JP3672058B2 - 光分布測定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は半導体レーザから出る光の強度分布を測定する光分布測定装置に関し、特にミラーとアレイセンサを用いてウエハ状態で測定するための光分布測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、製造した半導体レーザの特性を測定するには、半導体レーザをバーもしくはチップ状態に切り離してから、仮組立等を行い評価を行う方法があったが、このような方法では、測定までに行う工程が多く、コストが高くなるという問題点がある。そこで、例えば、ウエハ状態で半導体レーザの光の強度分布を測定する方法として、IEEE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS. Vol. 27. No.6. P1326 JUNE. 1991 Fig 15 に示されているように、ウエハ表面と平行に出射する光に対して、その光をウエハの上方に反射させるためのミラー面をウエハ上に形成し、このミラー面でウエハ上方に反射された光を検出器を用いて検知して、半導体レーザの光の強度分布を測定するという方法が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従来の光分布測定装置は以上のように構成されており、ウエハ状態で半導体レーザの評価を行うことが可能であるが、ウエハ上にミラー面を形成する工程が必要となり、製造工程が長くなり、その結果、価格が高くなる。またウエハ上にミラー面を形成するための面積を確保することが必要となり、一枚のウエハから製造できる半導体レーザの個数が少なくなってしまうという問題点があった。
【0004】
この発明は以上のような問題点を解消するためになされたもので、評価用の要素を作成するための製造工程が増加することなく、かつ、1枚のウエハから製造できる半導体レーザの個数が減少することがない光分布測定装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項1に係る光分布測定装置は、ウエハ上に形成された被測定素子から出力される光を受光し、該受光した光を所定方向に屈折させるプリズムと、複数の受光素子が縦横方向にそれぞれ配列され、上記プリズムで屈折された光を受ける2次元アレイセンサとからなるプリズムセンサユニットと、上記プリズムセンサユニットを固定する支持基板とを備えたものである。
【0006】
また、この発明の請求項2に係る光分布測定装置は、上記請求項1記載の光分布測定装置において、上記プリズムセンサユニットと共に、上記被測定素子にその駆動電流を供給するためのプローブを上記支持基板上に固定するものである。
【0007】
また、この発明の請求項3に係る光分布測定装置は、上記請求項2記載の光分布測定装置において、上記プリズムセンサユニットと上記プローブとを、ウエハ上に形成される被測定素子のレイアウトパターンに対応して上記支持基板上にそれぞれ複数配置したものである。
【0008】
また、この発明の請求項4に係る光分布測定装置は、上記請求項2記載の光分布測定装置において、上記プリズムセンサユニットを上記被測定素子に対して水平方向,垂直方向に微動させる微動変位手段を備えたものである。
【0009】
また、この発明の請求項5に係る光分布測定装置は、上記請求項1記載の光分布測定装置において、上記複数のプリズムユニットを固着配置し、上記ウエハ上に形成される複数の被測定素子の,駆動電流を供給するための電極位置に対応した位置に設けられた開口部を有する第1の支持基板と、上記第1の支持基板に設けられた複数の開口部に対応する位置に設けられたプローブを有する第2の支持基板とを有し、上記第2の支持基板に設けられたプローブを上記第1の支持基板に設けられた開口部に挿通して、上記第1の支持基板と第2の支持基板とを組み合わせるようにしたものである。
【0010】
また、この発明の請求項6に係る光分布測定装置は、上記請求項5記載の光分布測定装置において、上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して水平方向に大まかに変位させる水平方向粗動変位手段と、上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して水平方向に微動させる水平方向微動変位手段と、上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して垂直方向に微動させる垂直方向微動変位手段とを備えたものである。
【0015】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
図1は本実施の形態1に係る光分布測定装置を説明するための光分布測定装置の断面図、及びプリズムセンサユニットの斜視図であり、図において、1はその表面に複数のレーザダイオード(LD)2、及び該レーザダイオード1の出力をモニタするためのフォトダイオード(PD)3が形成されたウエハ、4はレーザダイオード2の電極、5はフォトダイオード3の電極、6は上記隣接して形成された1対のレーザダイオード2とフォトダイオード3の領域を他の領域と区画するためのチップ分割溝1a内に形成された反射防止膜であり、上記レーザダイオード2の共振器前端面2aを覆うように形成されている。7はプリズム70と2次元センサアレイ71とからなるプリズムセンサユニットであり、プリズム70の先端の入射面70aよりレーザ光20が入射するよう形成されている。図1(a) に示すように、ウエハ1上に形成された半導体レーザダイオード2の共振器前端面2aから出射したレーザ光20を、プリズム70の入射面70aから導入し、ミラー面で反射させて、反射した光を、2次元アレイセンサ71で受光して光の強度分布を測定することができる。
