JP3729954B2 - Rotary compressor - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回転式圧縮機に係わるものであり、特にベーンの耐摩耗性を改良した回転式圧縮機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、回転式圧縮機は潤滑性の悪いNON−CFC化への対応等により、摺動部の耐力を上げる必要性が増してきた。その一例として、特開昭64−63692号に記載された回転式圧縮機を図8に示す。1は密閉容器、2は電動機部、3は圧縮機部である。4はベーン、5はローラー、6はシリンダー、7はシャフトでともに圧縮機部3を構成する。ベーン4の表面層にはCr等の金属の窒化物等を拡散した皮覆層がイオンプレーティングにより形成されている。
【0003】
以上のように構成された回転式圧縮機において、電動機部2によって圧縮機部3が駆動されると、シャフト7の偏芯部に取りつけられたローラー5は、シリンダー6の内壁にそって偏芯回転し、ローラー5の外周面に接しているベーン4が圧縮室を高圧室と低圧室に仕切り、圧縮を行う。この際、特にローラー外周と接触するベーンの先端部は線接触の苛酷な摺接状態になるが、ベーンに皮覆層を形成し、表面硬度を高めることでベーンの耐力を上げている。
【0004】
その後、さらにコーティングの前に窒化処理等の表面処理を行い、下地の硬度を上げることによって、更に耐力向上を図ったものとして特開平6−93990号に記載されたものが知られる。図9にそのベーンの断面構造を示し、母材に窒化を施した内容について以下に説明する。8はベーン4の窒化処理層であり、母材に窒素が拡散している。9はベーン4の皮覆層で、Cr等の金属の窒化物等を拡散した皮覆層が窒化処理層8の上にイオンプレーティング処理により形成されている。イオンプレーティングの処理の前には、皮覆層の密着力を向上させる目的でイオンボンバード処理を行う。イオンボンバード処理及びイオンプレーティング処理は、通常真空容器中で連続して行う。次に具体的な処理内容と目的を述べる。まずイオンボンバード処理であるが、これは所定の真空度まで吸引した真空容器中にアルゴンのようなガスイオンのスパッタ効果を利用してベーンの表面汚染物質を除去すると同時に、皮覆すべきベーンを加熱する。次にイオンプレーティング処理は真空容器内に窒素ガスを導入し、蒸発金属イオンと窒素の反応を行わせ、真空容器内に固定されたベーンの表面に皮覆層を形成するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記従来の構成では、皮覆層の密着力を向上させるために、イオンボンバード処理時間を十分長くとると、スパッタ効果によってベーン温度が異常に上昇したままで次のイオンプレーティング処理に移る。イオンプレーティング処理により形成する皮覆層の組織は、柱状組織が最も耐摩耗性が高いが、ベーン温度が異常に高くなった場合、柱状組織の中に別々の方位の結晶が生成されてしまう。この不完全な柱状組織は、微視的に見ると摺動方向に対し剥がれやすいため、こういった処理を施したセラミックス層は摩耗進行が早く、耐摩耗性にばらつきが出るという課題を有していた。
【0006】
更に、ベーンに高荷重がかかった場合には皮覆層に亀裂が入りやすく、皮覆層が欠けるという課題も有していた。
【0007】
一方、母材の上に窒化層を形成させ、更にその上にイオンプレーティング皮覆層を持たせるものにおいては、イオンプレーティング処理の温度が窒化処理の温度を越えてしまうと窒化層の窒素が拡散し硬度が低下する。下地としての窒化層の硬度が低下すると、ベーンに高荷重がかかった場合、イオンプレーティング皮覆層が変形し易くなると同時に欠け易くなり、耐摩耗性が低下するという課題も有していた。
【0008】
本発明は、上記従来の課題を解決しようとするもので、ベーンの耐久性を高いレベルで安定させることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、イオンプレーティング処理等のベーンの温度を550℃以下としたもので、ベーンの耐久性を高いレベルで安定させることができるようになった。
【0010】
また、イオンプレーティング処理時のベーンの温度を窒化層を処理する時の温度以下としたもので、ベーンの耐久性を更に高いレベルで安定させることができるようになった。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1に記載の発明は、ベーンは母材の表面に形成された窒化層の上に、イオンボンバード処理を行った後イオンプレーティング処理によってCrNコーティング層を形成するとともに、前記イオンプレーティング処理は前記ベーンの温度が550℃以下で、かつ前記窒化層を処理した温度以下でなされたものであり、ベーン表面に到達した蒸発金属原子と窒素原子の運動エネルギーが低いため、皮膜生成初期の組織の核が形成されやすく、緻密で一定方向に柱が整列した均一な柱状組織を生成させることができる。また皮覆層の下地である窒化処理層の硬度が高いままで維持できるため、ベーンに高荷重がかかった場合でも窒化層が皮覆層を支えることで皮覆層の欠けの発生を防ぎ、ベーンの耐摩耗性を更に高いレベルで安定させるという作用を有する。
