JP3545076B2 - The liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

【0001】 [0001]
【産業上の利用分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は液晶表示装置及びその製造方法に関し、更に詳しくいえば、減圧雰囲気中で一の透明基板上に液晶を滴下した後、もう一方の透明基板を重ね合わせて液晶を封入する滴下注入法と呼ばれる方法の改善に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, after dropping a liquid crystal on one transparent substrate in a reduced pressure atmosphere, a dropping injection method for injecting liquid crystal by superimposing the other transparent substrate It relates to an improvement in a method called.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
真空封入法によれば液晶表示パネルに液晶を封入するのにかなりの時間を要していたが、滴下注入法の開発により液晶封入に要する時間を大幅に短縮することができ、注目される技術となっている。 Although it takes a considerable time to sealing a liquid crystal in the liquid crystal display panel according to the vacuum encapsulation method, the time required for the liquid crystal encapsulated by a developing instillation method can be greatly shortened, it is noted Technology It has become.
以下で従来例に係る滴下注入法について図面を参照しながら説明する。 Will be described with reference to the drawings dropping injection method according to the conventional example below. なお、図22(a)は同図(b)のG−G線断面図である。 Incidentally, FIG. 22 (a) is a line G-G cross-sectional view of FIG. (B).
【0003】 [0003]
まず、図19のフローチャートのステップP1で、ガラスなどからなる透明基板上に、液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する。 First, the flowchart of step P1 of FIG. 19, etc. on a transparent substrate made of glass, to form the necessary members in forming a liquid crystal display panel.
すなわち、一つの液晶表示パネルについて2枚の透明基板を用意し、その一方の透明基板の表面にはTFT(Thin Film Transistor)、ドレインバスライン、ゲートバスラインや画素電極などを形成し、その上に配向膜を形成して、TFT基板を作成する。 That is, the two transparent substrates are prepared for one of the liquid crystal display panel, TFT (Thin Film Transistor) on the surface of the one transparent substrate, a drain bus lines, such as to form the gate bus line and the pixel electrode, on which to form an alignment film, to create a TFT substrate. 他方の透明基板には、表面にR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルタを形成し、その上に透明なITO(Indium Tin Oxide)膜からなる対向電極を形成する。 The other transparent substrate, the surface R (red), to form a color filter of G (green), B (blue), forming a counter electrode made of transparent ITO (Indium Tin Oxide) film is formed thereon. 更にその上に配向膜を形成することで、カラーフィルタ基板(以下CF基板と称する)を作成する。 Further by forming an alignment film thereon, to create a color filter substrate (hereinafter referred to as a CF substrate).
【0004】 [0004]
次に、ステップP2で、TFT基板、CF基板の表面に形成された配向膜をラビング処理する。 Next, at step P2, TFT substrate, an alignment film formed on the surface of the CF substrate to rubbing treatment.
次いで、ステップP3で、TFT基板にスペーサを散布する。 Then, at step P3, spraying spacers on the TFT substrate. これはTFT基板とCF基板との間に液晶を満たす隙間を確保するためである。 This is to secure a gap that satisfies the liquid crystal between the TFT substrate and the CF substrate. 一方、ステップP4で、液晶を封入する矩形領域を囲むようにCF基板の表面に紫外線硬化型のシール材を形成する。 On the other hand, in step P4, the surface of the CF substrate so as to surround a rectangular region enclosing the liquid crystal to form a UV-curable sealant.
【0005】 [0005]
次に、ステップP5でCF基板表面のシール材で囲まれた領域内に液晶を滴下する。 Then, liquid crystal is dropped in a region surrounded by the sealing material of the CF substrate surface in step P5.
次に、ステップP6でTFT基板とCF基板との両方を図20に示すような貼り合わせ装置に導入して、装置内を真空排気する。 Was then introduced into the adhesion device as shown in FIG. 20 both the TFT substrate and the CF substrate in step P6, evacuating the inside of the apparatus.
次いで、ステップP7でTFT基板とCF基板の粗合せを行う。 Then, perform the rough alignment of the TFT substrate and the CF substrate in step P7. この工程は、減圧雰囲気中でTFT基板とCF基板とをある程度の位置合せをして重ね合わせ、弱く加圧する工程である。 This process is superimposed by a combined certain position the TFT substrate and the CF substrate in a reduced pressure atmosphere, a weak pressurizing step. 液晶はTFT基板とCF基板の間の隙間にシール材32により密封される。 The liquid crystal is sealed by a sealing member 32 into the gap between the TFT substrate and the CF substrate.
【0006】 [0006]
この工程では、まず表面にシール材32が形成され、液晶33が滴下されたCF基板31が図20に示すような装置内のステージSTの上に載置される。 In this step, the sealing member 32 is formed first on the surface, CF substrate 31 liquid crystal 33 is dropped is placed on the stage ST in the apparatus as shown in FIG. 20. 一方、TFT基板34は図20に示す装置内に搬入され、図21(a)に示すように支持具SUによって支持される。 On the other hand, TFT substrate 34 is loaded into the apparatus shown in FIG. 20, is supported by a support SU as shown in FIG. 21 (a).
次に図20の排気弁42が開き、排気口41から真空排気されることにより、装置内の処理室40が減圧状態になる。 Then opens the exhaust valve 42 in FIG. 20, by being evacuated from the exhaust port 41, the processing chamber 40 in the device is depressurized. 次いでTFT基板34が図21(a)に示すようにCF基板33に対向して配置されたのちに、同図(b)に示すようにCF基板31上に落下させる。 Then the after TFT substrate 34 is arranged to face the CF substrate 33 as shown in FIG. 21 (a), is dropped on the CF substrate 31 as shown in FIG. (B). その後、図20に示すような圧着具43でTFT基板34が上方から圧着される。 Thereafter, TFT substrate 34 is pressed from above by the crimping tool 43 shown in FIG. 20.
【0007】 [0007]
次いで、ステップP8で粗合せがなされた透明基板を大気中に取出し、TFT基板34とCF基板33の表示領域が対応するように精密な位置合せをする。 Then removed transparent substrate roughness combined is made in step P8 to the atmosphere, a precise alignment so that the display area of ​​the TFT substrate 34 and the CF substrate 33 corresponds.
この工程によって、滴下された液晶33は図22(a),(b)に示すようにシール材32で囲まれた領域のほぼ全面に遍く行き渡ることになる。 In this step, the liquid crystal 33 dropped in FIG. 22 (a), the thus prevailing universally over substantially the entire region surrounded by the sealant 32, as shown in (b).
その後、ステップP9でシール材32に紫外線を照射してこれを完全に硬化させて、TFT基板34とCF基板31を固着することにより液晶が封入された液晶表示パネルが形成される。 Thereafter, by completely curing the by irradiating ultraviolet rays to the sealing member 32 in Step P9, the liquid crystal display panel in which liquid crystal is sealed is formed by fixing the TFT substrate 34 and the CF substrate 31.
【0008】 [0008]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
しかしながら、上記従来の製造方法によると、以下に示すような問題が生じる。 However, according to the conventional manufacturing method, problems occur as follows.
まず第1に、図19のステップP7に示す粗合せの工程で、図21(a),(b)に示すように、TFT基板34をCF基板31の上に落下させている。 First, the rough mating process shown in step P7 of FIG. 19, as shown in FIG. 21 (a), (b), and the TFT substrate 34 is dropped on the CF substrate 31. このため、TFT基板34とCF基板31の位置合わせがずれやすいという問題がある。 Therefore, there is a problem that the alignment deviation likely the TFT substrate 34 and the CF substrate 31.
【0009】 [0009]
第2に、この粗合せ工程では、その後図20に示すような圧着部材43でTFT基板34を上から加圧するが、このときに、圧着部材43の加圧面の平坦性等により広いTFT基板34の全面に圧力を均一に加えることが難しいため、液晶33が均一に行き渡らなかったり、TFT基板34とCF基板31の隙間が均一にならなかったり、シールの一部が加圧不十分となってリークしたりするなどの問題が生じていた。 Second, this crude combined step, pressurize the TFT substrate 34 by crimping member 43 as shown in subsequent Figure 20 from above, at this time, a wide TFT substrate 34 by the flatness and the like of the pressing surface of the compression member 43 entirely since it is difficult to apply uniformly the pressure of, or not spread to the liquid crystal 33 is uniform, may not be uniform gap of TFT substrate 34 and the CF substrate 31, a part of the seal is a pressurized 圧不 sufficient problems such as or leak has occurred.
【0010】 [0010]
第3に、液晶と未硬化のシール材が接し、かつその領域に紫外線照射がなされてしまうと、これによって液晶とシール材が反応して汚染が生じ、当該液晶表示パネルの電圧保持率が低下する。 Third, the sealing material of the liquid crystal and uncured contact, and when the ultraviolet irradiation will be made in that area, thereby resulting contamination by the reaction of the liquid crystal and the sealing material, the voltage holding ratio of the liquid crystal display panel is reduced to. なお、電圧保持率とは、液晶パネルに電圧を間歇的に印加したときに、電圧印加から次の電圧印加までの間に液晶を挟む両電極間で蓄積電荷がリークせずにどの程度まで初期の電圧を維持しているかを示す値であって、図25(a),(b)のB/A×100 (%) Here, the voltage holding ratio, a voltage when intermittently applying to the liquid crystal panel, to what extent without leakage accumulated charge between the two electrodes sandwiching the liquid crystal between the voltage application to the next initial voltage application a value indicating whether the maintaining of voltage, FIG. 25 (a), B / a × 100 in (b) (%)
で示される値である。 In is a value to be shown. 上式でAは図25(a)の斜線部の面積(リークがない場合の電極間に保持されている電圧の時間積分)であって、Bは図25(b)の斜線部の面積(実際に電極間に保持されている電圧の時間積分)である。 A hatched area of ​​A in the above formula FIG 25 (a) (time integral of the voltage held between the electrodes in the absence of leakage), B is the area of ​​the shaded portion in FIG. 25 (b) ( it is actually a time integral of the voltage held between the electrodes).
【0011】 [0011]
なお、図23,24は、液晶と未硬化のシール材が接してしまった後に、シール材に紫外線を照射して硬化させたときの電圧保持率と、紫外線の照射時間との関係を示すグラフである。 Incidentally, FIG. 23 and 24 is a graph showing after the seal member between the liquid crystal and uncured had contact, a voltage holding ratio when the ultraviolet cured by irradiating the sealing material, the relationship between the irradiation time of ultraviolet it is. 図23に示すように、中央(シール端より25mm)、シール近傍(シール端より10mm)のいずれの領域でも、紫外線を照射した時間が増えるに従って、その電圧保持率に低下がみられる。 As shown in FIG. 23, the center (25 mm from seal end), in any region of the seal near (10mm from seal end), according to more time irradiated with ultraviolet rays, it is reduced to the voltage holding ratio seen. 特にシール近傍での低下は顕著で、2〜4%程度の低下が確認できる。 In particular drop in seal near significant reduction of about 2-4% can be confirmed.
【0012】 [0012]
また、図24は同様の製造方法で液晶を封入して液晶表示パネルを形成した後に、80℃の温度下で当該液晶表示パネルを1000時間放置した場合の電圧保持率の変動の様子を示したグラフである。 Also, Figure 24 shows how the same after forming the liquid crystal display panel by sealing liquid crystal in the production process, the voltage holding ratio in the case where the liquid crystal display panel was left for 1000 hours at a temperature of 80 ° C. variation it is a graph. 測定箇所は中央(シール端より25mm)である。 Measurement point is the center (25 mm from seal end). 図24に示すように、この場合の電圧保持率の低下は更に顕著であることがわかる。 As shown in FIG. 24, a decrease in voltage holding ratio in this case it is found to be more pronounced.