【0016】
次に以上のような構成を有する光分布測定装置を用いてウエハ状態での半導体レーザの評価を行う方法について説明する。図2は、図1に示した構成を有するプリズムセンサユニット7を用いて、ウエハ上に形成された半導体レーザを実際に測定する際の測定装置の具体的な構成を示し、図において、9は上記プリズムセンサユニット7を構成する2次元アレイセンサ7が接着された支持基板であり、この支持基板9には、半導体レーザ2に電力を供給するための電力供給用プローブ8も同時に取付けられている。給電用プローブ8は、プリズム70のレーザ光20の入射面70aが、半導体レーザダイオード2の共振器前端面2aに当接した際に、該レーザダイオード2の電極4と当接するように配置されている。
【0017】
以上のような構成を有するプローバ10を用いてウエハ状態の半導体レーザダイオード2の光分布測定を行うには、測定対象となるレーザダイオード2の共振器前端面2aにプリズム70の入射面70aを当接させるとともに、該レーザダイオード2の電極に電力供給用プローブ8を当接させて駆動電流を供給する。すると、該駆動電流に応じた発振が起こり、共振器前端面2aからレーザ光が射出され、これがプリズム70のミラー面で反射されて、2次元アレイセンサ71に入射し、光の強度分布が測定される。そして、以上のような動作を測定対象となる半導体レーザダイオードに対して個々に行うことにより、ウエハ1上に形成された各レーザチップの光強度分布の測定を行うことができる。
【0018】
上記プリズム70としては、その先端部分の厚みが100μm以下程度に形成されており、上記半導体ウエハ1のチップ分割溝1aの幅が約100μm程度であるために、特に光分布測定のためにウエハを加工する必要はない。
【0019】
このように、本実施の形態1によれば、プリズム70と2次元アレイセンサ71とからなるプリズムセンサユニット7を用いてウエハ状態の半導体レーザダイオード2の光分布測定を行うようにしたから、従来のように、ウエハ上にミラー面を形成する必要がなくなり、製造工程が非常に簡単になり、安価なレーザを得ることができ、また、1枚のウエハから製造できる半導体レーザの個数が大幅に減少することもない。
【0020】
実施の形態2.
次に本発明の実施の形態2による光分布測定装置について説明する。図3において、30は、支持基板31に複数のプリズムセンサユニット7と給電用プローブ8とを配置したプローバである。
【0021】
上記複数のプリズムセンサユニット7と給電用プローブ8を、ウエハ上に形成される複数の半導体レーザのパターンに合うように設けることにより、複数の半導体レーザの光の強度分布を同時に測定することができ、評価にかかる時間を短縮できる。この結果、さらに半導体レーザの価格を低減することができる。
【0022】
実施の形態3.
次に本発明の実施の形態3による光分布測定装置について説明する。なお、ここでは半導体レーザダイオードとして電極を2つ有するものを測定の対象としている。図4において、40は本実施の形態3によるプローバを示し、41はその下方面に複数のプリズムセンサユニット7が所定の間隔を隔てて配列された第1の支持基板、42はその下方面に8a,8bからなる複数の給電用プローブが所定の間隔を隔てて複数配列された第2の支持基板であり、上記第2の支持基板42の給電用プローブ8a,8bは、第1の支持基板41に形成された開口部41aを挿通して第1の支持基板41の下方面に突出した状態で保持されるようになっている。そして上記給電用プローブ8a,8bは、プリズム70の入射面70aがレーザダイオードの共振器前端面に当接した際に、その電極に当接することで各レーザダイオードに駆動電流を供給するようになっている。
【0023】
このように本実施の形態3によれば、支持基板を、複数のプリズムセンサユニット7と2次元アレイセンサを設けた第1の支持基板41と、複数の給電用プローブ8a,8bを設けた第2の支持基板42とに分割し、第1の支持基板41に設けられた開口部41aを挿通して上記第2の支持基板42に設けられた給電用プローブ8a,8bが支持基板41のプリズムセンサユニット7が設けられた面側に突出した状態で保持される構成としたから、測定時等において、何らかの原因でプリズムセンサユニット7が破損した場合には、第1の支持基板41のみを交換することで再び測定を行うことができ、測定設備にかかるコストの低減を図ることができる。また、半導体レーザの電極数は、各レーザに対して一つのものもあれば、複数のものもあるが、以上のように構成することで、給電用プローバ8a,8bを設けた第2の支持基板42のみを交換することにより、電極数が1つのものにも対応することができるため、本来なら測定対象となる半導体レーザダイオードのデザイン毎に準備する必要のある支持基板を、その給電用プローブが設けられた側の支持基板みを交換することで、プリズムセンサユニット7を搭載した基板はそのまま使用することができ、従って、少ない支持基板で多くの電極パターンに対応することができ、測定設備にかかるコストの低減を図ることができる。
【0024】
実施の形態4.
