソース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソース電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記ゲート信号によって選択されてソース信号を上記画素電極に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマトリックス基板と、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とに対向する対向電極を有する対向基板と、上記アクティブマトリックス基板と上記対向基板との間に形成される液晶層とを備える液晶表示装置において、上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とからなり、上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続され、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続され、上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容量素子とを有し、第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記反射用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容量とが、上記スイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量とが同じになるように設定されていることを特徴としている。
【0019】
上記の発明によれば、上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続されている。また、上記反射用画素電極には、反射用補助容量素子が接続されている。一方、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続されている。また、上記透過用画素電極には、透過用補助容量素子が接続されている。
【0020】
したがって、上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記反射用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容量とを、それぞれ個別に設定することが可能となる。
【0021】
ここで、上記スイッチング素子のスイッチング時、より詳しくはスイッチング素子がオフした瞬間に、上記スイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、画素電極と対向電極との間の液晶層の容量と、上記補助容量素子の容量と、上記スイッチング素子のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅との関係で決まる電圧分だけ、上記画素電極に印加される電圧は、上記ソース信号電圧からシフトする。つまり、上記ソース配線に交流の矩形波を入力した際に、該矩形波の振幅と位相とは同一のまま、該矩形波が電圧軸方向にシフトする。
【0022】
また、上記反射用画素電極と透過用画素電極とでも、電圧のシフト量はそれぞれ異なる。上記電圧のシフト量が異なる理由として以下の4つのが挙げられる。
【0023】
第1の理由は、上記反射用画素電極と透過用画素電極とでは、異なるゲート配線、つまり第1のゲート配線と第2のゲート配線とを用いているために、必ずしも各スイッチング素子のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅を一致させる必要がなく、この場合には、上記ゲート信号の振幅が異なるためである。
【0024】
第2の理由は、上記反射用画素電極と透過用画素電極とでは、異なるスイッチング素子、つまり第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とを用いているために、必ずしも各スイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量が一致しないためである。
【0025】
第3の理由は、上記反射用画素電極と上記対向電極との間の液晶層と、上記透過用画素電極と上記対向電極との間の液晶層とでは、各液晶層の厚さおよび面積が相違し、各液晶層の容量が一致しないためである。
【0026】
第4の理由は、上記反射用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容量とは、アクティブマトリックスの構造上、必ずしも一致しないからである。
【0027】
それゆえ、本発明では、上記電圧のシフト量を決定する上記スイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、画素電極と対向電極との間の液晶層の容量と、上記補助容量素子の容量と、上記スイッチング素子のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅とを、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とで、それぞれ別々に設定し、上記電圧のシフト量が該反射用画素電極と該透過用画素電極とで同じとなるようにする。
【0028】
これにより、上記反射用画素電極と透過用画素電極との電圧のシフト量が同じになり、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とにおいて同一のシフト量を有する波形の信号が得られる。
【0029】
それゆえ、上記シフト後の上記反射用画素電極と透過用画素電極とにおける、電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電圧を、上記対向電極の電圧とすることができる。これにより、上記反射用画素電極の電圧波形の中心軸の電圧と、上記透過用画素電極の電圧波形の中心軸の電圧と、上記対向電極の電圧とを一致させることが可能となる。
【0030】
例えば、上記ソース配線に交流矩形波を入力した場合には、上記対向電極に対する上記反射用画素電極のプラス電位とマイナス電位との絶対値が等しくなり、同時に、上記対向電極に対する上記透過用画素電極のプラス電位とマイナス電位との絶対値も等しくなる。なお、以下では、上記反射用画素電極と透過用画素電極とに対するそれぞれの最適な対向電極の電圧、つまり、上記の各電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電圧を、それぞれ反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とする。よって、上記液晶表示装置では、電圧のシフト量が同じであるため、上記反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とが一致している。
【0031】
以上により、本発明の液晶表示装置では、上記対向電極の電圧が、上記反射用最適対向電圧および透過用最適対向電圧となる。それゆえ、上記反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とが異なる場合には、必ず対向電極との電圧のずれが生じるが、本発明の液晶表示装置では、ずれが生じることがない。よって、上記反射用および/または透過用最適対向電圧と上記対向電極の電圧とのずれがDCバイアス電圧として、常に液晶層に印加される現象が発生しない。
【0032】
したがって、本発明の液晶表示装置では、液晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやかすみといった表示不良の発生を抑えることができる。さらに、フリッカーの発生も抑制することができる。一方、上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いているため、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示を可能とし得る液晶表示装置を提供することができる。
【0033】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCcs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))なる関係を満たすことを特徴としている。
【0034】
発明によれば、一般的な電圧のシフト量ΔVdをあらわす以下の関係式、ΔVd=ΔVg×Cgd/(Cgd+Clc+Ccs)において、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とにおける、それぞれの電圧のシフト量ΔVdの値が等しくなる。
【0035】
したがって、上記液晶表示装置では、上記反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させることが可能となる。
【0036】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のゲート配線と、第2のゲート配線とに同一のゲート信号を入力することを特徴としている。
【0037】
上記の発明によれば、上記第1のゲート配線と上記第2のゲート配線とに、同一ゲート信号を入力している。
【0038】
したがって、第1のゲート配線からのゲート信号の位相と、第2のゲート配線からのゲート信号との位相とをずらす必要がなくなるため、位相をずらして順次ゲート信号を入力する場合と比較して、ゲート信号の周波数を半分にすることが可能となる。それゆえ、消費電力を低減しつつ、高品位な表示を可能とし得る液晶表示装置を提供することができる。
【0039】
本発明の液晶表示装置は、上記の課題を解決するために、反射表示を行うための反射用画素電極と透過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリックス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の電位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給するソース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソース電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記ゲート信号によって選択されてソース信号を上記画素電極に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマトリックス基板と、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とに対向する対向電極を有する対向基板と、上記アクティブマトリックス基板と上記対向基板との間に形成される液晶層とを備える液晶表示装置において、上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とからなり、上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続され、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続され、上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容量素子とを有し、上記第1のスイッチング素子および上記第2のスイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトおよび透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトの後の、反射用画素電極と透過用画素電極とにおける、電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電圧を一致させるように、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とによるそれぞれの表示タイミングにあわせて、第1のスイッチング素子を介して反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、第2のスイッチング素子を介して透過用画素電極に印加されるソース信号電圧とを異ならせておくことを特徴としている。
【0040】
上記の発明によれば、上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続されている。一方、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続されている。よって、各スイッチング素子のスイッチングのタイミングを異ならせることができる。また、第1のスイッチング素子および第2のスイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトおよび透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトの後の、反射用画素電極と透過用画素電極とにおける、電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電圧を一致させるように、それぞれの画素電極に接続されたスイッチング素子がオンするときのソース信号電圧を変化させている。
【0041】
ここで、上記スイッチング素子のスイッチング時、より詳しくはスイッチング素子がオフした瞬間に、上述したとおり、上記ソース信号電圧から電圧がシフトする。また、上記反射用画素電極と透過用画素電極とでも、上記した4つの理由により、電圧のシフト量はそれぞれ異なる。
【0042】
それゆえ、本発明では、あらかじめ、反射用画素電極の電圧シフト量と透過用画素電極の電圧シフト量との差を考慮して、ソース電圧の電圧を制御することにより、各電極のシフト量を同じにする。
【0043】
これにより、上記反射用画素電極と透過用画素電極との電圧のシフト量が同じになり、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とにおいて同一のシフト量を有する波形の信号が得られる。
【0044】
それゆえ、上記したとおり、上記反射用画素電極の電圧波形の中心軸の電圧と、上記透過用画素電極の電圧波形の中心軸の電圧と、上記対向電極の電圧とを一致させることが可能となる。
【0045】
以上により、本発明の液晶表示装置では、上記対向電極の電圧を、上記反射用最適対向電圧および透過用最適対向電圧とすることができる。それゆえ、本発明の液晶表示装置では、対向電極との電圧のずれが生じない。
【0046】
したがって、本発明の液晶表示装置では、液晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやかすみといった表示不良の発生を抑えることができる。さらに、フリッカーの発生も抑制することができる。一方、上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いているため、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示を可能とし得る液晶表示装置を提供することができる。
【0047】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCcs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、上記反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、上記透過用画素電極に印加されるソース信号電圧との差ΔVsは、ΔVs=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))なる関係を満たすことを特徴としている。
【0048】
上記の発明によれば、反射用画素電極の電圧のシフト量ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))と、透過用画素電極の電圧のシフト量ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)との差だけ、反射用画素電極に印加されるソース配線のの信号電圧と透過用画素電極に印加されるソース信号電圧とが異なっている。
【0049】
したがって、反射用画素電極のシフト後の電位と、透過用画素電極のシフト後の電位とが、上記のソース信号電圧の差ΔVsにより、一致することになる。それゆえ、上記液晶表示装置では、上記反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させることが可能となる。
【0050】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さよりも大きくすることを特徴としている。
【0051】
上記の発明によれば、上記反射画素電極の領域に対応する液晶層を往復して通過する周囲光の該液晶層での光路長と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶層を通過する透過光の該液晶層での光路長とを近づけることができる。
【0052】
したがって、上記反射画素電極の領域に対応する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶層とにおける光の特性の変化を揃えることができる。それゆえ、光の利用効率をさらに高くすることが可能となる。
【0053】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さの2倍とすることを特徴としている。
【0054】
上記の発明によれば、上記反射画素電極の領域に対応する液晶層を往復して通過する周囲光の該液晶層での光路長と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶層を通過する透過光の該液晶層での光路長とを一致させることができる。
【0055】
したがって、上記反射画素電極の領域に対応する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶層とにおける光の特性の変化を一致させることができる。それゆえ、光の利用効率をいっそう高くすることが可能となる。
【0056】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、透過用画素電極の周辺部が、一層以上の絶縁膜を介して、組をなす反射用画素電極により重畳されていることを特徴としている。
【0057】
上記の発明によれば、組をなす反射用画素電極が透過用画素電極に絶縁膜を介して重畳されているために、上記反射用画素電極の領域がさらに広がることとなり、結果として、上記反射用画素電極と透過用画素電極とをあわせた領域の面積が増加する。
【0058】
したがって、液晶表示装置全体での開口率が高くなり、光の利用効率を上げることが可能となる。
【0059】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、反射用補助容量素子は、反射用補助容量配線と、反射用画素電極と電気的に接続された導電膜とにより形成され、透過用補助容量素子は、透過用補助容量配線と、透過用画素電極とにより形成され、上記反射用補助容量配線と上記透過用補助容量配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極では同一配線であり、上記補助容量配線は、反射用画素電極が重畳していない透過用画素電極の領域とは重畳しないことを特徴としている。
【0060】
上記の発明によれば、反射用画素電極の補助容量に用いられる補助容量配線と、透過用画素電極の補助容量に用いられる補助容量配線とが共通の補助容量配線となる。また、上記共通の補助容量配線は、液晶表示に用いられる透過画素電極の領域とは重ならない。
【0061】
したがって、上記透過用画素電極の液晶表示に利用される実面積を、補助容量配線の面積分、さらに増加させることが可能となる。それゆえ、液晶表示装置全体での開口率をさらに高くすることができ、光の利用効率をいっそう上げることが可能となる。
【0062】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のゲート配線と第2のゲート配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極とでは同一配線であることを特徴としている。
【0063】
上記の発明によれば、第1のゲート配線と第2のゲート配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極とでは同一配線としているため、1組の反射用画素電極と透過用画素電極とからなる画素電極に対するゲート配線の数を2本から1本に減らすことが可能となる。
【0064】
したがって、上記画素の微細化を図ることができ、解像度の高い液晶表示装置が得られると同時に、液晶表示装置の生産時の歩留まりを大幅に低減することが可能となる。
【0065】
【発明の実施の形態】
〔実施の形態1〕
本発明の実施の一形態について図1ないし図6に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【0066】
本実施の形態のアクティブマトリックス基板1aは、図1に示すように、画素電極2がマトリクス状に設けられている。また、上記画素電極2の周囲を通り互いに直交するように、走査信号を供給するためのゲート配線3と、表示信号を供給するためのソース配線4とが設けられている。
【0067】
上記ゲート配線3とソース配線4とは金属膜で形成されており、その一部が画素電極2の外周部分とゲート絶縁膜11(図2、3参照)を介して重なっている。
【0068】
また、上記ゲート配線3とソース配線4との交差部付近には、画素電極2に表示信号を供給するためのスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TFT)5が設けられている。
【0069】
この薄膜トランジスタ(TFT)5のゲート電極6には、ゲート配線3が接続され、該ゲート電極6に入力される信号により薄膜トランジスタ(TFT)5が駆動制御される。また、薄膜トランジスタ(TFT)5のソース電極7には、ソース配線3が接続され、該ソース電極7にデータ信号が入力される。
【0070】
また、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1aの特徴として、画素電極2は、金属膜からなる反射用画素電極2aと透明導電膜からなる透過用画素電極2bとから構成されている。さらに、上記ゲート配線3、薄膜トランジスタ(TFT)5、ゲート電極6、ソース電極7、ドレイン電極8、および、補助容量配線12は、上記反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとを、個別に制御するために、それぞれ個別に設けられている。
【0071】
すなわち、上記反射用画素電極2a用として、反射用ゲート配線3a(第1のゲート配線)、反射用薄膜トランジスタ(TFT)5a(第1のスイッチング素子)、反射用ゲート電極6a、反射用ソース電極7a、反射用ドレイン電極8a、および、反射用補助容量配線12aが設けられている。また、上記透過用画素電極2b用として、透過用ゲート配線3b(第2のゲート配線)、透過用薄膜トランジスタ(TFT)5b(第2のスイッチング素子)、透過用ゲート電極6b、透過用ソース電極7b、透過用ドレイン電極8b、および、透過用補助容量配線12bが設けられている。
【0072】
次に、上記アクティブマトリックス基板1aを用いた液晶表示装置の断面構造について説明する。
【0073】
上記アクティブマトリックス基板1aは、図2(図1のA−A線矢視断面図)に示すとおり、上記透明絶縁性基板15上に、反射用ゲート電極6aが設けられており、該反射用ゲート電極6aはゲート絶縁膜11によって覆われている。そして、上記ゲート絶縁膜11上に、半導体層16とドーピングされた半導体層17とが、この順で積層されている。さらに、上記ドーピングされた半導体層17を覆うように、ITO(Indium Tin Oxide)からなる透明導電膜と金属膜との2層で形成される反射用ソース電極7aと反射用ドレイン電極8aとが形成されている。
【0074】
また、上記反射用ソース電極7aには、上記透明導電膜と金属膜とからなるソース配線4が接続されており、上記反射用ドレイン電極8aには、上記透明導電膜と金属膜とからなる接続電極10が接続されている。なお、上記接続電極10は、コンタクトトホール9を介して反射用画素電極2aと接する箇所におていは、2層構造となっているが、その他の箇所においては、上記透明導電膜の1層で形成されている。
【0075】
さらに、上記電極7a・8aの上には、層間絶縁膜18を介して、上記反射用画素電極2aが形成されている。また、上記反射用画素電極2aと対向基板13に形成された対向電極14との間には、液晶層29が形成されている。
【0076】
また、上記透明絶縁性基板15上には、図3(図1のB−B線矢視断面図)に示すとおり、反射用補助容量配線12aが設けられている。そして、上記ゲート絶縁膜11上には、上記透明導電膜で形成される透過用画素電極2bが設けられている。ここで、接続電極10および透過用画素電極2bは、それぞれ、上記ゲート絶縁膜11を介して、上記反射用補助容量配線12a・12b上に形成されている。
【0077】
さらに、上記透明絶縁性基板15上には、図4(図1のC−C線矢視断面図)に示すとおり、透過用ゲート電極6bが設けられており、該透過用ゲート電極6bはゲート絶縁膜11によって覆われている。そして、上記ゲート絶縁膜11上に、半導体層16とドーピングされた半導体層17とが、この順で積層されている。さらに、上記ドーピングされた半導体層17を覆うように、上記透明導電膜と金属膜との2層で形成される透過用ソース電極7bと透過用ドレイン電極8bとが形成されている。
【0078】
また、上記透過用ソース電極7bには、上記透明導電膜と金属膜とからなるソース配線4が接続されており、上記透過用ドレイン電極8bには、透過用画素電極2bが接続されている。
【0079】
以上の構成により、上記ドレイン電極8aに電気的に接続されている接続電極10は、上記補助容量配線12aとその間に介在するゲート絶縁膜11とによって、反射用補助容量素子を形成する。また、上記透過用画素電極2bは、上記補助容量配線12bとその間に介在するゲート絶縁膜11とによって、透過用補助容量素子を形成する。
【0080】
さらに、上記透過用画素電極2bは、上述したとおり、ゲート絶縁膜11上に形成されているため直接透過用ドレイン電極8bに接続されており、反射用画素電極2aと反射用ドレイン電極8aとを接続するコンタクトホール9のような構成要素は不要となっている。