【0013】 [0013]
以上図23,図24に示すように、液晶がシール材に接した後に紫外線照射でシール材を硬化させる従来の滴下注入法によると、当該液晶表示パネルの電圧保持率が低下するが、この電圧保持率が低下すると、十分な大きさの駆動電圧が液晶表示パネルに加わらず、表示パネルとして用いたときに、当該パネルのコントラストが低下してしまうという問題が生じていた。 Above 23, as shown in FIG. 24, according to the conventional drip injection method of curing the sealing material with UV radiation after the liquid crystal is in contact with the sealing material, the voltage holding ratio of the liquid crystal display panel is reduced, the voltage when retention is decreased, the driving voltage of sufficient magnitude is not applied to the liquid crystal display panel, when used as a display panel, the contrast of the panel has occurred deteriorates.
【0014】 [0014]
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、粗合わせである程度の位置合わせ精度と基板間の均一な隙間を保持し、電圧保持率の低下を抑制することが可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in view of such problems, it maintains a uniform gap between the degree of alignment accuracy and the substrate in the coarse alignment, the liquid crystal display capable of suppressing a decrease in the voltage retention rate and to provide a device and a manufacturing method thereof.
【0015】 [0015]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
上記課題を解決するため、第1の発明は、液晶表示装置の製造方法に係り、1対の透明基板の何れか一方であって、表示領域の外側の領域に紫外線硬化型の接着材を環状に形成する工程と、前記1対の透明基板の何れか一方の中央領域に液晶を滴下する工程と、減圧下で前記1対の透明基板を重ね合わせた後に大気圧下に戻して、前記1対の透明基板の間の前記接着材で囲まれた隙間を前記接着材により密封する工程と、前記接着材に紫外線を照射して硬化させた後に、前記液晶が前記接着材に達する工程とを有することを特徴とし、 To solve the above problems, the first invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device, there is one of a pair of transparent substrates, an adhesive of the ultraviolet curable type region outside the display region cyclic forming in the step of dropping the liquid crystal in one of the central region of said pair of transparent substrates, returned to atmospheric pressure after superposition of the pair of transparent substrates under reduced pressure, the 1 a step of sealing a gap surrounded by the adhesive material between the pair of transparent substrates by the adhesive, after curing by irradiating ultraviolet rays to the adhesive, and a step in which the liquid crystal reaches the adhesive It characterized by having,
第2の発明は、第1の発明の液晶表示装置の製造方法に係り、前記接着材を環状に形成する工程の前に、前記1対の透明基板の何れか一方であって、表示領域の外側の領域に後の工程で重ね合わせる透明基板と接しない高さで凸部を形成する工程をさらに有することを特徴とし、 The second invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device of the first invention, the adhesive material before the step of forming the annular, said there is one of a pair of transparent substrates, the display region and further comprising the step of forming a convex portion in height is not in contact with the transparent substrate to superimpose in a subsequent step in the outer area of,
第3の発明は、第2の発明の液晶表示装置の製造方法に係り、前記凸部は、環状及び点在した島状の何れかの形状であることを特徴とし、 The third invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device of the second invention, the convex portion, characterized in that any of the shapes of the cyclic and interspersed islands,
第4の発明は、第3の発明の液晶表示装置の製造方法に係り、前記凸部が形成された側の透明基板の表示領域にはカラーフィルタが形成され、前記凸部は前記カラーフィルタと同じ材料をパターニングして形成することを特徴とし、 The fourth invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device of the third invention, the color filter may be formed in the display area of ​​the side of the transparent substrate on which the protrusion is formed, the convex portion and the color filter It characterized by forming by patterning the same material,
第5の発明は、液晶表示装置に係り、互いに対向した1対の透明基板と、前記1対の透明基板の一方の対向面の表示領域の外側に、他方の透明基板と接しない凸部と、前記1対の透明基板の間であって、前記凸部より外側の領域に環状に形成されて前記1対の透明基板の間に密封された隙間を形成する紫外線硬化型の接着材と、前記密封された隙間に封入された液晶とを有することを特徴とし、 A fifth invention relates to a liquid crystal display device, a pair of transparent substrates facing each other, outside the display area of ​​one of the opposing surfaces of the pair of transparent substrates, and the convex portion which is not in contact with the other transparent substrate , be between the pair of transparent substrates, and adhesive of the ultraviolet curing type for forming a gap which is sealed between the transparent substrates of the pair is formed annularly on the outside of the region from the convex portion, characterized by having a liquid crystal sealed in said sealed gap,
第6の発明は、第5の発明の液晶表示装置に係り、前記凸部が形成された側の透明基板の表示領域にはカラーフィルタが形成され、前記凸部は前記カラーフィルタと同じ材料からなることを特徴としている。 A sixth invention relates to a liquid crystal display device of the fifth invention, the display area of ​​the side of the transparent substrate on which the protrusions are formed a color filter is formed, the convex portion from the same material as the color filter It is characterized in that it comprises.
【0016】 [0016]
【作 用】 [For work]
本発明によれば、第1に、未硬化の接着材を介して1対の透明基板を重ね合わせた後、接着材と液晶とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させている。 According to the present invention, the first, after superposing a pair of transparent substrates via the adhesive material of the uncured, before the adhesive material and the liquid crystal are in contact, and then cured by irradiation with ultraviolet rays to the adhesive material there.
このため、1対の透明基板の固着を確実にするとともに、従来、未硬化の接着材と液晶が接し、その領域に紫外線が照射されることによって生じていた液晶の汚染を抑制することができ、液晶汚染によって当該液晶表示装置の電圧保持率が低下して、その表示の際のコントラストが低下することを極力抑止することが可能になる。 Therefore, while ensuring the fixation of the pair of transparent substrates, conventionally, adhesive and liquid crystal uncured contact can be ultraviolet light that region to suppress the contamination of the liquid crystal that occurs by being irradiated , voltage holding ratio and decrease in the liquid crystal display device by the liquid crystal contamination, contrast when the display is possible as much as possible suppress a decrease.
【0019】 [0019]
第2に、1対の透明基板のうち何れか一方の表示領域の外側の領域であって、接着材の形成領域の内側の領域に、液晶の広がり速度を遅らせる凸部が形成されている。 Second, a region outside the one of the display areas of the pair of transparent substrates, the region inside the area where the adhesive, the convex portion to retard the crystal spread rate is formed.
凸部によりそれらの透明基板間の隙間が狭くなるため、液晶が接着材に達するまでの時間が長くなるので、接着材と液晶とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させることを容易に行うことが可能になる。 Since the convex portion is a clearance between their transparent substrate becomes narrow, the liquid crystal becomes longer time to reach the adhesive, before the adhesive material and the liquid crystal are in contact, it is cured by irradiating ultraviolet rays to the adhesive it is possible to perform easily. 特に、凸部として1対の透明基板のうち何れか一方の表示領域に形成するカラーフィルタと同じ材料を用いることにより、表示領域へのカラーフィルタの形成と同時に一度に形成することができ、工程が簡略化される。 In particular, by using the same material as the color filter formed on one of the display areas of the pair of transparent substrates as projecting portions can be formed simultaneously with the formation once a color filter of the display area, step It is simplified.
【0026】 [0026]
【実施例】 【Example】
以下で、本発明の実施例に係る液晶表示装置の製造方法及びその製造装置を図面を参照しながら説明する。 Hereinafter will be described with the manufacturing method and apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention with reference to the drawings.
(1)第1の実施例以下で本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図1のフローチャート及び図2(a),(b),図3(a),(b)を参照しながら説明する。 (1) the flow chart and FIG method for producing the Figure 1 of the liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention in the following first embodiment 2 (a), (b), FIG. 3 (a), (b ) will now be described with reference to. 図2(b)は同図(a)のA−A線断面図である。 2 (b) is a sectional view along line A-A of FIG. (A).
【0027】 [0027]
まず、図1のステップP1で、ガラスなどからなる透明基板上に、液晶表示パネルを作成する上で必要な部材を形成する。 First, in step P1 of FIG. 1, etc. on a transparent substrate made of glass, to form the necessary members in creating a liquid crystal display panel.
すなわち、一つの液晶表示パネルについて、10.4インチ相当のガラス板からなる2枚の透明基板を用意し、第1の透明基板の表面に、R(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルタを形成するため、成膜/パターニングを3回繰り返す。 That is, for one of the liquid crystal display panel, prepared two transparent substrates made of a glass plate equivalent 10.4 inches, the surface of the first transparent substrate, R (red), G (green), B (blue to form a color filter), it is repeated 3 times a deposition / patterning. 続いて、カラーフィルタ上に透明なITO(Indium Tin Oxide)膜からなる対向電極を形成した後、対向電極上に配向膜を形成して、カラーフィルタ基板(以下CF基板と称する)1を作成する。 Subsequently, after forming a counter electrode made of transparent ITO (Indium Tin Oxide) film on the color filter, to form an alignment film on the counter electrode, (hereinafter referred to as a CF substrate) Color filter substrate to create a 1 .
【0028】 [0028]
他方、第2の透明基板の表面にTFT(Thin Film Transistor)、ドレインバスライン、ゲートバスライン及び画素電極などを形成し、その上に配向膜を形成してTFT基板4を作成する。 On the other hand, TFT on the surface of the second transparent substrate (Thin Film Transistor), a drain bus line, such as to form the gate bus line and the pixel electrode, to create a TFT substrate 4 to form an alignment film thereon.
次いで、ステップP3でTFT基板4表面にスペーサSPを散布する。 Then, to spray spacers SP on the TFT substrate 4 surface in step P3. スペーサSPは、重ね合わされたCF基板1とTFT基板4の間の液晶封入の隙間を確保するものである。 The spacer SP is to ensure the clearance of the liquid crystal sealed between the CF substrate 1 and the TFT substrate 4 superimposed. スペーサSPとしては密着性を有する直径5.0μmのプラスチック球を用いる。 The spacers SP a plastic ball having a diameter of 5.0μm having adhesion. 密着性は、散布後加熱処理を行うことにより付与される。 Adhesion is imparted by carrying out the spraying after the heat treatment. 液晶が広がる間にスペーサSPが移動しないようにし、かつ重ね合わせの作業を容易に行うためである。 As the spacer SP is not moved while the liquid crystal is spread, and in order to do the work of superposition easily.
【0029】 [0029]
次に、ステップP4で、図2(a)に示すように、液晶を封入する矩形領域を囲むように、表示領域から約5mm程度外側のCF基板1の表面に紫外線硬化型の接着材(T−470、長瀬チバ製)からなるシール材2を環状に形成する。 Next, in step P4, as shown in FIG. 2 (a), so as to surround a rectangular region enclosing the liquid crystal, the ultraviolet curable adhesive to the CF surface of the substrate 1 of about 5mm approximately outward from the display area (T -470, a sealing material 2 consisting of Nagase Ciba) to form a ring. なお、シール材2は加圧により最終的に幅2mm程度になる。 Incidentally, the sealing member 2 becomes finally about 2mm wide by pressure.
