JP3688606B2 - 接着強度が改善された絶縁フィルム及びこれを含む基板 - Google Patents
接着強度が改善された絶縁フィルム及びこれを含む基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3688606B2 JP3688606B2 JP2001214779A JP2001214779A JP3688606B2 JP 3688606 B2 JP3688606 B2 JP 3688606B2 JP 2001214779 A JP2001214779 A JP 2001214779A JP 2001214779 A JP2001214779 A JP 2001214779A JP 3688606 B2 JP3688606 B2 JP 3688606B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- epoxy resin
- insulating film
- rubber
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4661—Adding a circuit layer by direct wet plating, e.g. electroless plating; insulating materials adapted therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0133—Elastomeric or compliant polymer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0183—Dielectric layers
- H05K2201/0195—Dielectric or adhesive layers comprising a plurality of layers, e.g. in a multilayer structure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0209—Inorganic, non-metallic particles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/901—Printed circuit
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
- Y10T428/31515—As intermediate layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
- Y10T428/31515—As intermediate layer
- Y10T428/31522—Next to metal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は接着強度が改善された絶縁フィルム及びこれを含む印刷回路基板に係り、より詳しくはビルドアップ(build-up)法による多層印刷回路基板を製作する際に絶縁層とメッキ層との接着強度を増大させるために絶縁層を形成する絶縁フィルムのうち、CCLに接する部分の成分組成と、デスミア処理されてメッキ層に接する部分の成分組成とを異にする絶縁フィルム及びこれを含む印刷回路基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
最近、小型化、高周波化、デジタル化される電子機器の趨勢に伴って、部品と基板の高集積化及び高密度化が要求される。従来では、多層印刷基板製造の際、ガラス繊維(glass cloth)にエポキシ樹脂を含浸させて半硬化させたプリプレグを、回路付き内層回路基板上に積層する方式が用いられてきた。しかし、このような方法は、大規模設備などによって多くの費用がかかり、熱と圧力の下で成形するのに長時間がかかる。更に、外層上の貫通孔(through-hole)メッキによって銅の厚さが厚くなり、微細なパターンの形成が難しく且つ誘電率が高い。
【0003】
かかる問題を解決するために、内層回路基板の導体層上に絶縁層と伝導層を交互に積層して基板を製造するビルドアップ法が用いられてきた。従って、最近の基板製造の趨勢は、ビルドアップ法によってバイアホール(via hole)を形成して配線の密度を増加させる、一方、レーザ加工などによって回路形成を高密度化及び薄板化している。
【0004】
多層ビルドアップ基板の絶縁層として、以前は液状絶縁樹脂及び感光性絶縁樹脂が主に用いられてきたが、基板製造時に絶縁層に不規則なステップカバレージが形成され、材料選定が制限されるという問題点があった。従って、最近は半固状のドライフィルム(dry film)型絶縁フィルム材料を用いた絶縁層の形成をより好んでいる。
【0005】
液状絶縁樹脂の場合、絶縁層はコーティング工程によって容易に形成することができるが、基質への塗布の際に気泡発生など不均一な絶縁膜が形成されてステップカバレージが発生し、且つ断面加工によって生産性が低下する。
【0006】
感光性絶縁樹脂は、一括して多数のホールを形成することができるが、価格が高く、量産工程でバイアホールの大きさをより微細化するのに限界(最小80μm)がある。
【0007】
ドライフィルム型絶縁樹脂は、絶縁層の厚さ調節が容易であり、基板の薄板化及び両面同時加工を行うことができるから、工程効率が良好である。更に、レーザで加工することができるため、微細ホール(50μm以下)を形成することができる。しかし、絶縁層と伝導層間の接着強度が十分でないという問題点がある。
【0008】