【0081】
なお、上記補助容量配線12a・12bは金属膜で形成され、図示しない配線により対向基板13に形成された対向電極14に接続される。また、上記ソース配線4を、上記透明導電膜と金属膜との2層構造としているのは、断線等の欠損に対する冗長性を持たせるためである。
【0082】
以上のように、アクティブマトリックス基板1aが構成されるが、次に、該アクティブマトリックス基板1aの製造方法について説明する。
【0083】
まず、ガラス等の透明絶縁性基板15上に反射用ゲート電極6aおよび透過用ゲート電極6bと、反射用ゲート配線3aおよび透過用ゲート配線3bと、反射用補助容量配線12aおよび透過用補助容量配線12bとをスパッタリング法等により成膜後、フォトリソグラフィー工程を経てパターニングを行う。
【0084】
次に、ゲート絶縁膜11、半導体層16、ドーピングされた半導体層17をプラズマCVD法を用いて成膜する。続いてITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極膜をスパッタリング法で成膜し、フォトリソグラフィー工程を経て、接続電極10および透過用画素電極2bを形成する。さらに、金属膜をスパッタリング法で成膜した後、パターニングを行い、ソース配線4と、反射用ソース電極7aおよび透過用ソース電極7bと、反射用ドレイン電極8aおよび透過用ドレイン電極8bとを形成する。
【0085】
その後、層間絶縁膜18として感光性のアクリル樹脂をスピン塗布法により、3μmの膜厚で形成する。さらに、上記アクリル樹脂に対して、パターン露光を行い、アルカリ性の溶液によって現像処理する。これにより、露光された部分のみが、アルカリ性の溶液によってエッチングされ、層間絶縁膜18を貫通するコンタクトホール9を形成する。なお、上記コンタクトホール9は、良好なテーパ形状を有するように形成する。
【0086】
このように、上記層間絶縁膜18として感光性のアクリル樹脂を用いることにより、薄膜の形成をスピン塗布法により行うことができる。したがって、数μmという膜厚の薄膜を容易に形成することができる。また、上記層間絶縁膜18のパターニングにはフォトレジストの塗布工程が不要となる等、生産性の点で有利になる。
【0087】
また、本実施の形態における上記アクリル樹脂は着色されており、パターニング後に全面を露光処理することにより透明化することができる。なお、上記アクリル樹脂の透明化は、化学的処理によっても行うことができる。
【0088】
次に、上記層間絶縁膜18上に反射用画素電極2aを、反射用ゲート配線3aおよび透過用ゲート配線3bと、ソース配線4と、反射用薄膜トランジスタ(TFT)5aおよび透過用薄膜トランジスタ(TFT)5bと、反射用補助容量配線12aとに重なるように形成する。なお、本実施の形態においては、上記反射用画素電極2aの形成に際し、アルミニウム(Al)をスパッタリング法で成膜後、フォトリソグラフィー工程によりパターニングを行っている。しかし、反射用画素電極2aの材料としては、アルミニウム(Al)に限定されることはなく、他の金属材料、例えば銀(Ag)、または、AlSi(Siの含有量1パーセント程度)等のアルミ系合金を用いてもよく、反射率の高い導電性を有する膜であればよい。
【0089】
以上により、本実施の形態におけるアクティブマトリックス基板1aを製造することができる。
【0090】
さらに、配向塗布膜および対向基板13との貼り合せ、液晶材料の注入、偏光板の貼り合わせ等の従来より知られている方法を用いて液晶セルを製造し、背面にバックライトを設置することにより、上記アクティブマトリックス基板1aを用いた液晶表示装置が完成する。
【0091】
また、上記アクティブマトリックス基板1aは、層間絶縁膜18上に反射用画素電極2aを設けているため、該層間絶縁膜18の表面にフォトリソグラフィー工程等によって凹凸を形成しておくことにより、表面に凹凸を有する反射用画素電極2aを得ることができる。したがって、この反射用画素電極2aの表面の凹凸により、さまざまな入射角度の周囲光を利用することが可能となり、より明るい液晶表示装置を実現することができる。
【0092】
なお、上記液晶装置においては、上記透過用画素電極2bと上記対向電極14との間の上記液晶層29の厚さを、上記反射用画素電極2aと上記対向電極14との間の上記液晶層29の厚さよりも、厚くすることが望ましい。これにより、反射用画素電極2aにより反射される光の液晶層29での光路長と、透過用画素電極2bを通過する光の液晶層29での光路長とを近づけることができる。したがって、両液晶層29での光の特性変化を揃えることができ、光の利用効率をあげることが可能となる。
【0093】
さらには、上記透過用画素電極2bと上記対向電極14との間の上記液晶層29の厚さを、上記反射用画素電極2aと上記対向電極14との間の上記液晶層29の厚さの2倍とすることがより好ましい。これにより、反射用画素電極2aにより反射される光の液晶層29での光路長と、透過用画素電極2bを通過する光の液晶層29での光路長とを同じにすることができる。したがって、両液晶層29での光の特性変化を一致させることができ、光の利用効率をさらにあげることが可能となる。
【0094】
以上のように、本実施の形態におけるアクティブマトリックス基板1aは、反射型表示を行う反射用画素電極2aと透過型表示を行う透過用画素電極2bとが独立した構成となっているため、反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとの制御を個別のパラメータを用いて行うことが可能となる。なお、本実施の形態においては、上述したとおり、上記反射用画素電極2aおよび透過用画素電極2bは別画素として独立に制御されるが、画像の表示に関しては、あくまでも一組として用いられる。
【0095】
ところで、従来の液晶表示装置においては、図13に示すとおり、同一画素内に反射領域(反射用画素電極)26と透過領域(透過用画素電極)28とを形成し、かつ、反射領域と透過領域との液晶の厚みを異なるように変えているため、液晶層の容量Clcは互いに異なる値となる。また、上記液晶表示装置では、該液晶装置の構成上、ゲート電極−ドレイン電極間の寄生容量Cgd、補助容量素子の容量 (補助容量)Ccs、および、ゲート電位差ΔVgは、各領域26・28とも同一である。それゆえ、それぞれの最適対向電圧が異なり、対向電極(図示せず)の電圧と反射領域26の最適対向電圧とのずれ、および/または、対向電極の電圧と透過領域28の最適対向電圧とのずれが、表示品位を低下させる一因となっている。
【0096】
一方、本実施の形態におけるアクティブマトリックス基板1aを用いた液晶表示装置は、反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに対して、個別のパラメータを用いて制御するために、後述するように、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧とのずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とのずれをなくすことが可能となる。
【0097】
したがって、光の利用効率の高い、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置が得られる。また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象を抑制することが可能となる。
【0098】
以下に、上記反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させるためのパラメータによる制御方法について説明する。
【0099】
上記各画素電極2a・2bに印加される電圧は、上述したとおり、ソース電圧とは一致せず、ゲートを閉じた瞬間にソース電圧からシフトする。
【0100】
一方、上記電位のシフトを制御するパラメータとしては、例えば、配線パターン、構造、および、材料に起因する、上記ゲート電極−ドレイン電極間の寄生容量Cgd、液晶層29の容量Clc、および、補助容量素子の容量 (以下、補助容量という)Ccs等の各種容量設計パラメータと、上記ゲート電位差ΔVg等の入力信号によるパラメータとがある。
【0101】
そこで、反射用画素電極2aおよび透過用画素電極2bに対して、上記各種容量設計パラメータを個別に制御することにより、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させる第1の方法について説明する。次に、反射用画素電極2aおよび透過用画素電極2bに対して、入力信号によるパラメータを個別に制御することにより、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させる第2の方法について説明する。さらに、反射用画素電極2aおよび透過用画素電極2bに対して、それぞれの上記各種容量設計パラメータおよび入力信号によるパラメータを個別に制御することにより、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させる第3の方法について説明する。最後に、ソース信号を制御することにより、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させる第4の方法について説明する。
【0102】
まず、各種容量設計パラメータを個別に制御する第1の方法について説明する。なお、この方法では、上記反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに同一振幅のゲート信号を入力することとする。
【0103】
ここで、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量(以下、反射用画素電極2aの電圧シフト量という)をΔVd(r)、透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量 (以下、透過用画素電極2bの電圧シフト量という)をΔVd(t)とすると、前述した式(1)により、ΔVd(r)およびΔVd(t)は、それぞれ、以下の式(2)および(3)により求められる。
【0104】
ΔVd(r)=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r)) … (2)
ΔVd(t)=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)) … (3)
なお、上記反射用画素電極2aのゲート電位差をΔVg(r)、反射用ゲート電極6aと反射用ドレイン電極8aとの間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極2aと対向電極14との間の液晶層29の容量をClc(r)、反射用画素電極に接続された補助容量をCcs(r)とする。また、透過用画素電極2bのゲート電位差をΔVg(t)、上記透過用ゲート電極6bと透過用ドレイン電極8bとの間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極2bと対向電極14との間の液晶層29の容量をClc(t)、透過用画素電極に接続された補助容量をCcs(t)とする。ここで、各ゲート電位差ΔVg(r)・ΔVg(t)はそれぞれ、各ゲート信号の高レベル電圧Vgh(r)・Vgh(t)と各ゲート信号の低レベル電圧Vgl(r)・Vgl(t)との差とする。
【0105】
一方、上記反射用画素電極2aのゲート信号と透過用画素電極2bのゲート信号とは同一の振幅を有するため、反射用画素電極2aのゲート電位差ΔVg(r)と透過用画素電極2bのゲート電位差ΔVg(t)とは同じ値となる。
【0106】
したがって、反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とを同じにするためには、以下の式(4)を満たすように液晶表示装置を設計すればよい。
【0107】
Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))=Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)) … (4)
つまり、上記式(4)の関係を満たすように、各寄生容量Cgd(r)・Cgd(t)、各液晶層29の容量Clc(r)・Clc(t)、および、各補助容量Ccs(r)・Ccs(t)を選択することにより、反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とを同じにすることが可能となる。
【0108】
以上により、上記反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させることが可能となる。
【0109】
また、反射用ゲート配線3aと透過用ゲート配線3bとを一組として、同一ゲート信号を入力してもよい。この場合には、ゲート信号の周波数が、従来構造のゲート信号の周波数の2倍になることを避けることができる。
【0110】
すなわち、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1aでは、上述したとおり、画素電極2は、金属膜からなる反射用画素電極2aと透明導電膜からなる透過用画素電極2bとから構成され、それぞれに個別のゲート配線3a・3bが設けられている。このため、上記アクティブマトリックス基板1aでは、従来構造のアクティブマトリックス基板に比べ、反射用画素電極に接続されたゲート配線からのゲート信号の位相と透過用画素電極に接続されたゲート配線からのゲート信号の位相とが異なるため、2倍の周波数のゲート信号を入力する必要がある。しかし、上述したように、反射用ゲート配線3aと透過用ゲート配線3bとを一組として、同一ゲート信号、つまり同一振幅かつ同一位相のゲート信号を入力することにより、2倍の周波数のゲート信号を入力する必要がなくなり、従来の液晶表示装置に使われているアクティブマトリックス基板と同一の周波数のゲート信号の入力で表示が可能となる。
【0111】
次に、入力信号によるパラメータを個別に制御する第2の方法について説明する。
【0112】
従来の液晶表示装置に使われているアクティブマトリックス基板では、上述したとおり、反射領域26と透過領域28との液晶の厚みが異なるため、液晶層の容量Clcは互いに相違する。一方、ゲート電極−ドレイン電極間の寄生容量Cgd、補助容量Ccs、および、ゲート電位差ΔVgは、各領域26・28とも同一である。それゆえ、Cgd/(Cgd+Clc+Ccs)の値は、各領域26・28では異なっている。したがって、上記の式(1)に示す、各領域26・28の電圧シフト値ΔVdも異なる値となる。
【0113】
そこで、本実施の形態においては、上記反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとのCgd/(Cgd+Clc+Ccs)の値が異なる場合においても、上記反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とが同じなるように、反射用画素電極2aのゲート電位差ΔVg(r)と透過用画素電極2bのゲート電位差ΔVg(t)とを個別に制御する。
【0114】
つまり、上記反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とは、それぞれ、上記の式(2)および式(3)で示されるため、以下の式(5)を満たすように液晶表示装置を設計すればよい。
【0115】
ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)) … (5)
これにより、上記反射用画素電極2aのCgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))の値と、透過用画素電極2bのCgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))の値とが互いに異なる場合であっても、反射用画素電極2aのゲート電位差ΔVg(r)と透過用画素電極2bのゲート電位差ΔVg(t)とを個別に制御することにより、上記反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とを同じにすることが可能となる。
【0116】
以下に、上記第2の方法を用いた制御について、図5(a)および図5(b)に基づいて、具体的に説明する。
【0117】
従来においては、図14(a)〜(e)に示すように、反射用画素電極26のゲート電位差ΔVg(r)と透過用画素電極28のゲート電位差ΔVg(t)とが同一となるゲート信号を入力しても、反射用画素電極26のシフト量ΔVd(r)と透過用画素電極28のシフト量ΔVd(t)とは異なる結果となる。そこで、本実施の形態においては、例えば、図5(a)に示すように、透過用画素電極2bにおけるゲート信号の高レベル電圧Vgh(t)を制御し、例えば、Vgh(t)>Vgh(t)’なるVgh(t)’に補正することとする。
【0118】
一方、透過用画素電極2bに印加されるドレイン電圧は、上記式(1)に従って、ゲート電位差ΔVg(ΔVg=Vgh×Vgl)に比例して変化する。したがって、ゲート信号の高レベル電圧Vgh(t)をVgh(t)’に補正するこにより、図5(b)に示すように、透過用画素電極2bに印加されるドレイン電圧のシフト量もΔVd(t)からΔVd(t)’へと変化する。
【0119】
したがって、補正後の透過用画素電極2bの電圧のシフト量ΔVd(t)’が、反射用画素電極2aの電圧のシフト量ΔVd(r)と等しくなるように、上記ゲート信号入力時の電圧Vgh(t)’の値を決定すればよい。つまり、図5(a)に示すように、Vgh(t)の値をより小さいVgh(t)’とし、電圧のシフト量を、ΔVd(t)とΔVd(r)との差ΔVsだけ少なくすれば、反射用画素電極2aの電圧のシフト量ΔVd(r)と補正後の透過用画素電極2bの電圧のシフト量ΔVd(t)’とが等しくなる。ただし、図14(d)および図14(e)においては、便宜的にΔVd(t)>ΔVd(r)としている。
【0120】
以上により、上記反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させることが可能となる。
【0121】
次に、各種容量設計パラメータおよび入力信号によるパラメータを個別に制御する第3の方法について説明する。
【0122】
上記反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とは、それぞれ、上記の式(2)および式(3)で示される。したがって、上記反射用画素電極2aと透過用画素電極2bと入力されるゲート信号が同じであろうとなかろうと、また、上記反射用画素電極2aのCgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))の値と、透過用画素電極2bのCgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))の値とが互いに異なる場合であろうとなかろうと、上記の式(5)を満たすように、上記反射用画素電極2aのゲート電位差ΔVg(r)、反射用ゲート電極6aと反射用ドレイン電極8aとの間の寄生容量Cgd(r)、反射用画素電極2aと対向電極14との間の液晶層29の容量Clc(r)、反射用画素電極に接続された補助容量Ccs(r)、透過用画素電極2bのゲート電位差ΔVg(t)、上記透過用ゲート電極6bと透過用ドレイン電極8bとの間の寄生容量Cgd(t)、透過用画素電極2bと対向電極14との間の液晶層29の容量Clc(t)、および、透過用画素電極に接続された補助容量Ccs(t)を選択すればよい。
【0123】
これによっても、反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とを同じにすることが可能となる。
【0124】
以上により、上記反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させることが可能となる。
【0125】
次に、ソース信号を制御する第4の方法について説明する。
【0126】
上述したとおり、反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とは、それぞれ、上記の式(2)および式(3)で与えられる。したがって、ΔVd(t)とΔVd(r)との差ΔVsは、以下の式(6)で示される。
【0127】
ΔVs=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)) … (6)
そこで、本実施の形態においては、例えば、図6(a)に示すように、あらかじめ、上記ΔVd(t)とΔVd(r)との差ΔVsを透過用画素電極2bに印加されるソース信号のみに加算する。これにより、図6(b)に示すように、電圧のシフト量が、ΔVd(t)とΔVd(r)との差ΔVsだけ少なくなる。したがって、2つ目の制御方法と同様に、反射用画素電極2aの電圧のシフト量ΔVd(r)と補正後の透過用画素電極2bの電圧のシフト量ΔVd(t)’とが等しくなる。
【0128】
以上により、上記反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させることが可能となる。
【0129】
したがって、上記アクティブマトリックス基板1aを備える液晶表示層装置を用いて、上述した、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させるためのパラメータによる制御を行うことにより、光の利用効率が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置が得られる。また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象を抑制することが可能となる。
【0130】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【0131】
〔実施の形態2〕
本発明の他の実施の形態について図7および図8に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【0132】
本実施の形態のアクティブマトリックス基板1bは、図7に示すとおり、1画素に占める反射用画素電極2aの割合を大きくしたものである。また、上記反射用画素電極2aは、透過用画素電極2bの外周部に沿った形状を有する開口部P1を有しており、該開口部P1内においてのみ透過用画素電極2bによる表示を視認することができる。
【0133】
すなわち、図8に示すように、透過用画素電極2bの周辺部の上に、層間絶縁膜18を介して、組をなす反射用画素電極2aが重畳されている。
【0134】
より具体的には、上記反射用画素電極2aは、組をなす透過用画素電極2bの周辺部と、隣り合うソース配線4の間における透過用ゲート配線3bと、透過用ゲート電極6bと、透過用ソース電極7bと、透過用ドレイン電極8bの一部とに、少なくとも一層以上の層間絶縁膜18を介して重ねられている。
【0135】
以上のように、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1bでは、前記実施の形態1のアクティブマトリックス基板1aよりも、開口率を高くすることができる。したがって、上記対向基板13側に遮光用のブラックマトリックスを設けることなく、コントラストの低下を防止することができ、光の利用効率を高めることが可能となる。
【0136】
一方、上記実施の形態1でも示したとおり、フリッカーを防止し、高品位な表示をするためには、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧とすることが望ましい。
【0137】
そこで、本実施の形態においても、上記実施の形態1で示した、パラメータによる制御方法を用いる。つまり、反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに対して、個別のパラメータを用いて制御し、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧とのずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とのずれをなくしている。
【0138】
上記のパラメータによる制御方法は、上記実施の形態1で示した、4つの方法の何れかを利用することにより実現できるため、記載を省略する。
【0139】
したがって、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1bを用いることにより、光の利用効率が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置を得ることが可能となる。また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象を抑制することが可能となる。
【0140】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【0141】
上記の実施の形態では、上記反射用画素電極2aは、組をなす透過用画素電極2bの周辺部と、隣り合うソース配線4の間における透過用ゲート配線3bと、透過用ゲート電極6bと、透過用ソース電極7bと、透過用ドレイン電極8bの一部とに、少なくとも一層以上の層間絶縁膜18を介して重ねられている。しかし、組をなす反射用画素電極2aにより重畳される領域は、上記のように、特に限定されるものではなく、十分な開口率が得られるだけの領域であればよい。
【0142】
〔実施の形態3〕
本発明の他の実施の形態について図9ないし図11に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【0143】
本実施の形態のアクティブマトリックス基板1cは、図9に示すとおり、上記実施の形態2と同様に、1画素に占める反射用画素電極2aの割合を大きくしたものである。また、上記反射用画素電極2aは、実施の形態2と同様に、開口部P2を有しており、該開口部P2内においてのみ透過用画素電極2bによる表示を視認することができる。
【0144】
すなわち、図10に示すように、透過用画素電極2bの周辺部の上に、層間絶縁膜18を介して、組をなす反射用画素電極2aが重畳されている。
【0145】
より具体的には、上記反射用画素電極2aは、組をなす透過用画素電極2bの周辺部と、隣り合うソース配線4の間における透過用ゲート配線3bと、透過用ゲート電極6bと、透過用ソース電極7bと、透過用ドレイン電極8bとに、少なくとも一層以上の層間絶縁膜18を介して重ねられている。
【0146】
また、一対の上記反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに接続される補助容量配線20を共通化している。さらに、上記共通の補助容量配線20は、反射用画素電極2aに重畳される位置に配されている。
