JP3616615B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
この発明は、有機基板等を用いた半導体装置の製造方法に関するもので、特に、ウエハレベルのチップサイズパッケージング(CSP)における樹脂封止方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ウエハレベルCSPにはさまざまな種類があるが、ここでは再配線技術を利用した封止層付きのウエハレベルCSPを例に挙げて説明する。なお、再配線技術を利用した封止層付きのウエハレベルCSPについては、たとえば特開2001−244372や特開2001−127095などに開示されている。
このようなウエハレベルCSPにおいて、半導体ウエハにおける各半導体チップには、その周辺部にメタルパッドが配置されている。メタルパッド上には絶縁層が形成される。メタルパッドより内側の絶縁層上には、銅ポストが形成されている。メタルパッドと銅ポストとは銅配線によって電気的に接続されている。銅配線は、絶縁層を介して、絶縁層上で銅ポストとの接続のために引き回されるため、再配線と呼ばれている。
この後、銅配線及び銅ポストの側面部を覆うようにたとえば熱硬化性エポキシなどの封止樹脂が形成される。この封止樹脂と絶縁層、銅配線及び銅ポストとの密着性を向上させる目的で、アルゴンガスや酸素ガスなどで絶縁層、銅配線及び銅ポストに対してアッシング処理が施される。
このアッシング処理は、100℃以下の低い温度で、1分以内の短い時間で行われるのが一般的である。このようなアッシング処理により、露出している銅配線や銅ポストは酸化されると原理的には考えられる。しかしながら、そのメカニズムについては不明であるが、実際には、露出している銅配線や銅ポストの表面にはほとんど酸化膜が形成されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなアッシング処理で絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性の両者を同時に確保する事は難しい。また、一方だけを考えても、特に吸着性の高い絶縁層と封止樹脂間や、銅−封止樹脂間の密着性はその確保が難しい。
これは、アッシングの条件が絶縁層、封止樹脂の材料によってまちまちであり、調整が難しく、特に銅に対する密着性の最適化を図るのは困難であることに起因している。
また、アッシング後のウエハの保管条件や樹脂封止までの制限があり、ウエハの取り扱いが悪いと、銅に対する密着度はほとんど得られないという問題があった。
この発明は、上述の問題を解決する事を目的にしたもので、絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性の両者を同時に確保できる半導体装置の製造方法を提供する事を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
この発明の半導体装置の製造方法では、半導体基体上に形成された絶縁層上に銅配線を形成し、この銅配線を含む絶縁層全体を銅配線が酸化されない温度でアッシングした後、銅配線を含む絶縁層全体を150℃以上200℃以下の酸化性雰囲気でベーク処理することを特徴とする。このベーク処理工程後には、銅配線を含む絶縁層上に封止樹脂が形成される。
【0005】
【発明の実施の形態】
まず、この発明の製造方法の概略を説明する。
図1は、この発明の製造方法によって作成される半導体装置の部分断面図である。なお、図1は半導体装置がの個々のチップ状態で示されているが、この発明はチップに切り離される前の半導体ウエハの状態で実施される場合を想定している。もちろん、個々のチップレベルにおいても、この発明が実施可能な事は言うまでもない。
【0006】
半導体チップ1の主表面(図1の上側)には、半導体素子が形成され、その周辺部にはメタルパッド2が設けられる。その後、半導体チップ1の主表面は絶縁層3で覆われる。この絶縁層3としては、ポリイミド等が用いられる。絶縁層3上には、メタルパッド2から電気的に接続される銅再配線4と、この銅再配線4によってメタルパッドと電気的に接続される銅ポスト5とが形成される。
この後、上述したように封止樹脂6と絶縁層3、銅配線4及び銅ポスト5との密着性を向上させる目的で、アルゴンガスや酸素ガスなどで絶縁層3、銅配線4及び銅ポスト5に対してアッシング処理が施される。このアッシング処理は、100℃以下の低い温度で、1分以内の短い時間で行われる。
【0007】
さらに、この発明の特徴部分であるベーク処理が絶縁層3、銅配線4及び銅ポスト5に対して行われる。後に詳細に説明するが、ベーク処理の温度は、150℃以上200℃以下の範囲が好ましく、さらに好ましくは160℃以上190℃以下が推奨される。このベーク処理は酸化雰囲気(たとえばドライエアー)中で行われ、銅配線4及び銅ポスト5が若干酸化され、300から400オングストローム程度の酸化膜がそれらの表面に形成される。なお、この酸化雰囲気中でのベークの前に、酸化が進まない雰囲気(たとえば窒素ガス)中でベーク処理するとさらに効果が期待できる事が確認されている。
このようなベーク処理が施された後、絶縁層3、銅配線4及び銅ポスト5は、エポキシなどの樹脂6で覆われ、半導体装置が完成する。なお、ウエハの状態でこの発明が適用された場合は、ウエハから各個片に切り離す工程が必要となる事は言うまでもない。
【0008】
次に、この発明の実施例を説明する前に、銅表面に形成される酸化銅の膜厚と、干渉色との関係、およびホットプレートで加熱した場合の温度および時間と干渉色との関係について説明する。
図2は、銅表面に形成される酸化銅の膜厚と、干渉色との関係、および真空オーブンで加熱した場合の温度および時間と干渉色との関係を示す図表である。図2からわかるように、銅はその表面に酸化膜が形成されていないと、同特有の金属色(図中はベアCuの色と表示)を示すが、その表面に酸化膜が形成され、酸化膜の膜厚がおおきくなるにつれて、褐色→暗褐色→赤褐色→紫→青→緑→黄→橙→赤とその色を変えていく。色に対する銅表面に形成された酸化膜の膜厚は、測定者によって多少ばらつきはあるものの、色の順序については一致している。また、膜厚のばらつきについてもほぼ200オングストロームの範囲内で収まっている。
