JP3593833B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度実装を可能とする表面実装型の半導体装置のパッケージの構造及び製造方法に関し、より詳しくは、バンプを半導体チップの全面に渡って形成し(以下この構造をエリアバンプ構造と呼ぶ。)、半導体チップとほぼ同サイズに収まるようなパッケージの構造及び製造方法に関する。
【0002】
近年、携帯電話等にみられるように、電子機器の小型化により半導体装置を収めるパッケージも小型のものが要求されており、より小型化を実現する新たな構造、製造方法が必要になっている。
【0003】
【従来の技術】
従来技術として、チップをより小型に基板に搭載するために、図33に示される技術がある。
図33は、従来のフリップチップ実装の技術を示しており、101は半導体チップを示し、102はチップの電極に接続されたバンプを示し、103はバンプ102が実装されるランドの設けられた基板を示し、104はチップ101とバンプ102とを封止する樹脂を示している。
【0004】
この実装構造は、チップの表面上に複数形成された電極と実装基板103のランドとが直接バンプ102で接続されているため、両者の熱膨張率の違いを吸収しチップ表面とバンプ102を保護するために、チップ102と実装基板103との間に樹脂104が充填されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
図33に示されるフリップチップ接合は、実装後に熱ストレスが加わった場合に、チップと基板の熱膨張率の違いにより、チップと基板とを直接接続しているバンプに応力が集中しバンプが破壊されるのを防ぐために、チップと基板との間に樹脂を充填しなければならない。しかし、ボイドを生じさせることなく微小空間に樹脂を注入するには充填工程が煩雑であるという問題がある。さらに、実装後は樹脂によりバンプが隠れてしまうので、バンプの接続状態を検査することもできないという問題もある。
【0006】
また、フリップチップ実装では、チップ上にバンプを設けるので、ウエハプロセスにおける工程が増え、コストが高くなるという問題もある。
従って、本発明は、チップと基板との間を充填する樹脂を必要とせず、実装後に熱ストレスが加わってもチップと基板との接合部が破壊されることがなく、実装後に接合部を検査することができ、コストも低い半導体装置のパッケージ構造とその製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題は以下の手段をとった半導体装置により解決することができる。
請求項1記載の発明では、
半導体チップと、
該チップの内部回路と接続され、該チップの表面上に設けられた電極と、
該チップの表面上に弾性接着層を介して設けられ、端部が該電極近傍に位置し、該電極以外の該チップ上の領域を覆う絶縁性基板と、
一端が該絶縁性基板上の領域で終端し、他端が該絶縁性基板の側面で露出され、該電極近傍の領域で終端して外周端子となる導電パターンと、
該外周端子と該電極とを電気的に接続する接続手段とを有するものである。
【0013】
請求項2記載の発明では、請求項1記載の半導体装置において、
該導電パターンの他端と該電極との接続部分を樹脂により封止するものである。
上記の各手段は次のような作用を有する。
【0018】
請求項1記載の発明では、絶縁性基板をチップの電極近傍に極力近く形成できるので、外周端子がない分大きな絶縁性基板を形成することができ、導電パターンを設ける領域が広くできる。
【0019】
請求項2記載の発明では、導電パターンと外周端子との接合部分を樹脂封止することにより、接合部の信頼性を向上させることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施形態を、図1〜32により具体的に説明する。
図1は、本発明の実施形態の半導体装置の斜視図であり、図2はその断面図を示し、図3は分解断面図を示す。ただし、図1は、分かりやすくするために、図2,3と上下が逆に示されるとともに、ろう材6は省略して示されている。
【0021】
図1〜3において、1は半導体チップを示し、その周囲にはチップ1内の回路と接続された電極14上に設けられたバンプ5が形成されている。2は導電パターンを示し、銅箔により形成されている。この銅箔は、ポリイミドにより形成された絶縁性基板3上に設けられている。そして、絶縁性基板3は、チップ1の周辺に設けられた電極14の内側の領域に形成され、導電パターン2をチップ1の表面側に向けて弾性接着層4を介してチップ1に接合されている。弾性接着層4はエポキシ系の接着剤により形成される。