次に本発明の実施の形態4による光分布測定装置について説明する。図5において、50は本実施の形態4によるプローバを示し、支持基板9の開口部9a近傍の表面に設けられたZ方向ピエゾ素子53,Y軸方向ピエゾ素子52,X軸方向ピエゾ素子51からなるブリッジ構造を介して、プリズムセンサユニット7が上記開口部9aの内部に位置するように連結されている。
【0025】
このように本実施の形態4によれば、プリズムセンサユニット7をウエハ1に対して、左右,上下方向に微動させるピエゾ素子(51,52,53)を設けることにより、測定時に支持基板9とウエハ1に形成された半導体レーザパターンとのアライメント合わせを高精度かつ、容易に行うことができる。
【0026】
実施の形態5.
次に本発明の実施の形態5による光分布測定装置について説明する。図6において、60は本実施の形態5によるプローバを示し、61は第2の支持基板42に取り付けられたベースであり、このベースには、第1の支持基板41を第2の支持基板42に対して、左右(水平)方向に大まかに変位させるためのXY粗動機構62が設けられている。また、このXY粗動機構62には第1の支持基板41を第2の支持基板42に対して上下(垂直)方向に微動移動させるためのZ方向ピエゾ素子64が設けられ、また、このXY騒動機構は、Z方向ピエゾ素子64,Y方向ピエゾ素子64,X方向ピエゾ素子63からなるブリッジ機構を介して上記第1の支持基板41に連結されている。
【0027】
以上のような構成を有するプローバ60を用いて、ウエハ1上に形成された半導体レーザパターンとのアライメント合わせを行うには、まず、第2の支持基板42をウエハ1に対して固定した後、XY粗動機構62を用いて第1の支持基板41の水平方向の位置を大まかに調整したのち、X方向ピエゾ素子63,Y方向ピエゾ素子64を用いて第1の支持基板41の水平方向の位置を微調整するとともに、Z軸方向ピエゾ素子65を用いて第1の支持基板41の垂直方向の位置を微調整する。
【0028】
このように、本実施の形態5によれば、第2の支持基板42に対して第1の支持基板41を水平方向に大まかに変位させるXY粗動機構62と、第2の支持基板42に対して第1の支持基板41を水平方向に微動させるX方向ピエゾ素子63,Y方向ピエゾ素子64、及び、第2の支持基板42に対して第1の支持基板41を垂直方向に微動させるZ方向ピエゾ素子65を設けることにより、プローバ60とウエハ1の半導体レーザパターンとの位置合わせを容易、かつ迅速に行うことができ、測定時の作業効率を向上することができる。
【0029】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、ウエハ状態の被測定素子から出力される光をプリズムで受光し、この受光した光を所定方向に屈折させて、複数の受光素子が縦横方向にそれぞれ配列されてなる2次元アレイセンサに入射させて上記被測定素子の光分布を測定するようにしたので、従来のように、ウエハ状態で被測定素子の光分布を測定するためのミラー面をウエハ面に形成する必要がなくなり、製造工程を簡略化でき、安価にレーザを製造することができ、また、1枚のウエハから製造できる半導体レーザの個数が減少することもないため、歩留まりを向上することができるという効果がある。
【0030】
また、上記プリズムと2次元センサアレイとからなるプリズムセンサユニットと、上記被測定素子にその駆動電流を供給するためのプローブとを、ウエハ上に形成される被測定素子のレイアウトパターンに対応して、支持基板上に複数配置したので、被測定素子の光分布をウエハ状態で複数個同時に測定することができ、作業効率を向上することができるという効果がある。
【0031】
また、上記プリズムセンサユニットを上記被測定素子に対して水平方向,垂直方向に微動させる微動変位手段を設けたので、プリズムセンサユニットとウエハパターンとのアライメント合わせを高精度に行うことができるという効果がある。
【0032】
また、上記複数のプリズムユニットを固着配置し、上記ウエハ上に形成される複数の被測定素子の,駆動電流を供給するための電極位置に対応した位置に設けられた開口部を有する第1の支持基板と、上記第1の支持基板に設けられた複数の開口部に対応する位置に設けられたプローブを有する第2の支持基板とを準備し、上記ウエハ上に形成される複数の被測定素子の電極位置に対応する位置に上記プローブが形成された上記第2の支持基板を選択して用いて、上記複数の被測定素子の光分布を同時に測定するようにしたので、種々のウエハレイアウトパターンを有する被測定素子を容易に測定することができるという効果がある。