次に、ステップP5で、図2(a),(b)に示すように、CF基板1に形成された環状のシール材2の内周表面2Aに紫外線を選択的に照射して照射部分のシール材2の表層を半硬化状態にする(以下でこの処理をプリキュアと称する)。 Next, in step P5, FIG. 2 (a), the irradiation portion is selectively irradiated with ultraviolet rays, the inner peripheral surface 2A of the sealing member 2 an annular formed on the CF substrate 1 as shown in (b) the surface layer of the sealing material 2 to a semi-cured state (this process is referred to as pre-cure below). この場合、照射部分のシール材2の表層のみが硬化するように、500mJ程度の弱い強度の紫外線を照射する。 In this case, only the surface layer of the sealing material 2 of the irradiated portion to cure is irradiated with ultraviolet light of low intensity of about 500 mJ.
【0030】 [0030]
次いで、ステップP6で、シール材2で囲まれた領域内のCF基板1の表面に液晶を滴下する。 Then, in step P6, liquid crystal is dropped on the CF surface of the substrate 1 in the region surrounded by the sealing material 2. 次に、ステップP7で、TFT基板4とCF基板1との両方を貼り合わせ装置に導入して、装置内を真空排気する。 Next, in step P7, by introducing the bonding apparatus both the TFT substrate 4 and the CF substrate 1, to evacuate the inside of the apparatus.
次いで、ステップP8で、粗合わせを行う。 Then, in step P8, it performs rough alignment. 即ち、図3(a)に示すように、減圧雰囲気中でTFT基板4とCF基板1とをまず対向させた後、同図(b)に示すように、CF基板1とTFT基板4を重ね合わせ、大雑把に位置合せする。 That is, as shown in FIG. 3 (a), after the first is opposed to the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 in a reduced pressure atmosphere, as shown in FIG. (B), superposed CF substrate 1 and the TFT substrate 4 together, registering roughly position. 粗合わせの精度は、±50μm程度である。 Accuracy of the coarse alignment is about ± 50 [mu] m. 粗合わせすることにより、精密な位置合わせのとき調整幅を少なくしてシール材2へのダメージ付与を防止し、CF基板1とTFT基板4の間の液晶を封入する隙間の密封性を確保する。 By combined crude, with less adjustment width when the precise positioning to prevent damage imparted to the seal member 2, to ensure the sealing of the gap filling liquid crystal between the CF substrate 1 and the TFT substrate 4 .
【0031】 [0031]
続いて、基板を軽く加圧し、シール材2を潰して基板間の隙間に液晶を密封する。 Subsequently, lightly pressed the substrate, crushing the sealing member 2 for sealing the liquid crystal in the gap between the substrates.
次に、ステップP9で、粗合わせがなされた基板を大気中に取出し、精密な位置合せをする(以下でこの工程を精密合わせと称する)。 Next, in step P9, the substrate is taken out of the crude alignment is made in the atmosphere, (referred to as the process and precise alignment below) for precise alignment.
この工程を経て、滴下された液晶3はシール材2で囲まれた領域のほぼ全部に遍く行き渡る。 Through this process, the liquid crystal 3 is dropped is spread universally almost all of the region surrounded by the sealing material 2. その後、ステップP10で、5000mJ程度の高い強度の紫外線をシール材2に照射してこれを完全に硬化させて、TFT基板4とCF基板1を固着することにより、液晶表示パネルが作成される。 Then, in step P10, by completely curing the by irradiating ultraviolet rays of high order 5000mJ strength and sealing material 2, by fixing the TFT substrate 4 and the CF substrate 1, the liquid crystal display panel is created. なお、紫外線の最適強度は接着剤により異なる。 The optimum intensity of the ultraviolet differ by an adhesive.
【0032】 [0032]
以上説明したように、本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、図1のステップP5の工程で、図2に示すように、シール材2の内周表面にプリキュアを施しているので、ステップP10の工程で液晶3が完全硬化前のシール材2に達したとしても、未硬化のシール材と液晶とは直接接しない。 As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention, in the process of step P5 of FIG. 1, as shown in FIG. 2, the inner peripheral surface of the sealing material 2 since subjected to pre-cure, even the liquid crystal 3 has reached the sealing member 2 before complete curing in the process of step P10, the sealant and the liquid crystal of the uncured no direct contact.
従来問題となっていた液晶汚染は液晶と、未硬化のシール材とが直接接し、かつその領域に紫外線照射がなされることによって生じるが、上記ではそのような汚染は生じにくい。 Liquid crystal pollution, which has been a conventional problem and the liquid crystal in contact with uncured sealant directly, and it caused by ultraviolet irradiation is made in that region, in the above such contamination is difficult to occur.
【0033】 [0033]
この事実は、実験によっても確認されている。 This fact has been confirmed by experiment. 以下でその実験結果を表1を参照しながら説明する。 The experimental results will be described below with reference to Table 1. 実施例のように作製したパネルのシール近傍での電圧保持力を測定するとプリキュアを行わなかった場合に比較して極めて良好な結果となった。 It was a very good result compared to the case you did not pre-cure when measuring the voltage retention of a sealing proximity of the manufactured panel as in Example. その測定結果を以下の表1に示す。 The measurement results are shown in Table 1 below.
【0034】 [0034]
【表1】 [Table 1]
【0035】 [0035]
なお、上記の表1において用いた液晶はZLI−4792(メルク製)であって、配向膜はJALS−214(JSR製)である。 Incidentally, the liquid crystal used in Table 1 above a ZLI-4792 (manufactured by Merck), the orientation film is JALS-214 (manufactured by JSR).
表1に示す結果によれば、プリキュアを行わなかったパネルについては電圧保持率が96.0%であるのに対して、プリキュアを行ったパネルは電圧保持率が98.0%と高い。 According to the results shown in Table 1, whereas for the panel not subjected to pre-cure is a voltage holding ratio 96.0%, the panel was performed Precure voltage holding ratio and a high 98.0%. また80℃で1000時間経過後の電圧保持率についてはプリキュアなしのパネルが94.0%まで低下しているのに比して、プリキュアを施したパネルは97%と高い。 With respect to the voltage holding ratio after lapse of 1000 hours at 80 ° C. as compared to without pre-cure the panel is reduced to 94.0%, the panel was subjected to precure 97% and higher. 以上のように、プリキュアを行うことにより、初期での電圧保持率の低下が抑制されるとともに、長期間使用した後でも電圧保持率の低下を抑制することができる。 As described above, by performing the pre-cure, with the decrease of the voltage holding ratio in the initial is suppressed, it is possible to suppress a decrease in voltage holding ratio even after long-term use.
【0036】 [0036]
以上示したように、本発明の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、電圧保持率の低下を抑制することができるので、電圧保持率の低下が原因となる当該液晶表示パネルのコントラストの低下を抑制することが可能となる。 As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, it is possible to suppress a decrease in voltage holding ratio, a decrease in voltage holding ratio causes the liquid crystal display panel it is possible to suppress a reduction in contrast.
(2)第2の実施例以下で、本発明の第2の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図4を参照しながら説明する。 (2) in the following second embodiment, a method of manufacturing the liquid crystal display device will be described with reference to FIG. 4 according to a second embodiment of the present invention. なお、図1のステップP1〜P3については第1の実施例と同様な工程なので、重複を避けるため説明を省略する。 Since the step P1~P3 in Figure 1 are the same steps as in the first embodiment, the description thereof is omitted to avoid redundancy.
【0037】 [0037]
まず、図1のステップP4で、CF基板1のほか、TFT基板4の表面にもシール材を形成する。 First, in Step P4 of FIG. 1, in addition to the CF substrate 1, also form a sealing material on the surface of the TFT substrate 4. すなわち、図4に示すようにCF基板1の表面に紫外線硬化型の接着材(T−470、長瀬チバ製)からなる第1のシール材2Bを液晶を封入する矩形領域を囲むように環状に形成し、かつ第1のシール材2Bの形成パターンと同じパターンの第2のシール材5をTFT基板4の表面に形成する。 Namely, into an annular shape so as to surround a rectangular region that ultraviolet curing adhesive material on the surface of the CF substrate 1 (T-470, manufactured by Nagase-Ciba) a first sealing member 2B consisting of enclosing a liquid crystal, as shown in FIG. 4 formed, and the second seal member 5 of the same pattern as the formation pattern of the first seal member 2B is formed on the surface of the TFT substrate 4.
【0038】 [0038]
次いで、ステップP5のプリキュア工程では第1のシール材2と、第2のシール材5の両方にプリキュアを施す。 Then, first the seal member 2 at Precure process step P5, the precure both the second sealing member 5 is subjected. このとき、第1の実施例では液晶と接する部分となる、環状のシール材の内周表面のみを選択的に半硬化状態にしていたが、本実施例ではシール材の全体をプリキュアして、図4に示すように第1のシール材2の表層2Cを半硬化状態にし、第2のシール材5の表層5Aも同様にして半硬化状態にする。 In this case, in the first embodiment the portion in contact with the liquid crystal, had been selectively semi-cured state only the inner peripheral surface of the annular sealing member, in this embodiment by pre-cure the entire sealing material, a first surface layer 2C of the sealing material 2, as shown in FIG. 4 and a semi-cured state, the surface layer 5A of the second seal member 5 is also similarly to the semi-cured state.
【0039】 [0039]
次に、ステップP7までは第1の実施例と同様の工程を経て、ステップP8TFT基板4とCF基板1を重ね合わせて粗合せした後、両者を軽く加圧し、TFT基板4とCF基板1の間の隙間を密封する。 Then, steps P7 through the same steps as the first embodiment, after the crude combined by superimposing step P8TFT substrate 4 and the CF substrate 1, lightly pressurized both the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 to seal the gap between. このとき、粗合わせにより、図4に示すように、第1のシール材2の形成領域に第2のシール材5の形成領域とを一致させる。 In this case, the coarse adjustment, as shown in FIG. 4, to match the formation region of the second sealing member 5 to the first forming region of the sealing material 2.
【0040】 [0040]
その後、第1の実施例と同様の工程を経て、液晶表示パネルが作成される。 Thereafter, through the same steps as the first embodiment, the liquid crystal display panel is created.
以上説明したように、本発明の第2の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、CF基板1の表面に第1のシール材2を形成するのみならず、TFT基板4の表面にも第2のシール材5を形成して両者をプリキュアし、のちに第1及び第2のシール材2B及び5を位置合せしてTFT基板4とCF基板1とを圧着している。 As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, not only to form the first sealing member 2 to the surface of the CF substrate 1, the surface of the TFT substrate 4 to be formed a second seal member 5 and Precure both, and crimp the first and the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 second sealant 2B and 5 aligned later.
【0041】 [0041]
このため、第1の実施例と同様にして、第1のシール材2B,第2のシール材5には予めステップP5でプリキュアが施されて半硬化状態になっているので、未硬化のシール材と液晶が直接接触せず、液晶の汚染を抑止することができる。 Therefore, as in the first embodiment, the first sealing member 2B, since the second sealing member 5 has a semi-cured state Precure is performed in advance in step P5, the uncured seal wood and liquid crystal is not in direct contact, it is possible to suppress the liquid crystal contamination. これにより、液晶汚染による液晶表示装置の電圧保持率の低下を抑制し、表示の際のコントラストの低下を抑制することが可能になる。 This suppresses a decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal display by the liquid crystal contamination, it is possible to suppress a decrease in contrast when the displays.