【0147】
また、上記透過用ゲート電極3bは、上記反射用ゲート電極3aと補助容量配線20の間に配されている。
【0148】
つまり、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1cは、図10および図11に示すように、上記透過用画素電極2bによる表示を視認することができる範囲を除いた透過用画素電極2bの部分が、反射用画素電極2aと透明絶縁性基板15との間に配されており、かつ、上記共通の補助容量配線20が、透過用画素電極2bと透明絶縁性基板15との間に配される構造となっている。
【0149】
なお、上記透過用画素電極2bは、共通の補助容量配線20とその間に介在するゲート絶縁膜11とによって、透過用補助容量素子を形成する。
【0150】
以上のような構造をとることにより、上記対向基板13側から視認できる透過用画素電極2bの領域と補助容量配線20とが重ならないため、透過用画素電極2bの対向基板13側から視認できる領域の面積を広くすることができる。
【0151】
したがって、上記アクティブマトリックス基板1cでは、上記透過用画素電極2bによる表示を視認することができる範囲を除いた透過用画素電極2bの部分が反射用画素電極2aと透明絶縁性基板15との間に配されることにより、開口率が高くなることに加えて、上記補助容量配線20の配置位置により、開口率をさらに高くすることが可能となる。
【0152】
それゆえ、上記アクティブマトリックス基板1cでは、上記実施の形態2よりも、さらに開口率を高くすることが可能となり、上記対向基板13側に遮光用のブラックマトリックスを設けることなく、コントラストの低下を防止することができ、光の利用効率を高めることが可能となる。
【0153】
一方、上記アクティブマトリックス基板1cでは、反射画素電極2aの反射用補助容量素子は、図11に示すように、上記実施の形態1で示した接続電極10を介することなく、補助容量電極19をゲート絶縁膜11を介して共通の補助容量配線20に重畳することにより形成されている。また、従来どおりに接続電極10を用いて補助容量を形成した場合には、該接続電極10が透過用ゲート配線3bとゲート絶縁膜11とを介して重なり、かなり大きな寄生容量が発生することになる。そのため、上記アクティブマトリックス基板1cでは、上記コンタクトホール9を介して、補助容量電極19を反射用画素電極2aに接続させ、さらに、反射用画素電極2aと透過用ゲート配線3bとの間の層間絶縁膜18に誘電率が低くて膜厚の厚いアクリル系樹脂を採用することにより、上記寄生容量が大きくなることを抑えている。
【0154】
一方、上記実施の形態1でも示したとおり、フリッカーを防止し、高品位な表示をするためには、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することが望ましい。
【0155】
そこで、本実施の形態においても、上記実施の形態1で示した、パラメータによる制御方法を用いる。つまり、反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに対して、個別のパラメータを用いて制御し、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧とのずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とのずれをなくしている。
【0156】
上記のパラメータによる制御方法は、上記実施の形態1で示した、4つの方法の何れかを利用することにより実現できるため、記載を省略する。
【0157】
したがって、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1cを用いることにより、光の利用効率が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置を得ることが可能となる。また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象を抑制することが可能となる。
【0158】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【0159】
例えば、組をなす反射用画素電極2aの平面形状は、上記のように補助容量配線20が反射用画素電極2aに重畳される位置に配されている範囲内で、さまざまな形状としてもよい。
【0160】
〔実施の形態4〕
本発明の他の実施の形態について図12に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1または実施の形態3の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【0161】
本実施の形態のアクティブマトリックス基板1dは、図12に示すとおり、上記実施の形態3のアクティブマトリックス基板1cの反射用ゲート配線3aと透過用ゲート配線3bとを共通のゲート配線3とし、それに伴い、アクティブマトリックス基板1cの反射用ゲート電極6aと透過用ゲート電極6bとを共通のゲート電極6としたものである。
【0162】
したがって、上記アクティブマトリックス基板1dのゲート配線数は、実施の形態3におけるアクティブマトリックス基板1cのゲート配線数の半分しか必要としない。これにより、本実施の形態においては、実施の形態3において得られる効果に加えて、1組の反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとからなる画素の微細化を図ることができ、解像度の高い液晶表示装置が得られる。さらに、上記アクティブマトリックス基板1dの生産時の歩留まりを低減することができ、上記アクティブマトリックス基板1dを備える液晶表示装置の生産効率をあげることが可能となる。
【0163】
一方、上記実施の形態1でも示したとおり、フリッカーを防止し、高品位な表示をするためには、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することが望ましい。
【0164】
そこで、本実施の形態においても、上記実施の形態1で示した、パラメータによる制御方法を用いる。つまり、反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに対して、個別のパラメータを用いて制御し、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧とのずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とのずれをなくしている。
【0165】
上記のパラメータによる制御方法は、上記実施の形態1で示した、4つの方法の何れかを利用することにより実現できるため、記載を省略する。
【0166】
したがって、本実施の形態のアクティブマトリックス基板1dを用いることにより、光の利用効率が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置を得ることが可能となる。また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象を抑制することが可能となる。
【0167】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【0168】
例えば、実施の形態3にも示したとおり、組をなす反射用画素電極2aの平面形状を、上記のように補助容量配線20が反射用画素電極2aに重畳される位置に配されている範囲内で、さまざまな形状としてもよい。
【0169】
【発明の効果】
本発明の液晶表示装置は、以上のように、上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とからなり、上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続され、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続され、上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容量素子とを有し、第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記反射用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容量とが、上記スイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量とが同じになるように設定されているものである。
【0170】
それゆえ、本発明の液晶表示装置では、液晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやかすみといった表示不良の発生を抑えることができる。さらに、フリッカーの発生も抑制することができる。一方、上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いているため、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示を可能とし得るという効果を奏する。
【0171】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCcs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))なる関係を満たすものである。
【0172】
それゆえ、上記液晶表示装置では、上記反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させることが可能となるという効果を奏する。
【0173】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のゲート配線と、第2のゲート配線とに同一のゲート信号を入力するものである。
【0174】
それゆえ、反射用画素電極に接続されたゲート配線からのゲート信号の位相と、透過用画素電極に接続されたゲート配線からのゲート信号との位相とをずらす必要がなくなるため、位相をずらして順次ゲート信号を入力する場合と比較して、ゲート信号の周波数を半分にすることが可能となる。それゆえ、消費電力を低減しつつ、高品位な表示を可能とし得るという効果を奏する。
【0175】
本発明の液晶表示装置は、以上のように、上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とからなり、上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続され、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続され、上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容量素子とを有し、上記第1のスイッチング素子および上記第2のスイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトおよび透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトの後の、反射用画素電極と透過用画素電極とにおける、電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電圧を一致させるように、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とによるそれぞれの表示タイミングにあわせて、第1のスイッチング素子を介して反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、第2のスイッチング素子を介して透過用画素電極に印加されるソース信号電圧とを異ならせておくものである。
【0176】
それゆえ、本発明の液晶表示装置では、液晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやかすみといった表示不良の発生を抑えることができる。さらに、フリッカーの発生も抑制することができる。一方、上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いているため、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示を可能とし得るという効果を奏する。
【0177】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCcs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、上記反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、上記透過用画素電極に印加されるソース信号電圧との差ΔVsは、ΔVs=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))なる関係を満たすものである。
【0178】
それゆえ、反射用画素電極のシフト後の電位と、透過用画素電極のシフト後の電位とが、上記のソース信号電圧の差ΔVsにより、一致することになる。それゆえ、上記液晶表示装置では、上記反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させることが可能となるという効果を奏する。
【0179】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さよりも大きくするものである。
【0180】
それゆえ、上記反射画素電極の領域に対応する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶層とにおける光の特性の変化を揃えることができる。それゆえ、光の利用効率をさらに高くすることが可能となるという効果を奏する。
【0181】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さの2倍とするものである。
【0182】
それゆえ、上記反射画素電極の領域に対応する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶層とにおける光の特性の変化を一致させることができる。それゆえ、光の利用効率をいっそう高くすることが可能となるという効果を奏する。
【0183】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、透過用画素電極の周辺部が、一層以上の絶縁膜を介して、組をなす反射用画素電極により重畳されているものである。
【0184】
それゆえ、液晶表示装置全体での開口率が高くなり、光の利用効率を上げることが可能となるという効果を奏する。
【0185】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、反射用補助容量素子は、反射用補助容量配線と、反射用画素電極と電気的に接続された導電膜とにより形成され、透過用補助容量素子は、透過用補助容量配線と、透過用画素電極とにより形成され、上記反射用補助容量配線と上記透過用補助容量配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極では同一配線であり、上記補助容量配線は、反射用画素電極が重畳していない透過用画素電極の領域とは重畳しないものである。
【0186】
それゆえ、上記透過用画素電極の液晶表示に利用される実面積を、補助容量配線の面積分、さらに増加させることが可能となる。それゆえ、液晶表示装置全体での開口率をさらに高くすることができ、光の利用効率をいっそう上げることが可能となるという効果を奏する。
【0187】
また、本発明の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、第1のゲート配線と第2のゲート配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極とでは同一配線であるものである。
【0188】
したがって、上記画素の微細化を図ることができ、解像度の高い液晶表示装置が得られると同時に、液晶表示装置の生産時の歩留まりを大幅に低減することが可能となるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明におけるアクティブマトリックス基板の実施の一形態を示す平面図である。
【図2】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のA−A線矢視断面図である。
【図3】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のB−B線矢視断面図である。
【図4】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のC−C線矢視断面図である。
【図5】(a)は上記アクティブマトリックス基板における透過用画素電極に接続される薄膜トランジスタ(TFT)のゲート電極に入力される補正されたゲート信号を示す波形図であり、(b)は上記アクティブマトリックス基板における透過用画素電極に印加される補正されたドレイン電圧を示す信号の波形図である。
【図6】(a)は上記アクティブマトリックス基板におけるソース電極に入力される補正されたソース信号の波形図であり、(b)は上記アクティブマトリックス基板における透過用画素電極に印加される補正されたドレイン電圧を示す信号の波形図である。
【図7】本発明におけるアクティブマトリックス基板の他の実施の一形態を示す平面図である
【図8】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のD−D線矢視断面図である。
【図9】本発明におけるアクティブマトリックス基板のさらに他の実施の一形態を示す平面図である
【図10】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のE−E線矢視断面図である。
【図11】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のF−F線矢視断面図である。
【図12】本発明におけるアクティブマトリックス基板のさらに他の実施の一形態を示す平面図である
【図13】従来のアクティブマトリックス基板を示す平面図である。
【図14】(a)は上記従来のアクティブマトリックス基板における反射用画素電極に接続される薄膜トランジスタ(TFT)のゲート電極に入力されるゲート信号を示す波形図であり、(b)は上記従来のアクティブマトリックス基板における透過用画素電極に接続される薄膜トランジスタ(TFT)のゲート電極に入力されるゲート信号の波形図であり、(c)は上記従来のアクティブマトリックス基板におけるソース電極に入力されるソース信号を示す波形図であり、(d)は上記従来のアクティブマトリックス基板における反射用画素電極に印加されるドレイン電圧を示す信号の波形図であり、(e)は上記従来のアクティブマトリックス基板における透過用画素電極に印加されるドレイン電圧を示す信号の波形図である。
【符号の説明】
1a・1b・1c・1d アクティブマトリックス基板
2 画素電極
2a 反射用画素電極
2b 透過用画素電極
3 ゲート配線
3a 反射用ゲート配線 (第1のゲート配線)
3b 透過用ゲート配線(第2のゲート配線)
4 ソース配線
5 薄膜トランジスタ (スイッチング素子)
5a 反射用薄膜トランジスタ (第1のスイッチング素子)
5b 透過用薄膜トランジスタ (第2のスイッチング素子)
6 ゲート電極
6a 反射用ゲート電極
6b 透過用ゲート電極
7 ソース電極
7a 反射用ソース電極
7b 透過用ソース電極
8 ドレイン電極
8a 反射用ドレイン電極
8b 透過用ドレイン電極
9 コンタクトホール
10 接続電極
11 ゲート絶縁膜
12 補助容量配線
12a 反射用補助容量配線
12b 透過用補助容量配線
13 対向基板
14 対向電極
15 透明絶縁性基板
16 半導体層
17 ドーピングされた半導体層
18 層間絶縁膜 (絶縁膜)
19 補助容量電極(導電膜)
20 補助容量配線
21 ゲート配線
22 ソース配線
23 薄膜トランジスタ(TFT)
24 コンタクトホール
25 接続配線
26 反射領域・反射用画素電極
27 補助容量配線
28 透過領域・透過用画素電極
29 液晶層
P1・P2 開口部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an active matrix liquid crystal display device including a reflective pixel electrode and a transmissive pixel electrode.
[0002]
[Prior art]
Liquid crystal display devices are widely used in OA devices such as word processors and personal computers, portable information devices such as electronic notebooks, or camera-integrated VTRs equipped with a liquid crystal monitor, taking advantage of the thin and low power consumption characteristics. It is used. The direct-view liquid crystal display device includes a transmissive liquid crystal display device using a transparent conductive thin film such as ITO (Indium Tin Oxide) as a pixel electrode, and a reflective liquid crystal device using a reflective electrode such as a metal as a pixel electrode. There is a display device.
[0003]
The display mode used in the reflection type display device does not use a mode using a polarizing plate such as a TN (twisted nematic) mode and a STN (super twisted nematic) mode which are widely used at present and a polarizing plate. Therefore, a phase transition guest host mode capable of realizing bright display has been actively developed in recent years.
[0004]
The liquid crystal panel of the liquid crystal display device does not emit light itself, unlike a CRT (CRT) or EL (electroluminescence) display device. Therefore, in the case of a transmissive liquid crystal display device, a device having a fluorescent tube called a backlight is installed in the back, and display is performed by transmission of light from the backlight. In the case of a reflective liquid crystal display device, display is performed by reflecting incident light from the surroundings by the reflective electrode.
[0005]
Since the transmissive liquid crystal display device performs display using a backlight as described above, the transmissive liquid crystal display device can perform bright and high-contrast display without being greatly affected by ambient brightness. However, since the backlight usually occupies 50% or more of the total power consumption of the transmissive liquid crystal display device, the power consumption increases when the backlight is provided. Furthermore, when the ambient light is very bright, for example, under fine weather, the display light looks darker than the ambient light, and the visibility is lowered.
[0006]
On the other hand, the reflective liquid crystal display device does not require a backlight and can reduce power consumption. However, the brightness and contrast of the display are influenced by the usage environment such as the ambient brightness. When it is dark, there is a problem that the visibility is extremely lowered.
[0007]