【0022】
導電パターン2は、厚さ0.5〜1mmの絶縁性基板3上の全面に形成した銅箔をエッチングにより所望のパターンに形成されている。具体的には、図4に示されるように、導電パターン2は、チップ1の電極14と接続される外周端子9から絶縁性基板3の中央方向に幅50〜100μm、厚さ20〜50μmのパターンにより引き回され、その先端部には直径0.1〜0.5mmのランド8が設けられている。外周端子9は、絶縁性基板3の端部から外側にストレートに0.5〜1mm突出しており、この部分で半田等のろう材6を介してバンプ5と接合される。
【0023】
ランド8は、絶縁性基板3の全面に渡って、即ちチップ1の下面の全面に渡って形成されている。また、ランド8は、絶縁性基板3のチップ1と反対側には設けられた開口部8aで露出し、開口部8aには半田等からなるバンプ7が形成されてランド8との接触が取られるとともに、絶縁性基板3の表面からボール状の部分が突出し、実装基板とのコンタクトが取られる。
【0024】
以上のように、図1〜4に示される本実施形態の半導体装置によれば、チップ1上に絶縁性基板3を形成しその上に設けられた導電パターン2により、チップ1の電極14を適当な位置に再配置されたバンプ7に接続し、チップ1の周囲の電極14をチップ全面に渡ってバンプ7として形成しエリアバンプ構造とすることができるので、バンプ7の間隔を電極14の間隔より広くとることができ、確実な実装が可能となる。
【0025】
また、通常フリップチップ実装した半導体装置では、プリント板への実装後、チップとプリント板との間の隙間に樹脂を充填するが、本実施形態の半導体装置によれば、外周端子9及びチップ1と絶縁性基板3との間に設けられた弾性接着層4の作用により、チップとプリント板との間に樹脂を充填する必要はない。
この理由は、外周端子が絶縁性基板3より突出していることにより、チップとプリント板に熱が加わっても、外周端子9が撓むことにより、両者の熱膨張率の違いによる熱応力を吸収できからである。さらに、チップ1と絶縁性基板3との間に設けられた弾性接着層4でも、チップとプリント板の熱膨張率の違いによる熱応力を吸収することができるので、チップをプリント板に実装後に両者の隙間に樹脂を充填する必要はない。
【0026】
また、本実施形態では、従来のフリップチップ実装のように、チップ上にウエハプロセスによりバンプを形成しないので、従来のフリップチップ実装より低いコストでエリアバンプ構造の半導体装置を実現できる。
次に、導電パターン2及び絶縁性基板3について詳述する。
図4は、導電パターン2及びランド8が形成された絶縁性基板3の平面図を示し、図5(a)は図4のA−A’断面の一部を示し、図5(b)は図4のB−B’断面の一部を示している。
【0027】
絶縁性基板3は、ポリイミドで形成され、チップ1の周辺に形成された電極14の領域より外周端子9の分だけ外形寸法が小さい。
導電パターン2は、エッチングによりパターニングし絶縁性基板3上に所望のパターンを形成する。絶縁性基板3からストレートに0.1〜0.5mm突出した外周端子9は、エッチングにより形成する。必要に応じて、外周端子9にもろう材を設け、チップ1との接続を図ってもよい。ランド8は、絶縁性基板3の全面に形成されることにより、実装効率を向上させることができる。
【0028】
導電パターン2は、A−A’断面では図5(a)のように絶縁性基板3上に設けられているが、ランド8部分では絶縁性基板3に開口部8aが設けられ、この部分にバンプ7を形成する。これにより、バンプ7の一部が開口部8aの中に埋め込まれることになり、バンプ7が強固に絶縁性基板3に支持される。この開口部8aは、絶縁性基板3をエッチングにより窓開けし形成する。
【0029】
導電パターン2の変形例として、図6(a),(b)に示されるように、導電パターン2を絶縁性基板の中に埋め込んでもよい。こうすることにより、図5の場合に比べ、絶縁性基板3を薄型化することができる。この構造は、ポリイミドにて形成された絶縁性基板の上に導電パターンを形成した後に、ポリイミドをスピンコートにより導電パターンの間に埋めることにより、図6に示されるように絶縁性基板の中に導電パターンを埋め込むことができる。
【0030】