【0033】
また、上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して水平方向に大まかに変位させる水平方向粗動変位手段と、上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して水平方向に微動させる水平方向微動変位手段と、上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して垂直方向に微動させる垂直方向微動変位手段とを備えたものとしたので、プリズムセンサユニットとウエハパターンとのアライメント合わせを容易、かつ迅速に行うことができ、測定時の作業効率を向上することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による光分布測定装置のプリズムセンサユニットを用いた測定時のプリズムセンサユニットを中心とした断面図、及び斜視図である。
【図2】 上記プリズムセンサユニットを備えた光分布測定装置の断面図である。
【図3】 この発明の実施の形態2による光分布測定装置の断面図である。
【図4】 この発明の実施の形態2による光分布測定装置の断面図である。
【図5】 この発明の実施の形態3による光分布測定装置の斜視図、及び断面図である。
【図6】 この発明の実施の形態4による光分布測定装置の断面図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ、2 半導体レーザダイオード、2a 共振器前端面、3 フォトダイオード、4,5 電極、6 反射防止膜、7 プリズムセンサユニット、8 プローブ、9,31 支持基板、10,30,40,50,60 プローバ、41 第1の支持基板、42 第2の支持基板、51,63 X方向ピエゾ素子、52,64 Y方向ピエゾ素子、53,65 Z方向ピエゾ素子、61ベース、62 XY粗動機構。
Claims (6)
- ウエハ上に形成された被測定素子から出力される光を受光し、該受光した光を所定方向に屈折させるプリズムと、
複数の受光素子が縦横方向にそれぞれ配列され、上記プリズムで屈折された光を受ける2次元アレイセンサとからなるプリズムセンサユニットと、
上記プリズムセンサユニットを固定する支持基板とを備えたことを特徴とする光分布測定装置。 - 請求項1記載の光分布測定装置において、
上記プリズムセンサユニットと共に、上記被測定素子にその駆動電流を供給するためのプローブを上記支持基板上に固定することを特徴とする光分布測定装置。 - 請求項2記載の光分布測定装置において、
上記プリズムセンサユニットと上記プローブとを、ウエハ上に形成される被測定素子のレイアウトパターンに対応して上記支持基板上にそれぞれ複数配置したことを特徴とする光分布測定装置。 - 請求項2記載の光分布測定装置において、
上記プリズムセンサユニットを上記被測定素子に対して水平方向,垂直方向に微動させる微動変位手段を備えたことを特徴とする光分布測定装置。 - 請求項1記載の光分布測定装置において、
上記複数のプリズムユニットを固着配置し、上記ウエハ上に形成される複数の被測定素子の,駆動電流を供給するための電極位置に対応した位置に設けられた開口部を有する第1の支持基板と、
上記第1の支持基板に設けられた複数の開口部に対応する位置に設けられたプローブを有する第2の支持基板とを有し、
上記第2の支持基板に設けられたプローブを上記第1の支持基板に設けられた開口部に挿通して、上記第1の支持基板と第2の支持基板とを組み合わせることを特徴とする光分布測定装置。 - 請求項5記載の光分布測定装置において、
上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して水平方向に大まかに変位させる水平方向粗動変位手段と、
上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して水平方向に微動させる水平方向微動変位手段と、
上記第1の支持基板を上記第2の支持基板に対して垂直方向に微動させる垂直方向微動変位手段とを備えたことを特徴とする光分布測定装置。
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