In order to solve the above problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-333598 discloses a transmissive display by using a transflective film that reflects and transmits incident light at a certain reflectance and transmittance. A configuration is disclosed in which both the reflective display and the display are realized by a single liquid crystal panel.
[0008]
However, when the semi-transmissive reflective film is formed of a metal thin film, it is necessary to use a material having a large absorption coefficient. Therefore, internal absorption of incident light increases, and scattered light that is not used for display is generated. The light utilization efficiency deteriorates. Further, in order to obtain the same effect as the translucent film by controlling the reflectance and transmittance of one pixel, when forming a fine hole in the metal thin film, the structure of the metal thin film is too fine. Therefore, there is a problem that it is difficult to control and it is difficult to produce a film having uniform characteristics.
[0009]
In order to solve the above problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-101992 discloses a reflection region 26 made of a metal film and a transmission region 28 made of a transparent conductive film in the same pixel, as shown in FIG. There has been disclosed a liquid crystal display device that efficiently uses light and has excellent productivity. Further, in this liquid crystal display device, by changing the thickness of the liquid crystal between the reflective region and the transmissive region, the optical path lengths of the reflective region and the transmissive region are made uniform to increase the light use efficiency.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional liquid crystal display device in which the reflection region (reflection pixel electrode) 26 made of a metal film and the transmission region (transmission pixel electrode) 28 made of a transparent conductive film are formed in the same pixel, as will be described later. Since the optimum counter voltage of the reflective region 26 and the optimum counter voltage of the transmissive region 28 are different from each other, a DC bias voltage is always applied to the liquid crystal layer by a deviation from each optimum counter voltage. The optimal counter voltage is a correction of the voltage of the counter electrode so that the absolute values of the positive potential and the negative potential applied to the liquid crystal layer are equal to prevent deterioration of the liquid crystal due to the application of a DC voltage. This is the counter electrode voltage at that time. Here, the reason why the optimum counter voltages are different from each other will be described.
[0011]
The drain voltage applied to the pixel electrodes in the regions 26 and 28 does not match the source voltage, and is shifted from the source voltage by ΔVd obtained by the following equation (1) at the moment when the gate is closed. .
[0012]
ΔVd = (ΔVg × Cgd / (Cgd + Clc + Ccs)) (1)
Note that the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode is Cgd, the capacitance of the liquid crystal layer is Clc, the capacitance (auxiliary capacitance) of the auxiliary capacitance element is Ccs, and the gate potential difference is ΔVg.
[0013]
In the conventional liquid crystal display device, since the liquid crystal thicknesses of the reflective region and the transmissive region are changed to be different, the capacitances Clc of the liquid crystal layer have different values. In the liquid crystal display device, the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the auxiliary capacitance Ccs, and the gate potential difference ΔVg are the same in the regions 26 and 28 due to the configuration of the liquid crystal device. Therefore, the shift values of the voltages in the reflective region 26 and the transmissive region 28 are different. Therefore, the optimum counter voltage of the reflection region 26 and the optimum counter voltage of the transmission region 28 are different.
[0014]
That is, as shown in FIGS. 14A to 14E, a gate signal in which the gate potential difference ΔVg (r) of the reflective pixel electrode 26 and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmissive pixel electrode 28 are the same is input. Even so, the voltage shift amount (shift amount of the reflection pixel electrode 26) ΔVd (r) from the source signal voltage of the reflection pixel electrode potential and the voltage shift amount (transmission) of the transmission pixel electrode potential from the source signal voltage. Since the shift amount ΔVd (t) of the pixel electrode 28 for light is different, the optimum counter voltage Vo (r) of the pixel electrode 26 for reflection is different from the optimum counter voltage Vo (t) of the pixel electrode 28 for transmission. It becomes. Note that the gate potential differences ΔVg (r) · ΔVg (t) are respectively the high level voltages Vgh (r) · Vgh (t) of the gate signals and the low level voltages Vgl (r) · Vgl (t) of the gate signals. ).
[0015]
On the other hand, since the voltage of the counter electrode (not shown) cannot partially change the potential, the voltages of the counter electrode, the optimal counter voltage of the reflective region 26, and the optimal counter voltage of the transmissive region 28 are determined as follows. Cannot match at the same time. Therefore, the deviation between the voltage of the counter electrode and the optimum counter voltage of the reflection region 26 and / or the difference between the voltage of the counter electrode and the optimum counter voltage of the transmission region 28 is always applied as a DC bias voltage to the liquid crystal layer. It will be.
[0016]
For this reason, when used for a long period of time, it may cause display defects such as unevenness and haze. In particular, in a liquid crystal display device used as a mobile display device, a low-frequency driving method has been proposed in order to reduce power consumption. However, a deviation from each optimum counter voltage between the reflection region and the transmission region is caused by flicker. It becomes easier to perceive as (flicker), and it is also a cause of lowering the display quality.
[0017]
The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide an active matrix substrate that has high light use efficiency and enables high-quality display regardless of the state of ambient light. A liquid crystal display device is provided.
[0018]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the liquid crystal display device of the present invention has a plurality of pixels arranged in a matrix having a reflective pixel electrode for performing a reflective display and a transmissive pixel electrode for performing a transmissive display. An electrode, an auxiliary capacitance element that holds the potential of the pixel electrode, a source wiring that supplies a source signal, a gate wiring that supplies a gate signal, and a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode. An active matrix substrate having a switching element that is selected and applies a source signal to the pixel electrode, a counter substrate having a counter electrode facing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, the active matrix substrate, and the In the liquid crystal display device including a liquid crystal layer formed between the counter substrate and the counter substrate, the switching element includes a first switch. The reflective pixel electrode is connected to the first gate line through the first switching element, and the transmissive pixel electrode is connected to the second switching element. The auxiliary capacitance element includes a reflection auxiliary capacitance element connected to the reflection pixel electrode and a transmission auxiliary capacitance element connected to the transmission pixel electrode. The amplitude of the gate signal input to the first gate wiring, the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring, and the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element, , A parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element, a capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode, and the counter to the transmissive pixel electrode. The source signal voltage of the pixel electrode potential for reflection generated when the switching element is switched by the capacitance of the liquid crystal layer between the electrodes, the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element, and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element And the voltage shift amount from the source signal voltage of the transmission pixel electrode potential is set to be the same.
[0019]
According to the invention, the reflection pixel electrode is connected to the first gate line through the first switching element. In addition, a reflection auxiliary capacitance element is connected to the reflection pixel electrode. On the other hand, the transmissive pixel electrode is connected to a second gate wiring through a second switching element. In addition, a transmissive auxiliary capacitance element is connected to the transmissive pixel electrode.
[0020]
Therefore, between the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring, the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring, and the gate electrode and the drain electrode of the first switching element. A parasitic capacitance, a parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element, a capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode, and a transmission pixel electrode The capacitance of the liquid crystal layer between the counter electrode, the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element, and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element can be individually set.
[0021]
Here, at the time of switching of the switching element, more specifically, at the moment when the switching element is turned off, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the switching element and the liquid crystal layer between the pixel electrode and the counter electrode are changed. The voltage applied to the pixel electrode is shifted from the source signal voltage by a voltage determined by the relationship between the capacitance, the capacitance of the auxiliary capacitive element, and the amplitude of the gate signal input to the gate wiring of the switching element. To do. That is, when an alternating rectangular wave is input to the source wiring, the rectangular wave is shifted in the voltage axis direction while the amplitude and phase of the rectangular wave remain the same.
[0022]
Also, the amount of voltage shift differs between the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. There are four reasons why the voltage shift amount is different.
[0023]
The first reason is that the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode use different gate wirings, that is, the first gate wiring and the second gate wiring. This is because it is not necessary to make the amplitudes of the gate signals input to the same, and in this case, the amplitudes of the gate signals are different.
[0024]
The second reason is that since the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode use different switching elements, that is, the first switching element and the second switching element, the gate electrode of each switching element is not necessarily used. This is because the parasitic capacitance between the drain electrode and the drain electrode does not match.
[0025]
The third reason is that the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode and the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode have a thickness and an area of each liquid crystal layer. This is because the capacities of the liquid crystal layers do not match.
[0026]
The fourth reason is that the capacity of the reflection auxiliary capacitive element and the capacity of the transmission auxiliary capacitive element do not necessarily match due to the structure of the active matrix.