【0009】
一方、銅を加熱した場合に、どのような色の変化が見られるかを表したのが図2の右側である。100℃で加熱した場合は、(なお、100℃での加熱のみ真空オーブンを用いている)一時間以上たっても色の変化が見られなかった。150℃で加熱した場合は、240秒程度では変化がみられなかったものの、900秒ぐらいで褐色に変化した。このようなことを180℃、200℃、220℃、240℃で行った結果を図2には示してある。
この表から、銅の酸化温度は、150℃以上200℃程度ぐらいが制御性良く酸化膜を形成できる事がわかる。
【0010】
次に、発明者は、アッシング処理前に銅および絶縁膜にベーク処理を施す実験を行った。ベーク処理は温度150℃から200℃の間で、15分から30分程度条件を変えて行ったが、絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性にほとんど変化はみられなかった。したがって、アッシング処理前のベーク処理は効果が小さいと考え、発明者は他の観点で実験を行った。
【0011】
発明者は、アッシング処理後にベーク処理を施す実験を行った。実験において、封止樹脂としては熱硬化性エポキシ樹脂を用いた。ベーク処理はクリーンオーブンで行われ、温度165℃から240℃の間で、10分から45分程度条件を変えて行った。この実験において、220℃、240℃などの高いベーク温度では、銅の表面が急激に酸化されてしまい、酸化膜の膜厚のコントロールが難しく、また、絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性に悪影響を及ぼす。一方、165℃から180℃ぐらいで10分程度の比較的低温のベーク処理では、銅の表面は赤褐色から紫色を示していることから、銅表面には300から400オングストローム程度の酸化膜が形成されていると推定される。このとき、絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性はベークなしの状態より改善されており、効果が確認できた。また、ベーク処理の前に窒素雰囲気下で170℃前後の加熱処理を行うと、さらに良い効果が得られる事を確認した。
【0012】
なお、発明者らの実験では、165℃から180℃ぐらいの比較的低温のベーク処理において改善の効果が認められたものの、ベークの条件が悪いと、絶縁膜−封止樹脂間の密着性に悪影響を及ぼすことが認められた。そこで、発明者はこの絶縁膜−封止樹脂間の密着性に着目して、さらに実験を行った。
【0013】
更なる実験では、アッシング処理後に酸化が進まない窒素雰囲気中で150℃から200℃の温度で、マガジン内のサンプルすべてが同一温度条件になるまで(実験では45分程度)の時間ベーク処理を行い、さらにドライエア雰囲気に置換して同一温度で10分程度のベーク処理を行った。窒素雰囲気中でのベーク処理では、銅表面はほとんど変色を示しておらず(前工程の影響によっては、一部変色を示したものもある)、銅の表面にはほとんど酸化膜が出来ていない事がわかる。一方、ドライエア雰囲気でのベーク処理後は、銅表面は赤褐色を示している事から、銅の表面には300から400オングストロームの酸化膜を形成しているものと推定できる。なお、この実験結果で、絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性とも良好な改善結果が見られ、ベーク処理の条件が少々ばらついても改善効果に大きなばらつきは見られなかった。
【0014】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本願発明によれば絶縁層−封止樹脂間および銅−封止樹脂間の密着性が改善されるので、製造歩留まりの良い半導体装置の製造方法が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の製造方法によって作成される半導体装置の部分断面図
【図2】銅表面に形成される酸化銅の膜厚と、干渉色との関係、および真空オーブンで加熱した場合の温度および時間と干渉色との関係を示す図表
【符号の説明】
1 チップ
2 メタルパッド
3 絶縁膜
4 銅再配線
5 銅ポスト
6 樹脂
Claims (11)
- 半導体基体上に絶縁層を形成する工程と、
この絶縁層上に銅配線を形成する工程と、
この銅配線を含む絶縁層全体を前記銅配線が酸化されない温度でアッシングする工程と、
このアッシング工程の後、前記銅配線を含む絶縁層全体を150℃以上200℃以下の酸化性雰囲気でベーク処理する工程と、
このベーク処理工程後に、前記銅配線を含む絶縁層上に封止樹脂を形成する工程とを有する事を特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基体は、半導体ウエハである請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記封止樹脂を形成する工程の後に、前記半導体ウエハを個々の半導体装置に切り分ける工程を有する請求項2記載の半導体装置の製造方法。
