JP3574570B2 - Processing unit - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウェーハやガラス基板等に一連の処理を施す処理ユニットに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウェーハに集積回路を形成したり、ガラス基板にTFT等の素子を形成するには、多くの工程を必要とする。
例えば、基板表面にエキシマレジスト膜を形成する工程の一例を挙げると、デハイドレーションベーク、BARC(ボトム・アンチ・リフレクション・コーティング)塗布、ベーク、レジスト前処理、レジスト塗布、プリベーク、露光、露光後ベーク(PEB)、現像及びポストベークの工程を経るようにしている。
【0003】
従来にあっては、上記の如き工程を連続して行うため、各工程を行う装置を水平方向に離間してライン状に工程順に配置している。このため、占有面積が大きくなり、また工程の省略、追加が困難である。
【0004】
そこで、一箇所において集中的に処理を行う装置として特開平9−205047号公報に開示されるものが知られている。
この先行技術に開示された装置は、図6及びその要部拡大図である図7に示すように、処理ブロック100,200を左右に配設し、中央を移し換えゾーン300とし、前記処理ブロック100はポストベーキング装置101、プリベーキング装置102、クーリング装置103等を積層して構成され、前記処理ブロック200は塗布装置201,202及びフィルタ203を積層して構成される。
【0005】
そして、前記移し換えゾーン300には、処理ブロック100,200間及び処理ブロック100,200を構成する各装置間において被処理物の受け渡しを行うロボット301を設けている。
【0006】
上記ロボット301を昇降動せしめる手段としては、上記公報には具体的に記載されていないが、例えば、隔壁302にて囲まれた内部にスクリューネジ303を配置し、このスクリューネジ303にロボット301の一部を螺合せしめ、スクリューネジ303の正逆回転に応じて昇降動せしめることが考えられる。
【0007】
また、移し換えゾーン300の天井部からはフィルタ304を介して清浄な空気をゾーン内に供給し、床はパンチングメタル305とし、この下に排気ファン306を配置することで移し換えゾーン300内に上下方向の気流を形成し、異物が処理ブロック100,200を構成する各装置に入り込みにくくしている。尚、排気ファン306からの空気は天井部のフィルタ304の上に配置されるケミカルフィルタ307を介してフィルタ304に供給され再利用される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
処理ユニットにおいて、微細な金属粉等の異物が最も発生しやすい箇所は、摺動、回転動などの動きを伴うロボット部分である。
しかしながら、上述した従来の処理ユニットにあっては、移し換えゾーン300内で単に上下方向の気流を形成しているだけであるので、ロボット301から発生した異物を十分に除去できない。
【0009】
このため、同公報では、ロボット301の下部にファンを設け、このファンで発生した異物をスクリューネジ303を収納する隔壁302の内側に排出する提案がなされている。
しかしながら、上記提案は狭いスリットを介して異物を含む空気を隔壁302の内側に排出しようとするものであり、発生した異物を十分に除去できない。逆にスリットの幅を大きくすれば、隔壁内側に空気を排出しやすくはなるが、隔壁内側からの異物発生がある。
また、ファンによって横方向の気流の流れが発生し、せっかく上下方向の気流を形成して異物を床下に送り込むようにした構成に乱れが生じ、却って歩留まりの低下を招く。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明は、複数の処理装置を積層して構成される処理ブロックに隣接して移し換えゾーンを設けて処理ユニットを構成し、前記移し換えゾーンには移し換えロボットを昇降動可能に配置するとともに天井部には清浄なエアの吹出部を、床部にはエアの排出部を設け、更に前記移し換えロボットにはロボット等から発生した異物を捕捉するためのフィルタとこのフィルタに上方からエアを送り込むファンを設けた。
【0011】
また、具体的な構成として、前記移し換えゾーンに隔壁を設け、この隔壁の内側に移し換えロボットを昇降動せしめるための駆動部材を配置し、この駆動部材にはベースを結合し、このベースを隔壁に形成されたスリットを介して移し換えゾーン内に臨ませ、更に前記ベースにはロボットを垂直軸を中心として旋回せしめるヘッド、被処理物を出し入れするためのアーム、異物を捕捉するためのフィルタ及びフィルタにエアを送り込むファンを支持する構成とすることが可能である。
【0012】
以上の如き構成とすることで、ロボットの動作に伴って発生する異物を確実に捕獲することができ、また移し換えゾーン内に形成した上下方向の気流の流れをゾーンの中間部で更に助長することで、効果的な異物対策がなされる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。ここで、図1は本発明に係る処理ユニットの全体図、図2は本発明に係る処理ユニットの移し換えゾーンの詳細を示す図、図3は図2の要部拡大図、図4は図3のA部(プレート基端部周辺)の断面図、図5は図4のA’ーA’線断面図である。
【0014】
処理ユニット1は一対の処理ブロック2,3と、これら一対の処理ブロック2,3間に設けられる移し換えゾーン4にて構成され、この処理ユニット1が複数連設して処理ユニット構築体Mが構成されている。
尚、各処理ブロック2,3には前記した先行技術と同様に、ベーキング装置、クーリング装置、回転カップを用いた塗布装置、露光装置、現像装置等が上下方向に積層されるように組込まれるが、図1にあっては移し換えゾーン4内を透視するため、各装置は外した状態で示している。
【0015】
移し換えゾーン4のコーナ部には隔壁5を設け、この隔壁5には上下方向のスリット6を形成している。
そして、隔壁5内には上下方向のスクリューネジ7を回転自在に保持し、このスクリューネジ7を底部のモータ8にて回転せしめるようにしている。
【0016】
前記スクリューネジ7には移し換えロボット10が支持されている。即ち、移し換えロボット10は支持体11に進退動可能に取り付けられたハンド12と、前記支持体11を垂直軸を中心として回転せしめるヘッド13と、このヘッド13を支持するプレート14からなり、プレート14の基端部はナット15を覆う形でナット15と一体化され、ナット15の上下部のプレート14基端部はスクリューネジ7との間に隙間を設け、この隙間は後述のファン16に連通する空間を設けている。
而して、モータ8にてスクリューネジ7を回転せしめることで移し換えロボット10は昇降動する。
【0017】
また、プレート14の下面にはファン16及びフィルタ17が取り付けられ、更に、移し換えゾーン4の天井部にはファン18及びフィルタ19が配置され、移し換えゾーン4の床部にはファン20及びフィルタ21が配置されている。
【0018】
而して、処理中は天井部のファン18(フィルタ19)及び床部のファン20(フィルタ21)によって移し換えゾーン4内には上下方向の気流が形成される。
また、プレート14下面のファン16を駆動することで、図3の矢印でに示すように、ハンド12の摺動によって発生した異物、スクリューネジ7とナット15との螺合部で発生した異物をフィルタ17に送り込み、フィルタ17で捕捉する。
【0019】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明に係る処理ユニットによれば、処理ブロックに隣接して設けられる移し換えゾーンにロボットを昇降自在に設け、このロボット自体に発生した異物を捕捉するためのフィルタとこのフィルタに上方からエアを送り込むファンを設けたので、異物の最大の発生源であるロボットからの異物を有効に回収できる。
【0020】
特に、本発明にあってはファンによって移し換えゾーン内の気流の向きを乱すことがないので、除塵効果は更に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る処理ユニットの全体図
【図2】本発明に係る処理ユニットの移し換えゾーンの詳細を示す図
【図3】図2の要部拡大図
【図4】図3のA部(プレート基端部周辺)の断面図
【図5】図4のA’ーA’線断面図
【図6】従来の処理ユニットの全体図
【図7】図6の要部拡大図
【符号の説明】
1…処理ユニット、2,3…処理ブロック、4…移し換えゾーン、5…隔壁、6…スリット、7…スクリューネジ、8…モータ、10…移し換えロボット、11…支持体、12…ハンド、13…ヘッド、14…プレート、15…ナット、16,18,20…ファン、17,19,21…フィルタ。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a processing unit that performs a series of processing on a semiconductor wafer, a glass substrate, and the like.
[0002]
[Prior art]
Many steps are required to form an integrated circuit on a semiconductor wafer or to form an element such as a TFT on a glass substrate.
For example, examples of steps for forming an excimer resist film on a substrate surface include dehydration bake, BARC (bottom anti-reflection coating) application, bake, resist pretreatment, resist application, pre-bake, exposure, and post-exposure bake. (PEB), development and post-baking steps.
[0003]
Conventionally, in order to continuously perform the above-described steps, apparatuses for performing the respective steps are arranged in a line shape in the order of the steps while being horizontally separated from each other. For this reason, the occupied area increases, and it is difficult to omit or add steps.
[0004]
Therefore, an apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-205047 is known as an apparatus that performs processing intensively at one place.
As shown in FIG. 6 and FIG. 7 which is an enlarged view of a main part thereof, the apparatus disclosed in the prior art has
[0005]
The
[0006]
As means for moving the
[0007]
Also, clean air is supplied from the ceiling of the
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
In the processing unit, a portion where foreign matter such as fine metal powder is most likely to be generated is a robot portion accompanied by movement such as sliding and rotation.
However, in the above-described conventional processing unit, foreign matter generated from the
[0009]
For this reason, the same publication proposes to provide a fan below the
However, the above proposal attempts to discharge air containing foreign matter into the inside of the
In addition, the flow of the airflow in the horizontal direction is generated by the fan, and the configuration in which the airflow in the vertical direction is formed and the foreign matter is sent under the floor is disturbed, and the yield is rather lowered.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present invention provides a processing unit by providing a transfer zone adjacent to a processing block configured by stacking a plurality of processing devices, and moving a transfer robot up and down in the transfer zone. It is movably arranged and has a clean air blowing section on the ceiling, an air discharging section on the floor, and a filter for capturing foreign matter generated from the robot and the like in the transfer robot. A fan for feeding air from above to the filter was provided.
[0011]
Further, as a specific configuration, a partition is provided in the transfer zone, a drive member for moving the transfer robot up and down is arranged inside the partition, a base is connected to the drive member, and the base is connected to the drive member. A head for turning the robot around a vertical axis, an arm for taking in and out the object to be processed, and a filter for catching foreign matter are provided on the base so as to face the transfer zone through a slit formed in the partition wall. It is also possible to support the fan that sends air to the filter.
[0012]
With the above-described configuration, it is possible to reliably capture the foreign matter generated due to the operation of the robot, and to further promote the vertical airflow formed in the transfer zone in the middle part of the zone. As a result, effective countermeasures against foreign substances are taken.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Here, FIG. 1 is an overall view of a processing unit according to the present invention, FIG. 2 is a view showing details of a transfer zone of the processing unit according to the present invention, FIG. 3 is an enlarged view of a main part of FIG. 2, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the portion A (around the base end of the plate), and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line A'-A 'of FIG.
[0014]
The processing unit 1 is composed of a pair of
As in the above-described prior art, a baking device, a cooling device, a coating device using a rotating cup, an exposure device, a developing device, and the like are incorporated in each of the
[0015]
A
A
[0016]
A
The
[0017]
Further, a
[0018]
Thus, during processing, a vertical airflow is formed in the transfer zone 4 by the fan 18 (filter 19) on the ceiling and the fan 20 (filter 21) on the floor.
By driving the
[0019]
【The invention's effect】
As described above, according to the processing unit of the present invention, a robot is provided in a transfer zone provided adjacent to a processing block so as to be able to move up and down, and a filter for capturing foreign matter generated in the robot itself and a filter for capturing the foreign matter. Since the filter is provided with a fan for sending air from above, foreign matter from the robot, which is the largest source of foreign matter, can be effectively collected.
[0020]
In particular, in the present invention, since the direction of the air flow in the transfer zone is not disturbed by the fan, the dust removing effect is further improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall view of a processing unit according to the present invention; FIG. 2 is a view showing details of a transfer zone of the processing unit according to the present invention; FIG. 3 is an enlarged view of a main part of FIG. 2 FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line A′-A ′ of FIG. 4; FIG. 6 is an overall view of a conventional processing unit; FIG. 7 is an enlarged view of a main part of FIG. 6; Explanation of code]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing unit, 2, 3 ... Processing block, 4 ... Transfer zone, 5 ... Partition wall, 6 ... Slit, 7 ... Screw screw, 8 ... Motor, 10 ... Transfer robot, 11 ... Support body, 12 ... Hand, 13: Head, 14: Plate, 15: Nut, 16, 18, 20: Fan, 17, 19, 21: Filter.
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