[0027]
Therefore, in the present invention, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the switching element that determines the shift amount of the voltage, the capacitance of the liquid crystal layer between the pixel electrode and the counter electrode, and the auxiliary capacitance The capacitance of the element and the amplitude of the gate signal input to the gate wiring of the switching element are set separately for the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode, respectively, and the shift amount of the voltage is set to reflect the reflection. The pixel electrode for transmission and the pixel electrode for transmission are made the same.
[0028]
As a result, the voltage shift amounts of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode are the same, and a waveform signal having the same shift amount is obtained in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode.
[0029]
Therefore, the voltage on the central axis along the time axis of the voltage waveform in the pixel electrode for reflection and the pixel electrode for transmission after the shift can be set as the voltage of the counter electrode. As a result, the voltage of the central axis of the voltage waveform of the reflective pixel electrode, the voltage of the central axis of the voltage waveform of the transmissive pixel electrode, and the voltage of the counter electrode can be matched.
[0030]
For example, when an AC rectangular wave is input to the source wiring, the absolute value of the positive potential and the negative potential of the reflective pixel electrode with respect to the counter electrode becomes equal, and at the same time, the transmissive pixel electrode with respect to the counter electrode The absolute value of the plus potential and minus potential of the same is also equal. In the following, the optimum counter electrode voltage for the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, that is, the voltage on the central axis along the time axis for each of the above voltage waveforms, respectively, is the optimum for reflection. The counter voltage and the optimum counter voltage for transmission are used. Therefore, in the liquid crystal display device, since the amount of voltage shift is the same, the optimum counter voltage for reflection coincides with the optimum counter voltage for transmission.
[0031]
As described above, in the liquid crystal display device of the present invention, the voltage of the counter electrode becomes the optimal counter voltage for reflection and the optimal counter voltage for transmission. Therefore, if the optimum counter voltage for reflection is different from the optimum counter voltage for transmission, a voltage deviation from the counter electrode always occurs, but the liquid crystal display device of the present invention does not cause a deviation. Therefore, a phenomenon in which a deviation between the optimal counter voltage for reflection and / or transmission and the voltage of the counter electrode is always applied to the liquid crystal layer as a DC bias voltage does not occur.
[0032]
Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze that occur when the liquid crystal display device is used for a long time. Furthermore, the occurrence of flicker can be suppressed. On the other hand, the use efficiency of light is improved because the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are used. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that has a high light use efficiency and enables high-quality display regardless of the state of ambient light.
[0033]
The liquid crystal display device of the present invention is the above liquid crystal display device, wherein the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), and between the reflective pixel electrode and the counter electrode. The capacitance of the liquid crystal layer is Clc (r), the capacitance of the reflection auxiliary capacitive element is Ccs (r), and the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t). , The capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Ccs (t), and the gate is input to the first gate wiring. ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) where ΔVg (r) is the amplitude of the signal and ΔVg (t) is the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring. + Clc (r) + Ccs (r) = Is set to satisfy the ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) the relationship.
[0034]
According to the invention, in the following relational expression representing a general voltage shift amount ΔVd, ΔVd = ΔVg × Cgd / (Cgd + Clc + Ccs), the respective voltage shifts in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. The value of the amount ΔVd becomes equal.
[0035]
Therefore, in the liquid crystal display device, the optimum counter voltage for reflection and the optimum counter voltage for transmission can be matched.
[0036]
The liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the same gate signal is input to the first gate wiring and the second gate wiring in the above liquid crystal display device.
[0037]
According to the above invention, the same gate signal is input to the first gate wiring and the second gate wiring.
[0038]
Accordingly, it is not necessary to shift the phase of the gate signal from the first gate wiring and the phase of the gate signal from the second gate wiring, so that the gate signals are sequentially input with the phases shifted. The frequency of the gate signal can be halved. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that can enable high-quality display while reducing power consumption.
[0039]
In order to solve the above problems, the liquid crystal display device of the present invention has a plurality of pixels arranged in a matrix having a reflective pixel electrode for performing a reflective display and a transmissive pixel electrode for performing a transmissive display. An electrode, an auxiliary capacitance element that holds the potential of the pixel electrode, a source wiring that supplies a source signal, a gate wiring that supplies a gate signal, and a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode. An active matrix substrate having a switching element that is selected and applies a source signal to the pixel electrode, a counter substrate having a counter electrode facing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, the active matrix substrate, and the In the liquid crystal display device including a liquid crystal layer formed between the counter substrate and the counter substrate, the switching element includes a first switch. The reflective pixel electrode is connected to the first gate line through the first switching element, and the transmissive pixel electrode is connected to the second switching element. The auxiliary capacitance element includes a reflection auxiliary capacitance element connected to the reflection pixel electrode and a transmission auxiliary capacitance element connected to the transmission pixel electrode. Occurring at the time of switching of the first switching element and the second switching element, After the voltage shift from the source signal voltage of the reflection pixel electrode potential and the voltage shift from the source signal voltage of the transmission pixel electrode potential, on the time axis of the voltage waveform at the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode To match the voltage of the central axis along The source signal voltage applied to the reflective pixel electrode via the first switching element and the second switching element are synchronized with the display timings of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, respectively. It is characterized in that the source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode is different.
[0040]
According to the invention, the reflection pixel electrode is connected to the first gate line through the first switching element. On the other hand, the transmissive pixel electrode is connected to a second gate wiring through a second switching element. Therefore, the switching timing of each switching element can be varied. Also, Reflective pixel after a voltage shift from the source signal voltage of the pixel electrode potential for reflection and a voltage shift from the source signal voltage of the pixel electrode potential for transmission that occurs at the time of switching of the first switching element and the second switching element To match the voltage of the central axis along the time axis of the voltage waveform in the electrode and the transmission pixel electrode, The source signal voltage when the switching element connected to each pixel electrode is turned on is changed.
[0041]
Here, when the switching element is switched, more specifically, at the moment when the switching element is turned off, the voltage is shifted from the source signal voltage as described above. Also, the voltage shift amount differs between the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode for the above four reasons.
[0042]
Therefore, in the present invention, the shift amount of each electrode is controlled in advance by controlling the voltage of the source voltage in consideration of the difference between the voltage shift amount of the reflection pixel electrode and the voltage shift amount of the transmission pixel electrode. Make the same.
[0043]
As a result, the voltage shift amounts of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode are the same, and a waveform signal having the same shift amount is obtained in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode.
[0044]
Therefore, as described above, the voltage of the central axis of the voltage waveform of the reflective pixel electrode, the voltage of the central axis of the voltage waveform of the transmissive pixel electrode, and the voltage of the counter electrode can be matched. Become.
[0045]
As described above, in the liquid crystal display device of the present invention, the voltage of the counter electrode can be set to the optimum counter voltage for reflection and the optimum counter voltage for transmission. Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, voltage deviation from the counter electrode does not occur.
[0046]
Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze that occur when the liquid crystal display device is used for a long time. Furthermore, the occurrence of flicker can be suppressed. On the other hand, the use efficiency of light is improved because the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are used. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that has a high light use efficiency and enables high-quality display regardless of the state of ambient light.
[0047]
The liquid crystal display device of the present invention is the above liquid crystal display device, wherein the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), and between the reflective pixel electrode and the counter electrode. The capacitance of the liquid crystal layer is Clc (r), the capacitance of the reflection auxiliary capacitive element is Ccs (r), and the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t). , The capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Ccs (t), and the gate is input to the first gate wiring. When the amplitude of the signal is ΔVg (r) and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t), the source signal voltage applied to the reflection pixel electrode, Mark on transparent pixel electrode The difference ΔVs from the applied source signal voltage is ΔVs = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / ( It is characterized by satisfying the relationship of Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)).
[0048]
According to the above invention, the shift amount ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) of the voltage of the reflection pixel electrode and the voltage shift of the transmission pixel electrode. The difference between the amount ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t) is applied to the signal voltage of the source wiring applied to the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode. The source signal voltage is different.
[0049]
Therefore, the potential after the shift of the reflection pixel electrode and the potential after the shift of the transmission pixel electrode coincide with each other due to the difference ΔVs between the source signal voltages. Therefore, in the liquid crystal display device, the reflection optimum counter voltage and the transmission optimum counter voltage can be matched.
[0050]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is set to the thickness of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode. It is characterized by being larger than this.
[0051]
According to the above invention, the optical path length of the ambient light passing back and forth through the liquid crystal layer corresponding to the reflective pixel electrode region and the liquid crystal layer corresponding to the transmissive pixel electrode region pass The optical path length of the transmitted light in the liquid crystal layer can be made closer.
[0052]
Therefore, it is possible to make uniform changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the reflective pixel electrode region and the liquid crystal layer corresponding to the transmissive pixel electrode region. Therefore, the light utilization efficiency can be further increased.
[0053]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is set to the thickness of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode. It is characterized in that it is twice as long.
[0054]
According to the above invention, the optical path length of the ambient light passing back and forth through the liquid crystal layer corresponding to the reflective pixel electrode region and the liquid crystal layer corresponding to the transmissive pixel electrode region pass The optical path length of the transmitted light in the liquid crystal layer can be matched.
[0055]
Therefore, it is possible to make the changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the reflective pixel electrode region and the liquid crystal layer corresponding to the transmissive pixel electrode region coincide. Therefore, the light utilization efficiency can be further increased.
[0056]
The liquid crystal display device of the present invention is characterized in that, in the liquid crystal display device described above, the peripheral portion of the transmissive pixel electrode is overlapped by a pair of reflective pixel electrodes through one or more insulating films. It is said.
[0057]
According to the above invention, since the reflective pixel electrode forming a pair is superimposed on the transmissive pixel electrode via the insulating film, the region of the reflective pixel electrode is further expanded, and as a result, the reflective pixel electrode is expanded. The area of the combined region of the pixel electrode for transmission and the pixel electrode for transmission increases.
[0058]
Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device is increased, and the light use efficiency can be increased.
[0059]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the liquid crystal display device described above, the reflection auxiliary capacitance element is formed by a reflection auxiliary capacitance line and a conductive film electrically connected to the reflection pixel electrode, and is transmissive. The auxiliary storage capacitor element is formed by a transmission auxiliary capacitance line and a transmission pixel electrode, and the reflection auxiliary capacitance line and the transmission auxiliary capacitance line form a pair of the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode. In FIG. 4, the same wiring is used, and the storage capacitor wiring is not overlapped with a region of the transmission pixel electrode on which the reflection pixel electrode is not overlapped.
[0060]
According to the above invention, the auxiliary capacitance wiring used for the auxiliary capacitance of the reflective pixel electrode and the auxiliary capacitance wiring used for the auxiliary capacitance of the transmissive pixel electrode become a common auxiliary capacitance wiring. Further, the common auxiliary capacitance line does not overlap with a region of a transmissive pixel electrode used for liquid crystal display.
[0061]
Therefore, the actual area used for the liquid crystal display of the transmissive pixel electrode can be further increased by the area of the auxiliary capacitance wiring. Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device can be further increased, and the light utilization efficiency can be further increased.
[0062]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the liquid crystal display device described above, the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode that form a pair. It is characterized by.
[0063]
According to the above invention, the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode that form a pair. It is possible to reduce the number of gate wirings for the pixel electrode including the pixel electrode from two to one.
[0064]
Therefore, the pixels can be miniaturized, and a liquid crystal display device with high resolution can be obtained, and at the same time, the yield during production of the liquid crystal display device can be greatly reduced.
[0065]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
[Embodiment 1]
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6 as follows.
[0066]
As shown in FIG. 1, the active matrix substrate 1a of the present embodiment has pixel electrodes 2 arranged in a matrix. A gate line 3 for supplying a scanning signal and a source line 4 for supplying a display signal are provided so as to pass through the periphery of the pixel electrode 2 and to be orthogonal to each other.
[0067]
The gate wiring 3 and the source wiring 4 are formed of a metal film, and a part of the gate wiring 3 and the source wiring 4 overlap with the outer peripheral portion of the pixel electrode 2 via the gate insulating film 11 (see FIGS. 2 and 3).
[0068]
A thin film transistor (TFT) 5 as a switching element for supplying a display signal to the pixel electrode 2 is provided in the vicinity of the intersection between the gate line 3 and the source line 4.
[0069]
A gate wiring 3 is connected to the gate electrode 6 of the thin film transistor (TFT) 5, and the thin film transistor (TFT) 5 is driven and controlled by a signal input to the gate electrode 6. A source wiring 3 is connected to the source electrode 7 of the thin film transistor (TFT) 5, and a data signal is input to the source electrode 7.
[0070]
In addition, as a feature of the active matrix substrate 1a of the present embodiment, the pixel electrode 2 includes a reflective pixel electrode 2a made of a metal film and a transmissive pixel electrode 2b made of a transparent conductive film. Further, the gate wiring 3, the thin film transistor (TFT) 5, the gate electrode 6, the source electrode 7, the drain electrode 8, and the auxiliary capacitance wiring 12 are individually connected to the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b. Each is provided individually for control.
[0071]
That is, as the reflective pixel electrode 2a, the reflective gate wiring 3a (first gate wiring), the reflective thin film transistor (TFT) 5a (first switching element), the reflective gate electrode 6a, and the reflective source electrode 7a. Further, a reflection drain electrode 8a and a reflection auxiliary capacitance line 12a are provided. For the transmission pixel electrode 2b, a transmission gate wiring 3b (second gate wiring), a transmission thin film transistor (TFT) 5b (second switching element), a transmission gate electrode 6b, and a transmission source electrode 7b. A transmission drain electrode 8b and a transmission auxiliary capacitance line 12b are provided.
[0072]
Next, a cross-sectional structure of a liquid crystal display device using the active matrix substrate 1a will be described.
[0073]
As shown in FIG. 2 (a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1), the active matrix substrate 1a is provided with a reflective gate electrode 6a on the transparent insulating substrate 15, and the reflective gate. The electrode 6 a is covered with the gate insulating film 11. A semiconductor layer 16 and a doped semiconductor layer 17 are stacked in this order on the gate insulating film 11. Further, a reflective source electrode 7a and a reflective drain electrode 8a formed of two layers of a transparent conductive film made of ITO (Indium Tin Oxide) and a metal film are formed so as to cover the doped semiconductor layer 17. Has been.
[0074]
The reflective source electrode 7a is connected to the source wiring 4 made of the transparent conductive film and the metal film, and the reflective drain electrode 8a is connected to the transparent conductive film and the metal film. The electrode 10 is connected. Note that the connection electrode 10 has a two-layer structure at a position in contact with the reflection pixel electrode 2a through the contact hole 9, but at other positions, the connection electrode 10 is formed of one layer of the transparent conductive film. Is formed.
[0075]
Further, the reflection pixel electrode 2a is formed on the electrodes 7a and 8a with an interlayer insulating film 18 interposed therebetween. A liquid crystal layer 29 is formed between the reflective pixel electrode 2 a and the counter electrode 14 formed on the counter substrate 13.
[0076]
Further, as shown in FIG. 3 (a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 1), a reflection auxiliary capacitance wiring 12a is provided on the transparent insulating substrate 15. On the gate insulating film 11, a transmission pixel electrode 2b formed of the transparent conductive film is provided. Here, the connection electrode 10 and the transmissive pixel electrode 2b are respectively formed on the reflection auxiliary capacitance lines 12a and 12b via the gate insulating film 11.