【0042】 [0042]
また、本実施例においては第1の実施例と異なり、重ね合わせの際、第1のシール材2と第2のシール材5とが接着されるので、CF基板1にのみシール材が形成されている液晶表示パネルに比して、両者の密着性がさらに向上する。 In the present embodiment differs from the first embodiment, when the superposition, the first sealing member 2 and the second seal member 5 is adhered, the sealant only on the CF substrate 1 is formed and compared to the liquid crystal display panel has, both adhesion is further improved. 第1及び第2のシール材2及び5の全部の領域に紫外線を照射して半硬化状態にしても、これらの間の密着性は損なわれることはない。 Even if irradiated with ultraviolet light to all areas of the first and second sealing member 2 and 5 in a semi-cured state, the adhesion between them will not be impaired.
【0043】 [0043]
なお、第1の実施例と同様に、第1,第2のシール材2,5の内周面に選択的に紫外線を照射して照射領域を半硬化状態にしてもよい。 As in the first embodiment, first, the irradiated region is selectively irradiated with ultraviolet light on the inner peripheral surface of the second sealing member 2, 5 may be a semi-cured state.
さらにUVプリキュアを行うことは、粘度の低い材料(塗布性は良好)を用いて粘度の高いシールを形成することが可能であることを意味し、パネルを大気に戻した際の大気圧によるシールダメージを低減する効果もある。 Further performing the UV precure means that (a coating having good) material having a low viscosity it is possible to form a high viscosity sealed using the sealing by the atmospheric pressure at the time of returning the panel to the air the effect of reducing the damage also.
【0044】 [0044]
(3)第3の実施例以下で、本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図5(a),(b)を参照しながら説明する。 (3) the following third embodiment, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention FIG. 5 (a), described with reference to (b). 図5(a)は断面図、図5(b)は平面図で、図5(a)は同図(b)のB−B線断面図である。 5 (a) is a cross-sectional view, in FIG. 5 (b) a plan view, FIG. 5 (a) is a sectional view taken along line B-B in FIG. (B). なお、第1,第2の実施例と共通する事項については、重複を避けるため説明を省略する。 Note that the matters common to the first and second embodiments, the description thereof is omitted to avoid redundancy.
【0045】 [0045]
まず、図1のステップP1で透明基板上に液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工程で、TFT基板4は第1の実施例と同様の工程で形成するが、CF基板1の表示領域にカラーフィルタをパターニングして形成する際に、表示領域の外側領域であって、シール材を形成する領域の内側の領域に、環状のカラーフィルタと同じ材料の凸部6A,6Bをパターニングして形成する。 First, in the step of forming the necessary members in forming a liquid crystal display panel on a transparent substrate in step P1 of FIG. 1, TFT substrate 4 is formed in the same process as in the first embodiment, CF substrate 1 when formed by patterning a color filter on a display region, an outer region of the display region, the region inside the region for forming the sealing material, the convex portion 6A of the same material as the annular collar filters, 6B patterned to form.
【0046】 [0046]
このとき、凸部6A,6Bが形成された領域は、その周辺の領域よりも高く盛り上がり、この上にITO膜からなる透明電極7や配向膜8が形成されると、図5(a)に示すような凸部9A,9Bが生じて隙間が狭くなる。 At this time, the convex portions 6A, region 6B is formed is raised higher than its peripheral region, the transparent electrode 7 and an alignment film 8 made of an ITO film is formed on this, in FIGS. 5 (a) shows such protrusion 9A, 9B gap becomes narrow occurs.
その後は第1の実施例と同様の工程を経る。 Thereafter steps similar to those of the first embodiment. ただし、ステップP5のプリキュアについては省略してもよい。 However, it may be omitted for the pre-cure of step P5.
【0047】 [0047]
ところで、液晶汚染が生じる原因は液晶と未硬化の接着材が直接接し、且つその領域に紫外線照射処理がなされる為である。 However, cause of liquid crystal contamination occurs contact adhesive of a liquid crystal and an uncured directly, is and for UV irradiation treatment is performed in that area. 滴下注入法を用いても、10インチクラスのTFT液晶パネルに完全に液晶が行き渡るには数分(5分程度)の時間かかるため、張り合わせ室より、パネルを取出し、液晶がシール材に達する前に出来るだけ早くシール材に紫外線照射して硬化すれば、液晶汚染による電圧保持率の低下を抑制することが可能になる。 Dropping injection method be used, because it takes 10 completely several minutes the liquid crystal is spread over the TFT liquid crystal panel inch class (about 5 minutes) time, than bonding chamber, taken out panel, before the liquid crystal reaches the sealing material if cured by ultraviolet ray irradiation as soon sealant can in, it is possible to suppress a decrease in voltage holding ratio in the liquid crystal contamination. しかし、本実施例のように、透明基板の中央部からシール材に至る間に凸部9A,9Bを設けて隙間を狭くして液晶の広がりを遅くすることにより、一層確実に未硬化のシール材と液晶との接触を避けることが可能となる。 However, as in this embodiment, by slowing the liquid crystal spread by narrowing the gap protrusion 9A, a 9B provided between reaching the sealing material from the central portion of the transparent substrate, the more reliably the uncured seal it is possible to avoid contact with the wood and the liquid crystal.
【0048】 [0048]
以下の表2に、14インチの評価基板を用いて、液晶とシール材とが接触する前に紫外線照射処理を行ったものと、液晶と接触した後に紫外線照射処理を行ったものとの比較を行った結果を示す。 Table 2 below, using the evaluation board 14-inch, and having been subjected to the ultraviolet irradiation treatment before the liquid crystal and the sealing member are in contact, the comparison of having been subjected to the ultraviolet irradiation treatment after contact with the liquid crystal It shows the results of.
【0049】 [0049]
【表2】 [Table 2]
【0050】 [0050]
なお、上記の表2において用いた液晶はZLI−4792(メルク製)であって、配向膜はJALS−214(JSR製)である。 Incidentally, the liquid crystal used in Table 2 above a ZLI-4792 (manufactured by Merck), the orientation film is JALS-214 (manufactured by JSR).
表2に示す結果によれば、液晶とシール材とが接触する前に紫外線照射を行ったパネルについては電圧保持率が98%であるのに対して、液晶とシール材とが接触した後に紫外線照射を行ったパネルは電圧保持率が96%と低く、また80℃で1000時間経過後の電圧保持率については接触前に紫外線照射したパネルが98%という高い値を維持しているのに比して、接触後に紫外線照射したパネルでは94%まで低下している。 According to the results shown in Table 2, UV whereas the panels subjected to ultraviolet radiation before the liquid crystal and the sealing material is in contact is a voltage holding ratio of 98%, after which the liquid crystal and the sealing material is in contact the ratio for the panel which was irradiated is maintained high as 98% panels ultraviolet radiation prior to contact for voltage holding ratio after lapse of the voltage holding ratio as low as 96%, also at 80 ° C. 1000 hours to, in the ultraviolet irradiation panels after contact has dropped to 94%. 従って、シール材に液晶が接する前に紫外線照射をすることにより、電圧保持率の低下を抑制できるという事実が確認できた。 Therefore, by ultraviolet irradiation before the liquid crystal is in contact with the sealing member, it was confirmed the fact that a reduction in the voltage holding ratio can be suppressed.
【0051】 [0051]
本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の製造方法はこの事実を利用している。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention utilizes this fact. すなわち、CF基板1上表示領域とシール材の形成領域の間にカラーフィルタと同じ材料からなる凸部6A,6Bをパターニングにより形成する。 That is, the convex portion 6A made of the same material as the color filter between the formation region of the CF substrate 1 on the display region and the sealing member is formed by patterning 6B. なお、凸部6A,6BはR,G,Bのうち少なくとも1層を形成すればよい。 Incidentally, the convex portions 6A, 6B is R, G, may be formed at least one layer of B. 続いて、凸部6A,6B上に透明電極7及び配向膜8を順次形成して更に高い凸部9A,9Bを形成している。 Subsequently, higher protrusion 9A protrusion 6A, the transparent electrode 7 on 6B and an alignment film 8 are sequentially formed, to form a 9B.
【0052】 [0052]
こうして凸部9A,9Bが形成された領域でのCF基板1とTFT基板4の間のギャップは図5(a)に示すように狭くなり、圧着によって拡散された液晶3がシール材2に達するまでの時間を伸ばすことができるので、液晶3がシール材2に達する前に、余裕をもってシール材に紫外線を照射し、硬化させることが可能になる。 Thus protrusion 9A, 9B the gap between the CF substrate 1 and the TFT substrate 4 in is formed region becomes narrower as shown in FIG. 5 (a), the liquid crystal 3, which is spread by crimping reaches the sealing material 2 it is possible to extend the time until, before the liquid crystal 3 reaches the sealing member 2, irradiating ultraviolet radiation to the sealant with a margin, it is possible to cure.
【0053】 [0053]
これにより、当該液晶表示装置の電圧保持率の低下を抑制し、表示の際のコントラストの低下を抑止することが可能になる。 This suppresses a decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal display device, it is possible to suppress the decrease in contrast when the displays.
なお、カラーフィルタによって形成される凸部のパターンは、図5(a),(b)に示すように環状のパターンでもよいが、本発明はこれに限らず、例えば図6に示すような、島状のパターンが点在しているような凸部9Cを形成してもよい。 The pattern of convex portions formed by the color filter, FIG. 5 (a), the may be a circular pattern (b), the present invention is not limited to this, for example, as shown in FIG. 6, island-like pattern may form a convex portion 9C as dotted. この場合も図5(a),(b)に示すようなパターンの凸部9A,9Bを形成した場合と同様の効果を奏する。 In this case also FIG. 5 (a), the the same effects as in forming the convex portions 9A, 9B of the pattern as shown in (b).
【0054】 [0054]
(4)第4の実施例以下で、本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図7(a),(b),図8(a),(b)を参照しながら説明する。 (4) in the following fourth embodiment, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention FIG. 7 (a), (b), FIG. 8 (a), the reference to (b) It will be described. 図7(a),(b),図8(a)は断面図であり、図8(b)は平面図である。 Figure 7 (a), (b), 8 (a) is a sectional view, FIG. 8 (b) is a plan view. 図8(a)は同図(b)のC−C線断面図である。 8 (a) is a sectional view taken along line C-C in FIG. (B). なお、第1,第2又は第3の実施例と共通する事項については、重複を避けるため説明を省略する。 Note that the matters common to the first, second or third embodiment, the description thereof is omitted to avoid redundancy.
【0055】 [0055]
まず、図1のステップP1〜P7までは第1の実施例と同様の工程を経る。 First, up to step P1~P7 of Figure 1 through the same steps as in the first embodiment. ステップP8の粗合わせの工程で、図7(a)に示すように、減圧雰囲気中で、載置台ST上に載置されたCF基板1の一辺にTFT基板4の一辺が接するように両者の間に厚さ2mmのスペーサ板11を挟みこんで載置しておく。 In coarse alignment process in step P8, as shown in FIG. 7 (a), in a reduced pressure atmosphere, the mounting table CF substrate 1 placed on the ST side to both as one side of the TFT substrate 4 is in contact previously placed by sandwiching a spacer plate 11 having a thickness of 2mm between. 例えば、図8(a),(b)に示すように、重ね合わせたCF基板1とTFT基板4の間の一箇所にスペーサ板11を挟みこむ。 For example, FIG. 8 (a), the (b), the sandwich the spacer plate 11 at one position between the overlapping CF substrate 1 and the TFT substrate 4 was.
【0056】 [0056]
また、各基板1,4の四隅には位置ずれが起きないようにガイド棒10を設けておく。 Further, the four corners of the substrates 1 and 4 preferably provided a guide rod 10 so as not to cause positional deviation.