さらに、導電パターン2の外周端子9の変形例として図7〜10に示される形状のものがある。図7は、外周端子9の先端部を湾曲させたものを示し、チップ1との接合時に応力を図4のものより緩和することができるとともに、チップ1と実装基板との熱膨張の違いによる応力も吸収できる。図8は、外周端子9に予め導電性バンプ10を形成したものを示し、より強固にチップ1に接合することができる。図9は、外周端子9が絶縁性基板3の外側端部から突出せず、絶縁性基板3の側面に外周端子9が露出しているものを示している。(チップ1への接合方法は後述する図18〜20の部分で説明する。)図10は、図9と同様に外周端子9が絶縁性基板3の外側端部から突出していないが、導電パターン2の端部近傍にはボンディングパッド11が設けられている。(チップ1への接合方法は後述する図22,図23の部分で説明する。)
図11は、絶縁性基板3の変形例を示し、絶縁性基板にスリット12及び開口部13を設けたものである。スリット12は、プリント板とチップとの熱膨張率の違いにより生じる応力を緩和するためのものであり、開口部13は、チップとの接合時の空気抜きをするためのものである。
【0031】
次に、チップ1上の電極14と外周端子9との接合について種々の変形例を詳述する。
図12〜図20は、チップ1上の電極14と外周端子9との接合部分の拡大図を示し、図12〜15は、図5に示されるような絶縁性基板3の上に導電パターン2を設けたタイプの場合を示し、図16〜20は図6に示されるような絶縁性基板3の中に導電パターン2を埋め込んだタイプの場合を示している。
【0032】
図12は、外周端子の先端をチップ1側へ折り曲げ、その先端部をチップ1の電極14に当接し、ろう材6により接合している。
図13は、外周端子の先端を図のように同じ方向に2回折り曲げ、16にて電極14に当接し、ろう材6により接合している。
図14は、外周端子の先端を図のように異なる方向に2回折り曲げ、15にてバンプ5に当接しろう材6により接合している。これにより、電極上に形成したバンプ5の高さのばらつきを外周端子9により吸収することができるとともに、外周端子9を折り曲げることにより、高いバンプを形成しなくても外周端子9とチップの電極14とを接続できる。
【0033】
図15は、外周端子9の先端をワイヤボンディングにより形成したバンプ17の一部である切断されたワイヤ部分に当接し、ろう材6により接合している。このバンプ17は、ワイヤボンディング技術で形成することができ、電極14上にワイヤボンディングを行った後、ボール部分から延びるワイヤをループ状に成形して切断すれば図のような形状のバンプ17が得られる。これにより、バンプ17の高さのばらつきを外周端子9により吸収することができる。
【0034】
図16は、外周端子の先端をチップ1の電極14と直接ろう材6により接合している。
図17は、外周端子の先端をチップ1の電極14上に設けられたバンプ5に当接しろう材6により接合している。
図18は、絶縁性基板3が図9の場合の断面図を示し、外周端子9をチップ1の電極14と直接ろう材6により接合している。
【0035】
図19は、絶縁性基板3が図9の場合の断面図を示し、外周端子9をチップ1の電極14上に設けられたバンプ5に当接し、ろう材6により接合している。
図20は、絶縁性基板3が図9の場合の断面図を示し、外周端子9をチップ1の電極14上に設けられたワイヤボンディングにより形成したバンプ17の切断されたワイヤ部分に当接し、ろう材6により接合している。
【0036】
図21(a),(b)は、図18〜20に示されるように、外周端子9が絶縁性基板3の端部から突出せず、絶縁性基板の側面において導電パターンが露出するタイプにおける場合の斜視図を示し、図21(a)は、絶縁性基板3をチップ1に位置合わせして載置した状態を示し、図21(b)は、外周端子9と電極14とがろう材6により接合された状態を示している。
【0037】
このように外周端子9が絶縁性基板3から突出せず、絶縁性基板の側面から導電パターンが露出するタイプのものを用いることにより、絶縁性基板3をチップの電極14近傍に極力近く形成できるので、図1に示される絶縁性基板よりも外周端子がない分大きな絶縁性基板を形成することができ、導電パターンを設ける領域が広くできる効果がある。
【0038】
図22は、絶縁性基板3が図10の場合の断面図を示し、絶縁性基板3上に設けられたボンディングパッド11とチップ1上の電極14とをボンディングワイヤ17により接合している。この場合は、上述した外周端子は、ボンディングワイヤが相当する。これにより、ワイヤ部分で図1に示される外周端子と同様に応力を吸収できる。