[0077]
Furthermore, as shown in FIG. 4 (cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 1), a transparent gate electrode 6b is provided on the transparent insulating substrate 15, and the transparent gate electrode 6b is a gate. It is covered with an insulating film 11. A semiconductor layer 16 and a doped semiconductor layer 17 are stacked in this order on the gate insulating film 11. Further, a transmissive source electrode 7b and a transmissive drain electrode 8b formed by two layers of the transparent conductive film and the metal film are formed so as to cover the doped semiconductor layer 17.
[0078]
The transmission source electrode 7b is connected to the source wiring 4 made of the transparent conductive film and the metal film, and the transmission drain electrode 8b is connected to the transmission pixel electrode 2b.
[0079]
With the above configuration, the connection electrode 10 electrically connected to the drain electrode 8a forms a reflection auxiliary capacitance element by the auxiliary capacitance wiring 12a and the gate insulating film 11 interposed therebetween. The transmission pixel electrode 2b forms a transmission auxiliary capacitance element by the auxiliary capacitance line 12b and the gate insulating film 11 interposed therebetween.
[0080]
Further, since the transmission pixel electrode 2b is formed on the gate insulating film 11 as described above, it is directly connected to the transmission drain electrode 8b, and the reflection pixel electrode 2a and the reflection drain electrode 8a are connected to each other. Components such as the contact hole 9 to be connected are not necessary.
[0081]
The auxiliary capacitance lines 12a and 12b are formed of a metal film, and are connected to the counter electrode 14 formed on the counter substrate 13 by a wiring (not shown). Moreover, the reason why the source wiring 4 has a two-layer structure of the transparent conductive film and the metal film is to provide redundancy for defects such as disconnection.
[0082]
The active matrix substrate 1a is configured as described above. Next, a method for manufacturing the active matrix substrate 1a will be described.
[0083]
First, a reflective gate electrode 6a and a transmissive gate electrode 6b, a reflective gate line 3a and a transmissive gate line 3b, a reflective auxiliary capacitance line 12a, and a transmissive auxiliary capacitance line are formed on a transparent insulating substrate 15 such as glass. 12b is formed by sputtering or the like, and then patterned through a photolithography process.
[0084]
Next, the gate insulating film 11, the semiconductor layer 16, and the doped semiconductor layer 17 are formed using a plasma CVD method. Subsequently, a transparent electrode film made of ITO (Indium Tin Oxide) is formed by a sputtering method, and the connection electrode 10 and the transmission pixel electrode 2b are formed through a photolithography process. Further, after forming a metal film by a sputtering method, patterning is performed to form the source wiring 4, the reflection source electrode 7a and the transmission source electrode 7b, the reflection drain electrode 8a, and the transmission drain electrode 8b. .
[0085]
Thereafter, a photosensitive acrylic resin is formed as an interlayer insulating film 18 to a thickness of 3 μm by spin coating. Further, the acrylic resin is subjected to pattern exposure and developed with an alkaline solution. As a result, only the exposed portion is etched with an alkaline solution to form a contact hole 9 penetrating the interlayer insulating film 18. The contact hole 9 is formed to have a good taper shape.
[0086]
Thus, by using a photosensitive acrylic resin as the interlayer insulating film 18, a thin film can be formed by a spin coating method. Therefore, a thin film having a thickness of several μm can be easily formed. Further, the patterning of the interlayer insulating film 18 is advantageous in terms of productivity, such as eliminating the need for a photoresist coating process.
[0087]
The acrylic resin in this embodiment is colored and can be made transparent by exposing the entire surface after patterning. The acrylic resin can be made transparent by chemical treatment.
[0088]
Next, the reflective pixel electrode 2a, the reflective gate line 3a and the transmissive gate line 3b, the source line 4, the reflective thin film transistor (TFT) 5a and the transmissive thin film transistor (TFT) 5b are formed on the interlayer insulating film 18. And to be overlapped with the reflection auxiliary capacitance line 12a. In the present embodiment, when the reflective pixel electrode 2a is formed, aluminum (Al) is formed by a sputtering method and then patterned by a photolithography process. However, the material of the reflection pixel electrode 2a is not limited to aluminum (Al), and other metal materials such as silver (Ag) or AlSi (Si content of about 1%) are used. A base alloy may be used as long as the film has high reflectivity and conductivity.
[0089]
As described above, the active matrix substrate 1a in the present embodiment can be manufactured.
[0090]
Furthermore, a liquid crystal cell is manufactured using a conventionally known method such as bonding with an alignment coating film and the counter substrate 13, injection of a liquid crystal material, and bonding of a polarizing plate, and a backlight is installed on the back surface. Thus, a liquid crystal display device using the active matrix substrate 1a is completed.
[0091]
Further, since the active matrix substrate 1a is provided with the reflective pixel electrode 2a on the interlayer insulating film 18, the surface of the interlayer insulating film 18 can be formed on the surface by forming irregularities by a photolithography process or the like. A reflective pixel electrode 2a having irregularities can be obtained. Therefore, the unevenness of the surface of the reflection pixel electrode 2a makes it possible to use ambient light at various incident angles, and a brighter liquid crystal display device can be realized.
[0092]
In the liquid crystal device, the thickness of the liquid crystal layer 29 between the transmission pixel electrode 2b and the counter electrode 14 is set to the thickness of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode 2a and the counter electrode 14. It is desirable to make it thicker than 29. Thereby, the optical path length of the light reflected by the reflection pixel electrode 2a in the liquid crystal layer 29 and the optical path length of the light passing through the transmission pixel electrode 2b in the liquid crystal layer 29 can be made closer to each other. Accordingly, it is possible to make uniform the change in the light characteristics in both the liquid crystal layers 29, and to increase the light use efficiency.
[0093]
Further, the thickness of the liquid crystal layer 29 between the transmission pixel electrode 2b and the counter electrode 14 is set to be equal to the thickness of the liquid crystal layer 29 between the reflection pixel electrode 2a and the counter electrode 14. More preferably, it is doubled. Thereby, the optical path length of the light reflected by the reflection pixel electrode 2a in the liquid crystal layer 29 and the optical path length of the light passing through the transmission pixel electrode 2b in the liquid crystal layer 29 can be made the same. Therefore, it is possible to make the change in the characteristics of light in both the liquid crystal layers 29 coincide, and it is possible to further increase the light use efficiency.
[0094]
As described above, the active matrix substrate 1a in the present embodiment has a configuration in which the reflective pixel electrode 2a that performs reflective display and the transmissive pixel electrode 2b that performs transmissive display are independent. Control of the pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b can be performed using individual parameters. In the present embodiment, as described above, the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b are independently controlled as separate pixels. However, the display of an image is only used as a set.
[0095]
Incidentally, in the conventional liquid crystal display device, as shown in FIG. 13, a reflective region (reflective pixel electrode) 26 and a transmissive region (transparent pixel electrode) 28 are formed in the same pixel, and the reflective region and transmissive region are transmitted. Since the thickness of the liquid crystal with the region is changed to be different, the capacitance Clc of the liquid crystal layer has different values. In the liquid crystal display device, the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the capacitance (auxiliary capacitance) Ccs of the auxiliary capacitance element, and the gate potential difference ΔVg are the same for each of the regions 26 and 28 due to the configuration of the liquid crystal device. Are the same. Therefore, each optimum counter voltage is different, and the difference between the voltage of the counter electrode (not shown) and the optimum counter voltage of the reflection region 26 and / or the voltage of the counter electrode and the optimum counter voltage of the transmission region 28 is different. The deviation is a cause of lowering the display quality.
[0096]
On the other hand, the liquid crystal display device using the active matrix substrate 1a according to the present embodiment controls the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b using individual parameters, as will be described later. By matching the optimal counter voltage of the reflective pixel electrode 2a with the optimal counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b, and setting the voltage of the counter electrode 14 to the voltage value of the optimal counter voltage, It is possible to eliminate the deviation between the voltage and the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the difference between the voltage of the counter electrode 14 and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b.
[0097]
Therefore, a highly reliable liquid crystal display device capable of high-quality display with high light use efficiency can be obtained. In addition, the flicker phenomenon can be suppressed even when driving at a low frequency to reduce power consumption.
[0098]
A control method using parameters for matching the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b will be described below.
[0099]
As described above, the voltage applied to each of the pixel electrodes 2a and 2b does not match the source voltage, and shifts from the source voltage at the moment when the gate is closed.
[0100]
On the other hand, the parameters for controlling the potential shift include, for example, the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the capacitance Clc of the liquid crystal layer 29, and the auxiliary capacitance due to the wiring pattern, structure, and material. There are various capacitance design parameters such as element capacitance (hereinafter referred to as auxiliary capacitance) Ccs, and parameters based on input signals such as the gate potential difference ΔVg.
[0101]
Therefore, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b are controlled by individually controlling the various capacitance design parameters for the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b. A first method for matching these will be described. Next, by individually controlling the parameters of the input signal for the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b, the optimal counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimal counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b A second method for matching these will be described. Furthermore, the optimum counter voltage and the transmission pixel of the reflection pixel electrode 2a are controlled by individually controlling the above-described various capacitance design parameters and parameters based on the input signals for the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b. A third method for matching the optimum counter voltage of the electrode 2b will be described. Finally, a fourth method for matching the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b by controlling the source signal will be described.
[0102]
First, a first method for individually controlling various capacity design parameters will be described. In this method, gate signals having the same amplitude are input to the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b.
[0103]
Here, the voltage shift amount from the source signal voltage of the reflection pixel electrode potential (hereinafter referred to as the voltage shift amount of the reflection pixel electrode 2a) is ΔVd (r), and the voltage shift from the source signal voltage of the transmission pixel electrode potential. When the amount (hereinafter referred to as the voltage shift amount of the transmissive pixel electrode 2b) is ΔVd (t), ΔVd (r) and ΔVd (t) are respectively expressed by the following equation (2) according to the above equation (1). And (3).
[0104]
ΔVd (r) = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) (2)
ΔVd (t) = ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) (3)
Note that the gate potential difference of the reflection pixel electrode 2a is ΔVg (r), the parasitic capacitance between the reflection gate electrode 6a and the reflection drain electrode 8a is Cgd (r), the reflection pixel electrode 2a and the counter electrode 14 are The capacity of the liquid crystal layer 29 between the two is defined as Clc (r), and the auxiliary capacity connected to the reflective pixel electrode is defined as Ccs (r). Further, the gate potential difference of the transmission pixel electrode 2b is ΔVg (t), the parasitic capacitance between the transmission gate electrode 6b and the transmission drain electrode 8b is Cgd (t), the transmission pixel electrode 2b and the counter electrode 14 The capacity of the liquid crystal layer 29 between the two is defined as Clc (t), and the auxiliary capacity connected to the transmission pixel electrode is defined as Ccs (t). Here, the gate potential differences ΔVg (r) · ΔVg (t) are respectively the high level voltage Vgh (r) · Vgh (t) of each gate signal and the low level voltage Vgl (r) · Vgl (t) of each gate signal. ).
[0105]
On the other hand, since the gate signal of the reflection pixel electrode 2a and the gate signal of the transmission pixel electrode 2b have the same amplitude, the gate potential difference ΔVg (r) of the reflection pixel electrode 2a and the gate potential difference of the transmission pixel electrode 2b. ΔVg (t) is the same value.
[0106]
Therefore, in order to make the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b the same, the liquid crystal display satisfies the following formula (4). What is necessary is just to design an apparatus.
[0107]
Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) = Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) (4)
In other words, the parasitic capacitances Cgd (r) · Cgd (t), the capacitances Clc (r) · Clc (t) of the liquid crystal layers 29, and the auxiliary capacitances Ccs ( By selecting r) · Ccs (t), the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b can be made the same. .
[0108]
As described above, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b can be matched.
[0109]
Alternatively, the same gate signal may be input with the reflective gate line 3a and the transmissive gate line 3b as a set. In this case, it is possible to avoid the frequency of the gate signal being twice the frequency of the gate signal having the conventional structure.
[0110]
That is, in the active matrix substrate 1a of the present embodiment, as described above, the pixel electrode 2 is composed of the reflective pixel electrode 2a made of a metal film and the transmissive pixel electrode 2b made of a transparent conductive film, and each is individually provided. Gate wirings 3a and 3b are provided. Therefore, in the active matrix substrate 1a, the phase of the gate signal from the gate wiring connected to the reflective pixel electrode and the gate signal from the gate wiring connected to the transmissive pixel electrode are compared with the active matrix substrate having the conventional structure. Therefore, it is necessary to input a gate signal having a double frequency. However, as described above, by inputting the same gate signal, that is, the gate signal having the same amplitude and the same phase, with the reflection gate wiring 3a and the transmission gate wiring 3b as a set, a gate signal having a double frequency is input. Is not required to be input, and display can be performed by inputting a gate signal having the same frequency as that of an active matrix substrate used in a conventional liquid crystal display device.
[0111]
Next, a second method for individually controlling parameters based on input signals will be described.
[0112]
In the active matrix substrate used in the conventional liquid crystal display device, as described above, since the thickness of the liquid crystal in the reflective region 26 and the transmissive region 28 is different, the capacitance Clc of the liquid crystal layer is different from each other. On the other hand, the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the auxiliary capacitance Ccs, and the gate potential difference ΔVg are the same in each of the regions 26 and 28. Therefore, the value of Cgd / (Cgd + Clc + Ccs) is different in each of the regions 26 and 28. Therefore, the voltage shift values ΔVd of the regions 26 and 28 shown in the above equation (1) are also different values.
[0113]
Therefore, in the present embodiment, even when the value of Cgd / (Cgd + Clc + Ccs) differs between the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a. The gate potential difference ΔVg (r) of the reflective pixel electrode 2a and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmissive pixel electrode 2b are individually set so that the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b is the same. Control.
[0114]
In other words, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b are expressed by the above equations (2) and (3), respectively. The liquid crystal display device may be designed so as to satisfy the following formula (5).
[0115]
ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) = ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) (5)
Thus, the value of Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) of the reflective pixel electrode 2a and Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc of the transmissive pixel electrode 2b are obtained. Even when the values of (t) + Ccs (t)) are different from each other, the gate potential difference ΔVg (r) of the reflection pixel electrode 2a and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmission pixel electrode 2b are individually controlled. Thus, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmission pixel electrode 2b can be made the same.
[0116]
Hereinafter, the control using the second method will be specifically described with reference to FIGS. 5 (a) and 5 (b).
[0117]
Conventionally, as shown in FIGS. 14A to 14E, a gate signal in which the gate potential difference ΔVg (r) of the reflection pixel electrode 26 and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmission pixel electrode 28 are the same. Even if the shift amount ΔVd (r) is input, the shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 26 and the shift amount ΔVd (t) of the transmission pixel electrode 28 are different. Therefore, in this embodiment, for example, as shown in FIG. 5A, the high level voltage Vgh (t) of the gate signal in the transmissive pixel electrode 2b is controlled, for example, Vgh (t)> Vgh ( t) is corrected to Vgh (t) ′.
[0118]
On the other hand, the drain voltage applied to the transmissive pixel electrode 2b changes in proportion to the gate potential difference ΔVg (ΔVg = Vgh × Vgl) according to the above equation (1). Therefore, by correcting the high level voltage Vgh (t) of the gate signal to Vgh (t) ′, the shift amount of the drain voltage applied to the transmissive pixel electrode 2b is also ΔVd as shown in FIG. 5B. It changes from (t) to ΔVd (t) ′.
[0119]
Accordingly, the voltage Vgh when the gate signal is input so that the corrected voltage shift amount ΔVd (t) ′ of the transmission pixel electrode 2b becomes equal to the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a. The value of (t) ′ may be determined. That is, as shown in FIG. 5A, the value of Vgh (t) is set to a smaller value Vgh (t) ′, and the voltage shift amount is reduced by the difference ΔVs between ΔVd (t) and ΔVd (r). For example, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a is equal to the corrected voltage shift amount ΔVd (t) ′ of the transmission pixel electrode 2b. However, in FIG. 14D and FIG. 14E, ΔVd (t)> ΔVd (r) is set for convenience.
[0120]
As described above, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b can be matched.
[0121]
Next, a third method for individually controlling various capacity design parameters and parameters based on input signals will be described.
[0122]
The voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmission pixel electrode 2b are expressed by the above equations (2) and (3), respectively. Therefore, whether or not the gate signal inputted to the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b is the same, or Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) of the reflection pixel electrode 2a. ) + Ccs (r)) and the value of Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) of the transmission pixel electrode 2b are different from each other. The gate potential difference ΔVg (r) of the reflection pixel electrode 2a, the parasitic capacitance Cgd (r) between the reflection gate electrode 6a and the reflection drain electrode 8a, and the reflection pixel electrode 2a so as to satisfy Expression (5). And the counter electrode 14, the capacitance Clc (r) of the liquid crystal layer 29, the auxiliary capacitance Ccs (r) connected to the reflection pixel electrode, the gate potential difference ΔVg (t) of the transmission pixel electrode 2 b, the transmission gate Electrode 6b and The parasitic capacitance Cgd (t) between the transmission drain electrode 8b, the capacitance Clc (t) of the liquid crystal layer 29 between the transmission pixel electrode 2b and the counter electrode 14, and the auxiliary connected to the transmission pixel electrode A capacitor Ccs (t) may be selected.
[0123]
This also makes it possible to make the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a the same as the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b.
[0124]
As described above, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b can be matched.
[0125]
Next, a fourth method for controlling the source signal will be described.
[0126]
As described above, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b are given by the above equations (2) and (3), respectively. . Therefore, the difference ΔVs between ΔVd (t) and ΔVd (r) is expressed by the following equation (6).
[0127]
ΔVs = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t) (6)
Therefore, in the present embodiment, for example, as shown in FIG. 6A, the difference ΔVs between ΔVd (t) and ΔVd (r) is previously applied to only the source signal applied to the transmission pixel electrode 2b. Add to. As a result, as shown in FIG. 6B, the voltage shift amount is reduced by the difference ΔVs between ΔVd (t) and ΔVd (r). Accordingly, as in the second control method, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a is equal to the corrected voltage shift amount ΔVd (t) ′ of the transmission pixel electrode 2b.
[0128]
As described above, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b can be matched.
[0129]
Therefore, the liquid crystal display layer device including the active matrix substrate 1a is used to perform control using parameters for matching the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b. As a result, a highly reliable liquid crystal display device with high light utilization efficiency and high-quality display can be obtained. In addition, the flicker phenomenon can be suppressed even when driving at a low frequency to reduce power consumption.
[0130]
In addition, this invention is not limited to said embodiment, A various change is possible within the scope of the present invention.
[0131]
[Embodiment 2]
The following will describe another embodiment of the present invention with reference to FIGS. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment are given the same reference numerals and explanation thereof is omitted.
[0132]
As shown in FIG. 7, the active matrix substrate 1b of the present embodiment has a larger proportion of the reflective pixel electrode 2a in one pixel. The reflective pixel electrode 2a has an opening P1 having a shape along the outer periphery of the transmissive pixel electrode 2b, and the display by the transmissive pixel electrode 2b is visually recognized only in the opening P1. be able to.
[0133]
That is, as shown in FIG. 8, the reflective pixel electrode 2a forming a pair is superimposed on the peripheral portion of the transmissive pixel electrode 2b with the interlayer insulating film 18 interposed therebetween.
[0134]
More specifically, the reflective pixel electrode 2a includes a transmissive gate electrode 3b, a transmissive gate electrode 6b between the peripheral part of the transmissive pixel electrode 2b and the adjacent source line 4, and a transmissive gate electrode 6b. Overlying the source electrode 7b and a part of the transmissive drain electrode 8b with at least one interlayer insulating film 18 therebetween.
[0135]
As described above, the active matrix substrate 1b of the present embodiment can have a higher aperture ratio than the active matrix substrate 1a of the first embodiment. Therefore, it is possible to prevent a decrease in contrast without providing a light blocking black matrix on the counter substrate 13 side, and it is possible to improve the light utilization efficiency.
[0136]
On the other hand, as shown in the first embodiment, in order to prevent flicker and display with high quality, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched. In addition, it is desirable that the voltage of the counter electrode 14 be the optimum counter voltage.
[0137]
Therefore, also in this embodiment, the control method using parameters shown in the first embodiment is used. In other words, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b are controlled using individual parameters so that the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched. In addition, by setting the voltage of the counter electrode 14 to the voltage value of the optimum counter voltage, the difference between the voltage of the counter electrode 14 and the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a, and the voltage and transmission of the counter electrode 14 are transmitted. The deviation from the optimum counter voltage of the pixel electrode 2b is eliminated.
[0138]
Since the control method using the above parameters can be realized by using any one of the four methods shown in the first embodiment, description thereof is omitted.
[0139]
Therefore, by using the active matrix substrate 1b of the present embodiment, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device with high light use efficiency and capable of high-quality display. In addition, the flicker phenomenon can be suppressed even when driving at a low frequency to reduce power consumption.
[0140]
In addition, this invention is not limited to said embodiment, A various change is possible within the scope of the present invention.
[0141]
In the above embodiment, the reflection pixel electrode 2a includes the transmission gate electrode 3b between the peripheral part of the transmission pixel electrode 2b and the adjacent source line 4, and the transmission gate electrode 6b. The transparent source electrode 7b and a part of the transparent drain electrode 8b are overlapped with at least one interlayer insulating film 18 interposed therebetween. However, the region overlapped by the pair of reflective pixel electrodes 2a is not particularly limited as described above, and may be a region that can provide a sufficient aperture ratio.
[0142]
[Embodiment 3]
The following will describe another embodiment of the present invention with reference to FIGS. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment are given the same reference numerals and explanation thereof is omitted.
[0143]
As shown in FIG. 9, the active matrix substrate 1c of the present embodiment is obtained by increasing the ratio of the reflective pixel electrode 2a to one pixel, as in the second embodiment. The reflective pixel electrode 2a has an opening P2 as in the second embodiment, and the display by the transmissive pixel electrode 2b can be visually recognized only within the opening P2.
[0144]
That is, as shown in FIG. 10, the reflective pixel electrode 2a forming a pair is superimposed on the peripheral portion of the transmissive pixel electrode 2b with the interlayer insulating film 18 interposed therebetween.
[0145]
More specifically, the reflective pixel electrode 2a includes a transmissive gate electrode 3b, a transmissive gate electrode 6b between the peripheral part of the transmissive pixel electrode 2b and the adjacent source line 4, and a transmissive gate electrode 6b. Overlying the source electrode 7b and the transmissive drain electrode 8b with at least one interlayer insulating film 18 therebetween.
[0146]
Further, the auxiliary capacitance wiring 20 connected to the pair of the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b is shared. Further, the common auxiliary capacitance line 20 is disposed at a position overlapping the reflective pixel electrode 2a.
[0147]
Further, the transmission gate electrode 3 b is disposed between the reflection gate electrode 3 a and the auxiliary capacitance line 20.
[0148]
That is, as shown in FIGS. 10 and 11, the active matrix substrate 1c of the present embodiment has a portion of the transmissive pixel electrode 2b excluding a range where the display by the transmissive pixel electrode 2b can be visually recognized. A structure that is disposed between the reflective pixel electrode 2a and the transparent insulating substrate 15 and in which the common auxiliary capacitance wiring 20 is disposed between the transmissive pixel electrode 2b and the transparent insulating substrate 15. It has become.
[0149]
The transmissive pixel electrode 2b forms a transmissive auxiliary capacitance element by the common auxiliary capacitance line 20 and the gate insulating film 11 interposed therebetween.
[0150]
By adopting the structure as described above, the region of the transmissive pixel electrode 2b that can be viewed from the counter substrate 13 side and the auxiliary capacitance wiring 20 do not overlap, so that the region of the transmissive pixel electrode 2b that can be viewed from the counter substrate 13 side. The area can be increased.
[0151]
Therefore, in the active matrix substrate 1c, the portion of the transmissive pixel electrode 2b excluding the range where the display by the transmissive pixel electrode 2b can be visually recognized is between the reflective pixel electrode 2a and the transparent insulating substrate 15. By being arranged, in addition to the increase in the aperture ratio, the aperture ratio can be further increased depending on the arrangement position of the auxiliary capacitance wiring 20.
[0152]
Therefore, in the active matrix substrate 1c, the aperture ratio can be further increased as compared with the second embodiment, and the contrast is prevented from being lowered without providing a black matrix for shading on the counter substrate 13 side. It is possible to increase the light utilization efficiency.
[0153]
On the other hand, in the active matrix substrate 1c, as shown in FIG. 11, the reflection auxiliary capacitance element of the reflective pixel electrode 2a gates the auxiliary capacitance electrode 19 without passing through the connection electrode 10 shown in the first embodiment. It is formed by being superimposed on a common auxiliary capacitance line 20 through the insulating film 11. Further, when the auxiliary capacitance is formed using the connection electrode 10 as in the conventional case, the connection electrode 10 overlaps with the transmission gate wiring 3b and the gate insulating film 11 to generate a considerably large parasitic capacitance. Become. Therefore, in the active matrix substrate 1c, the auxiliary capacitance electrode 19 is connected to the reflection pixel electrode 2a through the contact hole 9, and the interlayer insulation between the reflection pixel electrode 2a and the transmission gate wiring 3b is performed. Employing an acrylic resin having a low dielectric constant and a large film thickness for the film 18 prevents the parasitic capacitance from increasing.
[0154]
On the other hand, as shown in the first embodiment, in order to prevent flicker and display with high quality, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched. And it is desirable to set the voltage of the counter electrode 14 to the voltage value of the optimum counter voltage.
[0155]
Therefore, also in this embodiment, the control method using parameters shown in the first embodiment is used. In other words, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b are controlled using individual parameters so that the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched. In addition, by setting the voltage of the counter electrode 14 to the voltage value of the optimum counter voltage, the difference between the voltage of the counter electrode 14 and the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a, and the voltage and transmission of the counter electrode 14 are transmitted. The deviation from the optimum counter voltage of the pixel electrode 2b is eliminated.
[0156]
Since the control method using the above parameters can be realized by using any one of the four methods shown in the first embodiment, description thereof is omitted.
[0157]
Therefore, by using the active matrix substrate 1c of the present embodiment, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device with high light use efficiency and capable of high-quality display. In addition, the flicker phenomenon can be suppressed even when driving at a low frequency to reduce power consumption.
[0158]
In addition, this invention is not limited to said embodiment, A various change is possible within the scope of the present invention.
[0159]
For example, the planar shape of the reflective pixel electrode 2a forming a set may be various shapes within the range in which the auxiliary capacitance wiring 20 is arranged at the position where it is superimposed on the reflective pixel electrode 2a as described above.
[0160]
[Embodiment 4]
The following will describe another embodiment of the present invention with reference to FIG. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of Embodiment 1 or Embodiment 3 are given the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0161]
As shown in FIG. 12, the active matrix substrate 1d according to the present embodiment uses the reflective gate wiring 3a and the transmission gate wiring 3b of the active matrix substrate 1c according to the third embodiment as a common gate wiring 3, and accordingly, The common gate electrode 6 is used for the reflective gate electrode 6a and the transmissive gate electrode 6b of the active matrix substrate 1c.
[0162]
Therefore, the number of gate wirings of the active matrix substrate 1d only needs to be half the number of gate wirings of the active matrix substrate 1c in the third embodiment. As a result, in the present embodiment, in addition to the effects obtained in the third embodiment, it is possible to miniaturize a pixel composed of a set of the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b. A liquid crystal display device having a high level can be obtained. Furthermore, the yield during production of the active matrix substrate 1d can be reduced, and the production efficiency of the liquid crystal display device including the active matrix substrate 1d can be increased.
[0163]
On the other hand, as shown in the first embodiment, in order to prevent flicker and display with high quality, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched. And it is desirable to set the voltage of the counter electrode 14 to the voltage value of the optimum counter voltage.
[0164]
Therefore, also in this embodiment, the control method using parameters shown in the first embodiment is used. In other words, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b are controlled using individual parameters so that the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched. In addition, by setting the voltage of the counter electrode 14 to the voltage value of the optimum counter voltage, the difference between the voltage of the counter electrode 14 and the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a, and the voltage and transmission of the counter electrode 14 are transmitted. The deviation from the optimum counter voltage of the pixel electrode 2b is eliminated.
[0165]
Since the control method using the above parameters can be realized by using any one of the four methods shown in the first embodiment, description thereof is omitted.
[0166]
Therefore, by using the active matrix substrate 1d of the present embodiment, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device with high light use efficiency and capable of high-quality display. In addition, the flicker phenomenon can be suppressed even when driving at a low frequency to reduce power consumption.
[0167]
In addition, this invention is not limited to said embodiment, A various change is possible within the scope of the present invention.
[0168]
For example, as described in the third embodiment, the planar shape of the reflective pixel electrode 2a forming a set is a range in which the auxiliary capacitance wiring 20 is arranged at the position where the reflective pixel electrode 2a is superimposed as described above. Inside, it is good also as various shapes.
[0169]
【The invention's effect】
In the liquid crystal display device of the present invention, as described above, the switching element includes a first switching element and a second switching element, and the reflective pixel electrode is connected to the first switching element via the first switching element. The transmission pixel electrode is connected to the second gate wiring via a second switching element, and the auxiliary capacitive element is connected to the reflective pixel electrode. An auxiliary capacitance element for transmission connected to the pixel electrode for transmission, and an amplitude of a gate signal input to the first gate wiring and an amplitude of the gate signal input to the second gate wiring A parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element, a parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element, and the reflection pixel electrode And the counter electrode, the liquid crystal layer capacitance between the transmission pixel electrode and the counter electrode, the reflection auxiliary capacitance element capacitance, and the transmission auxiliary capacitance. The capacitance of the element is the same as the amount of voltage shift from the source signal voltage of the pixel electrode potential for reflection and the amount of voltage shift from the source signal voltage of the pixel electrode potential for transmission generated when the switching element is switched. Is set to.