次いで、スペーサ板11を横方向に引き抜くと、図7(b)に示すようにTFT基板4が自重でCF基板1上に落ちて重なる。 Then, when pulling out the spacer plate 11 in the lateral direction, TFT substrate 4 as shown in FIG. 7 (b) overlap dropped on the CF substrate 1 by its own weight. このとき、TFT基板4の四隅にはガイド棒10が配置されているので、TFT基板4がスペーサ板11に引きずられてずれることはほとんどない。 At this time, since the four corners of the TFT substrate 4 are arranged guide rods 10, the TFT substrate 4 is hardly displaced is dragged to the spacer plate 11. その後の工程は、第1の実施例と同様であるため、説明を省略する。 Subsequent steps are the same as in the first embodiment, the description thereof is omitted.
【0057】 [0057]
以上説明したように、本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、TFT基板4の一辺とCF基板1の一辺とが接するようにこれらの間にスペーサ板11を挟んでおき、これを引き抜いてCF基板1とTFT基板1を重ね合わせている。 As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention, the spacer plate 11 between them so that the side of one side and the CF substrate 1 of the TFT substrate 4 is in contact sandwiched therebetween advance, it is superimposed CF substrate 1 and the TFT substrate 1 and pull it.
TFT基板をCF基板に対向させたのちに自由落下させることによって液晶が急激に圧着されていた従来に比して、本実施例では少なくともTFT基板4の一辺とCF基板1の一辺とが接しているので、比較的ゆっくりと落下する。 Than the TFT substrate in a conventional liquid crystal has been rapidly crimped by free fall on the mixture was allowed to face the CF substrate, and at least one side of one side and the CF substrate 1 of the TFT substrate 4 in this embodiment is in contact because there, relatively slowly fall. このため、CF基板1上に形成されたシール材2は従来ほど大きな圧力を受けず、シール材2の潰れも偏らない。 Thus, the sealing material 2 formed on the CF substrate 1 is not subjected to a large pressure than conventional, not biased even collapse of the sealing material 2. 従って、CF基板1とTFT基板4の間のギャップの間隔の不均一も生じない。 Therefore, it does not occur non-uniformity of the spacing of the gap between the CF substrate 1 and the TFT substrate 4.
【0058】 [0058]
なお、本実施例ではスペーサ板11をCF基板1とTFT基板4との間の一箇所にのみ挟んでこれを引き抜くことでTFT基板4をCF基板1に重ね合わせているが、本発明はこれに限らず、図8(c),(d)に示すように、2つのスペーサ板11A,11Bを対向してCF基板1とTFT基板4の間に挟みこんで二点で支持したような場合でも同様の効果を奏し、さらに図9(a),(b)に示すように3つのスペーサ板11A,11B,11Cを挟みこんで三点で支持しても同様の効果を奏する。 Although by overlapping TFT substrate 4 on the CF substrate 1 by pulling it across the spacer plate 11 only in one place between the CF substrate 1 and the TFT substrate 4 in this embodiment, the present invention will now the present invention is not limited, FIG. 8 (c), the as shown in (d), 2 one spacer plate 11A, if 11B to face as supported by the two-dot by sandwiching between the CF substrate 1 and the TFT substrate 4 But effect similar to, yet FIG. 9 (a), the the same effect be supported at three points by sandwiching three spacer plates 11A, 11B, 11C as shown in (b). 少なくともCF基板1の一辺とTFT基板の一辺とが接していればよい。 And one side of at least CF one side and the TFT substrate substrate 1 need only be in contact. なお、図8(c),図9(a)は断面図、8(d),図9(b)は平面図であり、図8(c)は同図(d)のD−D線断面図であり、図9(b)は同図(a)のE−E線断面図である。 Incidentally, FIG. 8 (c), the FIG. 9 (a) cross section, 8 (d), 9 (b) is a plan view, D-D line cross-section in FIG. 8 (c) the (d) of FIG a diagram, FIG. 9 (b) is a sectional view taken along line E-E in FIG. (a).
【0059】 [0059]
また、本実施例に係る方法を用いると複数の液晶表示パネルについて、TFT基板をCF基板上に載置することが短時間でできるようになる。 As for the use of the method according to the present embodiment a plurality of liquid crystal display panel, comprising a TFT substrate to be in a short time be placed on the CF substrate. 以下でこのことについて図10,11を参照しながら説明する。 It will now be described with reference to FIGS. 10 and 11 about this below.
すなわち、図10に示すように、CF基板とTFT基板を交互に積み重ね、その周囲にガイド棒10を配置する。 That is, as shown in FIG. 10, stacked CF substrate and TFT substrate are alternately arranging the guide bar 10 to its surroundings. この状態を横からみた図が図11である。 View of the this state from the side is shown in FIG 11. 下から順にTFT基板4C,CF基板1C,TFT基板4B,CF基板1B,TFT基板4A,CF基板1Aが順次積層されており、それらの間にはそれぞれスペーサ板11C,11B,11Aが挟みこまれている。 TFT substrate 4C from bottom to top, CF substrate 1C, the TFT substrate 4B, CF substrate 1B, the TFT substrate 4A, CF substrate 1A are sequentially stacked, respectively between which spacer plate 11C, 11B, 11A is sandwiched ing.
【0060】 [0060]
各TFT基板をCF基板に載置するには、各スペーサ板11A,11B,11Cを横方向に引き抜くだけで、複数の液晶表示パネルに対応する複数のTFT基板を、それぞれに対応するCF基板上に、短時間で容易に載置することが可能になる。 In each TFT substrate placed on the CF substrate, only pulling the spacer plates 11A, 11B, the 11C laterally, a plurality of TFT substrate corresponding to a plurality of liquid crystal display panel, CF substrate corresponding to each a, it is possible to easily placed in a short time.
(5)第5の実施例以下で本発明の第5の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図12(a)〜(c)を参照しながら説明する。 (5) will be described below with reference FIG. 12 (a) ~ (c) a method of manufacturing the liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention in the following fifth embodiment. なお、第1〜第4の実施例と共通する事項については、重複を避けるため説明を省略する。 Note that the matters common to the first to fourth embodiments, the description thereof is omitted to avoid redundancy.
【0061】 [0061]
まず、図1のステップP1で透明基板上に液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工程で、TFT基板4は第1の実施例と同様の工程で形成するが、CF基板1についてはその四隅に超鋼ドリルや、炭酸ガスレーザを用いて、直径1mmの複数のガイド孔1Hを空けておく。 First, in the step of forming the necessary members in forming a liquid crystal display panel on a transparent substrate in step P1 of FIG. 1, TFT substrate 4 is formed in the same process as in the first embodiment, CF substrate 1 for and cemented carbide drill in its four corners, with a carbon dioxide laser, set aside a plurality of guide holes 1H diameter 1 mm.
次いで、図1のステップP2〜P7までは第1の実施例と同様の工程を経た後に、図1のステップP8の粗合せの工程で、図12(a)に示すように、載置台ST上のCF基板1の四隅に形成されたガイド孔1Hに支持棒12A,12Bを通し、この上にTFT基板4を載置する。 Then, after to step P2~P7 of Figure 1 is passed through the same steps as in the first embodiment, the rough combined process step P8 in FIG. 1, as shown in FIG. 12 (a), on the table ST the CF substrate 1 supporting the formed guide hole 1H four corners rod 12A, through 12B, placing the TFT substrate 4 on this. この段階ではTFT基板4とCF基板1とを2mm程度の間隔に離しておく。 It separated the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 in an interval of about 2mm at this stage. なお、図12(a)には支持棒12A,12Bを2本示し、2本を省略している。 Incidentally, it shows two support rods 12A, 12B to the FIG. 12 (a), the is omitted two.
【0062】 [0062]
その後、図12(b),(c)に示すように、支持棒12A,12Bを徐々に降下させてTFT基板4をCF基板1と重ね合わせる。 Then, FIG. 12 (b), the (c), the support bar 12A, 12B gradually lower the the TFT substrate 4 superimposed with CF substrate 1. その後の図1のステップP9以降の工程は第1の実施例と同様であるため、説明を省略する。 Since the subsequent steps P9 and subsequent steps in FIG. 1 is the same as the first embodiment, the description thereof is omitted.
以上説明したように、本発明の第5の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、CF基板1の四隅にガイド孔1Hを形成し、これに支持棒12A,12Bを通して、支持棒12A,12Bの上にTFT基板4を載置し、支持棒12A,12Bを徐々に降下させることでTFT基板4をCF基板1と重ね合わせ、粗合わせを行っている。 As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention, the guide hole 1H is formed in the four corners of the CF substrate 1, which the support rod 12A, through 12B, the support rod 12A, placing the TFT substrate 4 over 12B, the support rods 12A, 12B and TFT substrate 4 superimposed on the CF substrate 1 by gradually lowering the, doing rough alignment.
【0063】 [0063]
このため、予め位置合わせをしておいて支持具を降下させる速度を遅くすれば、位置ずれせずにそのまま重ね合わせることが出来るので、粗合わせの精度が向上する。 Thus, if at a slower rate to lower the support in advance by the advance registration, it is possible to superimpose it is without being misaligned, the accuracy of the coarse alignment is improved. しかも、基板がシール材2に接触する際の偏りも少なく、かつ衝撃が小さいためシール材2の潰れが偏らず、基板間の隙間の間隔の均一性が向上する。 Moreover, the substrate is less deviation at the time of contact with the sealing member 2, and not biased collapse of the sealing member 2 since the impact is small, the uniformity of the gap spacing between the substrates is improved.
また、本実施例と同様に、CF基板1にガイド孔1Hの代わりに、図13(a),(b)に示すようにCF基板1の四隅に切除部1Kを形成して、その切除部1Kに支持棒12A,12B,12C,12Dを通してこれら四本の支持棒12A,12B,12C,12D上にTFT基板4を載置して、支持棒12A,12B,12C,12Dを降下させてTFT基板4をCF基板1と重ね合わせるという方法を用いても、本実施例のガイド孔1Hを用いた方法と同様に、TFT基板4をCF基板1上にゆっくりと降下させることができるので、本実施例と同様の効果を奏する。 As in the present embodiment, instead of the guide hole 1H on the CF substrate 1, FIG. 13 (a), the form of the cut portion 1K in the four corners of the CF substrate 1 (b), the the cutouts 1K to support rod 12A, 12B, 12C, these four support bars 12A through 12D, 12B, 12C, by placing the TFT substrate 4 on 12D, the support rods 12A, 12B, 12C, lowering the 12D and TFT also the substrate 4 using the method of superposing the CF substrate 1, similarly to the method using the guide hole 1H of the present embodiment, since the TFT substrate 4 can be slowly lowered onto the CF substrate 1, the the same effects as example.
【0064】 [0064]
さらに、TFT基板とCF基板との間に、エンジニアリングプラスチック用充填材として用いられているガラスカプセルを挟んで、これをスペーサ板として用いる方法もある。 Furthermore, located between the TFT substrate and the CF substrate, sandwiching the glass capsule is used as an engineering plastic filler, a method of using this as a spacer plate. このガラスカプセルは基板を圧着する際の加圧により破壊されて細かくなるため、ギャップ制御上何の問題も生じない。 The glass capsule to become finely broken by pressure at the time of crimping the substrate, does not occur any problems on the gap control. また、基板上に残存するガラスカプセルの破片は透明なので、表示上の問題も生じない。 Further, since the broken glass capsule remaining on the substrate a transparent, does not occur display problems.