ひいては、銅メッキの前処理工程として、ドリリング(drilling)時の樹脂のスミア(smear)を除去して内層回路と外層回路が円滑に接続(メッキ)され、樹脂表面に凸凹(roughness)を形成して絶縁層に対するメッキ層の密着強度を増大させるデスミア工程が行われる。デスミア工程では絶縁層を過マンガン酸塩、ビクロメート、過酸化水素などの酸化剤でスウェリング(swelling)することにより、絶縁層内部の充填材が除去されて絶縁層の表面に粗い凸凹が形成される。したがって、電解または無電解メッキの際にメッキ層が絶縁層に形成された凸凹の間に染み込んでメッキ層と絶縁層間の接着強度が向上する。
【0009】
最近、日本の味の素社の米国特許第6,133,377号は、ドライフィルム型絶縁樹脂を製造するに際して、トリアジン環(triazine ring)構造を含むフェノールエポキシ樹脂を用いて熱硬化による微細凸凹を形成する方法を開示している。前記特許によれば、味の素社の方法によって、機械的グラインディング(grinding)または化学的スウェリング(swelling)工程を行うことなく、絶縁層と銅メッキ層間の接着強度を改善させたものを開示している。しかし、実際の基板製造時にはデスミア処理して絶縁層の充填材を排出させる化学的スウェリング工程によってメッキ層間の接着強度を増大させなければならない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、効果的なデスミア処理及びそれによるメッキ層との接着強度が改善された絶縁フィルを提供することにある。
【0011】
本発明の他の目的は、メッキ層との接着強度が改善された絶縁フィルムを含む印刷回路基板を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の一つの特徴によれば、エポキシ樹脂、ゴム及び充填材を含んで構成される多層印刷回路基板の絶縁層を形成する絶縁フィルムにおいて、前記絶縁フィルムはデスミア処理される第1コーティング層及びデスミア処理されない第2コーティング層を有し、第1コーティング層中のゴム含量は第2コーティング層中のゴム含量より多く、第1コーティング層中の充填材含量は第2コーティング層中の充填材含量より多く、第1コーティング層中のエポキシ樹脂含量は第2コーティング層中のエポキシ樹脂含量より少ないことを特徴とする絶縁フィルムが提供される。
【0013】
本発明の他の特徴によれば、本発明の絶縁フィルムを含む印刷回路基板が提供される。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の絶縁フィルムは、デスミア処理される第1コーティング層とデスミア処理されない第2コーディング層を有し、第1コーティング層と第2コーティング層はその構成成分の組成を異にする。
【0015】
本発明の絶縁フィルムは、絶縁フィルムの形成に一般的に用いられるエポキシ樹脂、ゴム、エポキシ樹脂硬化剤、充填材及びその他必要に応じて添加される添加剤からなる。しかし、デスミア工程の際に絶縁層のスウェリング及び絶縁層内の充填材排出が容易に行われるよう、デスミア処理される第1コーティング層とデスミア処理されない第2コーティング層はその構成成分の組成を異にする。
【0016】
即ち、第1コーティング層中のゴム含量は第2コーティング層中のゴム含量より多く、第1コーティング層中の充填材含量は第2コーティング層中の充填材含量より多く、第1コーティング層中のエポキシ樹脂含量は第2コーティング層中のエポキシ樹脂含量より少ない。
【0017】
第1コーティング層はデスミア処理される層であって、多量のゴムを含有するので、デスミア処理時のスウェリングが容易且つ効果的である。更に、多量の充填材を含有するので、デスミア処理時に多量含有されている充填材が排出され、優秀な凸凹が形成される。
【0018】
このように、デスミア処理の際に充填材が容易に排出されるよう、デスミア処理される部分とデスミア処理されない部分の成分組成を異にすることにより、デスミア処理による絶縁フィルムの凸凹形成が容易であり、よって、多層印刷回路基板の製作時に絶縁層上に形成されるメッキ層と絶縁層との接着強度が増大される。
【0019】
より具体的には、本発明の絶縁フィルムにおいてデスミア処理される第1コーティング層及び第2コーティング層は、それぞれ次のように構成される。
【0020】
第1コーティング層は、第1コーティング層の総重量を基準として、エポキシ樹脂10〜80重量%、ゴム10〜80重量%及び充填材0.1〜40重量%を含んで構成される。第2コーティング層は、第2コーティング層の総重量を基準として、エポキシ樹脂20〜90重量%、ゴム最高20重量%及び充填材最高30重量%を含んで構成される。
【0021】
絶縁フィルム形成時の基材としては、電気的、熱的特性及び化学的安定性に優れているエポキシ樹脂を用いる。エポキシ樹脂としては一般的なエポキシ樹脂のいずれも使用可能であり、これらに限定されるものではないが、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールFなどを含むビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂及びクレゾールノボラックエポキシ樹脂などの単独或いは二種以上の混合物をエポキシ樹脂として使用することができる。
【0022】
また、特に、絶縁層の難燃特性を向上させるためには、臭素化されたビスフェノール型エポキシ樹脂、臭素化されたフェノキシエポキシ樹脂などを使用してもよく、この際、エポキシ樹脂の臭素化度は20%以上である。
【0023】