【0039】
図23は、絶縁性基板3が図10の場合の断面図を示し、絶縁性基板3上のボンディングパッドにボンディングワイヤ17によるループを形成し、そのループ部分をチップ1の電極14にろう材6により接合している。ボンディングワイヤがループ形状になっていることにより、上述した応力の緩和をこの部分で行うことができる。
【0040】
以上の変形例では、電極14は全てチップ1の周囲に設けた例を示したが、電極14は、チップ1の中央部に一列や十文字型に設けられていてもよい。この場合、絶縁性基板3や導電パターン2はそれに合った形状にする必要がある。
次に本実施形態のうち、外周端子9が絶縁性基板3の端部から突出しているタイプの半導体装置の製造方法について以下に説明する。
【0041】
まず、図24,25に示されるように、所望のパターンに形成した導電パターン2を設けた絶縁性基板3と、チップ1のバンプ5とを位置合わせし、弾性接着層4を介して絶縁性基板3をチップ1上に載置する。この時、導電性のろう材、例えば半田(Pb/Sn),銀ペースト、エポキシ系導電性接着剤を予めバンプ5上に形成しておく。なお、外周端子9にもろう材を設けておいてもよい。
【0042】
次に、図26に示されるように、ハンダにて形成されたボール状のバンプ7を絶縁性基板3の開口部8aの位置に合わせて載置する。
次に、図27に示されるように、絶縁性基板3及びバンプ7を載置した状態のチップ1を加熱し、ろう材6を熱硬化させるとともに、ボール状のバンプ7を溶融し、開口部8aをバンプ7の材料で満たしてバンプ7とランド8とのコンタクトを取る。
【0043】
最後に、図28に示されるように、外周端子9とバンプ5との接合部を封止樹脂18により封止する。この封止は、例えばトランスファーモールドにより封止樹脂を形成するか、樹脂を上から滴下するポッティングにより行えばよい。
なお、絶縁性基板3として図6に示されるような導電パターンが絶縁性基板3に埋め込まれている場合は、バンプ7とランド8とのコンタクトの取り方として図29,30のような例が考えられる。
【0044】
図29は、ランド8をレジスト19により開口しておき、前述した図24〜28の工程と同様にバンプ7をその開口に埋め込んだものである。
図30は、図29に示されるレジストを剥離し、バンプ7を加熱溶融することにより、バンプ7の形状を球状に成形したものである。
また、封止樹脂18は、図31,32に示されるように、外周端子9が絶縁性基板3の側面に形成されている場合でも外周端子9が絶縁性基板3から突出している場合でも、それを形成した方が外周端子9とバンプ5との接合部分の信頼性が向上する。
【0045】
なお、図9に示される外周端子9が絶縁性基板3の端部から突出していないタイプの半導体装置の製造方法は、電極14上にメタルマスクを介してろう材をスキージングにより形成し、その後図21(a)のように絶縁性基板3をチップ1上に位置合わせした後、ろう材を加熱溶融して電極14と外周端子9とを接合する。その他は上述した製造方法と同様である。
【0046】
また、図10に示される絶縁性基板とチップの電極とをボンディングワイヤで接続するタイプの半導体装置の製造方法は、絶縁性基板をチップ上に位置合わせした後、ワイヤボンディングを絶縁性基板のボンディングパッドとチップの電極との間で施し、その他上述した製造方法と同様である。
【0047】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、チップ上に絶縁性基板を形成しその上に設けられた導電パターンにより、チップの電極を適当な位置に再配置した導電手段に接続するので、チップの周囲の電極をチップ全面に渡って形成される導電手段と接続することができ、導電手段の間隔を電極の間隔より広くとることができ、安定した実装が可能となる効果を奏する。
【0048】
また、チップ表面上に絶縁性基板を形成し、この上に導電パターンを形成するので、チップを基板に実装した後、チップと基板との間に樹脂を充填する必要がない。この理由は、熱ストレスが加わっても、外周端子が絶縁性基板より突出していることにより、チップと実装基板に熱が加わっても、外周端子が撓むことにより、両者の熱膨張率の違いによる熱応力を吸収できる効果を奏する。さらに、チップと絶縁性基板との間に設けられた弾性接着層でも、チップとプリント板の熱膨張率の違いによる熱応力を吸収することができるので、チップを実装基板に実装後に両者の隙間に樹脂を充填する必要はない。また、接合部の検査も樹脂等で覆われることがないので容易に行うことができる効果を奏する。