【0013】
【実施例】
以下本発明の実施の形態について図1〜図7を用いて説明する。なお従来例と同一部分は同一符号を付し、詳細な説明を省略する。
【0014】
図1に本発明の回転式圧縮機の構造を、図2に請求項1の本発明のベーンの断面構造を示す。10はベーンで、11はイオンプレーティングにより形成したCrNコーティング層である。イオンプレーティング処理時のベーンの温度は550℃で行っている。イオンプレーティング開始時にベーン表面に到達したクロム原子と窒素原子は高いエネルギーを持っているので表面を移動する。この原子はしだいにエネルギーを失い、エネルギー的に安定な場所に補足される。このとき他の原子と出会い合体する。合体した原子の集団は更に成長を続け、これが組織の核となり柱状組織を形成していく。図3(a)は本実施例のCrN皮覆層の断面組織を表すもので、550℃で処理しているので、もともと運動エネルギーが低く、安定しやすい。したがって核の生成が早く安定した成長を続けるため、緻密で一定方向に柱が整列した均一な柱状組織で形成されている。
【0015】
図3(b)は従来のCrN皮覆層の断面組織を表すもので、ベーン温度が異常に高い状態でCrNコーティング処理を行っているため、ベーン表面に到達した原子の運動エネルギーが非常に高く不安定な状態が続き、核の生成が遅い。その結果組織は粗く柱状組織の中に別々の方位の結晶が生成し、不均一な組織で形成されている。
【0016】
図4は、本実施例及び従来のCrNコーティングベーンについて、同条件で時系列摩耗進行の比較評価の結果を示したものである。この結果から、従来のCrNコーティングベーンは試験時間とともにベーンの摩耗が進行するのに対して、本実施例のCrNコーティングベーンはほとんど摩耗の進行が見られず、ベーンの耐摩耗性が高いことがわかる。
【0017】
また、図5に請求項1の本発明のベーンの断面構造を示す。10はベーンで12は530℃で処理したイオン窒化層である。13はイオンプレーティングにより形成したCrNコーティング層であり、処理時のベーンの温度はイオン窒化処理と同じ530℃で行っている。
【0018】
また、図6(a)は本実施例の窒化層のエッチング断面組織を示すもので、イオンプレーティング処理時のワーク温度を窒化温度と同じ530℃で処理しているので窒化層の窒素が拡散されずに残っており、エッチングしても表面の窒素リッチ層が認められる。図6(b)は従来の窒化層のエッチング断面組織を示すもので、イオンプレーティング処理時のワーク温度が窒化温度以上で処理しているので窒化層の窒素が拡散し、エッチングすると窒化層が腐食され黒く変色している。
【0019】
図7は、本実施例及び従来のCrNコーティングベーンについて、同条件で時系列摩耗進行の比較評価の結果を示したものである。この結果から、従来のCrNコーティングベーンは試験時間とともにベーンの摩耗が進行するのに対して、本実施例CrNコーティングベーンはほとんど摩耗の進行が見られず、ベーンの耐摩耗性が非常に高いことがわかる。
【0020】
【発明の効果】
以上のように請求項1記載の発明によれば、ベーンの表面にベーン温度を550℃以下で処理したイオンプレーティング皮覆層を形成することにより、ベーンの耐摩耗性を常に高いレベルに安定させるという有利な効果が得られる。
【0021】
また、請求項1記載の発明によれば、ベーン母材の表面に形成される窒化層の上にイオンプレーティング皮覆層が形成されるとともに、イオンプレーティング皮覆の処理はベーン温度が窒化層を処理した温度以下でなされたことにより、ベーンの耐摩耗性を更に高いレベルで安定させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例による回転式圧縮機の断面図
【図2】 請求項1に記載した同回転式圧縮機のベーンの断面図
【図3】 (a)請求項1に記載した同回転式圧縮機のベーンCrN皮覆層の断面組織を示す図
(b)請求項1に記載した従来の回転式圧縮機のベーンCrN皮覆層の断面組織を示す図
【図4】 請求項1に記載した同回転式圧縮機のベーンの摩耗試験結果を示す図
【図5】 請求項1に記載した同回転式圧縮機のベーンの断面図
【図6】 (a)請求項1に記載した同回転式圧縮機のベーン窒化層のエッチング断面組織を示す図
(b)請求項1に記載した従来の回転式圧縮機のベーン窒化層のエッチング断面組織を示す図
【図7】 請求項1に記載した同回転式圧縮機のベーンの摩耗試験結果を示す図
【図8】 従来の回転式圧縮機の断面図
【図9】 従来の回転式圧縮機のベーンの断面図
【符号の説明】
1 密閉容器
2 電動機部
3 圧縮機部
5 ローラー
6 シリンダー
7 シャフト
10 ベーン
11 ベーンのCrNコーティング皮覆層
12 ベーンのイオン窒化層
13 ベーンのCrNコーティング皮覆層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a rotary compressor, and more particularly to a rotary compressor with improved vane wear resistance.
[0002]
[Prior art]