第1コーティング層におけるエポキシ樹脂の含量は、第1コーティング層の総重量を基準として10〜80重量%である。エポキシ樹脂の含量が10%以下であると、組成物の誘電率など電気的特性が低下し、エポキシ樹脂含量が80%以上であると、ゴム化合物及び充填材など、添加できる他の成分の含量が相対的に減少するので好ましくない。
【0024】
第2コーティング層におけるエポキシ樹脂の含量は、前記エポキシ樹脂の含量を限定した同理由で、第2コーティング層の総重量を基準として20〜90重量%である。また、絶縁層が効果的にデスミア処理されるよう、デスミア処理されない第2コーティング層のエポキシ樹脂含量は、第1コーティング層のエポキシ樹脂含量の下限線及び上限線より10重量%多く組成される。
【0025】
ゴムはデスミア処理時に膨潤され、充填材が容易に排出されるようにする。ゴムとしては、ポリブタジエンゴム、ポリブタジエンゴム変性エポキシ樹脂(ポリブタジエンゴムの末端にエポキシド環が置換される)、アクリロニトリル-ブタジエンゴム、及びアクリロニトリルポリブタジエンゴム変性エポキシ樹脂(アクリロニトリル-ブタジエンゴムの末端にエポキシド環が置換される)などのいずれか単独或いは二種以上の混合物を使用することができる。
【0026】
第1コーティング層中のゴム含量は、第1コーティング層の総重量を基準として10〜80重量%である。ゴムの含量が10重量%以下であると、デスミア工程の際に化学的スウェリング現象があまり起こらず、80重量%以上であると、絶縁フィルムの接着力が減少し、デスミア工程の際に過度にスウェリングされて絶縁フィルムとしての役割を果たし難く、他の組成成分の添加が制限される。
【0027】
第2コーティング層はデスミア処理されない部分であって、第2層において、ゴムはデスミアによるスウェリングと無関係であり、絶縁フィルムの耐衝撃性などの機械的特性を向上させるために添加される。第2コーティング層中のゴム含量は、第1コーティング層におけるゴム含量と差別化されるよう且つ十分な機械的特性をあらわすように、第2コーティング層の総重量を基準として最高20重量%、好ましくは1重量%〜20重量%とする。デスミア処理されない第2コーティング層においてゴムの含量が20重量%を超えると、デスミア処理の際に偶発的に第2層までデスミアされる場合、絶縁層が損傷して絶縁層として作用しないおそれがある。
【0028】
また、第1コーティング層のゴム含量が第2コーティング層のゴム含量より多くなければならない。デスミア処理の際、第1コーティング層が容易にスウェリングされ且つ絶縁フィルムに凸凹が形成されるように、第2コーティング層のゴム含量に比べて第1コーティング層のゴム含量を多く組成する。
【0029】
充填材はデスミア処理時に除去され、絶縁層に凸凹を形成すると共に機械的特性を改善する。充填材としては絶縁フィルムの形成時に充填材として一般的に用いられる物質を使用する。例えば、これらに限定されるものではないが、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化珪素粉末、無定形シリカ、タルク、粘土及びマイカ粉末などのいずれか単独或いは二種以上の混合物を充填材として使用することができる。
【0030】
第1コーティング層における充填材の含量は、第1コーティング層の総重量を基準として0.1〜40重量%である。充填材が0.1重量%以下であると、充填材による機械的物性向上の効果が高くなく、且つデスミア工程によって絶縁層に凸凹を形成させる程度が僅かである。一方、40重量%以上であると、むしろ絶縁層の電気的、機械的物性が低下する。
【0031】
第2コーティング層において、充填材の含量は第2コーティング層の総重量を基準として最高30重量%、好ましくは0.1〜30重量%である。デスミア処理されない第2コーティング層における充填材の含量が30重量%を超えると、デスミア処理の際に偶発的に第2層までデスミアされて絶縁層が損傷し、絶縁層として作用しないおそれがある。
【0032】
また、第1コーティング層の充填材含量は、第2コーティング層の充填材含量より多い組成とする。絶縁フィルムのうち、デスミア処理される第1コーティング層に多量含有されている充填材によって、デスミア処理時に絶縁層上に凸凹が容易に形成され、メッキ層と絶縁層との接着強度が改善される。
【0033】
ひいては、エポキシ樹脂に対する硬化剤をさらに含むことができる。硬化剤としてはアミン、イミダゾール及び酸無水物を使用することができる。その具体的な例としては、これに限定するのではないが、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-フェニルイミダゾール、ビス(2-エチル-4-メチルイミダゾール)、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、トリアジン添加型イミダゾール、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルブテニルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物及びベンゾフェノーンテトラカルボキシ酸無水物などのいずれか単独或いは二種以上の混合物を挙げることができる。
【0034】
通常、前記エポキシ樹脂硬化剤はエポキシ樹脂に対して当量比で添加される。この技術分野の技術者であれば、エポキシ樹脂に対して当量比で添加される硬化剤の量を容易に算出することができる。
【0035】
但し、硬化剤が、必要とする含量より少なく(約10%程度以上少なく)添加されると、未硬化されたエポキシ樹脂が多くなり、多量(約10%以上多く)に添加されると、硬化反応サイト(site)が多くなり、硬化されたエポキシ樹脂が比較的単分子の形で存在するので、硬化物の機械的、電気的物性などが減少する。
【0036】