- 前記銅配線は、銅再配線層および銅ポストを有する請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ベーク処理工程は、160℃以上190℃以下の酸化性雰囲気で行われる請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ベーク処理工程は、10分程度行われる請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ベーク処理工程の前に、前記銅配線を含む絶縁層全体を150℃以上200℃以下の窒素雰囲気でプリベーク処理する工程を更に有する請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記プリベーク処理工程は、30分から1時間程度行われる請求項7記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アッシング工程は、100℃以下で行われる請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁層は、吸湿性の高い絶縁材料で形成された請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記吸湿性の高い絶縁材料は、ポリイミドである請求項10記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002165824A JP3616615B2 (ja) | 2002-06-06 | 2002-06-06 | 半導体装置の製造方法 |
US10/305,247 US6746955B2 (en) | 2002-06-06 | 2002-11-27 | Method of manufacturing a semiconductor device including a heat treatment procedure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002165824A JP3616615B2 (ja) | 2002-06-06 | 2002-06-06 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004014789A JP2004014789A (ja) | 2004-01-15 |
JP3616615B2 true JP3616615B2 (ja) | 2005-02-02 |
Family
ID=29706699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002165824A Expired - Fee Related JP3616615B2 (ja) | 2002-06-06 | 2002-06-06 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6746955B2 (ja) |
JP (1) | JP3616615B2 (ja) |
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KR20230165396A (ko) | 2016-05-25 | 2023-12-05 | 가부시끼가이샤 레조낙 | 봉지 구조체 및 그의 제조 방법, 및 봉지재 |
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US9595510B1 (en) | 2015-10-13 | 2017-03-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Structure and formation method for chip package |
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- 2002-06-06 JP JP2002165824A patent/JP3616615B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-11-27 US US10/305,247 patent/US6746955B2/en not_active Expired - Lifetime
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US11049825B2 (en) | 2016-12-08 | 2021-06-29 | Showa Denko Materials Co., Ltd. | Method for producing semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030228767A1 (en) | 2003-12-11 |
JP2004014789A (ja) | 2004-01-15 |
US6746955B2 (en) | 2004-06-08 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112 Year of fee payment: 6 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111112 Year of fee payment: 7 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112 Year of fee payment: 8 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112 Year of fee payment: 8 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112 Year of fee payment: 8 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112 Year of fee payment: 8 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 9 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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