In recent years, there has been an increasing need for a rotary compressor to increase the proof stress of a sliding portion, for example, due to the response to NON-CFC having poor lubricity. As an example, FIG. 8 shows a rotary compressor described in JP-A-64-63692. 1 is an airtight container, 2 is an electric motor part, 3 is a compressor part.
[0003]
In the rotary compressor configured as described above, when the
[0004]
After that, surface treatment such as nitriding treatment is further performed before coating, and the hardness of the base is increased to further improve the proof stress, and those described in JP-A-6-93990 are known. FIG. 9 shows a cross-sectional structure of the vane, and the content of nitriding the base material will be described below.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above-described conventional configuration, in order to improve the adhesion of the skin covering layer, if the ion bombarding time is sufficiently long, the vane temperature is abnormally increased by the sputtering effect and the next ion plating process is started. As for the structure of the skin layer formed by ion plating, the columnar structure has the highest wear resistance, but when the vane temperature becomes abnormally high, crystals of different orientations are generated in the columnar structure. . Since this incomplete columnar structure is easily peeled off in the sliding direction when viewed microscopically, the ceramic layer subjected to such treatment has a problem that wear progresses quickly and wear resistance varies. It was.
[0006]
Further, when a high load is applied to the vane, there is a problem that the skin covering layer is easily cracked and the skin covering layer is missing.
[0007]
On the other hand, in the case where the nitride layer is formed on the base material and the ion plating cover layer is further provided thereon, the nitrogen of the nitride layer is exceeded when the temperature of the ion plating process exceeds the temperature of the nitriding process. Diffuses and the hardness decreases. When the hardness of the nitride layer as the base is lowered, there is also a problem that, when a high load is applied to the vane, the ion plating skin covering layer is easily deformed and at the same time is easily chipped and wear resistance is lowered.