その他、必要に応じて絶縁フィルムの形成に一般的に用いられる反応性希釈剤、結合剤(binder)、カップリング剤及び消泡剤を添加することができる。
【0037】
反応性希釈剤としては、これらに限定されるのものではないが、例えば、フェニルグルシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、レゾール型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂及びイソシアネート化合物のいずれか単独或いは二種以上の混合物を使用することができる。
【0038】
結合剤としては、ポリアクリル酸樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリシアネート樹脂及びポリエステール樹脂のいずれか単独或いは二種以上の混合物を使用することができる。
【0039】
基板製造の際に伝導層との接着力をさらに増大させるために、エポキシシランなどのシランカップリング剤及びチタン系カップリング剤を使用することができる。その他、樹脂配合の際に作業を容易とするために気泡除去用消泡剤をさらに使用することができる。
【0040】
上述したように構成される本発明の絶縁フィルムは、例えば次のように製造することができる。前記絶縁フィルムの各成分を溶媒に溶解して、第1コーティング層を形成する組成物(以下、「第1組成物」という)と第2コーティング層を形成する組成物(以下、「第2組成物」という)を製造した後、これを支持体上にコーティングする。
【0041】
溶媒としては、前記各成分の溶解性及び混和性を考慮して、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアセテート、ブチルアセテート、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、セロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、ブチルカルビトール、キシレン、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドなどのいずれか単独或いは二種以上の混合物を使用することができる。
【0042】
絶縁フィルムは、支持体上で第1組成物をコーティングした後、第1層が完全に乾燥される前に第1層上に第2組成物をコーティングして第2層をコーティングし、乾燥させて製造する。
【0043】
この際、第1コーティング層/第2コーティング層の厚さ比は0.1〜1.0である。絶縁層のうちデスミア処理され且つメッキ層と接する面は、絶縁層の表面と表面から数〜数十μm程度の深さの領域である。従って、デスミア処理され且つメッキ層と接する第1コーティング層は、絶縁層の全厚さに比べてそれほど厚くする必要がないので、第2コーティング層より薄く形成される。第1コーティング層/第2コーティング層の厚さ比が1を超えると、全体的に絶縁フィルムのうちゴム及び充填材の相対的含量が増加するので、誘電率、絶縁抵抗値などの電気的特性が低下する。絶縁フィルム形成時の支持体としては、これに限定するのではないが、PET(polyethylene terephthalate)及びPBT(polybutylene terephthalate)などを使用することができる。
【0044】
図1は本発明に係るゴム、エポキシ樹脂及び充填材からなる絶縁フィルムの断面図である。図1において、符号1は支持体、符号2−1はデスミア処理される第1コーティング層であり、符号2−2はデスミア処理されない第2コーティング層である。
【0045】
次に、本発明に係る絶縁フィルムの適用について例を挙げて説明する。CCL上に符号2−2部分が接着されるように適用される。その後、図1の支持体1は剥離除去され、符号2−1部分がデスミア処理され、その上にメッキ層が形成される。本発明の絶縁フィルムは半固状のドライフィルム型である。
【0046】
本発明の絶縁フィルムを用いて製造された印刷回路基板は、絶縁層上の凸凹形成が改善されることにより、絶縁層とメッキ層との接着強度が改善される。
【0047】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明する。次の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明を限定するものではない。
【0048】
【実施例】
絶縁フィルム形成組成物の製造
(組成物aの製造)
185当量のビスフェノールA型のエポキシ樹脂30重量部と190当量のビスフェノールA型エポキシ樹脂30重量部をメチルエチルケトンに添加し、加熱して溶解させる。また、エポキシ樹脂として170当量のフェノールノボラックメチルエチルケトンバニッシュ(NW=50wt.%)55重量部とポリブタジエンゴム20重量部を加え、硬化剤として2-メチルイミダゾールを当量比で添加する。臭素化度が46〜50%のフェノキシエポキシメチルエチルケトンバニッシュ(NV=50wt.%)50重量部と粒径50μmのシリカ10重量部を加え、BYK 501シリコン系消泡剤0.3wt%及びUCC A487カップリング剤0.5wt%を添加した後、攪拌してバニッシュ状の絶縁層を形成するエポキシ組成物aを製造した。
【0049】
(第1組成物bの製造)
フェノールノボラックメチルエチルケトンバニッシュを40重量部、ポリブタジエン-ニトリルゴム変性エポキシ樹脂を40重量部、粒径5μmのシリカを20重量部添加したことを除いては、組成物aの場合と同様にしてバニッシュ状の第1組成物bを製造した。
【0050】
(第2組成物cの製造)
ポリブタジエン-ニトリルゴム変性エポキシ樹脂を10重量部、粒径5μmのシリカを5重量部添加したことを除いては、組成物aの場合と同様にしてバニッシュ状の第2組成物cを製造した。