[0170]
Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze that occur when the liquid crystal display device is used for a long time. Furthermore, the occurrence of flicker can be suppressed. On the other hand, the use efficiency of light is improved because the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are used. Therefore, regardless of the state of ambient light, there is an effect that the light use efficiency is high and high-quality display can be made possible.
[0171]
The liquid crystal display device of the present invention is the above liquid crystal display device, wherein the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), and between the reflective pixel electrode and the counter electrode. The capacitance of the liquid crystal layer is Clc (r), the capacitance of the reflection auxiliary capacitive element is Ccs (r), and the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t). , The capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Ccs (t), and the gate is input to the first gate wiring. ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) where ΔVg (r) is the amplitude of the signal and ΔVg (t) is the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring. + Clc (r) + Ccs (r) = Satisfies the ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) the relationship.
[0172]
Therefore, the liquid crystal display device has an effect that the optimum counter voltage for reflection and the optimum counter voltage for transmission can be matched.
[0173]
In the liquid crystal display device of the present invention, the same gate signal is input to the first gate wiring and the second gate wiring in the above liquid crystal display device.
[0174]
Therefore, it is not necessary to shift the phase of the gate signal from the gate wiring connected to the reflective pixel electrode and the phase of the gate signal from the gate wiring connected to the transmissive pixel electrode. The frequency of the gate signal can be halved compared to the case where the gate signal is sequentially input. Therefore, there is an effect that high-quality display can be made possible while reducing power consumption.
[0175]
In the liquid crystal display device of the present invention, as described above, the switching element includes a first switching element and a second switching element, and the reflective pixel electrode is connected to the first switching element via the first switching element. The transmission pixel electrode is connected to the second gate wiring via a second switching element, and the auxiliary capacitive element is connected to the reflective pixel electrode. An auxiliary capacitance element for transmission connected to the pixel electrode for transmission, and is generated when the first switching element and the second switching element are switched. After the voltage shift from the source signal voltage of the reflection pixel electrode potential and the voltage shift from the source signal voltage of the transmission pixel electrode potential, on the time axis of the voltage waveform at the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode To match the voltage of the central axis along The source signal voltage applied to the reflective pixel electrode via the first switching element and the second switching element are synchronized with the display timings of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, respectively. The source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode is made different.
[0176]
Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze that occur when the liquid crystal display device is used for a long time. Furthermore, the occurrence of flicker can be suppressed. On the other hand, the use efficiency of light is improved because the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are used. Therefore, regardless of the state of ambient light, there is an effect that the light use efficiency is high and high-quality display can be made possible.
[0177]
The liquid crystal display device of the present invention is the above liquid crystal display device, wherein the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), and between the reflective pixel electrode and the counter electrode. The capacitance of the liquid crystal layer is Clc (r), the capacitance of the reflection auxiliary capacitive element is Ccs (r), and the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t). , The capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Ccs (t), and the gate is input to the first gate wiring. When the amplitude of the signal is ΔVg (r) and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t), the source signal voltage applied to the reflection pixel electrode, Mark on transparent pixel electrode The difference ΔVs from the applied source signal voltage is ΔVs = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / ( The relationship Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) is satisfied.
[0178]
Therefore, the potential after the shift of the reflective pixel electrode and the potential after the shift of the transmissive pixel electrode coincide with each other due to the difference ΔVs between the source signal voltages. Therefore, the liquid crystal display device has an effect that the optimum counter voltage for reflection and the optimum counter voltage for transmission can be matched.
[0179]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is set to the thickness of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode. It is something larger than that.
[0180]
Therefore, it is possible to make uniform changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the reflective pixel electrode region and the liquid crystal layer corresponding to the transmissive pixel electrode region. Therefore, there is an effect that the light utilization efficiency can be further increased.
[0181]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is set to the thickness of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode. This is twice as long.
[0182]
Therefore, it is possible to make the changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the reflective pixel electrode region and the liquid crystal layer corresponding to the transmissive pixel electrode region coincide. Therefore, there is an effect that it is possible to further increase the light use efficiency.
[0183]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the periphery of the transmissive pixel electrode is overlapped by a pair of reflective pixel electrodes with one or more insulating films interposed therebetween. .
[0184]
Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device is increased, and the light utilization efficiency can be increased.
[0185]
In the liquid crystal display device of the present invention, in the liquid crystal display device described above, the reflection auxiliary capacitance element is formed by a reflection auxiliary capacitance line and a conductive film electrically connected to the reflection pixel electrode, and is transmissive. The auxiliary storage capacitor element is formed by a transmission auxiliary capacitance line and a transmission pixel electrode, and the reflection auxiliary capacitance line and the transmission auxiliary capacitance line form a pair of the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode. In FIG. 2, the same wiring is used, and the auxiliary capacitance wiring does not overlap with the region of the transmission pixel electrode where the reflection pixel electrode is not superimposed.
[0186]
Therefore, the actual area used for the liquid crystal display of the transmissive pixel electrode can be further increased by the area of the auxiliary capacitance wiring. Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device can be further increased, and the light use efficiency can be further increased.
[0187]
The liquid crystal display device of the present invention is the above liquid crystal display device, wherein the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode that form a pair. It is.
[0188]
Therefore, the pixel can be miniaturized, and a high-resolution liquid crystal display device can be obtained, and at the same time, the yield during production of the liquid crystal display device can be greatly reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of an active matrix substrate in the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line CC of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 5A is a waveform diagram showing a corrected gate signal input to a gate electrode of a thin film transistor (TFT) connected to a transmission pixel electrode in the active matrix substrate, and FIG. FIG. 6 is a waveform diagram of a signal indicating a corrected drain voltage applied to a transmission pixel electrode in a matrix substrate.
6A is a waveform diagram of a corrected source signal input to a source electrode in the active matrix substrate, and FIG. 6B is a corrected waveform applied to a transmission pixel electrode in the active matrix substrate. It is a wave form diagram of the signal which shows drain voltage.
FIG. 7 is a plan view showing another embodiment of an active matrix substrate in the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line DD of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 9 is a plan view showing still another embodiment of an active matrix substrate according to the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line EE of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 11 is a cross-sectional view of the active matrix substrate taken along line FF when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 12 is a plan view showing still another embodiment of an active matrix substrate according to the present invention.
FIG. 13 is a plan view showing a conventional active matrix substrate.
14A is a waveform diagram showing a gate signal inputted to a gate electrode of a thin film transistor (TFT) connected to a reflection pixel electrode in the conventional active matrix substrate, and FIG. 14B is a waveform diagram showing the conventional signal. It is a wave form diagram of the gate signal input into the gate electrode of the thin-film transistor (TFT) connected to the pixel electrode for transmission in an active matrix substrate, (c) is the source signal input into the source electrode in the said conventional active matrix substrate (D) is a waveform diagram of a signal indicating a drain voltage applied to the reflection pixel electrode in the conventional active matrix substrate, and (e) is a transmission waveform in the conventional active matrix substrate. It is a wave form diagram of a signal showing drain voltage applied to a pixel electrode.
[Explanation of symbols]
1a ・ 1b ・ 1c ・ 1d Active matrix substrate
2 Pixel electrode
2a Reflective pixel electrode
2b Pixel electrode for transmission
3 Gate wiring
3a Reflective gate wiring (first gate wiring)
3b Transmission gate wiring (second gate wiring)
4 Source wiring
5 Thin film transistor (switching element)
5a Reflective thin film transistor (first switching element)
5b Thin film transistor for transmission (second switching element)
6 Gate electrode
6a Reflective gate electrode
6b Transmission gate electrode
7 Source electrode
7a Source electrode for reflection
7b Source electrode for transmission
8 Drain electrode
8a Reflective drain electrode
8b Drain electrode for transmission
9 Contact hole
10 Connection electrode
11 Gate insulation film
12 Auxiliary capacitance wiring
12a Reflective auxiliary capacitance wiring
12b Transmission auxiliary wiring
13 Counter substrate
14 Counter electrode
15 Transparent insulating substrate
16 Semiconductor layer
17 Doped semiconductor layer
18 Interlayer insulation film (insulation film)
19 Auxiliary capacitance electrode (conductive film)
20 Auxiliary capacitance wiring
21 Gate wiring
22 Source wiring
23 Thin film transistor (TFT)
24 Contact hole
25 Connection wiring
26 Reflection area and pixel electrode for reflection
27 Auxiliary capacitance wiring
28 Transmission area / transmission pixel electrode
29 Liquid crystal layer
P1 / P2 opening

Claims (10)

反射表示を行うための反射用画素電極と透過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリックス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の電位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給するソース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソース電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記ゲート信号によって選択されてソース信号を上記画素電極に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマトリックス基板と、
上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とに対向する対向電極を有する対向基板と、
上記アクティブマトリックス基板と上記対向基板との間に形成される液晶層とを備える液晶表示装置において、
上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とからなり、
上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続され、
上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続され、
上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容量素子とを有し、
第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記反射用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容量とが、上記スイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量とが同じになるように設定されていることを特徴とする液晶表示装置。
A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix having a reflective pixel electrode for performing a reflective display and a transmissive pixel electrode for performing a transmissive display, an auxiliary capacitance element that holds the potential of the pixel electrode, and a source An active device having a source wiring for supplying a signal, a gate wiring for supplying a gate signal, and a switching element that includes a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode and that is selected by the gate signal and supplies the source signal to the pixel electrode A matrix substrate;
A counter substrate having a counter electrode facing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode;
In a liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer formed between the active matrix substrate and the counter substrate,
The switching element comprises a first switching element and a second switching element,
The reflection pixel electrode is connected to the first gate wiring through the first switching element,
The transmissive pixel electrode is connected to the second gate wiring through the second switching element,
The auxiliary capacitive element has a reflective auxiliary capacitive element connected to the reflective pixel electrode and a transmissive auxiliary capacitive element connected to the transmissive pixel electrode,
The amplitude of the gate signal input to the first gate wiring, the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element, A parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element; a capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode; and a transmissive pixel electrode and the counter electrode. The capacitance of the liquid crystal layer, the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element, and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element from the source signal voltage of the reflection pixel electrode potential generated when the switching element is switched. A liquid crystal display device, wherein the voltage shift amount and the voltage shift amount from the source signal voltage of the transmission pixel electrode potential are set to be the same.
第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCcs(r)とし、
第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、
上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、
ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))
なる関係を満たすことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), the capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode is Clc (r), and the reflection auxiliary The capacitance of the capacitive element is Ccs (r),
The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), the capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), and the transmission auxiliary Let Ccs (t) be the capacitance of the capacitive element,
When the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r) and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t),
ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) = ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t))
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
第1のゲート配線と、第2のゲート配線とに同一のゲート信号を入力することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the same gate signal is input to the first gate line and the second gate line. 反射表示を行うための反射用画素電極と透過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリックス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の電位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給するソース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソース電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記ゲート信号によって選択されてソース信号を上記画素電極に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマトリックス基板と、
上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とに対向する対向電極を有する対向基板と、
上記アクティブマトリックス基板と上記対向基板との間に形成される液晶層とを備える液晶表示装置において、
上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とからなり、
上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続され、
上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続され、
上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容量素子とを有し、
上記第1のスイッチング素子および上記第2のスイッチング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトおよび透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフトの後の、反射用画素電極と透過用画素電極とにおける、電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電圧を一致させるように、
上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とによるそれぞれの表示タイミングにあわせて、第1のスイッチング素子を介して反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、第2のスイッチング素子を介して透過用画素電極に印加されるソース信号電圧とを異ならせておくことを特徴とする液晶表示装置。
A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix having a reflective pixel electrode for performing a reflective display and a transmissive pixel electrode for performing a transmissive display, an auxiliary capacitance element that holds the potential of the pixel electrode, and a source An active device having a source wiring for supplying a signal, a gate wiring for supplying a gate signal, and a switching element that includes a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode and that is selected by the gate signal and supplies the source signal to the pixel electrode A matrix substrate;
A counter substrate having a counter electrode facing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode;
In a liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer formed between the active matrix substrate and the counter substrate,
The switching element comprises a first switching element and a second switching element,
The reflection pixel electrode is connected to the first gate wiring through the first switching element,
The transmissive pixel electrode is connected to the second gate wiring through the second switching element,
The auxiliary capacitive element has a reflective auxiliary capacitive element connected to the reflective pixel electrode and a transmissive auxiliary capacitive element connected to the transmissive pixel electrode,
Reflection after a voltage shift from the source signal voltage of the pixel electrode potential for reflection and a voltage shift from the source signal voltage of the pixel electrode potential for transmission that occurs at the time of switching of the first switching element and the second switching element. To match the voltage of the central axis along the time axis for the voltage waveform in the pixel electrode for transmission and the pixel electrode for transmission,
The source signal voltage applied to the reflective pixel electrode via the first switching element and the second switching element are synchronized with the display timings of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, respectively. A liquid crystal display device characterized in that a source signal voltage applied to a transmissive pixel electrode is different.
第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCcs(r)とし、
第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、
上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、
上記反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、上記透過用画素電極に印加されるソース信号電圧との差ΔVsは、
ΔVs=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))
なる関係を満たすことを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), the capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode is Clc (r), and the reflection auxiliary The capacitance of the capacitive element is Ccs (r),
The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), the capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), and the transmission auxiliary Let Ccs (t) be the capacitance of the capacitive element,
When the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r) and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t),
The difference ΔVs between the source signal voltage applied to the reflective pixel electrode and the source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode is:
ΔVs = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t) )
The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the following relationship is satisfied.
透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さよりも大きくすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶表示装置。  6. The thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is made larger than the thickness of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. 2. A liquid crystal display device according to item 1. 透過用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の厚さの2倍とすることを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。  7. The liquid crystal according to claim 6, wherein the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is twice the thickness of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. Display device. 透過用画素電極の周辺部が、一層以上の絶縁膜を介して、組をなす反射用画素電極により重畳されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。  8. The liquid crystal display according to claim 1, wherein a peripheral portion of the transmissive pixel electrode is overlapped by a pair of reflective pixel electrodes through one or more insulating films. apparatus. 反射用補助容量素子は、反射用補助容量配線と、反射用画素電極と電気的に接続された導電膜とにより形成され、
透過用補助容量素子は、透過用補助容量配線と、透過用画素電極とにより形成され、
上記反射用補助容量配線と上記透過用補助容量配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極では同一配線であり、
上記補助容量配線は、反射用画素電極が重畳していない透過用画素電極の領域とは重畳しないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
The reflection auxiliary capacitance element is formed by a reflection auxiliary capacitance wiring and a conductive film electrically connected to the reflection pixel electrode,
The transmission auxiliary capacitance element is formed by a transmission auxiliary capacitance wiring and a transmission pixel electrode,
The reflection auxiliary capacitance wiring and the transmission auxiliary capacitance wiring are the same wiring in the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode forming a set,
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the auxiliary capacitance wiring does not overlap with a region of the transmissive pixel electrode on which the reflective pixel electrode does not overlap. 5.
第1のゲート配線と第2のゲート配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極とでは同一配線であることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置。  10. The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode forming a pair.
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