【0065】 [0065]
(6)第6の実施例以下で、本発明の第6の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図面を参照しながら説明する。 (6) Sixth Embodiment In the following, a sixth manufacturing method of a liquid crystal display device according to the embodiment will be described with reference to the drawings of the present invention. なお、第1〜第5の実施例と共通する事項については、重複を避けるため説明を省略する。 Note that the matters common to the first to fifth embodiments, the description thereof is omitted to avoid redundancy.
まず、図1のステップP1〜P3までは第1の実施例と同じ工程を経る。 First, up to step P1~P3 of Figure 1 through the same steps as the first embodiment. ステップP4のシールを形成する工程では第1〜第5の実施例と異なり、まずCF基板1の表面のシール材を形成すべき領域に、可動イオンを捕獲する膜の一例であるシランカップリング材からなる膜13A(東レ:AP−400)を環状に形成する。 In the step of forming a seal in step P4 Unlike the first to fifth embodiment, first, the region for forming a sealing material of the surface of the CF substrate 1, a silane coupling agent which is an example of a film to capture mobile ions from the film 13A (Toray: AP-400) to form a ring.
【0066】 [0066]
同様にして、TFT基板4の表面にも、のちにシール材が圧着されるべき領域に同じシランカップリング材からなる膜13Bを形成する。 Similarly, also the surface of the TFT substrate 4, later sealing material to form a film 13B made of the same silane coupling agent in the area to be crimped. なお、これらの膜13A,13Bは印刷により形成し、硬化のため温度300℃にて30分間熱処理を施す。 Note that these films 13A, 13B are formed by printing, heat-treated for 30 minutes at a temperature 300 ° C. for curing.
次いで、CF基板1上に形成されたシランカップリング材からなる膜13A上に、紫外線硬化型の接着材(T−470、長瀬チバ製)からなるシール材2を環状に形成する。 Then, on the CF substrate 1 on the membrane made of the formed silane coupling material 13A, ultraviolet curable adhesive (T-470, manufactured by Nagase-Ciba) a sealing material 2 consisting of forming annularly.
【0067】 [0067]
その後、図1のステップP5〜P10までは第1の実施例と同様の工程を経て、図14に示すような断面形状を有する液晶表示パネルが完成する。 Thereafter, until the step P5~P10 of Figure 1 through the first embodiment and the same step, the liquid crystal display panel is completed with a cross-sectional shape as shown in FIG. 14. ステップP8の粗合わせの工程では、少なくともTFT基板4のシランカップリング材からなる膜13Bがシール材2の内側の領域に存在する。 The crude alignment process in step P8, film 13B made of at least a silane coupling agent of the TFT substrate 4 is present in the region inside the sealing material 2.
以上説明したように、本発明の第6の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、図14に示すように、環状のシール材2の内側の領域であってシール材2の形成領域に、可動イオンを捕獲する膜であるシランカップリング材からなる膜13A,13Bを形成している。 As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 14, the formation of the sealing material 2 a region inside the sealing member 2 of the annular in the region, the film 13A made of a silane coupling agent is a film for trapping mobile ions, to form a 13B.
【0068】 [0068]
このため、シール材2の付近に存在する可動イオンがシランカップリング材からなる膜13A,13Bによって捕獲されるため、可動イオンを介した蓄積電荷のリークを抑制することができる。 Therefore, since the mobile ions present in the vicinity of the sealing material 2 film 13A made of a silane coupling agent, is captured by 13B, it is possible to suppress the leakage of the stored charge through the mobile ions. これにより、電圧保持率の低下を抑制することができ、表示の際の当該液晶表示装置のコントラストの低下を抑制することが可能になる。 Thus, it is possible to suppress the reduction of the voltage holding ratio, it is possible to suppress the reduction in contrast of the liquid crystal display device when the display.
【0069】 [0069]
シランカップリング材からなる膜をシール材の形成領域近傍に形成すると、電圧保持率の低下を抑制することができるという事実は、本願発明者による実験によって確認されている。 When a film made of a silane coupling agent is formed in the vicinity formation region of the sealant, the fact that it is possible to suppress a decrease in the voltage holding ratio, has been confirmed by experiment by the present inventors. 以下でこの実験結果について説明する。 It will be described the experimental results below.
下記の表3は、シランカップリング材(東レ製:AP−400)からなる膜をシール材の形成領域の隣接領域に形成した液晶表示パネルの電圧保持率と、これを用いていない従来の液晶表示パネルの電圧保持率とを比較した実験結果を示している。 Table 3 below, silane coupling agent (manufactured by Toray Industries, Inc.: AP-400) and the voltage holding ratio of the liquid crystal display panel of the film formed in the adjacent region of the formation region of the sealing material made of a conventional liquid crystal which is not using the It shows the experimental result obtained by comparing the voltage holding ratio of the display panel.
【0070】 [0070]
【表3】 [Table 3]
【0071】 [0071]
なお、上記の表3において用いた液晶はZLI−4792(メルク製)であって、配向膜はJALS−214(JSR製)である。 The liquid crystal used in the Table 3 above is a ZLI-4792 (manufactured by Merck), the orientation film is JALS-214 (manufactured by JSR).
表3に示す結果によれば、シランカップリング材からなる膜をシール材の形成領域の隣接領域に形成した液晶表示パネルの電圧保持率が97%であるのに対して、シランカップリング材からなる膜を有しない従来の液晶表示パネルの電圧保持率は96%と低く、また80℃で1000時間経過後の電圧保持率についてはシランカップリング材からなる膜を有する液晶表示パネルが97%という高い値を維持しているのに対して、これを有しない従来の液晶表示パネルは94%まで低下している。 According to the results shown in Table 3, a film made of a silane coupling agent relative voltage holding ratio of the liquid crystal display panel formed in the adjacent region of the formation region of the sealing material that is 97% of a silane coupling agent the film voltage holding ratio of a conventional liquid crystal display panel having no low as 96%, also for the voltage holding ratio after lapse of 1000 hours at 80 ° C. of the liquid crystal display panel is 97% with a film made of a silane coupling agent whereas it maintains a high value, the conventional liquid crystal display panel having no this has dropped to 94%. 従って、シール材の形成領域の隣接領域にシランカップリング材からなる膜を形成した液晶表示パネルについては、電圧保持率の低下が抑制されることが確認された。 Thus, for liquid crystal display panel to form a film made of a neighboring region silane coupling member forming region of the sealing material, that reduction in the voltage holding ratio can be suppressed it has been confirmed.
【0072】 [0072]
なお、本実施例では可動イオンを捕獲する膜の一例としてシランカップリング材からなる膜を用いているが、これに限らず、可動イオンを捕獲する性質を有する膜であって、液晶を汚染しないような膜であれば、本発明を適用することができる。 Although this embodiment uses a film made of a silane coupling agent as an example of a film to capture mobile ions is not limited to this, a film having a property of trapping mobile ions, does not contaminate the liquid crystal it is a film, such as, it is possible to apply the present invention.
(7)第7の実施例以下で、本発明の第7の実施例に係る液晶表示装置の製造装置について図面を参照しながら説明する。 (7) Seventh Embodiment In the following, a seventh apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the embodiment is described with reference to the present invention. この装置は、図1のステップP7の真空排気工程と、ステップP8の粗合せ工程で用いる貼り合わせ装置である。 The apparatus includes a vacuum evacuation process of step P7 of FIG. 1 is a bonding apparatus used in the rough mating process in step P8. CF基板とTFT基板を収納して、内部を減圧し、これらの基板を重ね合わせて粗合せし、更に基板間の隙間に液晶を封入する工程に用いられる。 Housing the CF substrate and the TFT substrate, and reducing the internal pressure, and the crude combined by superimposing these substrates, used in the step of sealing the liquid crystal further into the gap between the substrates.
【0073】 [0073]
本実施例に係る液晶表示装置の製造装置は、図15に示すように、処理室20、排気弁21、排気口22、リーク弁23、リーク口24及び載置台STを有する。 Apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment, as shown in FIG. 15, a processing chamber 20, exhaust valve 21, exhaust port 22, the leak valve 23, the leak port 24 and the mounting table ST.
処理室20はその内部でCF基板1とTFT基板4との貼り合わせを行う室である。 Processing chamber 20 is a chamber for performing bonding of the CF substrate 1 and the TFT substrate 4 therein. 排気弁21は減圧手段の一部を構成し、不図示の真空ポンプと排気口21との間に設けられている。 Exhaust valve 21 constitutes a part of the pressure reducing means is provided between the vacuum pump (not shown) and the exhaust port 21. 排気弁21を開き、排気口22を通じて処理室20内のガスを排気することにより、処理室20内を減圧状態にする。 Open the exhaust valve 21, by evacuating the gas in the processing chamber 20 through the exhaust port 22, the inside of the processing chamber 20 in a reduced pressure state.
【0074】 [0074]
また、リーク弁23はリーク口24と、不活性ガス等を収納した不図示のガスボンベとの間に設けられ、リーク弁23を開くことにより、不図示のガスボンベから噴出するガスをリーク口24を介して処理室20内に導入する。 Further, the leak valve 23 leak port 24 is provided between the gas cylinder (not shown) which houses an inert gas or the like, by opening the leak valve 23, the gas ejected from the gas cylinder (not shown) leak port 24 through it is introduced into the processing chamber 20. リーク弁23とリーク口24はリーク手段を構成する。 Leak valve 23 and the leak port 24 constitutes a leakage circuit. なお、リーク弁23には不活性ガス等を収納したガスボンベを接続しなくてもよく、大気によるリークを行ってもよい。 Incidentally, the leak valve 23 may not connect the gas cylinder housing the inert gas and the like, may be performed leakage due to atmospheric.
【0075】 [0075]
上記の液晶表示装置の製造装置を用いる液晶表示装置の製造方法について以下で説明する。 Described below a method of manufacturing the liquid crystal display device using the manufacturing apparatus of the liquid crystal display device.
第1の実施例と同様にして図1のステップP1〜P6の工程を経た後に、図1のステップP7で、環状のシール材2の内側領域に液晶3が滴下されているCF基板1と、TFT基板4とが図15に示す貼り合わせ装置の処理室20の内部に搬入される。 After being subjected to a process of step P1~P6 of FIG. 1 in the same manner as in the first embodiment, in step P7 of FIG. 1, the CF substrate 1 is the liquid crystal 3 in the inner area of ​​the sealing member 2 of annular being dropped, It is carried into the processing chamber 20 of the bonding apparatus shown in TFT substrate 4 Togazu 15. CF基板1は載置台STの上に載置される。 CF substrate 1 is placed on the mounting table ST.
【0076】 [0076]
次いで、排気弁21が開き、その先に設けられた不図示の真空ポンプによって処理室20が排気される。 Then, open the exhaust valve 21, the processing chamber 20 is evacuated by an unillustrated vacuum pump provided to the first. ここでは5分間排気を行い、処理室20内の到達真空度を5mTorr とした。 Here for 5 minutes the exhaust, the ultimate vacuum in the processing chamber 20 was set to 5 mTorr.
その後、図1のステップP8の粗合せ工程で、減圧状態下でシール材2を介してTFT基板4とCF基板1とを重ね合わせ、粗合わせを行う。 Thereafter, the coarse combined process step P8 in FIG. 1, superimposed the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 via the sealing member 2 under reduced pressure, performing coarse alignment. 続いて、加圧を行う。 Subsequently, the pressure.