【0051】
絶縁フィルムの製造
(絶縁フィルムAの製造)
バニッシュ状に製造された組成物aのエポキシ樹脂組成物をPETフィルム(厚さ40μm)上にロールコーティングし、80℃で10分間乾燥させ。厚さ5μmの絶縁フィルムAを製作した。
【0052】
(絶縁フィルムBの製造)
第1組成物bのエポキシ樹脂組成物をPETフィルム上に20μmの厚さでコーティングした後、その上に第2組成物cの樹脂組成物を30μmの厚さでロールコーティングし、80℃で10分間乾燥させて絶縁フィルムBを製作した。
【0053】
基板製作
両面に銅箔がラミネートされている内層回路基板(internal-layer circuit board)を130℃で30分間乾燥させた。その後、前記内層回路ボードに製作した絶縁フィルムAおよび絶縁フィルムBを、それぞれMorton CVA 725真空ラミネーターを用いて90℃、2.0mbarで50秒間両面に真空ラミネート加工し、それぞれ比較例、実施例とした。
【0054】
フィルムが取りつけられた基板を100℃、2kgf/cm2で2分間加熱圧着した後、PETフィルムを除去する。その後、170℃で30分間硬化させ、CO2レーザを用いてホールを形成する。過マンガン酸塩でデスミアして絶縁層の表面に凸凹を形成する。無電解メッキ後、電解メッキでパターンを形成した上、100℃で60分間アニーリングして基板を製作した。
【0055】
比較例の絶縁フィルムAを用いて製作した基板の接着強度が0.7kgf/cm2であったのに対し、実施例の絶縁フィルムBを用いて製作した基板の接着強度は1.2kgf/cm2であった。
【0056】
【発明の効果】
上述した実施例のように、デスミア処理される部分の成分組成とデスミア処理されない部分の成分組成が互いに異なる絶縁フィルムは、デスミア処理による絶縁フィルムの凸凹形成が容易であり、よって、多層印刷回路基板の形成時に絶縁層上に形成されるメッキ層と絶縁層との接着強度が増大する。即ち、本発明の絶縁フィルムは、単一組成で構成されたドライフィルム型の絶縁フィルムに比べて接着強度が40%以上向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明に係る支持体上に形成された、接着強度を改善した絶縁フィルムを示す断面図である。
【符号の説明】
1 支持体
2 絶縁フィルム
Claims (6)
- エポキシ樹脂、ゴム及び充填材を含んで構成される多層印刷回路基板の絶縁層を形成する絶縁フィルムにおいて、
前記絶縁フィルムはデスミア処理される第1コーティング層及びデスミア処理されない第2コーティング層を有し、
前記第1コーティング層は第1コーティング層の総重量を基準として、エポキシ樹脂10〜80重量%、ゴム10〜80重量%及び充填材0.1〜40重量%を含み、第2コーティング層は第2コーティング層の総重量を基準として、エポキシ樹脂20〜90重量%、ゴム1〜20重量%及び充填材0.1〜30重量%を含んで構成され、第1コーティング層中のゴム含量は第2コーティング層中のゴム含量より多く、第1コーティング層中の充填材含量は第2コーティング層中の充填材含量より多く、第1コーティング層中のエポキシ樹脂含量は第2コーティング層中のエポキシ樹脂含量より少ないことを特徴とする絶縁フィルム。 - 前記第1コーティング層/第2コーティング層の厚さ比は0.1〜1.0であることを特徴とする請求項1記載の絶縁フィルム。
- 前記エポキシ樹脂は、ビスフェノールAやビスフェノールFなどのビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂及びクレゾールノボラックエポキシ樹脂、臭素化されたビスフェノール型エポキシ樹脂、及び臭素化されたフェノキシエポキシ樹脂のいずれか単独或いはこれら二種以上の混合物から選択されることを特徴とする請求項1記載の絶縁フィルム。
- 前記ゴムは、ポリブタジエンゴム、ポリブタジエンゴム変性エポキシ樹脂、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、及びアクリロニトリルポリブタジエンゴム変性エポキシ樹脂のいずれか単独或いはこれら二種以上の混合物であることを特徴とする請求項1記載の絶縁フィルム。
- 前記充填材は、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化珪素粉末、無定形シリカ、タルク、粘土及びマイカ粉末のいずれか単独或いはこれら二種以上の混合物であることを特徴とする請求項1記載の絶縁フィルム。
- 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の絶縁フィルムを含む多層印刷回路基板。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2001-32759 | 2001-06-12 | ||
KR10-2001-0032759A KR100380722B1 (ko) | 2001-06-12 | 2001-06-12 | 접착강도가 개선된 절연필름 및 이를 포함하는 기판 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003008237A JP2003008237A (ja) | 2003-01-10 |
JP3688606B2 true JP3688606B2 (ja) | 2005-08-31 |
Family