[0008]
The present invention is intended to solve the above-described conventional problems, and an object thereof is to stabilize the durability of the vane at a high level.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present invention is such that the temperature of the vane for ion plating treatment or the like is set to 550 ° C. or less, and the durability of the vane can be stabilized at a high level.
[0010]
Further, the vane temperature during the ion plating treatment is set to be equal to or lower than the temperature during the nitride layer treatment, and the durability of the vane can be stabilized at a higher level.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
According to the first aspect of the present invention, the vane forms a CrN coating layer by ion plating after ion bombarding on the nitride layer formed on the surface of the base material. The plating process is performed at a temperature of the vane of 550 ° C. or less and a temperature of the nitride layer or less, and the kinetic energy of evaporated metal atoms and nitrogen atoms reaching the vane surface is low, so that a film is formed. Nuclei of the initial structure are easily formed, and a uniform columnar structure in which the columns are aligned in a certain direction can be generated. In addition, since the hardness of the nitriding layer that is the base of the skin covering layer can be kept high, even when a high load is applied to the vane, the nitride layer supports the skin covering layer to prevent the occurrence of chipping of the skin covering layer, It has the effect of stabilizing the wear resistance of the vane at a higher level.
[0013]
【Example】
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those in the conventional example are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.
[0014]
FIG. 1 shows the structure of the rotary compressor of the present invention, and FIG. 2 shows the sectional structure of the vane of the present invention according to
[0015]
FIG. 3 (b) shows a cross-sectional structure of a conventional CrN skin layer. Since the CrN coating process is performed in a state where the vane temperature is abnormally high, the kinetic energy of atoms reaching the vane surface is very high. Unstable state continues and nucleation is slow. As a result, the structure is rough, and crystals with different orientations are formed in the columnar structure, and the structure is formed with a non-uniform structure.
[0016]
FIG. 4 shows the results of comparative evaluation of the progress of time series wear under the same conditions for this example and the conventional CrN coating vane. From this result, the conventional CrN coating vane progresses in wear of the vane with the test time, whereas the CrN coated vane of this example shows almost no progress in wear, and the wear resistance of the vane is high. Understand.
[0017]
FIG. 5 shows a sectional structure of the vane according to the first aspect of the present invention. 10 is a vane and 12 is an ion nitride layer processed at 530 °
[0018]
FIG. 6 (a) shows the etching cross-sectional structure of the nitride layer of this example. Since the work temperature during ion plating is 530 ° C. which is the same as the nitriding temperature, nitrogen in the nitride layer diffuses. The nitrogen-rich layer on the surface is recognized even after etching. FIG. 6 (b) shows an etching cross-sectional structure of a conventional nitride layer. Since the workpiece temperature during the ion plating process is processed at a temperature equal to or higher than the nitriding temperature, nitrogen in the nitride layer diffuses and etching causes the nitride layer to form. Corroded and discolored black.
[0019]
FIG. 7 shows the results of comparative evaluation of time series wear progress under the same conditions for the present example and the conventional CrN coating vane. From this result, while the conventional CrN coating vane progresses in vane wear with the test time, this example CrN coated vane shows almost no progress in wear and the vane has very high wear resistance. I understand.
[0020]
【The invention's effect】
As described above, according to the first aspect of the present invention, by forming the ion plating skin covering layer processed at a vane temperature of 550 ° C. or less on the surface of the vane, the wear resistance of the vane is always stabilized at a high level. An advantageous effect is obtained.
[0021]
According to the first aspect of the present invention, the ion plating skin covering layer is formed on the nitride layer formed on the surface of the vane base material. By being done below the temperature at which the layers were processed, the wear resistance of the vanes can be stabilized at a higher level.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a rotary compressor according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of a vane of the rotary compressor according to
DESCRIPTION OF
Claims (1)
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1996
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