【0049】
さらに、従来のフリップチップ実装のように、チップ上にウエハプロセスによりバンプを形成しないので、従来のフリップチップ実装より低いコストでエリアバンプ構造の半導体装置を実現できる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態の構造を示す斜視図である。
【図2】本実施形態の断面図である。
【図3】本実施形態の分解断面図である。
【図4】本実施形態の絶縁性基板の平面図である。
【図5】本実施形態の絶縁性基板の断面図である。
【図6】本実施形態の絶縁性基板の変形例の断面図である。
【図7】本実施形態の絶縁性基板の変形例の平面図である。
【図8】本実施形態の絶縁性基板の変形例の平面図である。
【図9】本実施形態の絶縁性基板の変形例の平面図である。
【図10】本実施形態の絶縁性基板の変形例の平面図である。
【図11】本実施形態の絶縁性基板の変形例の平面図である。
【図12】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図13】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図14】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図15】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図16】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図17】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図18】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図19】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図20】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図21】本実施形態の外周端子の変形例の斜視図である。
【図22】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図23】本実施形態の外周端子の変形例の断面図である。
【図24】本実施形態の構造及び製造方法を示す図である。
【図25】本実施形態の構造及び製造方法を示す図である。
【図26】本実施形態の構造及び製造方法を示す図である。
【図27】本実施形態の構造及び製造方法を示す図である。
【図28】本実施形態の構造及び製造方法を示す図である。
【図29】本実施形態の製造方法の変形例を示す図である。
【図30】本実施形態の製造方法の変形例を示す図である。
【図31】本実施形態の封止構造を示す図である。
【図32】本実施形態の封止構造を示す図である。
【図33】従来例を示す図である。
【符号の説明】
1・・・チップ 2・・・導電パターン
3・・・絶縁性基板 4・・・弾性接着層
5・・・バンプテージ 6・・・ろう材
7・・・バンプ 8・・・ランド
9・・・外周端子 10・・・導電性バンプ
11・・・ボンディングパッド 12・・・スリット
13・・・開口部 14・・・電極
17・・・バンプ 18・・・封止樹脂
19・・・レジスト
Claims (2)
- 半導体チップと、
該チップの内部回路と接続され、該チップの表面上に設けられた電極と、
該チップの表面上に弾性接着層を介して設けられ、端部が該電極近傍に位置し、該電極以外の該チップ上の領域を覆う絶縁性基板と、
一端が該絶縁性基板上の領域で終端し、他端が該絶縁性基板の側面で露出され、該電極近傍の領域で終端して外周端子となる導電パターンと、
該外周端子と該電極とを電気的に接続する接続手段とを有することを特徴とする半導体装置。 - 該外周端子と該電極との接続部分を樹脂により封止することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
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