ID=19710696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001214779A Expired - Fee Related JP3688606B2 (ja) | 2001-06-12 | 2001-07-16 | 接着強度が改善された絶縁フィルム及びこれを含む基板 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6565977B2 (ja) |
JP (1) | JP3688606B2 (ja) |
KR (1) | KR100380722B1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG125114A1 (en) * | 2003-05-13 | 2006-09-29 | Shimano Kk | Electronic circuit device for fishing equipment |
US7063413B2 (en) * | 2003-07-23 | 2006-06-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection cartridge utilizing a two-part epoxy adhesive |
KR100826420B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2008-04-29 | 제일모직주식회사 | 반도체 조립용 접착 필름 조성물 및 접착 필름 |
JP5251464B2 (ja) * | 2008-12-03 | 2013-07-31 | 日立化成株式会社 | 配線板用絶縁樹脂材料、多層配線板及び多層配線板の製造方法 |
JP5676908B2 (ja) * | 2010-04-21 | 2015-02-25 | 上村工業株式会社 | プリント配線基板の表面処理方法及び表面処理剤 |
JP6144003B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2017-06-07 | 富士通株式会社 | 配線構造及びその製造方法並びに電子装置及びその製造方法 |
KR101343271B1 (ko) | 2011-12-15 | 2013-12-18 | 삼성전기주식회사 | 수지기재 및 그 제조방법 |
KR101474648B1 (ko) * | 2013-06-17 | 2014-12-17 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물, 절연필름, 프리프레그 및 인쇄회로기판 |
CN104640356A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-05-20 | 无锡信大气象传感网科技有限公司 | 一种电子元器件用的绝缘基板的制作方法 |
CN104536266B (zh) * | 2015-01-30 | 2018-08-07 | 杭州福斯特应用材料股份有限公司 | 一种干膜抗蚀剂层压体 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57151361A (en) * | 1981-03-16 | 1982-09-18 | Nissan Motor | Reinforcing material and reinforcing panel |
US4797508A (en) * | 1986-09-19 | 1989-01-10 | Firan Corporation | Method for producing circuit boards with deposited metal patterns and circuit boards produced thereby |
US4927742A (en) * | 1987-01-14 | 1990-05-22 | Kollmorgen Corporation | Multilayer printed wiring boards |
JPH0541572A (ja) * | 1990-09-28 | 1993-02-19 | Toshiba Corp | 印刷配線板の製造方法および多層印刷配線板の製造方法 |
JP3121213B2 (ja) * | 1994-07-27 | 2000-12-25 | 株式会社日立製作所 | 感光性樹脂組成物 |
ID19337A (id) * | 1996-12-26 | 1998-07-02 | Ajinomoto Kk | Film perekat antar-pelapis untuk papan pembuat kabel cetakan berlapis-banyak dan papan kabel cetakan berlapis-banyak memakai film ini |
JP3785749B2 (ja) | 1997-04-17 | 2006-06-14 | 味の素株式会社 | エポキシ樹脂組成物並びに該組成物を用いた多層プリント配線板の製造法 |
JP2000068295A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-03-03 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 電子部品用接着フィルム |
-
2001
- 2001-06-12 KR KR10-2001-0032759A patent/KR100380722B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-07-16 JP JP2001214779A patent/JP3688606B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-07-17 US US09/905,918 patent/US6565977B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003008237A (ja) | 2003-01-10 |