【0077】 [0077]
この加圧工程では、瞬間的にリーク弁23を開いて、窒素ガス等をリーク口24からその下のTFT基板4の上に噴出する。 The pressure as a pressure process, open momentarily leak valve 23, for jetting nitrogen gas or the like from the leak port 24 on the TFT substrate 4 beneath. 窒素ガスが吹き付けられることでTFT基板4がCF基板1に加圧される。 TFT substrate 4 is pressurized on the CF substrate 1 by a nitrogen gas is blown.
ガスは一般に対象物に対して等方的に圧力を及ぼし、TFT基板4の表面に遍く行き渡る。 Gas generally have a isotropically pressure to the object, it spreads universally on the surface of the TFT substrate 4. 従って、これがTFT基板4の上面に吹き付けられると、TFT基板4の受ける圧力はほぼ均一になり、TFT基板4は均一な力で加圧されるため、基板1,4間の隙間の間隔は均一になる。 Therefore, when this is blown to the upper surface of the TFT substrate 4, the pressure received by the TFT substrate 4 becomes substantially uniform, since TFT substrate 4 is pressurized with a uniform force, the uniform width of the gap between the substrates 1 and 4 become. これにより、液晶表示パネルの電極に駆動電圧が印加された場合、基板間の液晶に印加される電界も均一になるので、表示特性が向上する。 Accordingly, when the driving voltage to the electrodes of the liquid crystal display panel is applied, the electric field applied to the liquid crystal between the substrates becomes uniform, thereby improving the display characteristics.
【0078】 [0078]
また、同様にガスを用いた加圧をする貼り合わせ装置として、図16に示すような張合わせ装置も考えられる。 Further, the bonding apparatus to a pressure which similarly using gas, also conceivable Zhang aligning apparatus shown in FIG. 16. この装置は、液晶表示パネルのシール材2の形成領域に沿ってリーク孔24が形成されていることが図15に示す装置と異なっている。 This device shall be leak hole 24 along the forming region of the sealing member 2 of the liquid crystal display panel is formed is different from the apparatus shown in FIG. 15.
図16に示す貼り合わせ装置を用いてCF基板1に重ね合わされたTFT基板4を加圧するには、図15に示す装置と同様にリーク弁23を開き、不図示のガスボンベから噴出されるガスをリーク孔24から吹き付けることで加圧する。 To pressurize the TFT substrate 4 superimposed on the CF substrate 1 by using the bonding apparatus shown in FIG. 16, open the device as well as a leak valve 23 shown in FIG. 15, the gas ejected from the gas cylinder (not shown) pressurized by blowing from the leak hole 24. この装置では、図16に示すように、リーク孔24がシール材2の形成領域に沿って形成されているので、噴出するガスはシール材2の形成領域にのみ吹き付けられることになる。 In this apparatus, as shown in FIG. 16, since the leak hole 24 is formed along the region for forming the sealing material 2, the gas to be ejected will be blown only the region for forming the sealing material 2.
【0079】 [0079]
TFT基板4とCF基板1の加圧の際には、結局シール材2を均一に加圧することが重要である。 When the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 of the pressure, it is important to uniformly pressurized sealing material 2 eventually. この装置によれば、シール材2に沿ってガスを吹きつけ、シール材2を均一に加圧することができるので、図15に示す装置と同様に、基板1,4間のギャップの間隔を均一にすることができる。 This apparatus blows gas along the sealing member 2, since the sealing member 2 can be uniformly pressurized, like the apparatus shown in FIG. 15, the distance of the gap between the substrates 1 and 4 uniformly it can be.
(8)第8の実施例以下で本発明の第8の実施例に係る液晶表示装置の製造装置について図17を参照しながら説明する。 (8) will be described below with reference to FIG. 17 apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to an eighth embodiment of the present invention in the following eighth embodiment. この装置は、第7の実施例で説明した液晶表示装置の製造装置と同様に、図1のステップP7の真空排気工程と、ステップP8の粗合せ工程で用いる貼り合わせ装置であり、CF基板とTFT基板を装置内に搬入した後に、装置内を排気し、これらの基板を粗合せする。 This device, like the manufacturing apparatus of a liquid crystal display device described in the seventh embodiment, the evacuation process of step P7 of FIG. 1, a bonding apparatus used in the rough mating process in step P8, the CF substrate after loading the TFT substrate into the apparatus, evacuating the inside device and these roughened substrate together.
【0080】 [0080]
本実施例に係る液晶表示装置の製造装置は、図17に示すように、処理室20、排気弁21、排気口22、第1のリーク弁23A、第2のリーク弁23B、第1のリーク口24A、第2のリーク口24B、圧着板25及び載置台STを有する。 Apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment, as shown in FIG. 17, the processing chamber 20, exhaust valve 21, exhaust port 22, a first leak valve 23A, the second leak valve 23B, the first leak having a mouth 24A, a second leak hole 24B, cover 25 and the mounting table ST.
処理室20はその内部で貼り合わせを行う室であって、排気弁21は、不図示の真空ポンプと排気口21との間に設けられ、排気弁21を開き、排気口22を通じて処理室20内のガスを排気して、減圧状態にする。 Processing chamber 20 is a chamber for performing bonding therein, exhaust valve 21 is provided between the vacuum pump (not shown) and the exhaust port 21 to open the exhaust valve 21, the processing chamber through the exhaust port 22 20 and exhaust gas of the inner and in a reduced pressure state.
【0081】 [0081]
第1のリーク弁23Aはリーク口24Aの外部に設けられており、第1のリーク弁23Aを開くことにより、不図示のガスボンベからのガスを、圧着板25の上面に吹き付ける。 First leak valve 23A is provided outside the leakage port 24A, by opening the first leak valve 23A, the gas from the gas cylinder (not shown), sprayed on the upper surface of the cover 25. 圧着板25は、伸縮自在のベローズVSによって載置台STの上に支持され、かつ処理室20内と隔絶されており、ガスが吹き付けられると、ベローズVSが伸びて載置台STの上に搭載されたTFT基板の上面を圧着する。 Cover 25 is supported on the table ST by retractable bellows VS, and are isolated from the processing chamber 20, the gas is sprayed, it is mounted on the mounting table ST mounting extending bellows VS crimping the upper surface of the TFT substrate.
【0082】 [0082]
第1のリーク弁23Bはリーク口24Bの外部に設けられており、第1のリーク弁23Bを開くことにより、装置外部の空気が、処理室20内に導入される。 First leak valve 23B is provided outside the leakage port 24B, by opening the first leak valve 23B, device external air is introduced into the processing chamber 20.
上記の液晶表示装置の製造装置を用いる液晶表示装置の製造方法について以下で説明する。 Described below a method of manufacturing the liquid crystal display device using the manufacturing apparatus of the liquid crystal display device.
第1の実施例と同様にして図1のステップP1〜P6の工程を経た後に、図1のステップP7で、シール材2が表面に形成されて液晶3が滴下されたCF基板1と、TFT基板4とが図15に示す貼り合わせ装置の処理室20の内部に搬入され、CF基板1は載置台STの上に載置される。 After being subjected to a process of step P1~P6 of FIG. 1 in the same manner as in the first embodiment, in step P7 of FIG. 1, the CF substrate 1 in which the liquid crystal 3 is dropped and sealing material 2 is formed on the surface, TFT is carried into the processing chamber 20 of the bonding shown in substrate 4 Togazu 15 device, CF substrate 1 is placed on the mounting table ST.
【0083】 [0083]
TFT基板4をCF基板1上に対向配置したのちに、排気弁21を開き、その先に設けられた不図示の真空ポンプによって処理室20が真空排気される。 The TFT substrate 4 After face disposed on the CF substrate 1, to open the exhaust valve 21, the processing chamber 20 is evacuated by an unillustrated vacuum pump provided to the first. 5分間排気を行って、到達真空度を5mTorr とした。 5 minutes performed evacuated and 5mTorr the ultimate vacuum.
その後、図1のステップP8の粗合せ工程で、真空状態下でTFT基板4をCF基板1上に載置して、対向密着状態とし、加圧を行う。 Thereafter, the coarse combined process step P8 in FIG. 1, by placing the TFT substrate 4 on the CF substrate 1 under vacuum, and the opposing contact state, the pressure.
【0084】 [0084]
この加圧工程では、瞬間的に第1のリーク弁23Aを開くとき、不図示のガスポンプから噴出される窒素ガスが第1のリーク口24Aからその下の圧着板25に均一な圧力で吹き付けられ、TFT基板4がこの圧着板25によって加圧されてTFT基板4がCF基板1に圧着される。 As in this pressurizing step, when momentarily opening the first leak valve 23A, the nitrogen gas ejected from the gas pump (not shown) is blown at a uniform pressure to the cover 25 of the bottom from the first leak hole 24A , TFT substrate 4 is TFT substrate 4 is bonded to the CF substrate 1 is pressurized by the cover 25.
この加圧方法によると、ガスを用いて圧着板25を加圧し、その圧着板25でTFT基板4を圧着している。 According to the pressurizing method, pressurized cover 25 with a gas, which crimp the TFT substrate 4 with its cover 25. ガスは一般に等方性を有し、これが圧着板25の上面に吹き付けられると、そのガスは圧着板25の全面に遍く行き渡り、かつその圧力はほぼ均一になる。 Gas generally have isotropic, when it is sprayed on the upper surface of the cover 25, the gas spreads universally on the whole surface of the cover 25, and the pressure is almost uniform. この均一な圧力でTFT基板4を加圧するので、従来と異なり、TFT基板4とCF基板1とを均一な力で加圧することが可能になる。 Since pressurizing the TFT substrate 4 in this uniform pressure, unlike the conventional, it is possible to pressurize the TFT substrate 4 and the CF substrate 1 with uniform force.
【0085】 [0085]
これにより、これらの基板の間で液晶が均一に行き渡るようにすることができるので、基板1,4間のギャップの間隔を均一にすることができ、表示特性を向上させることが可能になる。 Thus, it is possible to make the liquid crystal is distributed uniformly across between these substrates, it is possible to make uniform the distance of the gap between the substrates 1 and 4, it is possible to improve the display characteristics.
(9)第9の実施例以下で、本発明の第9の実施例に係る液晶表示装置の製造方法について図18(a),(b)を参照しながら説明する。 (9) in the following ninth embodiment, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to a ninth embodiment of the present invention FIG. 18 (a), the will be described with reference to (b). なお、第1〜第8の実施例と共通する事項については、重複を避けるため説明を省略する。 Note that the matters common to the first to eighth embodiment, the description thereof is omitted to avoid redundancy.
【0086】 [0086]
まず、図1のステップP1で、ガラスなどからなる透明基板上に、液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工程で、TFT基板4側の加工は第1の実施例と同様であるが、CF基板1にカラーフィルタを形成する工程で、図18(b)に示すように当該液晶表示装置の表示領域CRにカラーフィルタを形成するのと同時に表示領域CRに隣接する周辺領域にも、表示領域CRのカラーフィルタの配列順序に従って予備のカラーフィルタCMを形成しておく。 First, in step P1 of FIG. 1, etc. on a transparent substrate made of glass, in the step of forming the necessary members in forming a liquid crystal display panel, the processing of the TFT substrate 4 side the same as the first embodiment the case, in the step of forming the color filter CF substrate 1, a peripheral area adjacent to the simultaneous display region CR as to form a color filter in the display region CR of the liquid crystal display device as shown in FIG. 18 (b) also, previously formed spare color filters CM according to the arrangement order of the color filters in the display region CR. その後の工程は第1の実施例と同様であるため説明を省略する。 Subsequent steps is omitted because it is similar to the first embodiment.
【0087】 [0087]
本発明の第9の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、図18(a),(b)に示すように、表示領域CRに隣接する周辺領域にも表示領域CRのカラーフィルタの配列順序に従って予備のカラーフィルタCMを形成しているので、TFT基板4とCF基板1とを重ね合わせたときに位置合わせのずれが生じても、表示領域CRからはみ出した端の部分をこの予備のカラーフィルタCMの位置に合わせればよい。 According to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to a ninth embodiment of the present invention, FIG. 18 (a), the (b), the color filter of the display region CR in the peripheral area adjacent to the display region CR since the sequence to form a preliminary color filter CM in the order, even if misalignment occurs when superposing the TFT substrate 4 and the CF substrate 1, this portion of the end which protrudes from the display region CR it may be adjusted to the position of the reserve of the color filter CM. このため、位置合わせのための調整幅が少なく、調整が容易であるとともに、調整のための基板の大幅な移動による接着材へのダメージ付与を避けることが出来る。 Therefore, little adjustment range for positioning, together with the adjustment is easy, it is possible to avoid the damage imparted to the adhesive by a substantial movement of the substrate for adjustment.
【0088】 [0088]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
以上述べたように、本発明によれば、未硬化の接着材を介して1対の透明基板を重ね合わせた後、接着材と液晶とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させている。 As described above, according to the present invention, after the superposition of a pair of transparent substrates via the adhesive material of the uncured, before the adhesive material and the liquid crystal is in contact, cured by irradiation with ultraviolet rays to the adhesive It is made to.
このため、1対の透明基板の固着を確実にするとともに、従来、未硬化の接着材と液晶が接し、その領域に紫外線が照射されることによって生じていた液晶の汚染を抑制することができ、液晶汚染によって当該液晶表示装置の電圧保持率が低下して、その表示の際のコントラストが低下することを極力抑止することが可能になる。 Therefore, while ensuring the fixation of the pair of transparent substrates, conventionally, adhesive and liquid crystal uncured contact can be ultraviolet light that region to suppress the contamination of the liquid crystal that occurs by being irradiated , voltage holding ratio and decrease in the liquid crystal display device by the liquid crystal contamination, contrast when the display is possible as much as possible suppress a decrease.
【0089】 [0089]
また、第1の透明基板と第2の透明基板にともに環状の接着材を形成し、接着材の表層のみを硬化した後、接着材同士を接触させて第1の透明基板と第2の透明基板を重ね合わせている。 Further, together form an adhesive annular on the first transparent substrate and the second transparent substrate, after curing only the surface layer of the adhesive, the first transparent substrate and the second transparent by contacting the adhesive with each other It is superimposed substrate.
接着材同士が接触するため、表層のみが硬化していても、第1の透明基板と第2の透明基板同士の固着がより強固になる。 Since the adhesive contact each other, even if only the surface layer is hardened, the first transparent substrate and the fixing of the second transparent substrate to each other becomes stronger.
【0091】 [0091]
特に、1対の透明基板のうち何れか一方の表示領域の外側の領域であって、接着材の形成領域の内側の領域に、液晶の広がり速度を遅らせる凸部を形成することにより、接着材と液晶とが接する前に、一層時間の余裕をもって接着材に紫外線を照射して硬化させることが可能になる。 In particular, a region outside the one of the display areas of the pair of transparent substrates, the region inside the area where the adhesive material, by forming a convex portion to retard the crystal spread speed, adhesive and before the contact and the liquid crystal, it is possible to cure by irradiating ultraviolet rays to the adhesive with a margin of more time.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明するフローチャートである。 1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図(その1)である。 Diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a first embodiment of Figure 2 the present invention (1).
【図3】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図(その2)である。 Diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a first embodiment of Figure 3 the present invention (2).
【図4】本発明の第2の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図である。 Is a diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention; FIG.
【図5】本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図(その1)である。 5 is a diagram for explaining a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention (Part 1).
【図6】本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図(その2)である。 Diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a third embodiment of Figure 6 the present invention (2).
【図7】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する断面図(その1)である。 It is a sectional view for explaining a method for manufacturing a fourth liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention; FIG (Part 1).
【図8】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する上面図(その1)である。 It is a top view for explaining a method for manufacturing a fourth liquid crystal display device according to an embodiment of the invention; FIG (Part 1).
【図9】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する上面図(その2)である。 It is a top view for explaining a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention; FIG (Part 2).
【図10】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する斜視図である。 Is a perspective view for explaining a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention; FIG.
【図11】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する断面図(その2)である。 Is a sectional view for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to the fourth embodiment of FIG. 11 the present invention (Part 2).
【図12】本発明の第5の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する断面図である。 Is a sectional view for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention; FIG.
【図13】本発明の第5の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図である。 13 is a diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図14】本発明の第6の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する断面図である。 14 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.
【図15】本発明の第7の実施例に係る液晶表示装置の製造装置を説明する図(その1)である。 Diagram illustrating an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to a seventh embodiment of FIG. 15 the present invention (1).
【図16】本発明の第7の実施例に係る液晶表示装置の製造装置を説明する図(その2)である。 Diagram illustrating an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to a seventh embodiment of FIG. 16 the present invention (2).
【図17】本発明の第8の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する断面図である。 17 is a sectional view for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to an eighth embodiment of the present invention.
【図18】本発明の第9の実施例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図である。 18 is a diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a ninth embodiment of the present invention.
【図19】従来例に係る液晶表示装置の製造方法を説明するフローチャートである。 19 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
【図20】従来例に係る液晶表示装置の製造装置を説明する断面図である。 20 is a cross-sectional view illustrating an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
【図21】従来例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図(その1)である。 21 is a diagram for explaining a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the conventional example (1).
【図22】従来例に係る液晶表示装置の製造方法を説明する図(その2)である。 22 is a diagram for explaining a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a conventional example (Part 2).
【図23】従来例の問題点を説明するグラフ(その1)である。 23 is a graph for explaining a conventional example of a problem (1).
【図24】従来例の問題点を説明するグラフ(その2)である。 Figure 24 is a conventional graph problems is described in (Part 2).
【図25】液晶表示パネルの電圧保持率を説明する図である。 25 is a diagram illustrating a voltage holding ratio of the liquid crystal display panel.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
1 CF基板(第1の透明基板)、 1 CF substrate (first transparent substrate),
1A,1B,1C CF基板、 1A, 1B, 1C CF substrate,
1H ガイド孔、 1H guide hole,
1K 切除部、 1K cutouts,
2 シール材(接着材)、 Second sealing material (adhesive),
2A シール材の内周面、 The inner peripheral surface of the 2A sealant,
2B 第1のシール材(第1の接着材)、 2B first sealant (first adhesive),
2C 半硬化状態のシール材、 2C of semi-cured sealant,
3 液晶、 3 LCD,
4 TFT基板(第2の透明基板)、 4 TFT substrate (second transparent substrate),
4A,4B,4C TFT基板、 4A, 4B, 4C TFT substrate,
5 第2のシール材(第2の接着材)、 5 second sealant (second adhesive),
5A 半硬化状態のシール材、 5A of semi-cured sealant,
6A,6B,9A,9B,9C 凸部、 6A, 6B, 9A, 9B, 9C protrusion,
7 透明電極、 7 transparent electrode,
8 配向膜、 8 orientation film,
10 ガイド棒、 10 guide rod,
11 11A,11B,11C スペーサ板、 11 11A, 11B, 11C spacer plate,
12A,12B,12C,12D 支持棒、 12A, 12B, 12C, 12D support rod,
13A,13B シランカップリング材からなる膜(可動イオンを捕獲する膜)、 13A, film made 13B silane coupling agent (film capturing mobile ions),
20 処理室、 20 treatment rooms,
21 排気弁、 21 exhaust valve,
22 排気口、 22 exhaust port,
23 リーク弁、 23 leak valve,
23A 第1のリーク弁、 23A first leak valve,
23B 第2のリーク弁、 23B second leak valve,
24,24A リーク口、 24,24A leak opening,
24B 第2のリーク口、 24B second leak port,
25 圧着板、 25 cover,
CR 表示領域、 CR display area,
CM 予備のカラーフィルタ、 CM spare color filters,
ST 載置台、 ST mounting table,
SP スペーサ、 SP spacer,
VS ベローズ。 VS bellows.

Claims (6)

  1. 1対の透明基板の何れか一方であって、表示領域の外側の領域に紫外線硬化型の接着材を環状に形成する工程と、 A is one of a pair of transparent substrates, an adhesive of the ultraviolet curable type region outside the display region and forming the annular,
    前記1対の透明基板の何れか一方の中央領域に液晶を滴下する工程と、 A step of dropping the liquid crystal in one of the central region of said pair of transparent substrates,
    減圧下で前記1対の透明基板を重ね合わせた後に大気圧下に戻して、前記1対の透明基板の間の前記接着材で囲まれた隙間を前記接着材により密封する工程と、 A step of sealing returned to atmospheric pressure under after superposition of the pair of transparent substrates under reduced pressure, a gap in which the surrounded by adhesive between the pair of transparent substrates by the adhesive material,
    前記接着材に紫外線を照射して硬化させた後に、前記液晶が前記接着材に達する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the after UV cured by irradiating the adhesive, having the steps of the liquid crystal reaches the adhesive.
  2. 前記接着材を環状に形成する工程の前に、前記1対の透明基板の何れか一方であって、表示領域の外側の領域に後の工程で重ね合わせる透明基板と接しない高さで凸部を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 Wherein the adhesive material before the step of forming the annular, said there is one of a pair of transparent substrates, protrusions at a height which is not in contact with the transparent substrate to superimpose in a subsequent step in the region outside the display region the method according to claim 1, further comprising the step of forming a.
  3. 前記凸部は、環状及び点在した島状の何れかの形状であることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法。 The convex portions, The method according to claim 2, which is a one in the form of cyclic and interspersed islands.
  4. 前記凸部が形成された側の透明基板の表示領域にはカラーフィルタが形成され、前記凸部は前記カラーフィルタと同じ材料をパターニングして形成することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置の製造方法。 The display area of ​​the transparent substrate on the side where the convex portion is formed the color filter is formed, the liquid crystal according to claim 3, wherein the convex portion is characterized by formed by patterning the same material as the color filter method for manufacturing a display device.
  5. 互いに対向した1対の透明基板と、 A pair of transparent substrates facing each other,
    前記1対の透明基板の一方の対向面の表示領域の外側に、他方の透明基板と接しない凸部と、 Outside the display area of ​​one of the opposing surfaces of the pair of transparent substrates, and the convex portion which is not in contact with the other transparent substrate,
    前記1対の透明基板の間であって、前記凸部より外側の領域に環状に形成されて前記1対の透明基板の間に密封された隙間を形成する紫外線硬化型の接着材と、 Be between the pair of transparent substrates, and adhesive of the ultraviolet curing type for forming a gap which is sealed between the transparent substrates of the pair is formed annularly on the outside of the region from the convex portion,
    前記密封された隙間に封入された液晶とを有することを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device characterized by having a liquid crystal sealed in said sealed gap.
  6. 前記凸部が形成された側の透明基板の表示領域にはカラーフィルタが形成され、前記凸部は前記カラーフィルタと同じ材料からなることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。 The display area of ​​the transparent substrate on the side where the convex portion is formed the color filter is formed, fabrication of the liquid crystal display device according to claim 5, wherein the convex portion is characterized in that it consists of the same material as the color filter Method.
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