KR20020094496A (ko) | 2002-12-18 |
US6565977B2 (en) | 2003-05-20 |
US20020187352A1 (en) | 2002-12-12 |
KR100380722B1 (ko) | 2003-04-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4117690B2 (ja) | 多層プリント配線板用接着フィルムを用いた多層プリント配線板の製造方法 | |
JP3785749B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物並びに該組成物を用いた多層プリント配線板の製造法 | |
KR101141902B1 (ko) | 에폭시 수지 조성물, 프리프레그, 적층판, 다층 프린트 배선판, 반도체 장치, 절연 수지 시트, 다층 프린트 배선판의 제조 방법 | |
JP4957552B2 (ja) | プリント配線板用キャリア付きプリプレグの製造方法、プリント配線板用キャリア付きプリプレグ、プリント配線板用薄型両面板の製造方法、プリント配線板用薄型両面板、及び多層プリント配線板の製造方法 | |
JP5651941B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
TW465264B (en) | Insulating resin composition for multilayer printed-wiring board | |
KR101357230B1 (ko) | 수지부착 동박 및 수지부착 동박의 제조 방법 | |
JP6205692B2 (ja) | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物、絶縁層形成用接着フィルム及び多層プリント配線板 | |
JPWO2003047324A1 (ja) | 多層プリント配線板用接着フィルム及び多層プリント配線板の製造方法 | |
JP2012097283A (ja) | 多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物 | |
JP2017206578A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、キャリア付樹脂膜、プリプレグ、金属張積層板、樹脂基板、プリント配線基板、及び半導体装置 | |
JP2012072405A (ja) | 高分子樹脂組成物及びこれを用いて製造された絶縁フィルム並びにその製造方法 | |
JP3688606B2 (ja) | 接着強度が改善された絶縁フィルム及びこれを含む基板 | |
JPWO2007097209A1 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP6366136B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、樹脂シート、プリプレグ及び金属張積層板、プリント配線基板 | |
KR101612974B1 (ko) | 열경화성 수지 조성물 및 인쇄 배선판 | |
JP2008277384A (ja) | ビルドアップ型多層基板用接着シート及びそれを用いた回路基板の製造方法 | |
JP2015086293A (ja) | プリプレグ及び多層プリント配線板 | |
JP2003234439A (ja) | 絶縁性樹脂組成物 | |
JP6915639B2 (ja) | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物、絶縁層形成用接着フィルム及び多層プリント配線板 | |
JP6763788B2 (ja) | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物、絶縁層形成用接着フィルム及び多層プリント配線板 | |
JP3056678B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH104270A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH104268A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH104269A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040511 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20040810 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040813 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080617 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090617 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100617 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |